KR102567275B1 - 고선명도 플리커 프리 에칭 유리 및 그 제조 공정과 응용 - Google Patents
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Abstract
고선명도 플리커 프리 에칭 유리로서, 그 광택도가 110 ~ 145, 혼탁도가 3 ~ 10, 선명도가 90% ~ 99.5%이고; 그 정면은 평균 조도가 0.025㎛ ~ 0.050㎛인 덴트(dent)와 범프(bump)를 갖는 불규칙한 요철이 있는 렌즈 표면이고, 각 덴트의 평균 현 길이(chord length)는 1.8㎛ ~ 10.0㎛이고, 덴트의 저부에서 범프의 천정부 사이의 평균 깊이는 0.2㎛ ~ 0.7㎛이고; 각 범프의 평균 현 길이는 0.1㎛ ~ 0.5㎛이고; 그 정면 250㎛×250㎛의 구역을 500배로 확대하여 관찰하면 800 ~ 2500개의 불규칙한 범프가 있고, 불규칙한 범프는 미세 볼록렌즈의 배열을 형성한다. 샌드 블라스팅 에칭 기술을 통해 에칭 유리 정면의 볼록한 지점의 구면 반경을 축소하여, 미세 볼록렌즈의 초점 거리를 단축하고, 광의 초점이 유리 표면에 더욱 근접하게 하고, 고화질 디스플레이 장치의 밝기를 더 밝게 하고 더 균일하게 하여, 육안으로는 집광점의 플리커를 보기 어렵다.
Description
본 발명은 디스플레이 장치 분야, 특히 고선명도 플리커 프리 에칭 유리 및 그 제조 공정과 응용에 관한 것이다.
종래의 AG 유리는 디스플레이 기기 외부로부터의 광이 유리 경면에 대하여 발생시키는 광 반사에 대응하는데 사용되고, 유리 위에 깊이 2㎛ 내지 10㎛의 요철이 있는 연속된 덴트(dent)를 만들면 기본적으로 외래 광의 간섭을 제거할 수 있다. 중국 특허 출원번호 201580051541.X에 기술된 디스플레이 장치용의 눈부심 방지 유리 패널 제품에 따르면, 조화된 표면을 통해, 통상 산술평균 조도 Ra 0.01 ~ 0.1㎛, 평균 간격 RSm 1 ~ 20㎛의 요철이 연속된 표면을 갖고, 당해 표면에 분산된 입구부는 원형이고 직경이 3 ~ 20㎛ 이고, 당해 입구부로부터의 깊이가 0.2 ~ 1.5㎛이고, 조화된 표면에 대하여 250㎛ × 250㎛의 구역을 관찰할 때, 60 ~ 600개의 덴트가 있다. 유리의 조화 효과를 실현하기 위하여, 당해 특허 출원 문헌의 명세서 제45단락에서는, #6000 ~ #8000 재료는 입경이 작아 샌드 블라스팅 공정의 효율이 저하되기 때문에, 분사 재료의 입도는 바람직하게는 #1000 ~ #4000(즉, 11.9㎛ ~ 3.1㎛)이고, 더욱 바람직하게는 #1200 ~ #3000이라고 교시하고 있다. 그러나, 디스플레이 해상도가 2K에서 4K로 보급되고 8K 디스플레이가 출현함에 따라, 디스플레이 화소가 점점 더 밀집해지고, 삼색광의 화소 간 거리가 점점 더 가까워지면서, 기존의 분사 입도의 샌드 블라스팅으로 제조한 에칭 유리를 표면 유리로 사용한 디스플레이에는 플리커 현상이 나타난다. 이러한 눈꽃 형상의 플리커 현상은 특히 고속 주행하는 차량, 비행기, 우주선에서 사람의 눈에 대한 손상을 크게 하고, 이러한 플리커 현상은 눈부신 빛을 발생시켜 사람으로 하여금 디스플레이 화상을 한 눈에 볼 수 없게 하여 오독, 오판을 초래한다. 모바일 디스플레이에 이어, 차량 탑재 디스플레이 상에 4K, 8K 고해상도의 디스플레이 기기를 대량으로 채용하여, 동일 면적의 디스플레이 기기가 초고해상도의 디스플레이를 채용할 때, 유리 도광체의 돌기가 집광하여 더욱 밝아지고, 화면의 플리커는 더욱 심해져, 그 피해는 더욱 심각하게 된다. 한편, 최종 제품은 유리 커버 패널에 대한 투과율이 93% 이상일 것을 요하며, 이는 통상 유리 표면에 AR 고투과막을 코팅하는 방식을 채용하여 해결하는데, 이는 제품 원가를 대폭으로 증가시킬 뿐만 아니라, 코팅 재료와 유리 재료의 매체가 다르면 빛의 굴절을 발생시켜, 화소 광의 해상도에 영향을 주고, 게다가 AR막 코팅 제품은 실외 등 열악한 환경 하에서 사용하면 코팅층의 황변과 탈락이 발생한다. 플로트(float) AG 유리는 일반적으로 투과율이 88% ~ 91%이고, 고릴라 글래스의 투과율은 93% ~ 94% 사이에 이를 정도로 높지만, 유리는 AG 에칭 후 유리 표면의 백탁을 전통적인 공법으로는 완전히 제거할 수 없어, 에칭 후의 유리의 투과율이 원판 유리에 비해 떨어진다. 이를 감안하여, 하이 엔드 디스플레이 시장은, 고해상도 디스플레이의 플리커 현상을 제거할 수 있고, 또한, 눈부심 방지 기능을 유지할 수 있는 고선명도, 고투과율, 무혼탁도이고 매끄러운 터치감의 신형 에칭 유리 제품의 개발이 시급하다.
본 발명의 제1 목적은 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 제공하는데 있다.
본 발명의 목적을 달성하기 위한 기술 방안은, 고선명도 플리커 프리 에칭 유리로서, 그 광택도가 110 ~ 145, 혼탁도가 3 ~ 10, 선명도가 90% ~ 99.5%이고; 그 정면은 평균 조도가 0.025㎛ ~ 0.050㎛인 덴트(dent)와 범프(bump)를 갖는 불규칙한 요철이 있는 렌즈 표면이고, 각 덴트의 평균 현 길이(chord length)는 1.8㎛ ~ 10.0㎛이고, 덴트의 저부에서 범프의 천정부 사이의 평균 깊이는 0.2㎛ ~ 0.7㎛이고; 각 범프의 평균 현 길이는 0.1㎛ ~ 0.5㎛이고; 그 정면 250㎛ × 250㎛의 구역을 500배로 확대하여 관찰하면 800 ~ 2500개의 불규칙한 범프가 있고, 불규칙한 범프는 미세 볼록렌즈의 배열을 형성한다.
출원인의 연구에서는, 샌드 분사 후의 에칭 유리 표면에 수량이 아주 많은 불규칙한 덴트와 범프가 형성되고, 이들 유리 표면의 불규칙한 덴트가 크기가 다른 평오목렌즈의 배열을 형성하고, 불규칙한 범프는 크기가 다른 미세 볼록렌즈의 배열을 형성하고, 얇은 볼록렌즈가 집적작용을 하기 때문에, 당해 밀집한 화소점의 평행광선이 에칭 유리를 투과하여 상부 표면에 진입할 때, 범프(즉, 미세 볼록렌즈)에 입사하여 축 상의 한 점에 집중하는데, 이 점은 곧 미세 볼록렌즈의 초점이고, 당해 에칭 유리 요철면 상의 범프가 클수록, 투명화 후 발생하는 미세 볼록렌즈의 집광 효과가 더 강해질수록, 초점의 섬광점이 밝아지고, 당해 범프의 직경이 매우 클 때, 초점거리가 길어지고, 초점이 유리면을 벗어나 밝은 플리커 포인트를 형성하여 육안으로 감지되고, 배열식의 범프가 모두 매우 크고 매우 많을 때, 교류 전기 헤르츠 주파수의 변동으로 디스플레이에 눈꽃 형상의 뚜렷한 플리커 현상이 나타나는 것을 발견하였다.
기존 에칭 유리는 외래 광의 반사에 대하여, 눈부심 효과를 방지하기 위하여, 확대 후의 250㎛×250㎛의 면적을 관찰하면, 그 표면은 통상 60 ~ 650개의 덴트가 있을 뿐이고, 각각의 덴트의 현 길이는 비교적 크고, 깊이는 비교적 깊으며, 각각의 범프도 비교적 큰 현 길이와 비교적 깊은 깊이를 가지고 있어, 미세 볼록렌즈가 화소점에 대한 초점 작용을 하게 된다. 본 발명은 기존 디스플레이 기기에서 모두 사용가능한 에칭 유리를 입수하여, 유리의 눈부심 방지면에 가공을 통해 밀집한 초미세의 불규칙하고 얕은 덴트 및 작은 범프를 더 만들고, 작고 불규칙한 범프가 유사 미세 볼록렌즈 배열을 형성하여, 기존의 AG 에칭 유리 상의 큰 범프의 집광 효과를 약화시키고, 그것을 디스플레이 기기의 전면 패널 혹은 전면 커버 플레이트로 할 때, 화소점 광원과 유리 표면의 범프 간의 거리가 더 짧고, 미세 볼록렌즈의 초점이 유리 표면에 더욱 근접하고, 또한 더 많은 미세 볼록렌즈가 추가되어, 고화질 디스플레이 장치의 밝기가 더 밝고 균일화되며 집광점을 약화시켜, 사람의 눈이 스크린을 관찰할 때 광의 플리커를 느끼지 못하고, 동시에, 울퉁불퉁한 표면은 눈부심 방지 효과를 가지면서 매우 투명하여, 투과율이 93% ~ 95%에 달하고, 화상 선명도가 90% ~ 99.5%에 달한다.
본 발명의 제2 목적은 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이를 제공하는데 있고, 이는 전면 패널을 포함하며, 상기 전면 패널은 발명의 제1 목적인 상기 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이다.
본 발명의 제3 목적은 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이를 제공하는데 있고, 이는 전면 패널을 포함하며, 전면 패널의 정면은 전면 커버 플레이트를 장착하고, 상기 전면 커버 플레이트는 본 발명의 제1 목적인 상기 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이다.
본 발명의 제2 목적 및 발명의 제3 목적으로 실현되는 디스플레이는, 밀집 화소 광의 플리커를 방지하는 에칭 유리의 장착을 통해 내부 화소 광이 유리를 투과할 때 발생하는 미세 볼록렌즈의 집광 효과를 약화시키고, 눈꽃 형상의 플리커 발생을 방지하고, 표면의 눈부심 방지 기능을 보증함과 동시에, 사람 얼굴이 가까운 거리에서 스크린을 대면할 때 그림자가 잘 드러나지 않고, 초고화질 화상의 선명도를 더욱 부각하고, 고화질 디스플레이 스크린의 고해상도 디스플레이 효과를 증진시킨다.
본 발명의 제4 목적은 태양전지 모듈을 제공하는데 있고, 이는 커버 플레이트를 포함하고, 상기 커버 플레이트는 본 발명의 제1 목적인 상기 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이고, 상기 에칭 유리의 선명도는 95% ~ 99.5%이고, 투과율은 92% ~ 95%이다. 발명의 제1 목적인 에칭 유리를 태양전지 모듈의 커버 플레이트로 사용함으로 인하여, 커버 플레이트는 매우 낮은 태양광 반사율과 매우 높은 태양광 투과율을 갖게 되고, 태양전지 모듈의 광이용률을 향상시킨다.
본 발명의 제5 목적은 발명의 제1 목적인 상기 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 눈부심 방지 처리 공정을 제공하는데 있고, 이는 이하의 절차를 포함한다.
1) 먼저, 처리할 유리 표면 상에서 불규칙한 배열의 미세 볼록렌즈 처리가 필요없는 부위에 내산성 내충격 보호층을 피복한다.
2) 샌드 블라스팅: 현 길이 0.5 ~ 2㎛인 샌드 입자와 물을 충분히 섞어 혼합하여 마이크로 나노 입자를 형성하고, 고압 워터 샌드 분사 건을 균일하게 이동하여, 마이크로 나노 입자를 내산성 내충격 보호막을 피복하지 않은 유리 표면에 분사한다. 여기서, 고압 워터 샌드 분사 건의 압력은 0.1 ~ 0.3MPa이고, 분사 건의 분사구에서 유리 면까지의 거리는 30 ~ 180㎜이다.
3) 에칭: 샌드 블라스팅한 유리를 에칭액에 넣어 30s ~ 120s 동안 에칭한다.
4) 세척: 에칭 완료된 유리를 세척조에 넣어 세척한 후, 내산성 내충격 보호층을 제거하고 다시 세척한다.
또, 절차 5)를 더 포함한다. 절차 5) 폴리싱(polishing): 세척한 유리에 폴리싱 처리를 하고, 폴리싱 완료 후 세척조에 넣어 세척을 진행한다.
또한, 상기 절차 5)에서 사용된 폴리싱 장치는 양모 펠트(felt) 폴리싱 휠이다.
종래의 AG 가공 기술은 주로 건식 분사나 습식 가공을 채용하고, 유리 표면에 대해 효율적으로 가공을 진행할 수 있는 샌드의 입경은 11.9㎛ ~ 3.1㎛이고, 가공용 재료의 입경이 커, 부딪쳐 생기는 덴트 입경도 크며, 범프도 매우 커질 수 있다. 화소점 광원이 배면으로부터 출사될 때 초점이 디스플레이 스크린 표면보다 훨씬 높아, 집광 강도를 크게하여, 눈부시게 하는 볼록렌즈 집광 플리커를 발생시키고, 게다가 종래 기술은 조도의 가공 정밀도가 국제 규격 N8 정도밖에 되지 않아, 표면 형상 특성이 "반광면(半光面)"에 이를 뿐이다. 본 발명의 제5 목적으로 실현되는 눈부심 방지 처리 기술은 업계의 기술적 편견을 극복하여, 0.3 ~ 2㎛의 샌드 입자와 물을 충분히 섞어 혼합하고, 물 샌드 혼합물이 고압의 기압 하에 있어 발생하는 관성 충돌력을 이용하여, 차례로 위치 이동하여 유리 외표면에 충돌하고, 기존 건식 샌드 블라스팅 혹은 습식 샌드 블라스팅의 샌드 블라스팅 기술이 극세 샌드 입자의 샌드 블라스팅 작업을 진행할 수 없는 문제를 해결하고, 충돌 지점 덴트 및 범프의 밀도, 깊이, 현 길이는 디스플레이 화소점의 크기에 근거하여 조립 설계 조정을 진행할 수 있고, 부피가 더 작고 더 밀집한 범프를 얻을 수 있고, 에칭 유리 범프의 현 길이를 축소할 수 있고, 또한 정밀 산 에칭 기술을 거쳐, 정밀한 시간 제어와 조정을 통해, 범프의 초점 거리를 단축하고, 범프의 집광 강도를 약화시키고, 미세 볼록렌즈의 초점거리가 유리 표면에 더 가깝게 하고, 또한 더 많은 미세 볼록렌즈로 인하여 고화질 디스플레이 장치의 밝기가 더 밝고 더 균일화되도록 하고 집광점을 약화시켜, 육안으로 집광점의 플리커를 쉽게 볼 수 없고, 동시에, 외래광 혹은 태양광이 이들에 조사되어 투명한 요철면에 접근할 때에도 여전히 AG 유리의 눈부심 방지 기능을 유지하고, 사람 얼굴의 그림자를 약화시키고, 상술한 고화질 디스플레이의 내외 광 간섭이 제거되면, 4K, 8K의 고화질, 초고화질 화상은 더욱 선명해진다.
도 1은 본 발명에 따른 디스플레이 기기가 발생시키는 섬광의 광학원리도이다. 여기서, 점선 물결 모양은 기존 에칭 유리의 정면을 나타내고, 실선 물결 모양은 본 발명에서 실시예로 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 정면을 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 구조 개략도이다.
도 3은 도 2에서 A 부분을 확대한 구조 개략도이다.
도 4는 본 발명의 실시예 6에 기술한 플리커 프리 눈부심 방지 고화질 디스플레이의 구조 개략도이다.
도 5는 본 발명의 실시예 7에 기술한 플리커 프리 눈부심 방지 고화질 디스플레이의 구조 개략도이다.
도 6은 본 발명의 실시예 8에 기술한 태양전지 모듈의 구조 개략도이다.
도 2는 본 발명의 실시예 1에 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 구조 개략도이다.
도 3은 도 2에서 A 부분을 확대한 구조 개략도이다.
도 4는 본 발명의 실시예 6에 기술한 플리커 프리 눈부심 방지 고화질 디스플레이의 구조 개략도이다.
도 5는 본 발명의 실시예 7에 기술한 플리커 프리 눈부심 방지 고화질 디스플레이의 구조 개략도이다.
도 6은 본 발명의 실시예 8에 기술한 태양전지 모듈의 구조 개략도이다.
이하에서는 도면과 함께 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 상세하게 설명한다.
[실시예 1]
도 2와 도 3에 나타낸 바와 같이, 고선명도 플리커 프리 에칭 유리는, 그 광택도(Gs)가 110이고, 혼탁도(Haze)가 10이고, 선명도(DOL)가 90%이다. 그 정면(1)은 평균 조도(Ra) 0.03㎛의 덴트(11)와 범프(12)를 갖는 표면이고, 각 덴트(11)의 평균 현 길이(D)는 10㎛이고, 덴트(11)의 저부에서 범프(12)의 천정부까지 사이의 평균 깊이(H)는 0.7㎛이다. 각 범프(12)의 평균 현 길이(S)는 0.5㎛이다. 그 정면 250㎛×250㎛의 구역을 500배로 확대하여 관찰하면, 820개의 범프가 있다.
실시예 1에서 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 눈부심 방지 처리 기술은 다음의 단계를 포함한다.
1) 먼저, 처리할 유리 표면 상에서 불규칙한 배열의 미세 볼록렌즈 처리가 필요없는 부위에 내산성 내충격 보호층을 피복한다.
2) 샌드 블라스팅: 현 길이 2㎛인 샌드 입자와 물을 충분히 섞어 혼합하여 마이크로 나노 입자를 형성하고, 고압 워터 샌드 분사 건을 균일하게 이동하여, 마이크로 나노 입자를 내산성 내충격 보호막을 피복하지 않은 유리 표면에 분사한다. 여기서, 고압 워터 샌드 분사 건의 압력은 0.3MPa이고, 분사 건의 분사구에서 유리 면까지의 거리는 180㎜이다.
3) 에칭: 샌드 블라스팅한 유리를 에칭액에 넣어 120s 동안 에칭한다.
4) 세척: 에칭 완료된 유리는 세척조에 넣어 세척한 후, 내산성 내충격 보호층을 제거하고 다시 세척한다.
5) 폴리싱(polishing): 깨끗하게 세척한 유리는 양모 펠트(felt) 폴리싱 휠을 이용하여 폴리싱 처리를 진행하고, 폴리싱 완료 후 세척조에 넣어 세척을 진행한다.
[실시예 2 ~ 5]
실시예 2 ~ 5는 실시예 1과 다른 기술 파라미터를 채용하고, 에칭 유리를 얻은 기술 파라미터는 표 1과 같이 나타낸다.
[비교례 1 ~ 3]
비교례 1 ~ 3은 기존 에칭 기술로 제조한 에칭 유리의 기술 파라미터이다.
| 항목 | 실시예1 | 실시예2 | 실시예3 | 실시예4 | 실시예5 | 비교례1 | 비교례2 | 비교례3 |
| 샌드 입자 직경 (㎛) | 2 | 1.5 | 1.3 | 1 | 0.5 | 3.1 | 4.2 | 6.5 |
| 샌드 블라스팅 압력 (MPa) | 0.3 | 0.25 | 0.2 | 0.1 | 0.1 | 0.4 | 0.4 | 0.4 |
| 분사 거리 (㎜) | 180 | 130 | 80 | 50 | 30 | 110 | 110 | 110 |
| 에칭 시간 (s) | 120 | 90 | 80 | 60 | 30 | 360 | 480 | 600 |
| 광택도 Gs | 110 | 120 | 130 | 140 | 145 | 50 | 50 | 53 |
| 혼탁도 Haze | 10 | 8 | 6 | 5 | 3 | 12 | 9 | 11 |
| 선명도 DOL (%) | 90 | 93 | 96 | 99 | 99.5 | 79 | 64 | 55 |
| 평균 조도 Ra (㎛) | 0.05 | 0.04 | 0.035 | 0.03 | 0.025 | 0.16 | 0.19 | 0.2 |
| 덴트 현 길이 (㎛) | 10 | 7 | 5 | 2 | 1.8 | 13 | 14 | 18 |
| 범프의 평균 현 길이 (㎛) | 0.50 | 0.40 | 0.20 | 0.12 | 0.10 | 0.38 | 0.38 | 0.31 |
| 평균 깊이 (㎛) | 0.7 | 0.6 | 0.5 | 0.3 | 0.2 | 1.2 | 1.4 | 1.7 |
| 범프 수량 (개) | 820 | 880 | 1950 | 2200 | 2500 | 210 | 162 | 141 |
사람의 눈은 녹색광에 더욱 민감하기 때문에, 본 발명 실시예 1-5 및 비교례 1-3의 상기 유리가 장착된 고화질 디스플레이 스크린을 녹색 스크린으로 전환하여 관찰하였고, 실시예 1-5는 모두 플리커 느낌이 없고, 비교례 1-3측은 눈부심이 확연히 드러나는 플리커 느낌이 있다.
기존 55인치 2K 스크린은 외형 치수(단위: ㎜): 1219(H)×726(V), 화소간 거리(단위: ㎜): 0.21(W)×0.63(H)이고, 86인치 고화질 4K 스크린은 외형 치수: 1913(H)×1804(V), 화소간 거리: 0.493(W)×0.493(H)이며, 98인치 8K 스크린은 화소 수량 7680(H)×4320(V), 화소간 거리 0.093(W)×0.028(H)이다. 고화질 스크린의 눈부심 방지 유리 상의 볼록렌즈 효과를 제거하고 눈꽃 형상의 플리커를 제거하기 위하여, 그 정면 250㎛×250㎛의 구역을 500배로 확대하여 관찰할 때, 4K 스크린은 1개 화소의 표면 상에 800개 ~ 1200개의 범프를 갖도록 설계 가공할 필요가 있고, 8K 스크린은 1개 화소의 표면 상에 1000개 ~ 1500개의 범프를 갖도록 설계 가공할 필요가 있다. 밀집한 덴트와 범프의 가공을 실현하기 위하여, 본 발명은 0.5 ~ 2㎛의 샌드 입자와 물을 충분히 섞어 혼합하여 사용하고, 물 샌드 혼합물이 고압의 기압 하에 있어 발생하는 관성 충돌력을 이용하여, 차례로 위치 이동하여 유리 외표면에 충돌시키고, 기존 건식 샌드 블라스팅 혹은 습식 샌드 블라스팅의 샌드 블라스팅 기술이 극세 샌드 입자의 샌드 블라스팅 작업을 진행할 수 없는 문제를 해결하고, 충돌 지점 덴트 및 범프의 밀도, 깊이, 현 길이는 디스플레이 화소점의 크기에 근거하여 조립 설계 조정을 진행할 수 있고, 각 파라미터 수치가 함께 조절되어, 더욱 밀집하고 불규칙한 범프가 조성된 미세 볼록렌즈의 배열을 얻을 수 있다. 에칭 절차는 샌드 블라스팅 면의 백색 혼탁에 대하여 투명화 처리를 진행하여, 샌드 블라스팅 작업 완료로 형성된 요철점의 백색 혼탁을 제거하고 또한 배열식의 불규칙한 미세 렌즈의 입경을 유지하고, 유리 표면의 혼탁 및 헤이즈를 정밀하게 제거하므로, 유리 투과율이 1 ~ 2% 향상되고, 화상 선명도가 95% ~ 99.5%까지 향상되어, 화상 화소점의 해상도와 선명도를 높인다.
[실시예 6]
도 4에 나타낸 바와 같이, 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이 스크린은, 전면 패널(10) 및 화소점 광원(20)을 포함하고, 상기 전면 패널의 정면에는 실시예 1에서 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리(30)가 장착된다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 실선 물결 모양은 본 발명이 실현하는 고선명도 플리커 프리 에칭 유리의 정면(1)을 나타내고, 화소점 광원(10)으로부터 출사된 광은 정면(1)의 범프(12)를 거쳐 K 점에 집중된다. 점선 물결 모양은 기존 에칭 유리의 정면(1')을 나타내고, 화소점 광원(10)으로부터 출사된 광은 정면(1')의 범프(12')를 거쳐 K' 점에 집중된다. 기존 에칭 유리는 3.1㎛ ~ 11.9㎛의 큰 입자의 샌드로 샌드 블라스팅을 진행하기 때문에, 유리 표면에는 본 발명의 정면(1)에 비해 더 큰 범프(12')가 형성되고, 그 초점(K')은 초점(K)보다 뚜렷하게 높고, 사람의 눈에 자극을 주는 뚜렷한 눈꽃 형상의 플리커를 발생시킨다. 그러나, 본 발명의 초점(K)은 정면(1)과 근접해 있고, 또한 표면에 형성된 더욱 많은 미세 볼록렌즈로 인하여, 고화질 디스플레이 장치의 밝기가 더 밝고 더 균일하게 되고, 집광점을 작아지고 약하게 하여, 육안으로는 집광점의 플리커를 보기 어렵다.
[실시예 7]
도 5에 나타낸 바와 같이, 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이 스크린은, 전면 패널(101) 및 화소점 광원(102)을 포함하고, 상기 전면 패널(101)은 실시예 1에서 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이다.
[실시예 8]
도 6에 나타낸 바와 같이, 태양전지 모듈(100)은, 커버 플레이트(200)를 포함하고, 상기 커버 플레이트(200)는 본 발명의 실시예 3에 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이고, 상기 에칭 유리의 선명도는 96%이고 투과율은 95%이다.
실제 응용 과정에서, 태양전지 모듈 표면의 에칭 유리의 선명도는 95% ~ 99.5%이고 투과율은 92% ~ 95%인 것이 바로 가능하다.
본 발명에서 기술한 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 태양전지 모듈의 커버 플레이트로 사용하면, 극히 낮은 태양광 반사율과 극히 높은 태양광 투과율로 인하여 태양전지의 발전 효율을 매우 크게 향상시킨다.
이상의 서술은 단지 본 발명의 실시예일 뿐, 본 발명의 권리범위를 제한하는 것이 아니며, 본 발명의 설명 내용을 이용한 동등한 프로세스 변환이나, 직접 또는 간접으로 기타 관련 기술 분야에 적용하는 것은 모두 본 발명의 특허 보호 범위 내에 포함된다.
Claims (7)
- 고선명도 플리커 프리 에칭 유리로서,
그 광택도가 110 ~ 145, 혼탁도가 3 ~ 10, 선명도가 90% ~ 99.5%이고,
그 정면은 평균 조도가 0.025㎛ ~ 0.050㎛인 덴트(dent)와 범프(bump)를 갖는 불규칙한 요철이 있는 렌즈 표면이고, 각 덴트의 평균 현 길이(chord length)는 1.8㎛ ~ 10.0㎛이고, 덴트의 저부에서 범프의 천정부 사이의 평균 깊이는 0.2㎛ ~ 0.7㎛이고,
각 범프의 평균 현 길이는 0.1㎛ ~ 0.5㎛이고,
그 정면 250㎛ × 250㎛의 구역을 500배로 확대하여 관찰하면, 800 ~ 2500개의 불규칙한 범프가 있고, 불규칙한 범프는 미세 볼록렌즈의 배열을 형성하는 것을 특징으로 하는 고선명도 플리커 프리 에칭 유리. - 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이 스크린으로서,
전면 패널을 포함하고,
상기 전면 패널의 정면에는 전면 커버 플레이트를 장착하고, 상기 전면 커버 플레이트는 제 1 항에 기재된 고선명도 플리커 프리 에칭 유리인 것을 특징으로 하는 고화질 디스플레이 스크린. - 플리커를 방지하고 눈부심을 방지하는 고화질 디스플레이 스크린으로서,
전면 패널을 포함하고,
상기 전면 패널은 제 1 항에 기재된 고선명도 플리커 프리 에칭 유리인 것을 특징으로 하는 고화질 디스플레이 스크린. - 태양전지 모듈로서,
커버 플레이트를 포함하고,
상기 커버 플레이트는 제 1 항에 기재된 고선명도 플리커 프리 에칭 유리이고, 상기 에칭 유리의 선명도는 95% ~ 99.5%이고 투과율은 92% ~ 95%인 것을 특징으로 하는 태양전지 모듈. - 제 1 항에 기재된 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 제조하는 방법으로서,
1) 먼저, 처리할 유리 표면 상에서 불규칙한 배열의 미세 볼록렌즈 처리가 필요없는 부위에 내산성 내충격 보호층을 피복하는 단계;
2) 샌드 블라스팅 단계로서, 현 길이 0.5 ~ 2㎛인 샌드 입자와 물을 섞어 혼합하여 마이크로 나노 입자를 형성하고, 고압 워터 샌드 분사 건을 균일하게 이동하여, 마이크로 나노 입자를 내산성 내충격 보호막을 피복하지 않은 유리 표면에 분사하는 단계 - 여기서, 고압 워터 샌드 분사 건의 압력은 0.1 ~ 0.3MPa이고, 분사 건의 분사구에서 유리 면까지의 거리는 30 ~ 180㎜임 -;
3) 에칭 단계로서, 샌드 블라스팅한 유리를 에칭액에 넣어 30s ~ 120s 동안 에칭하는 단계;
4) 세척 단계로서, 에칭 완료된 유리를 세척조에 넣어 세척한 후, 내산성 내충격 보호층을 제거하고 다시 세척하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 제조하는 방법. - 제 5 항에 있어서,
5) 폴리싱(polishing)단계로서, 세척한 유리에 폴리싱 처리를 하고, 폴리싱 완료 후 세척조에 넣어 세척을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 제조하는 방법. - 제 6 항에 있어서,
상기 5) 폴리싱(polishing)단계에서 사용된 폴리싱 장치는 양모 펠트(felt) 폴리싱 휠인 것을 특징으로 하는 고선명도 플리커 프리 에칭 유리를 제조하는 방법.
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