KR19980070186A - 노광장치 및 형광면 형성방법 - Google Patents

노광장치 및 형광면 형성방법 Download PDF

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KR19980070186A
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아사노마사아키
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기타지마요시토시
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    • H01J9/2271Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes

Abstract

플라즈마 디스플레이 판넬의 형광면 형성용 노광장치로서, 적은 노광량으로 소망하는 형상의 형광면이 얻어지는 노광장치를 제공한다.
공작물기판(11)상에 설치된 장벽(21)의 적어도 그 사이에 감광성 형광면 형성층(22)을 형성하고, 공작물기판(11)과 마스크(23)의 얼라이먼트를 하고 나서, 마스크(23)를 통하여 노광을 행하고, 현상, 소성하여 형광면을 형성하는 형광면 형성공정에서 사용하는 노광장치로서, 마스크 위쪽에서 발산광 또는 확산광을 조사하는 광원을 배설한 구성의 노광장치를 사용한다. 마스크(23)의 내측에도 빛이 돌아 들어가고, 마스크(23)의 그림자 부분이 발생하지 않으므로, 평행광을 사용하는 노광장치에 비해 적은 노광량으로 소망하는 형상의 형광면을 형성할 수 있다.

Description

노광장치 및 형광면 형성방법
본 발명은, 가스충전을 이용하여 스스로 발광하는 형식의 플랫 디스플레이인 칼라 표시의 플라즈마 디스플레이 판넬(이하, PDP라 약칭함)에 있어서의 형광면 형성시에 사용하는 노광장치 및 그 장치를 사용한 형광면 형성방법에 관한 것이다.
일반적으로 PDP는, 2매의 대향하는 유리기판에 각각 규칙적으로 배열된 한 쌍의 전극을 설치하고, 그 사이에 Ne, Xe 등을 주체로 하는 가스를 봉입한 구조로 되어 있다. 그리고 이들 전극 사이에 전압을 인가하여, 전극주변의 미소한 셀내에서 방전을 발생시킴으로써, 각 셀을 발광시켜 표시를 행하도록 하고 있다. 정보표시를 하기 위해서는, 규칙적으로 나열된 셀을 선택적으로 방전 발광시킨다. 이 PDP에는 전극이 방전공간으로 노출되어 있는 직류형(DC형)과 절연층으로 덮여 있는 교류형(AC형)의 2가지 형태가 있으며, 양쪽 모두 표시기능과 구동방법의 차이에 따라, 리플래쉬 구동방식과 메모리구동방식으로 분류된다.
도 1에 AC형 PDP의 하나의 구성예를 나타낸다. 이 도면은 전면판과 배면판을 떼어낸 상태에서 나타낸 것으로서, 도시한 바와 같이 1매의 유리기판(1,2)이 서로 평행하면서 대향하여 배설되어 있고, 양자는 배면판으로되는 유리기판(2) 상에 서로 평행하게 설치된 장벽(3)에 의해 일정한 간격으로 유지되도록 되어 있다. 전면판으로 되는 유리기판(1)의 배면측에는 투명전극인 유지전극(4)과 금속전극인 배스전극(5)으로 구성되는 복합전극이 서로 평행하게 형성되고, 이것을 덮어 유전체층(6)이 형성되어 있으며, 그 위에 보호층(7)(MgO층)이 형성되어 있다. 또한 배면판으로 되는 유리기판(2)의 전면측에는 상기 복합전극과 직교하도록 장벽(3) 사이에 위치하여 어드레스전극(8)이 서로 평행하게 형성되어 있고, 장벽(3)의 벽면과 셀바닥면을 덮도록 하여 형광체층(9)이 설치되어 있다. 이 AC형 PDP는 면방전형으로, 전면판상의 복합전극 사이에 교류전압을 인가하고, 공간으로 누수된 전계(電界)로 방전시키는 구조이다. 이 경우에 교류로 걸려 있기 때문에 전계의 방향은 주파수에 대응하여 변화한다. 그리고 이 방전에 의해 발생하는 자외선에 의해 형광체층(9)을 발광시키고, 전면판을 투과하는 빛을 관찰자가 보고 알 수 있도록 되어 있다.
상기와 같이 PDP에서의 배면판은, 유리기판(2) 상에 어드레스전극(8)을 형성하고, 필요에 따라 그것을 덮도록 유전체층을 형성한 후, 장벽(3)을 형성하고 그 장벽(3) 사이에 형광체층(9)으로 되는 형광면을 설치하는 것으로 제조된다. 전극(8) 형성방법으로서는, 진공증착법, 스패터링법, 도금법, 후막법(厚膜法)등에 의해 기판(2) 상에 전극재료 막을 형성하고, 이것을 포토리소그래피법에 의해 패터닝하는 방법과, 두꺼운 막 페이스트를 이용한 스크린 인쇄법에 의해 패터닝하는 방법이 알려져 있다. 또한 유전체층은 스크린 인쇄 등으로 형성되고, 장벽(3)은 스크린 인쇄에 의한 겹침인쇄, 혹은 샌드브라스트법 등에 의해 형성되어 있다. 그리고 형광면은 스크린 인쇄에 의해 장벽(3) 사이에 적(R), 녹(G), 황(B)의 3색 형광체 페이스트를 선택적으로 충진하는 방법에 의해 형성되어 있다.
상기한 바와 같이, 장벽 사이에 형광면을 형성하는 데에는, 3색 형광체 페이스트를 스크린 인쇄에 의해 직접 장벽 사이로 충진하여 소성하는 방법이 채용되고 있다. 그러나 대형 사이즈인 기판에서는 스크린판의 제작이 곤란함과 동시에 치수가 어긋남이 발생한다는 문제점이 있고, 또한 고저도의 미세한 타입으로는 정도 확보가 어렵다는 문제점이 있다. 여기서 감광성 형광체 페이스트 또는 감광성 형광체 필름을 이용한 포토리소그래피법에 의해 형광면을 형성하는 것이 고려되고 있으며, 이 포토리소그래피법으로는 평행광에 의한 노광방식이 검토되고 있다.
그러나, 평행광에 의한 노광방식에서는, 수∼수십μm정도의 라인스페이스의 패턴을 형성하는 정확한 평행광을 형성하기 위하여 도 2에 나타낸 바와 같은 광학계가 필요하고, 장치 자체가 고가인 것으로 되어 버린다. 즉 광원(10)에서 출사한 빛을 공작물기판(11)에 직접 조사하는 것이 아니라, 반사렌즈(12), 콜리메이트렌즈(13)를 사용하는 것으로, 조사강도가 공작물기판(11)의 면내에서 균일하게 되도록 조정하고 있다.
또, 평행광으로는 바람직한 형상의 형광면을 형성하기 어렵다는 문제가 있다. 즉 포토리소그래피법으로는 우선 공작물기판 상에 형성한 장벽 위에서 감광성 형광체 페이스트를 베터로 코팅하여 건조시킨 후에, 혹은 감광성 형광체 필름을 장벽 상에서 가열 압착함으로써 장벽 사이에 형광면 형성층을 형성하고 나서, 마스크를 통하여 노광을 행하고, 현상하여 형광면을 형성하며, 이 공정을 다른 색의 형광면 형성층에 대해 마찬가지로 하여 3색 형광면을 형성하고, 최후에 소성한다. 이 공정에 있어서, 엄밀하게 말한다면 도 3에 나타낸 바와 같이 장벽(21) 사이에 있는 형광면 형성층(22)을 노광하는데 장벽(21)의 간격과 합치한 개구를 가지는 마스크(23)를 설계하는 것이 바람직하지만, 공작물기판(11)이 연장되면 도 4에 나타낸 바와 같이 장벽(21)의 정수리부까지 노광되거나, 한쪽편의 벽면부근이 노광되지 않게 된다. 그 결과 도 5에 나타낸 바와 같이 인접하는 장벽(21)의 정수리부 상에 형광면이 형성되거나, 장벽 정수리부 부근의 벽면에 형광면이 형성되지 않고, 형광면 형상이 좌우 비대칭으로 되어 버린다. 여기서 공작물기판(11)의 연장을 고려할 수 없으므로, 도 6에 나타낸 바와 같이 장벽(21) 사이로 돌출하는 형태로 마스크설계를 해 놓고, 마스크(23)가 어긋났다고 하더라도 장벽(21)의 정수리부 위에 형광면이 형성되지 않도록 하고 있지만, 평행광을 사용하고 있는 이상, 형광면 형상은 좌우 비대칭으로 되어 버린다. 또 이 마스크(23)로 노광하면 마스크(23)의 그림자에 의해 장벽(21)의 벽면부근이 노광되기 어렵게 된다. 실제는 형광체 자체가 백색이기 때문에 산란되어 벽면부근도 노광되지만, 강도가 약하기 때문에 현상시에 박리되고 만다. 따라서 현상에서는 노광량을 증가시켜서 대응하고 있지만, 광원의 강도를 올릴 필요가 있다.
상기 문제점을 해결하기 위해 본 발명은, 마스크의 그림자 부분이 발생하지 않는 노광광원을 사용하는 것으로 하고 있다. 그리고 이와 같은 노광광원을 사용함으로써, 평행광을 사용할 경우에 비해 적은 노광량으로 소망하는 형상의 형광면을 얻을 수 있다.
도 1은 AC형 플라즈마 디스플레이 판넬의 하나의 구성예를 그 전면판과 배면판을 떨어뜨린 상태로 나타낸 구조도,
도 2는 평행광을 조사하는 노광장치의 광학계를 나타낸 설명도,
도 3은 포토리소그래피법으로 형광면을 형성할 때의 노광공정을 설명하기 위한 단면도,
도 4는 공작물기판이 연장하여 마스크가 어긋난 상태에서의 노광공정을 설명하기 위한 단면도,
도 5는 도 4에 나타낸 상태에서의 노광공정을 거쳐 형성된 형광면을 나타낸 단면도,
도 6은 공작물기판의 연장을 고려한 마스크를 사용한 노광공정을 설명하기 위한 단면도,
도 7은 발산광을 조사하는 노광광원의 설명도,
도 8은 확산광을 조사하는 노광광원의 설명도,
도 9는 장벽의 간격과 마스크의 개구폭의 설명도,
도 10은 장벽 정수리부와 마스크와의 갭 설명도이다.
도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
1,2 : 유리기판 3 : 장벽리브
4 : 유지전극 5 : 배스전극
6 : 유전체층 7 : 보호층(MgO층)
8 : 어드레스전극 9 : 형광체층
10 : 광원 11 : 공작물기판
12 : 반사렌즈 13 : 콜리메이트렌즈
21 : 장벽(障壁) 22 : 형광면 형성층
23 : 마스크 30 : 광원
31 : 반사판 32 : 확산판
a : 장벽의 간격 b : 마스크의 개구폭
c : 장벽 정수리부와 마스크의 갭
d : 장벽의 피치
본 발명의 노광장치는, 공작물기판 상에 설치된 장벽의 적어도 그 사이에 감광성 형광면 형성층을 형성하고, 공작물기판과 마스크의 얼라이먼트를 하고 나서, 마스크를 통하여 노광하고, 현상, 소성하여 형광면을 형성하는 PDP 형광면 형성공정에서 사용되는 노광장치로서, 마스크의 위쪽에서 발산광 또는 확산광을 조사하는 노광광원을 배설한 것이다.
발산광을 조사하는 노광광원은, 예를들면 도 7에 나타낸 바와 같이, 공작물기판(11)에 대하여 동일 레벨로 배치된 다수의 광원(30)으로 구성된다. 이와 같이 발산광은 하나의 광원(30)에 대하여 방향성이 있는 빛이다. 이 광원(30)으로서는 예컨대 초고압 수은등 램프가 이용된다. 또 필요에 따라 도 7에 나타낸 바와 같이 광원(30)에 대하여 공작물기판(11)과 반대측에 예를들면 금속판 등으로 이루어지는 반사표면이 거울면인 반사판(31)을 배설해도 좋다.
확산광을 조사하는 노광광원은, 예를들면 도 8에 나타낸 바와 같이,다수의 광원(30)과 이들 광원(30)과 공작물기판(11)과의 사이에 배치한 확산판(32)으로 구성된다. 이와 같이 확산광은 광원(30)을 출사하고 나서 확산판(32)을 통과하여 방향성이 전혀 없어진 빛이다. 이 광원(30)으로서는 예를들면 초고압 수은등 램프가 이용된다. 필요에 따라 도 8에 나타낸 바와 같이 광원(30)에 대하여 확산판(32)과 반대쪽에 예를들면 금속판 등으로 이루어지는 표면이 거울면인 반사판(31)을 배설해도 좋다. 또 이와 같은 확산판(32)을 사용하는 대신에, 반사표면이 요철면을 한 반사판을 공작물기판(11)과 반대쪽으로 배설시키는 것으로도 확산광의 노광광원을 얻을 수 있다.
그리고, 평행광의 노광장치에서는, 도 2에 나타낸 바와 같이, 광원(10)에서 반사렌즈(12)를 통하여, 그리고 콜리메이트렌즈(13)에 의해 빛을 90°의 균일한 평행광으로 변환하고 있다. 이에 대하여 발산광 또는 확산광을 이용하는 본 발명의 노광장치로는 광조사강도의 면내 균일성이 낮기 때문에, 다음과 같이 하는 것이 바람직하다. 즉 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판에 대하여 노광광원이 요동하는 기구든지, 이와 반대로, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판이 노광광원에 대하여 요동하는 기구를 구비하게 해도 좋다. 혹은 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판에 대하여 노광광원이 이동하는 기구를 구비하든지, 이와 반대로, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판이 노광광원 밑을 통과하는 기구를 구비시키면 좋다. 이와 같이 공작물기판 또는 노광광원을 움직일 경우에는 상기한 바와 같은 광원(30)을 하나로 하는 것도 가능하다.
상기와 같은 노광장치에 의해 포토리소그래피법으로 형광면을 형성할 경우라도, pdp의 대형화, 고정세화가 진행됨에 따라, 공작물기판과 마스크의 얼라이먼트가 어렵게 된다. 그 때문에 악화하면 인접하는 장벽 정수리부로의 형광체의 바램(흐림)이 생기는 경우가 있다. 이와 같은 바램이 있으면 전면판과 배면판을 맞추어 판넬화할 때 방해가 된다. 이것을 방지하기 위해, 형광면을 형성하는 장벽의 간격보다 좁은 개구폭을 가진 도 6에 나타낸 바와 같은 마스크를 이용하면 좋다. 구체적으로는 도 9에 나타낸 바와 같이 장벽의 간격을 a로 하고, 마스크의 개구폭을 b로 했을 때, a 2×b의 조건을 만족한 마스크를 사용하여 콘택트 노광을 행하도록 하는 것이다.
또, 장벽 정수리부로의 형광체의 바램을 방지하기 위해서는, 공작물기판과 마스크를 밀착시킨 콘택트노광을 행하는 것이 바람직하지만, 마스크는 유리판에 크롬막 등으로 패턴을 그린 것으며, 실제로는 그 패턴에 장벽 정수리부가 닿아서 마스크에 상처가 입게 되므로, 장벽 정수리부와 마스크에 간격을 둔 갭노광을 행하는 것이 바람직하다. 이 경우 양자의 간격이 너무 크면 인접하는 장벽의 정수리부 위에 형광면이 형성되므로, 도 10에 나타낸 바와 같이 장벽 정수리부와 마스크의 갭을 c로 했을 때, c (a-b)/2의 조건으로 노광을 행하도록 하는 것이 바람직하다. 그리고 이 조건으로 갭노광을 한 경우, 어떻게 하더라도 장벽 정수리부에 광이 닿지만, 노광량이나 현상에 의해 조정하는 것으로 바래는 것을 없애도록 한다.
또, 도 10에 나타낸 바와 같이 장벽의 피치를 d로 했을 때, 장벽 정수리부와 마스크의 갭(c)을 상기 조건에서 확장하여, c (d-b)/2까지의 조건에서의 갭노광을 행하는 것도 가능하다. 그러나 이 경우에 인접하는 장벽 사이에는 형광면이 형성되지 않지만, 장벽 정수리부에는 형광면이 형성되므로, 3색 형광면을 형성한 후에 장벽 정수리부를 연마하여 형광체를 제거할 필요가 있다.
(실시예 1)
Zn2SiO4: Mn으로 이루어지는 형광체분 510중량부, 평균분자량 6만의 히드록시프로필 셀룰로스 100중량부, 펜타에리스리톨 트리아크릴레이트 100중량부, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰 폴리노페닐)-부탄-1-온 10중량부, 메틸히드로퀴논 0.5중량부, 3-메틸-3-메톡시부타놀 300중량부를 3개의 롤밀로 혼련(混練)련하여 감광성 형광체 페이스트를 제작하였다.
한편, 유리기판 상에 전극과 장벽을 형성하고 있는 공작물기판을 준비하였다. 장벽은 폭이 60μm, 높이가 150μm, 피치가 200μm이다. 이 공작물기판에 상기 형광체 페이스트를 전면 도포하였다. 구체적으로는 다이코트에 의해 장벽 바닥부에서 30μm 두께로 되도록 충진하였다. 그 후 클린오븐에서 80℃, 30분간의 조건으로 건조를 행하였다. 이 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판에 대하여, 도 7에 나타낸 타입의 발산광의 노광광원을 가지는 노광장치를 사용하여, 노광량 270 mJ/cm2의 공작물기판과 마스크를 밀착시킨 콘택트 노광을 행하였다. 이 때의 마스크로서는 장벽의 간격이 140μm에 대하여 개구폭을 50μm로 설정한 포토마스크를 사용하였다. 계속하여 스프레이식 현상기로 압력 1 kg/cm2, 4.5 1/min의 조건으로 현상을 행한 후, 90℃, 30분간의 조건으로 건조를 행하였다.
(실시예 2)
상기한 것과 마찬가지의 형광체 페이스트 충진 완료된 공작물기판을 준비하고, 실시예 1과 같은 노광장치를 사용하여, 노광량을 540 mJ/cm2로 한 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(실시예 3)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 실시예 1과 같은 노광장치를 사용하여, 노광량을 540 mJ/cm2로 하여 공작물기판과 마스크와의 갭이 70μm 열린 갭노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(실시예 4)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 도 8에 나타낸 타입의 확산광의 노광광원을 가지는 노광장치를 사용하여, 노광량 270 mJ/cm2의 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(실시예 5)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 실시예 4와 같은 노광장치를 사용하여, 노광량을 540 mJ/cm2로 한 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(실시예 6)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 실시예 4와 같은 노광장치를 사용하여, 노광량을 540 mJ/cm2로 한 70μm의 갭노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(비교예 1)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 통상의 평행광 광원을 가지는 노광장치를 사용하여, 노광량 480 mJ/cm2의 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(비교예 2)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 통상의 평행광 광원을 가지는 노광장치를 사용하여, 노광량2400 mJ/cm2의 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
(비교예 3)
상기한 것과 마찬가지인 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판을 준비하고, 통상의 평행광 광원을 가지는 노광장치를 사용하여, 노광량 7200 mJ/cm2의 콘택트 노광을 행하고, 마찬가지로 현상한 후에 건조를 행하였다.
실시예 1∼6, 비교예 1∼3에서 형성된 형광면 형상을 평가하였다. 구체적으로는 장벽 정수리부 부근의 벽면에 형광면이 형성되어 있는지 아닌지, 인접하는 장벽 사이에 형광면이 형성되어 있는지 아닌지를 체크하였다. 그 평가결과를 표 1에 나타낸다.
광원 노광량 장벽 정수리부 부근의 벽면에 형광면 형성 인접하는 장벽 사이에형광면 형성
실시예 1 발산광 270 mJ/cm2 ---
실시예 2 발산광 540 mJ/cm2 ---
실시예 3 발산광70μm갭 540 mJ/cm2
실시예 4 확산광 270 mJ/cm2 ---
실시예 5 확산광 540 mJ/cm2 ---
실시예 6 확산광70μm갭 540 mJ/cm2
비교예 1 평행광 480 mJ/cm2 ---
비교예 2 평행광 2400 mJ/cm2 ---
비교예 3 평행광 7200 mJ/cm2 ---
이 결과에서 알 수 있는 바와 같이, 발산광 혹은 확산광을 조사하는 노광광원을 사용하여 노광하면, 장벽 정수리부 부근의 벽면에 형광면을 형성하기 위한 노광량은 270 mJ/cm2로 좋고, 평행광인 경우의 7200 mJ/cm2와 비교하면 약 20분의 1 이하로 되었다. 그리고 포토마스크와 밀착을 피하는 의미로 발산광 혹은 확산광으로 갭노광하였을 때, 인접하는 장벽 사이에 빛이 돌아 들어가버려, 불필요한 부분에 형광면이 형성되는 불안함이 있다. 그러나 실험결과, 70μm의 갭노광을 행한 것이라도, 그와 같은 문제는 발생하지 않았다.
(실시예 7)
실시예 1과 마찬가지로 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판(장벽의 간격 : 140μm)를 복수로 준비하여, 개구폭이 다른 마스크를 사용하여 각각 콘택트 노광을 행하고, 실시예 1과 마찬가지로 각각 현상한 후에 건조를 행하였다. 구체적으로는 각각 20μm, 30μm, 50μm, 70μm, 80μm, 100μm, 120μm, 140μm의 개구폭을 가지는 8종류의 마스크를 사용하여, 도 8에 나타낸 타입의 확산광의 노광광원을 가지는 노광장치를 사용하였다. 여기서는 필립사 제품의 UV램프「TL80W/10R」을 29개와 확산판을 장비한 노광장치(유효노광범위 1000mm×1400mm)를 사용하여, 노광량 540 mJ/cm2의 갭노광을 행하였다. 그리고 먼저 행한 평가항목에 더하여, 장벽 정수리부 위에 형광면이 형성되어 있는지 아닌지를 체크하였다. 그 평가결과를 표 2에 나타낸다.
마스크개구폭 장벽 정수리부 부근의 벽면에 형광면형성 인접하는 장벽 사이로의 형광면 형성 장벽 정수리부 상의 형광면 형성
20μm
30μm
50μm
70μm
80μm
100μm
120μm
140μm
이 결과에서 알 수 있는 바와 같이, 장벽 개구폭의 반보다 큰 개구폭을 가지는 마스크로는 장벽 정수리부 위에 형광면이 형성되었지만, 그에 채워지지 않는 크기의 개구폭을 가진 마스크로는 장벽 정수리부위에 형광면이 형성되지 않았다.
(실시예 8)
실시예 1과 마찬가지로 형광체 페이스트의 충진이 완료된 공작물기판(장벽의 간격 : 140μm)를 복수로 준비하고, 개구폭이 다른 마스크를 사용하여 장벽 정수리부와 마스크의 갭을 바꾸어 노광을 행하고, 실시예 1과 마찬가지로 각각 현상한 후에 건조를 행하였다. 구체적으로는 0μm, 20μm, 40μm, 50μm, 70μm, 90μm, 100μm의 갭으로 노광을 행하였다. 노광장치는 실시예 7의 경우와 같은 것을 사용하고, 노광량도 같게 하였다. 그리고 실시예 7의 경우와 같은 평가항목으로 체크하였다. 그 평가결과를 표 3에 나타낸다.
장벽 정수리부 부근벽면에 형광면 형성 인접하는 장벽 사이로의 형광면 형성 장벽 정수리부 상의 형광면 형성
0μm
20μm
40μm
50μm
70μm
90μm
100μm
이 결과에서 알 수 있는 바와 같이, 장벽 간격과 마스크 개구폭의 차의 반보다 큰 갭으로는 장벽 정수리부 위에 형광면이 형성되었지만, 그에 채워지지 않는 갭으로는 장벽 정수리부 위에 형광면이 형성되지 않았다.
그리고, 이상의 각 실시예에서는 단색만의 형광면 형성을 예로 하여 설명했지만, 실제로는 형광체 종류를 변화시켜서, 2색의 형광면을 형성함으로써, R, G, B 3색의 형광면을 형성할 수 있다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 노광장치에 의하면, 노광시에 발산광 또는 확산광이 조사되므로, 장벽 사이로 돌출한 형태의 마스크 내측에도 빛이 돌아 들어가고, 마스크의 그림자 부분이 발생하지 않는 것이므로 평행광을 사용할 경우에 비해 적은 노광량으로 소망하는 형상의 형광면을 형성할 수 있다. 또 종래의 평행광을 형성하는 노광장치에 비해 구조가 간단하게 되므로, 장치 자체가 낮은 가격으로 되어, 코스트다운을 도모할 수 있다.

Claims (11)

  1. 공작물기판 상에 설치된 장벽의 적어도 그 사이에 감광성 형광면 형성층을 형성하고, 공작물기판과 마스크의 얼라이먼트를 하고 나서, 마스크를 통하여 노광을 행하고, 현상, 소성하여 형광면을 형성하는 플라즈마 디스플레이 판넬의 형광면 형성공정에서 사용되는 노광장치로서, 마스크의 위쪽에서 발산광 혹은 확산광을 조사하는 노광광원을 배설한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원으로 발산광의 노광광원을 구성한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 1 항에 있어서, 복수의 광원과 그들 광원과 기판과의 사이에 배치된 확산판으로 확산광의 노광광원을 구성한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 제 1, 2 또는 3 항에 있어서, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판에 대하여 노광광원이 요동하는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  5. 제 1, 2 또는 3 항에 있어서, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판이 노광광원에 대하여 요동하는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  6. 제 1, 2, 3, 4, 또는 5 항에 있어서, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판에 대하여 노광광원이 이동하는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  7. 제 1, 2, 3, 4 또는 5 항에 있어서, 얼라이먼트한 마스크와 공작물기판이 노광광원 아래를 통과하는 기구를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
  8. 제 1 내지 7 항중 어느 한 항에 기재된 노광장치를 사용하여 플라즈마 디스플레이 판넬의 형광면을 형성하는 방법으로서, 공작물기판 상에 설치된 장벽의 적어도 그 사이에 감광성 형광면 형성층을 형성하고, 공작물기판과 마스크의 얼라이먼트를 하고 나서, 마스크를 통하여 상기 노광장치에 의해 노광을 행하고, 현상, 소성하여 형광면을 형성하는 것을 특징으로 하는 형광면 형성방법.
  9. 제 8 항에 있어서, 장벽의 간격을 a, 마스크의 개구폭을 b로 했을 때, a 2×b의 조건을 만족하는 마스크를 사용하여 콘택트 노광을 행하도록 한 것을 특징으로 하는 형광면 형성방법.
  10. 제 8 항에 있어서, 장벽의 간격을 a, 마스크의 개구폭을 b, 장벽 정수리부와 마스크 갭을 c로 했을 때, a 2×b의 조건을 만족한 마스크를 사용하여, c (a-b)/2의 조건으로 갭노광을 행하도록 한 것을 특징으로 하는 형광면 형성방법.
  11. 제 10 항에 있어서, 장벽의 피치를 d로 했을 때, c (d-b)의 조건으로 갭노광을 행하도록 한 것을 특징으로 하는 형광면 형성방법.
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