TW201305067A - 透過研磨與蝕刻而成之光散射物件 - Google Patents

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Abstract

一種方法，包含以下步驟：提供具有表面的玻璃基板；以包含研磨粒子及水的漿料噴塗該表面而形成研磨過的表面；以及蝕刻該研磨過的表面而形成紋理化的玻璃基板。該紋理化的玻璃基板可用於光伏電池中。一種光伏元件，包含光散射物件，該光散射物件包含：玻璃基板，該玻璃基板具有紋理化表面，其中該表面包含多個平滑坑洞，該等平滑坑洞具有1微米至10微米的平均寬度；導電材料，相鄰該等粒子；以及活性光伏介質，相鄰該導電材料。

Description

透過研磨與蝕刻而成之光散射物件 【相關申請案之交叉引用】
本案主張依據專利法於2011年5月26日提出申請之美國臨時申請案第61/490306號之優先權，本案仰賴該申請案之內文並且該內文的全文在此以參考形式併入本案。
實施例大體上關於光散射物件，詳言之，關於具有紋理化表面的光散射無機物件以及製做用於例如光伏電池的紋理化表面的研磨(abrasive)方法。
薄膜非晶形/微晶形矽(矽串接)類型的光伏電池是以玻璃片的使用為基礎，薄膜組件沉積在該玻璃片上，該等薄膜為TCO、非晶矽、結晶矽與抗反射塗層。在矽串接PV電池中，獲得入射光的高使用率是有益的，該高使用率部分是由玻璃上蓋板所致。再者，TCO的紋理化可對整體電池量子效能(Q.E.)產率有直接及/或非直接的影響。玻璃上蓋板在紋理化時可用於定向(orient)TCO的紋理。
WO 2009/026648 A1(CSG Solar AG)描述了研磨與蝕刻紋理化玻璃，其中該最初的研磨是透過噴砂 (sandblasting)所完成。似乎較佳的方法是乾式噴砂，而添加溼式噴砂作為可能的替代方法。也提到迴旋研光(orbital lapping)是一種可能的紋理化技術。
擁有其中研磨與蝕刻在基板上建立紋理化表面的光散射紋理化玻璃基板是有利的。進一步言之，在用於矽串接光伏電池的玻璃基板表面上建立紋理是有利的。
如在此所述的光散射物件與製做該等光散射物件的方法解決了上文所提及的習知光散射物件及/或方法的一或多個缺點，且可提供以下一或多個優點：製造上的簡單性與可能的高處理量、諸如霧化與漫射之類的最終性質的彈性(flexibility)以及透過遮蔽玻璃基板的選擇區域而僅紋理化最初基板的幾個部分的可能性。
一個實施例是一種方法，該方法包含以下步驟：提供具有表面的玻璃基板，以包含研磨粒子及水的漿料噴塗該表面而形成研磨過的表面，以及蝕刻該研磨過的表面而形成紋理化的玻璃基板。
另一實施例是一種光伏元件，該光伏元件包含光散射物件，該光散射物件包含：玻璃基板，該玻璃基板具有紋理化表面，其中該表面包含多個平滑坑洞，該等平滑坑洞具有1微米至10微米的平均寬度；導電材料，相鄰該等粒子；以及活性光伏介質，相鄰該導電材料。
本發明額外的特徵與優點將於下文的實施方式中提出，並且在某種程度上那些熟悉本領域之技術人員從該敘述中將很容易理解該些特徵與優點，或藉由實施於說明書文本中及本發明之請求項(以及附圖)中所述之本發明，而能夠認識該些特徵與優點。
應瞭解，前文的大體描述與下文的詳細描述都僅僅是本發明之範例，申請人希望提供概述或框架以使世人理解本發明所主張之本質與特質。
在此納入附圖以提供對本發明之進一步之理解，且該等附圖被納入本說明書並且構成本說明書之一部分。該等圖式闡述了本發明一或多個實施例，並連同說明書以解釋本發明之原則與操作。
現在，請詳閱本發明的各實施例，這些實施例的範例繪示於所附的圖式中。如果可能，則在這些圖式中使用相同的元件符號指示相同或類似部件。
如此處所使用，取決於光伏電池(photovoltaic cell)之配置方式，術語「基板(substrate)」可用來描述基板或上蓋板(superstrate)。例如，如果當將基板組裝至光伏電池時，該基板位於光伏電池之光入射側，則該基板是上蓋板。該上蓋板可以為光伏材料提供保護以避免碰撞及環境之劣化，同時允許適當波長之太陽光譜之透 射。進一步地，可以將多個光伏電池排列成光伏模組。
如此處所使用，術語「相鄰」可以被定義為極為接近。相鄰之結構可能會或可能不會彼此實體接觸。相鄰之結構可以有其他層及/或結構設置於相鄰之結構之間。
第1圖是矽串接PV太陽能電池的特徵100的示意圖。如第1圖中所示的另一實施例是光伏元件，該光伏元件包含光散射物件，該光散射物件包含：玻璃基板10，該玻璃基板具有紋理化表面11，其中該表面包含多個平滑坑洞，該等平滑坑洞具有1微米至15微米的平均寬度；導電材料12，相鄰該表面；以及活性光伏介質，相鄰該導電材料。此實施例中，活性光伏介質是矽串接(非晶矽14、結晶矽16)介質。平滑坑洞在尺寸上可為隨機，且一些坑洞可小於或大於1微米至15微米。
一個實施例中，導電材料是透明導電膜。透明導電膜(例如，透明導電氧化物(TCO))可包含紋理化表面。TCO的紋理可與經紋理化的玻璃基板之紋理共形。活性光伏介質可與透明導電膜實體接觸。
一個實施例中，該元件進一步包含輔助電極(counter electrode)18，該輔助電極與活性光伏介質實體接觸並且位在與導電材料相對的活性光伏介質之表面上。該元件可進一步包含背反射體20，該背反射體20相鄰輔助電極。來自該經紋理化的玻璃基板的紋理化可在所有層中為共形。白色箭號圖示經由光伏元件的經紋理化之層的光散射。
一個實施例中，TCO在厚度上大約1微米。一個實施例中，非晶矽在厚度上大約是0.2微米。在一個實施例中，結晶矽在厚度上低於2微米。
一個實施例是一種方法，該方法包含以下步驟：提供具有表面的玻璃基板，以包含研磨粒子及水的漿料噴塗該表面而形成研磨過的表面，以及蝕刻該研磨過的表面而形成紋理化的玻璃基板。
根據一個實施例，噴塗包含以壓縮的空氣、流體動力壓力或壓縮的空氣與流體動力壓力之組合推動漿料。
噴塗可包含使用8 mm直徑的噴嘴、每分鐘10升的液體流速以及2巴至4巴(bar)的壓縮空氣壓力噴塗該漿料。一個實施例中，噴嘴與表面之間的距離是從50 mm至150 mm。可透過從噴嘴以正交表面的一角度噴塗漿料，而完成該噴塗。一或多個噴嘴可平移橫越玻璃基板的表面。
一個實施例中，研磨粒子具有1微米至20微米的平均直徑，例如1-15微米，例如1-10微米。一個實施例中，研磨粒子具有400至1200的網目(mesh)尺寸。一個實施例中，研磨粒子具有600網目尺寸、5微米至20微米的粒徑分佈以及10微米的中值粒徑。研磨粒子可包含氧化鋁、碳化矽或氧化鋁與碳化矽之組合，或者該等研磨粒子是氧化鋁。可使用其他類型的粒子做為研磨粒子，例如，能夠從玻璃基板表面移除玻璃的任何材料。
該漿料可包含水中20至40重量百分比的氧化鋁。一 些實施例中，玻璃基板是鹼石灰(sodalime)玻璃、專業玻璃(specialty glass)、熔融矽石、無鹼玻璃或前述材料之組合。
根據一個實施例，蝕刻包含以蝕刻溶液蝕刻該研磨過的表面，該蝕刻溶液包含HF與HCl。該溶液可以是HF：HCl：H2O為1：1：20的溶液。一個實施例中，該蝕刻包含蝕刻該研磨過的表面5分鐘至15分鐘。該方法可進一步包含在蝕刻後清潔該紋理化的玻璃基板。可透過浸漬(在蝕刻溶液浴中)及/或透過噴塗(以類似或相同的蝕刻溶液)執行該蝕刻。
根據一個實施例，該方法進一步包含在噴塗前遮蔽玻璃基板的選擇區域。可使用此技術領域中已知的遮蔽技術。
根據一個實施例，該基板是平坦的。一個實施例中，該玻璃基板是透明的。
光伏元件可包含根據上述方法製做的紋理化玻璃基板。
第3圖是示範性方法的流程圖。
在玻璃上蓋板上建立的紋理在特定範圍的特徵尺寸與形狀中是有利的，此舉是為了提供電池效能的改善而不至於引發劣化效應(例如電分流)。期望的紋理形式是平滑的坑洞，該坑洞具有微米範圍的特徵尺寸(1微米至10微米)。這可透過噴砂的第一步驟而獲得，該噴砂移除玻璃碎片，而使表面具有尖銳角度。第二步驟是酸蝕 刻，該酸蝕刻傾向起始於邊緣處並且將這些邊緣磨圓，而造成較平滑的圖案。
一個實施例中，使用兩個表面處理以紋理化最初玻璃片的表面，這是為了提供紋理以誘發太陽能電池效能產率改善。第一表面處理包含以細微的研磨粒子流對玻璃表面噴介質(media blasting)，該細微的研磨粒子在具有水的漿料中混合，並且由壓縮的空氣推動。此漿料容許使用較細微的研磨粒子勝於僅使用空氣，且此漿料也在玻璃基板表面上產生更少的破裂(水可作為衝擊的粒子上的減震介質)。
第二表面處理是酸蝕刻步驟，該酸蝕刻步驟部分地修飾第一步驟後獲得的紋理並且在噴介質後回復玻璃表面強度，該噴介質步驟會在玻璃表面中引發微裂隙。該結果產生高度漫射表面，同時維持總透射率。此舉透過減少反射的光線量而使得光的使用率改善。最後，據信紋理的形狀有利於定向玻璃表面上沉積的透明導電氧化物的紋理。
以此述用於玻璃紋理化的噴砂蝕刻方法測試多種不同類型的玻璃基板，該玻璃紋理化是供矽串接PV太陽能電池所用，該等玻璃為：EagleXGTM、HPFS®熔融矽石、鹼石灰、CdTe太陽能電池用的專業玻璃等。由於機械研磨的本質取決於玻璃表面強度，在一些專業高表面強度玻璃上造成的紋理顯示出不能在傳統玻璃(諸如鹼石灰)上造成的特徵。這些特徵對於光捕捉特別有益且適合生 長TCO/矽層。
一個實施例中，該漿料包含氧化鋁粒子，該氧化鋁粒子具有細微網目(#600，對應5 μm至20 μm的粒徑，中值粒徑為10 μm)。氧化鋁是因其硬度而被使用。細微的粒子分佈有益於在玻璃上建立小碎片。較大尺寸的粒子造成較低的電池效能改善。在一個實施例中，該溶液的負載物是水中有重量百分比為20%至40%的氧化鋁。
第2圖是噴塗的特徵200的光學照片，該噴塗例如為示範性方法中的噴砂步驟。對於噴塗而言，例如對於8 mm直徑的噴嘴22而言，液體流速為每分鐘10升，而空氣壓力為2巴至4巴。在此範例中，噴嘴與玻璃基板24(玻璃基板為2×6吋)之表面之間的距離之範圍可為50 mm至150 mm；此參數對受研磨的表面的所得紋理有相當大的影響。玻璃載體26可以受控且可調整的速率水平或垂直移動。沖射的噴射柱(jet)受導引正交玻璃基板的表面，該角度對研磨過的表面的所得紋理產生適度的入射。噴塗時間影響研磨衝擊(坑洞)建立之處的表面片段。在達成完全覆蓋之後，物質持續被移除，並且似乎重製相同的表面圖案。在連續製程中，玻璃基板被擺放在載體上，在載體上方，數個噴嘴來回行進，以覆蓋全部表面並且提供良好的處理均質度。在較大尺寸設備上，第5代玻璃片的處理所期望的時間是5分鐘。
第4A圖與第4B圖是噴砂步驟之後獲得的示範性研磨表面的掃描式電子顯微鏡(SEM)影像。第4A圖是頂視 圖，而第4B圖是剖面圖。第5A圖與第5B圖是各別圖示針對噴砂步驟後獲得的示範性受研磨表面的漫透射率與總透射率的圖表。
樣本在噴砂步驟之後受到蝕刻，以部分修飾第一步驟後獲得的紋理並且回復玻璃表面強度。在第一個步驟之後需要此步驟，因為噴介質引發玻璃表面中的微裂隙。一個實施例中，蝕刻溶液包含HF與HCl的組合。可製做該蝕刻溶液以供所用的特定玻璃類型。取決於玻璃類型，需要各種蝕刻時間，例如對於顯示器品質玻璃(諸如EagleXGTM)而言，HF：HCl：H2O為1：1：20的溶液需要5-15分鐘。所有樣本在蝕刻步驟之後受到清洗(清潔)。
第6A圖與第6B圖是噴砂與蝕刻步驟後獲得的表面之SEM影像。第6A圖是頂視圖，而第6B圖是剖面圖。
第7圖是圖示針對四種典型紋理的噴砂與蝕刻後漫透射率的圖表，該四種典型紋理是：超高、高、中間與低霧化紋理(由頂至底)。
第8圖是圖示針對示範性中間霧化的經噴砂與蝕刻的玻璃基板之角散射的圖表。
第9圖是圖示針對示範性高霧化的經噴砂與蝕刻的玻璃基板之角散射的圖表。
對本發明所屬技術領域中之熟習技藝者而言，可明瞭在不背離本發明之精神或範疇下能夠針對本發明製做各種修飾以及變異。因此，若此發明的修飾與變異落入所附的請求項及請求項的等效例之範疇，申請人希望本發 明涵蓋此發明的該等修飾及變異。
10‧‧‧玻璃基板
11‧‧‧紋理化表面
12‧‧‧導電材料
14‧‧‧非晶矽
16‧‧‧結晶矽
18‧‧‧輔助電極
20‧‧‧背反射體
22‧‧‧噴嘴
24‧‧‧玻璃基板
26‧‧‧玻璃載體
100‧‧‧特徵
200‧‧‧特徵
可以從前文的實施方式中單獨或結合附圖理解本發明。
第1圖是矽串接PV太陽能電池的特徵的示意圖。
第2圖是示範性方法中噴砂步驟的光學照片。
第3圖是示範性方法的流程圖。
第4A圖與第4B圖是噴砂步驟之後獲得的示範性研磨表面的掃描式電子顯微鏡(SEM)影像。
第5A圖與第5B圖是各別圖示針對噴砂步驟後獲得的示範性受研磨表面的漫透射率與總透射率的圖表。
第6A圖與第6B圖是噴砂與蝕刻步驟後獲得的表面之SEM影像。
第7圖是圖示針對四種典型紋理的噴砂與蝕刻後漫透射率的圖表，該四種典型紋理是：超高、高、中間與低霧化紋理(由頂至底)。
第8圖是圖示針對示範性中間霧化的經噴砂與蝕刻的玻璃基板之角散射的圖表。
第9圖是圖示針對示範性高霧化的經噴砂與蝕刻的玻璃基板之角散射的圖表。
10‧‧‧玻璃基材
11‧‧‧紋理化表面
12‧‧‧導電材料
14‧‧‧非晶矽
16‧‧‧結晶矽
18‧‧‧輔助電極
20‧‧‧背反射體
100‧‧‧特徵

Claims (20)

  1. 一種方法，包含以下步驟：提供具有一表面的一玻璃基板；以包含研磨粒子及水的一漿料噴塗該表面而形成一研磨過的表面；以及蝕刻該研磨過的表面而形成一紋理化的玻璃基板。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該噴塗步驟包含以下步驟：以壓縮的空氣、流體動力壓力或前述二者之組合推動該漿料。
  3. 如請求項2所述之方法，其中該噴塗步驟包含以下步驟：使用一8 mm直徑的噴嘴、每分鐘10升的一液體流速以及2巴至4巴的一壓縮空氣壓力以噴塗該漿料。
  4. 如請求項3所述之方法，其中該噴嘴與該表面的距離為50 mm至150 mm。
  5. 如請求項4所述之方法，其中該噴塗步驟包含以下步驟：從該噴嘴以正交該表面的一角度噴塗該漿料。
  6. 如請求項2所述之方法，其中該噴塗步驟包含以下步驟：平移一或多個噴嘴橫越該玻璃基板的該表面。
  7. 如請求項1所述之方法，其中該等研磨粒子具有1微米至20微米的一平均直徑。
  8. 如請求項7所述之方法，其中該等研磨粒子具有一網目尺寸，該網目尺寸為400至1200。
  9. 如請求項1所述之方法，其中該等研磨粒子具有一600網目尺寸、5微米至20微米的一粒徑分佈以及10微米的一中值粒徑。
  10. 如請求項1所述之方法，其中該等研磨粒子包含氧化鋁、碳化矽或前述二者之組合。
  11. 如請求項10所述之方法，其中該漿料包含水中20至40重量百分比的氧化鋁。
  12. 如請求項1所述之方法，其中該玻璃基板是一鹼石灰玻璃、一專業玻璃、熔融矽石、一無鹼玻璃或前述材料之組合。
  13. 如請求項1所述之方法，其中該蝕刻步驟包含以下步 驟：以包含HF與HCl的一蝕刻溶液蝕刻該研磨過的表面。
  14. 如請求項13所述之方法，其中該溶液是HF：HCl：H2O為1：1：20的一溶液。
  15. 如請求項1所述之方法，進一步包含以下步驟：該蝕刻後，清潔該紋理化的玻璃基板。
  16. 如請求項1所述之方法，進一步包含以下步驟：在該噴塗前，遮蔽該玻璃基板的多個選擇區域。
  17. 一種光伏元件，包含根據請求項1所製的該紋理化玻璃基板。
  18. 一種光伏元件，包含一光散射物件，該光散射物件包含：一玻璃基板，該玻璃基板具有一紋理化表面，其中該表面包含多個平滑坑洞，該等平滑坑洞具有1微米至15微米的一平均寬度；一導電材料，相鄰該等粒子；以及一活性光伏介質，相鄰該導電材料。
  19. 如請求項18所述之元件，其中該導電材料是一透明 導電膜。
  20. 如請求項19所述之元件，其中該透明導電膜包含一紋理化表面。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110785857A (zh) * 2017-05-17 2020-02-11 特斯拉股份有限公司 均匀且定向着色的光伏模块
CN115284178A (zh) * 2022-07-08 2022-11-04 中国科学院光电技术研究所 一种高集成度激光散射器件的低成本制备方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6006176B2 (ja) * 2013-06-06 2016-10-12 株式会社不二製作所 透光性ガラスの表面処理方法及び透光性ガラス
JP6293138B2 (ja) * 2013-06-17 2018-03-14 株式会社カネカ 太陽電池モジュール及び太陽電池モジュールの製造方法
FR3059580B1 (fr) * 2016-12-01 2020-06-19 Sa Gerard Pariche Procede et installation de depolissage de recipient en verre
DE102017203977A1 (de) * 2017-03-10 2018-09-13 Gebr. Schmid Gmbh Verfahren zur Herstellung texturierter Wafer und Aufrausprühstrahlbehandlungsvorrichtung
EP3632618B1 (en) 2018-10-04 2021-03-10 Politecnico di Milano Abrasive water-jet cutting machine and method, and composition comprising abrasive material
CN109111859A (zh) * 2018-10-30 2019-01-01 秦皇岛市大龙建材有限公司 玻璃抛光液
CN109719630A (zh) * 2019-03-18 2019-05-07 郑州恒昊光学科技有限公司 一步法制备防眩光玻璃新工艺

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2573287A (en) * 1950-06-23 1951-10-30 Rauland Corp Electron gun for cathode-ray tubes
KR900004123B1 (ko) * 1988-01-14 1990-06-16 한국유리공업 주식회사 유리표면의 저반사 처리용 산용액조성물 및 이를 이용한 유리표면의 저반사 처리방법
JPH1168131A (ja) * 1997-08-25 1999-03-09 Citizen Watch Co Ltd 太陽電池の製造方法
JP2003069059A (ja) * 2001-08-28 2003-03-07 Kyocera Corp ガラス基板の粗面化方法およびそのガラス基板を用いた薄膜多結晶Ｓｉ太陽電池
JP2003192388A (ja) * 2001-12-25 2003-07-09 Nippon Sheet Glass Co Ltd 低反射ガラス基材の製造方法及びその方法で得られた低反射ガラス基材
EP2197807A4 (en) 2007-08-31 2011-11-30 Csg Solar Ag GLASS TEXTURING BY ABRASION-CHEMICAL ATTACK
KR101065744B1 (ko) * 2009-02-27 2011-09-19 주식회사 티지솔라 요철구조가 형성된 기판을 이용한 태양전지의 제조방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110785857A (zh) * 2017-05-17 2020-02-11 特斯拉股份有限公司 均匀且定向着色的光伏模块
CN110785857B (zh) * 2017-05-17 2023-11-14 特斯拉股份有限公司 均匀且定向着色的光伏模块
CN115284178A (zh) * 2022-07-08 2022-11-04 中国科学院光电技术研究所 一种高集成度激光散射器件的低成本制备方法

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WO2012162446A1 (en) 2012-11-29

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