KR102618674B1 - 광학 제품 및 그 제조 방법 - Google Patents
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Abstract
기재 위에 금속층을 갖고, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부가 부동태화되어 있는 광학 제품이 제공된다.
Description
본 발명은, 광학 제품 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
렌즈 등의 각종 광학 제품은, 일반적으로 기재의 표면 위에 광학 제품에 원하는 기능을 가져오기 위한 기능성 층을 형성함으로써 제조된다 (예를 들어 특허문헌 1 참조).
특허문헌 1 에는, 기능성 층으로서 금속층을 포함하는 광학 제품이 개시되어 있다. 광학 제품이 금속층을 포함함으로써, 광학 제품에 입사되는 광의 투과나 반사를 컨트롤할 수 있다.
광학 제품에 요망되는 성질로는, 시간 경과에 따른 물성 변화가 적은 것을 들 수 있다.
본 발명의 일 양태는, 금속층을 포함하는 광학 제품으로서, 시간 경과에 따른 물성 변화가 적은 광학 물품을 제공한다.
본 발명의 일 양태는, 기재 위에 금속층을 갖고, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부가 부동태화되어 있는 광학 제품에 관한 것이다.
「부동태」란, 금속이 열 역학적으로는 부식되는 조건에 있으면서 부식을 일으키지 않는 상태를 말하며, 부식이란, 금속이 화학 반응에 의해 표면으로부터 금속이 아닌 상태로 되어 상실되어 가는 것을 말한다. 상기 광학 물품은, 금속층의 표층부가 부동태화되어 있음으로써, 금속층의 부식에서 기인되는 물성 변화, 그 중에서도 투과율 변화를 시간 경과에 따라 억제할 수 있다. 이런 점은, 안정적인 투과율 특성을 보이는 것이 요망되는 광학 물품으로서 바람직하다.
본 발명의 일 양태에 따르면, 기재 위에 금속층을 갖는 광학 제품으로서, 시간 경과에 따른 투과율 변화가 적은 광학 제품을 제공할 수 있다.
이하, 상기 광학 제품 및 그 제조 방법에 대해서 더 상세하게 설명한다.
＜기재＞
기재로서는, 광학 제품에 일반적으로 사용되는 각종 기재를 사용할 수 있다. 기재는, 예를 들어 플라스틱 기재 또는 유리 기재일 수 있다. 유리 기재는, 예를 들어 무기 유리제 기재일 수 있다. 기재로서는, 경량이며 균열되기 어렵다는 관점에서, 플라스틱 기재가 바람직하다. 플라스틱 기재로서는, (메트)아크릴 수지를 비롯한 스티렌 수지, 폴리카보네이트 수지, 알릴 수지, 디에틸렌글리콜 비스알릴카보네이트 수지 (CR-39) 등의 알릴카보네이트 수지, 비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 이소시아네이트 화합물과 디에틸렌글리콜 등의 하이드록시 화합물과의 반응에서 얻어진 우레탄 수지, 이소시아네이트 화합물과 폴리티올 화합물을 반응시킨 티오우레탄 수지, 분자 내에 1 개 이상의 디술파이드 결합을 갖는 (티오)에폭시 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 경화시킨 경화물 (일반적으로 투명 수지라고 불린다.) 을 들 수 있다. 기재로서는, 염색되어 있지 않은 것을 사용해도 되고, 염색되어 있는 것을 사용해도 된다. 예를 들어, 광학 제품이 안경 렌즈인 경우, 기재 (렌즈 기재) 는, 염색되어 있지 않은 렌즈 (이른바 무색 렌즈) 여도 되고, 염색 렌즈여도 된다. 또한, 안경 렌즈의 렌즈 기재의 굴절률은, 예를 들어 1.60 ∼ 1.75 정도일 수 있다. 단, 안경 렌즈의 렌즈 기재의 굴절률은, 상기 범위에 한정되는 것이 아니라, 상기 범위 내에서도 상기 범위로부터 상하로 떨어져 있어도 된다. 본 발명 및 본 명세서에서, 굴절률이란 파장 500 nm 의 광에 대한 굴절률을 말하는 것으로 한다. 또한, 안경 렌즈의 렌즈 기재는, 굴절력을 갖는 렌즈 (이른바 도수 있는 렌즈) 여도 되고, 굴절력이 없는 렌즈 (이른바 도수 없는 렌즈) 여도 된다. 또한, 안경 렌즈는, 단초점 렌즈, 다초점 렌즈, 누진 굴절력 렌즈 등의 각종 렌즈일 수 있다. 안경 렌즈의 종류는, 렌즈 기재 양면의 면 형상에 따라 결정된다. 안경 렌즈의 렌즈 기재 표면은, 볼록면, 오목면, 평면 중 어느 것이어도 된다. 통상의 렌즈 기재 및 안경 렌즈에서는, 물체측 표면은 볼록면, 안구측 표면은 오목면이다. 단, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 「물체측 표면」이란, 안경 렌즈를 구비한 안경이 착용자에게 착용되었을 때에 물체측에 위치하는 표면이고, 「안구측 표면」이란, 그 반대, 즉 안경 렌즈를 구비한 안경이 착용자에게 착용되었을 때에 안구측에 위치하는 표면이다.
＜금속층＞
상기 광학 제품은, 상기 기재 위에 금속층을 갖는다. 본 발명 및 본 명세서에서, 「금속층」은, 금속 원소의 단체 (單體) (순금속) 및 복수의 금속 원소의 합금으로 이루어지는 군에서 선택되는 성분 (이하에서, 간단히 「금속」이라고도 기재한다.) 을 임의의 성막 방법에 의해 퇴적시켜 형성된 막을 의미하고, 성막 시에 불가피적으로 혼입되는 불순물 및 성막을 보조하기 위해서 임의로 사용되는 공지된 첨가제를 제외하면, 금속으로 이루어지는 막이다. 금속층은, 막의 질량에 대하여, 예를 들어 90 ∼ 100 질량％ 를 금속이 차지하는 막일 수 있고, 95 ∼ 100 질량％ 를 금속이 차지하는 막일 수도 있다. 금속 원소로서는, 부동태를 형성할 수 있는 금속 원소, 예를 들어, 크롬족 원소 (예를 들어 크롬 (Cr), 몰리브덴 (Mo), 텅스텐 (W)), 철족 원소 (예를 들어 철 (Fe), 코발트 (Co), 니켈 (Ni)), 니오브 (Nb), 티탄 (Ti) 등의 천이 원소, 귀금속 원소 (예를 들어 구리 (Cu), 은 (Ag), 금 (Au)), 알루미늄 (Al) 등을 들 수 있다. 투과율, 막 안정성, 재료의 입수 용이성 등의 관점에서는, 크롬, 니오브, 티탄 및 알루미늄이 바람직하고, 크롬이 보다 바람직하다. 금속층의 막두께는, 예를 들어 3 ∼ 100 nm 의 범위일 수 있고, 3 ∼ 50 nm 의 범위인 것이 바람직하다. 시간 경과에 따른 투과율 변화의 추가적인 억제의 관점에서는, 금속층의 막두께는, 3 ∼ 30 nm 의 범위인 것이 보다 바람직하고, 3 ∼ 25 nm 의 범위인 것이 더욱 바람직하고, 5 ∼ 25 nm 의 범위인 것이 한층 바람직하고, 10 ∼ 20 nm 의 범위인 것이 한층 더 바람직하다. 한편, 광학 제품의 내구성 향상의 관점에서는, 금속층의 막두께는, 10 ∼ 30 nm 의 범위인 것이 보다 바람직하고, 15 ∼ 30 nm 의 범위인 것이 더욱 바람직하다. 상기 금속층의 막두께는, 공지된 막두께 측정 방법에 의해 구할 수 있다. 이런 점은, 후술하는 각종 층에 대해서도 마찬가지이다. 또한, 금속층의 막두께란, 부동태화된 표층부도 포함하는 막두께를 말하는 것으로 한다.
금속층은, 공지된 성막 방법에 의해 기재 위에 형성할 수 있다. 성막 용이성의 관점에서는, 성막은 증착에 의해 실시하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 금속층은, 증착막인 것이 바람직하다. 증착막이란, 증착에 의해 성막된 막을 의미한다. 본 발명 및 본 명세서에서의 「증착」에는, 건식법, 예를 들어 진공 증착법, 이온 플레이팅법, 스퍼터링법 등이 포함된다. 진공 증착법에서는, 증착 중에 이온 빔을 동시에 조사하는 이온 빔 어시스트법을 이용해도 된다.
상기 금속층은, 기재측과는 반대측의 표층부가 부동태화되어 있다. 본 발명 및 본 명세서에서, 「표층부」란, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표면에서부터 층 내부에 걸친 일부 영역이다. 표층부의 두께는, 금속층의 막두께 미만으로, 예를 들어 금속층의 막두께의 80 ％ 이하의 두께, 70 ％ 이하의 두께, 60 ％ 이하의 두께 또는 50 ％ 이하의 두께일 수 있다. 또한, 표층부의 두께는, 금속층의 막두께 미만으로, 금속층의 막두께의 5 ％ 이상의 두께, 10 ％ 이상의 두께, 15 ％ 이상의 두께, 20 ％ 이상의 두께, 25 ％ 이상의 두께 또는 30 ％ 이상의 두께일 수 있다. 예를 들어, 표층부의 두께는, 금속층의 막두께 미만으로, 1 ∼ 30 nm 의 범위일 수 있고, 1 ∼ 10 nm 의 범위인 것이 바람직하다. 표층부의 두께는, 상세 내용을 후술하는 부동태화 처리의 처리 조건에서 구할 수 있다. 예를 들어, 산소 이온 조사에 의해 산소 이온이 침입하는 침입 깊이를, 표층부의 두께로 할 수 있다. 또는, 표층부의 두께는, X 선 광전자 분광 분석에 의해 구할 수 있다. X 선 광전자 분광 분석은, ESCA (Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) 또는 XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) 로 불리는 분석 방법이다. 상기 금속층의 표층부는, 금속층을 구성하는 금속이 산화되어 부동태화된 금속 산화물의 층일 수 있고, 상기 금속층의 상기 표층부 이외의 부분은 산화에 의한 부동태화가 되어 있지 않은 금속의 층일 수 있다. X 선 광전자 분광 분석에 있어서, 예를 들어 산소 원자가 10 원자％ 이상인 함유율로 검출되는 부분을, 표층부로 판정할 수 있다. X 선 광전자 분광 분석에서는, 산소 원자에 대해서 O1s＿1 스펙트럼을 사용하는 것으로 한다.
상기 금속층의 표층부의 부동태화는, 산화 처리에 의해 실시할 수 있다. 산화 처리는, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표면에서부터 층의 내부로 산소를 도입할 수 있는 방법이면, 어느 방법에 의해 실시해도 된다. 도입되는 산소는, 산화 효율의 관점에서는, 산소 분자보다 활성이 높은 상태인 것이 바람직하고, 예를 들어 산소 이온, 산소 라디칼 (하이드록시 라디칼, 수퍼 옥사이드 아니온 등의 산소 프리 라디칼이 포함된다.) 등일 수 있다. 산소 도입 방법의 구체예로서는, 이온 총(이온 건) 에 의한 조사, 이온 빔 조사, 이온 플레이팅법, RF (Radio Frequency) 라디칼 소스를 사용하는 방법 등을 들 수 있다. 산소 도입시의 각종 조건은, 금속층의 기재측과는 반대측의 표면으로부터 원하는 두께의 영역을 산화 (부동태화) 가능한 조건으로 설정하면 된다. 예를 들어, 산소 도입을 이온 총에 의한 산소 이온 조사에 의해 실시하는 경우, 산소 이온의 조사 시간은, 예를 들어 5 ∼ 60 초간으로 할 수 있고, 이온 총의 가속 전압은 예를 들어 100 ∼ 1000 V, 전류는 예를 들어 100 ∼ 600 ㎃ 로 할 수 있다.
＜임의로 형성될 수 있는 층＞
상기 금속층은, 렌즈 기재의 표면 위에 직접 위치해도 되고, 1 층 이상의 다른 층을 개재하여 간접적으로 기재의 표면 위에 위치해도 된다. 기재와 금속층의 사이에 형성될 수 있는 층으로는, 예를 들어 편광층, 조광 (調光) 층, 하드 코트층 등을 들 수 있다. 하드 코트층을 형성함으로써, 광학 제품의 내구성 (강도) 을 높일 수 있다. 하드 코트층은, 경화성 조성물을 경화시킨 경화층일 수 있다. 하드 코트층으로서 기능할 수 있는 경화층에 대해서는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2012-128135호의 단락 0025 ∼ 0028, 0030 을 참조할 수 있다. 상기 경화층은, 예를 들어 실란 화합물과 금속 산화물 입자를 함유하는 경화성 조성물을 기재 표면에 직접 또는 다른 층을 개재하여 간접적으로 도포하여 도포층을 형성하고, 이 도포층을 경화 처리 (가열, 광 조사 등) 에 의해 경화시켜 형성할 수 있다. 또한, 상기 금속층과 기재의 사이에는, 밀착성 향상을 위한 프라이머층을 형성해도 된다. 프라이머층의 상세 내용에 대해서는, 예를 들어 일본 공개특허공보 2012-128135호의 단락 0029 ∼ 0030 을 참조할 수 있다.
(금속 산화물층)
일 양태에서는, 상기 광학 제품은, 상기 금속층과 기재의 사이에 금속 산화물층 (이하, 「제 1 금속 산화물층」이라고도 기재한다.) 을 가질 수 있다. 다른 일 양태에서는, 상기 광학 제품은, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부측의 표면 위에 금속 산화물층 (이하, 「제 2 금속 산화물층」이라고도 기재한다.) 을 가질 수 있다. 또한, 다른 일 양태에서는, 상기 광학 제품은, 상기 금속층과 기재의 사이에 금속 산화물층 (제 1 금속 산화물층) 을 갖고, 또한 상기 금속층의 상기 표층부측 표면 위에 금속 산화물층 (제 2 금속 산화물층) 을 갖는 광학 제품일 수 있다. 본 발명 및 본 명세서에서, 「금속 산화물층」이란, 금속 산화물을 임의의 성막 방법에 의해 퇴적시켜 형성된 막을 의미하고, 성막 시에 불가피적으로 혼입되는 불순물 및 성막을 보조하기 위해서 임의로 사용되는 공지된 첨가제를 제외하면, 금속 산화물로 이루어지는 막이다. 금속 산화물층은, 막의 질량에 대하여, 예를 들어 90 ∼ 100 질량％ 를 금속 산화물이 차지하는 막일 수 있고, 95 ∼ 100 질량％ 를 금속 산화물이 차지하는 막일 수도 있다. 금속 산화물층으로는, 예를 들어 산화 규소층, 산화 알루미늄층, 산화 세륨층, 산화 크롬층, 산화 몰리브덴층, 산화 텅스텐층, 산화 지르코늄층, 산화 티탄층, 산화 니오브층, 산화 주석층, 산화 탄탈층 등을 들 수 있다.
상기 금속 산화물층과 기재의 사이에 위치하는 제 1 금속 산화물층은, 바람직하게는 상기 금속층과 직접 접하는 층일 수 있고, 보다 바람직하게는 기재 위에 형성된 경화층의 표면에 직접 적층된 층일 수 있다. 금속층 및/또는 경화층과의 밀착성 향상의 관점에서는, 제 1 금속 산화물층은 산화 규소층인 것이 바람직하다. 제 1 금속 산화물층의 막두께는, 인접하는 층과의 밀착성 향상 및 투과율의 관점에서는, 1 ∼ 100 nm 의 범위인 것이 바람직하고, 1 ∼ 50 nm 의 범위인 것이 보다 바람직하다.
상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부측의 표면 위에 위치하는 제 2 금속 산화물층은, 바람직하게는 상기 금속층과 직접 접하는 층일 수 있다. 제 2 금속 산화물층은, 금속층을 보호하는 역할, 광학 제품의 내구성을 향상시키는 역할 등을 다할 수 있다. 금속층의 보호 및 광학 제품의 내구성 향상의 관점에서는, 제 2 금속 산화물층은, 산화 규소층, 산화 알루미늄층, 산화 세륨층, 산화 크롬층, 산화 몰리브덴층, 산화 텅스텐층, 산화 지르코늄층, 산화 티탄층, 산화 니오브층, 산화 주석층, 산화 탄탈층인 것이 바람직하고, 산화 규소층인 것이 보다 바람직하다. 제 2 금속 산화물층의 막두께는, 금속층의 보호, 광학 제품의 내구성 향상 및 투과율의 관점에서는, 1 ∼ 100 nm 의 범위인 것이 바람직하고, 1 ∼ 50 nm 의 범위인 것이 보다 바람직하다.
본 발명 및 본 명세서에서, 「금속 산화물」은, 화학량론 조성의 상태여도 되고, 화학량론 조성으로부터 산소가 결손 또는 과다의 상태에 있는 것이어도 된다.
또한, 상기 광학 제품은, 임의의 위치에 상기 층 이외의 다른 층을 포함할 수도 있다.
이러한 다른 층으로는, 발수성 또는 친수성의 오염방지층, 흐림방지층 등의 각종 층을 들 수 있다. 이런 층들에 대해서는, 모두 공지 기술을 적용할 수 있다.
일 양태에서는, 상기 각종 층의 1 층 이상의 성막 전, 성막이 행해지는 표면에 대하여 표면 처리를 실시할 수 있다. 이 표면 처리로서는, 표면 클리닝을 들 수 있고, 구체예로서는 이온 클리닝을 들 수 있다. 이온 클리닝에 의해, 성막이 행해지는 표면에 부착된 유기물을 제거하여 표면을 청정화할 수 있다. 이온 클리닝은, 이온 총 (IG ; Ion gun) 에 의해 처리 표면에 이온을 조사하는 처리이다. 조사되는 이온으로는, 클리닝성의 관점에서 산소 이온이 바람직하다. 또한, 표면 클리닝은, 불활성 가스, 예를 들어 아르곤 (Ar) 가스나 크세논 (Xe) 가스, 또는 질소 (N2) 가스를 사용하여 실시해도 되고, 산소 라디칼이나 산소 플라즈마를 조사하여 실시해도 된다.
상기 광학 제품의 구체적 양태로서는, 예를 들어 안경 렌즈, 망원경 렌즈, 쌍안경 렌즈, 현미경 렌즈, 내시경 렌즈, 각종 카메라의 촬상계 렌즈 등의 각종 렌즈를 들 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더 설명한다. 단, 본 발명은 실시예에 나타내는 양태에 한정되는 것은 아니다.
[실시예 1]
안경 렌즈용 모노머 (미츠이 화학 주식회사 제조 MR8) 에 의해 제조된 안경용 렌즈 기재의 물체측 표면 (볼록면) 에, 실란 화합물과 금속 산화물 입자를 함유하는 경화성 조성물 (HOYA 주식회사 제조의 하드 코트액 (상품명 : HC60S)) 을 도포하여 도포층을 형성하고, 이 도포층을 가열에 의해 경화시켜 하드 코트층 (경화층) 을 형성하였다.
진공 증착 장치에 있어서, 하드 코트층 표면에 대하여 산소 이온에 의한 이온 클리닝을 실시하였다. 이온 클리닝은, 가속 전압 350 V, 전류 180 ㎃, O2 도입 유량 10 sccm, Ar 도입 유량 10 sccm, 처리 시간 45 sec 로 하고, 이온 총에 의해 산소 이온을 조사함으로써 실시하였다.
계속해서, 상기 이온 클리닝 후의 하드 코트층 표면에 산화 규소층 (제 1 금속 산화물층) 을 증착시키고 (Emi. 전류 : 155 ㎃), 이어서, 상기 산화 규소층의 표면에 금속층으로서 크롬층을 증착시켰다 (Emi. 전류 : 38 ㎃).
상기 크롬층의 표면에, 가속 전압 200 V, 전류 150 ㎃, O2 도입 유량 20 sccm, 처리 시간 20 sec 로 하고 이온 총에 의해 산소 이온을 조사하여 상기 크롬층의 표층부를 산화시켜 부동태화시켰다.
그 후, 부동태화된 표층부의 표면에 산화 규소층 (제 2 금속 산화물층) 을 추가로 증착시켰다 (Emi. 전류 : 155 ㎃).
이상으로 하드 코트층을 갖는 기재 위에, 산화 규소층 (10 nm), 표층부가 부동태화된 크롬층 (10 nm), 산화 규소층 (10 nm) 을 이 순서로 갖는 안경 렌즈를 얻었다. 상기 괄호 내의 막두께 및 후술하는 막두께는, 성막 조건에서 구해지는 각 층의 막두께이다.
[실시예 2, 3]
크롬층 형성 시의 증착 시간을 변경함으로써, 표 1 에 나타내는 막두께의 크롬층을 형성한 점 이외에, 실시예 1 과 동일한 방법에 의해 안경 렌즈를 얻었다.
실시예 1 ∼ 3 에서 실시된 산화에 의해 부동태화된 표층부의 두께 (상기 산화 조건에서 산출되는 두께) 는 5 nm 이다.
[비교예 1]
크롬층의 표층부의 산화 처리 (산소 이온 조사) 를 실시하지 않은 점 이외에, 실시예 2 와 동일한 방법에 의해 안경 렌즈를 얻었다.
[평가 방법]
1. 투과율 변화
실시예 1 ∼ 3, 비교예 1 의 각 안경 렌즈의 시감 투과율 (이하, 「초기 시감 투과율」이라고 기재한다.) 을 측정하였다.
각 안경 렌즈의 시감 투과율을, 대기 중, 실온 하에서 1 일 방치한 후에 측정하였다. 여기서 측정된 시감 투과율을, 이하, 「방치 후 시감 투과율」이라고 기재한다.
이하의 식에 의해 방치 후 투과율 변화율을 산출하였다.
방치 후 투과율 변화율＝((방치 후 시감 투과율－초기 시감 투과율)/초기 시감 투과율)×100
또한, 상기 안경 렌즈와는 다른 안경 렌즈를, 실시예 1 ∼ 3, 비교예 1 에 대해서 준비하고, 시감 투과율 (초기 시감 투과율) 을 측정한 후, 각 안경 렌즈의 제 2 금속 산화물층 (산화 규소층) 의 표면에, 가속 전압 200 V, 전류 150 ㎃, O2 도입 유량 20 sccm, 처리 시간 40 sec 로 하고 이온 총에 의해 산소 이온을 조사하여, 강제 산화 처리를 실시하였다. 이 강제 산화 처리 후의 안경 렌즈의 시감 투과율을 측정하였다. 여기서 측정된 시감 투과율을, 이하, 「강제 산화 처리 후 시감 투과율」로 기재한다.
이하의 식에 의해 강제 산화 후 투과율 변화율을 산출하였다.
강제 산화 후 투과율 변화율＝((강제 산화 후 시감 투과율－초기 시감 투과율)/초기 시감 투과율)×100
이상의 시감 투과율의 측정은 JIS T 7333：2005 에 따라 실시하였다.
2. 내마모성
실시예 1 ∼ 3 의 각 안경 렌즈의 기재와는 반대측의 최표면에, 신토 과학 사 제조의 왕복 마찰 마모 시험기로 하중 2.5 kg 으로 스틸 울 (본스타 제조 ＃00000) 을 사용하여 20 왕복 마모 테스트를 실시하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가하였다.
(평가 기준)
A : 육안으로 흠집을 전혀 또는 거의 확인할 수 없다.
B : 약간 흠집이 확인된다.
C : 명확한 흠집이 확인된다.
이상의 결과를, 표 1, 2 에 나타낸다.
표 1 에 나타내는 결과로부터, 실시예 1 ∼ 3 의 안경 렌즈는, 비교예 1 의 안경 렌즈와 비교해서 시간 경과에 따른 투과율 변화가 억제되어 있는 (방치 후 투과율 변화율이 낮은) 것을 확인할 수 있다. 또한, 실시예 1 ∼ 3 의 안경 렌즈는, 비교예 1 의 안경 렌즈와 비교해서 강제 산화 후의 투과율 변화율이 낮기 때문에, 산소에 의한 영향을 잘 받지 않는 것도 확인되었다.
또한, 표 2 에 나타내는 결과로부터, 실시예 1 ∼ 3 의 안경 렌즈가 잘 마모되지 않아 내구성이 우수한 것도 확인할 수 있다.
이에 비해, 제 2 금속 산화물층 (산화 규소층) 을 형성하지 않은 점 이외에, 실시예 2 와 동일한 방법에 의해 제작된 안경 렌즈에 대해서, 상기 방법에 의해 내마모성의 평가를 실시한 바, 평가 결과는 C 였다.
마지막으로, 전술한 각 양태를 총괄한다.
일 양태에 따르면, 기재 위에 금속층을 갖고, 상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부가 부동태화되어 있는 광학 제품이 제공된다.
상기 광학 제품은, 시간 경과에 따라 안정적인 투과율을 보일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 금속층은, 크롬층, 니오브층, 티탄층 또는 알루미늄층일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 표층부는, 상기 금속층을 구성하는 금속이 산화된 금속 산화물의 층일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 표층부의 두께는 1 ∼ 30 nm 의 범위일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 광학 제품은, 상기 금속층과 상기 기재의 사이에 금속 산화물층을 가질 수 있고, 또한 상기 금속층의 상기 표층부측 표면 위에 금속 산화물층을 가질 수 있다.
일 양태에서는, 상기 금속층과 상기 기재의 사이에 위치하는 금속 산화물층은 산화 규소층일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 금속층의 상기 표층부측 표면 위에 위치하는 금속 산화물층은 산화 규소층일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 광학 제품은 렌즈일 수 있다.
일 양태에서는, 상기 광학 제품은 안경 렌즈일 수 있다.
일 양태에 따르면, 상기 광학 제품의 제조 방법으로서, 기재 위에 금속층을 형성하는 것, 및 형성된 금속층의 표층부를 산화 처리에 의해 부동태화시키는 것을 포함하는 광학 제품의 제조 방법이 제공된다.
상기 제조 방법에 따르면, 시간 경과에 따른 투과율 변화가 적은 광학 제품을 제조할 수 있다.
일 양태에서는, 상기 제조 방법은, 상기 산화 처리를 산소 이온 조사에 의해 실시하는 것을 포함할 수 있다.
일 양태에서는, 상기 산소 이온 조사는 이온 총에 의해 실시될 수 있다.
본 명세서에 기재된 각종 양태는, 임의의 조합으로 2 이상을 조합할 수 있다.
이번에 개시된 실시 형태는 모든 면에서 예시로서 제한적인 것은 아닌 것으로 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 상기한 설명이 아니며 청구 범위에 의해 개시되고, 청구 범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
본 발명의 일 양태는, 안경 렌즈 등의 각종 광학 제품의 제조 분야에서 유용하다.
Claims (12)
- 기재 위에 금속층을 갖고,
상기 금속층의 금속은, 크롬, 몰리브덴, 텅스텐, 철, 코발트, 니켈, 구리, 은, 금 및 알루미늄으로 이루어지는 군에서 선택되고,
상기 금속층의 기재측과는 반대측의 표층부가 부동태화되어 있고,
상기 금속층은, 막의 질량에 대하여, 90 ∼ 100 질량％ 를 상기 금속이 차지하는 막이고,
상기 금속층과 상기 기재의 사이에 금속 산화물층을 갖고, 또한 상기 금속층의 상기 표층부측 표면 위에 금속 산화물층을 갖고,
상기 금속층과 상기 기재의 사이에 위치하는 금속 산화물층은 산화 규소층인, 광학 제품. - 제 1 항에 있어서,
상기 금속층은, 크롬층 또는 알루미늄층인, 광학 제품. - 제 1 항에 있어서,
상기 표층부는, 상기 금속층을 구성하는 금속이 산화된 금속 산화물의 층인, 광학 제품. - 제 1 항에 있어서,
상기 표층부의 두께는 1 ∼ 30 nm 의 범위인, 광학 제품. - 삭제
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,
상기 금속층의 상기 표층부측 표면 위에 위치하는 금속 산화물층은 산화 규소층인, 광학 제품. - 제 1 항에 있어서,
렌즈인, 광학 제품. - 제 1 항에 있어서,
안경 렌즈인, 광학 제품. - 광학 제품의 제조 방법으로서,
상기 광학 제품은, 제 1 항 내지 제 4 항 및 제 7 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 제품이고,
기재 위에 금속층을 형성하는 것, 및
형성된 금속층의 표층부를 산화 처리에 의해 부동태화시키는 것을 포함하는, 광학 제품의 제조 방법. - 제 10 항에 있어서,
상기 산화 처리를 산소 이온 조사에 의해 실시하는 것을 포함하는, 광학 제품의 제조 방법. - 제 11 항에 있어서,
상기 산소 이온 조사를 이온 총에 의해 실시하는 것을 포함하는, 광학 제품의 제조 방법.
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