KR19990062519A - 플라즈마 디스플레이 패널의 블랙매트릭스 형성방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널의 블랙매트릭스 형성방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법에 관한 것으로, 특히 블랙매트릭스를 형성하는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법은 상부기판 위에 투명전극을 상부전극과 블랙매트릭스 패턴으로 형성하는 단계와, 블랙매트릭스 패턴의 투명전극 위에 소정의 금속물질을 도포하는 단계를 포함하여 이루어진 것이 특징으로, 종래의 피디피 제조방법에 비해 별도의 소성과정을 거치지 않고 블랙매트릭스를 제조할 수 있고, 상부전극과 블랙매트릭스를 동시에 패터닝할 수 있어 종래의 제조방법에 비해 제조공정이 단순화되고, 제조단가도 낮아지는 효과가 있다.

Description

플라즈마 디스플레이 패널의 블랙매트릭스 형성방법
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널(이하 피디피 : Plasma Display Panel)의 제조방법에 관한 것으로, 특히 피디피의 블랙매트릭스 형성방법에 관한 것이다.
피디피와 액정표시장치(LCD)는 평판형 표시장치 중에서 가장 실용성이 높은 차세대 표시장치로 각광받고 있다. 특히 피디피는 액정표시장치보다 휘도가 높고 시야각이 넓어 옥외 광고탑 또는, 벽걸이 티브이, 극장용 디스플레이와 같이 박형의 대형 디스플레이로서 응용성이 넓다.
피디피는 가스방전을 이용하여 표시발광시키는 방식을 이용하고 있으며, 그 구성에 있어서 전극표면에 유전층을 구성시킨 AC형 피디피와 전극의 표면이 방전공간에 노출되어 있는 DC형 피디피로 구분된다. 피디피는 가스방전에 의해 발생된 자외선을 형광체에 조사하여 형광체를 발광시킨다.
도 1은 일반적인 3전극 면방전 방식의 AC형 피디피의 단면구조를 도시한 것으로, 전면 유리기판(1)의 동일면 상에 Y 전극과 Z 전극으로 구성된 상부전극(4)을 형성하고, 그 상부전극(4) 위에 유전층을 인쇄기법으로 형성하며, 유전층(2) 위에 보호층을 증착방식으로 형성한 상부구조와, 그 상부구조의 배면 유리기판(11) 위에 상부전극에 직교하는 방향으로 X 전극(12)을 형성하고, X 전극(12) 간에 인접한 셀(cell)과의 누화(crosstalk) 현상을 방지하기 위해 격벽(6)을 형성하며, 격벽(6)과 X 전극(12) 주위에 형광체(8, 9, 10)를 형성한 하부 구조로 구성되어 상부구조와 하부구조의 사이 공간에 불활성 가스를 봉입하여 방전영역(5)을 가지도록 구성된다. 도 1은 설명의 편의상 상판을 90°회전시켜 도시한 것이다.
이러한 3전극 면방전 방식의 AC형 피디피는 X 전극과 Y 전극 사이에 구동전압이 인가되면, X 전극과 Y 전극 사이에 대향방전이 일어나서 상부구조의 보호층 표면에 벽전하가 발생한다. 그리고, Y 전극과 Z 전극에 서로 극성이 반대인 방전전압이 지속적으로 인가되고 X 전극에 인가되던 구동전압이 차단되면, 벽전하에 의해 Y 전극과 Z 전극 상호간에 소정의 전위차가 유지되어 유전층(2)과 보호층(3) 표면의 방전영역에서 면방전이 일어난다. 그 결과, 방전영역의 불활성 가스로부터 자외선(7)이 발생된다. 이 자외선(7)에 의해 형광체(8, 9, 10)를 여기시키고, 발광된 형광체(8, 9, 10)에 의해 칼라(color) 표시가 이루어진다.
즉, 방전셀(cell) 내부에 존재하는 전자들이 인가된 구동전압에 의해 음극(-)으로 가속하면서, 상기 방전셀 안에 400∼500 torr 정도의 압력으로 채워진 불활성 혼합가스 즉, 헬륨(He)을 주성분으로 하여 크세논(Xe), 네온(Ne) 가스 등을 첨가한 페닝(Penning) 혼합가스와 충돌하여 불활성 가스가 여기되면서 147nm의 파장을 갖는 자외선이 발생한다. 이러한 자외선(7)이 하부전극(12)과 격벽(6) 주위를 둘러싸고 있는 형광체(8, 9, 10)와 충돌하여 가시광선 영역에 발광이 된다.
이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 인접한 방전셀 간에 간섭현상을 줄이기 위해 확보된 공간에 블랙매트릭스가 도 2에 도시된 것과 같이 전면 유리기판의 상부전극 사이에 형성된 구조로 되어 있다. 도 2는 도 1에서 상부전극의 구조를 상세히 도시한 것이다. 이러한 블랙매트릭스는 블랙매트릭스 재료의 페이스트를 이용하여 스크린 인쇄법 등으로 형성된다.
그런데, 종래의 블랙매트릭스는 다음과 같은 문제점이 있었다.
먼저, 블랙매트릭스가 별도의 페이스트 재료를 이용하여 형성되므로, 종래의 블랙매트릭스는 제조단가가 비싸고 제조시간이 오래 걸린다. 특히, 종래의 블랙매트릭스는 페이스트 재료를 소성시키는 공정을 거쳐야 하므로, 공정이 비효율적으로 이루어졌다.
본 발명은 이러한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 블랙매트릭스의 제조단가를 낮추고 별도의 소성공정을 거치지 않고 블랙매트릭스를 형성할 수 있는 방법과 그러한 방법으로 형성된 블랙매트릭스를 제공하는 데에 그 목적이 있다.
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 구조를 도시한 단면도
도 2는 상기 도 1에서 상부기판과 상부전극 및 블랙매트릭스를 상세히 도시한 단면도
도 3a 내지 도 3c는 본 발명의 피디피 제조공정을 도시한 단면도
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
100 : 기판 110, 110' : 상부전극
120, 120' : 블랙매트릭스 패턴 130, 130' : 금속막
140 : 유전체 150 : 보호막
본 발명은 금속 산화물막을 이용한 무전해도금을 통해 이루어지는 배면흑화현상을 이용하여 블랙매트릭스를 형성하는 것이 특징이다.
본 발명의 피디피 제조방법은 도 3a 내지 도 3b에 도시된 것과 같이 기판(100) 위에 투명전극을 상부전극(110, 110')과 블랙매트릭스 패턴(120, 120')으로 형성하는 단계와, 블랙매트릭스 패턴(120, 120')의 투명전극 위에 금속물질을 도포하는 단계를 포함하여 이루어져 있다.
이하, 본 발명의 피디피 제조방법에 대하여 첨부된 도 3a 내지 도 3c를 참조하여 설명하도록 한다.
먼저, 도 3a에 도시된 것과 같이 산화아연(ZnO)등의 금속산화물막이 도포된 피디피의 기판(100) 위에 투명전극이 상부전극(110, 110')과 블랙매트릭스 패턴(120, 120')으로 형성된다. 이 때, 상부전극(110, 110')과 블랙매트릭스 패턴(120, 120')은 하나의 마스크로 동시에 형성되는 것이 바람직하다.
그 후, 도 3b에 도시된 것과 같이 투명전극이 형성된 기판(100)이 무전해도금되어 블랙매트릭스 패턴(120, 120')의 투명전극 위에 매우 얇은 금속막(130, 130')이 형성된다. 투명전극 위에 형성된 금속막(130, 130')은 투명전극이 까맣게 불투명해질 때까지 도포된다.
본 발명의 핵심은 투명전극 위에 금속막(130, 130')의 두께를 최대한 얇게 형성하는 것으로서, 금속막(130, 130')에 의한 도전성질이 피디피의 방전셀에 영향을 미치지 않을 정도로 금속막(130, 130')의 두께가 얇아야 한다.
이러한 금속막(130, 130')을 형성하기 위해 무전해도금에서 필요한 촉매화 공정은 pH가 대략 2.5 정도의 PdCl2용액에서 대략 5 내지 10 분 정도 실시된다. 촉매화 공정이 실시된 기판(100)의 투명전극은 PbCl2용액에 노출된 표면이 매우 미세하게 에칭되어 있다.
그 후, 본 발명은 황산구리(CuSO4) 용액에 수초 내지 수십초 정도 기판(100) 위의 블랙매트릭스 패턴(120, 120')의 투명전극을 노출시켜 투명전극 위에 구리(Cu)를 도금한다. 그러면, 투명전극 표면의 에칭된 부분에 금속이 얇은 난반사막을 형성하여 도금된 투명전극의 표면에 흑화현상이 발생된다. 본 발명은 흑화현상이 발생되는 얇은 금속막을 블랙매트릭스로 사용하는 것이다.
이어서, 도 3c에 도시된 것과 같이 본 발명에 의해 상부전극(110, 110') 위에 금속으로 버스전극이 형성되고, 유전체(140)와 보호막(150)이 연속해서 형성되면, 본 발명에 의한 피디피의 상부기판이 완성된다.
본 발명에 의한 피디피 제조방법은 종래의 피디피 제조방법에 비해 별도의 소성과정을 거치지 않고 블랙매트릭스를 제조할 수 있다. 그리고, 본 발명의 피디피 제조방법은 상부전극과 블랙매트릭스를 동시에 패터닝할 수 있어 종래의 제조방법에 비해 제조공정이 단순화되고, 제조단가도 낮아지는 효과가 있다.

Claims (6)

  1. 플라즈마 디스플레이 패널의 제조공정에 있어서,
    상부기판 위에 투명전극을 상부전극과 블랙매트릭스 패턴으로 형성하는 단계;
    상기 블랙매트릭스 패턴의 투명전극 위에 소정의 금속물질을 도포하는 단계를 포함하여 이루어진 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 금속물질을 도포하는 단계는 산화물반도체층을 무전해도금하는 단계인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  3. 제 2 항에 있어서, 상기 무전해도금을 위한 촉매화 단계가 PdCl2 용액에서 5 내지 10 분간 실시되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  4. 제 2 항에 있어서, 상기 무전해도금은 CuSO4 용액에서 1분 이내의 시간동안 실시되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  5. 제 1 항, 제 2 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속물질은 금속물질이 도포된 층이 도전성이 갖지 않는 수준으로 얇게 도포되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
  6. 제 1 항에 있어서, 상기 상부전극과 블랙매트릭스 패턴은 동시에 형성되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널의 제조방법.
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