JP2000113809A - プラズマディスプレイパネルのブラックマトリックス製造方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルのブラックマトリックス製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明はプラズマディスプレイパネルの製造
方法に関し、特に、プラズマディスプレイパネルのブラ
ックマトリックス形成方法を提供する。 【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネルの
ブラックマトリックスの製造方法は、上部基板上に透明
電極を上部電極パターンとブラックマトリックスパター
ンとで形成する段階と、ブラックマトリックスパターン
の透明電極上に所定の金属物質を薄く無電解鍍金する段
階とを含むことを特徴とする。
方法に関し、特に、プラズマディスプレイパネルのブラ
ックマトリックス形成方法を提供する。 【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネルの
ブラックマトリックスの製造方法は、上部基板上に透明
電極を上部電極パターンとブラックマトリックスパター
ンとで形成する段階と、ブラックマトリックスパターン
の透明電極上に所定の金属物質を薄く無電解鍍金する段
階とを含むことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
イパネルの製造方法に関し、特にプラズマディスプレイ
パネルのプラックマトリックス形成方法に関するもので
ある。
イパネルの製造方法に関し、特にプラズマディスプレイ
パネルのプラックマトリックス形成方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネルと液晶表示
装置（ＬＣＤ）は、平板形表示装置のうち最も実用性の
高い次世代の表示装置として注目を浴びている。特に、
プラズマディプレイパネルは、液晶表示装置より輝度が
高く、視野角が広いため、屋外広告塔または、壁かけ用
テレビ、劇場用ディスプレイなどのように、薄型の大型
ディスプレイとして応用性が高い。
装置（ＬＣＤ）は、平板形表示装置のうち最も実用性の
高い次世代の表示装置として注目を浴びている。特に、
プラズマディプレイパネルは、液晶表示装置より輝度が
高く、視野角が広いため、屋外広告塔または、壁かけ用
テレビ、劇場用ディスプレイなどのように、薄型の大型
ディスプレイとして応用性が高い。
【０００３】プラズマディスプレイパネルは不活性ガス
のプラズマ放電により発生した紫外線を用いて蛍光体を
発光させる方式で表示動作を行う。このようなプラズマ
ディスプレイパネルは、電極の表面に誘電層を構成する
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルと電極の表面が放電
空間に露出されているＤＣ型プラズマディスプレイパネ
ルとを含む。
のプラズマ放電により発生した紫外線を用いて蛍光体を
発光させる方式で表示動作を行う。このようなプラズマ
ディスプレイパネルは、電極の表面に誘電層を構成する
ＡＣ型プラズマディスプレイパネルと電極の表面が放電
空間に露出されているＤＣ型プラズマディスプレイパネ
ルとを含む。
【０００４】図１は一般的な３電極面放電方式のＡＣ型
プラズマディスプレイパネルの断面構造を示すものであ
る。図１に図示のプラズマディスプレイパネルは前面ガ
ラス基板１の同一面上にスキャン電極とサステイン電極
とで構成された上部電極４と、その上部電極４上に印刷
技法で形成された誘電層２及び、誘電層２上に蒸着され
た保護層を含む上部構造と、その上部構造の背面ガラス
基板１１上に上部電極４に直交する方向に形成されたア
ドレス電極１２と、アドレス電極１２間に隣接したセル
とのクロストーク現象を防止するために形成された隔壁
６と、そして、隔壁６とアドレス電極１２の周囲に形成
された蛍光体８，９，１０とを含む下部構造とで構成さ
れている。そして、上部構造と下部構造の間の空間に不
活性ガスが封入されており、この不活性ガスの封入され
た空間がプラズマ放電が起こる放電領域５である。この
際、放電領域に存在する不活性ガスは、ヘリウム（Ｈ
ｅ）を主成分にしてキセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）
ガスなどを添加したペニング（Penning）ガスであっ
て、約４００〜５００torr程度の圧力で満たされてい
る。図１は説明の便利のために上部の基板を９０°回転
して図示した。
プラズマディスプレイパネルの断面構造を示すものであ
る。図１に図示のプラズマディスプレイパネルは前面ガ
ラス基板１の同一面上にスキャン電極とサステイン電極
とで構成された上部電極４と、その上部電極４上に印刷
技法で形成された誘電層２及び、誘電層２上に蒸着され
た保護層を含む上部構造と、その上部構造の背面ガラス
基板１１上に上部電極４に直交する方向に形成されたア
ドレス電極１２と、アドレス電極１２間に隣接したセル
とのクロストーク現象を防止するために形成された隔壁
６と、そして、隔壁６とアドレス電極１２の周囲に形成
された蛍光体８，９，１０とを含む下部構造とで構成さ
れている。そして、上部構造と下部構造の間の空間に不
活性ガスが封入されており、この不活性ガスの封入され
た空間がプラズマ放電が起こる放電領域５である。この
際、放電領域に存在する不活性ガスは、ヘリウム（Ｈ
ｅ）を主成分にしてキセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）
ガスなどを添加したペニング（Penning）ガスであっ
て、約４００〜５００torr程度の圧力で満たされてい
る。図１は説明の便利のために上部の基板を９０°回転
して図示した。
【０００５】このような３電極面放電方式のＡＣ型プラ
ズマディスプレイパネルは、アドレス電極とスキャン電
極との間に駆動電圧が印加されると、アドレス電極とス
キャン電極の間に対向放電が起こる。この結果、上部構
造の保護層の表面に壁電荷が発生する。この場合、壁電
荷によりＹ電極とＺ電極相互間に所定の電位差が保たれ
るので、アドレス電極に印加される駆動電圧が遮断され
てもスキャン電極とサステイン電極に互いに極性の反対
の放電電圧が持続的に印加されると、誘電層２と保護層
３の表面の放電領域に面放電が起こる。このような面放
電によって放電領域の不活性ガスから紫外線７が発生す
る。この紫外線７は蛍光体８，９，１０の表面に衝突し
て蛍光体を励起させ、励起した蛍光体８，９，１０は発
光してカラーが表示される。
ズマディスプレイパネルは、アドレス電極とスキャン電
極との間に駆動電圧が印加されると、アドレス電極とス
キャン電極の間に対向放電が起こる。この結果、上部構
造の保護層の表面に壁電荷が発生する。この場合、壁電
荷によりＹ電極とＺ電極相互間に所定の電位差が保たれ
るので、アドレス電極に印加される駆動電圧が遮断され
てもスキャン電極とサステイン電極に互いに極性の反対
の放電電圧が持続的に印加されると、誘電層２と保護層
３の表面の放電領域に面放電が起こる。このような面放
電によって放電領域の不活性ガスから紫外線７が発生す
る。この紫外線７は蛍光体８，９，１０の表面に衝突し
て蛍光体を励起させ、励起した蛍光体８，９，１０は発
光してカラーが表示される。
【０００６】放電によって紫外線が発生する原理は概
略、次のようである。スキャン電極とサステイン電極に
駆動電圧が印加されると、放電セルの内部に存在する電
子は印加された駆動電圧により負極（−）に加速され
る。加速された電子は上記放電セルの中に満たされた不
活性混合ガスと衝突し、このような衝突により不活性ガ
スが励起され１４７ｎｍの波長を有する紫外線が発生す
る。このような紫外線７が下部電極１２と隔壁６との周
囲を囲む蛍光体８，９，１０と衝突して可視光線領域の
光が放出される。
略、次のようである。スキャン電極とサステイン電極に
駆動電圧が印加されると、放電セルの内部に存在する電
子は印加された駆動電圧により負極（−）に加速され
る。加速された電子は上記放電セルの中に満たされた不
活性混合ガスと衝突し、このような衝突により不活性ガ
スが励起され１４７ｎｍの波長を有する紫外線が発生す
る。このような紫外線７が下部電極１２と隔壁６との周
囲を囲む蛍光体８，９，１０と衝突して可視光線領域の
光が放出される。
【０００７】このようなプラズマディスプレイパネル
は、隣接した放電セル間に発生する干渉現象を減らすた
めに所定の間隔の空間が確保されている。そして、その
空間に当たる領域にブラックマトリックスが図２に示す
ように形成されている。このようなブラックマトリック
スが形成される部分は前面ガラス基板の上部電極の間に
当たるガラス基板の背面である。ブラックマトリックス
はペーストタイプのブラックマトリックス材料を所定の
マスクで印刷する方法により形成される。図２は図１に
おける上部電極の構造を詳細に示したものである。
は、隣接した放電セル間に発生する干渉現象を減らすた
めに所定の間隔の空間が確保されている。そして、その
空間に当たる領域にブラックマトリックスが図２に示す
ように形成されている。このようなブラックマトリック
スが形成される部分は前面ガラス基板の上部電極の間に
当たるガラス基板の背面である。ブラックマトリックス
はペーストタイプのブラックマトリックス材料を所定の
マスクで印刷する方法により形成される。図２は図１に
おける上部電極の構造を詳細に示したものである。
【０００８】ところが、従来のブラックマトリックスは
次のような問題点があった。まず、ブラックマトリック
スが別途のペースト材料を用いて形成されるので、製造
コストが高く、長時間の製造時間がかかる。特に、従来
のブラックマトリックスはペースト材料を焼成する工程
を経らなければならないので、材料の消費量が多く、材
料が非効率的に使われていた。
次のような問題点があった。まず、ブラックマトリック
スが別途のペースト材料を用いて形成されるので、製造
コストが高く、長時間の製造時間がかかる。特に、従来
のブラックマトリックスはペースト材料を焼成する工程
を経らなければならないので、材料の消費量が多く、材
料が非効率的に使われていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点を解決するためになされたもので、ブラックマト
リックスの製造コストを低減し、別途の焼成工程を経ら
ずにブラックマトリックスを形成できる方法とそのよう
な方法により形成されたブラックマトリックスを提供す
ることを目的とする。
問題点を解決するためになされたもので、ブラックマト
リックスの製造コストを低減し、別途の焼成工程を経ら
ずにブラックマトリックスを形成できる方法とそのよう
な方法により形成されたブラックマトリックスを提供す
ることを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレイパネルのブラックマトリックスの製造方法は、上
部基板上に透明電極を上部電極パターンとブラックマト
リックスパターンとで形成する段階と、ブラックマトリ
ックスパターンの透明電極上に所定の金属物質を薄く無
電解鍍金する段階と、を包含することを特徴とし、それ
により上記目的が達成される。無電解鍍金を実施する前
に金属酸化物層の表面を触媒化する段階をさらに包含し
てもよい。触媒化する段階が、金属酸化物層をＰｄＣｌ
2溶液に５分から１０分間露出させてもよい。無電解鍍
金する段階が、金属酸化物層の表面をＣｕＳＯ4溶液に
１分以下の時間の間露出されてもよい。上部電極パター
ンとブラックマトリックスパターンは同時に形成されて
もよい。本発明のプラズマディスプレイパネルのブラッ
クマトリックスの製造方法は、上部基板上に金属酸化膜
を形成する段階と、金属酸化膜上に所定の金属物質を堆
積させる段階と、を包含し、それにより上記目的が達成
される。金属物質を堆積させる段階が、金属酸化膜を無
電解鍍金する段階であってもよい。無電解鍍金を実施す
る前に金属酸化膜の表面を触媒化してもよい。触媒化す
る段階が、金属酸化膜をＰｄＣｌ2溶液に５分から１０
分間露出させてもよい。無電解鍍金する段階が、金属酸
化膜の表面をＣｕＳＯ4溶液に１分以下の時間の間露出
させてもよい。金属物質が、金属物質の堆積された層が
導電性を有していない水準で薄く堆積されてもよい。本
発明は金属酸化物膜を用いた無電解鍍金を通してなる背
面黒化現像を利用してブラックマトリックスを形成する
ことを特徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、基板１００上に透明電極を上部電極１
１０，１１０´とブラックマトリックスパターン１２
０，１２０´とで形成する段階と、ブラックマトリック
スパターン１２０，１２０´の透明電極上に金属物質を
堆積させる段階とを備えることを特徴とする。
プレイパネルのブラックマトリックスの製造方法は、上
部基板上に透明電極を上部電極パターンとブラックマト
リックスパターンとで形成する段階と、ブラックマトリ
ックスパターンの透明電極上に所定の金属物質を薄く無
電解鍍金する段階と、を包含することを特徴とし、それ
により上記目的が達成される。無電解鍍金を実施する前
に金属酸化物層の表面を触媒化する段階をさらに包含し
てもよい。触媒化する段階が、金属酸化物層をＰｄＣｌ
2溶液に５分から１０分間露出させてもよい。無電解鍍
金する段階が、金属酸化物層の表面をＣｕＳＯ4溶液に
１分以下の時間の間露出されてもよい。上部電極パター
ンとブラックマトリックスパターンは同時に形成されて
もよい。本発明のプラズマディスプレイパネルのブラッ
クマトリックスの製造方法は、上部基板上に金属酸化膜
を形成する段階と、金属酸化膜上に所定の金属物質を堆
積させる段階と、を包含し、それにより上記目的が達成
される。金属物質を堆積させる段階が、金属酸化膜を無
電解鍍金する段階であってもよい。無電解鍍金を実施す
る前に金属酸化膜の表面を触媒化してもよい。触媒化す
る段階が、金属酸化膜をＰｄＣｌ2溶液に５分から１０
分間露出させてもよい。無電解鍍金する段階が、金属酸
化膜の表面をＣｕＳＯ4溶液に１分以下の時間の間露出
させてもよい。金属物質が、金属物質の堆積された層が
導電性を有していない水準で薄く堆積されてもよい。本
発明は金属酸化物膜を用いた無電解鍍金を通してなる背
面黒化現像を利用してブラックマトリックスを形成する
ことを特徴とする。本発明のプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は、基板１００上に透明電極を上部電極１
１０，１１０´とブラックマトリックスパターン１２
０，１２０´とで形成する段階と、ブラックマトリック
スパターン１２０，１２０´の透明電極上に金属物質を
堆積させる段階とを備えることを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明のプラズマディスプ
レイパネルの製造方法について添付の図３乃至図５を参
考に説明する。まず、図３に示すように、酸化亜鉛（Ｚ
ｎＯ）などよりなる金属酸化膜が形成されたプラズマデ
ィスプレイパネルの基板１００上に透明電極が上部電極
１１０，１１０′とブラックマトリックス１２０，１２
０′パターンで形成される。この際、上部電極１１０，
１１０′とブラックマトリックス１２０，１２０′の透
明電極は一つのマスクで同時に形成されるのが好まし
い。
レイパネルの製造方法について添付の図３乃至図５を参
考に説明する。まず、図３に示すように、酸化亜鉛（Ｚ
ｎＯ）などよりなる金属酸化膜が形成されたプラズマデ
ィスプレイパネルの基板１００上に透明電極が上部電極
１１０，１１０′とブラックマトリックス１２０，１２
０′パターンで形成される。この際、上部電極１１０，
１１０′とブラックマトリックス１２０，１２０′の透
明電極は一つのマスクで同時に形成されるのが好まし
い。
【００１２】その後、図４に示すように、透明電極の形
成された基板１００が無電解鍍金され、ブラックマトリ
ックス１２０，１２０′パターンの透明電極上に非常に
薄い金属膜１３０，１３０′が形成される。透明電極上
に形成された金属膜１３０，１３０′は透明電極が不透
明になるまでに形成されるのが好ましい。
成された基板１００が無電解鍍金され、ブラックマトリ
ックス１２０，１２０′パターンの透明電極上に非常に
薄い金属膜１３０，１３０′が形成される。透明電極上
に形成された金属膜１３０，１３０′は透明電極が不透
明になるまでに形成されるのが好ましい。
【００１３】本発明のポイントは透明電極上の金属膜１
３０，１３０′が最大限薄い厚さで形成されることであ
って、金属膜１３０，１３０′による導電性質がプラズ
マディスプレイパネルの放電セルに影響を与えないほど
金属膜１３０，１３０′の厚さが薄くなければならな
い。
３０，１３０′が最大限薄い厚さで形成されることであ
って、金属膜１３０，１３０′による導電性質がプラズ
マディスプレイパネルの放電セルに影響を与えないほど
金属膜１３０，１３０′の厚さが薄くなければならな
い。
【００１４】このような金属膜１３０，１３０′を容易
に形成するためには無電解鍍金の触媒化工程が必要であ
る。このような触媒化工程はｐＨが約２．５程度のＰｄ
Ｃｌ 2溶液に約５分から１０分程度透明電極の表面を露
出させることにより実施される。触媒化工程が行われた
基板１００の透明電極は、ＰｄＣｌ2溶液に露出された
表面が極めて微細にエッチングされている。このような
触媒化工程はブラックマトリックスパターンの透明電極
と上部電極パターンの透明電極に共に行われることも、
ブラックマトリックスパターンの透明電極にのみ行われ
ることもできる。
に形成するためには無電解鍍金の触媒化工程が必要であ
る。このような触媒化工程はｐＨが約２．５程度のＰｄ
Ｃｌ 2溶液に約５分から１０分程度透明電極の表面を露
出させることにより実施される。触媒化工程が行われた
基板１００の透明電極は、ＰｄＣｌ2溶液に露出された
表面が極めて微細にエッチングされている。このような
触媒化工程はブラックマトリックスパターンの透明電極
と上部電極パターンの透明電極に共に行われることも、
ブラックマトリックスパターンの透明電極にのみ行われ
ることもできる。
【００１５】透明電極の表面が触媒化すると、基板１０
０上のブラックマトリックスパターン１２０，１２０′
パターンの透明電極を硫酸銅（ＣｕＳＯ4）溶液に数秒
ないし数十秒程度露出させ無電解鍍金を実施する。この
ような無電解鍍金により透明電極上に銅（Ｃｕ）が鍍金
される。次に、透明電極の表面のエッチングされた部分
に金属の薄い乱反射膜が形成される。その結果、鍍金さ
れた透明電極の表面に黒化現像が発生し、透明電極は不
透明になる。したがって、本発明のポイントは、黒化現
像が発生する薄い金属膜をブラックマトリックスに使用
することである。
０上のブラックマトリックスパターン１２０，１２０′
パターンの透明電極を硫酸銅（ＣｕＳＯ4）溶液に数秒
ないし数十秒程度露出させ無電解鍍金を実施する。この
ような無電解鍍金により透明電極上に銅（Ｃｕ）が鍍金
される。次に、透明電極の表面のエッチングされた部分
に金属の薄い乱反射膜が形成される。その結果、鍍金さ
れた透明電極の表面に黒化現像が発生し、透明電極は不
透明になる。したがって、本発明のポイントは、黒化現
像が発生する薄い金属膜をブラックマトリックスに使用
することである。
【００１６】次いで、図５に示すように、上部電極１１
０，１１０′上に金属のバス電極が形成され、誘電体１
４０と保護膜１５０とが連続に形成されると、本発明に
よるプラズマディスプレイパネルの上部基板が完成す
る。
０，１１０′上に金属のバス電極が形成され、誘電体１
４０と保護膜１５０とが連続に形成されると、本発明に
よるプラズマディスプレイパネルの上部基板が完成す
る。
【００１７】本発明は上述した方法以外にも、透明電極
なしに金属酸化物上に直接金属物質を鍍金してブラック
マトリックスを形成することもできる。まず、基板上に
酸化亜鉛（ＺｎＯ）などよりなる金属酸化膜が形成され
る。その後、金属酸化膜の形成された基板が無電解鍍金
され、ブラックマトリックスが形成される部分上に極め
て薄い金属膜が形成される。金属酸化物上に形成された
金属膜は黒く不透明になるまで形成されるのが望まし
い。
なしに金属酸化物上に直接金属物質を鍍金してブラック
マトリックスを形成することもできる。まず、基板上に
酸化亜鉛（ＺｎＯ）などよりなる金属酸化膜が形成され
る。その後、金属酸化膜の形成された基板が無電解鍍金
され、ブラックマトリックスが形成される部分上に極め
て薄い金属膜が形成される。金属酸化物上に形成された
金属膜は黒く不透明になるまで形成されるのが望まし
い。
【００１８】本発明のポイントは、金属酸化物上の金属
膜が最大限薄い厚さで形成されることであって、金属膜
による導電性質がプラズマディスプレイパネルの放電セ
ルに影響を与えないほど金属膜の厚さが薄くなければな
らない。このような金属膜が容易に形成されるために
は、無電解鍍金の触媒化工程が必要である。このような
触媒化工程はｐＨが約２．５程度のＰｄＣｌ2溶液に約
５分から１０分程度金属酸化膜の表面を露出させること
により実施される。触媒化工程が行われた基板の金属酸
化膜は、ＰｄＣｌ2溶液領域に露出された表面が極めて
細かくエッチングされている。
膜が最大限薄い厚さで形成されることであって、金属膜
による導電性質がプラズマディスプレイパネルの放電セ
ルに影響を与えないほど金属膜の厚さが薄くなければな
らない。このような金属膜が容易に形成されるために
は、無電解鍍金の触媒化工程が必要である。このような
触媒化工程はｐＨが約２．５程度のＰｄＣｌ2溶液に約
５分から１０分程度金属酸化膜の表面を露出させること
により実施される。触媒化工程が行われた基板の金属酸
化膜は、ＰｄＣｌ2溶液領域に露出された表面が極めて
細かくエッチングされている。
【００１９】金属酸化膜の表面が触媒化すると、基板上
のブラックマトリックスが形成される金属酸化膜を硫酸
銅（ＣｕＳＯ4）溶液に数秒ないし数十秒程度露出さ
せ、無電解鍍金を実施する。このような無電解鍍金によ
って金属酸化膜上に銅（Ｃｕ）が鍍金される。次に、金
属酸化膜の表面のエッチングされた部分に金属の薄い乱
反射膜が形成される。その結果、鍍金された金属酸化膜
の表面に黒化現像が発生し、透明電極は不透明になる。
本発明のポイントはこのように黒化現像が発生する薄い
金属膜をブラックマトリックスとして使用することであ
る。
のブラックマトリックスが形成される金属酸化膜を硫酸
銅（ＣｕＳＯ4）溶液に数秒ないし数十秒程度露出さ
せ、無電解鍍金を実施する。このような無電解鍍金によ
って金属酸化膜上に銅（Ｃｕ）が鍍金される。次に、金
属酸化膜の表面のエッチングされた部分に金属の薄い乱
反射膜が形成される。その結果、鍍金された金属酸化膜
の表面に黒化現像が発生し、透明電極は不透明になる。
本発明のポイントはこのように黒化現像が発生する薄い
金属膜をブラックマトリックスとして使用することであ
る。
【００２０】次いで、上部電極上に金属のバス電極が形
成され、誘電体と保護膜とが連続に形成されると、本発
明によるプラズマディスプレイパネルの上部基板が完成
する。本発明のプラズマディスプレイパネルのブラック
マトリックスの製造方法は、上部基板上に透明電極を上
部電極パターンとブラックマトリックスパターンとで形
成する段階と、ブラックマトリックスパターンの透明電
極上に所定の金属物質を堆積させる段階とを含むことを
特徴とする。
成され、誘電体と保護膜とが連続に形成されると、本発
明によるプラズマディスプレイパネルの上部基板が完成
する。本発明のプラズマディスプレイパネルのブラック
マトリックスの製造方法は、上部基板上に透明電極を上
部電極パターンとブラックマトリックスパターンとで形
成する段階と、ブラックマトリックスパターンの透明電
極上に所定の金属物質を堆積させる段階とを含むことを
特徴とする。
【００２１】
【発明の効果】本発明によるプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法は従来のプラズマディスプレイパネル製造
方法に比べて、別途の焼成過程を経ずにブラックマトリ
ックスを製造できるという長所がある。また、本発明は
上部電極とブラックマトリックスとを同時にパターニン
グすることができるので、従来の製造方法に比べて製造
工程が単純で、製造コストが低くなるような効果があ
る。
ルの製造方法は従来のプラズマディスプレイパネル製造
方法に比べて、別途の焼成過程を経ずにブラックマトリ
ックスを製造できるという長所がある。また、本発明は
上部電極とブラックマトリックスとを同時にパターニン
グすることができるので、従来の製造方法に比べて製造
工程が単純で、製造コストが低くなるような効果があ
る。
【図１】 一般的なプラズマディスプレイパネルの放電
セルの構造を示す断面図である。
セルの構造を示す断面図である。
【図２】 図１における上部基板と上部電極およびブラ
ックマトリックスを詳細に示す断面図である。
ックマトリックスを詳細に示す断面図である。
【図３】 本発明のプラズマディスプレイパネルの製造
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図４】 本発明のプラズマディスプレイパネルの製造
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
【図５】 本発明のプラズマディスプレイパネルの製造
工程を示す断面図である。
工程を示す断面図である。
１００ 基板 １１０、１１０′ 上部基板 １２０、１２０′ ブラックマトリックス １３０、１３０′ 金属膜 １４０ 誘電体 １５０ 保護膜
Claims (11)
- 【請求項１】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、 上部基板上に透明電極を上部電極パターンとブラックマ
トリックスパターンとで形成する段階と、 前記ブラックマトリックスパターンの透明電極上に所定
の金属物質を薄く無電解鍍金する段階と、を包含するこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネルのブラック
マトリックスの製造方法。 - 【請求項２】 前記無電解鍍金を実施する前に金属酸化
物層の表面を触媒化する段階をさらに包含することを特
徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル
のブラックマトリックスの製造方法。 - 【請求項３】 前記触媒化する段階が、 前記金属酸化物層をＰｄＣｌ2溶液に５分から１０分間
露出させることを特徴とする請求項２に記載のプラズマ
ディスプレイパネルのブラックマトリックスの製造方
法。 - 【請求項４】 前記無電解鍍金する段階が、 金属酸化物層の表面をＣｕＳＯ4溶液に１分以下の時間
の間露出させることを特徴とする請求項１に記載のプラ
ズマディスプレイパネルのブラックマトリックスの製造
方法。 - 【請求項５】 前記上部電極パターンとブラックマトリ
ックスパターンは同時に形成されることを特徴とする請
求項１に記載のプラズマディスプレイパネルのブラック
マトリックスの製造方法。 - 【請求項６】 プラズマディスプレイパネルの製造工程
において、 上部基板上に金属酸化膜を形成する段階と、 前記金属酸化膜上に所定の金属物質を堆積させる段階
と、を包含する、プラズマディスプレイパネルのブラッ
クマトリックスの製造方法。 - 【請求項７】 前記金属物質を堆積させる段階が、金属
酸化膜を無電解鍍金する段階であることを特徴とする請
求項６に記載のプラズマディスプレイパネルのブラック
マトリックスの製造方法。 - 【請求項８】 前記無電解鍍金を実施する前に前記金属
酸化膜の表面を触媒化する段階をさらに包含する請求項
７に記載のプラズマディスプレイパネルのブラックマト
リックスの製造方法。 - 【請求項９】 前記触媒化する段階が、前記金属酸化膜
をＰｄＣｌ2溶液に５分から１０分間露出させることを
特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレイパネ
ルのブラックマトリックスの製造方法。 - 【請求項１０】 前記無電解鍍金する段階が、前記金属
酸化膜の表面をＣｕＳＯ4溶液に１分以下の時間の間露
出させることを特徴とする請求項７に記載のプラズマデ
ィスプレイパネルのブラックマトリックスの製造方法。 - 【請求項１１】 前記金属物質が、金属物質の堆積され
た層が導電性を有していない水準で薄く堆積されること
を特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパ
ネルのブラックマトリックスの製造方法。
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