KR101113886B1 - 전사 플레이트의 제조 방법, 전사 플레이트 및 플라즈마디스플레이 패널의 전극 형성 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 재현성 및 생산성이 뛰어난 전사 플레이트 및 그 전사 플레이트의 제조 방법, 그 전사 플레이트를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 하며, 이 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, (a) 도전성의 플레이트에 제1레지스트층을 형성하는 단계와, (b) 상기 제1레지스트층 상에 포토 마스크를 위치시킨 후, 노광하고 현상하여 상기 제1레지스트층을 소정 패턴으로 형성하는 단계와, (c) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 이용하여 상기 플레이트를 에칭함으로써, 상기 플레이트에 홈을 형성하는 단계와, (d) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 제거하는 단계와, (e) 상기 플레이트에 도전층을 도금 방법으로 형성하는 단계와, (f) 상기 도전층이 형성된 플레이트의 부분 중 상기 홈이 형성되지 않은 부분에 대응되는 위치에 제2레지스트층을 형성하는 단계를 포함하는 전사 플레이트의 제조 방법을 개시한다.

Description

전사 플레이트의 제조 방법, 전사 플레이트 및 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법{Method for making a transfer plate, the transfer plate, and method for forming electrode of plasma display panel}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 분해사시도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 관한 전사 플레이트의 개략적인 사시도이다.

도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시예에 관한 전사 플레이트의 제조 방법을 도시한 개략적인 단면도이다.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 일 실시예에 관한 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스전극을 형성하는 모습을 도시한 개략적인 단면도이다.

* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *

100: 플라즈마 디스플레이 패널 110: 제1기판

111: 제1방전전극 112: 제2방전전극

113: 버스전극 114: 제1유전체층

115: 보호층 120: 제2기판

120a: 기판접착층 121: 어드레스전극

122: 제2유전체층 130: 격벽

140: 형광체층 150: 방전셀

200: 전사 플레이트 210: 홈

220: 도전층 230: 제2레지스트층

240: 제1레지스트층 250: 포토 마스크

260: 스크린 마스크 270: 필름

271: 필름접착층

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법에 관한 것으로서, 더 상세하게는 전사 플레이트를 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널의 전극을 형성하는 방법에 관한 것이다.

플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP)은 가스방전현상을 이용하여 화상을 표시하는 평판 디스플레이 장치로서, 박형화가 가능하고 넓은 시야각을 갖는 고화질의 대화면을 구현할 수 있어서 최근 각광을 받고 있다.

통상적으로 플라즈마 디스플레이 패널은, 서로 대향되어 배치된 두 개의 기판과, 상기 기판상에 배치되는 방전전극과, 그 방전전극을 덮는 유전체층과, 그 유전체층을 덮는 보호층 등을 포함하여 구성된다.

그 중 방전전극은 방전 작용을 수행하므로 정밀한 패턴을 가지도록 형성되어야 하는데, 이를 위해 통상적으로 전극 페이스트를 기판에 인쇄한 후, 노광 및 현 상하여 패턴을 형성하는 방법이 사용되어 왔다.

그러나, 그러한 종래의 전극의 패턴 형성 방법은, 기판의 전면(全面)에 직접 전극 페이스트층을 고루 도포하여 인쇄한 후, 노광 및 현상을 통해 전극 부분을 제외한 나머지 부분의 전극 페이스트를 제거함으로써 소정의 전극 패턴을 형성하는 방법인데, 그러한 방법은 전극 페이스트 재료의 소모가 많아지게 되어, 비용이 많이 발생하는 문제점이 있었다.

또한, 종래의 전극 형성 방법은 페이스트 형태의 전극 소재를 유리로 이루어진 기판에 직접 도포하기 때문에, 형성되는 전극에 종종 핀홀(pin-hole)이 발생할 뿐만 아니라, 그 표면이 거칠게 형성된다는 문제점이 있었다.

본 발명의 주된 목적은, 재현성 및 생산성이 뛰어난 전사 플레이트 및 그 전사 플레이트의 제조 방법, 그 전사 플레이트를 이용하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은, (a) 도전성의 플레이트에 제1레지스트층을 형성하는 단계와, (b) 상기 제1레지스트층 상에 포토 마스크를 위치시킨 후, 노광하고 현상하여 상기 제1레지스트층을 소정 패턴으로 형성하는 단계와, (c) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 이용하여 상기 플레이트를 에칭함으로써, 상기 플레이트에 홈을 형성하는 단계와, (d) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 제거하는 단계와, (e) 상기 플레이트에 도전층을 도금 방법으로 형성하는 단계와, (f) 상기 도전층이 형성된 플레이트의 부분 중 상기 홈이 형성되지 않은 부분에 대응되는 위치에 제2레지스트층을 형성하는 단계를 포함하는 전사 플레이트의 제조 방법을 개시한다.

여기서, 상기 홈은 스트라이프 형상으로 형성될 수 있다.

또한, 본 발명은, 상기의 전사 플레이트의 제조 방법으로 제조된 전사 플레이트를 개시한다.

또한, 본 발명은, 상기의 전사 플레이트를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법에 있어서, (a) 상기 전사 플레이트의 홈에 전극 소재를 도금의 방법으로 배치하는 단계와, (b) 필름접착층을 구비하는 필름을 상기 홈에 배치된 전극 소재에 접촉시킨 후 분리함으로써, 상기 전극 소재를 상기 필름에 전사하는 단계와, (c) 유리를 포함하며 기판접착층을 구비하는 기판을 준비하고, 상기 기판을 상기 필름에 전사된 전극 소재에 접촉시킨 후 분리함으로써, 상기 전극 소재를 상기 기판에 전사하는 단계를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법을 개시한다.

여기서, 상기 전극 소재는 은(Ag)을 포함할 수 있다.

여기서, 상기 필름은 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET), 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN) 및 폴리비닐알콜(PVA)로 이루어진 군에서 선택되는 하나를 포함할 수 있다.

여기서, 상기 (c)단계 이후에, 상기 기판에 전사된 전극 소재를 소성(燒成)하는 단계를 더 포함할 수 있다.

이하, 바람직한 실시예를 첨부도면에 의거하여 상세히 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널의 개략적인 분해사시도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(100)은 광투과성의 제1기판(110)과, 제1기판(110)에 대해 소정 간격으로 이격되어 평행하게 배치된 제2기판(120)을 구비한다.

제1기판(110)과 제2기판(120)은 유리를 포함하여 이루어지나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면, 제1기판(110)과 제2기판(120) 중 적어도 하나는 광을 투과할 수 있도록 구성되고 가공이 용이한 소재로 이루어지면 되고, 소재 선정에 있어서 그 외의 특별한 제한은 없다. 예를 들면, 제1기판과 제2기판은 합성수지를 포함하여 이루어질 수도 있다.

본 실시예에서는 제1기판(110)이 광투과성을 가지므로, 방전에 의해 발생되는 가시광선이 제1기판(110)을 투과하여 나가지만, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명의 제1기판이 불투명하면서 제2기판이 투명하게 구성될 수 있고, 제1기판 및 제2기판이 동시에 투명하게 구성될 수도 있다. 또한, 본 발명의 제1기판 및 제2기판은 반투명의 재질로 구성될 수 있으며, 그 표면 또는 내부에 색상 필터를 내장하여 구성될 수도 있다.

제1기판(110)에는 스트라이프(stripe) 형상의 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112) 및 버스전극(113)이 형성된다.

제1방전전극(111)과 제2방전전극(112) 중의 어느 하나는 주사전극의 기능을 하고, 나머지 다른 하나는 공통전극의 기능을 하는데, 보통 ITO(Indium Tin Oxide) 를 포함하여 광투과가 가능하도록 이루어져 있다.

버스전극(113)은 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)의 하면에 설치되는데, 라인 저항을 줄이기 위하여 구리(Cu), 알루미늄(Al) 등의 금속재질로 이루어지고 좁은 폭으로 형성된다.

제1유전체층(114)은 제1방전전극(111), 제2방전전극(112) 및 버스전극(113)을 매립하며, 제1기판(110)에 배치된다.

제1유전체층(114)은 유지 방전시 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)이 직접 통전되는 것을 방지하고, 하전 입자가 상기 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)에 직접 충돌하여 손상시키는 것을 방지하며, 하전 입자를 유도하여 벽전하를 축적할 수 있는데, 이와 같은 유전체로서는 PbO, B₂O₃, SiO₂ 등이 사용된다.

제1유전체층(114)의 표면에는 보호층(115)이 형성되는데, 보호층(115)은 산화 마그네슘(MgO) 등으로 이루어져 플라즈마 입자의 스퍼터링(sputtering)에 의해 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)들이 손상되는 것을 방지하고, 이차전자를 방출하여 방전전압을 낮추어 주는 역할을 한다.

한편, 제2기판(120)에는 어드레스전극(121)이 형성된다.

어드레스전극(121)은 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112) 중 주사전극의 역할을 하는 방전전극과 함께 어드레스 방전을 수행한다. 여기서, 어드레스전극(121)과 제2기판(120) 사이에는 기판접착층(120a)의 일부가 존재하는데 이는 후술하기로 한다.

제2유전체층(122)은 어드레스전극(121)을 매립하며 제2기판(120)에 형성되는데, 제2유전체층(122)은 제1유전체층(114)과 같은 소재로 형성되며, 어드레스전극(121)을 보호하는 기능을 한다.

본 실시예에서는 제1기판(110)에 상기 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)이 평행하게 배치되어 있으며, 제2기판(120)에는 어드레스전극(121)이 배치되어 있지만, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 경우에는 어드레스전극(121)이 없이도 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)만으로도 구동이 가능한데, 그 경우에는 제1방전전극과 제2방전전극이 교차되게 배치되어 그 중의 하나가 어드레싱 작용도 동시에 수행하게 된다.

제2유전체층(122)의 위에는 격벽(130)이 형성되는데, 격벽(130)은 방전거리를 유지하고, 방전셀 사이의 전기적 광학적 크로스토크(cross-talk)를 방지하는 기능을 한다.

격벽(130)은 제1방전전극(111), 제2방전전극(112) 및 어드레스전극(121)과 함께 방전공간을 형성하는데, 이를 방전셀(150)이라 하고, 방전셀(150)들은 각각 부화소(sub-pixel)를 형성한다.

또한, 도 1에 도시된 바와 같이, 본 발명의 실시예에서는 격벽(130)에 의해구획되는 방전셀(150)의 횡단면이 사각형인 것으로 도시되었으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니고, 삼각형, 오각형 등의 다각형, 또는 원형, 타원형 등으로도 형성될 수 있고, 격벽이 줄무늬형 패턴(stripe pattern)으로 형성되어 개방형 격벽의 형상으로 될 수도 있다.

한편, 상기 방전셀의 하면을 형성하는 제2유전체층(122)의 상면과 격벽(130)의 양 측면에는 적색, 녹색, 청색의 형광체가 도포되어 형광체층(140)이 형성된다.

형광체층(140)들은 자외선을 받아 가시광을 발생하는 성분을 가지는데, 적색 발광 방전셀에 형성된 적색 형광체층은 Y(V,P)O₄:Eu 등과 같은 형광체를 포함하고, 녹색 발광 방전셀에 형성된 녹색 형광체층은 Zn₂SiO₄:Mn 등과 같은 형광체를 포함하며, 청색 발광 방전셀에 형성된 청색 형광체층은 BAM:Eu 등과 같은 형광체를 포함한다.

제1기판(110)과 제2기판(120)을 봉착한 후에는, 조립된 플라즈마 디스플레이 패널(100) 내부의 공간이 공기로 가득 차 있으므로, 상기 조립된 플라즈마 디스플레이 패널(100)내의 공기를 완전히 배기하여, 방전의 효율을 높일 수 있는 적정의 방전 가스로 공기를 대체한다. 방전가스로는 흔히 Ne-Xe, He-Xe, He-Ne-Xe 등의 혼합가스가 사용된다.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 하나의 예시적인 방전 과정을 간단히 설명하면 다음과 같다.

먼저, 외부의 전원으로부터 제1방전전극(111) 및 제2방전전극(112) 중 주사전극의 역할을 하는 방전전극과 어드레스전극(121)의 사이에 소정의 어드레스전압이 인가되면, 어드레스방전이 일어나고, 이 어드레스방전의 결과로 유지방전이 일어날 방전셀이 선택된다.

그 후 상기 선택된 방전셀의 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)의 사이에 방전유지전압이 인가되면, 제1유전체층(114)의 부분 중 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112)에 가까운 부분에 쌓여 있던 벽전하들의 이동으로 유지방전을 일으킨다. 이 때, 보호층(115)은 제1유전체층(114)을 보호하고, 이차전자를 방출하는 기능을 수행한다.

상기와 같은 유지방전이 일어나면, 방전가스가 여기되는데, 여기된 방전가스는 에너지 준위가 낮아지면서, 자외선을 방출하게 된다.

그리고, 이 자외선이 방전셀 내에 도포된 형광체층(140)의 형광체를 여기시키는데, 이 여기된 형광체의 에너지준위가 낮아지면서 가시광이 방출되며, 이 방출된 가시광이 제1기판(110)을 투사하여 출사되면서 사용자가 인식할 수 있는 화상을 형성하게 된다.

상술한 바와 같이 구성된 본 발명의 실시예에 관한 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 어드레스전극(121)의 형성 방법을 자세히 살펴보면 다음과 같다.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 관한 전사 플레이트의 개략적인 사시도인데, 우선, 도 2를 참조하여, 어드레스전극(121)을 형성하기 위해 이용하는 전사 플레이트(200)에 대해 살펴본다.

전사 플레이트(200)는 구리를 포함하는 소재로 되어 있으며, 판상의 형상을 가지고 있다.

본 실시예에 따른 전사 플레이트(200)는 구리를 포함하는 소재로 되어 있으나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 전사 플레이트는, 도전성이 뛰어나 도금 작용의 수행이 용이하고, 에칭이 가능한 소재로 이루어지기만 하 면 되고, 그 외에 소재선정에 있어 특별한 제한이 없다.

전사 플레이트(200)의 일면에는 홈(210)이 형성되어 있다.

본 실시예의 홈(210)은 스트라이프 형상으로 형성되나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 홈의 형상은 추후 형성되는 전극의 형상에 따라 그 형상이 변경될 수 있다.

한편, 전사 플레이트(200) 중 홈(210)이 형성된 일면에는 도전층(220)이 형성되는데, 도전층(220)은 크롬 등과 같은 소재의 금속으로 이루어져, 구리로 이루어진 전사 플레이트(200)의 표면의 산화를 방지하는 기능을 수행한다.

전사 플레이트(200)의 부분 중 홈(210)이 형성되지 않은 부분에는 제2레지스트층(230)이 형성되어 있다.

본 실시예에 따른 제2레지스트층(230)은 PSR(photo solder resist)의 소재를 포함하여 이루어지나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 솔더레지스트층은, 이후 은(Ag) 도금 공정 시, 필요하지 않는 부분에 은 도금을 방지할 수 있으면 되고, 그 외에 소재 선택에 있어 특별한 제한은 없다.

다음으로, 도 3a 내지 도 3g를 참조하여, 전사 플레이트(200)의 제조 방법에 대해 살펴본다.

도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시예에 관한 전사 플레이트(200)의 제조 방법을 도시한 개략적인 단면도이다.

먼저, 도 3a에 도시된 바와 같이, 구리로 된 플레이트(200')를 준비하고, 그 일면에 제1레지스트층(240)을 형성한다.

제1레지스트층(240)은 포지티브형 LPR(liquid photo resist)을 도포하여 형성하는데, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명의 레지스트층은 빛을 받아 소정의 패턴으로 형성될 수 있는 감광성 소재로 이루어지면 되고, 소재선정에 있어 그 외의 특별한 제한은 없다. 예를 들면, 본 발명에 따른 레지스트층의 소재로 DFR(dry film resist) 등이 사용되어도 된다.

그 다음, 도 3b에 도시된 바와 같이, 형성된 제1레지스트층(240) 위에 포토 마스크(250)를 위치시키고, 빛을 조사하여, 빛에 노출된 제1레지스트층(240)을 경화시킨다.

여기서, 포토 마스크(250)는 소정의 패턴으로 형성되어 있으므로, 제1레지스트층(240)의 경화 위치도 포토 마스크(250)의 형상에 대응되게 된다.

그 다음, 포토 마스크(250)를 제거하고, 현상액을 사용하여, 제1레지스트층(240) 중 경화되지 않은 부분을 제거함으로써, 도 3c에 도시된 바와 같이, 제1레지스트층(240)을 소정의 패턴으로 형성한다.

그 다음, 도 3d에 도시된 바와 같이, 소정의 패턴으로 형성된 제1레지스트층(240)을 이용하여 플레이트(200')를 에칭(etching)함으로써, 홈(210)을 형성한다.

홈(210)을 형성한 후에는 제1레지스트층(240)을 제거한다.

그 다음, 도 3e에 도시된 바와 같이, 플레이트(200') 일면에 도금의 방법으로 도전층(220)을 형성하는데, 도전층(220)은 플레이트(200')의 홈(210)이 형성된 부분 뿐만 아니라 홈(210)이 형성되지 않는 부분까지 일괄적으로 형성한다.

본 실시예에 따른 도전층(220)은 플레이트(200')의 홈(210)이 형성된 부분뿐만 아니라 홈(210)이 형성되지 않는 부분까지 일괄적으로 형성되나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 도전층은 플레이트의 홈이 형성된 부분에 한정하여 형성될 수도 있다. 그러나, 도전층을 플레이트의 홈이 형성된 부분뿐만 아니라 플레이트의 홈이 형성되지 않는 부분까지 한번에 형성하는 것이, 공수를 줄이고 및 비용을 절약하는 측면에서 바람직하다.

그 다음, 도 3f에 도시된 바와 같이, 도전층(220)이 형성된 플레이트(200')의 일면에 소정의 패턴을 가지는 스크린 마스크(260)를 위치시킨 후, 제2레지스트층(230)의 재료를 도포하여, 소정의 패턴을 가지는 제2레지스트층(230)을 형성한다.

여기서, 스크린 마스크(260)의 패턴은, 형성되는 제2레지스트층(230)이 플레이트(200')의 부분 중 홈(210)이 형성되지 않는 부분에 대응되어 배치되도록 형성된다.

이상과 같은 방법으로, 도 2 및 도 3g에 도시된 전사 플레이트(200)가 제조되는데, 작업자는 제조된 전사 플레이트(200)를 이용하여 플라즈마 디스플레이 패널(100)의 전극들을 형성할 수 있게 된다.

이상과 같이 제조된 전사 플레이트(200)는, 도전층(220)을 구비함으로써 내구성을 가지게 되므로, 재사용이 용이하다. 그렇게 되면, 하나의 전사 플레이트(200)를 가지고도 전사 작용을 반복적으로 수행할 수 있으므로, 제조 비용을 줄일 수 있게 된다.

이하에서는, 도 4a 내지 도 4f를 참조하여, 전사 플레이트(200)를 이용한 어드레스전극(121)의 형성 방법에 대해 살펴보기로 한다.

도 4a 내지 도 4f는 본 발명의 일 실시예에 관한 플라즈마 디스플레이 패널의 어드레스전극을 형성하는 모습을 도시한 개략적인 단면도이다.

본 실시예에서는 전사 플레이트(200)를 이용하여 어드레스전극(121)을 형성하는 과정만을 설명하나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따르면, 플라즈마 디스플레이 패널(100)이 구비하는 전극이라면, 전극의 종류를 가리지 않고 상기와 같은 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 본 실시예에서 제1기판(110)에 제1방전전극(111)과 제2방전전극(112) 및 버스전극(113)도 각각의 전사 플레이트를 이용하여 형성될 수 있다.

먼저, 도 4a에 도시된 바와 같이, 전사 플레이트(200)의 홈(210)에 어드레스전극(121)의 소재인 은(Ag)을 도금의 방법으로 배치시킨다.

본 실시예에 따른 어드레스전극(121)은, 은이 포함된 용액을 사용하여 도금을 수행함으로써, 형성된 어드레스전극(121)은 치밀한 구조를 가지게 된다. 그렇게 되면, 어드레스전극(121)의 표면의 핀홀(pin-hole) 현상이 방지되고, 그 표면을 매끄럽게 할 수 있는 장점이 있다.

본 실시예에 따르면, 전사 플레이트(200)의 홈(210)에 어드레스전극(121)의 소재인 은(Ag)을 도금의 방법으로 배치시키나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명은 은(Ag), 바인더 수지 등을 혼합하여 전극 페이스트 형태로 형성한 후, 스크린 인쇄법 등으로 상기 전극 페이스트를 전사 플레이트의 홈에 배치시킬 수도 있다.

본 실시예에 따르면, 어드레스전극(121)의 소재로 은(Ag)을 사용하였으나, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 어드레스전극의 소재는 은 뿐만 아니라, 전기 전도성이 우수한 금(Au), 알루미늄(Al) 등의 소재를 사용하여도 된다.

그 다음, 도 4b 및 도 4c에 도시된 바와 같이, 필름(270)을 홈(210)에 배치된 은(Ag)에 접촉시킨 후, 전사 플레이트(200)로부터 필름(270)을 분리시킨다. 여기서, 필름(270)의 부분 중 홈(210)에 배치된 은(Ag)에 접촉하는 부분은 필름접착층(271)이다.

상기와 같은 공정을 거치게 되면, 필름접착층(271)의 접착력에 의하여, 홈(210)에 배치된 은(Ag)은 필름(270)으로 전사(轉寫)되게 된다.

여기서, 필름(270)은 폴리에틸렌 테레프탈레이드(PET) 소재로 이루어지는데, 본 발명은 이에 한정하지 않는다. 즉, 본 발명에 따른 필름은 전사 작용이 이루어질 수 있기만 하면, 그 소재에 제한은 없다. 예를 들면, 본 발명에 따른 필름은 폴리카보네이트(PC), 셀룰로오스 트리 아세테이트(TAC), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN) 및 폴리비닐알콜(PVA) 등으로 이루어질 수도 있다.

또한, 필름접착층(271)은 천연 수지, 합성 수지 등으로 이루어질 수 있는데, 그 접착력은 전사 플레이트(200)로부터 은(Ag)을 전사받을 수 있을 정도의 접착력을 가지면 된다. 여기서, 필름접착층(271)의 소재를 선정함에 있어서는, 빛이나 열에 의한 반응으로 탈착되는 이형재를 소재로 선정하는 것이 바람직하다. 이는, 이 후, 필름(270)에 전사된 은(Ag)은 제2기판(120)에 다시 전사되는데, 이 때, 빛이나 열을 이용하여 은(Ag)의 탈착 작용을 용이하게 수행하기 위함이다.

그 다음, 도 4d 및 도 4e에 도시된 바와 같이, 제2기판(120)을 필름(270)에 전사된 은(Ag)에 접촉시킨 후, 필름(270)으로부터 제2기판(120)을 분리시킨다.

여기서, 제2기판(120)의 부분 중 필름(270)에 배치된 은(Ag)에 접촉하는 부분은 기판접착층(120a)이다.

상기와 같은 공정을 거치게 되면, 기판접착층(120a)의 접착력에 의하여, 필름(270)에 전사된 은(Ag)은 제2기판(120)으로 전사되게 된다.

여기서, 기판접착층(120a)은 천연 수지, 합성 수지 등으로 이루어질 수 있으며, 경우에 따라서는 프리트(frit) 소재가 포함될 수 있는데, 그 접착력은 필름(270)로부터 은(Ag)을 전사받을 수 있을 정도의 접착력을 가지면 된다.

그 다음, 도 4f에 도시된 바와 같이, 제2기판(120)에 전사된 은(Ag)을 소성(燒成)시켜, 어드레스전극(121)으로 완성시킨다. 그러한 소성 과정을 거치면, 은(Ag)의 직하부에 있는 기판접착층(120a)의 부분들을 제외한 나머지 기판접착층(120a)의 부분들은 기화되어 제거되게 된다.

이상과 같은 방법으로 형성된 본 실시예에 따른 어드레스전극(121)은 반복 사용이 가능한 전사 플레이트(200)를 사용하여 형성함으로써, 그 형성 공정이 간단하여 생산성이 우수하고, 반복적인 재현성이 우수하며, 비용을 절감할 수 있는 장점이 있다.

또한, 본 실시예에 따른 어드레스전극(121)의 형성 방법은 전사 플레이 트(200)를 이용함으로써, 패턴 형성에 요구되는 최소의 양의 전극 소재만이 필요하므로, 전극 소재를 절약할 수 있는 장점이 있게 된다.

또한, 본 실시예에 따른 어드레스전극(121)은, 전사 플레이트(200)의 홈(210)에 전극 소재인 은(Ag)을 도금 방법으로 배치시키는데, 그와 같은 방법은, 전극을 형성하기 위해 은(Ag), 바인더 등이 혼합된 페이스트를 사용하지 않고, 용액 타입의 소재를 사용함으로써, 형성되는 어드레스전극(121)은 치밀한 구조를 가지게 된다. 그렇게 되면, 형성되는 어드레스전극(121)의 표면의 핀홀 현상이 방지되고, 그 표면을 매끄럽게 할 수 있는 장점이 있게 된다.

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 전사 플레이트 및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 형성 방법은, 생산성 및 재현성이 우수하고, 필요한 전극 소재의 양 및 비용을 줄일 수 있는 효과가 있다.

본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의하여 정해져야 할 것이다.

Claims (7)

1. (a) 도전성의 플레이트에 제1레지스트층을 형성하는 단계;

   (b) 상기 제1레지스트층 상에 포토 마스크를 위치시킨 후, 노광하고 현상하여 상기 제1레지스트층을 소정 패턴으로 형성하는 단계;

   (c) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 이용하여 상기 플레이트를 에칭함으로써, 상기 플레이트에 홈을 형성하는 단계;

   (d) 상기 소정 패턴으로 형성된 제1레지스트층을 제거하는 단계;

   (e) 상기 플레이트에 도전층을 도금 방법으로 형성하는 단계; 및

   (f) 상기 도전층이 형성된 플레이트의 부분 중 상기 홈이 형성되지 않은 부분에 대응되는 위치에 제2레지스트층을 형성하는 단계를 포함하는 전사 플레이트의 제조 방법.
2. 제1항에 있어서,

   상기 홈은 스트라이프 형상으로 형성되는 전사 플레이트의 제조 방법.
3. 제1항 또는 제2항의 전사 플레이트의 제조 방법으로 제조된 전사 플레이트.
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