JP2000081708A - 露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法 - Google Patents
露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法Info
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- JP2000081708A JP2000081708A JP10249430A JP24943098A JP2000081708A JP 2000081708 A JP2000081708 A JP 2000081708A JP 10249430 A JP10249430 A JP 10249430A JP 24943098 A JP24943098 A JP 24943098A JP 2000081708 A JP2000081708 A JP 2000081708A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可
能にする露光装置およびプラズマディスプレイの製造方
法を提供する。 【解決手段】紫外線ランプを光源とする露光装置であっ
て、露光面に到達する紫外線の内、ｇ線（４３６ｎｍの
波長の光）の照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線（３
６５ｎｍの波長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）
の関係が下記式Ａを満たすことを特徴とする露光装置。 Ｌｇ×０．４＞Ｌｉ …（Ａ）
能にする露光装置およびプラズマディスプレイの製造方
法を提供する。 【解決手段】紫外線ランプを光源とする露光装置であっ
て、露光面に到達する紫外線の内、ｇ線（４３６ｎｍの
波長の光）の照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線（３
６５ｎｍの波長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）
の関係が下記式Ａを満たすことを特徴とする露光装置。 Ｌｇ×０．４＞Ｌｉ …（Ａ）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置およびそれ
を用いたプラズマディスプレイの製造方法に関する。本
発明の露光装置は、プラズマディスプレイ、プラズマア
ドレス液晶ディスプレイをはじめとするガラス隔壁層が
必要なディスプレイの製造に用いられる。
を用いたプラズマディスプレイの製造方法に関する。本
発明の露光装置は、プラズマディスプレイ、プラズマア
ドレス液晶ディスプレイをはじめとするガラス隔壁層が
必要なディスプレイの製造に用いられる。
【０００２】
【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ
大型化が可能であることから、ＯＡ機器および広報表示
装置などの分野に浸透しており、また、高品位テレビジ
ョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
は、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ
大型化が可能であることから、ＯＡ機器および広報表示
装置などの分野に浸透しており、また、高品位テレビジ
ョンの分野などでの進展が非常に期待されている。
【０００３】このような用途の拡大に伴って、ＰＤＰと
して微細で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目
されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードお
よびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放
電空間内に封入されているガスから発光させることによ
り表示を行なうものである。この場合、放電の広がりを
一定領域に押さえ、表示を規定のセル内で行わせると同
時に、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁（障
壁、リブとも言う）が設けられている。上記の隔壁の形
状は、およそ幅３０〜８０μｍ、高さ１００〜２００μ
ｍであるが、通常は全面ガラス基板や背面ガラス基板に
ガラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印
刷、乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜２０回繰り返
して所定の高さにしたあと、焼成して形成している。
して微細で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目
されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基
板との間に備えられた放電空間内で対向するアノードお
よびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放
電空間内に封入されているガスから発光させることによ
り表示を行なうものである。この場合、放電の広がりを
一定領域に押さえ、表示を規定のセル内で行わせると同
時に、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁（障
壁、リブとも言う）が設けられている。上記の隔壁の形
状は、およそ幅３０〜８０μｍ、高さ１００〜２００μ
ｍであるが、通常は全面ガラス基板や背面ガラス基板に
ガラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印
刷、乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜２０回繰り返
して所定の高さにしたあと、焼成して形成している。
【０００４】しかしながら、通常のスクリーン印刷法で
は、特にパネルサイズが大型化した場合に、あらかじめ
前面透明電極平面板上に形成された放電電極と絶縁ガラ
スペーストの印刷場所との位置合わせが難しく、位置精
度が得られ難い問題がある。しかも、１０〜２０回のガ
ラスペーストの重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁
および側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの
精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また作業
性が悪い、歩留まりが低いという問題がある。
は、特にパネルサイズが大型化した場合に、あらかじめ
前面透明電極平面板上に形成された放電電極と絶縁ガラ
スペーストの印刷場所との位置合わせが難しく、位置精
度が得られ難い問題がある。しかも、１０〜２０回のガ
ラスペーストの重ね合わせ印刷を行うことによって隔壁
および側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの
精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また作業
性が悪い、歩留まりが低いという問題がある。
【０００５】これらの問題を解決する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報などでは、隔壁を感光性ペーストを用い
てフォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案さ
れている。ところが、感光性ペーストの大部分は、その
感光ピークがｉ線（３６５ｎｍの波長の光）に位置する
ため、ｉ線を吸収しやすく、表面層のみが露光（架橋）
され、下層が硬化不足となり、現像後のパターンが蛇行
したり、パターン頭部の線幅が大きくなったりする問題
があった。このために、スクリーン印刷・露光・現像の
各工程を１０〜２０回繰り返し行うことによって高アス
ペクト比の隔壁を得る必要があった。しかしながら、印
刷・露光・現像を繰り返すのでは位置あわせの問題が生
じたり、低コスト化に問題があった。
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報などでは、隔壁を感光性ペーストを用い
てフォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案さ
れている。ところが、感光性ペーストの大部分は、その
感光ピークがｉ線（３６５ｎｍの波長の光）に位置する
ため、ｉ線を吸収しやすく、表面層のみが露光（架橋）
され、下層が硬化不足となり、現像後のパターンが蛇行
したり、パターン頭部の線幅が大きくなったりする問題
があった。このために、スクリーン印刷・露光・現像の
各工程を１０〜２０回繰り返し行うことによって高アス
ペクト比の隔壁を得る必要があった。しかしながら、印
刷・露光・現像を繰り返すのでは位置あわせの問題が生
じたり、低コスト化に問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、パターン形
状および解像度が向上できる露光装置およびそれを用い
たプラズマディスプレイの製造方法を提案することを目
的とする。
状および解像度が向上できる露光装置およびそれを用い
たプラズマディスプレイの製造方法を提案することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、紫
外線ランプを光源とする露光装置であって、露光面に到
達する紫外線のうち、ｇ線（４３６ｎｍの波長の光）の
照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線（３６５ｎｍの波
長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）の関係が下記
式Ａを満たすことを特徴とする露光装置である。
外線ランプを光源とする露光装置であって、露光面に到
達する紫外線のうち、ｇ線（４３６ｎｍの波長の光）の
照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線（３６５ｎｍの波
長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）の関係が下記
式Ａを満たすことを特徴とする露光装置である。
【０００８】Ｌｇ×０．４＞Ｌｉ …（Ａ） さらに、上記の露光装置を用いて、ガラス基板上に形成
した感光性材料をフォトマスクを介して露光することを
特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。
した感光性材料をフォトマスクを介して露光することを
特徴とするプラズマディスプレイの製造方法である。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明で用いる露光装置の紫外線
ランプは、特に限定はなく、紫外線領域の波長を発する
ものであれば使用できる。たとえば、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが
ある。これらのなかでも超高圧水銀灯が好ましい。ま
た、該紫外線ランプは５〜３０ｋＷの高出力ランプであ
ることが好ましい。５〜３０ｋＷの高出力ランプを用い
ることにより露光時間が短宿できる。
ランプは、特に限定はなく、紫外線領域の波長を発する
ものであれば使用できる。たとえば、低圧水銀灯、高圧
水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが
ある。これらのなかでも超高圧水銀灯が好ましい。ま
た、該紫外線ランプは５〜３０ｋＷの高出力ランプであ
ることが好ましい。５〜３０ｋＷの高出力ランプを用い
ることにより露光時間が短宿できる。
【００１０】本発明の露光装置では、ｇ線（４３６ｎｍ
の波長の光）の照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線
（３６５ｎｍの波長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ
2 ）が、Ｌｇ×０．４＞Ｌｉの関係であることが、感光
性ペーストの塗膜の下層まで十分硬化させることができ
る点で好ましい。この範囲をはずれると、下層まで十分
硬化させることができなくなる。さらに、下層まで十分
硬化させるために露光量を上げていくと、ｉ線による表
面層での光硬化が進行するため、パターン頭部が設計値
より大幅に大きくなる。
の波長の光）の照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線
（３６５ｎｍの波長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ
2 ）が、Ｌｇ×０．４＞Ｌｉの関係であることが、感光
性ペーストの塗膜の下層まで十分硬化させることができ
る点で好ましい。この範囲をはずれると、下層まで十分
硬化させることができなくなる。さらに、下層まで十分
硬化させるために露光量を上げていくと、ｉ線による表
面層での光硬化が進行するため、パターン頭部が設計値
より大幅に大きくなる。
【００１１】本発明の露光装置は、プラズマディスプレ
イ、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめとする
ガラス隔壁層が必要な大型ディスプレイの製造に用いる
ため、その露光面の有効面積は０．３ｍ2 以上であるこ
とが好ましい。
イ、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめとする
ガラス隔壁層が必要な大型ディスプレイの製造に用いる
ため、その露光面の有効面積は０．３ｍ2 以上であるこ
とが好ましい。
【００１２】ここで言う露光面の有効面積とは、照度分
布が±２０％以内を保持し、かつ光の平行度をあらわす
デクリネーション角が３度以下であることを満足する面
積を言う。
布が±２０％以内を保持し、かつ光の平行度をあらわす
デクリネーション角が３度以下であることを満足する面
積を言う。
【００１３】有効面積内での照度分布は２０％以内であ
ることが好ましく、さらに１０％以内であると面内でよ
り均一な露光ができるため、パターン形成のばらつきが
少なくなる点で好ましい。２０％を越えると、部分的に
パターンが太ったり、逆に細いパターンができるなど不
均一が生じる。
ることが好ましく、さらに１０％以内であると面内でよ
り均一な露光ができるため、パターン形成のばらつきが
少なくなる点で好ましい。２０％を越えると、部分的に
パターンが太ったり、逆に細いパターンができるなど不
均一が生じる。
【００１４】ここでデクリネーション角について図１を
用いて説明する。図１は本発明に用いられる露光装置の
一例を示す側面図である。光源１ａから発せられた光
は、ミラー１ｂ、フライアイレンズ１ｃ、ミラー１ｄ、
凹面鏡１ｅから露光面１ｆに光が照射されるとき、平行
光束１ｇと光軸１ｈとのなす角Ａを言う。本発明では、
デクリネーション角が３度以下であることが好ましく、
２度以下であることがフォトマスク通りのパターンを形
成することができるのでより好ましい。３度を越える
と、フォトマスク通りのパターン形成ができない。
用いて説明する。図１は本発明に用いられる露光装置の
一例を示す側面図である。光源１ａから発せられた光
は、ミラー１ｂ、フライアイレンズ１ｃ、ミラー１ｄ、
凹面鏡１ｅから露光面１ｆに光が照射されるとき、平行
光束１ｇと光軸１ｈとのなす角Ａを言う。本発明では、
デクリネーション角が３度以下であることが好ましく、
２度以下であることがフォトマスク通りのパターンを形
成することができるのでより好ましい。３度を越える
と、フォトマスク通りのパターン形成ができない。
【００１５】また、光源から露光面までの光路中にｉ線
カットフィルター（例えば、ＪＩＳＢ７１１３に規格さ
れているシャープカットフィルター ＳＬ−４１、ＳＬ
−４２、ＳＹ−４３など）を設けることも有効である。
この場合、該カットフィルターのｉ線透過率は３０％以
下であり、ｇ線の透過率が５０％以上であることがパタ
ーン形成性向上の点で好ましい。この範囲をはずれると
高精度のパターン形成ができない。
カットフィルター（例えば、ＪＩＳＢ７１１３に規格さ
れているシャープカットフィルター ＳＬ−４１、ＳＬ
−４２、ＳＹ−４３など）を設けることも有効である。
この場合、該カットフィルターのｉ線透過率は３０％以
下であり、ｇ線の透過率が５０％以上であることがパタ
ーン形成性向上の点で好ましい。この範囲をはずれると
高精度のパターン形成ができない。
【００１６】本発明の露光装置は、光路中であればｉ線
カットフィルター２ｉを取り付けることが可能である
が、図２のようにフィルターサイズの最小化および露光
機の改造を少なくできる点でフライアイレンズ２ｃの部
分に取り付けることが好ましい。
カットフィルター２ｉを取り付けることが可能である
が、図２のようにフィルターサイズの最小化および露光
機の改造を少なくできる点でフライアイレンズ２ｃの部
分に取り付けることが好ましい。
【００１７】本発明は、上記露光装置を用いて、ガラス
基板上に形成した感光性材料をフォトマスクを介して露
光することによりプラズマディスプレイイ、プラズマア
ドレス液晶ディスプレイをはじめとするガラス隔壁層が
必要なディスプレイの製造に用いられる。
基板上に形成した感光性材料をフォトマスクを介して露
光することによりプラズマディスプレイイ、プラズマア
ドレス液晶ディスプレイをはじめとするガラス隔壁層が
必要なディスプレイの製造に用いられる。
【００１８】プラズマディスプレイ用に用いられる隔壁
層は５０〜２００μｍの厚みが必要であるため、感光性
材料の厚みは、乾燥や焼成による収縮を考慮して８０〜
３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。ま
た、ガラス粉末と感光性有機線分を合計で５０重量％以
上含有することが好ましい。この範囲をはずれると、ペ
ースト塗布厚みの制御が難しくなる。
層は５０〜２００μｍの厚みが必要であるため、感光性
材料の厚みは、乾燥や焼成による収縮を考慮して８０〜
３００μｍ程度の厚みで塗布することが好ましい。ま
た、ガラス粉末と感光性有機線分を合計で５０重量％以
上含有することが好ましい。この範囲をはずれると、ペ
ースト塗布厚みの制御が難しくなる。
【００１９】また、感光性材料中に含まれるガラス粉末
のｇ線での平均屈折率と有機成分のｇ線での平均屈折率
の差が０．１以下であることが、反射、散乱が小さくな
り高アスペクト比のパターンを高精度に形成することが
できる点で好ましい。ここで、有機成分の屈折率は、露
光により感光性成分を感光させる時点における感光性ペ
ースト中の有機成分の屈折率のことである。つまり、感
光性ペーストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合
は、乾燥工程後の感光性ペースト中の有機成分の屈折率
のことである。
のｇ線での平均屈折率と有機成分のｇ線での平均屈折率
の差が０．１以下であることが、反射、散乱が小さくな
り高アスペクト比のパターンを高精度に形成することが
できる点で好ましい。ここで、有機成分の屈折率は、露
光により感光性成分を感光させる時点における感光性ペ
ースト中の有機成分の屈折率のことである。つまり、感
光性ペーストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合
は、乾燥工程後の感光性ペースト中の有機成分の屈折率
のことである。
【００２０】本発明における屈折率の測定は、一般的に
行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペ
ーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。また、有機成分が
光照射によって重合した後の屈折率を測定するために
は、感光性ペースト中に対して光照射する場合と同様の
光を有機成分のみに照射することによって測定できる。
行われるＶブロック法が好ましく、測定する波長は、ペ
ーストを塗布した後に、露光する光の波長で測定するこ
とが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６
５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好まし
い。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３
６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。また、有機成分が
光照射によって重合した後の屈折率を測定するために
は、感光性ペースト中に対して光照射する場合と同様の
光を有機成分のみに照射することによって測定できる。
【００２１】本発明に用いられる感光性材料には、感光
性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーあるい
はバインダーを含有するが、これらの成分はいずれも活
性光線のエネルギー吸収能力がないため、光反応を開始
するために光重合開始剤を加えるものである。特に本発
明は、感光性材料の厚みが８０〜３００μｍと厚膜であ
るため、アセトフェノン系の化合物を含むことが厚膜硬
化の点で好ましい。
性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーあるい
はバインダーを含有するが、これらの成分はいずれも活
性光線のエネルギー吸収能力がないため、光反応を開始
するために光重合開始剤を加えるものである。特に本発
明は、感光性材料の厚みが８０〜３００μｍと厚膜であ
るため、アセトフェノン系の化合物を含むことが厚膜硬
化の点で好ましい。
【００２２】光重合開始剤の具体的な例としては、ジエ
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケ
タール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒ
ドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フ
ェニルケトン、αーアシロキシムエステル、２−メチル
−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）ブタノンが挙げられる。本
発明ではこれらを、これらを１種または２種以上使用す
ることができる。光重合開始剤は、感光性材料中に０．
００１〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましく
は、０．０１〜５重量％である。光重合開始剤の量が少
なすぎると、光感度が不良となり光重合開始剤の量が多
すぎると露光部の残存率が小さくなるおそれがある。
トキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−
１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケ
タール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒド
ロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒ
ドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−
プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フ
ェニルケトン、αーアシロキシムエステル、２−メチル
−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン
−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−
（４−モルホリノフェニル）ブタノンが挙げられる。本
発明ではこれらを、これらを１種または２種以上使用す
ることができる。光重合開始剤は、感光性材料中に０．
００１〜１０重量％の範囲で添加され、より好ましく
は、０．０１〜５重量％である。光重合開始剤の量が少
なすぎると、光感度が不良となり光重合開始剤の量が多
すぎると露光部の残存率が小さくなるおそれがある。
【００２３】
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。
説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。な
お、実施例、比較例中の濃度（％）は重量％である。
【００２４】実施例１ 露光装置としては、８ｋｗの超高圧水銀灯を光源とする
露光装置を用いた。照度の測定は、ｉ線は（ＵＶＤ−３
６５ＰＤ ウシオ電機製）、ｇ線は（ＵＶＤ−４３６Ｐ
Ｄ ウシオ電機製）を用い、露光面で測定を行った。露
光面はの有効面積は、０．８ｍ2 であった。照度はそれ
ぞれ、３．０ｍＷ／ｃｍ2 、８．０ｍＷ／ｃｍ2 であっ
た。
露光装置を用いた。照度の測定は、ｉ線は（ＵＶＤ−３
６５ＰＤ ウシオ電機製）、ｇ線は（ＵＶＤ−４３６Ｐ
Ｄ ウシオ電機製）を用い、露光面で測定を行った。露
光面はの有効面積は、０．８ｍ2 であった。照度はそれ
ぞれ、３．０ｍＷ／ｃｍ2 、８．０ｍＷ／ｃｍ2 であっ
た。
【００２５】このとき、露光面での照度分布測定を行っ
たところ、最小値７．４ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、最大値
８．６ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、平均８．０ｍＷ／ｃｍ2
（ｇ線）であった。照度分布は±７％であった。
たところ、最小値７．４ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、最大値
８．６ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、平均８．０ｍＷ／ｃｍ2
（ｇ線）であった。照度分布は±７％であった。
【００２６】感光性ペーストは、感光性ポリマー（Ｘ４
００７）：１５重量部、感光性モノマー（ＭＧＰ４０
０）：１５重量部を主体とし、それに光重合開始剤（Ｉ
Ｃ３６９）：３重量部、紫外線吸収剤（２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレー
ト）：０．５重量部の各成分を５０℃に加熱しながら溶
解し、その後、ガラス粉末：７０重量部を添加し、混練
機で混練するという手順で作製した。この有機成分の乾
燥後の屈折率は１．５８０であった。
００７）：１５重量部、感光性モノマー（ＭＧＰ４０
０）：１５重量部を主体とし、それに光重合開始剤（Ｉ
Ｃ３６９）：３重量部、紫外線吸収剤（２−エチルヘキ
シル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレー
ト）：０．５重量部の各成分を５０℃に加熱しながら溶
解し、その後、ガラス粉末：７０重量部を添加し、混練
機で混練するという手順で作製した。この有機成分の乾
燥後の屈折率は１．５８０であった。
【００２７】ソーダガラス基板（４３０×７３６ｍｍ
角）上にスクリーン印刷により感光性ペーストを均一に
塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するた
めに塗布、乾燥を数回繰り返し行い、乾燥厚みが１８０
μｍになるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０
分行った。その後、８０℃で６０分乾燥した。
角）上にスクリーン印刷により感光性ペーストを均一に
塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するた
めに塗布、乾燥を数回繰り返し行い、乾燥厚みが１８０
μｍになるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０
分行った。その後、８０℃で６０分乾燥した。
【００２８】プラズマディスプレイ用の隔壁パターン形
成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パターン、
パターンピッチ ２２０μｍ、線幅２０μｍ）を介して
露光を行った。露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線
露光を行った。
成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パターン、
パターンピッチ ２２０μｍ、線幅２０μｍ）を介して
露光を行った。露光量は１０００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線
露光を行った。
【００２９】その後、３５℃に保持したモノエタノール
アミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１８０秒かけ
ることにより現像し、さらにシャワースプレーにより水
洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してガラ
ス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。焼成により
約３０％程度の収縮が生じる。
アミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１８０秒かけ
ることにより現像し、さらにシャワースプレーにより水
洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してガラ
ス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。焼成により
約３０％程度の収縮が生じる。
【００３０】組成がＬｉ2 Ｏ：９％、ＳｉＯ2 ：２２
％、Ａｌ2 Ｏ3 ：２３％、Ｂ2 Ｏ3 ：３３％、ＢａＯ：
４％、ＺｎＯ：２％、ＭｇＯ：７％であるガラス微粒子
の平均屈折率は１．５８６である。このガラス微粒子の
ガラス転移点、ガラス軟化点、ガラス転移点はそれぞれ
４７６℃、５１９℃、平均粒子径は２．６μｍである。
％、Ａｌ2 Ｏ3 ：２３％、Ｂ2 Ｏ3 ：３３％、ＢａＯ：
４％、ＺｎＯ：２％、ＭｇＯ：７％であるガラス微粒子
の平均屈折率は１．５８６である。このガラス微粒子の
ガラス転移点、ガラス軟化点、ガラス転移点はそれぞれ
４７６℃、５１９℃、平均粒子径は２．６μｍである。
【００３１】この感光性ペースト塗布膜について露光・
現像を行って形成したパターンの形状を電子顕微鏡観察
したところ、高さ１８２μｍ、パターン上部の線幅２８
μｍ、パターン中部の線幅３７μｍ、パターン下部の線
幅４８μｍであった。
現像を行って形成したパターンの形状を電子顕微鏡観察
したところ、高さ１８２μｍ、パターン上部の線幅２８
μｍ、パターン中部の線幅３７μｍ、パターン下部の線
幅４８μｍであった。
【００３２】焼成後に得られた隔壁は、高さ１２２μ
ｍ、パターン上部の線幅１８μｍ、パターン中部の線幅
２４μｍ、パターン下部の線幅３１μｍである良好なも
のであった。
ｍ、パターン上部の線幅１８μｍ、パターン中部の線幅
２４μｍ、パターン下部の線幅３１μｍである良好なも
のであった。
【００３３】次に、隔壁の溝部分に蛍光体層を形成し
た。すなわち、赤（Ｒ）を形成する場合、赤色の蛍光体
ペーストを用いて隔壁の溝部分とスクリーン版のパター
ンの位置あわせを行い印刷・乾燥（８０℃、４０分）を
行い、所定の位置に形成するする。緑（Ｇ）、青（Ｂ）
についても同様に行い３色の蛍光体層を所定の位置に形
成し、焼成（５００℃、１５分）した。
た。すなわち、赤（Ｒ）を形成する場合、赤色の蛍光体
ペーストを用いて隔壁の溝部分とスクリーン版のパター
ンの位置あわせを行い印刷・乾燥（８０℃、４０分）を
行い、所定の位置に形成するする。緑（Ｇ）、青（Ｂ）
についても同様に行い３色の蛍光体層を所定の位置に形
成し、焼成（５００℃、１５分）した。
【００３４】次に、前面板および背面板用ガラス基板に
シール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配
置になるように位置あわせして対向配置し、４５０℃、
３０分間処理し封止した。その後、表示領域内部の排気
およびＮｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガスの封入を行って
プラズマディスプレイパネルを完成させた。
シール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配
置になるように位置あわせして対向配置し、４５０℃、
３０分間処理し封止した。その後、表示領域内部の排気
およびＮｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガスの封入を行って
プラズマディスプレイパネルを完成させた。
【００３５】さらに、駆動用のドライバーＩＣを実装し
ＰＤＰを製造した。
ＰＤＰを製造した。
【００３６】実施例２ 露光機にｉ線カットフィルター（ｉ線透過率：２６％、
ｇ線透過率：６２．５％）を取り付けた以外は、実施例
１と同様に行った。照度はそれぞれ、０．８ｍＷ／ｃｍ
2 、５．０ｍＷ／ｃｍ2 であった。
ｇ線透過率：６２．５％）を取り付けた以外は、実施例
１と同様に行った。照度はそれぞれ、０．８ｍＷ／ｃｍ
2 、５．０ｍＷ／ｃｍ2 であった。
【００３７】このとき、露光面での照度分布測定を行っ
たところ、最小値４．６５ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、最大
値５．３４ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、平均５．０ｍＷ／ｃ
ｍ2（ｇ線）であった。照度分布は±７％であった。露
光量は１６００ｍＪ／ｃｍ2とした。
たところ、最小値４．６５ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、最大
値５．３４ｍＷ／ｃｍ2 （ｇ線）、平均５．０ｍＷ／ｃ
ｍ2（ｇ線）であった。照度分布は±７％であった。露
光量は１６００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００３８】得られたパターン形状は、高さ１８１μ
ｍ、パターン上部の線幅２３μｍ、パターン中部の線幅
２８μｍ、パターン下部の線幅３１μｍであった。
ｍ、パターン上部の線幅２３μｍ、パターン中部の線幅
２８μｍ、パターン下部の線幅３１μｍであった。
【００３９】焼成後に得られた隔壁は、高さ１２０μ
ｍ、パターン上部の線幅１８μｍ、パターン中部の線幅
２４μｍ、パターン下部の線幅２８μｍである良好なも
のであった。
ｍ、パターン上部の線幅１８μｍ、パターン中部の線幅
２４μｍ、パターン下部の線幅２８μｍである良好なも
のであった。
【００４０】比較例 照度が、ｉ線が５．８ｍＷ／ｃｍ2 、ｇ線が７．５ｍＷ
／ｃｍ2 である露光機を用いて実施例１と同様にパター
ン形成を行った。
／ｃｍ2 である露光機を用いて実施例１と同様にパター
ン形成を行った。
【００４１】得られたパターン形状は、高さ１８４μ
ｍ、パターン上部の線幅５０μｍ、パターン中部の線幅
３４μｍ、パターン下部の線幅３３μｍであった。
ｍ、パターン上部の線幅５０μｍ、パターン中部の線幅
３４μｍ、パターン下部の線幅３３μｍであった。
【００４２】焼成後に得られた隔壁は、高さ１２３μ
ｍ、パターン上部の線幅３８μｍ、パターン中部の線幅
２５μｍ、パターン下部の線幅２５μｍである逆台形の
形状となった。
ｍ、パターン上部の線幅３８μｍ、パターン中部の線幅
２５μｍ、パターン下部の線幅２５μｍである逆台形の
形状となった。
【００４３】
【発明の効果】本発明によって、アスペクト比かつ高精
度のパターン加工が可能になるとともに、パターン形状
が良好となり、焼成後に形成される隔壁をより優れたも
のにする事ができる。特に、簡便に高精度のプラズマデ
ィスプレイパネルの隔壁を形成することができる。
度のパターン加工が可能になるとともに、パターン形状
が良好となり、焼成後に形成される隔壁をより優れたも
のにする事ができる。特に、簡便に高精度のプラズマデ
ィスプレイパネルの隔壁を形成することができる。
【図１】デクリネーション角Ａ度で露光しているときの
露光機の側面図である。
露光機の側面図である。
【図２】ｉ線カットフィルターを用いて露光するときの
露光機の側面図である。
露光機の側面図である。
１ａ、２ａ：超高圧水銀灯 １ｂ、２ｂ：ミラー １ｃ、２ｃ：フライアイレンズ １ｄ、２ｄ：ミラー １ｅ、２ｅ：凹面鏡 １ｆ、２ｆ：露光面 １ｇ、２ｇ：光軸 １ｈ ：平行光束 Ａ ：デクリネーション角
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H097 BB03 CA12 FA02 FA10 GA45 JA02 JA03 LA11 5C027 AA09 5C040 GF19 JA15 JA36 KA10 KA16 KA20 KB03 KB19 LA17 MA24
Claims (10)
- 【請求項１】紫外線ランプを光源とする露光装置であっ
て、露光面に到達する紫外線のうち、ｇ線（４３６ｎｍ
の波長の光）の照度Ｌｇ（単位ｍＷ／ｃｍ2 ）とｉ線
（３６５ｎｍの波長の光）の照度Ｌｉ（単位ｍＷ／ｃｍ
2 ）の関係が下記式Ａを満たすことを特徴とする露光装
置。 Ｌｇ×０．４＞Ｌｉ …（Ａ） - 【請求項２】紫外線ランプの出力が５〜３０ｋＷである
ことを特徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】光源から露光面までの光路中にｉ線カット
フィルターを有し、該ｉ線カットフィルターのｉ線透過
率が３０％以下であり、ｇ線透過率が５０％以上である
ことを特徴とする請求項１または２記載の露光装置。 - 【請求項４】ｉ線カットフィルターが光干渉を利用した
フィルターであることを特徴とする請求項３記載の露光
装置。 - 【請求項５】露光面の有効面積（光の照度分布が±２０
％以内になる面積かつ光の平行度を示すデクリネーショ
ン角が３度以下になる面積）が、０．３ｍ2 以上である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の露光
装置。 - 【請求項６】請求項１〜５のいずれかに記載の露光装置
を用いて、ガラス基板上に形成した感光性材料をフォト
マスクを介して露光することを特徴とするプラズマディ
スプレイの製造方法。 - 【請求項７】感光性材料の厚みが８０〜３００μｍであ
ることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレ
イの製造方法。 - 【請求項８】感光性材料が、ガラス粉末と感光性有機成
分を合計で５０重量％以上含有する感光性ガラスペース
トであることを特徴とする請求項６または７記載のプラ
ズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項９】感光性材料中に含まれるガラス粉末のｇ線
での平均屈折率と有機成分のｇ線での平均屈折率の差が
０．１以下であることを特徴とする請求項８記載のプラ
ズマディスプレイの製造方法。 - 【請求項１０】感光性材料中に、アセトフェノン系の光
重合開始剤を０．００１〜１０重量％含むことを特徴と
する請求項６〜９のいずれかに記載のプラズマディスプ
レイの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10249430A JP2000081708A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10249430A JP2000081708A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000081708A true JP2000081708A (ja) | 2000-03-21 |
Family
ID=17192862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10249430A Pending JP2000081708A (ja) | 1998-09-03 | 1998-09-03 | 露光装置およびそれを用いたプラズマディスプレイの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000081708A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018105658A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置及び近接露光方法 |
-
1998
- 1998-09-03 JP JP10249430A patent/JP2000081708A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018105658A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置及び近接露光方法 |
| JPWO2018105658A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2019-10-24 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置及び近接露光方法 |
| JP7088552B2 (ja) | 2016-12-08 | 2022-06-21 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 近接露光装置及び近接露光方法 |
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