CN116133793A - 基于纹理化玻璃的制品 - Google Patents

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孙伟
F·C·M·韦里耶
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张彬蔚
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Abstract

本文描述了基于纹理化玻璃的制品。基于纹理化玻璃的制品可以包括包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材。第一主表面和第二主表面中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，其中，第一主表面和第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分可以具有140ppi时小于或等于5％的闪光以及至少78％的非耦合图像清晰度。本文还描述了此类制品的制造方法。

Description

基于纹理化玻璃的制品
优先权要求
本申请要求2022年8月23日提交的PCT申请系列号PCT/US2022/041141的优先权，其要求了2021年11月30日提交的中国专利申请系列号202111445595.8的优先权，还要求了2021年8月25日提交的美国临时专利申请第63/236,925号的优先权权益，它们的公开内容全文通过引用结合入本文。
背景技术
技术领域
本说明书大体上涉及基于纹理化玻璃的制品，更具体来说，涉及可用于移动电子装置的基于纹理化玻璃的制品。
技术背景
便携式电子装置(例如，智能手机、平板和可穿戴装置(例如，手表和健身追踪器))使用基于玻璃的材料。例如，此类便携式电子装置上的屏幕可以由基于玻璃的材料制造。通常寻求与屏幕的良好可视性相关的光学性质。涂层或者其他表面处理可以用来强化玻璃材料。但是，现有的基于玻璃的材料具有光学限制。
因此，存在对于具有不同光学特性的基于玻璃的材料以及此类材料的生产方法的需求。本公开内容满足了这个需求和其它需求。
发明内容
根据一个或多个实施方式，基于纹理化玻璃的制品可以包括基于玻璃的基材，其包含第一主表面和第二主表面。第一主表面与第二主表面相对。第一主表面和第二主表面中的一个或两个的至少一部分可以经过纹理化处理。第一主表面和第二主表面中的一个或两个的该经过纹理化处理的部分可以具有：140ppi时小于或等于5％的闪光，以及至少78％的非耦合图像清晰度。
根据另一个实施方式，消费者电子产品可以包括外壳、电子组件和覆盖基材。外壳具有前表面、背表面和侧表面。电子组件可以至少部分提供在外壳内，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻。覆盖基材可以布置在显示器上方。外壳和覆盖基材中的至少一个的至少一部分可以包括基于纹理化玻璃的制品，其包括包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材。第一主表面与第二主表面相对。第一主表面和第二主表面中的一个或两个的至少一部分可以经过纹理化处理。第一主表面和第二主表面中的一个或两个的该经过纹理化处理的部分可以具有：140ppi时小于或等于5％的闪光，以及至少78％的非耦合图像清晰度。
根据另一个实施方式，可以通过如下方法制造基于纹理化玻璃的制品，其包括：通过将磨料颗粒推向表面，对基于玻璃的基材的表面进行磨蚀以形成经过磨蚀的表面；以及用蚀刻剂对经过磨蚀的表面进行蚀刻以形成基于经过蚀刻的玻璃的基材。可以用平均直径小于或等于3微米的磨料介质对基于玻璃的基材的表面进行磨蚀。
在以下的详细描述中给出了附加特征和优点，通过所作的描述，其中的部分特征和优点对于本领域的技术人员而言是显而易见的，或者通过实施包括以下详细描述、权利要求书以及附图在内的本文所描述的实施方式而被认识。
要理解的是，前述的一般性描述和下文的具体实施方式都描述了各个实施方式且都旨在提供用于理解所要求保护的主题的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对各个实施方式的进一步理解，附图并入本说明书中并构成说明书的一部分。附图以图示形式说明了本文所述的各种实施方式，并与说明书一起用来解释要求保护的主题的原理和操作。
附图说明
图1示意性显示根据本文所述一个或多个实施方式的基于纹理化玻璃的制品的横截面图；
图2A是根据本文所述一个或多个实施方式的整合了基于玻璃的制品的示例性电子装置的平面图；
图2B是根据本文所述一个或多个实施方式的图2A的示例性电子装置的立体图；
图3A-3C示意性显示根据本文所述一个或多个实施方式的基于玻璃的基材，其处于具有各种喷砂介质和压力的经过磨蚀的状态和经过蚀刻的状态；
图4A-4D显示根据本文所述一个或多个实施方式的经过磨蚀的玻璃样品的扫描电子显微镜(SEM)图像；
图5A-5D显示根据本文所述一个或多个实施方式的图4A-4C的图像的横截面图；
图6显示根据本文所述一个或多个实施方式的各种样品的磨蚀深度，其中，y轴的单位是纳米；
图7A-7D显示根据本文所述一个或多个实施方式的经过磨蚀和蚀刻的玻璃样品的扫描电子显微镜(SEM)图像；以及
图8示意性显示根据本文所述一个或多个实施方式的基于玻璃的制品的制造工艺流程图。
具体实施方式
现在将具体参考根据各种实施方式的基于纹理化玻璃的制品。具体来说，基于纹理化玻璃的制品适合用作便携式电子装置中的显示器覆盖和/或外壳。基于纹理化玻璃的制品可以同时具有较低的闪光以及较高的图像清晰度，这种组合对于用于例如便携式电子装置可能是合乎希望的。较低闪光和较高图像清晰度的这种组合相对于基于常规玻璃的制品可能是合乎希望的，在所述基于常规玻璃的制品中，通常存在较低闪光与较高图像清晰度之间的取舍。
可以通过如下工艺形成本文所述的实施方式，其包括基于玻璃的基材的磨蚀(有时候采用喷砂)，之后进行蚀刻。如本文所述，通过采用特定喷砂介质尺寸、压力(或者它们两者)，可以提供图像清晰度与闪光的特定组合。具体来说，较小的喷砂介质可以有助于较小的表面特征。此外，较高压力的喷砂可以有助于蚀刻之后更均匀的表面覆盖。这些物理特性都可能影响闪光和图像清晰度以及其他性质(例如，雾度)。
在以下描述中，相同的附图标记表示附图所示的若干视图中类似或相应的部分。还要理解的是，除非另外指出，否则术语如“顶部”、“底部”、“向外”、“向内”等是方便词语，不构成对术语的限制。每当将一个组描述为由一组要素中的至少一个要素或它们的组合组成时，应将其理解为所述组可以单个要素或相互组合的形式由任何数量的这些所列要素组成。除非另有说明，否则，列举的数值范围同时包括所述范围的上限和下限，以及所述范围之间的任意范围。除非另外说明，否则，本文所用的不定冠词“一个”或“一种”及其相应的定冠词“该”表示“至少一(个/种)”或者“一(个/种)或多(个/种)”。还要理解的是，在说明书和附图中揭示的各种特征可以任意和所有的组合方式使用。
除非另有说明，否则本文所述的玻璃的所有组分以摩尔百分比(摩尔％)表示，并且组成是以氧化物计。除非另有说明，否则所有温度都表述为摄氏度(℃)。无论是否在公开了范围之前或之后进行明确陈述，本说明书中公开的所有范围都包括被广泛公开的范围所包含的任意和全部范围与子范围。
要注意的是，本文可以用术语“基本上”和“约”来表示可能由任何定量比较、数值、测量或其它表示方法造成的内在不确定性的程度。在本文中还使用这些术语表示数量的表示值可以与所述的参比值有一定的偏离程度，但是不会导致审议的主题的基本功能改变。如本文所用，当术语“约”用于修饰数值时，也公开了具体数值。
本文所述的纹理化制品是基于玻璃的。如本文所用，术语“基于玻璃的”表示任何包含玻璃(例如玻璃或玻璃陶瓷材料)的制品。例如，基于玻璃的制品可以是层叠材料，其中，至少一层层叠体层包含玻璃或玻璃陶瓷。
如图1所示，基于玻璃的制品100可以包括主体110、第一主表面102和第二主表面104。基于玻璃的制品100还可以包括边缘106。其中，如图1示意性所示，基于玻璃的制品100是片材，第一主表面102可以与第二主表面104相对，并且分别是基本平坦的。可以在第一主表面102与第二主表面104之间测量基于玻璃的制品100的厚度。在本文所述的实施方式中，第一主表面102或第二主表面104中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，如本文详细所述。在其他实施方式中，可以对边缘106进行纹理化处理，但是通常来说，不测量玻璃片的边缘上通过纹理化处理所改变的光学性能，所以在许多实施方式中，没有对边缘106进行纹理化处理。根据实施方式，第一主表面102、第二主表面104或者边缘106中的任意一个或多个的整体经过纹理化处理(其中，在图1中没有明显显示出纹理化处理，因为纹理化特征通常非常小且无法通过人眼检测到)。在其他实施方式中，第一主表面102、第二主表面104或边缘106中的任意一个或多个的仅仅一部分进行纹理化处理。
在一个或多个实施方式中，纹理化表面没有涂覆光学涂层。应理解的是，虽然可以采用一些涂层来产生本文公开的闪光和图像清晰度性质，但是本文公开的实施方式不包含光学涂层。如本文所述，光学涂层明显影响了基于玻璃的基材的光学特性。
在一个或多个其他实施方式中，纹理化表面经过涂覆。示例性涂层包括：减反射涂层和/或防指纹涂层，有时候称作易清洁或防污涂层。减反射涂层可以包括但不限于具有交替的折射率或变化的折射率(例如，折射率梯度)的材料层。易清洁涂层可以包括但不限于：氟烷基硅烷、全氟聚醚烷氧基硅烷、全氟烷基烷氧基硅烷、氟烷基硅烷-(无氟烷基硅烷)共聚物，以及氟烷基硅烷的混合物。可以基于所需的涂层通过已知的工艺来施涂涂层，例如：化学气相沉积(“CVD”)、物理气相沉积(“PVD”)、热蒸发或者原子层沉积(ALD)，这是本领域技术人员会理解的。
本文所公开的基于纹理化玻璃的制品100(刚形成或者在离子交换之后)可以被整合到另一制品中，例如具有显示器的制品(或显示器制品)(例如，消费者电子件，包括移动电话、平板、电脑和导航系统等)，建筑制品，运输制品(例如，车辆、火车、飞行器、航海器等)，电器制品，或者任意需要部分透明性、耐划痕性、耐磨性或其组合的制品。结合了如本文所揭示的任意基于玻璃的制品的示例性制品如图2A和2B所示。具体来说，图2A和2B显示消费者电子装置200，其包括：具有前表面204、背表面206和侧表面208的外壳202；(未示出的)电子组件，其至少部分位于或者完全位于外壳内并且至少包括控制器、存储器和位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻的显示器210；以及位于外壳的前表面或者在外壳的前表面上方的覆盖基材212，从而使其位于显示器上方。在实施方式中，覆盖基材212和/或外壳202中的至少一个的至少一部分可以包括本文所揭示的任意基于玻璃的制品。
如上文所述，本文所述的基于纹理化玻璃的制品100可以被用作移动电子装置的前覆盖或者背覆盖。基于玻璃的制品100不仅起到保护覆盖的作用，而且还起到实现移动电子装置的各种功能的作用。例如，基于纹理化玻璃的制品100可以具有所需的防眩光性质(这改善了存在环境强光状态下的显示器可读性)，可以改善触感，并且还可以提供所需的美学外观。
可以通过非耦合图像清晰度数值来对本文所述的基于玻璃的制品100进行表征。通过题为“Standard Test Methods for Instrumental Measurements of Distinctness-of-Image Gloss of Coating Surfaces(涂层表面的图像清晰度光泽度的仪器测量的标准测试方法)”的ASTM方案D5767(ASTM 5767)的方法A来定义“反射图像清晰度”、“图像清晰度”或者“DOI”等术语。根据ASTM 5767的方法A，在玻璃制品的至少一个粗糙化表面上，在镜面观察角和略微偏离镜面观察角的角度进行玻璃反射因子的测量。结合通过这些测量获得的值来提供DOI值。具体来说，根据下式(1)计算DOI：
DOI＝[1-Ros/Rs]×100   (1)
式中，Rs是镜面方向上的反射率的相对幅度，而Ros是偏离镜面方向的反射率的相对幅度。如本文所述，除非另外说明，否则，可以通过对在偏离镜面方向0.2°至0.4°的角度范围内获得的反射率进行取平均值来计算Ros。Rs可通过对以镜面方向为中心，在±0.05°的角度范围内得到的反射率取平均值而计算得到。Rs和Ros都可以采用测角光度计(RhopointIQ，测角光度计，20°/60°/85°，Rhopoint仪器公司)进行测量，其根据ASTM方案D523和D5767校准至认证黑玻璃标准。Rhopoint IQ仪器使用检测器阵列，其中，镜面角位于检测器阵列中的最高值的中心。采用双侧(允许来自两个玻璃表面的反射，没有东西耦合到玻璃)方法来评估DOI，其中，将结果称作“非耦合图像清晰度”。双侧测量实现了将玻璃制品作为整体来确定光泽度、反射率和DOI。可以从Rs和Ros所取得的平均值来计算之比Ros/Rs，如上文所述。“20°DOI”或“DOI 20°”是指光从偏离玻璃表面法线20°的角度入射到样品上的DOI测量值，如ASTM D5767所述。采用双侧方法测量DOI或者普通光泽度最好可以在暗室或者暗环境中进行，从而当不存在样品时，测得的这些属性值是零。
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品100的经过纹理化处理的部分可以具有至少78％的非耦合图像清晰度。例如，在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品100的经过纹理化处理的部分可以具有如下非耦合图像清晰度：至少78％，至少79％，至少80％，至少81％，至少82％，至少83％，至少84％，至少85％，至少86％，至少87％，至少88％，至少89％，至少90％，至少91％，至少92％，至少93％，至少94％，至少95％，至少96％，至少97％，至少98％，或者甚至至少99％。
还可以通过闪光对本文所述的基于玻璃的制品100进行表征。“闪光”、“闪光对比度”、“显示器闪光”、“像素功率偏差”、“PPD”或者类似术语指的是当纹理化的透明表面与像素显示器结合时存在的视觉现象。通常来说，闪光的量化涉及使用视域中的具有纹理化表面的点亮的显示器或模拟显示器的成像。面积P的闪光计算等于σ(P)/μ(P)，式中，σ(P)是面积P内所含的每个显示器像素的积分强度分布的标准偏差，其除以平均强度μ(P)。其符合如下规定：(1)J.Gollier等人，“Apparatus and method for determining sparkle(确定闪光的设备和方法)”，US 9411180B2，美国专利商标局，2016年7月20日；(2)A.Stillwell等人，“Perception of Sparkle in Anti-Glare Display Screens(防眩光显示屏中闪光的感知)”，JSID 22(2)，129-136(2014)；以及(3)C.Cecala等人，“Fourier Optics Modelingof Display Sparkle from Anti-Glare Cover Glass:Comparison to ExperimentalData(来自防炫光覆盖玻璃的显示器闪光的傅立叶光学建模：与实验数据的比较)”，美国光学学会成像和应用光学大会，JW5B.8(2020年)；本领域技术人员可以构建成像系统来量化闪光。或者，也可以使用市售可得系统(例如，SMS-1000，德国显示器测量技术和系统有限公司(Display Messtechnik&Systeme GmbH&Co.KG))。如本文所用，采用140PPI显示器测量闪光。140PPI显示器(例如，Z50，中国香港联想集团有限公司)仅具有绿色子像素发光(R＝0，B＝0，G＝255)以显示器全亮度成像，采用f＝50mm透镜/机械成像视觉照相机组合(例如，C220503 1:2.8 50mmΦ30.5，日本Tamron公司，以及Stingray F-125B，德国联合视觉技术有限公司(Allied Vision Technologies GmbH))。透镜设定为光圈＝5.6，景深＝0.3，工作距离＝约290mm；在这些设定的情况下，显示器像素与照相机像素之比约为1至9。进行分析的视域含有约7500个显示器像素。照相机设定已经关闭了增益和伽马校正。在计算闪光之前，已经在分析过程中去除了(来自例如显示器的)周期性强度变化和非周期性强度变化(例如，死像素)。
在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品100的经过纹理化处理的部分可以具有140ppi时小于或等于5％的闪光。例如，在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品100的经过纹理化处理的部分在140ppi时可以具有如下闪光：小于或等于5％，小于或等于4.75％，小于或等于4.5％，小于或等于4.25％，小于或等于4％，小于或等于3.75％，小于或等于3.5％，小于或等于3.25％，小于或等于3％，小于或等于2.75％，小于或等于2.5％，小于或等于2.25％，或者甚至小于或等于2。
可以采用各种工艺(例如，磨蚀结合蚀刻技术)来生产本文所述的基于纹理化玻璃的制品100。可以通过结合了喷砂和蚀刻工艺的技术来生产适合用作显示器覆盖的基于玻璃的制品100。在一些实施方式中，采用碱性蚀刻剂来进行蚀刻。在其他实施方式中，可以采用酸性蚀刻剂(例如，氢氟酸)来进行蚀刻。但是，使用氢氟酸存在明显的安全问题和环境问题。替代性技术(例如，不采用HF酸蚀刻的那些)先前已经展现出长的制造时长(缓慢的制造产率)和/或差的表面性质、光学性质和机械性质。
本文所述的采用碱性蚀刻剂的工艺所产生的基于玻璃的制品100的表面性质、光学性质和机械性质能够等同于通过HF酸蚀刻工艺所产生的那些，同时还展现出合乎希望的制造产率能力。该工艺可以是较为快速的，并且产生了明显均匀的表面。此外，本文所述的工艺不采用HF酸，从而避免了与HF酸相关的安全和环境风险。
虽然应理解的是可以采用许多各种各样的工艺来制造本文所述的基于纹理化玻璃的制品100(例如，具有较高图像清晰度和较低闪光的那些)，但是本文对采用磨蚀和蚀刻的实施方式进行详细描述。
现参见图8，示意性显示用于形成此类基于玻璃的制品100的工艺300。该工艺可以包括：纹理化处理前加工步骤302，磨蚀步骤304，蚀刻步骤306，以及纹理化处理后加工步骤308。总体上来说，纹理化处理前加工步骤302和纹理化处理后加工步骤308是任选的。
在纹理化处理前加工步骤302中，可以制备基于玻璃的制品用于后续步骤。这可以包括对基于玻璃的制品进行尺寸调整或清洁。此外，步骤302可以包括向基于玻璃的制品的不需要进行纹理化处理的部分施加掩蔽或覆盖物。合适的掩蔽技术和材料的例子参见美国临时专利申请63/236,882(2021年8月25日提交)，其教导通过引用结合入本文。在本文所述的实施方式中，将此类步骤认为是任选的。
在一个或多个实施方式中，工艺包括磨蚀步骤304和蚀刻步骤306。磨蚀步骤304包括通过将磨料颗粒推向表面，对基于玻璃的基材的表面进行磨蚀以形成经过磨蚀的表面。蚀刻步骤306包括用蚀刻剂对经过磨蚀的表面进行蚀刻以形成经过蚀刻的基于玻璃的基材。
在实施方式中，步骤304的磨蚀过程可以是喷粒工艺(常称作喷介质或喷砂)，其中，通过加压流体介质将磨料颗粒推向基于玻璃的基材的表面。磨蚀过程可以包括表面的一种或多种处理。在实施方式中，磨蚀过程可以重复一次或多次以实现所需效果。
磨蚀过程可以采用任何合适的磨料颗粒。在实施方式中，磨料颗粒可以包括以下任意一种：砂、Al2O3、SiC或SiO2，及其组合。可以对磨料颗粒的粒度进行选择以产生所需的磨蚀效果，如下文详细所述。
磨蚀过程可以采用任何合适的压力和布置。在实施方式中，可以通过大于或等于5psi至小于或等于100psi的压力的流体介质推动磨料颗粒，例如5psi至10psi，10psi至15psi，15psi至20psi，20psi至25psi，25psi至30psi，30psi至35psi，35psi至40psi，40psi至45psi，45psi至50psi，50psi至55psi，55psi至60psi，60psi至65psi，65psi至70psi，70psi至75psi，75psi至80psi，80psi至85psi，85psi至90psi，90psi至95psi，95psi至100psi，或其组合，包括由任何前述端点形成的任意和全部范围。
在实施方式中，推动磨料颗粒的流体介质可以是空气。在实施方式中，从距离表面大于或等于5cm至小于或等于20cm的喷嘴推动磨料颗粒，例如：大于或等于6cm至小于或等于19cm，大于或等于7cm至小于或等于18cm，大于或等于8cm至小于或等于17cm，大于或等于9cm至小于或等于16cm，大于或等于10cm至小于或等于15cm，大于或等于11cm至小于或等于14cm，大于或等于12cm至小于或等于13cm，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。喷嘴可以放置成使得以相对于垂直于表面的任何角度将磨料颗粒推向基于玻璃的基材的表面，其中0°角度表明沿着垂直于表面的路径推动磨料颗粒。在实施方式中，以相对于垂直于表面从大于或等于0°到小于或等于60°的任何角度将磨料颗粒推向基于玻璃的基材的表面，例如：大于或等于5°至小于或等于55°，大于或等于10°至小于或等于50°，大于或等于15°至小于或等于45°，大于或等于20°至小于或等于40°，大于或等于25°至小于或等于35°，大于或等于0°至小于或等于30°，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。
可以对步骤306的蚀刻工艺进行选择以实现提供了所需的蚀刻速度的表面去除速率。通常来说，希望更快的蚀刻速率，因为快的蚀刻速率增加了制造产出。但是，当蚀刻速率太高时，可能降低表面均匀性，并且可能建立起外观缺陷。蚀刻速率是蚀刻剂以及基于玻璃的基材的组成的函数。在采用碱性蚀刻剂的实施方式中，进行蚀刻的表面去除速率可以小于或等于10μm/小时，例如：小于或等于9.5μm/小时，小于或等于9μm/小时，小于或等于8.5μm/小时，小于或等于8μm/小时，小于或等于7.5μm/小时，小于或等于7μm/小时，小于或等于6.5μm/小时，小于或等于6μm/小时，小于或等于5.5μm/小时，小于或等于10μm/小时，或者更小。当采用HF时，可以获得明显更快的速度。
步骤306的蚀刻过程进行的时间段足以产生所需的表面性质，例如图像清晰度和闪光。在采用碱性蚀刻剂的一些实施方式中，基于玻璃的基材与蚀刻剂接触持续大于或等于30分钟至小于或等于400分钟的时间段，例如：大于或等于30分钟至小于或等于300分钟，大于或等于40分钟至小于或等于390分钟，大于或等于50分钟至小于或等于380分钟，大于或等于60分钟至小于或等于370分钟，大于或等于70分钟至小于或等于360分钟，大于或等于80分钟至小于或等于350分钟，大于或等于90分钟至小于或等于340分钟，大于或等于100分钟至小于或等于330分钟，大于或等于110分钟至小于或等于320分钟，大于或等于120分钟至小于或等于310分钟，大于或等于130分钟至小于或等于300分钟，大于或等于140分钟至小于或等于290分钟，大于或等于150分钟至小于或等于280分钟，大于或等于160分钟至小于或等于270分钟，大于或等于170分钟至小于或等于260分钟，大于或等于180分钟至小于或等于250分钟，大于或等于190分钟至小于或等于240分钟，大于或等于200分钟至小于或等于230分钟，大于或等于210分钟至小于或等于220分钟，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。当HF是蚀刻剂时，可以采用明显更短的时间。
蚀刻剂可以具有任何合适的组成。在一些实施方式中，蚀刻剂是氢氧化物浓度大于或等于5重量％至小于或等于50重量％的水性氢氧化物溶液，例如：大于或等于10重量％至小于或等于45重量％，大于或等于15重量％至小于或等于40重量％，大于或等于20重量％至小于或等于35重量％，大于或等于25重量％至小于或等于30重量％，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。在实施方式中，蚀刻剂包括NaOH、KOH，或其组合。蚀刻剂可以基本不含或者不含氢氟酸。在一些实施方式中，在没有采用氢氟酸的情况下生产得到如本文所述的基于玻璃的制品100。
在蚀刻过程期间，蚀刻剂可以处于升高的温度。升高的温度可以增加蚀刻速率。在实施方式中，蚀刻剂的温度大于或等于90℃至小于或等于140℃，例如：大于或等于90℃至小于或等于132℃，大于或等于95℃至小于或等于135℃，大于或等于100℃至小于或等于130℃，大于或等于105℃至小于或等于125℃，大于或等于110℃至小于或等于120℃，大于或等于90℃至小于或等于115℃，以及由前述端点形成的任意和全部子范围。
可以对步骤306的蚀刻速率和蚀刻时间进行选择，从而从基于玻璃的基材的表面去除所需的材料量。如果蚀刻步骤中去除的材料量太低，则可能无法实现所需的表面性质(例如，图像清晰度和闪光)。从经过磨蚀的表面去除太多材料可能增加成本并且可能降低制造产率。在实施方式中，蚀刻过程可以从经过磨蚀的表面去除大于或等于5μm至小于或等于50μm，例如：大于或等于10μm至小于或等于45μm，大于或等于15μm至小于或等于40μm，大于或等于20μm至小于或等于35μm，大于或等于25μm至小于或等于30μm，以及由前述端点形成的任意和全部子范围。除非另有说明，否则通过测微计以基于玻璃的制品100的厚度方向测量从经过磨蚀的表面去除的材料量。
发现步骤304中的喷砂介质的尺寸以及喷砂压力对于表面破坏深度具有影响。此外，喷砂的压力和长度影响通过喷砂得到的破坏的密度。不受限于任何特定理论，相信可以通过调节喷砂介质尺寸、喷砂压力、喷砂时间，或者这些的组合来获得不同的光学性质。具体来说，采用较小的喷砂介质可以在经过蚀刻的表面中产生较小的表面特征。此外，较高的喷砂压力或者更久的喷砂时间可以产生更为均匀的表面特征覆盖。
现参见图3A-3C，示意性显示了在喷砂之前(左边)、在喷砂之后(中间)以及在蚀刻之后(右边)的三种示例性的基于玻璃的基材。在图3A中，采用具有较低喷砂压力的较大(例如，平均直径为3-15微米)的喷砂介质(即，磨料颗粒)。这可以表示为比较例。图3B代表的是类似于图3A的实施方式，但是将喷砂介质尺寸降低至例如1-3微米的平均直径。如所示的那样，图3B的实施方式中的缺陷没有图3A中的那些那么深。一旦蚀刻好，图3B的实施方式的表面特征没有图3A的那些那么深。此外，图3C显示类似于图3B的实施方式，但是增加了喷砂压力。如所示，喷砂压力的增加产生了更多的缺陷，并且在蚀刻之后，呈现出表面特征对于基于玻璃的基材的表面的更好的覆盖情况。
不受限于任何特定理论，相信图3B和3C的实施方式可以具有合乎希望的闪光和图像清晰度。由此，具有希望的闪光和图像清晰度的实施方式可以在步骤304中采用较小的磨料颗粒，例如平均直径小于或等于3微米的那些，例如平均直径为1微米至3微米。例如，磨料颗粒可以具有如下平均直径：1微米至1.2微米，1.2微米至1.4微米，1.4微米至1.6微米，1.6微米至1.8微米，1.8微米至2微米，2微米至2.2.微米，2.2微米至2.4微米，2.4微米至2.6微米，2.6微米至2.8微米，2.8微米至3微米，或者这些范围的任意组合。
根据3个不同实施方式，用于步骤304的磨蚀过程的磨料颗粒可以具有1微米至3微米的平均直径，以及用于磨蚀的压力在第一个实施方式中可以是43.5至87.0psi，在第二个实施方式中可以是58psi至87psi，以及在第三个实施方式中可以是72.5psi至87psi。可以通过采用粒度和压力的这些组合来实现纹理化的不同效果，如下文实施例中所讨论的那样。
在蚀刻步骤306之后，可以进行任选的纹理化处理后加工步骤308。这个步骤308可以包括：去除掩蔽(如果使用了掩蔽的话)，对经过纹理化处理的基于玻璃的制品100进行离子交换，或者施加涂层，如本文所述。离子交换步骤可以包括用熔盐浴对经过蚀刻的基于玻璃的基材进行离子交换以形成基于玻璃的制品100，其包括从其表面延伸到压缩深度的压缩应力层。在一个或多个实施方式中，该工艺产生了具有所需的图像清晰度和闪光的基于玻璃的制品100。
用于形成基于纹理化玻璃的制品100的基于玻璃的基材可以具有任何合适的组成。基于玻璃的基材的组成影响蚀刻速率，如本文所述的实施例中所阐述的那样。选择展现出快速蚀刻速率的基于玻璃的基材增加了制造产率。
在实施方式中，基于玻璃的基材可以包括玻璃陶瓷。示例性玻璃陶瓷材料是2016年4月14日公开的题为“High Strength Glass-Ceramics Having Petalite and LithiumSilicate Structures(具有透锂长石和硅酸锂盐结构的高强度玻璃陶瓷)”的美国专利公开第2016/0102010A1号中所述的那些，其全文通过引用结合入本文。
在实施方式中，基于玻璃的基材可以包括碱性铝硅酸盐玻璃，例如铝硅酸锂盐玻璃。示例性铝硅酸锂盐玻璃材料是2019年10月3日公开的题为“Glasses Having HighFracture Toughness(具有高的断裂韧度的玻璃)”的美国专利公开第2019/0300422A1号中所述的那些，其全文通过引用结合入本文。在其他实施方式中，可以使用碱土铝硅酸盐玻璃。
在实施方式中，基于玻璃的基材可以包括基本不含或者不含锂的碱性铝硅酸盐。基本不含或者不含锂的示例性碱性铝硅酸盐玻璃材料是2009年6月4日公开的题为“Glasses Having Improved Toughness and Scratch Resistance(具有改进的韧性和耐划痕性的玻璃)”的美国专利申请公开第2009/0142568A1号；2014年8月14日公开的题为“Zircon Compatible,Ion Exchangeable Glass With High Damage Resistance(具有高的抗破坏性的锆相容的可离子交换玻璃)”的美国专利申请公开第2014/0227523A1号；以及2011年8月11日公开的题为“Crack And Scratch Resistant Glass And Enclosures MadeTherefrom(抗开裂和耐划痕玻璃和由此制造的外壳)”的美国专利申请公开第2011/0201490A1号所述的那些，它们全文分别通过引用结合入本文。
在步骤308任选地包含的离子交换处理中，经过蚀刻的基于玻璃的制品与熔盐浴接触以产生基于经过离子交换的玻璃的制品。在实施方式中，经过蚀刻的基于玻璃的制品可以浸没在熔盐浴中。在实施方式中，熔盐浴包括熔融硝酸盐。熔融硝酸盐可以包括KNO3、NaNO3，或其组合。在实施方式中，熔盐浴包含NaNO3和KNO3。熔盐浴可以额外地包含硅酸。
可以通过将经过蚀刻的基于玻璃的基材浸入熔盐浴中，将经过蚀刻的基于玻璃的基材暴露于熔盐浴。根据实施方式，在暴露于经过蚀刻的基于玻璃的基材之后，熔盐浴可以处于大于或等于350℃至小于或等于500℃的温度，例如：大于或等于360℃至小于或等于490℃，大于或等于370℃至小于或等于480℃，大于或等于390℃至小于或等于470℃，大于或等于400℃至小于或等于460℃，大于或等于410℃至小于或等于450℃，大于或等于420℃至小于或等于440℃，大于或等于350℃至小于或等于430℃，以及由任意前述端点形成的任何和全部子范围。
离子交换处理可以持续足以在基于玻璃的制品中产生所需应力特性的任何时间段。在实施方式中，经过蚀刻的基于玻璃的制品可以暴露于熔盐浴持续大于或等于10分钟至小于或等于500分钟的时间段，例如：大于或等于10分钟至小于或等于300分钟，大于或等于20分钟至小于或等于490分钟，大于或等于30分钟至小于或等于480分钟，大于或等于40分钟至小于或等于470分钟，大于或等于50分钟至小于或等于460分钟，大于或等于60分钟至小于或等于450分钟，大于或等于70分钟至小于或等于440分钟，大于或等于80分钟至小于或等于430分钟，大于或等于90分钟至小于或等于420分钟，大于或等于100分钟至小于或等于410分钟，大于或等于110分钟至小于或等于400分钟，大于或等于120分钟至小于或等于390分钟，大于或等于130分钟至小于或等于380分钟，大于或等于140分钟至小于或等于370分钟，大于或等于150分钟至小于或等于360分钟，大于或等于160分钟至小于或等于350分钟，大于或等于170分钟至小于或等于340分钟，大于或等于180分钟至小于或等于330分钟，大于或等于190分钟至小于或等于320分钟，大于或等于200分钟至小于或等于310分钟，大于或等于210分钟至小于或等于300分钟，大于或等于220分钟至小于或等于290分钟，大于或等于230分钟至小于或等于280分钟，大于或等于240分钟至小于或等于270分钟，大于或等于250分钟至小于或等于260分钟，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。
除了图像清晰度和闪光之外，基于玻璃的制品100还通过诸如雾度水平、表面粗糙度和光泽度60°值之类的特性进行表征。
基于玻璃的制品100的雾度较低，并且可以提供所需的光学性质和令人愉悦的美学外观。例如，基于玻璃的制品的雾度提供的抗眩光能力改善了高光环境条件下(例如，明亮日光下)的性能。在一些实施方式中，雾度小于或等于45％，例如：小于或等于40％，小于或等于35％，小于或等于30％，小于或等于25％，小于或等于20％，小于或等于15％，小于或等于10％，小于或等于5％，或者更小。在一些实施方式中，雾度大于或等于3％至小于或等于40％，例如：大于或等于5％至小于或等于35％，大于或等于10％至小于或等于30％，大于或等于15％至小于或等于25％，大于或等于20％至小于或等于40％，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。如本文所用，雾度指的是“透射雾度”，并且根据ASTM D1003的“Standard Test Method for Haze and Luminous Transmittance of TransparentPlastics(透明塑料的雾度和发光透射率的标准测试方法)”采用光源C，利用雾度-加德透明透射雾度计进行测量。
基于玻璃的制品100可以具有足以产生所需光学特性的任何表面粗糙度。表面粗糙度还可以为基于玻璃的制品100提供令人愉悦的触感。在一个或多个实施方式中，基于玻璃的制品100具有大于或等于100nm至小于或等于400nm的表面粗糙度，例如：大于或等于110nm至小于或等于390nm，大于或等于120nm至小于或等于380nm，大于或等于130nm至小于或等于370nm，大于或等于140nm至小于或等于360nm，大于或等于150nm至小于或等于350nm，大于或等于160nm至小于或等于340nm，大于或等于170nm至小于或等于330nm，大于或等于180nm至小于或等于320nm，大于或等于190nm至小于或等于310nm，大于或等于200nm至小于或等于300nm，大于或等于210nm至小于或等于290nm，大于或等于220nm至小于或等于280nm，大于或等于230nm至小于或等于270nm，大于或等于240nm至小于或等于260nm，大于或等于250nm至小于或等于400nm，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。除非另有说明，否则如本文所述的“表面粗糙度”指的是Ra(测得轮廓的算术平均偏差)。除非另有说明，否则以如下设定通过Zygo 7000测量Ra：扫描尺寸为180微米乘220微米；物镜：20倍Mirau；图像放大2倍；相机分辨率0.2777微米；滤波器：低通；滤波类型：平均；过滤低波长0；过滤高波长：0.83169微米。
可以通过光泽度值(例如，光泽度60°值)来表征基于玻璃的制品100。在实施方式中，基于玻璃的制品100具有小于或等于40％的光泽度60°值，例如：小于或等于35％，小于或等于30％，小于或等于25％，小于或等于20％，小于或等于15％，或者更小。在实施方式中，基于玻璃的制品100可以具有大于或等于10％至小于或等于40％的光泽度60°值，例如：大于或等于15％至小于或等于35％，大于或等于20％至小于或等于30％，大于或等于25％至小于或等于40％，大于或等于15％至小于或等于40％，以及由任何前述端点形成的任意和全部子范围。光泽度60°或光泽度60指的是采用Rhopoint光泽度计以偏离垂直60°所进行的测量。
实施例
通过以下的实施例对实施方式做进一步澄清。应理解的是，这些实施例不是对上文所述实施方式的限制。
实施例1
由厚度为1mm的组成为67.32摩尔％SiO2、12.65摩尔％Al2O3、3.76摩尔％B2O3、13.76摩尔％Na2O、0.01摩尔％K2O、2.37摩尔％MgO和0.04摩尔％CaO形成所使用的玻璃样品。然后，样品经受表I中的四种喷射条件，标记为A、B、C和D，采用的是SiC和Al2O3磨料颗粒，以形成经过磨蚀的样品。介质(水)中的颗粒浓度为5-15微米，以及喷射距离为10至15cm。当玻璃样品以0.1至1m/分钟以90度的垂直角度移动时进行喷砂。
表I
样品 A B C D
平均粒度(微米) 3-15 1-3 1-3 1-3
压力(MPa) 0.1–0.5 0.3–0.6 0.4–0.6 0.5–0.6
压力(psi) 14.5–72.5 43.5–87.0 58.0-87.0 72.5–87.0
如图4A-4D所示是样品的显微镜图像(SEM图像)。图4A显示样品A，图4B显示样品B，图4C显示样品C，以及图4D显示样品D。这些附图分别以两种不同放大水平显示同一个样品。此外，图5A-5D显示经过磨蚀的玻璃样品的横截面SEM图像，其中，图5A显示样品A，图5B显示样品B，图5C显示样品C，以及图5D显示样品D。图6显示从图5A-5D的SEM图像提取的数据以及在样品上的其他位置的图像。
如图4A和5A的图像(样品A)对比图4B和5B(样品B)所示，使用更细的介质产生了更细的表面破坏。此外，图4C和5C(样品C)以及图4D和5D(样品D)中使用的喷砂压力增加导致更深的表面破坏和更致密的表面破坏。对于表面破坏深度，图6显示样品A、B、C和D的样品中的深度。对比样品A和样品B所示，更小的喷砂介质产生更浅的缺陷(假定压力一致的情况下)。但是，随着压力的增加，缺陷深度增加，如样品B、C和D所示。
实施例2
对实施例1的样品进行蚀刻，从而使得去除了15-20微米的材料。通过如下方式制备蚀刻剂：混合873.5mL氢氧化钠(50重量％原液)和148mL去离子水，制得约1000mL的45重量％的NaOH溶液。将溶液加热至120℃。将玻璃蚀刻至30％目标雾度(样品A为70分钟，样品B为24分钟，样品C为40分钟，以及样品D为40分钟)。
如图7A-7D所示是样品的显微镜图像(SEM图像)。图7A显示样品A，图7B显示样品B，图7C显示样品C，以及图7D显示样品D。这些附图分别以两种不同放大水平显示同一个样品。从图像看出，喷砂介质尺寸减小导致更小的表面特征(将图7A的样品A与图7B的样品B进行比较)。此外，增加喷砂压力导致更均匀的表面覆盖(对比图7B、7C和7D中的样品A、B和C)。
实施例3
制备额外样品，如表II所述。采用实施例1的样品A、B、C和D的磨蚀技术制备样品。评估这些样品的特征，例如：蚀刻厚度(通过蚀刻的重量损失)、140ppi的闪光、雾度、非耦合图像清晰度以及粗糙度(R最大值、Rq和Ra)。
表II
表II的数据以及实施例2的样品的其他数据评估非耦合DOI。结果如表III所示。如所示，当采用样品B、C和D的小介质时，增加了平均DOI。
表IV显示制备的样品对于图像清晰度的其他性质。
表III
数据显示，在每种磨蚀规格，可以被用于制造具有较低闪光和较高图像清晰度(DOI)的样品。例如，样品A规格可以产生：闪光为2.84％、DOI为92.6％，闪光为3.64％、DOI为91.36％，或者闪光为4.32、DOI为90.57％。样品B规格可以产生：闪光为2.27％、DOI为92.22％，闪光为3.26％、DOI为91.54％，闪光为3.72％、DOI为91.2％，或者闪光为4.72％、DOI为88.72％。样品C规格可以产生：闪光为3.7％、DOI为94.63％，或者闪光为4.03、DOI为78.69％。样品D规格可以产生：闪光为2.78％、DOI为97.61％，闪光为3.03％、DOI为98.09％，或者闪光为4.06、DOI为91.81％。
本文公开了本申请的一个或多个方面。第1个方面可以是基于纹理化玻璃的制品，其包括：包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材，所述第一主表面与所述第二主表面相对；其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或多个的经过纹理化处理的那部分的粗糙度Ra是100nm至400nm，以及其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：140ppi时小于或等于5％的闪光，以及至少78％的非耦合图像清晰度。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有小于或等于45％的雾度。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分没有涂覆光学涂层。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，整个第一主表面经过纹理化处理。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，基于玻璃的基材包括玻璃陶瓷。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，基于玻璃的基材包括碱性铝硅酸盐玻璃或者碱土铝硅酸盐玻璃。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：140ppi时小于或等于4％的闪光，以及至少90％的非耦合图像清晰度。
另一个方面可以是消费者电子产品，其包括：具有前表面、背表面和侧表面的外壳；提供成至少部分位于外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供成位于外壳的前表面或者与外壳的前表面相邻；以及布置在显示器上方的覆盖基材，其中，外壳和覆盖基材中的至少一个的至少一部分包括任意其他方面的基于纹理化玻璃的制品。
另一个方面可以是基于纹理化玻璃的制品的制造方法，该方法包括：通过将磨料颗粒推向表面，对基于玻璃的基材的第一主表面和/或第二主表面的至少一部分进行磨蚀以形成经过磨蚀的表面；以及用蚀刻剂对经过磨蚀的表面进行蚀刻以形成基于纹理化玻璃的基材；其中，用平均直径小于或等于3微米的磨料介质对基于玻璃的基材的表面进行磨蚀。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，通过压力大于或等于40psi的流体介质来推动磨料颗粒。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，蚀刻持续30分钟至400分钟的时间段，以及其中，蚀刻剂是氢氧化物浓度为5重量％至50重量％的水性氢氧化物溶液。
另一个方面可以是任意前述方面，其还包括用熔盐浴对经过蚀刻的基于玻璃的基材进行离子交换。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，蚀刻剂包括NaOH、KOH，或其组合。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，蚀刻从经过磨蚀的表面去除了5μm至50μm的材料。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，蚀刻剂所处的温度是90℃至140℃。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，磨料颗粒包括以下至少一种：砂、Al2O3、SiC、SiO2，及其组合。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，从距离表面5cm至20cm的喷嘴推动磨料颗粒。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，通过压力为43.5psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，通过压力为58psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，通过压力为72.5psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的部分具有：140ppi时小于或等于5％的闪光，以及至少78％的非耦合图像清晰度。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的部分具有小于或等于45％的雾度。
另一个方面可以是基于纹理化玻璃的制品，其包括：包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材，所述第一主表面与所述第二主表面相对；其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：140ppi时小于或等于5％的闪光，至少78％的非耦合图像清晰度，小于或等于45％的雾度，以及100nm至400nm的粗糙度Ra。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，整个第一主表面经过纹理化处理。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，基于玻璃的基材包括玻璃陶瓷。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，基于玻璃的基材包括碱性铝硅酸盐玻璃或者碱土铝硅酸盐玻璃。
另一个方面可以是任意前述方面，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分没有涂覆光学涂层。
对本领域的技术人员显而易见的是，可以对本文所述的实施方式进行各种修改和变动而不偏离要求保护的主题的精神和范围。因此，本说明书旨在涵盖本文所述的各种实施方式的修改和变化形式，只要这些修改和变化形式落在所附权利要求及其等同内容的范围之内。

Claims (27)

1.一种基于纹理化玻璃的制品，其包括：
包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材，所述第一主表面与所述第二主表面相对；
其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或多个的经过纹理化处理的那部分的粗糙度Ra是100nm至400nm，以及其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：
140ppi时小于或等于5％的闪光；以及
至少78％的非耦合图像清晰度。
2.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有小于或等于45％的雾度。
3.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分没有涂覆光学涂层。
4.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，整个第一主表面经过纹理化处理。
5.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，基于玻璃的基材包括玻璃陶瓷。
6.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，基于玻璃的基材包括碱性铝硅酸盐玻璃或者碱土铝硅酸盐玻璃。
7.如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：
140ppi时小于或等于4％的闪光；以及
至少90％的非耦合图像清晰度。
8.一种消费者电子产品，其包括：
具有前表面、背表面和侧表面的外壳；
至少部分提供在外壳内的电子组件，所述电子组件至少包括控制器、存储器和显示器，所述显示器提供在外壳的前表面处或者与外壳的前表面相邻；和
布置在显示器上方的覆盖基材；
其中，外壳和覆盖基材中的至少一个的至少一部分包括如权利要求1所述的基于纹理化玻璃的制品。
9.一种基于纹理化玻璃的制品的制造方法，该方法包括：
通过将磨料颗粒推向表面，对基于玻璃的基材的第一主表面和/或第二主表面的至少一部分进行磨蚀以形成经过磨蚀的表面；以及
用蚀刻剂对经过磨蚀的表面进行蚀刻以形成基于纹理化玻璃的基材；
其中，用平均直径小于或等于3微米的磨料介质对基于玻璃的基材的表面进行磨蚀。
10.如权利要求9所述的方法，其中，通过压力大于或等于40psi的流体介质来推动磨料颗粒。
11.如权利要求9所述的方法，其中，蚀刻持续30分钟至400分钟的时间段，以及其中，蚀刻剂是氢氧化物浓度为5重量％至50重量％的水性氢氧化物溶液。
12.如权利要求9所述的方法，其还包括用熔盐浴对经过蚀刻的基于玻璃的基材进行离子交换。
13.如权利要求9所述的方法，其中，蚀刻剂包括NaOH、KOH，或其组合。
14.如权利要求9所述的方法，其中，蚀刻从经过磨蚀的表面去除了5μm至50μm的材料。
15.如权利要求9所述的方法，其中，蚀刻剂所处的温度是90℃至140℃。
16.如权利要求9所述的方法，其中，磨料颗粒包括以下至少一种：砂、Al2O3、SiC、SiO2，及其组合。
17.如权利要求9所述的方法，其中，从距离表面5cm至20cm的喷嘴推动磨料颗粒。
18.如权利要求9所述的方法，其中，通过压力为43.5psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
19.如权利要求9所述的方法，其中，通过压力为58psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
20.如权利要求9所述的方法，其中，通过压力为72.5psi至87psi的流体介质来推动磨料颗粒。
21.如权利要求9所述的方法，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的部分具有：
140ppi时小于或等于5％的闪光；以及
至少78％的非耦合图像清晰度。
22.如权利要求9所述的方法，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的部分具有小于或等于45％的雾度。
23.一种基于纹理化玻璃的制品，其包括：
包含第一主表面和第二主表面的基于玻璃的基材，所述第一主表面与所述第二主表面相对；
其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的至少一部分经过纹理化处理，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分具有：
140ppi时小于或等于5％的闪光；
至少78％的非耦合图像清晰度；
小于或等于45％的雾度；以及
100nm至400nm的粗糙度Ra。
24.如权利要求23所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，整个第一主表面经过纹理化处理。
25.如权利要求23所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，基于玻璃的基材包括玻璃陶瓷。
26.如权利要求23所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，基于玻璃的基材包括碱性铝硅酸盐玻璃或者碱土铝硅酸盐玻璃。
27.如权利要求23所述的基于纹理化玻璃的制品，其中，所述第一主表面和所述第二主表面中的一个或两个的经过纹理化处理的那部分没有涂覆光学涂层。
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