KR20090030094A - 플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극쉬트의 제조 방법 - Google Patents

플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극쉬트의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법을 개시한다. 본 발명은 서로 대향되게 배치되며, 유연성을 가지는 제 1 기판과, 제 2 기판;과, 제 1 기판과, 제 2 기판 사이에 배치되어서 복수의 방전 셀을 구획하며, 복수의 방전 전극이 패턴화된 방전 전극 쉬트;와, 방전 셀내에 형성된 형광체층;과, 방전 전극 쉬트에 형성되며, 방전 셀간을 연통시켜 형성된 배기 통로부;를 포함한 것으로서, 유연성을 가진 필름으로 된 기판 사이에 배치된 필름 형상의 방전 전극 쉬트에 인접한 방전 셀을 서로 연결시키는 배기 통로부가 형성됨에 따라서, 진공 배기시에 수분을 비롯한 불순 가스의 배기 통로가 형성된다. 이에 따라, 기판과 방전 전극 쉬트와의 협착을 방지하게 된다.
플라즈마, 방전 쉬트, 배기 통로, 불순 가스

Description

플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법{Plasma display panel and the fabrication method of discharge electrode sheet for applying thereof}
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 접이형 패널에서 배기를 원활하게 하기 위하여 배기 통로부가 형성된 플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법에 관한 것이다.
통상적으로, 디스플레이 장치는 크게 발광형과, 수광형으로 분류한다. 발광형으로는 평판 음극선관(flat cathode ray tube), 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel), 전자 발광 소자(electro luminescent display, 이하 EL소자), 형광 표시 장치(vacuum fluorescent display), 발광 다이오드(light emitting diode)가 있다. 수광형으로는 액정 디스플레이(liquid crystal display)가 있다.
이중에서, 플라즈마 디스플레이 패널은 복수의 기판내로 방전 가스를 주입하여 밀폐한 다음에, 복수의 방전 전극에 인가되는 직류 또는 교류 전압에 의하여 가스 방전이 일어나게 되면, 방전 과정에서 발생되는 자외선에 의하여 형광체층이 여 기되어서 가시광을 발산하여서 소망하는 숫자, 문자, 또는 이미지를 구현하는 평판 표시 장치(flat display device)를 말한다.
플라즈마 디스플레이 패널은 제 1 기판과, 이와 결합되는 제 2 기판을 가지는 복수의 기판과, 기판의 후방에 부착된 샤시 베이스와, 샤시 베이스의 후방에 부착된 구동 회로 보드를 포함한다.
종래의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조 공정을 간략하게 설명하면 다음과 같다.
제 1 기판의 경우, 그 상면에 다수의 제 1 방전 전극을 형성시키고, 제 1 방전 전극상에는 이들을 매립하도록 제 1 유전체층을 인쇄하고, 제 1 유전체층의 표면에는 보호막층을 형성하게 된다. 제 2 기판의 경우, 그 상면에 제 2 방전 전극을 형성시키고, 제 2 방전 전극상에는 이들을 매립하도록 제 2 유전체층을 인쇄하고, 제2 유전체층상에는 방전 셀을 구획하기 위한 격벽을 형성하고, 격벽의 내측으로 적,녹,청색의 형광체층을 도포하게 된다.
상기 과정을 통하여 완성된 제 1 및 제 2 기판은 상호 정렬된 상태에서 대향된 내면 가장자리에 글래스 프릿트(glass frit)를 도포하여서 소정 온도에서 열처리하는 과정을 통하여 상호 봉착시키게 된다. 봉착된 제 1 및 제 2 기판 사이에는 잔류하는 수분을 비롯한 불순 가스를 제거하기 위하여 진공 상태에서 배기를 수행하게 된다. 다음으로, 크세논-네온(Xe-Ne)을 주성분으로 하는 방전 가스를 봉입하고, 제 1 및 제 2 방전 전극에 소정의 전압을 인가하여 에이징(Aging) 방전시키고, IC 칩을 구비한 신호 전달부를 장착하여서 완성하게 된다.
한편, 최근에는 통신 기술의 발달과, 인터넷의 보편화로 인하여 소통되는 정보의 양이 폭발적으로 늘어남에 따라서 언제 어디서나 정보를 접할 수 있는 유비퀴터스 디스플레이(ubiquitous display) 시대가 도래하고 있다. 공간에 의하여 제한되지 않는 유비퀴터스 디스플레이 환경을 구현하기 위해서는 디스플레이 장치를 다양한 장소에 자유롭게 설치할 수 있어야 한다.
그런데, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 복수의 기판은 투명한 기판, 예컨대, soda lime glass나 PD-200과 같은 유리로 제조된다. 유리 재질로 이루어질 경우, 복수의 기판은 수 밀리미터의 두께로 인하여 중량이 증가하고, 패널의 경량화가 어렵게 되며, 공간적인 제한을 받게 된다. 이에 따라, 패널이 접혀지거나, 일방향으로 말아서 구동할 수 있도록 연구개발중이다.
도 1을 참조하면, 종래의 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 제 1 기판(101)과, 이와 대향되게 배치된 제 2 기판(102)과, 상기 제 1 기판(101)과, 제 2 기판(102) 사이에 배치되는 방전 전극 쉬트(103)를 포함한다. 상기 제 1 기판(101)과 제 2 기판(102)의 대향되는 가장자리에는 방전 전극 쉬트(103)를 사이에 두고 실링재(104)가 개재되어 있다.
그런데, 후막형의 유리를 기판으로 사용하는 경우와는 달리, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 유연성을 가지는 제 1 기판(101)과, 제 2 기판(102)으로 구성될 경우, 배기관(105)을 통하여 진공 배기시에 각 방전 셀(106)에 외부로부터 압력이 전달하게 되어서 상기 제 1 기판(101)과, 제 2 기판(102)은 각 방전 셀(106)에 협착하게 된다. 이에 따라, 방전 셀(106)의 주위 영역(A)에서 수분을 비 롯한 불순 가스의 배기가 원활하게 이루어지지 않게 된다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 유연성을 가지는 필름형 기판의 내부에 설치되는 방전 전극 쉬트에 배기 통로부를 형성하여서 진공 배기시에 배기를 원활하게 하기 위한 플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법을 제공하는 것을 주된 과제로 한다.
상기와 같은 과제를 달성하기 위하여 본 발명의 일 측면에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은,
서로 대향되게 배치되며, 유연성을 가지는 제 1 기판과, 제 2 기판;
상기 제 1 기판과, 제 2 기판 사이에 배치되어서 복수의 방전 셀을 구획하며, 복수의 방전 전극이 패턴화된 방전 전극 쉬트;
상기 방전 셀내에 형성된 형광체층; 및
상기 방전 전극 쉬트에 형성되며, 방전 셀간을 연통시켜 형성된 배기 통로부;를 포함한다.
또한, 상기 방전 전극 쉬트는 베이스 필름과, 상기 베이스 필름상에 패턴화된 방전 전극과, 상기 방전 전극을 매립하는 유전체층을 포함하고, 상기 방전 전극 쉬트에는 방전 셀과 대응되는 부분에 개구공이 관통된 것을 특징으로 한다.
나아가, 상기 방전 전극은 상기 베이스 필름의 일면상에 패턴화된 제 1 방전 전극과, 상기 베이스 필름의 타면상에 패턴화된 제 2 방전 전극을 포함한다.
아울러, 상기 제 1 방전 전극과, 제 2 방전 전극은 각각 상기 베이스 필름상에 형성된 금속막층과, 상기 금속막층에 형성된 도금막층을 포함한다.
게다가, 상기 배기 통로부는 상기 제 1 기판이나, 제 2 기판과 접하는 유전체층의 표면에 소정의 홈을 형성하고, 상기 홈을 인접한 방전 셀과 연결하여 형성한 것을 특징으로 한다.
더욱이, 상기 홈은 상기 패널의 일방향을 따라 인접한 방전 셀 사이에 배치되며, 방전 셀 사이의 영역을 다른 영역보다 얇게 하는 것에 의하여 인접한 방전 셀을 연통하도록 형성한 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 제 1 기판이나, 제 2 기판의 내면에는 각 방전 셀과 대응되는 영역마다 소정 깊이의 그루브가 형성되고, 상기 각 그루브에는 상기 형광체층이 형성된 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 따른 방전 전극 쉬트의 제조 방법은,
방전 전극 쉬트용 원소재를 준비하는 단계;
상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 포토 레지스터를 도포하고, 노광 및 현상하여 방전 전극의 패턴을 가지는 개구부를 형성하는 단계;
상기 개구부내에 도금층을 도금하는 단계;
상기 포토 레지스터층을 박리하는 단계;
상기 도금층을 에칭하여 방전 전극의 패턴을 형성하는 단계;
상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 유전체층을 코팅하여서 상기 방전 전극을 매립하고, 배기 통로부를 형성하는 단계; 및
상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 방전 셀과 대응되는 개구공을 형성하는 단계;를 포함한다.
또한, 상기 방전 전극 쉬트용 원소재를 준비하는 단계에서는,
베이스 필름이 마련되고, 상기 베이스 필름의 양면에 금속막층이 각각 부착되는 것을 특징으로 한다.
나아가, 상기 도금층을 도금하는 단계에서는,
상기 개구부를 통하여 상기 금속막층과 전기적으로 연결되는 도금층을 도금하는 것을 특징으로 한다.
더욱이, 배기 통로부를 형성하는 단계에서는,
상기 인접한 방전 셀 사이의 유전체층의 원소재 두께를 얇게 하는 것에 의하여 소정의 홈을 형성하여서, 상기 홈을 인접한 방전 셀과 연통시켜서 배기 통로부를 형성하는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법은 유연성을 가진 필름으로 된 기판 사이에 배치된 필름 형상의 방전 전극 쉬트에 인접한 방전 셀을 서로 연결시키는 배기 통로부가 형성됨에 따라서, 진공 배기시에 수분을 비롯한 불순 가스의 배기 통로가 형성된다. 이에 따라, 기판과 방전 전극 쉬트와의 협착을 방지하게 된다.
이하에서 첨부된 도면을 참조하면서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플 라즈마 디스플레이 패널과, 이에 적용되는 방전 전극 쉬트의 제조 방법을 상세하게설명하고자 한다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(200)을 일부 절제하여 도시한 것이고, 도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절개 도시하여 결합한 것이고, 도 4는 도 2의 방전 전극을 분리하여 도시한 것이다.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 유연성을 가지는 제 1 기판(201)과, 상기 제 2 기판과 대향되게 배치된 유연성을 가지는 제 2 기판(202)을 포함한다. 상기 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202)은 광투과성이 우수한 고분자 수지와 같은 유연성을 가진 필름으로 이루어져 있다. 이로 인하여, 상기 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202)은 접혀지거나, 감을수 있다. 대안으로는 상기 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202)은 반사 휘도를 감소시켜서 명실 콘트라스트를 향상시키기 위하여 착색하거나, 반투명으로 사용할 수 있다.
상기 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202) 사이에는 방전 전극 쉬트(203)가 개재되어 있다. 상기 방전 전극 쉬트(203)는 베이스 필름(204)과, 상기 베이스 필름(204)에 패턴화된 복수의 방전 전극쌍(205)과, 상기 방전 전극쌍(205)을 매립하는 유전체층(206)을 포함한다. 또한, 상기 방전 전극 쉬트(203)에는 방전 셀(S)과 대응되는 부분에 복수의 개구공(214)이 관통되어 있다.
상기 방전 전극쌍(205)은 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)을 포함한다. 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)은 하나의 방전 셀(S)마다 각각 1 개씩 배치되어 있다. 상기 제 1 방전 전극(207)은 상기 제 1 기판(201) 과 상대적으로 인접하게 배치되어 있으며, 상기 제 2 방전 전극(208)은 제 2 기판(202)과 상대적으로 인접하게 배치되어 있다.
상기 제 1 방전 전극(207)은 패널(200)의 X 방향을 따라서 인접하게 배치된 각 방전 셀(S)의 둘레를 감싸면서 연장되어 있다. 상기 제 1 방전 전극(207)은 방전 셀(S)의 둘레를 감싸고 있는 제 1 루프부(207a)와, 인접한 제 1 루프부(207a)를 전기적으로 연결하는 제 1 브리지부(207b)로 이루어져 있다.
상기 제 1 루프부(207a)는 원형의 폐루프(closed loop) 형상이지만, 이에 한정되지 않고,사각형 또는 육각형같은 다른 형상의 폐루프나, 개루프(open loop)등의 다양한 형상을 가질 수 있으며, 방전 셀(S)의 일부를 감싸는 구조라면 바람직하다.
상기 제 2 방전 전극(208)은 상기 제 1 방전 전극(207)과 교차하는 방향인 패널(200)의 Y 방향을 따라서 배치된 방전 셀(S)의 둘레를 감싸면서 연장되어 있다. 상기 제 2 방전 전극(208)은 상기 방전 전극 쉬트(203) 내에서 상기 패널(200)의 Z 방향으로 상기 제 1 방전 전극(207)과 이격되어 배치되어 있다.
이때, 상기 제 2 방전 전극(208)은 방전 셀(S)을 각각 둘러감싸는 제 2 루프부(208a)와, 인접한 제 2 루프부(208a)를 전기적으로 연결하는 제 2 브리지부(208b)로 이루어져 있다. 상기 제 2 루프부(208a)는 원형의 폐루프 형상이지만, 방전 셀(S)의 둘레를 감싸는 구조라면 어느 하나의 형상에 한정되는 것은 아니다.
한편, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)으로 이루어진 2 전극 구조로서, 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)중 어느 한 방전 전극은 주사 및 유지 전극의 역할을 하고, 다른 한 방전 전극은 어드레스 및 유지 전극의 역할을 한다.
대안으로는, 상기 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)이 동일한 방향으로 배치되어서 한 쌍의 방전 유지 전극의 역할을 하고, 상기 제 1 방전 및 제 2 방전 전극(208)과 교차하는 방향으로 어드레스 전극이 더 배치되어서 어드레스 전극의 역할을 하는 3 전극 구조를 채용할 수 있는등 어느 하나에 한정되는 것은 아니다.
또한, 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)은 베이스 필름(204)의 표면으로부터 서로 다른 방향으로 배치되어 있다. 즉, 상기 제 1 방전 전극(207)은 상기 베이스 필름(204)의 일면으로부터 상기 제 1 기판(201)을 향하여 패턴화되어 있고, 상기 제 2 방전 전극(208)은 상기 베이스 필름(204)의 타면으로부터 상기 제 2 기판(202)을 향하여 패턴화되어 있다.
상기 제 1 방전 전극(207)은 상기 베이스 필름(204)의 일면에 형성된 제 1 금속막층(209)과, 상기 제 1 금속막층(209)상에 형성된 제 1 도금층(210)이 적층된 2층 구조이다. 상기 제 2 방전 전극(208)도 상기 베이스 필름(204)의 타면에 형성된 제 2 금속막층(211)과, 상기 제 2 금속막층(211)상에 형성된 제 2 도금층(212)이 적층된 2층 구조이다.
이때, 상기 베이스 필름(204)은 폴리 이미드와 같은 고분자 수지로 이루어지며, 상기 제 1 금속막층(209)과, 제 2 금속막층(211)은 상기 베이스 필름(204)상에 직접적으로 부착된 구리 호일과 같은 도전성이 우수한 금속막층으로 이루어지며, 상기 제 1 도금층(210)층과, 제 2 도금층(212)은 상기 제 1 금속막층(209)과, 제 2 금속막층(201)의 표면에 형성된 도금층으로서, 본 실시예는 구리 도금층이나, 이에 한정되는 것은 아니다.
이처럼, 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)은 베이스 필름(204)의 양면에 각각 패턴화되어있으며, 제 1 금속막층(209)과, 제 2 금속막층(211)상에 제 1 도금층(210)과 제 2 도금층(212)이 도금된 2층 구조로서, 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202)의 내표면과 같이 직접적으로 가시광의 투과율을 감소시키는 위치에 배치되어 있지 않으므로, 구리나 알루미늄과 같이 도전성이 우수한 금속재로 형성시킬 수가 있다.
상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)은 유전체층(206)에 의하여 매립되어 있다. 상기 유전체층(206)은 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)들간에 직접적으로 통전되는 것을 방지함과 동시에, 양이온 또는 전자가 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)을 손상시키는 것을 방지하고, 전하를 유도하여 벽전하를 축적할 수 있는 유전체로 형성되는 것이 바람직하다.
그리고, 상기 방전 전극 쉬트(203)는 원형의 횡단면을 가지는 방전 셀(S)을 가지도록 형성되어 있으나, 반드시 이에 한정되는 것은 아니다. 즉, 상기 방전 전극 쉬트(203)는 복수의 방전 셀(S)을 구획할 수 있는 구조라면 다양한 패턴, 예컨대, 다각형인, 원형이나, 비원형의 횡단면의 방전 셀(S)을 가지도록 개구공(214)을 형성할 수도 있으며, 방전 셀(S)의 배치는 델타형(delta type)이나, 와플형(waffle type)이나, 미앤더형(meander type)의 방전 셀(S)을 한정하도록 형성시킬 수가 있 다.
한편, 상기 방전 셀(S)과 접하는 전극 쉬트(203)의 내벽에는 보호막층(213)이 형성되어 있다. 상기 보호막층(213)은 플라즈마 입자의 스퍼터링에 의하여 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)이 손상되는 것을 방지하고, 이와 동시에 2차 전자를 방출하여서 방전 전압을 낮추어 주는 역할을 한다. 상기 보호막층(213)으로는 마그네슘 옥사이드(MgO)를 사용할 수가 있다.
또한, 각각의 방전 셀(S)과 대응되는 제 1 기판(201)의 내면에는 소정의 깊이를 가지도록 그루브(201a)가 형성되어 있다. 상기 그루브(201a)는 각 방전 셀(S)마다 형성되어 있다. 상기 그루브(201a)의 형상은 실질적으로 방전 셀(S)과 동일한 형상이다.
상기 그루브(201a)에는 적,녹,청색의 형광체층(215)이 도포되어 있다. 대안으로는 상기 형광체층(215)은 제 2 기판(202)의 내면이나, 상기 방전 셀(S)과 접하는 방전 전극 쉬트(203)의 내측벽에 형성시킬 수 있는등 방전 셀내에 형성된다면, 어느 한 영역에 한정되지는 않는다.
상기 형광체층(215)은 자외선을 받아서 가시광을 발생하는 성분을 포함하고 있는데, 적색 발광셀에 형성된 형광체층은 Y(V,P)O4:Eu 등과 같은 적색 형광체를 포함하며, 녹색 발광 방전셀에 형성된 형광체층은 Zn2SiO4:Mn, YBO3:Tb 등과 같은 녹색 형광체를 포함하며, 청색 발광 방전셀에 형성된 형광체층은 BAM:Eu 등과 같은 청색 형광체를 포함한다.
상기 방전 셀(S) 내에는 네온(Ne), 크세논(Xe)등 및 이들의 혼합 기체와 같은 방전 가스가 봉입되어 있다. 본 실시예의 경우, 방전면이 증가하고, 방전 영역이 확대될 수 있어서, 플라즈마의 양이 증가하므로, 저전압 구동이 가능하게 된다. 따라서, 고농도 Xe 가스를 방전 가스로 사용한다 할지라도, 저전압 구동이 가능하게 됨으로써, 발광 효율을 획기적으로 향상시킬 수가 있다.
여기서, 상기 방전 전극 쉬트(203)에는 인접한 방전 셀(S)간을 연통시켜 배기 통로부(216)가 형성되어 있다. 즉, 상기 방전 전극 쉬트(203)에는 유전체층(206)의 표면로부터 깊이 방향으로 소정의 홈을 형성하고, 상기 홈을 인접한 방전 셀(S) 사이에 연결하여 배기 통로부(216)를 형성하고 있다. 이때, 상기 배기 통로부(216)는 상기 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202)과 접하는 유전체층(206)의 표면이다.
또한, 상기 배기 통로부(216)가 형성되는 부분은 패널(200)의 X 방향을 따라 인접한 방전 셀(S) 사이의 유전체층(206) 영역에 해당되는 것으로서, 상기 유전체층(206)의 두께를 다른 영역보다 얇게 하는 것에 의하여 인접한 방전 셀(S)을 서로 연통시킬 수 있도록 스트라이프형의 홈을 이루고 있다. 이에 따라, 패널(200)의 X 방향을 따라서 배치된 방전 셀(S)은 상기 배기 통로부(216)에 의하여 서로 연통되어 있다.
상기와 같은 구성을 가지는 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 구동 방법은 다음과 같다.
먼저, 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208) 사이에 어드레싱 방전이 일어나고, 어드레싱 방전의 결과로 유지 방전이 일어날 방전 셀(S)이 선택된다. 이후, 선택된 방전 셀(S)에서 유지 방전 전압이 인가되면, 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208) 사이에 유지 방전이 발생하게 된다.
발생된 유지 방전에 의하여 여기된 방전 가스의 에너지 준위가 낮아지면서, 자외선이 방출된다. 방출된 자외선은 형광체층(215)의 형광체를 여기시키게 되는데, 여기된 형광체층(215)의 에너지 준위가 낮아지면서 가시광이 방출되며, 방출된 가시광이 화상을 구현하게 된다.
상기와 같이 구동되는 플라즈마 디스플레이 패널(200)은 제 1 기판(201)을 형성시키는 공정과, 제 2 기판(202)을 형성시키는 공정과, 방전 전극 쉬트(203)을 형성시키는 공정으로 분류할 수가 있다.
상기 제 1 기판(201) 상에 형광체층(215)을 형성시키기 위해서는 상기 제 1 기판(201)의 표면으로부터 방전 셀(S)과 대응되는 부분에 소정 깊이의 그루브(201a)를 형성시키고, 상기 그루브(201a)내에 형광체층(215)을 형성시키게 된다. 상기 방전 전극 쉬트(203)에 패턴층을 형성시키는 공정은 추후 도 7a 내지 도 7j에서 상세하게 설명될 것이다.
각각 준비된 제 1 기판(201)과, 제 2 기판(202) 사이에는 방전 전극 쉬트(203)를 배치하고, 프릿트 글래스(미도시)를 이용하여 봉착 공정을 수행하게 된다. 이후에, 도 5에 도시된 바와 같이, 제 2 기판(202)의 외면에 배기관(502)을 부착하고, 제 2 기판(202)에 형성된 배기공(501)과 연통시켜서 진공 배기와 방전 가스의 주입 공정을 연속적으로 하여서 플라즈마 디스플레이 패널(200)을 제조하게 된다. 진공 배기 및 방전 가스의 주입 공정후에는 에이징등의 다양한 후처리 공정을 수행할 수 있다.
이때, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 기판(201) 및 제 2 기판(202)과 접하는 방전 전극 쉬트(203)의 상부면 및 하부면에는 유전체층(206)의 두께를 달리하는 것에 의하여 인접한 방전 셀(S) 사이를 연통시키는 배기 통로부(216)가 형성되어 있으므로, 방전 셀(S)에 잔류하는 수분을 포함한 불순 가스는 화살표로 표시한 것처럼 배기 통로부(216)를 통하여 배출이 용이하게 이루어진다.
이하에서 방전 전극 쉬트(203)를 제조하는 방법에 대하여 설명하기로 한다.
먼저, 도 7a에 도시된 바와 같이, 고분자 수지로 된 베이스 필름(204)을 마련하고, 상기 베이스 필름(204)의 일면에는 제 1 금속막층(209)을 부착하고, 타면에는 제 2 금속막층(211)을 부착하여서 방전 전극 쉬트용 원소재를 마련하게 된다.
이어서, 도 7b에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 금속막층(209)의 표면에는 제 1 포토 레지스터(701)를 도포하고, 제 2 금속막층(211)의 표면에는 제 2 포토 레지스터(702)를 도포하게 된다.
다음으로, 상기 베이스 필름(204) 상에 포토 마스크를 설치하고, 도 7c에 도시된 바와 같이 방전 전극의 패턴의 형성될 부분에 패턴화된 제 1 포토 레지스터(701a)와, 패턴화된 제 2 포토 레지스터(702a)를 노광하게 된다.
이어서, 도 7d에 도시된 바와 같이, 현상 공정을 통하여 상기 베이스 필름(204)의 양면으로 상기 패턴화된 제 1 포토 레지스터(701a)와, 패턴화된 제 2 포토 레지스터(702a)를 현상하는 것에 의하여 방전 전극의 패턴을 가지는 도금 공(709)을 형성하게 된다.
상기 도금공(709)이 형성된 다음에, 도 7e에 도시된 바와 같이, 도금 공정을 통하여 상기 베이스 필름(204)의 일면에는 상기 도금공(709)을 통하여 제 1 도금층(210)을, 타면에는 제 2 도금층(212)을 각각 도금하게 된다. 이에 따라, 상기 제 1 금속층(209)과, 제 1 도금층(210)은 전기적으로 연결되고, 상기 제 2 금속층(211)과, 제 2 도금층(212)은 전기적으로 연결된다.
상기 제 1 및 제 2 도금층(210)(212)의 도금이 완료되면, 도 7f에 도시된 바와 같이, 잔류하는 제 1 포토 레지스터(701)와, 제 2 포토 레지스터(702)를 박리하게 되어서, 제 1 도금층(210)과, 제 2 도금층(212)을 패턴화시키게 된다.
다음으로, 도 7h에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 금속막층(209)과 제 1 도금층(210)이 적층된 영역과, 상기 제 2 금속막층(211)과, 제 2 도금층(212)이 적층된 영역 이외의 상기 제 1 금속막층(209)과, 제 2 금속막층(211)을 에칭하는 것에 의하여 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)을 패턴화시키게 된다.
이에 따라, 상기 제 1 방전 전극(207)은 제 1 금속막층(209)과, 상기 제 1 금속막층(209)상에 도금된 제 1 도금층(210)으로 된 2층 구조로 이루어지며, 상기 제 2 방전 전극(208)은 제 2 금속막층(211)과, 상기 제 2 금속막층(211)상에 도금된 제 2 도금층(212)으로 된 2층 구조를 이루게 된다.
이어서, 도 7i에 도시된 바와 같이, 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)을 매립하는 유전체층(206)을 도포하게 된다. 이때, 상기 유전체층(206)의 표면으로부터 소정 깊이의 홈을 형성하는 것에 의하여 배기 통로부(216)를 형성 하게 된다. 상기 배기 통로부(216)은 추후 형성될 인접한 방전 셀(S) 사이의 영역의 유전체층(206)의 두께를 다른 유전체층(206)의 영역보다 얇게 하는 것에 의하여 형성된다.
상기 배기 통로부(216)를 가지는 유전체층(206)을 형성한 다음에는, 도 7j에 도시된 바와 같이, 복수의 개구공(214)을 형성하는 것에 의하여 방전 셀(S)을 형성하게 된다. 이때, 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)은 방전 셀(S)을 감싸도록 패턴화된다. 대안으로는, 상기 복수의 개구공(214)을 형성한 다음에, 상기 제 1 방전 전극(207)과, 제 2 방전 전극(208)을 매립하면서 배기 통로부(216)를 형성하기 위한 유전체층(206)을 도포할 수도 있다.
한편, 상기 방전 셀(S)과 접하는 방전 전극 쉬트(203)의 내벽에는 보호막층(213)을 형성하는 것에 의하여 방전 전극 쉬트(203)를 완성하게 된다.
본 발명은 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 등록청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.
도 1은 통상적인 플라즈마 디스플레이 패널이 배기하는 상태를 도시한 단면도,
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 일부 절제하여 도시한 분리 사시도,
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선을 따라 절개하도 도시한 결합 단면도,
도 4는 도 2의 방전 전극을 도시한 분리 사시도,
도 5는 도 2의 플라즈마 디스플레이 패널이 배기하는 상태를 도시한 단면도,
도 6은 도 2의 배기 통로부를 도시한 평면도,
도 7a 내지 도 7j는 도 2의 방전 전극 쉬트를 제조하는 상태를 도시한 단면도로서,
도 7a는 본 발명의 일 실시예에 따른 방전 전극 쉬트의 원소재가 마련된 상태를 도시한 단면도,
도 7b는 도 7a의 방전 전극 쉬트의 원소재상에 포토 레지스터를 도포한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7c는 도 7b의 포토 레지스터를 노광한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7d는 도 7c의 포토 레지스터를 현상한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7e는 도 7d의 방전 전극 쉬트의 원소재상에 도금한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7f는 도 7e의 방전 전극을 패턴화한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7h는 도 7f의 방전 전극을 완성한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7i는 도 7h의 방전 전극상에 유전체층을 도포한 이후의 상태를 도시한 단면도,
도 7j는 도 7i의 방전 전극 쉬트에 방전 셀을 형성한 이후의 상태를 도시한 단면도.
<도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명>
200...플라즈마 디스플레이 패널 201...제 1 기판
202...제 2 기판 203...방전 전극 쉬트
204...베이스 필름 205...방전 전극
206...유전체층 207...제 1 방전 전극
208...제 2 방전 전극 213...보호막층
215...형광체층 216...배기 통로부

Claims (19)

  1. 서로 대향되게 배치되며, 유연성을 가지는 제 1 기판과, 제 2 기판;
    상기 제 1 기판과, 제 2 기판 사이에 배치되어서 복수의 방전 셀을 구획하며, 복수의 방전 전극이 패턴화된 방전 전극 쉬트;
    상기 방전 셀내에 형성된 형광체층; 및
    상기 방전 전극 쉬트에 형성되며, 방전 셀간을 연통시켜 형성된 배기 통로부;를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 기판이나, 제 2 기판은 고분자 수지로 된 필름인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 방전 전극은 패널의 일 방향으로 배치된 제 1 방전 전극과, 상기 제 1 방전 전극과 교차하는 방향으로 배치된 제 2 방전 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제 1 방전 전극과, 제 2 방전 전극은 각 방전 셀의 둘레를 감싸면서, 서로 다른 방향으로 연장된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 방전 전극 쉬트는 베이스 필름과, 상기 베이스 필름상에 패턴화된 방전 전극과, 상기 방전 전극을 매립하는 유전체층을 포함하고,
    상기 방전 전극 쉬트에는 방전 셀과 대응되는 부분에 개구공이 관통된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 베이스 필름은 고분자 수지인 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  7. 제 5 항에 있어서,
    상기 방전 전극은 상기 베이스 필름의 일면상에 패턴화된 제 1 방전 전극과, 상기 베이스 필름의 타면상에 패턴화된 제 2 방전 전극을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 제 1 방전 전극과, 제 2 방전 전극은 각각 상기 베이스 필름상에 형성된 금속막층과, 상기 금속막층에 형성된 도금막층을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 배기 통로부는 상기 제 1 기판이나, 제 2 기판과 접하는 유전체층의 표면에 소정의 홈을 형성하고, 상기 홈을 인접한 방전 셀과 연결하여 형성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 홈은 상기 패널의 일방향을 따라 인접한 방전 셀 사이에 배치되며, 방전 셀 사이의 영역을 다른 영역보다 얇게 하는 것에 의하여 인접한 방전 셀을 연통하도록 형성한 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  11. 제 5 항에 있어서,
    상기 방전 셀과 접하는 방전 전극 쉬트의 내벽에는 보호막층이 더 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  12. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 기판이나, 제 2 기판의 내면에는 각 방전 셀과 대응되는 영역마다 소정 깊이의 그루브가 형성되고, 상기 각 그루브에는 상기 형광체층이 형성된 것을 특징으로 하는 플라즈마 디스플레이 패널.
  13. 방전 전극 쉬트용 원소재를 준비하는 단계;
    상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 포토 레지스터를 도포하고, 노광 및 현상하여 방전 전극의 패턴을 가지는 개구부를 형성하는 단계;
    상기 개구부내에 도금층을 도금하는 단계;
    상기 포토 레지스터층을 박리하는 단계;
    상기 도금층을 에칭하여 방전 전극의 패턴을 형성하는 단계;
    상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 유전체층을 코팅하여서 상기 방전 전극을 매립하고, 배기 통로부를 형성하는 단계; 및
    상기 방전 전극 쉬트용 원소재상에 방전 셀과 대응되는 개구공을 형성하는 단계;를 포함하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 방전 전극 쉬트용 원소재를 준비하는 단계에서는,
    베이스 필름이 마련되고, 상기 베이스 필름의 양면에 금속막층이 각각 부착되는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 방전 전극의 패턴을 가지는 개구부를 형성하는 단계에서는,
    상기 베이스 필름상에 형성된 금속막층과 대응되는 영역에 개구부를 형성하 도록 포토 레지스터의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 도금층을 도금하는 단계에서는,
    상기 개구부를 통하여 상기 금속막층과 전기적으로 연결되는 도금층을 도금하는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  17. 제 16 항에 있어서,
    상기 도금층을 에칭하는 단계에서는,
    상기 금속막층과, 도금막층이 적층된 영역 이외의 금속막층을 에칭하여서 방전 전극의 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  18. 제 14 항에 있어서,
    배기 통로부를 형성하는 단계에서는,
    상기 인접한 방전 셀 사이의 유전체층의 원소재 두께를 얇게 하는 것에 의하여 소정의 홈을 형성하여서, 상기 홈을 인접한 방전 셀과 연통시켜서 배기 통로부를 형성하는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
  19. 제 14 항에 있어서,
    상기 개구공과 접하는 방전 전극 쉬트의 내벽에 보호막층을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 방전 전극 쉬트의 제조 방법.
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