JPH11102642A

JPH11102642A - プラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JPH11102642A
Application number: JP10209121A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Horiuchi; 健堀内; Yuichiro Iguchi; 雄一朗井口; Yoshiki Masaki; 孝樹正木
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-07-25
Filing date: 1998-07-24
Publication date: 1999-04-13

Abstract

(57)【要約】【課題】高アスペクト比かつ高精度でパタ−ン形状の優
れた隔壁を形成するプラズマディスプレイパネルの製造
方法を提供する。また、６０インチ以上の大面積に均一
な隔壁を形成することを提供する。【解決手段】無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分
を必須成分とする感光性ペ−ストを基板上に塗布・乾燥
した後、フォトマスクを介して露光し、現像工程、焼成
工程を経て隔壁層を形成するプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法において、露光工程におけるフォトマスク
と感光性ペ−スト塗布面との距離Ｌを５〜８００μｍ
とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性ペ−ストを用
いたプラズマディスプレイパネルの製造方法に関し、特
にプラズマディスプレイ、プラズマアドレス液晶ディス
プレイなどの隔壁のパタ−ン加工およびその形成に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、回路材料やディスプレイにおい
て、小型・高精細化が進んでおり、それに伴って、パタ
−ン加工技術の向上が望まれている。特に、プラズマデ
ィスプレイパネルの隔壁形成においては、ガラスなどの
無機材料に高精度かつ高アスペクト比でパタ−ン加工が
できる材料および製造方法が望まれている。

【０００３】従来から、無機材料のパタ−ン加工を行う
には、無機粉末と有機バインダからなるペ−ストによる
スクリ−ン印刷が多く用いられている。しかしながら、
スクリ−ン印刷は精度の高いパタ−ンが形成できないと
いう欠点があった。

【０００４】この問題を改良する方法として、特開平１
−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公
報、特開平５−３４２９９２号公報には、感光性ペ−ス
トを用いてフォトリソグラフィ技術でパタ−ンを形成す
る方法が提案されている。しかしながら、これらの方法
においては、感光性ペ−ストの感度や解像度が低いため
に高アスペクト比、高精細の隔壁が得られない。このた
め、例えば８０μｍを越えるような厚みのものをパタ
−ン加工する場合、加工工程（スクリ−ン印刷・露光・
現像）を複数回繰り返す必要があるため、工程が長くな
る欠点があった。

【０００５】また、特開平２−１６５５３８号公報に
は、感光性ペ−ストを転写紙上にコ−ティングした後、
転写フィルムをガラス基板上に転写して隔壁を形成する
方法が、特開平３−５７１３８号公報では、フォトレジ
スト層の溝に誘電体ペ−ストを充填して隔壁を形成する
方法がそれぞれ提案されている。さらに特開平４−１０
９５３６号公報には、感光性有機フィルムを用いて隔壁
を形成する方法が提案されている。しかしながら、これ
らの方法では、転写フィルムやフォトレジスト層あるい
は感光性有機フィルムを必要とするために工程が増える
という問題点があり、また、高精細度や高アスペクト比
を有する隔壁を得るには至っていない。

【０００６】これらの問題を改良する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いて、
形成する方法が提案されている。しかしながら、これら
の方法では、感光性絶縁ペーストのガラス含有量が少な
いために焼成後の緻密な隔壁が得られなかったり、感光
性ペーストの感度や解像度が低いという問題があった。
このために、高アスペクト比の隔壁を得るためには、ス
クリーン印刷・露光・現像の工程を繰り返し行い、隔壁
の高さをえることが必要であった。しかし、上記工程を
繰り返し行うのでは、位置ずれの問題が生じたり、コス
トの問題があり、限界があった。

【０００７】特開平８−５０８１１号公報では、感光性
ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回で形成する方法
が提案されている。しかしながら、高精細度・高アスペ
クト比を有する隔壁を得るには至っていない。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】感光性ペ−ストの露光
工程において、露光は通常のフォトリソグラフィで行わ
れるように、フォトマスクを用いてマスク露光する。

【０００９】感光性ペ−ストの塗布面にフォトマスクを
密着させて露光する方法は、マスクに描画された線幅を
忠実に再現する可能性が高く好ましいが、パタ−ン全体
の形状は下部に向かって太り気味となり、パタ−ン断面
の側面にテ−パ−を有する形状となりやすい。また、４
０インチ以上の大型ガラス基板上で露光する場合、ガラ
スでのうねりを無視できなくなるため、マスクを完全に
塗布膜に密着させることは難しい。

【００１０】これに対して感光性ペ−スト塗布面とフォ
トマスクとの間に間隙を設けて露光する方法では、パタ
−ン断面形状が矩形状になり好ましいが、全体にマスク
上での線幅に比べて太り気味となり、特に頭頂部の太り
が大きい。全体の線幅の太りはフォトマスク設計上の問
題であり、解決は容易であるが、頭頂部の太りや形状不
良は、フォトマスクと感光性ペ−スト塗布面との間での
反射などの影響であり、感光性ペ−ストの設計とも関連
している問題である。例えば本発明者らは前述の特開平
８−５０８１１号公報にて提示される感光性ガラスペー
ストを用いて、感光性ペースト塗布面とマスク間の距離
（以降、塗布面と呼ぶ）を１００μｍ程度設ける、いわ
ゆるギャップ露光を試みたが、パターン頂部に太りがで
て、残膜が発生し、パターンが形成できないという問題
があった。さらに４０インチ以上のガラス基板上でパタ
ーン形成を行うと、基板にうねりがあるためギャップに
ムラができ、面内でパターンの断面形状が異なるという
問題があった。

【００１１】本発明はかかる問題点を解決し、高アスペ
クト比かつ高精度の隔壁を有するプラズマディスプレイ
パネルを製造することをその目的とする。さらに、対角
６０インチ以上の大面積基板内全面に、均一に隔壁を形
成することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】前記した本発明の目的
は、例えば無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分を
必須成分とする感光性ペ−ストを基板上に塗布・乾燥し
た後、フォトマスクを介して露光し、現像工程、焼成工
程を経て隔壁層を形成するプラズマディスプレイパネル
の製造方法において、露光工程におけるフォトマスクと
感光性ペ−スト塗布面との距離Ｌを５〜８００μｍに
することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製
造方法によって達成される。

【００１３】

【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレイパ
ネルの製造方法は、感光性ペ−ストを塗布した基板上
に、フォトマスクを介して露光し、露光部を硬化すると
共に、未露光部の硬化していない部分を現像液で溶解除
去しパターンを形成するものであり、その詳細を以下に
述べる。

【００１４】まず、ガラス基板やセラミック基板上に、
感光性ペ−ストを全面塗布、もしくは部分的に塗布す
る。塗布方法としては、スクリ−ン印刷法、バ−コ−タ
−法、ロ−ルコ−タ−法、ダイコ−タ−法、ブレ−ドコ
−タ−法など公知の方法を用いることができる。塗布厚
みは、塗布回数、スクリ−ンのメッシュ、ペ−ストの粘
度を選ぶことによって調整できる。

【００１５】なお、基板と塗布膜との密着性を高めるた
めに、予め基板の表面処理を行うことが好ましい。表面
処理液としては、シランカップリング剤や有機金属化合
物が用いられ、これらを有機溶媒、例えば、エチレング
リコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ−ルモノ
エチルエ−テル、メチルアルコ−ル、エチルアルコ−
ル、プロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ルなどで０．
１〜５％の濃度に希釈したものを用いことができる。こ
の表面処理液をスピナ−などで基板上に均一に塗布した
後、基板を８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥させる
ことによって表面処理ができる。

【００１６】感光性ペ−ストを塗布した後、露光装置を
用いて露光を行うが、本発明者らは、最適な露光条件を
検討した結果、フォトマスクと感光性ペ−スト塗布面と
の距離を５〜８００μｍとすることにより、パタ−ン
断面が矩形状を示し、頭頂部に太りの生じないパタ−ン
が得られることを見い出した。

【００１７】したがって本発明においては、露光工程に
おいてフォトマスクと感光性ペ−スト塗布面との距離Ｌ
を５〜８００μｍとすることが必要であり、本発明に
よれば、ピッチが１００〜１６０μｍ、線幅が１５〜
５０μｍ、高さが１００〜１７０μｍである高アスペ
クト比で高精細であり、しかもその形状の断面が矩形状
を示す隔壁を有するプラズマディスプレイパネルを容易
に製造できる。

【００１８】距離Ｌが５μｍ未満であると、パターン全
体の形状が下部に向かって太り気味となり、パターン断
面の側面にテーパーを有する形状となりやすく、本発明
の目的とする効果が得られない。

【００１９】また距離Ｌが８００μｍを越えると、パタ
ーン上部および下部に太りが生じ、残膜の発生による解
像度の低下が起こる。

【００２０】より好ましくは５〜２００μmとすること
により、残膜の発生、かつ隔壁断面形状が極端なテーパ
状となることを防ぐことができる。

【００２１】フォトマスクと感光性ペースト塗布膜との
距離をあける方法は、特に限定されないが、所望の厚さ
のスペーサーを間に挟む方法が、再現よく距離が確保で
きる点で好ましい。

【００２２】また機械的な精度が確保できれば、自動ギ
ャップ調整装置を用いてもよい。自動ギャップ調整装置
を使うことによって、簡便に距離をあけることができ
る。

【００２３】露光装置としては、プロキシミティ露光機
を用いることができる。この際使用される活性光源は、
紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧
水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプな
どが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適
である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１
００ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒
〜３０分間露光を行う。

【００２４】なお感光性ペ−ストにおいて塗布膜の光硬
化を進めるには、光重合開始剤や増感剤が吸収する波長
の光を照射すればよく、塗布膜の最下部の光硬化度を高
めるだけならばより多くの光量を与えればよいと考えら
れる。しかしながら、実際はある値以上の照射をおこな
っても、光硬化度は飽和してしまい、過剰の光照射はか
えって種々の障害をもたらす。さらに感光性ペ−ストは
多くの無機微粒子成分を分散状態で含有するので、内部
の光散乱は避け難く、それに帰因すると考えられるパタ
−ン形状の太りやパタ−ン間の埋り（残膜形成）が発生
しやすい。従って、単に露光量を増やすような手段で
は、本発明の目的とするパタ−ン形状を実現することは
不可能である。

【００２５】プラズマディスプレイパネルに必要とされ
る隔壁の高さは８０〜１５０μm程度である。感光性ペ
ースト法でこの高さの障壁を得るためには、焼成前に１
００〜２００μmの塗布膜が必要である。これまでの感
光性ペースト法では、高アスペクト比の隔壁を得るため
には、スクリーン印刷・露光・現像の工程を繰り返し行
い、隔壁の高さをえることが必要であった。しかし、上
記工程を繰り返し行うことにより、位置ずれの問題が生
じたり、コストアップの要因となる。特に、高精細の隔
壁を形成する場合、位置ずれの問題は顕著になる。

【００２６】このため、なるべく１回の露光でのパター
ン厚みを厚くすることが好ましい。したがって、上記理
由により、基板上に塗布・乾燥・露光の工程において、
１回の工程で塗布される感光性ペーストの厚みは８０〜
２００μmであることが好ましい。より好ましくは１０
０〜２００μmであることがよい。

【００２７】基板上に形成される隔壁のピッチは１００
〜１６０μｍ、線幅が１５〜５０μｍ、高さが１００
〜１７０μｍであることが好ましい。このような高精
細の隔壁を形成するには、パターン断面形状の均一性が
必要となる。露光によって硬化するパターン頂部線幅の
若干の違いにより、残膜の発生が顕著になるため、本発
明のような面内均一性の優れた製法が有用となる。

【００２８】また本発明を実現するために、感光性ペー
ストを塗布・乾燥した直後の塗布膜の反射率は次のよう
な条件であることが好ましい。塗布膜表面でのｇ線波長
（４３６ｎｍ）光の全反射率が１０％以下あり、かつｇ
線波長光の正規反射率が１０％以上であることが好まし
い。

【００２９】全反射率（Ｒｔ）とは入射角８度で入射し
た光の全反射を測定したものである。さらに反射のう
ち、入射角０度で入射した光の成分の反射率を測定し、
これを拡散反射率（Ｒｄ）として、正規反射率（Ｒｎ）
＝１００×（Ｒｔ−Ｒｄ）／Ｒｔとして正規反射率を求
める。すなわち、正規反射率は、露光光源から発光され
た光が露光装置の反射板でコントロールされて平行光源
として照射され、それが直進的にフォトマスクを通過
し、感光性ペースト塗布膜の表面に達し、入射光線の光
路に沿って反射される光の割合である。照射された光の
一部が表面で反射されることは避けがたいが、塗布膜の
表面および表層状態に起因する照射光の反射をできる限
り抑制し、反射する光ができる限り正規反射となること
が、マスク−塗布膜間距離を設けた露光には望ましい。

【００３０】全反射率を１０％以上とすることによっ
て、基板表面からの直進反射が多いため散乱光が減少
し、遮光部の光硬化が抑えられ、このため線幅の太りが
生じることがなく、マスク設計通りの隔壁が得られる。
また、正規反射率を１０％以上とすることで、ペースト
そのものの影響による隔壁底部の遮光部の塗布膜への光
の散乱が抑えられ、光硬化による現像不良がなく、残膜
の問題も生じない。正規反射率はより好ましくは４０％
以上である。

【００３１】露光後、露光部分と非露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法やスプレ−法、ブラシ法で行う。現像液には、感
光性ペ−スト中の有機成分が溶解可能な溶液を用いる。
本発明に好ましく用いられる感光性ペ−ストの有機成分
はカルボキシル基を有するので、アルカリ水溶液で現像
するとよい。アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウム
や炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム水溶液などが使用
できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にア
ルカリ成分を除去しやすいので好ましい。有機アルカリ
としては、一般的なアミン化合物を用いることができ
る。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサ
イド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイ
ド、モノエタノ−ルアミン、ジエタノ−ルアミンなどが
挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０５〜５
重量％であり、好ましくは０．１〜１重量％である。ア
ルカリ濃度が低すぎれば可溶部が除去され難い傾向とな
り、アルカリ濃度が高すぎれば、パタ−ン部を剥離さ
せ、また非可溶部を腐食させるおそれがある。また、現
像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理
上好ましい。

【００３２】感光性ペ−ストの塗布膜から露光・現像の
工程を経て形成された隔壁パタ−ンは次に焼成炉で焼成
されて、有機成分を熱分解して除去し、同時にガラス微
粒子成分を溶融させて無機質の隔壁を形成する。焼成雰
囲気や温度は、ペ−ストや基板の特性によって異なる
が、空気中、窒素、水素などの雰囲気中で焼成される。
焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型
焼成炉を用いることができる。バッチ式の焼成を行うに
は通常、隔壁パタ−ンが形成されたガラス基板を室温か
ら５００℃程度まで数時間かけてほぼ等速で昇温した
後、焼成温度として設定された５６０〜５８０℃に３
０〜４０分間で上昇させて、約１５〜３０分間保持して
焼成を行う。焼成温度は用いる基板のガラス転移点より
低くなければならないので自ずから上限が存在する。隔
壁の形状にダレなどが発生しない程度の焼成温度、焼成
時間とするとよい。また、焼成により隔壁が褐色に着色
したり、隔壁が基板から剥がれたりするのを防止するた
めに、有機成分に含まれる感光性化合物や、種々の添加
剤の熱分解特性と無機微粒子の熱特性の釣合いを考えた
感光性ペーストを用いるとよい。

【００３３】本発明において用いられる感光性ペ−スト
は、無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分からな
り、感光性化合物を含む有機成分によるフォトリソグラ
フィでパタ−ン形成後に焼成を行って、無機物のパタ−
ン（ストライプ状隔壁）を形成するものである。

【００３４】焼成して形成される隔壁の形状は、感光性
ペ−ストの露光および現像で形成されるパタ−ン形状に
依存するので、断面が矩形状を呈する高アスペクト比の
隔壁を得るためには、感光性ペ−ストから得られるパタ
−ン形状を矩形状に形成することが重要である。

【００３５】本発明のプラズマディスプレイパネルの製
造方法に好ましく用いられる感光性ペ−ストについて説
明する。

【００３６】無機微粒子としては、ガラスやセラミック
スを用いることが好ましく、特に有用となるのは、無機
微粒子として、ガラス微粒子を用いた場合である。

【００３７】また、ガラス微粒子の屈折率を１．５〜
１．６５の範囲に規制し、有機成分の屈折率に近似させ
ることが好ましい。なお、屈折率の測定は、ベッケ法に
より行うものとする。この場合測定する光の波長は本発
明の感光性ペーストを塗布した後に、露光する光の波長
であることが効果を確認する上で正確である。特に、３
５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好
ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線
（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。

【００３８】さらにガラス微粒子は、ガラス転移点４３
０〜５００℃、ガラス軟化点が４７０〜５８０℃のもの
が好ましい。

【００３９】本発明において、感光性ペーストに使用さ
れるガラス微粒子の好ましい構成組成として次のものが
挙げられる。

【００４０】酸化リチウム：３〜１０重量％酸化ケイ素：１０〜３０重量％酸化硼素：２０〜４０重量％酸化バリウム：２〜１５重量％酸化アルミニウム：１０〜２５重量％ガラス微粒子が酸化リチウムを３〜１０重量％含有する
と、ガラス軟化点、熱膨脹係数のコントロ−ルが容易に
なるだけでなく、ガラスの屈折率を低くできるため、有
機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。ま
たペ−ストの安定性を向上させる点からも１０重量％以
下が好ましく、より好ましくは８重量％以下である。

【００４１】上記の組成において、酸化リチウムの代わ
りに、酸化ナトリウム、酸化カリウム等のアルカリ金属
酸化物を用いてもよいが、感光性ペ−ストの安定性の点
では酸化リチウムが好ましい。また酸化カリウムには、
比較的少量の添加でも屈折率の制御ができる利点がある
ことから、酸化リチウムと酸化カリウムを同時に用いる
ことも好ましい。その場合、両者の合計がガラス微粒子
中３〜１０重量％含有されることが好ましい。

【００４２】酸化ケイ素は１０〜３０重量％の範囲で配
合されることが、隔壁の緻密性、強度や安定性の点や、
熱膨脹係数が所望の値とし、ガラス軟化点を低くし基板
への焼き付けが容易な点で好ましい。

【００４３】酸化硼素は２０〜４０重量％の範囲で配合
されることが、隔壁の強度やガラスの安定性の点で好ま
しい。酸化硼素はガラス微粒子を８００〜１２００℃
付近の温度で溶解するため、さらに酸化ケイ素が多い場
合でも電気絶縁性、強度、熱膨脹係数、隔壁の緻密性な
どの電気、機械および熱的特性を損なうことないように
感光性ペーストの焼き付け温度を５４０〜６１０℃の
範囲に制御するために配合されることが好ましい。

【００４４】酸化バリウムは２〜１５重量％の範囲で配
合されることが、焼き付け温度および電気絶縁性の制
御、隔壁の安定性や緻密性の点で好ましい。

【００４５】酸化アルミニウムは１０〜２５重量％の範
囲で配合されることが、隔壁の強度、ガラスの耐熱温
度、緻密な隔壁が６００℃以下の温度で得られる点で好
ましい。なお酸化アルミニウムはガラスの歪み点を高め
るために添加される。

【００４６】酸化亜鉛は１．５〜１０重量％の範囲で
配合されることが、隔壁の緻密性向上や、基板上に焼き
付け温度、絶縁抵抗を適度に保つ点で好ましい。酸化カ
ルシウムは２〜１０重量％の範囲で配合するのが、歪み
点を高める点で好ましい。酸化カルシウムはガラス微粒
子を溶融し易くするとともに、熱膨脹係数を制御する点
で添加されることが好ましい。

【００４７】酸化マグネシウムは１〜１０重量％の範囲
で配合されることが好ましい。酸化マグネシウムは、ガ
ラスを溶融し易くするとともに熱膨脹係数を制御する点
で添加されることが好ましい。１０重量％を越えるとガ
ラスが失透する傾向がある。

【００４８】加えて、ガラス微粒子中に、酸化チタン、
酸化ジルコニウムなどを含有することもできるが、その
量は２重量％未満であることが好ましい。特に酸化ジル
コニウムはガラス軟化点、ガラス転移点および電気絶縁
性を制御するのに効果がある。

【００４９】例えば、金属酸化物成分の配合を、酸化ケ
イ素２０重量％、酸化バリウム４重量％、酸化アルミニ
ウム２４重量％、酸化硼素３１重量％、酸化リチウム９
重量％、酸化マグネシウム６重量％、酸化カルシウム４
重量％および酸化ジルコニウム２重量％としたガラス微
粒子が挙げられる。該ガラス微粒子のガラス転移点は４
９０℃、ガラス軟化点は５２８℃、ｇ線波長（４３６ｎ
ｍ）においての屈折率は１．５９であり、本発明の無機
微粒子として好ましい条件を満足するものである。

【００５０】前記ガラス微粒子の粒子径は、作製しよう
とするパタ−ンの形状を考慮して選ばれるが、５０重量
％粒子径（平均粒子径）が１．５〜７μm、トップサイ
ズが７〜４０μｍであることが好ましい。さらに好まし
くは５０重量％粒子径（平均粒子径）が２〜３．５μｍ
、トップサイズ１５μｍ以下であることが好ましい。
さらに、１０重量％粒子径が０．６〜１．５μｍ、９０
重量％粒子径が４〜８μｍ、比表面積１．５〜２．５
ｍ²／ｇであることが好ましい。より好ましくは５０重
量％粒子径２．５〜３．５μｍ、比表面積１．７〜
２．４ｍ²／ｇである。この範囲にあると露光時に光が
十分透過し、上下で線幅差の少ない隔壁パタ−ンが得ら
れる。５０重量％粒子径２．０μｍ以下、比表面積
２．５ｍ²／ｇを越えるとガラス微粒子が細かく、露光
時において光が散乱されて非露光部分を硬化する傾向が
あり好ましくない。

【００５１】ここでの粒径は、レーザ散乱・回折法によ
って測定した値であり、平均粒径とは、５０％体積粒
径、最大粒径とは粒径の最大値である。

【００５２】また、ガラス微粒子のタップ密度を０．６
ｇ／ｃｍ³以上、好ましくは０．７ｇ／ｃｍ³以上とする
ことによって、感光性ペーストのガラス成分として用い
た場合のガラス粉末の充填性・分散性を高くし、気泡や
凝集物が生じにくくし、得られる感光性ペーストの光透
過性を高く、優れたパターン特性を示すことができる。
タップ密度とは、JIS Z 2500（2045）に記載の通り、振
動させた容器内の粉末の単位体積当たりの質量である。
タップ密度を０．６ｇ／ｃｍ³以上とすることで、ガラ
ス粉末が嵩高にならず感光性ペースト作製時に分散性が
良く、気泡の混入などの問題を起こさず、またペースト
の塗布性も良好で、形成された隔壁の形状に欠陥を生じ
ない。

【００５３】ガラス微粒子の作製法としては、例えば原
料である酸化リチウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウ
ム、酸化硼素、酸化バリウムおよび酸化亜鉛などを所定
の配合組成となるように混合し、９００〜１２００℃で
溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕して１
〜５μｍの微細な粉末にする。原料は高純度の炭酸
塩、酸化物、水酸化物などを使用できる。また、ガラス
微粒子の種類や組成によっては９９．９９％以上の超
高純度なアルコキシドや有機金属の原料を使用し、ゾル
・ゲル法で均質化に作製した粉末を使用すると高電気抵
抗で緻密な気孔の少ない、高強度な絶縁層が得られるの
で好ましい。

【００５４】感光性ペ−スト中、無機微粒子の含有率は
５０〜８５重量％、さらには、７０〜８５重量％である
ことが、焼成時の収縮率が小さく、焼成による形状変化
が小さくできる点で好ましい。

【００５５】このように多量の無機微粒子を含む感光性
ペ−ストに光照射して、効率よく化学変化を起こさせる
ためには、光反応させるべき部分に十分な光エネルギ−
が供給されるようにして、有機成分を十分に光硬化する
ことが好ましい。このためには、感光性ペ−ストの光透
過率が高く、下部まで光を到達させることが好ましい。

【００５６】光線透過率は、全光線透過率および直進透
過率で評価することができる。これらを高めることが、
高アスペクト比のパタ−ン加工を行う上で有効な方法で
ある。特に、全光線透過率（Ｔ１）と拡散透過率（Ｔ
２）の差を、全光線透過率（Ｔ１）で除した値Ｔ３＝
（Ｔ１−Ｔ２）／Ｔ１を直進透過率とした場合、直進透
過率（Ｔ３）が高いほど、高アスペクト比の優れた形状
のパタ−ン化が可能である。すなわち、感光性ペ−スト
の内部をできる限り直線的に透過する光の割合を高める
ことが重要である。

【００５７】全光線透過率を高くするためには、全光線
透過率が高い有機成分および無機成分を用いることが有
効である。また、直進透過率を高くするためには、有機
成分中で無機微粒子がより均一に分散していることが有
効である。

【００５８】無機微粒子に関しては、全光線透過率が高
いことに加え、粉末内部の組成が均一で、気泡などの組
成ムラが無いことも重要である。

【００５９】また異なる成分の分散体の光線透過率を高
めるには、それぞれの成分の屈折率を一致させるか、近
似させることが好ましいことが知られている。このため
本発明で使用する感光性ペ−ストにおいても、光線透過
率を向上させるために、無機微粒子の屈折率と有機成分
の屈折率をできるだけ近付けることが好ましい。これら
の屈折率は、全光線透過率を向上するのみでなく、直進
透過率の向上にも寄与し、本発明が目的とする高アスペ
クト比で高精度のパタ−ンを形成する感光性ペ−ストに
対しては重要な要件となる。

【００６０】無機微粒子の屈折率は、その組成によって
制御でき、有機成分の屈折率も用いる感光性化合物の組
成によって制御することが可能である。従って、両者の
屈折率を整合させることは可能であり、このような観点
で無機微粒子組成および感光性化合物を含む有機成分組
成を選定することができる。

【００６１】本発明において感光性化合物を含む有機成
分とは、感光性ペ−スト中の無機成分を除いた部分のこ
とであり、感光性ペ−スト中の１０〜５０重量％を占め
ることが好ましい。

【００６２】有機成分は、感光性モノマ、感光性オリゴ
マ、感光性ポリマのうち少なくとも１種類から選ばれた
感光性化合物およびバインダ、光重合開始剤、紫外線吸
光剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘
剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機
の沈殿防止剤などの添加剤成分を必要に応じて加えたも
のである。

【００６３】感光性化合物としては、光不溶化型のもの
と光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（A）分子内に不飽和基等を１つ以上有する官能性のモ
ノマ、オリゴマ、ポリマを含有するもの、（Ｂ）芳香族
ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合
物などの感光性化合物を含有するもの、（Ｃ）ジアゾ系
アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジア
ゾ樹脂といわれるもの等がある。

【００６４】また、光可溶型のものとしては、（Ｄ）ジ
アゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノ
ンジアゾ類を含有するもの、（Ｅ）キノンジアゾ類を適
当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノー
ル、ノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド
−５−スルフォン酸エステル等がある。

【００６５】本発明において感光性化合物は、いずれで
あってもよいが、無機微粒子と混合して簡便に用いるこ
とができる点で、光不溶化型が好ましく、特に（Ａ）が
好ましい。

【００６６】具体的に、感光性モノマとしては、活性な
炭素−炭素２重結合を有する化合物が挙げられ、官能基
としてビニル基、アリル基、アクリレ−ト基、メタクリ
レ−ト基、アクリルアミド基を有する単官能および多官
能化合物が挙げられる。

【００６７】特に、多官能アクリレ−ト化合物および／
またはメタクリレ−ト化合物を有機成分中に１０〜８０
重量％含有させたものが、光反応により硬化時の架橋密
度を高くし、パタ−ン形成性を向上させる点で好まし
い。多官能アクリレ−ト化合物および／またはメタクリ
レ−ト化合物またはメタクリレ−ト化合物としては、多
様な種類の化合物が開発されているので、それらから反
応性、屈折率などを考慮して選択することが可能であ
る。

【００６８】また、感光性モノマの屈折率は１．５５〜
１．８であることが好ましい。

【００６９】このような高屈折率化の観点から、ベンゼ
ン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子を含有する
アクリレ−トモノマもしくはメタクリレ−トモノマを用
いることが好ましい。

【００７０】その他、有機成分には、光反応で形成され
る硬化物の物性の向上や感光性ペ−ストの粘度の調整な
どの役割を果たすオリゴマまたはポリマが含有されてい
ることが好ましい。そのオリゴマまたはポリマとして
は、炭素−炭素２重結合を有する化合物から選ばれた成
分の重合体または共重合体等が挙げられる。

【００７１】この時、共重合成分としては、不飽和カル
ボン酸などの不飽和酸が挙げられ、これにより感光後の
アルカリ水溶液による現像性を向上することができる。
不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メ
タクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フ
マル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物などが挙げ
られる。

【００７２】前記したポリマもしくはオリゴマは、現像
許容幅、未露光部の現像液に対する溶解性の点から、酸
価（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０であ
ることが好ましい。

【００７３】また前記したポリマもしくはオリゴマに対
して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させるこ
とによって、感光性をもつ感光性ポリマや感光性オリゴ
マとなり、これを用いることが最も好ましい。

【００７４】この時光反応性基としては、エチレン性不
飽和基を有することが好ましく、エチレン性不飽和基と
しては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル
基などが挙げられる。

【００７５】このような側鎖をオリゴマやポリマに付加
させる方法は、ポリマ中のカルボキシル基に対して、グ
リシジル基やイソシアネ−ト基を有するエチレン性不飽
和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロラ
イドまたはアリルクロライドを付加反応させる方法が挙
げられる。アルカリ水溶液現像性のためのカルボキシル
基数とオリゴマまたはポリマを感光性とするエチレン性
不飽和基数とは、反応条件により自由に選択することが
できる。

【００７６】有機成分は必要に応じ、ポリビニルアルコ
−ル、ポリビニルブチラ−ル、メタクリル酸エステル重
合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル
−メタクリル酸エステル共重合体、ブチルメタクリレ−
ト樹脂などをバインダ成分として含んでいてもよい。こ
のバインダ成分の高屈折率化を行うことも、感光性有機
成分の高屈折率化に効果的である。

【００７７】さらに無機微粒子および感光性化合物は、
それ自身では紫外線などの活性光線のエネルギ−を吸収
しないので、光反応を起こさない。感光性ペーストに光
反応を起こすためには、光エネルギ−を吸収し、感光性
の官能基に反応を開始させるための光重合開始剤や増感
剤が必要である。光重合開始剤や増感剤は照射された光
エネルギ−を吸収して直接に活性なラジカルを発生させ
たり、あるいは吸収したエネルギ−を転移させて反応を
促進させる。これらの作用により、感光性ペ−スト中の
有機成分が反応し、光硬化が進行して、その部分が現像
液に不溶となってパタ−ン形成が行われる。

【００７８】露光時のフォトマスクとの間隙を特定の範
囲とすることにより好ましいパタ−ン形状を与える本発
明のプラズマディスプレイパネルの製造方法において
は、光反応を開始するために加えられる光重合開始剤と
増感剤の比率を最適化することが重要である。

【００７９】光重合開始剤には、１分子系直接開裂型、
分子内電子移動型、イオン対間電子移動型、水素引き抜
き型、２分子複合系など機構的に異なる多くの種類があ
るが、感光性ペ−ストでは主として、１分子系直接開裂
型から選ばれた化合物を用いている。

【００８０】具体的には、ベンゾインアルキルエ−テル
やα，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、
α，α−ジメトキシ−α−モルフォリノアセトフェノン
などが実用的に広く用いられている。また、過酸化物、
ホスフィンオキシド、硫黄化合物、ハロゲン化合物など
も公知である。これらを１種または２種以上使用するこ
とができる。

【００８１】本発明においては、特にパタ−ン形成は、
感光性ペースト塗布層の露光された部分の感光性化合物
を重合および架橋させて溶剤不溶性にするものであり、
感光性を示す官能基がラジカル重合性である場合は、光
重合開始剤としてはラジカル種を発生するものから選ん
で用いられる。具体的には、２−ベンジル−２−ジメチ
ルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン
−１および２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェ
ニル］−２−モルフォリノプロパノン等が挙げられる。

【００８２】通常、光重合開始剤は、感光性化合物に対
し、０．０５〜１０重量％の範囲で添加され、より好ま
しくは、０．１〜１０重量％であることが一般的である
が、本発明の場合には無機微粒子の量を考慮して感光性
化合物に対し２〜１０重量％含まれているのが好まし
い。

【００８３】さらに前記光重合開始剤と共に使用される
増感剤により、感度を向上させたり（化学増感）、反応
に有効な波長範囲を拡大する（分光増感）ことができ
る。

【００８４】増感剤の作用機構にも種々のものがある
が、３重項増感剤と称され、それ自身は光エネルギ−を
吸収しても開裂することはなく、エネルギ−移動を行
い、光反応の効率を向上させることができるものがよく
使われいる。具体的には、炭化水素系化合物、アミノ・
ニトロ化合物、キノン類、キサントン類、アンスロン
類、ケトン類、有機色素類がある。これらの中には光重
合開始剤としての作用を有するものも含まれている。本
発明においては、特に、２，４−ジエチルチオキサント
ン、イソプロピルチオキサントンなどチオキサントン誘
導体が好ましい。これらは１種または２種以上同時に含
まれていてもよい。

【００８５】増感剤の含有量は、通常感光性化合物に対
して０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１
０重量％であるが、本発明の場合には無機微粒子の量を
考慮して感光性化合物に対し２〜１０重量％含まれてい
るのが好ましい。

【００８６】感光性ペースト中の光重合開始剤および増
感剤が、少なすぎると十分な感度が得られ難い傾向とな
り、多くすることによって感度を高めることができる一
方、多すぎると硬化した部分の重合度合が十分に高くな
らない傾向となり、露光部の残存率が小さくなったり、
パタ−ン間での不要な硬化が発生して残膜が形成される
などの不都合が起こり易い。

【００８７】光重合開始剤と増感剤を適量使用すること
が適度の感度で優れた形状を示すパタ−ンを形成するた
めに好ましく、特に、フォトマスクと感光性ペ−ストの
塗布膜との間に５〜２００μｍの間隙をおいた露光方
法を用いて隔壁を形成する本発明のプラズマディスプレ
イパネルの製造方法においては、光重合開始剤量より増
感剤量を多くした割合で用いることが好ましい。

【００８８】本発明で用いられる感光性ペ−ストは、光
エネルギ−を吸収した部分が光反応で硬化し現像液不溶
になるタイプであり、その硬化の程度は、所望のパタ−
ン形状を示すパタ−ンを得るために重要な要件である。
硬化の程度が低いと現像の際に溶解したり、膨潤したり
して、パタ−ン形状が不安定となり、隔壁を形成するの
に不都合なものとなってしまう。

【００８９】このため露光時に感光性ペ−スト塗布膜の
最下部までを十分に硬化させ、現像液によって膨潤した
り、溶解されないようにすることが好ましい。このた
め、塗布膜の上部から照射される光エネルギ−を下部ま
で十分に供給できることが好ましい。多量の無機微粒子
を分散した感光性ペーストでは、これらの無機微粒子の
界面での乱反射が起こるので、散乱光による不要な光反
応を抑制することが好ましい。

【００９０】この点から本発明で使用される感光性ペ−
ストには、さらに紫外線吸光剤が含有されていることが
好ましい。紫外光や可視光の吸収効果が高い紫外線吸光
剤を添加することによってより高アスペクト比、高精
細、高解像度が達成できる。

【００９１】紫外線吸光剤としては、有機系染料からな
るもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸
収係数を有するものが好ましく挙げられる。具体的には
アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、
キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノ
ン系染料、ジフェニルシアノアクリレ−ト系染料、トリ
アジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用で
きる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼
成後の絶縁膜中に残存しないので絶縁膜特性の低下を少
なくできるので好ましい。これらの中でも、アゾ系およ
びベンゾフェノン系染料が好ましい。有機系染料の添加
量は、感光性ペ−スト中に分散される無機微粒子に対し
て０．０５〜１重量％であることが好ましい。

【００９２】有機系染料からなる紫外線吸光剤の添加方
法の一例として、有機系染料を予め有機溶媒に溶解した
溶液を作製し、それをペ−スト作製時に混練する方法
や、該有機溶媒中に無機微粒子を混合後、乾燥する方法
が挙げられる。これらの方法によれば、無機微粒子の個
々の表面が有機染料膜によりコ−ティングされ、無機微
粒子の界面における乱反射を抑制、不要な光反応を阻止
するので、パタ−ンの太りや残膜発生が防止されるもの
と推定される。

【００９３】さらに本発明において使用される感光性ペ
−ストには、必要に応じて、保存時の熱安定性を向上さ
せるための重合禁止剤、アクリル系共重合体の酸化を防
ぐための酸化防止剤、その他の可塑剤などが含有されて
いてもよい。

【００９４】感光性ペ−ストは、通常、無機微粒子、紫
外線吸光剤、感光性ポリマ、感光性モノマ、光重合開始
剤、増感剤、および溶媒などの各種成分を所定の組成と
なるように調合した後、３本ロ−ラや混練機で均質に混
合分散し作製される。

【００９５】ペ−ストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有
機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤など添加割合によっ
て、２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）程度に
適宜調整されるが、感光性ペ−ストをガラス基板に塗布
する方法に応じて、粘度を有機溶媒により調整すること
が好ましい。

【００９６】このとき使用される有機溶媒としては、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソル
ブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シク
ロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコ−
ル、イソプロピルアルコ−ル、テトラヒドロフラン、ジ
メチルスルフォキシド、γ−ブチルラクトンなどやこれ
らのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いら
れる。

【００９７】例えば、ガラス基板への塗布をスピンコ−
ト法で行う場合は、２０００〜５０００ｃｐｓが好まし
い。スクリ−ン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μ
ｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。ブレ−
ドコ−タ−法やダイコ−タ−法などを用いる場合は、１
万〜５万ｃｐｓが好ましい。

【００９８】

【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。実施例中の濃度（％）は重量％であり、略記号は次
の通りである。

【００９９】Ｘ−４００７：４０％メタクリル酸、３０
％メチルメタクリレート、３０％スチレンからなる共重
合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジル
メタクリレートを付加重合させた重量平均分子量４３，
０００、酸価９５の感光性ポリマ。

【０１００】ＭＧＰ４００：X₂-N-CH(CH₃)-CH₂-(O-CH₂-
CH(CH₃))_n-N-X₂ X:-CH₂-CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ ｎ＝２〜１０ＩＣ−３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイ
ギー製品）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントンスダンＩＶ：アゾ系有機染料（東京化成工業（株）
製）、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ₄Ｏ、分子量３８０．４５また、実施例中で示した物性は次の方法で測定したもの
である。

【０１０１】（Ａ）ガラス転移点、ガラス軟化点示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス試料１００ｍ
ｇを２０℃／分で空気中で加熱し、横軸に温度、縦軸に
熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描き、ＤＴＡ曲線より
読み取った。

【０１０２】（Ｂ）粒径粒度分布計（マイクロトラックＨＲＡ粒度分析計ＭＯ
ＤＥＬＮｏ．９３２０−Ｘ１００）を用いた。

【０１０３】（Ｃ）タップ密度Ａ．Ｂ．Ｄ粉体特性測定器（筒井理化学機械（株）製）
を用い、粉末を入れた１００ｃｃ容器を５分間振動した
後、粉末を摺り切り、１００ｃｃ当たりの粉末質量を測
定して得た。

【０１０４】（Ｄ）塗布膜表面の全反射率および正規反
射率自記分光光度計ＵＶ−３１０１ＰＣ型（島津製作所製）
により、ガラス基板上の塗布膜を長波長（５４０ｎｍ）
から短波長（３４０ｎｍ）まで走査し、ｇ線波長（４３
６ｎｍ）で測定される値とした。また測定する塗布膜
は、感光性ペーストを厚み５０μmで塗布し、８０℃で
４０分乾燥したものとした。なお１００％反射板（副白
板）としては、ＢａＳＯ₄を用いた。

【０１０５】実施例１感光性ペ−ストは、有機成分の各成分を８０℃に加熱し
ながら溶解し、その後、吸光剤をコ−ト処理したガラス
微粒子を添加し、混練機で混練するという手順で作成し
た。粘度はγ−ブチロラクトンの量で調整したが、ペ−
スト中の溶媒量は１０〜４０％になるように調整した。

【０１０６】対角６０インチのソ−ダガラス基板上に、
スクリ−ン印刷により、感光性ペ−ストを均一に塗布し
た。塗布膜にピンホ−ルなどの発生を回避するために塗
布、乾燥を数回以上繰り返し行い、乾燥厚みが１８０
μｍになるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１
０分間行った。その後、８０℃で４０分乾燥した。

【０１０７】プラズマディスプレイ用の隔壁パタ−ン形
成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パタ−ン、
パタ−ンピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍ）を介し
て露光を行う。露光は、３０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高
圧水銀灯で０．８Ｊ／ｃｍ²の紫外線露光を行った。

【０１０８】この時のフォトマスクと感光性ペ−スト塗
布膜表面との距離Ｌを自動ギャップ調整装置によって１
２μｍにした。

【０１０９】その後、３５℃に保持したモノエタノ−ル
アミンの０．３重量％水溶液をシャワ−で１２０秒間
かけることにより現像し、その後シャワ−スプレイを用
いて水洗浄し、光硬化していないスペ−ス部分を除去し
てガラス基板上にストライプ状の隔壁を形成した。

【０１１０】隔壁パタ−ンの加工を終了したガラス基板
を８０℃で１５分乾燥した後、５６０℃で１５分焼成し
隔壁を形成した。焼成により約３０％程度の収縮が生じ
た。

【０１１１】組成が、Ｌｉ₂Ｏ：９％、ＳｉＯ₂：２２
％、Ａｌ₂Ｏ₃：２３％、Ｂ₂Ｏ₃ ：３３％、ＢａＯ：４
％、ＺｎＯ：２％、ＭｇＯ：７％であるガラス微粒子の
平均屈折率は１．５８６であった。このガラス微粒子の
ガラス転移点、ガラス軟化点はそれぞれ４７６℃、５１
９℃、平均粒子径は２．６μｍ、最大粒子径が２２μm
であった。またタップ密度は０．７ｇ／ｃｍ３であっ
た。実施例では、ガラス微粒子として、この組成のガラ
ス粉末に対して、吸光剤をコ−ティング処理したものを
使用した。吸光剤としてスダンIVを用い、粉末に対して
０．０８％を使用した。

【０１１２】上記の組成のガラス微粒子７０重量部に配
合した有機成分は次のものである。すなわち、感光性ポ
リマ（Ｘ−４００７）：１５重量部、感光性モノマ（Ｍ
ＧＰ４００）：１５重量部を主体とし、それに光重合開
始剤（ＩＣ−３６９）：４．８重量部および増感剤（Ｄ
ＥＴＸ−Ｓ）：４．８重量部とした。

【０１１３】上記感光性ペーストを５０μmの厚みに塗
布し、全反射率、正規反射率を測定したところ、順に
６．５％、２０％であった。

【０１１４】露光・現像を行って形成した焼成前のパタ
−ン形状を電子顕微鏡観察した結果により、ストライプ
状パタ−ンの上部線幅４４μｍ、中央部での線幅は４
６μｍの矩形形状のパターンが得られた。パタ−ン高さ
は１８０μｍであった。

【０１１５】その後５６０℃で１５分保持し、焼成を行
って隔壁を形成したところ、ピッチ１５０μm、上部線
幅２８μm、中央線幅３０μm、高さ１４０μmの矩形形
状の良好な隔壁が全面内均一に形成できた。

【０１１６】実施例２フォトマスクと感光性ペースト塗布膜表面との距離を５
０μｍに設定する以外は実施例と同様に行った。

【０１１７】得られた隔壁はピッチ１５０μm、上部線
幅３３μｍ、中央部の線幅３５μｍ、高さ１４０μmの
矩形形状の良好なパターンが得られた。

【０１１８】実施例３フォトマスクと感光性ペースト塗布膜表面との距離を２
００μｍに設定する以外は実施例と同様に行った。

【０１１９】得られた隔壁はピッチ１５０μm、上部線
幅４０μｍ、中央部の線幅４４μｍ、高さ１４０μmの
矩形形状の良好なパターンが得られた。

【０１２０】

【発明の効果】本発明は、無機微粒子と感光性化合物を
含む有機成分を必須成分とする感光性ペ−ストを基板上
に塗布・乾燥した後、フォトマスクを介して露光し、現
像工程、焼成工程を経て隔壁層を形成するプラズマディ
スプレイパネルの製造方法において、露光工程における
フォトマスクと感光性ペ−スト塗布面との距離Ｌを５〜
８００μｍとするため、パタ−ン断面形状が矩形状で
あり、高アスペクト比で高精細の隔壁が面内均一に形成
されたプラズマディスプレイパネルを製造することがで
きる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分
を必須成分とする感光性ペ−ストを基板上に塗布・乾燥
した後、フォトマスクを介して露光し、現像工程、焼成
工程を経て隔壁層を形成するプラズマディスプレイパネ
ルの製造方法において、露光工程におけるフォトマスク
と感光性ペ−スト塗布面との距離Ｌを５〜８００μｍ
にすることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの
製造方法。
【請求項２】フォトマスクと感光性ペ−スト塗布面との
距離Ｌを５〜２００μｍにすることを特徴とする請求項
１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】塗布・乾燥・露光工程において、１回の工
程で塗布される感光性ペーストの厚みが８０〜２００μ
mであることを特徴とする請求項１または２記載のプラ
ズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】基板上に形成される隔壁のピッチが１００
〜１６０μｍ、線幅が１５〜５０μｍ、高さが１００〜
１７０μｍであることを特徴とする請求項１〜３のい
ずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項５】感光性ペーストを基板上に塗布・乾燥した
後の塗布面表面でのｇ線波長の全反射率が１０％以下で
あり、かつｇ線波長光の正規反射率が１０％以上である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】感光性化合物を含む有機成分が、光で不溶
化するものであることを特徴とする請求項１〜５のいず
れか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方
法。
【請求項７】無機微粒子が、屈折率１．５〜１．６５の
ガラス微粒子であることを特徴とする請求項１〜６のい
ずれか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造
方法。
【請求項８】ガラス微粒子が、タップ密度が０．６ｇ／
ｃｍ³以上、平均粒径が１．５〜７μｍ、最大粒径が７
〜４０μｍの範囲にあることを特徴とする請求項７記載
のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】感光性ペ−ストが、有機系染料からなる紫
外線吸収剤を無機微粒子に対して０．０５〜１重量％を
含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項
に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。