JPH11149862A

JPH11149862A - プラズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法

Info

Publication number: JPH11149862A
Application number: JP31518597A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Horiuchi; 健堀内; Yoshiki Masaki; 孝樹正木; Kazutaka Kusano; 一孝草野
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1997-11-17
Filing date: 1997-11-17
Publication date: 1999-06-02
Anticipated expiration: 2017-11-17
Also published as: JP4092754B2

Abstract

(57)【要約】【課題】高い歩留まりで、高アスペクト比かつ高精細で
あり、所望の形状を有するプラズマディスプレイパネル
用隔壁を製造する方法を提供する。【解決手段】ガラス基板上に、無機微粒子と感光性化合
物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストを塗
布・乾燥後、フォトマスクを介して露光し、現像、焼成
の工程を経てプラズマディスプレイパネル用隔壁を製造
するに際し、異なる組成からなる少なくとも２種類の感
光性ペーストを積層して塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用隔壁の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大
型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装
置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョ
ンの分野などでの進展が非常に期待されている。

【０００３】このような用途の拡大に伴って、精細で多
数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設
けられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード
電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封
入されているガスから発生した紫外線を、放電空間内の
蛍光体にあてることにより表示を行うものである。この
場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセ
ル内で行わせると同時に、均一な放電空間を確保するた
めに隔壁（障壁、リブともいう）が設けられている。

【０００４】上記の隔壁のサイズは、ピッチ１００〜４
３０μｍ、幅３０〜８０μｍ、高さ５０〜２００μｍで
あり、通常は背面ガラス基板にガラス成分からなる絶縁
ペーストをスクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷
・乾燥工程を１０〜１５回繰り返して所定の高さにした
後、焼成して形成されている。

【０００５】しかしながら、通常のスクリーン印刷法で
は、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め基板上
に形成された放電電極と絶縁ペーストの印刷場所との位
置合わせが難しく、位置精度が得られ難いという問題が
ある。しかも１０数回も絶縁ペーストを重ね合わせ印刷
を行うことになるため、隔壁および壁体の側面エッジ部
の波打ちや裾の乱れが生じ、また高さの精度が得られな
いため、表示品質が悪くなり、さらに、作業性が悪い、
歩留まりが低いなどの問題もある。特に、パターン線幅
が５０μｍ、ピッチが１６０μｍ以下の高精細な隔壁に
なると隔壁底部が絶縁ペーストのチクソトロピー性によ
り滲みやすく、シャープで残渣のない隔壁形成が難しく
なる問題がある。

【０００６】ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い、こ
のようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト
比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難とな
り、かつコスト的に不利になってきている。

【０００７】これらの問題を改良する方法として、特開
平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号
公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９
５６７６号公報では、隔壁を感光性絶縁ペーストを用い
てフォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案さ
れている。しかしこれらの方法では、感光性絶縁ペース
トのガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔壁が
得られなかったり、感光性絶縁ペーストの感度や解像度
が低いという問題があった。このために高アスペクト比
の隔壁を得るためには、やはり、スクリーン印刷・露光
・現像の工程を繰り返し行うことが必要であり、印刷・
露光・現像を繰り返し行うのでは、位置合わせやコスト
の問題が依然あった。

【０００８】そこで特開平８−５０８１１号公報では、
感光性ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で
形成する方法が提案されている。しかしながら、この方
法では、ピッチが２５０μｍ以下、隔壁の線幅が５０μ
ｍ以下の高精細隔壁を作製する際、感光性ガラスペース
ト中の無機成分と有機成分の割合によって、線幅の太
り、所望の線幅が得られない、または現像残りが発生
し、いわゆる残膜が発生したり、パターン形成性が悪い
という問題があった。また、焼成時に有機成分が消失し
難く、いわゆる脱バインダー性が悪く、剥がれ、着色の
原因になったり、焼成時の収縮が大きくなり、所望の高
さの隔壁を得るためにパターン形成時の塗布膜の厚みを
厚くすることが必要になり、パターン形成時のマージン
が小さく、歩留まりが悪くなるという問題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明は上記
従来技術の問題点を改良し、無機微粒子と感光性有機成
分を必須成分とする感光性ペーストを用いて、歩留まり
が高く、高アスペクト比かつ高精細で所望の形状を有す
るプラズマディスプレイパネル用隔壁を製造することを
その目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記した本発明の目的
は、ガラス基板上に、無機微粒子と感光性化合物を含む
有機成分を必須成分とする感光性ペーストを塗布・乾燥
後、フォトマスクを介して露光し、現像、焼成の工程を
経てプラズマディスプレイパネル用隔壁を製造するに際
し、異なる組成からなる少なくとも２種類の感光性ペー
ストを積層して塗布することを特徴とするプラズマディ
スプレイパネル用隔壁の製造方法によって達成される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明において、感光性ペースト
は、無機微粒子と感光性化合物を含む有機成分（以下感
光性有機成分とする）とからなり、これをガラス基板上
に塗布し、感光性有機成分によるフォトリソグラフィ技
術を用いてパターン形成を行った後に焼成を行って、無
機物の隔壁を形成するものであり、特にガラス基板上
に、異なる組成からなる少なくとも２種類の感光性ペー
ストを積層して塗布することが重要である。

【００１２】まず、本発明において好ましく使用される
感光性ペーストについて説明する。

【００１３】本発明者らは、無機微粒子と感光性有機成
分を必須成分とする感光性ペーストに関して鋭意研究を
進めた結果、ペースト塗布膜について測定した全光線透
過率がｇ線波長領域で高いほど高アスペクト比のパター
ン加工を行う上で有効なことを見出した。また、ペース
ト塗布膜の光線透過率の測定において、全光線透過率
（Ｔ１）から拡散透過率（Ｔ２）を差し引き、これをＴ
１で除した値Ｔ３（Ｔ３＝Ｔ１−Ｔ２／Ｔ１）を直進透
過率（正規透過率ともいう）とした場合、ｇ線波長領域
のＴ３が塗布膜厚さ５０μｍ当たりで５０％以上である
場合において高アスペクト比の優れた形状のパターン化
が可能なことを見出している。

【００１４】全光線透過率を高くするためには、全光線
透過率が高い有機成分および無機微粒子を用いることが
有効である。また、直進透過率を高くするためには、有
機成分中の各成分が均一に分散していることが必要であ
る。この点から、無機微粒子に関しては、その全光線透
過率が高いと共に、微粒子内部の組成が均一であること
や気泡などの組成ムラがないことが好ましく、無機微粒
子の平均粒径や粒度分布も考慮することが好ましい。

【００１５】上記した点から無機微粒子として、ガラス
微粒子を用いることが好ましいが、そのガラス微粒子の
平均屈折率と感光性有機成分の平均屈折率を整合させる
ことが透過率を高めるために重要な条件である。例えば
ガラス微粒子の平均屈折率を１．５〜１．６５とし、感
光性モノマの屈折率を１．５５〜１．８とすることによ
り、感光性有機成分の平均屈折率とガラス微粒子の平均
屈折率を容易に近似させることができ好ましい。

【００１６】また、本発明においてプラズマディスプレ
イパネル用隔壁は、ガラス基板上に形成され、感光性ペ
ースト中に含まれるガラス微粒子は、基板のガラス転移
点より低い温度で溶融される。この点からガラス微粒子
のガラス転移点が４００〜５００℃、ガラス軟化点が４
５０〜５５０℃であることが好ましい。

【００１７】このような温度特性を有するガラス材料と
して、従来から、酸化鉛や酸化ビスマスを３０重量％以
上含有するものが知られている。しかし、これらのガラ
ス材料の平均屈折率は１．７以上になるため、感光性有
機成分と屈折率を整合させにくく、高アスペクト比の隔
壁パターンが形成可能な感光性ペーストが得られにく
い。

【００１８】そこで、例えばガラス微粒子の主な成分と
その配合量を、酸化物表記で次に示すようなものとする
と、平均屈折率１．５〜１．６５、かつガラス転移点が
４００〜５００℃、ガラス軟化点が４５０〜５５０℃の
ガラス微粒子となり、ガラス基板のガラス転移点の６０
０℃以下で隔壁パターンを焼成することができる点で好
ましい。

【００１９】酸化リチウム３〜１０重量％酸化珪素１５〜５０重量％酸化硼素１５〜４０重量％酸化バリウム２〜１５重量％酸化アルミニウム６〜２５重量％ガラス微粒子が、酸化リチウムを３〜１０重量％含有す
ることによって、ガラス軟化点、熱膨張係数のコントロ
ールが容易になるだけでなく、ガラス微粒子の平均屈折
率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈
折率差を小さくすることが容易になる。

【００２０】上記の組成において、酸化リチウムの代わ
りに、酸化ナトリウム、酸化カリウムなどのアルカリ金
属酸化物を用いてもよいが、感光性ペーストの安定性の
点で酸化リチウムが好ましい。また酸化カリウムを用い
た場合は、比較的少量の添加でも屈折率の制御ができる
利点があることから、アルカリ金属酸化物の中でも、酸
化リチウムと酸化カリウムの添加が有効である。アルカ
リ金属酸化物の添加量はペーストの安定性を向上させる
点からも１０重量％以下が好ましく、より好ましくは８
重量％以下である。

【００２１】酸化珪素は、１５〜５０重量％の範囲で配
合することが好ましい。１５重量％以上であると隔壁の
緻密性、強度や安定性、熱膨張係数に優れ、ガラス基板
とのミスマッチが起こることがない。また、５０重量％
以下であると、ガラス軟化点が低くなり、ガラス基板へ
の焼き付けが容易になるなどの利点がある。

【００２２】酸化硼素は、１５〜４０重量％の範囲で配
合することが、ガラス微粒子の安定性や隔壁の強度の点
で好ましい。この範囲にすることによって、電気絶縁
性、強度、熱膨張係数、隔壁層の緻密性などの電気、機
械および熱的特性を向上することができる。１５重量％
未満では隔壁層の強度が低下し、ガラスの安定性が低下
する。

【００２３】酸化バリウムは、２〜１５重量％の範囲で
配合することが、ガラス焼き付け温度および電気絶縁性
の制御の点、隔壁の安定性や緻密性の点から好ましい。

【００２４】酸化アルミニウムは、６〜２５重量％の範
囲で配合することが好ましい。酸化アルミニウムはガラ
スの歪み点を高めるために添加される。６重量％以上で
あることが隔壁の強度の点で好ましく、２５重量以下で
あることが、ガラスの軟化点が高くなり過ぎずガラス基
板上に焼き付けが容易であり、緻密な隔壁を６００℃以
下の焼き付け温度で得ることができる点で好ましい。

【００２５】上記した成分の他に、酸化物表記で酸化亜
鉛、酸化カルシウム、あるいは酸化マグネシウムが配合
されてもよい。

【００２６】酸化亜鉛は、１．５〜１０重量％の範囲で
配合されることが好ましい。１．５重量％以上である
と、隔壁の緻密性向上効果の点で好ましい。また１０重
量％以下であると、ガラス基板上に焼き付けする温度が
低くなり過ぎず制御しやすく、また絶縁抵抗が高くなり
好ましい。

【００２７】酸化カルシウムは、２〜１０重量％の範囲
で配合するのが好ましく、ガラスを溶融し易くすると共
に熱膨張係数を制御することができる。２重量％より少
ないと、歪み点が低くなる。

【００２８】酸化マグネシウムは、１〜１０重量％の範
囲で配合するのが好ましく、ガラスを溶融し易くすると
共に熱膨張係数を制御することができる。１０重量％を
超えるとガラスが失透する傾向があり好ましくない。

【００２９】また、ガラス微粒子中に、酸化チタン、酸
化ジルコニウムなどを含有することができるが、その量
は２重量％未満であることが好ましい。酸化ジルコニウ
ムは、ガラス軟化点、ガラス転移点および電気絶縁性を
制御するのに効果がある。

【００３０】その他、本発明において感光性ペースト中
に、無機微粒子として、上記のような特性を有するガラ
ス微粒子の他に、フィラーとなるガラス軟化点６００℃
以上の高融点ガラスやセラミックスを含んでもよい。こ
れらのフィラー成分の添加により、焼成時の収縮率を小
さくし、形成される隔壁の内部応力を小さくすることが
できる。

【００３１】ガラス微粒子の作製法としては、例えばリ
チウム、珪素、アルミニウム、硼素、バリウムおよび亜
鉛の化合物を所定の配合組成となるように混合し、９０
０〜１２００℃で溶融後、急冷し、ガラスフリットにし
てから粉砕して微細な粉末にする方法が挙げられる。原
料には高純度の炭酸塩、酸化物、水酸化物などが使用で
きる。また、ガラス微粒子の種類や組成によっては９
９．９９％以上の超高純度なアルコキシドや有機金属の
原料を使用し、ゾル・ゲル法で均質に作製した粉末を使
用すると高電気抵抗で緻密な気孔の少ない、高強度な隔
壁が得られるので好ましい。

【００３２】ガラス微粒子の粒子径は、作製しようとす
る隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、５０体積％
粒子径（平均粒子径Ｄ５０）が１〜６μｍ、最大粒子径
サイズが３０μｍ以下、比表面積１．５〜４ｍ²／ｇで
あることが好ましい。より好ましくは１０体積％粒子径
（Ｄ１０）０．４〜２μｍ、５０体積％粒子径（Ｄ５
０）１．５〜６μｍ、９０体積％粒子径（Ｄ９０）：４
〜１５μｍ、最大粒子径サイズが２５μｍ以下、比表面
積１．５〜３．５ｍ²／ｇである。さらに好ましくはＤ
５０が２〜３．５μｍ、比表面積１．５〜３ｍ²／ｇで
ある。

【００３３】ここで、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それ
ぞれ、粒径の小さいガラス微粒子から１０体積％、５０
体積％、９０体積％のガラスの粒子径である。

【００３４】上記のような粒度分布をもったガラス微粒
子を用いることにより、ガラス微粒子の充填性が向上
し、感光性ペースト中のガラス微粒子比率を増加させて
も気泡を巻き込むことが少なくなり、余分な光散乱を小
さくできるため、好ましい隔壁パターン形状が形成でき
る。

【００３５】ガラス微粒子の粒度が上記範囲より小さい
と、比表面積が増えるため、ガラス微粒子が凝集し易く
なり、感光性有機成分内での分散性が下がり、気泡を巻
き込みやすくなる。そのため光散乱が増え、隔壁中央部
の太り、底部の硬化不足が生じやすい。またガラス微粒
子の粒度が上記範囲より大きいと、微粒子のかさ密度が
下がるため充填性がさがり、感光性有機成分の量が不足
し気泡を巻き込みやすくなり、やはり光散乱を起こしや
すくなる。ガラス微粒子の粒度分布が上記範囲にある
と、ガラス微粒子充填比率が高く焼成収縮率を低くで
き、焼成時にパターン形状が崩れず、目的とする隔壁形
状が安定して得られる。

【００３６】次に、感光性ペーストのもう一つの必須成
分である感光性有機成分について説明する。

【００３７】本発明において感光性有機成分とは、感光
性ペーストから無機微粒子成分を除いた残りの部分を意
味し、感光性ペーストの１５〜３５重量％を占めること
が好ましい。

【００３８】具体的な感光性有機成分としては、感光性
モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポリマのうち少なくと
も1種から選ばれた感光性成分の他に、バインダー、光
重合開始剤、増感剤、紫外線吸光剤、重合禁止剤、可塑
剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、その他必要に応じた
添加剤等が挙げられる。

【００３９】感光性モノマとしては、活性な炭素ー炭素
二重結合を有する化合物が挙げられるが、官能基として
ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート
基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合
物が好ましく挙げられる。

【００４０】特に感光性有機成分中に、感光性モノマと
して多官能アクリレート化合物および／または多官能メ
タクリレート化合物を１０〜８０重量％含有することが
好ましい。多官能アクリレート化合物および／または多
官能メタクリレート化合物として、多様な種類の化合物
が開発されているので、それらから反応性、屈折率など
を考慮して選択することが可能である。

【００４１】また上記したように感光性有機成分の平均
屈折率を制御する方法として、感光性モノマの屈折率を
制御する方法が簡便であり、特に、屈折率１．５５〜
１．８の感光性モノマを用いることが、感光性有機成分
の平均屈折率を高めることができ好ましい。

【００４２】このような屈折率を有する感光性モノマと
しては、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄
原子を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモ
ノマが好ましく挙げられる。

【００４３】また感光性有機成分として、光反応で形成
される硬化物の物性の向上やペーストの粘度の調整など
の役割を果たすと共に、未露光部の現像性をコントロー
ルする機能を果たす成分として、オリゴマもしくはポリ
マが含まれることが好ましい。

【００４４】これらのオリゴマもしくはポリマとして
は、炭素ー炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成
分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の骨格を
有するものが挙げられる。共重合するモノマとしては、
不飽和カルボン酸などが有用であり、感光後に未露光部
分をアルカリ水溶液で現像できる感光性ペーストとする
ことができる。

【００４５】不飽和カルボン酸の具体的な例として、ア
クリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マ
レイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水
物などが挙げられる。

【００４６】このような側鎖にカルボキシル基などの酸
基を有するオリゴマもしくはポリマの酸価は３０〜１５
０、好ましくは８０〜１２０の範囲になるようにコント
ロールするのがよい。酸価が１５０を越えると、現像許
容幅が狭くなる。また、酸価が３０未満になると未露光
部の現像液に対する溶解性が低下する傾向がある。

【００４７】特に、分子内にカルボキシル基と不飽和二
重結合を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリ
ゴマもしくはポリマを１０〜９０重量％用いることが最
も好ましいが、不飽和二重結合を導入するには、上記の
ようなカルボキシル基を側鎖に有するオリゴマもしくは
ポリマに、グリシジル基やイソシアネート基を有するエ
チレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタク
リル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応さ
せる方法が適用される。エチレン性不飽和化合物を用い
ると、オリゴマもしくはポリマを感光性成分としても用
いることができる点で好ましい。アルカリ水溶液現像性
のためのカルボキシル基数とオリゴマもしくはポリマを
感光性にするエチレン性不飽和基数とは、反応条件によ
り自由に選択することができる。

【００４８】感光性ペースト中にバインダー成分が必要
な場合には、バインダーとしてポリビニルアルコール、
ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、
アクリル酸エステル重合体、それらの共重合体などを用
いることができる。

【００４９】また光重合開始剤を用いる場合は、感光性
ペーストによるパターン形成は、露光された部分の感光
性成分（モノマ、オリゴマ、ポリマ）を重合および架橋
させて現像液に不溶性にすることであり、好ましく用い
られる感光性を示す官能基はラジカル重合性であるた
め、ラジカル種を発生するものから選択することが好ま
しい。

【００５０】さらに光重合開始剤には、１分子系直接開
裂型、イオン対間電子移動型、水素引き抜き型、２分子
複合系など機構的に異なる種類があるが、本発明におい
ては、１分子系直接開裂型から選ばれた化合物が好まし
く挙げられる。例えば、ベンゾインアルキルエーテルや
α，α−ジメトキシ−α−モルフォリノアセトフェノ
ン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン
などである。また、過酸化物、ホスフィンオキシド、硫
黄化合物、ハロゲン化合物なども用いられる。上記した
光重合開始剤を１種または２種以上使用することがで
き、その添加量としては、感光性成分に対して１〜３０
重量％が好ましい。

【００５１】さらに光重合開始剤と共に増感剤を使用
し、感度を向上させたり(化学増感)、反応に有効な波長
範囲を拡大する(分光増感)こともできる。増感剤の作用
機構にも種々のものがあるが、三重項増感剤と称される
ものが最もよく使われる。それらの中には、炭化水素系
化合物、アミノ・ニトロ化合物、キノン類、キサントン
類、アンスロン類、ケトン類、有機色素類がある。これ
らの中には光重合開始剤としての作用を有するものも含
まれている。本発明において用いられる感光性ペースト
では、キサントン類から選ばれた化合物が好ましく使用
され、具体的には2,4-ジエチルチオキサントン、イソプ
ロピルチオキサントンなどが例示される。上記した増感
剤は１種または２種以上使用することができ、その添加
量としては感光性ペーストに共存するガラス微粒子の量
を考慮し、感光性成分に対して１〜３０重量％が好まし
い。

【００５２】さらに感光性ペーストには、紫外線吸光剤
が含まれることが優れた形状のパターン加工のために有
効である。紫外光の吸収効果の高い化合物を添加するこ
とによって、特に高アスペクト比、高精細、高解像度が
得られる。紫外線吸光剤としては有機系染料からなるも
の、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸光係
数を有するものが好ましく用いられる。

【００５３】具体的にはアゾ系染料、アミノケトン系染
料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノ
ン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノア
クリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息
香酸系染料などが使用できる。これらの中でも、アゾ系
およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機系染料は
紫外線吸光剤として添加した場合にも、焼成後の隔壁中
に残存しないので絶縁特性の低下を少なくできるので好
ましい。

【００５４】紫外線吸光剤としての有機系染料の添加量
は、感光性ペースト中に分散される無機微粒子に対して
０．０３〜０．５重量％であり、より好ましくは０．０
５〜０．２重量％である。

【００５５】この紫外線吸光剤は、これを予め有機溶媒
に溶解した溶液を感光性ペースト作製時に混練する方法
や、該溶液中に無機微粒子を混合し乾燥する方法があ
る。後者の方法では無機微粒子の個々の粒子表面に有機
系染料膜をコートしたいわゆるカプセル状の無機微粒子
が作製できる。これにより、無機微粒子の界面における
反射が抑制され、不要な光反応が阻止されるので、パタ
ーンの太りや残膜発生が防止されるものと推定される。

【００５６】さらに感光性ペーストには、必要に応じ
て、保存時の熱安定性を向上させるための重合禁止剤、
アクリル系共重合体の酸化を防ぐための酸化防止剤、そ
の他可塑剤などを含んでもよい。

【００５７】感光性ペーストは、例えば、無機微粒子、
紫外線吸光剤、感光性モノマ、感光性オリゴマもしくは
ポリマ、光重合開始剤、増感剤、その他の添加剤および
溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合した
後、3本ローラや混練機で均質に混合分散し作製され
る。

【００５８】感光性ペーストの粘度は、ガラス微粒子、
感光性成分、増粘剤、可塑剤などの添加割合で調整され
るが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ(センチ・ポ
イズ）であり、ガラス基板に塗布する時の塗布方法に応
じて、粘度を有機溶媒により調整することもできる。例
えば、ガラス基板への塗布をスクリーン印刷法で１回塗
布して膜厚１０〜２０μｍを得るには５万〜２０万ｃｐ
ｓが好ましい。スピンコート法には２０００〜５０００
ｃｐｓ、ブレードコーター法やダイコーター法などを用
いる場合は１万〜２万ｃｐｓが好ましい。

【００５９】この時使用される有機溶媒としては、メチ
ルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、
メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘ
キサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、
イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチ
ルスルフォキシド、γ-ブチロラクトンなどやこれらの
うちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が挙げられ
る。

【００６０】本発明において感光性ペーストを用いた隔
壁パターン形成と焼成による隔壁形成は、例えば次のよ
うに行うことができる。

【００６１】先ず、ガラス基板上に感光性ペーストを塗
布する。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコ
ーター法、ロールコーター法、スリットダイ法、ドクタ
ーブレード法など一般的な方法を用いることができる。
塗布厚みは、塗布回数、スクリーン印刷のスクリーンメ
ッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整でき
る。

【００６２】この時ガラス基板は必要に応じて表面処理
されたもの、または誘電体層を形成したものであっても
よい。

【００６３】本発明においては、ここで異なる組成を有
する少なくとも２種類の感光性ペーストを積層して塗布
することが必要である。

【００６４】異なる組成とは、無機微粒子および感光性
有機成分が高アスペクト比で高精細な隔壁パターンを形
成するのに基本的に必要な特性を満足する上記範囲にお
いて、１つの感光性ペーストと他の感光性ペーストの成
分特性や配合量が異なることを意味するものである。

【００６５】具体的には、ガラス微粒子として、平均屈
折率が１．５〜１．６５の範囲にあり、ガラス転移点が
４００〜５００℃、ガラス軟化点が４５０〜５５０℃の
範囲にあるという基本特性は共通に有するものであって
も、その平均粒子径が異なる場合、粒度分布が異なる場
合、ガラス微粒子が紫外線吸光剤で処理されているかい
ないか、感光性ペースト中の含有量の差、フィラー成分
の有無などにより、感光性ペーストの組成を異なるもの
とすることができる。

【００６６】また感光性有機成分においては、感光性モ
ノマの種類と配合量、感光性オリゴマもしくはポリマの
種類と配合量、光重合開始剤の種類と配合量、増感剤の
種類と配合量あるいはその有無、その他の添加剤の有無
や種類、配合量など多くの要因で異なる組成が考えられ
る。このような変更により感光性ペーストの感光特性を
変化させることが出来る。上記のような組成成分の種々
の変更は、感度の変化として容易に観測することがで
き、感光性ペーストの感度は、一定量の露光を与えた場
合に現像液に対してどれだけ不溶化しているかを尺度に
して測定できる。

【００６７】最も直接的に感度に影響を及ぼすものとし
ては、光重合開始剤の添加量や増感剤の添加量である。
このため感光性有機成分に含有される光重合開始剤の量
や増感剤の量を変更した組成を有する感光性ペーストを
適用することにより、異なる組成を有する少なくとも２
種類の感光性ペーストを得ることが容易にできる。

【００６８】後述するように、特に上層を形成する感光
性ペースト程これらの添加量を少なくし露光感度を低く
することが好ましく、光重合開始剤として光開裂型の化
合物と水素引き抜き型のものとを使い分ける方法も有効
である。光反応性が異なる感光性モノマを使用して、光
硬化物としての物性（現像液に対する溶解性）の異なる
感光性ペーストを設計することも可能である。

【００６９】本発明では、感光性有機成分の中に感光性
成分として、分子内にカルボキシル基と不飽和二重結合
を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマも
しくはポリマを１０〜９０重量％用いることが好ましい
が、分子内の官能基の導入率をコントロールすること
で、光反応性と現像液溶解性を変化させることが可能で
あり、これらの比率の異なるオリゴマもしくはポリマを
用いて異なる組成の感光性ペーストを構成することもで
きる。

【００７０】隔壁の上層に塗布された感光性ペーストほ
ど、多くの露光量に曝されるので、余り感度が高いと散
乱光による不要な光硬化を起こし、頂部に出っ張った太
りを生じることがあるので、上層に塗布される感光性ペ
ーストほど、感度が低く、現像液に溶解しやすい感光性
オリゴマまたはポリマを用いることがパターン形成性の
点で好ましい。従って、上層ほどカルボキシル基と反応
する側鎖二重結合の導入量を減らした成分を用い、下層
ほど多くの側鎖二重結合を導入したオリゴマもしくはポ
リマを用いるのが好ましい。

【００７１】しかしながら、このような比較的低分子量
の成分は、重ねて塗布された複数の塗布膜の間で経時的
に拡散移動が起こる可能性が高いので、パターン形成ま
での処理を迅速に行う必要がある。このような特性を利
用して最下層と最上層に所定の成分を配合し、それぞれ
を塗布膜内で濃度勾配を有するように分布させることも
可能であり、光反応特性をコントロールすることもでき
る。

【００７２】さらに、無機微粒子成分と感光性有機成分
の量を変えることによっても種々の異なる組成を有する
感光性ペーストを実現できる。このような組成の異なる
複数種の感光性ペーストを重ねて塗布することにより、
露光によるパターン形成挙動の差および焼成過程におい
ての収縮率の差などを利用して隔壁の形状特性などを所
望のものにコントロールすることが可能である。

【００７３】例えば、本発明において感光性ペーストの
無機微粒子と感光性有機成分の配合割合は６５／３５〜
８５／１５が好ましいが、この範囲において、上層に用
いられる感光性有機成分の比率が、その下層に用いられ
る感光性有機成分の比率より高いこと、言い換えれば、
下層ほど無機微粒子配合量の多い感光性ペーストを用
い、上層ほど無機微粒子配合量の少ない感光性ペースト
を用いた場合には、焼成における収縮率が上部ほど大き
いため、下部が太く、上部が細い形状の隔壁を得ること
が可能になる。このような形状の隔壁においては、蛍光
体ペーストの塗布の適合性が良好であると共に、開口率
を大きくすることができるので明るいディスプレイを得
ることができるという利点がある。このように無機微粒
子の配合量が感光性ペーストの上層から下層に向かって
増加していく場合には、上部のほど光線透過率が大きい
ので光を下部に導くという点においても好ましい。

【００７４】本発明の複数の組成の感光性ペーストを用
いる方法においては、隔壁が形成された背面ガラス基板
と前面ガラス基板とを張り合わせて構成されるパネルに
おける誤放電などのトラブルを防ぐために、隔壁頂部の
平滑性を向上する目的で、隔壁パターンの上層を形成す
る感光性ペーストと、下層を形成する感光性ペーストに
おいて、粒径およびトップサイズをコントロールした無
機微粒子を用いることにも効果的に適用することも好ま
しい。

【００７５】すなわち、上層を形成する感光性ペースト
中の無機微粒子の粒径を下層を形成感光性ペースト中の
無機微粒子の粒径より細かくすることが好ましい。既に
記述したように、感光性ペーストに好ましく用いられる
ガラス微粒子の平均粒子径は１〜６μｍ、最大粒子径が
３０μｍ以下であることが好ましい。一方、粒子径が余
り細かくなり過ぎると光の散乱による弊害が起こる。従
って、この範囲において、形成される隔壁頂部の平滑性
を向上するためには、上層ほど平均粒子径の小さいガラ
ス微粒子を含有した感光性ペーストを用いるのが好まし
い。特に、これらのガラス微粒子の粒径条件のうち、最
大粒子径をコントロールすることが重要であり、下層を
形成する感光性ペーストにおけるガラス微粒子の最大粒
子径より、上層を形成の感光性ペーストにおける小さい
最大粒子径を有するガラス微粒子を使用することが好ま
しい。このような条件を満足する粒子径の小さいガラス
微粒子はコスト高であるが、これを上層のみに使用する
ことにより、優れた特性の隔壁を経済的に形成すること
ができる。

【００７６】上記した方法で感光性ペーストを塗布し乾
燥した後、露光装置を用いて露光を行う。本発明におい
て露光は通常のフォトリソグラフィ技術で行われるよう
に、フォトマスクを介して行われる。この際にフォトマ
スクを感光性ペーストの塗布膜表面に密着する方法ある
いは一定の間隔（例えば８０〜１５０μｍ）をあけて行
うプロキシミティー露光法のいずれを用いてもよい。露
光に使用される活性光線は、紫外線が最も好ましく、そ
の光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高
圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用される。超高圧水
銀灯を光源とした平行光線を用いプロキシミティー露光
機を用いるのが一般的である。露光条件は感光性ペース
トの塗布厚みによって異なるが、３〜５０ｍＷ／ｃｍ²
の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒〜３０分間露光を
行うことが好ましい。

【００７７】ここで現像後・焼成前の隔壁パターンの線
幅Ｌ２に対してフォトマスクの線幅Ｌ１が次式を満足す
ることが所望の線幅をえるために好ましい。

【００７８】Ｌ２／Ｌ１＝１．１〜５Ｌ２／Ｌ１が１．１未満では、現像後の隔壁パターンの
線幅に対してマスクの線幅が広くなりすぎるため、所望
の線幅より太くなりやすい。これを回避するために露光
量を低くすると、例えば焼成前の隔壁高さ１３０〜１８
０μｍを得る場合、パターン下部まで十分光硬化反応が
進まないため、現像時にはがれる問題が生じ好ましくな
い。また、現像時のはがれを回避するために、露光量を
低くするかわりに現像時間を長くすることによって隔壁
パターンの線幅を縮小する事も考えられるが、この方法
によると、不溶化部分の隔壁パターンが現像液によって
膨潤し、蛇行を生じるため事実上パターン形成が難し
い。

【００７９】Ｌ２／Ｌ１が５を越えると、隔壁パターン
の線幅に対してマスクの線幅が細すぎるようになり、所
望の線幅を得るには、露光量を大きくする必要がある。
たとえば焼成前高さ１３０〜１８０μｍで所望の線幅を
得る場合パターン底部まで硬化が進行するとともに光散
乱の効果が大きくなり、断面がいびつな台形形状にな
り、さらに露光量が大きくなると隣接するパターンの下
面が連結し、残膜が生じることがある。このため十分な
放電空間を確保できなくなり、パネルの輝度が低下し、
好ましくない。さらに隔壁ピッチが１００〜１６０μｍ
の狭い範囲ではマスクの遮光部分以外に光が散乱され
て、硬化反応が進み、現像時に残存する膜を生じること
がある。より好ましくは、Ｌ２／Ｌ１＝１．１〜３の範
囲が、開口率の確保、倒れ、蛇行の回避の点からすぐれ
ている。

【００８０】また焼成後の隔壁の線幅Ｌ３は次式を満足
することが好ましい。

【００８１】Ｌ３／Ｌ２＝０．６〜０．８５Ｌ３／Ｌ２が０．６未満では隔壁の上端が丸みを帯び、
パネル組立時の対向基板との接触面積が小さくなり、放
電時に十分な絶縁特性が得られにくい。Ｌ３／Ｌ２が
０．８５を越える焼成条件では焼結が不十分となり、気
孔率が高くなり、十分な硬度、密着性、絶縁性が得られ
にくい。

【００８２】従って、焼成後の隔壁の線幅Ｌ３とフォト
マスクの線幅Ｌ１は、次式を満足することが好ましい。

【００８３】Ｌ３／Ｌ１＝０．８〜３．５この範囲にあれば、剥がれ、倒れ、蛇行のない隔壁を容
易に得ることができる。

【００８４】なおＬ１、Ｌ２、Ｌ３の各線幅は、高さが
半分のところの幅、すなわち半値幅を意味するものとす
る。

【００８５】露光後、露光部分と未露光部分の現像液に
対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、
浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。現像
液には、感光性ペースト中の有機成分、特に感光性オリ
ゴマもしくはポリマが溶解可能な溶液を用いる。本発明
に用いられる感光性ペーストにおいて、感光性オリゴマ
もしくはポリマはカルボキシル基を側鎖に有することが
好ましく、この場合はアルカリ水溶液で現像することが
できる。

【００８６】アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウ
ム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムの水溶液などが
使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時
にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。

【００８７】有機アルカリとしては、一般的なアミン化
合物を用いることができる。具体的には、テトラメチル
アンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアン
モニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエ
タノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃
度は０．０５〜５重量％が好ましく、より好ましくは
０．１〜１重量％である。アルカリ濃度が低すぎれば可
溶部が完全に除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、
露光部のパターンを剥離させたり、侵食したりするおそ
れがある。現像時の温度は、２０〜４０℃で行うことが
工程管理上好ましい。

【００８８】感光性ペーストを塗布し露光・現像の工程
を経て形成された隔壁パターンは次に焼成炉で焼成され
て、有機成分を熱分解して除去し、同時に無機微粒子成
分を溶融させて無機質の隔壁を形成する。焼成雰囲気や
温度は、感光性ペーストやガラス基板の特性によって異
なるが、空気中、窒素、水素などの雰囲気で焼成される
ことが好ましい。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉や
ベルト式の連続型焼成炉を用いことができる。

【００８９】バッチ式の焼成を行うには通常、隔壁パタ
ーンが形成されたガラス基板を室温から５００℃前後ま
で数時間かけてほぼ等速で昇温した後、さらに焼成温度
として設定された４６０〜５８０℃に３０〜４０分間で
上昇させて、約１５〜３０分間保持して焼成を行う。焼
成温度は用いるガラス基板のガラス転移点より低くなけ
ればならないので自ずから上限が存在する。焼成温度が
高すぎたり、焼成時間が長すぎたりすると隔壁の形状に
ダレなどの欠陥が発生する。またこの時、感光性有機成
分に含まれる感光性モノマ、感光性オリゴマもしくはポ
リマ、種々の添加剤の熱分解特性と無機微粒子成分の熱
特性が不釣り合いであると、隔壁が褐色に着色したり、
隔壁が基板から剥がれたりする欠陥が発生するので、こ
れらの点も踏まえて各成分の選択を行うとよい。

【００９０】本発明において形成される隔壁は、ピッチ
が１００〜２５０μｍ、線幅（半値幅：高さが半分のと
ころの幅）が１５〜５０μｍ、高さが５０〜１７０μｍ
の高アスペクト比かつ高精細のものが好ましい。

【００９１】以下に本発明を実施例を用いて具体的に説
明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではな
い。また実施例中、特に記載しない限り％は重量％を意
味するものとする。

【００９２】

【実施例】実施例１ガラス微粒子として、酸化物表記での組成が、Ｌｉ
₂Ｏ：６．７％、ＳｉＯ₂：２２％、Ｂ₂Ｏ₃：３２％、Ｂ
ａＯ：３．９％、Ａｌ₂Ｏ₃：１９％、ＺｎＯ：２．２
％、ＭｇＯ：５．５％、ＣａＯ：４．１％のものを用意
した。このガラス微粒子のガラス転移点は４９７℃、ガ
ラス軟化点は５３０℃、平均粒子径は２．３μｍ、トッ
プサイズ２２μｍ、ｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率は
１．５９の特性を有している。

【００９３】このガラス微粒子１００重量部に対し、ス
ダンIV（紫外線吸光剤）０．０８重量部でコーティング
処理した。

【００９４】このコーティング処理を行ったガラス微粒
子７０重量部、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）１５重量
部、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）１５重量部を混合し
たペーストに、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）３．６重
量部を加えた感光性ペーストＡと増感剤（ＤＥＴＸ−
Ｓ）３．６重量部を加えた感光性ペーストＢとを作製し
た。

【００９５】感光性ペーストＡと感光性ペーストＢの同
一厚さの塗布膜に一定量の露光を与えて光硬化させて、
アルカリ現像液への不溶解度で比較した感度は、感光性
ペーストＡの方が高かった。

【００９６】本実施例では、より感度の高い感光性ペー
ストＡを下層に適用し、６０μｍの乾燥厚さに塗布し
た。次いで、その上に感光性ペーストＢを１００μｍの
乾燥厚さに塗布した。なお、感光性ペーストの塗布は、
スクリーン印刷法によりソーダガラス基板上に、均一に
行った。塗布膜のピンホールなどの発生を回避するため
に塗布・乾燥を数回以上繰り返し行った。途中の乾燥は
８０℃で１０分間ずつ行い、所定の塗布厚みに達した
後、８０℃で４０分間乾燥した。

【００９７】このように形成した組成の異なる２種の感
光性ペーストからなる塗布膜に対して、フォトマスク
（ストライプ状パターン、ピッチ１５０μｍ、線幅２０
μｍ）を介してプロキシミティ露光（塗布膜表面とフォ
トマスクとの間隔は１００μｍ）を行った。露光量は、
２０ｍＷ／ｃｍ²の出力の超高圧水銀灯で０．８Ｊ／ｃ
ｍ²であった。その後、３５℃に保持したモノエタノー
ルアミンの０．３重量％水溶液をシャワーで１２０秒間
かけることにより現像し、水洗してガラス基板上に隔壁
パターンを形成した。

【００９８】形成された隔壁パターン断面の電子顕微鏡
観察の結果、パターンの上部の側面は垂直に形成されて
おり、下部はやや下方に広がった台形をしていることが
明らかになった。

【００９９】得られた形状は上部線幅４０μｍ、半値幅
４５μｍ、下部線幅６０μｍ、高さ１６０μｍであっ
た。隔壁パターンの倒れや上部においての蛇行などは観
察されなかった。

【０１００】得られた隔壁パターンを有するガラス基板
を５７０℃、１５分焼成して、上部線幅２８μｍ、半値
幅３２μｍ、下部線幅４２μｍ、高さ１００μｍのプラ
ズマディスプレイパネル用隔壁を作製することができ
た。

【０１０１】実施例２実施例１と同じガラス微粒子を用い配合量を変えて３種
の感光性ペーストを作成し、これを用いて隔壁の形成を
行った。

【０１０２】すなわち感光性ペーストＣは、ガラス微粒
子の含有量が８５重量％、感光性ペーストＤは７０重量
％、そして感光性ペーストＥは６５重量％とした。また
感光性ペーストＣの１５重量％、感光性ペーストＤの３
０重量％および感光性ペーストＥの３５重量％は、それ
ぞれ共通組成の感光性有機成分であり、それは、次のよ
うに配合したものである。すなわち、感光性ポリマ（Ｘ
−４００７）１５重量部、感光性モノマ（ＭＧＰ４０
０）１５重量部、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）４．８
重量部、増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）４．８重量部である。

【０１０３】実施例１と同様にして、基板上に感光性ペ
ーストＣ、感光性ペーストＤそして感光性ペーストＥの
順にほぼ同じ乾燥厚さ分を塗布して、全体の塗布膜乾燥
厚さを１８０μｍとした。

【０１０４】パターン露光の際、フォトマスクを感光性
ペースト塗布膜表面に密着した他は実施例１を繰り返
し、頂部線幅がほぼマスク線幅と同じで下方に向かって
緩やかに広がるテーパーの付いた台形状の隔壁パターン
が得られた。

【０１０５】形成後の形状は上部線幅４２μｍ、半値幅
５０μｍ、下部線幅６５μｍ、高さ１８０μｍであっ
た。

【０１０６】実施例１と同様に焼成したところ、用いた
３種の感光性ペーストはガラス微粒子含有量が異なり、
焼成においての収縮率が異なるので、焼成後の隔壁は側
面に段差のある３層の構造を有していた。形状は上部線
幅２１μｍ、半値幅３５μｍ、下部線幅５２μｍであっ
た。

【０１０７】このような隔壁構造は、隔壁の倒れや剥が
れを起こしにくく、上部の隔壁幅が小さいので開口部が
大きくなり、明るいディスプレイが得られるという利点
がある。さらに、側面への蛍光体ペーストの塗布にも好
都合な点で好ましい。

【０１０８】実施例３ガラス基板上に、下層として実施例２で用いた感光性ペ
ーストＤを塗布し乾燥厚さ１５０μｍの層を形成した
後、含有するガラス微粒子のトップサイズを６μｍにコ
ントロールした以外は感光性ペーストＤと同様の感光性
ペーストＦを乾燥厚さ３０μｍ塗布した。なお塗布方法
は実施例２と同様とする。

【０１０９】次に実施例２と同様に密着して露光、つい
で現像したところ、得られた形状は焼成前に上部線幅２
７μｍ、半値幅４６μｍ、下部線幅７０μｍ、高さ１８
０μｍであった。実施例２と同様にして焼成したとこ
ろ、上部線幅１９μｍ、半値幅３２μｍ、下部線幅４９
μｍ、高さ１３０μｍであった。

【０１１０】焼成して得られた隔壁の頂部は、凹凸が１
μmであり、実施例２の３μmよりも小さかった。

【０１１１】略記号の説明Ｘ−４００７：４０重量％のメタクリル酸、３０重量％
のメチルメタクリレートおよび３０重量％のスチレンか
らなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量の
グリシジルメタクリレートを付加反応させた重量平均分
子量４３，０００、酸価９５の感光性ポリマ。

【０１１２】ＭＧＰ４００：X₂N-CH(CH₃)-CH₂-(OCH₂CH(CH₃))n-NX₂ X=-CH₂CH(OH)-CH₂O-CO-C(CH₃)=CH₂ n=2〜10 ＩＣ−３６９：Irgacure369（チバガイギー社製品）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフ
ォリノフェニル）ブタノン−１ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントンスダンIV ：アゾ系有機染料、化学式Ｃ₂₄Ｈ₂₀Ｎ
₄Ｏ、分子量３８０．４５

【０１１３】

【発明の効果】本発明のプラズマディスプレイパネル用
隔壁の製造方法は、ガラス基板上に、無機微粒子と感光
性化合物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペース
トを塗布・乾燥後、フォトマスクを介して露光し、現
像、焼成の工程を経てプラズマディスプレイパネル用隔
壁を製造するに際し、異なる組成からなる少なくとも２
種類の感光性ペーストを積層して塗布するものであるた
め、隔壁の形状を所望の通りにコントロールできる。こ
れにより、高アスペクト比で高精細の隔壁が形成でき、
蛍光体ペーストの塗布性の改良、ディスプレイ開口率の
向上、隔壁形成の歩留まりの向上を図ることができる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ガラス基板上に、無機微粒子と感光性化合
物を含む有機成分を必須成分とする感光性ペーストを塗
布・乾燥後、フォトマスクを介して露光し、現像、焼成
の工程を経てプラズマディスプレイパネル用隔壁を製造
するに際し、異なる組成からなる少なくとも２種類の感
光性ペーストを積層して塗布することを特徴とするプラ
ズマディスプレイパネル用隔壁の製造方法。
【請求項２】上層に用いられる感光性ペーストの感度
が、その下層に用いられる感光性ペーストの感度より低
いことを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレ
イパネル用隔壁の製造方法。
【請求項３】無機微粒子が、ガラス微粒子であることを
特徴とする請求項１または２記載のプラズマディスプレ
イパネル用隔壁の製造方法。
【請求項４】上層に用いられる感光性ペースト中のガラ
ス微粒子の粒径が、その下層に用いられる感光性ペース
ト中のガラス微粒子の粒径より細かいことを特徴とする
請求項３記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁の製
造方法。
【請求項５】上層に用いられる感光性ペーストにおける
感光性化合物を含む有機成分の比率が、その下層に用い
られる感光性ペーストにおける感光性化合物を含む有機
成分の比率より高いことを特徴とする請求項１〜４いず
れか１項記載のプラズマディスプレイパネル用隔壁の製
造方法。
【請求項６】ガラス微粒子が、ガラス転移点４００〜５
００℃、ガラス軟化点４５０〜５５０℃であることを特
徴とする請求項３または４記載のプラズマディスプレイ
パネル用隔壁の製造方法。
【請求項７】ガラス微粒子の平均屈折率が１．５〜１．
６５の範囲であることを特徴とする請求項３、４および
６項いずれか１項記載のプラズマディスプレイパネル用
隔壁の製造方法。
【請求項８】感光性化合物を含む有機成分が、感光性化
合物として分子内にカルボキシル基と不飽和二重結合を
含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマもし
くはポリマを１０〜９０重量％含むことを特徴とする請
求項１〜７いずれか１項記載のプラズマディスプレイパ
ネル用隔壁の製造方法。
【請求項９】隔壁が、ピッチ１００〜２５０μｍ、線幅
１５〜５０μｍ、高さ５０〜１７０μｍであることを特
徴とする請求項１〜８いずれか１項記載のプラズマディ
スプレイパネル用隔壁の製造方法。
【請求項１０】焼成前の隔壁パターンの線幅Ｌ２に対し
てフォトマスクの線幅Ｌ１が次式を満足することを特徴
とする請求項１〜９いずれか１項記載のプラズマディス
プレイパネルの製造方法。Ｌ２／Ｌ1＝１．１〜５
【請求項１１】焼成前の隔壁パターン線幅Ｌ２に対して
焼成後の隔壁の線幅Ｌ３が次式を満足することを特徴と
する請求項１〜１０いずれか１項記載のプラズマディス
プレイの製造方法。Ｌ３／Ｌ２＝０．６〜０．８５
【請求項１２】焼成後の隔壁の線幅Ｌ３に対してフォト
マスクの線幅Ｌ１が次式を満足することを特徴とする請
求項１〜１１いずれか１項記載のプラズマディスプレイ
の製造方法。Ｌ３／Ｌ１＝０．８〜３．５