KR102534515B1

KR102534515B1 - 반복 굴곡 디바이스용 점착제, 점착 시트, 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스

Info

Publication number: KR102534515B1
Application number: KR1020180125764A
Authority: KR
Inventors: 쇼 고사바; 요이치 다카하시; 다카유키 아라이
Original assignee: 린텍 가부시키가이샤
Priority date: 2017-11-16
Filing date: 2018-10-22
Publication date: 2023-05-22
Also published as: TW201923007A; JP7051382B2; JP2022087156A; CN109796916A; JP2019089975A; TWI788420B; JP7419423B2; KR20190056294A

Abstract

[과제] 반복 굴곡 디바이스에 적용하여 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하를 억제할 수 있는 반복 굴곡 디바이스용 점착제 및 점착 시트, 그리고 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하가 억제될 수 있는 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스를 제공한다.
[해결 수단] 반복 굴곡되는 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재(21)와 다른 굴곡성 부재(22)를 첩합하기 위한 반복 굴곡 디바이스용 점착제로서, 폴리로탁산 화합물을 함유하는 반복 굴곡 디바이스용 점착제.

Description

반복 굴곡 디바이스용 점착제, 점착 시트, 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스{ADHESIVE FOR REPEATEDLY FOLDABLE DEVICE, ADHESIVE SHEET, REPEATEDLY FOLDABLE LAMINATE MEMBER AND REPEATEDLY FOLDABLE DEVICE}

본 발명은 반복 굴곡되는 디바이스용의 점착제 및 점착 시트, 그리고 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스에 관한 것이다.

최근, 디바이스의 일종인, 전자 기기의 표시체(디스플레이)로서, 굴곡 가능한 디스플레이가 제안되고 있다. 이러한 굴곡성 디스플레이는, 예를 들면, 만곡시켜 원기둥상의 기둥에 설치하는 거치형 디스플레이용으로서, 혹은 절곡(折曲)하거나 둥글게 하여 운반할 수 있는 모바일 디스플레이용으로서, 폭넓은 용도가 기대되고 있다.

굴곡성 디스플레이의 종류로서는, 예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 디스플레이, 전기 영동 방식의 디스플레이(전자 페이퍼), 기판으로서 플라스틱 필름을 사용한 액정 디스플레이 등을 들 수 있다.

상기와 같은 굴곡성 디스플레이에 있어서는, 당해 굴곡성 디스플레이를 구성하는 하나의 굴곡 가능한 부재(굴곡성 부재)와, 다른 굴곡성 부재를 점착 시트의 점착제층에 의해 첩합(貼合)하는 것이 일반적이라고 생각된다. 여기에서, 굴곡 불가능한 종래의 디스플레이용의 점착 시트로서는, 예를 들면, 특허문헌 1 및 2에 나타나는 것이 알려져 있다.

굴곡성 디스플레이는, 1회만 곡면 성형하는 것이 아니고, 특허문헌 3에 기재되어 있는 바와 같이, 반복 굴곡시킬(절곡할) 경우가 있다. 이러한 용도의 반복 굴곡 디바이스에 종래의 점착 시트를 사용하면, 외력을 해방한 후에도, 굴곡성 디스플레이가 크게 굴곡한 상태가 되고, 그 굴곡 상태가 고정되어버릴 경우가 있었다.

일본국 특개2015-174907호 공보 일본국 특개2016-774호 공보 일본국 특개2016-2764호 공보

상기와 같은 문제를 해결하기 위해, 점착제의 응집력을 작게 하여, 점착제를 유연한 설계로 하는 것을 생각할 수 있다. 그러나, 그 경우에는, 내구 조건 하에서 굴곡성 부재와 점착제층과의 사이에 들뜸이나 벗겨짐이 발생하여, 내구성의 저하를 야기해버린다.

본 발명은 이러한 실상을 감안하여 이루어진 것으로서, 반복 굴곡 디바이스에 적용하여 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하를 억제할 수 있는 반복 굴곡 디바이스용 점착제 및 점착 시트, 그리고 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하가 억제될 수 있는 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기 목적을 달성하기 위해, 제1 본 발명은 반복 굴곡되는 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재와 다른 굴곡성 부재를 첩합하기 위한 반복 굴곡 디바이스용 점착제로서, 폴리로탁산 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스용 점착제를 제공한다(발명 1).

상기 발명(발명 1)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제로 이루어지는 점착제층은, 굴곡된 후, 외력을 개방하면, 폴리로탁산 화합물이 발휘하는 슬라이딩 효과에 의해, 굴곡부에 걸리는 응력을 완화할 수 있다. 이에 따라, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스가 굴곡되었을 때에도, 당해 점착제층은, 굴곡부에 있어서도 유연한 상태가 유지된다. 그러므로, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스가 반복 굴곡되었을 때에도, 상술한 효과가 발휘됨으로써, 반복 굴곡의 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스가 크게 굴곡한 상태가 고정되는 것이 억제되어, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 효과적으로 완화할 수 있다. 또한, 당해 점착제층은, 유연한 상태를 유지할 수 있기 때문에, 당해 반복 굴곡 디바이스에 추종하기 쉬운 것이 된다. 이에 따라, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스는, 반복 굴곡되었을 때에도, 당해 반복 굴곡 디바이스와 점착제층과의 계면에 있어서의 들뜸이나 벗겨짐이 효과적으로 억제되어, 내구성이 우수한 것이 된다. 또한, 상기 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유함으로써 상기의 물성을 얻을 수 있기 때문에, 점착제의 응집력을 작게 하여, 점착제를 유연한 설계로 할 필요가 없다. 따라서, 응집력 부족에 의한 내구성의 저하를 억제할 수 있다.

상기 발명(발명 1)에 있어서는, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와, 가교제(B)와, 상기 폴리로탁산 화합물(C)을 함유하는 점착성 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제인 것이 바람직하다(발명 2).

상기 발명(발명 1, 2)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, -20℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(-20)이, 0.01㎫ 이상, 1.8㎫ 이하인 것이 바람직하다(발명 3).

상기 발명(발명 1∼3)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, 50℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(50)이, 0.001㎫ 이상, 0.5㎫ 이하인 것이 바람직하다(발명 4).

상기 발명(발명 1∼4)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, 100％ 모듈러스가, 0.005N／㎟ 이상, 0.1N／㎟ 이하인 것이 바람직하다(발명 5).

상기 발명(발명 1∼5)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, 인장 시험에 의한 파단 신도가, 500％ 이상, 4000％ 이하인 것이 바람직하다(발명 6).

상기 발명(발명 1∼6)에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제는, 인장 시험에 의한 파단 응력이, 0.2N／㎟ 이상, 5N／㎟ 이하인 것이 바람직하다(발명 7).

제2 본 발명은 반복 굴곡되는 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재와 다른 굴곡성 부재를 첩합하기 위한 점착제층을 갖는 점착 시트로서, 상기 점착제층이, 상기 반복 굴곡 디바이스용 점착제(발명 1∼7)로 이루어지는 것을 특징으로 하는 점착 시트를 제공한다(발명 8).

상기 발명(발명 8)에 있어서는, 상기 점착 시트가, 2매의 박리 시트를 구비하고 있으며, 상기 점착제층이, 상기 2매의 박리 시트의 박리면과 접하도록 상기 박리 시트에 협지되어 있는 것이 바람직하다(발명 9).

제3 본 발명은 반복 굴곡되는 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재 및 다른 굴곡성 부재와, 상기 하나의 굴곡성 부재와 상기 다른 굴곡성 부재를 서로 첩합하는 점착제층을 구비한 반복 굴곡 적층 부재로서, 상기 점착제층이, 상기 점착 시트(발명 8, 9)의 점착제층인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 적층 부재를 제공한다(발명 10).

상기 발명(발명 10)에 있어서는, 상기 하나의 굴곡성 부재 및 상기 다른 굴곡성 부재의 적어도 한쪽이, 표시 소자인 것이 바람직하다(발명 11).

제4 본 발명은 상기 반복 굴곡 적층 부재(발명 10, 11)를 구비한 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스를 제공한다(발명 12).

본 발명에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제 및 점착 시트는, 반복 굴곡 디바이스에 적용하여 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하를 억제할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 반복 굴곡 적층 부재 및 반복 굴곡 디바이스는, 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 완화할 수 있음과 함께, 내구성의 저하가 억제될 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시형태에 따른 점착 시트의 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시형태에 따른 반복 굴곡 적층 부재의 단면도.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다.

〔반복 굴곡 디바이스용 점착제〕

본 실시형태에 따른 반복 굴곡 디바이스용 점착제(이하, 단순히 「점착제」라고 하는 경우가 있음)는, 반복 굴곡 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재와 다른 굴곡성 부재를 첩합하기 위한 점착제이다. 반복 굴곡 디바이스 및 굴곡성 부재에 대해서는 후술한다.

본 실시형태에 따른 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유한다. 폴리로탁산 화합물은, 환상(環狀) 분자와 그것을 관통하는 직쇄상 분자와의 기계적 결합을 갖고 있고, 환상 분자는 직쇄상 분자 상을 자유롭게 이동하는 것이 가능해져 있다. 이러한 구조에 의거하는 슬라이딩 효과에 의해, 당해 점착제로 이루어지는 점착제층이 굴곡되었을 때에, 굴곡부에 걸리는 응력을 완화할 수 있다. 이에 따라, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스가 굴곡되었을 때에도, 당해 점착제층은, 굴곡부에 있어서도 유연한 상태가 유지된다. 그러므로, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스가 반복 굴곡되었을 때에도, 상술한 효과가 발휘됨으로써, 반복 굴곡의 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스가 크게 굴곡한 상태가 고정되는 것이 억제되어, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 효과적으로 완화할 수 있다. 이 효과를, 이하, 「반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과」라고 하는 경우가 있다. 또한, 상기 반복 굴곡의 횟수로서는, 일례로서 3만회가 예시된다.

또한, 상기 점착제층은, 유연한 상태를 유지할 수 있기 때문에, 당해 반복 굴곡 디바이스에 추종하기 쉬운 것이 된다. 이에 따라, 당해 점착제층이 적용된 반복 굴곡 디바이스는, 반복 굴곡되었을 때에도, 당해 반복 굴곡 디바이스와 점착제층과의 계면에 있어서의 들뜸이나 벗겨짐이 효과적으로 억제되어, 내구성이 우수한 것이 된다. 또한, 본 실시형태에 따른 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유함으로써 상기의 물성을 얻을 수 있기 때문에, 점착제의 응집력을 작게 하여, 점착제를 유연한 설계로 할 필요가 없다. 점착제의 응집력을 작게 하면, 일반적으로는 내구성이 저하하지만, 본 실시형태에 따른 점착제에 의하면, 점착제의 응집력을 작게 할 필요가 없고, 따라서, 내구성의 저하를 억제할 수 있다. 이상의 작용에 의해, 예를 들면, 본 실시형태에 따른 점착제로 이루어지는 점착제층을 개재(介在)하여 2개의 굴곡성 부재를 적층하여 이루어지는 적층체를 고온 고습 조건 하, 일례로서, 85℃, 85％ RH 조건 하에 72시간 둔 경우에도, 굴곡성 부재와 점착제층과의 계면에 들뜸이나 벗겨짐이 발생하는 것이 억제된다.

본 실시형태에 따른 점착제의 종류는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 아크릴계 점착제, 폴리에스테르계 점착제, 폴리우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등 어느 것이어도 된다. 또한, 당해 점착제는, 에멀젼형, 용제형 또는 무용제형 중 어느 것이어도 되고, 가교 타입 또는 비가교 타입 중 어느 것이어도 된다. 그것들 중에서도, 상술한 작용 효과를 발휘하기 쉽고, 점착 물성, 광학 특성 등도 우수한 아크릴계 점착제가 바람직하다.

본 실시형태에 따른 점착제는, 특히, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와, 가교제(B)와, 폴리로탁산 화합물(C)을 함유하는 점착성 조성물(이하 「점착성 조성물(P)」이라고 하는 경우가 있음)을 가교하여 이루어지는 점착제인 것이 바람직하다. 이러한 점착제이면, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 양호하게 얻어짐과 함께, 양호한 점착력 및 소정의 응집력이 얻어지기 때문에, 내구성이 우수한 것이 된다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메타)아크릴산이란, 아크릴산 및 메타크릴산의 양쪽을 의미한다. 다른 유사 용어도 마찬가지이다. 또한, 「중합체」에는 「공중합체」의 개념도 포함되는 것으로 한다.

(1) 점착성 조성물(P)의 성분

(1-1) (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)는, 상한치로서, -40℃ 이하인 것이 바람직하고, 특히 -42℃ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 -45℃ 이하인 것이 바람직하다. 유리 전이 온도(Tg)의 상한치가 상기이면, 얻어지는 점착제의 유연성을 향상시킬 수 있다. 이에 따라, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)의 하한치는, 특별히 한정되지 않지만, -90℃ 이상인 것이 바람직하고, 특히 -80℃ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 -70℃ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 유리 전이 온도(Tg)의 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 알킬기의 탄소수가 2∼20의 (메타)아크릴산알킬에스테르와, 분자 내에 반응성 관능기를 갖는 모노머(반응성 관능기 함유 모노머)를 함유하는 것이 바람직하다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 알킬기의 탄소수가 2∼20의 (메타)아크릴산알킬에스테르를 함유함으로써 바람직한 점착성을 발현할 수 있다. 알킬기의 탄소수가 2∼20의 (메타)아크릴산알킬에스테르로서는, 호모폴리머로서의 유리 전이 온도(Tg)가 -40℃ 이하인 것(이하 「저(低)Tg 알킬아크릴레이트」라고 하는 경우가 있음)이 바람직하다. 이러한 저Tg 알킬아크릴레이트를 구성 모노머 단위로서 함유함으로써, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)를 상술한 범위로 설정하기 쉽게 할 수 있고, 얻어지는 점착제의 유연성을 향상시킬 수 있다.

저Tg 알킬아크릴레이트로서는, 예를 들면, 아크릴산n-부틸(Tg -55℃), 아크릴산n-옥틸(Tg -65℃), 아크릴산이소옥틸(Tg -58℃), 아크릴산2-에틸헥실(Tg -70℃), 아크릴산이소노닐(Tg -58℃), 아크릴산이소데실(Tg -60℃), 메타크릴산이소데실(Tg -41℃), 메타크릴산n-라우릴(Tg -65℃), 아크릴산트리데실(Tg -55℃), 메타크릴산트리데실(-40℃) 등을 바람직하게 들 수 있다. 그 중에서도, 얻어지는 점착제의 유연성을 보다 향상시키는 관점에서, 저Tg 알킬아크릴레이트로서, 호모폴리머의 Tg가, -45℃ 이하인 것임이 보다 바람직하고, -50℃ 이하인 것임이 특히 바람직하다. 구체적으로는, 아크릴산n-부틸 및 아크릴산2-에틸헥실이 특히 바람직하다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 또한, 알킬기의 탄소수가 2∼20의 (메타)아크릴산알킬에스테르에 있어서의 알킬기란, 직쇄상, 분기쇄상 또는 환상의 알킬기를 말한다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 저Tg 알킬아크릴레이트를, 하한치로서 50질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 60질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 70질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하다. 상기 저Tg 알킬아크릴레이트를 50질량％ 이상 함유함으로써, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)를 상술한 범위로 보다 설정하기 쉬워진다.

또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 상기 저Tg 알킬아크릴레이트를, 상한치로서 99질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 특히 97질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 95질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하다. 상기 저Tg 알킬아크릴레이트를 99질량％ 이하 함유함으로써, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A) 중에 다른 모노머 성분(특히 반응성 관능기 함유 모노머)을 호적(好適)한 양 도입할 수 있다.

또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 호모폴리머로서의 유리 전이 온도(Tg)가 0℃를 초과하는 모노머(이하 「하드 모노머」라고 하는 경우가 있음)를 병용하는 것도 바람직하다. 이에 따라, 유리 전이 온도(Tg)를 상술한 범위로 설정하기 쉽게 할 수 있음과 함께, 얻어지는 점착제에 원하는 응집력을 부여할 수 있다. 또한, 이 하드 모노머에는, 후술하는 반응성 관능기 함유 모노머도 포함된다.

상기 하드 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴산메틸(Tg 10℃), 메타크릴산메틸(Tg 105℃), 메타크릴산에틸(Tg 65℃), 메타크릴산n-부틸(Tg 20℃), 메타크릴산이소부틸(Tg 48℃), 메타크릴산t-부틸(Tg 107℃), 아크릴산n-스테아릴(Tg 30℃), 메타크릴산n-스테아릴(Tg 38℃), 아크릴산시클로헥실(Tg 15℃), 메타크릴산시클로헥실(Tg 66℃), 아크릴산페녹시에틸(Tg 5℃), 메타크릴산페녹시에틸(Tg 54℃), 메타크릴산벤질(Tg 54℃), 아크릴산이소보르닐(Tg 94℃), 메타크릴산이소보르닐(Tg 180℃), 아크릴로일모르폴린(Tg 145℃), 아크릴산아다만틸(Tg 115℃), 메타크릴산아다만틸(Tg 141℃), 아크릴산(Tg 103℃), 디메틸아크릴아미드(Tg 89℃), 아크릴아미드(Tg 165℃) 등의 아크릴계 모노머, 아세트산비닐(Tg 32℃), 스티렌(Tg 80℃) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 상기 하드 모노머 중에서도, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)를 상술한 범위로 설정하기 쉽게 하는 관점, 및 얻어지는 점착제에 원하는 응집력을 부여하는 관점에서, 아크릴산이소보르닐, 아크릴로일모르폴린 및 아크릴산의 적어도 1종을 사용하는 것이 특히 바람직하다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 상기 하드 모노머를 함유할 경우, 얻어지는 점착제의 응집력을 향상시키는 관점에서, 당해 하드 모노머를 1질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 2질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 3질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 당해 하드 모노머를 30질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 특히 20질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 15질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 반응성 관능기 함유 모노머를 함유함으로써, 당해 반응성 관능기 함유 모노머 유래의 반응성 관능기를 개재하여, 후술하는 가교제(B)와 반응하고, 이에 따라 가교 구조(삼차원 망목 구조)가 형성되어, 원하는 응집력을 갖는 점착제를 얻을 수 있다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)가, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서 함유하는 반응성 관능기 함유 모노머로서는, 분자 내에 수산기를 갖는 모노머(수산기 함유 모노머), 분자 내에 카르복시기를 갖는 모노머(카르복시기 함유 모노머), 분자 내에 아미노기를 갖는 모노머(아미노기 함유 모노머) 등을 바람직하게 들 수 있다. 이들 반응성 관능기 함유 모노머는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다.

상기 반응성 관능기 함유 모노머 중에서도, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)를 낮게 하고, 얻어지는 점착제에 원하는 유연성을 부여하는 관점에서는, 수산기 함유 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 반응성 관능기 함유 모노머 중에서도, 얻어지는 점착제의 응집력 향상의 관점에서는, 카르복시기 함유 모노머를 사용하는 것이 바람직하다.

수산기 함유 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산2-히드록시에틸, (메타)아크릴산2-히드록시프로필, (메타)아크릴산3-히드록시프로필, (메타)아크릴산2-히드록시부틸, (메타)아크릴산3-히드록시부틸, (메타)아크릴산4-히드록시부틸 등의 (메타)아크릴산히드록시알킬에스테르 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 유리 전이 온도(Tg), 얻어지는 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)에 있어서의 수산기의 가교제(B)와의 반응성, 및 다른 단량체와의 공중합성의 점에서, 아크릴산2-히드록시에틸, 메타크릴산2-히드록시에틸, 아크릴산2-히드록시프로필, 아크릴산3-히드록시프로필, 및 아크릴산4-히드록시부틸의 적어도 하나인 것이 바람직하다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

카르복시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 말레산, 이타콘산, 시트라콘산 등의 에틸렌성 불포화 카르복시산을 들 수 있다. 그 중에서도, 얻어지는 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)에 있어서의 카르복시기의 가교제(B)와의 반응성 및 다른 단량체와의 공중합성의 점에서는 아크릴산이 바람직하다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 반응성 관능기 함유 모노머를, 하한치로서 1질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 3질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 5질량％ 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 반응성 관능기 함유 모노머를, 상한치로서 40질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 30질량％ 이하 함유하는 것이 보다 바람직하고, 특히 20질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 더욱이는 15질량％ 이하 함유하는 것이 바람직하다. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)가 모노머 단위로서 상기의 양으로 반응성 관능기 함유 모노머를 함유하면, 얻어지는 점착제의 응집력이 적당한 것이 되고, 얻어지는 점착제층의 내구성 및 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과의 양립이 높은 레벨로 달성된다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 카르복시기 함유 모노머, 특히 하드 모노머이기도 하는 아크릴산을 포함하지 않는 것도 바람직하다. 카르복시기는 산 성분이기 때문에, 카르복시기 함유 모노머를 함유하지 않음으로써, 점착제의 첨부 대상에, 산에 의해 문제가 생기는 것, 예를 들면 주석 도프 산화인듐(ITO) 등의 투명 도전막이나, 금속막, 금속 메쉬 등이 존재할 경우에도, 산에 의한 그것들의 문제(부식, 저항치 변화 등)를 억제할 수 있다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 원하는 바에 따라, 당해 중합체를 구성하는 모노머 단위로서, 다른 모노머를 함유해도 된다. 다른 모노머로서는, 반응성 관능기 함유 모노머의 작용을 방해하지 않기 위해서도, 반응성을 갖는 관능기를 포함하지 않는 모노머가 바람직하다. 이러한 다른 모노머로서는, 예를 들면, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산에톡시에틸 등의 (메타)아크릴산알콕시알킬에스테르 외, 호모폴리머로서의 유리 전이 온도(Tg)가 -40℃ 초과, 0℃ 이하인 모노머(이하 「중(中)Tg 알킬아크릴레이트」라고 하는 경우가 있음) 등을 들 수 있다. 중Tg 알킬아크릴레이트로서는, 예를 들면, 아크릴산에틸(Tg -20℃), 아크릴산이소부틸(Tg -26℃), 메타크릴산2-에틸헥실(Tg -10℃), 아크릴산n-라우릴(Tg -23℃), 아크릴산이소스테아릴(Tg -18℃) 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중합 태양은, 랜덤 공중합체여도 되고, 블록 공중합체여도 된다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중량 평균 분자량의 하한치는, 20만 이상인 것이 바람직하고, 특히 40만 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 60만 이상인 것이 바람직하다. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중량 평균 분자량의 하한치가 상기이면, 점착제의 내구성이 보다 우수한 것이 된다. 또한, 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)법에 의해 측정한 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.

또한, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중량 평균 분자량의 상한치는, 200만 이하인 것이 바람직하고, 특히 150만 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 90만 이하인 것이 바람직하다. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중량 평균 분자량의 상한치가 상기이면, 얻어지는 점착제의 유연성이 보다 우수한 것이 된다.

점착성 조성물(P)에 있어서, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

(1-2) 가교제(B)

가교제(B)는, 당해 가교제(B)를 함유하는 점착성 조성물(P)의 가열 등을 트리거로 하여, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)를 가교하여, 삼차원 망목 구조를 형성한다. 이에 따라, 얻어지는 점착제의 응집력이 향상하여, 얻어지는 점착제층이 내구성이 우수한 것이 된다.

상기 가교제(B)로서는, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)가 갖는 반응성기와 반응하는 것이면 되고, 예를 들면, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 아민계 가교제, 멜라민계 가교제, 아지리딘계 가교제, 히드라진계 가교제, 알데히드계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 금속 알콕시드계 가교제, 금속 킬레이트계 가교제, 금속염계 가교제, 암모늄염계 가교제 등을 들 수 있다. 상기 중에서도, 반응성 관능기 함유 모노머와의 반응성이 우수한 이소시아네이트계 가교제를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 가교제(B)는, 1종을 단독으로, 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

이소시아네이트계 가교제는, 적어도 폴리이소시아네이트 화합물을 포함하는 것이다. 폴리이소시아네이트 화합물로서는, 예를 들면, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트 등, 및 그것들의 뷰렛체, 이소시아누레이트체, 더욱이는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유 등의 저분자 활성 수소 함유 화합물과의 반응물인 어덕트체 등을 들 수 있다. 그 중에서도 수산기와의 반응성의 관점에서, 트리메틸올프로판 변성의 방향족 폴리이소시아네이트, 특히 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트 및 트리메틸올프로판 변성 자일릴렌디이소시아네이트가 바람직하다.

점착성 조성물(P) 중에 있어서의 가교제(B)의 함유량은, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A) 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상인 것이 바람직하고, 0.1질량부 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 0.5질량부 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 1질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 당해 함유량은, 10질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 6질량부 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 4질량부 이하인 것이 바람직하다. 가교제(B)의 함유량이 상기의 범위에 있음으로써, 얻어지는 점착제의 응집력이 적당한 것이 되고, 얻어지는 점착제층의 내구성 및 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과의 양립이 높은 레벨로 달성된다.

(1-3) 폴리로탁산 화합물(C)

폴리로탁산 화합물(C)은, 적어도 2개의 환상 분자의 개구부에 직쇄상 분자가 관통하며, 또한, 직쇄상 분자의 양(兩)말단에 블록기를 갖고 이루어지는 화합물이다. 이 폴리로탁산 화합물(C)에 있어서는, 환상 분자가 직쇄상 분자 상을 자유롭게 이동하는 것이 가능하지만, 블록기에 의해 환상 분자는 직쇄상 분자로부터는 빠져나갈 수 없는 구조로 되어 있다. 즉, 직쇄상 분자 및 환상 분자는, 공유 결합 등의 화학 결합이 아니라, 소위 기계적 결합에 의해, 슬라이딩 효과를 발휘하면서, 그 형태를 유지하는 것으로 되어 있다. 본 실시형태에 따른 점착제(점착성 조성물(P))가, 이러한 기계적 결합을 갖는 폴리로탁산 화합물(C)을 함유함으로써, 얻어지는 점착제층은, 피착체인 반복 굴곡 디바이스가 반복 굴곡되었을 때에도, 응력을 놓치기 쉽고, 당해 반복 굴곡 디바이스에 추종하기 쉬운 것이 된다. 그 결과, 본 실시형태에 따른 점착제를 반복 굴곡 디바이스에 적용하여 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태를 완화할 수 있다. 특히, 폴리로탁산 화합물(C)의 환상 분자가, 반응성기로서 수산기를 갖는 환상 올리고당일 경우에는, 가교제(B)로서 이소시아네이트계 가교제를 사용했을 때에, 당해 이소시아네이트계 가교제를 개재하여 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와 폴리로탁산 화합물(C)(의 환상 분자)이 가교되고, 폴리로탁산 화합물(C)에 의해 환상 분자가 직쇄상 분자 상을 자유롭게 이동함으로써, 가교체로서의 유연성이 현저하게 향상한다. 이에 따라, 상기의 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다.

본 실시형태에 있어서의 폴리로탁산 화합물(C)은, 환상 분자로서 환상 올리고당을 갖는 것이 바람직하다. 폴리로탁산 화합물(C)의 환상 분자로서 환상 올리고당을 사용함으로써, 적절한 환경(環徑)의 선택이 가능해지고, 그에 따라, 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 이동하는 것에 의한 효과가 발현되기 쉽다. 또한, 상기 환상 올리고당이 반응성기로서 수산기를 가지면, 이소시아네이트계 가교제와의 반응이 용이하다. 또한, 다양한 치환기 등의 도입도 용이하며, 그에 따라, 폴리로탁산 화합물(C)과 그 밖의 성분과의 상용성(相溶性)을 폴리로탁산 화합물(C)에 의해 조정하는 것이 가능해진다. 또한, 환상 올리고당이면, 입수도 용이하다는 이점도 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「환상 분자」 또는 「환상 올리고당」의 「환상」은, 실질적으로 「환상」인 것을 의미한다. 즉, 직쇄상 분자 상에서 이동 가능하면, 환상 분자는 완전히는 폐환(閉環)이 아니어도 되고, 예를 들면 나선 구조여도 된다.

환상 올리고당으로서는, α-시클로덱스트린, β-시클로덱스트린, γ-시클로덱스트린 등의 시클로덱스트린을 바람직하게 들 수 있고, 그 중에서도 특히 α-시클로덱스트린이 바람직하다. 폴리로탁산 화합물(C)의 환상 분자는, 폴리로탁산 화합물(C) 중 또는 점착제(점착성 조성물(P)) 중에서 2종 이상 혼재해 있어도 된다.

폴리로탁산 화합물(C)의 환상 분자(환상 올리고당)가, 반응성기로서 수산기를 가질 경우, 그 수산기는, 환상 올리고당이 오리지널(수식 전의 상태를 말함)로 갖는 수산기여도 되고, 환상 올리고당에 치환기로서 도입된 수산기여도 된다.

상기 환상 분자의 수산기가는, 하한치로서 10㎎KOH／g 이상인 것이 바람직하고, 30㎎KOH／g 이상인 것이 보다 바람직하고, 50㎎KOH／g 이상인 것이 특히 바람직하다. 수산기가의 하한치가 상기이면, 폴리로탁산 화합물(C)이 이소시아네이트계 가교제와 충분히 반응할 수 있다. 또한, 상기 환상 분자의 수산기가는, 상한치로서 1000㎎KOH／g 이하인 것이 바람직하고, 200㎎KOH／g 이하인 것이 보다 바람직하고, 100㎎KOH／g 이하인 것이 특히 바람직하다. 수산기가의 상한치가 상기의 값을 초과하면, 동일한 환상 분자에 있어서 다수의 가교가 생김으로써, 당해 환상 분자 자체가 가교점이 되어, 폴리로탁산 화합물(C) 전체로서의 가교점의 효과를 발휘할 수 없게 되고, 그 결과, 점착제층의 충분한 응력 완화성을 확보할 수 없게 될 우려가 있다.

폴리로탁산 화합물(C)의 직쇄상 분자는, 환상 분자에 포접(包接)되고, 공유 결합 등의 화학 결합이 아니고 기계적인 결합으로 일체화할 수 있는 분자 또는 물질로서, 직쇄상의 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「직쇄상 분자」의 「직쇄」는, 실질적으로 「직쇄」인 것을 의미한다. 즉, 직쇄상 분자 상에서 환상 분자가 이동 가능하면, 직쇄상 분자는 분기쇄를 갖고 있어도 된다.

폴리로탁산 화합물(C)의 직쇄상 분자로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리이소프렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부타디엔, 폴리테트라히드로퓨란, 폴리아크릴산에스테르, 폴리디메틸실록산, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등이 바람직하고, 이들 직쇄상 분자는, 점착성 조성물(P) 중에서 2종 이상 혼재해 있어도 된다.

폴리로탁산 화합물(C)의 직쇄상 분자의 수평균 분자량은, 하한치로서 3,000 이상인 것이 바람직하고, 특히 10,000 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 20,000 이상인 것이 바람직하다. 수평균 분자량의 하한치가 상기 이상이면, 환상 분자의 직쇄상 분자 상에서의 이동량이 확보되어, 점착제의 응력 완화성을 충분히 얻을 수 있다. 또한, 폴리로탁산 화합물(C)의 직쇄상 분자의 수평균 분자량은, 상한치로서 300,000 이하인 것이 바람직하고, 특히 200,000 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 100,000 이하인 것이 바람직하다. 수평균 분자량의 상한치가 상기 이하이면, 폴리로탁산 화합물(C)의 용매에의 용해성이나 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와의 상용성이 양호해진다.

폴리로탁산 화합물(C)의 블록기는, 환상 분자가 직쇄상 분자에 의해 꽂힌 형상으로 된 형태를 유지할 수 있는 기이면, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 기로서는, 벌키(bulky)기, 이온성기 등을 들 수 있다.

구체적으로는, 폴리로탁산 화합물(C)의 블록기는, 디니트로페닐기류, 시클로덱스트린류, 아다만탄기류, 트리틸기류, 플루오레세인류, 피렌류, 안트라센류 등, 혹은, 수평균 분자량 1,000∼1,000,000의 고분자의 주쇄 또는 측쇄 등이 바람직하고, 이들의 블록기는, 폴리로탁산 화합물(C) 중 또는 점착성 조성물(P) 중에서 2종 이상 혼재해 있어도 된다.

이상 설명한 폴리로탁산 화합물(C)은, 종래 공지의 방법(예를 들면 일본국 특개2005-154675에 기재된 방법)에 의해 얻을 수 있다.

본 실시형태에 따른 점착성 조성물(P) 중에 있어서의 폴리로탁산 화합물(C)의 함유량은, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A) 100질량부에 대하여, 하한치로서 0.1질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 1질량부 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 5질량부 이상인 것이 바람직하다. 폴리로탁산 화합물(C)의 함유량의 하한치가 상기이면, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. 또한, 폴리로탁산 화합물(C)의 함유량은, 상한치로서 50질량부 이하인 것이 바람직하고, 25질량부 이하인 것이 보다 바람직하고, 10질량부 이하인 것이 특히 바람직하다. 폴리로탁산 화합물(C)의 함유량의 상한치가 상기이면, 점착제층의 전(全) 광선 투과율을 높게 유지할 수 있고, 광학 용도로 호적한 것이 된다.

(1-4) 각종 첨가제

점착성 조성물(P)에는, 원하는 바에 따라, 아크릴계 점착제에 통상 사용되고 있는 각종 첨가제, 예를 들면, 실란커플링제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 점착 부여제, 산화 방지제, 광안정제, 연화제, 충진제, 굴절률 조정제 등을 첨가할 수 있다. 또한, 후술하는 중합 용매나 희석 용매는, 점착성 조성물(P)을 구성하는 첨가제에 포함되지 않은 것으로 한다.

점착성 조성물(P)은, 상기의 실란커플링제를 함유하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 얻어지는 점착제층에 있어서, 피착체인 굴곡성 부재와의 밀착성이 향상하여, 내구성이 보다 우수한 것이 된다.

실란커플링제로서는, 분자 내에 알콕시실릴기를 적어도 1개 갖는 유기 규소 화합물로서, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와의 상용성이 좋고, 광투과성을 갖는 것이 바람직하다.

이러한 실란커플링제로서는, 예를 들면, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란, 3-메르캅토프로필디메톡시메틸실란 등의 메르캅토기 함유 규소 화합물, 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란, 혹은 이들의 적어도 1개와, 메틸트리에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 에틸트리메톡시실란 등의 알킬기 함유 규소 화합물과의 축합물 등을 들 수 있다. 이들은, 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

점착성 조성물(P) 중에 있어서의 실란커플링제의 함유량은, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A) 100질량부에 대하여, 0.01질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.05질량부 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.1질량부 이상인 것이 바람직하다. 또한, 당해 함유량은, 1질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.5질량부 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.3질량부 이하인 것이 바람직하다.

(2) 점착성 조성물(P)의 제조

점착성 조성물(P)은, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)를 제조하고, 얻어진 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와, 가교제(B)와, 폴리로탁산 화합물(C)을 혼합함과 함께, 원하는 바에 따라 첨가제를 더함으로써 제조할 수 있다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)는, 중합체를 구성하는 모노머의 혼합물을 통상의 라디칼 중합법으로 중합함으로써 제조할 수 있다. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중합은, 원하는 바에 따라 중합개시제를 사용하여, 용액 중합법에 의해 행하는 것이 바람직하다. 중합 용매로서는, 예를 들면, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산이소부틸, 톨루엔, 아세톤, 헥산, 메틸에틸케톤 등을 들 수 있고, 2종류 이상을 병용해도 된다.

중합개시제로서는, 아조계 화합물, 유기 과산화물 등을 들 수 있고, 2종류 이상을 병용해도 된다. 아조계 화합물로서는, 예를 들면, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산1-카르보 니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 4,4'-아조비스(4-시아노발레르산), 2,2'-아조비스(2-히드록시메틸프로피오니트릴), 2,2'-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 등을 들 수 있다.

유기 과산화물로서는, 예를 들면, 과산화벤조일, t-부틸퍼벤조에이트, 쿠멘히드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-n-프로필퍼옥시디카보네이트, 디(2-에톡시에틸)퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드, 디프로피오닐퍼옥사이드, 디아세틸퍼옥사이드 등을 들 수 있다.

또한, 상기 중합 공정에 있어서, 2-메르캅토에탄올 등의 연쇄 이동제를 배합함으로써, 얻어지는 중합체의 중량 평균 분자량을 조절할 수 있다.

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)가 얻어지면, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 용액에, 가교제(B), 폴리로탁산 화합물(C), 그리고 원하는 바에 따라 첨가제 및 희석 용제를 첨가하고, 충분히 혼합함으로써, 용제에 의해 희석된 점착성 조성물(P)(도포 용액)을 얻는다.

또한, 상기 각 성분 중 어느 것에 있어서, 고체상인 것을 사용할 경우, 혹은, 희석되어 있지 않은 상태에서 다른 성분과 혼합했을 때에 석출이 발생할 경우에는, 그 성분을 단독으로 미리 희석 용매에 용해 혹은 희석하고 나서, 그 밖의 성분과 혼합해도 된다.

상기 희석 용제로서는, 예를 들면, 헥산, 헵탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소, 염화메틸렌, 염화에틸렌 등의 할로겐화탄화수소, 메탄올, 에탄올, 프로판올, 부탄올, 1-메톡시-2-프로판올 등의 알코올, 아세톤, 메틸에틸케톤, 2-펜탄온, 이소포론, 시클로헥산온 등의 케톤, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르, 에틸셀로솔브 등의 셀로솔브계 용제 등을 사용할 수 있다.

이와 같이 하여 조제된 도포 용액의 농도·점도로서는, 코팅 가능한 범위이면 되고, 특별히 제한되지 않고, 상황에 따라 적의(適宜) 선정할 수 있다. 예를 들면, 점착성 조성물(P)의 농도가 10∼60질량％가 되도록 희석한다. 또한, 도포 용액을 얻을 때에, 희석 용제 등의 첨가는 필요 조건이 아니라, 점착성 조성물(P)이 코팅 가능한 점도 등이면, 희석 용제를 첨가하지 않아도 된다. 이 경우, 점착성 조성물(P)은, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중합 용매를 그대로 희석 용제로 하는 도포 용액이 된다.

(3) 점착제의 제조

본 실시형태에 따른 점착제는, 바람직하게는 점착성 조성물(P)을 가교하여 이루어지는 것이다. 점착성 조성물(P)의 가교는, 통상은 가열 처리에 의해 행할 수 있다. 또한, 이 가열 처리는, 원하는 대상물에 도포한 점착성 조성물(P)의 도막으로부터 희석 용제 등을 휘발시킬 때의 건조 처리로 겸할 수도 있다.

가열 처리의 가열 온도는, 50∼150℃인 것이 바람직하고, 특히 70∼120℃인 것이 바람직하다. 또한, 가열 시간은, 10초∼10분인 것이 바람직하고, 특히 50초∼2분인 것이 바람직하다.

가열 처리 후, 필요에 따라, 상온(예를 들면, 23℃, 50％ RH)에서 1∼2주일 정도의 양생 기간을 마련해도 된다. 이 양생 기간이 필요할 경우에는, 양생 기간 경과 후, 양생 기간이 불필요할 경우에는, 가열 처리 종료 후, 점착제가 형성된다.

상기의 가열 처리(및 양생)에 의해, 가교제(B)를 개재하여 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)가 충분히 가교되어 가교 구조가 형성되어, 점착제를 얻을 수 있다. 이러한 점착제는, 소정의 응집력을 갖고 있어, 당해 점착제로 이루어지는 점착제층이 내구성이 우수한 것이 된다.

(4) 점착제의 물성

(4-1) 저장 탄성률(G')(-20)

본 실시형태에 따른 점착제의 -20℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(본 명세서에 있어서 「저장 탄성률(G')(-20)」이라고 표기하는 경우가 있음)은, 상한치로서, 1.8㎫ 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.8㎫ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.5㎫ 이하인 것이 바람직하다. 저장 탄성률(G')(-20)의 상한치가 상기이면, 당해 점착제는 응력 완화성이 매우 풍부한 유연한 것이 된다. 이에 따라, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. 상기 저장 탄성률(G')(-20)의 하한치는 특별히 한정되지 않지만, 0.01㎫ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.05㎫ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.1㎫ 이상인 것이 바람직하다.

(4-2) 저장 탄성률(G')(50)

본 실시형태에 따른 점착제의 50℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(본 명세서에 있어서 「저장 탄성률(G')(50)」이라고 표기하는 경우가 있음)은, 하한치로서, 0.001㎫ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.01㎫ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.02㎫ 이상인 것이 바람직하다. 저장 탄성률(G')(50)의 하한치가 상기이면, 당해 점착제는 소정의 응집력을 발휘하고, 그로 인해 내구성이 보다 우수한 것이 된다. 상기 저장 탄성률(G')(50)의 상한치는 특별히 한정되지 않지만, 0.5㎫ 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.1㎫ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.05㎫ 이하인 것이 바람직하다.

(4-3) 저장 탄성률(G')(23)

본 실시형태에 따른 점착제의 23℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(본 명세서에 있어서 「저장 탄성률(G')(23)」이라고 표기하는 경우가 있음)은, 하한치로서, 0.01㎫ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.02㎫ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.03㎫ 이상인 것이 바람직하다. 저장 탄성률(G')(23)의 하한치가 상기이면, 실온에 있어서, 굴곡에 의해 점착제가 번져 나와버리는 것을 방지할 수 있다. 상기 저장 탄성률(G')(23)의 상한치는, 0.8㎫ 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.2㎫ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.1㎫ 이하인 것이 바람직하다. 저장 탄성률(G')(23)의 상한치가 상기이면, 실온에 있어서, 점착제가 우수한 굴곡 내성을 발현할 수 있다.

또한, 저장 탄성률(G'(-20), G'(50) 및 G'(23))은, JIS K7244-6에 준거한 방법에 의해 측정한 값이며, 구체적인 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(4-4) 100％ 모듈러스

본 실시형태에 따른 점착제의 100％ 모듈러스는, 하한치로서, 0.005N／㎟ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.01N／㎟ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.015N／㎟ 이상인 것이 바람직하다. 100％ 모듈러스의 하한치가 상기이면, 반복 굴곡 디바이스의 내구성이 보다 우수한 것이 된다. 상기 100％ 모듈러스의 상한치는, 0.1N／㎟ 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.07N／㎟ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.05N／㎟ 이하인 것이 바람직하다. 상기 100％ 모듈러스의 상한치가 상기이면, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. 본 실시형태에 따른 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유하기 때문에, 상기와 같은 범위의 100％ 모듈러스를 달성하는 것이 가능하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 100％ 모듈러스의 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(4-5) 파단 신도

본 실시형태에 따른 점착제의 인장 시험에 의한 파단 신도는, 하한치로서, 500％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 800％ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 1000％ 이상인 것이 바람직하다. 파단 신도의 하한치가 상기이면, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. 또한, 반복 굴곡시켰을 때에, 점착제가 응집 파괴해 버리는 등의 문제의 발생을 억제할 수 있다. 본 실시형태에 따른 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유하기 때문에, 상기와 같은 큰 파단 신도를 달성하는 것이 가능하다. 상기 파단 신도의 상한치는 특별히 한정되지 않지만, 4000％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 3500％ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 3000％ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 파단 신도의 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(4-6) 파단 응력

본 실시형태에 따른 점착제의 인장 시험에 의한 파단 응력은, 하한치로서, 0.2N／㎟ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.3N／㎟ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 0.4N／㎟ 이상인 것이 바람직하다. 파단 응력의 하한치가 상기이면, 반복 굴곡시켰을 때에, 점착제가 응집 파괴해 버리는 등의 문제의 발생을 억제할 수 있어, 반복 굴곡 디바이스의 내구성이 보다 우수한 것이 된다. 상기 파단 응력의 상한치는 특별히 한정되지 않지만, 5N／㎟ 이하인 것이 바람직하고, 특히 3N／㎟ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 2N／㎟ 이하인 것이 바람직하다. 본 실시형태에 따른 점착제는, 폴리로탁산 화합물을 함유하기 때문에, 상기와 같은 범위의 파단 응력을 달성하는 것이 가능하다. 또한, 본 명세서에 있어서의 파단 응력의 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(4-7) 겔분율

본 실시형태에 따른 점착제는, 겔분율이 35％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 40％ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 45％ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 당해 겔분율은, 90％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 76％ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 71％ 이하인 것이 바람직하다. 본 실시형태에 따른 점착제는, 겔분율이 45％ 이상임으로써, 응력 완화성을 유지하면서, 내구성이 더 우수한 것이 된다. 또한, 겔분율의 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

〔점착 시트〕

본 실시형태에 따른 점착 시트는, 반복 굴곡 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재와 다른 굴곡성 부재를 첩합하기 위한 점착제층을 갖고, 당해 점착제층이, 상술한 점착제로 이루어지는 것이다.

본 실시형태에 따른 점착 시트의 일례로서의 구체적 구성을 도 1에 나타낸다.

도 1에 나타내는 바와 같이, 일 실시형태에 따른 점착 시트(1)는, 2매의 박리 시트(12a, 12b)와, 그것들 2매의 박리 시트(12a, 12b)의 박리면과 접하도록 당해 2매의 박리 시트(12a, 12b)에 협지된 점착제층(11)으로 구성된다. 또한, 본 명세서에 있어서의 박리 시트의 박리면이란, 박리 시트에 있어서 박리성을 갖는 면을 말하고, 박리 처리를 실시한 면 및 박리 처리를 실시하지 않아도 박리성을 나타내는 면 모두 포함하는 것이다.

(1) 구성 요소

(1-1) 점착제층

점착제층(11)은, 상술한 실시형태에 따른 점착제로 구성되고, 바람직하게는, 점착성 조성물(P)을 가교하여 이루어지는 점착제로 구성된다.

본 실시형태에 따른 점착 시트(1)에 있어서의 점착제층(11)의 두께(JIS K7130에 준하여 측정한 값)는, 하한치로서 5㎛ 이상인 것이 바람직하고, 특히 10㎛ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 20㎛ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 점착제층(11)의 두께는, 상한치로서 300㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 100㎛ 이하인 것이 바람직하다. 점착제층(11)의 두께가 상기 범위 내이면, 원하는 점착력을 발휘하기 쉽고, 또한, 반복 굴곡 디바이스의 굴곡 상태 완화 효과가 보다 우수한 것이 된다. 또한, 점착제층(11)은 단층으로 형성해도 되고, 복수층을 적층하여 형성할 수도 있다.

(1-2) 박리 시트

박리 시트(12a, 12b)는, 점착 시트(1)의 사용시까지 점착제층(11)을 보호하는 것이며, 점착 시트(1)(점착제층(11))를 사용할 때에 박리된다. 본 실시형태에 따른 점착 시트(1)에 있어서, 박리 시트(12a, 12b)의 한쪽 또는 양쪽은 반드시 필요한 것이 아니다.

박리 시트(12a, 12b)로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리에틸렌나프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌아세트산비닐 필름, 아이오노머 수지 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산 공중합체 필름, 에틸렌·(메타)아크릴산에스테르 공중합체 필름, 폴리스티렌 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리이미드 필름, 불소 수지 필름 등을 사용할 수 있다. 또한, 이들의 가교 필름도 사용할 수 있다. 또한, 이들의 적층 필름이어도 된다.

상기 박리 시트(12a, 12b)의 박리면(특히 점착제층(11)과 접하는 면)에는, 박리 처리가 실시되어 있는 것이 바람직하다. 박리 처리에 사용되는 박리제로서는, 예를 들면, 알키드계, 실리콘계, 불소계, 불포화폴리에스테르계, 폴리올레핀계, 왁스계의 박리제를 들 수 있다. 또한, 박리 시트(12a, 12b) 중, 한쪽 박리 시트를 박리력이 큰 중(重)박리형 박리 시트로 하고, 다른 쪽 박리 시트를 박리력이 작은 경(輕)박리형 박리 시트로 하는 것이 바람직하다.

박리 시트(12a, 12b)의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 통상 20∼150㎛ 정도이다.

(2) 물성

(2-1) 헤이즈치

본 실시형태에 따른 점착 시트(1)의 점착제층(11)의 헤이즈치는, 70％ 이하인 것이 바람직하고, 60％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 특히 50％ 이하인 것이 바람직하고, 더욱이는 40％ 이하인 것이 바람직하다. 점착제층(11)의 헤이즈치가 70％ 이하이면, 광학 용도(표시체용)로서 호적한 투명성을 확보할 수 있다. 점착제층(11)의 헤이즈치의 하한치는, 특별히 한정되지 않지만, 통상 0％ 이상이다. 또한, 본 명세서에 있어서의 헤이즈치는, JIS K7136:2000에 준하여 측정한 값으로 한다.

(2-2) 투명 도전막에 대한 점착력

본 실시형태에 따른 점착 시트(1)의 ITO(주석 도프 산화인듐)로 이루어지는 투명 도전막에 대한 점착력은, 하한치로서 5N／25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 특히 9N／25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 더욱이는 11N／25㎜ 이상인 것이 바람직하다. 점착 시트(1)의 점착력이 5N／25㎜ 이상이면, 특히 피착체가 투명 도전막일 경우의 내구성이 보다 우수한 것이 된다. 한편, 상기 점착력의 상한치는 특별히 한정되지 않지만, 통상은, 100N／25㎜ 이하인 것이 바람직하고, 75N／25㎜ 이하인 것이 보다 바람직하고, 50N／25㎜ 이하인 것이 특히 바람직하다. 또한, 상기 점착력은, 기본적으로는 JIS Z0237:2009에 준한 180도 박리법에 의해 측정한 점착력을 말하고, 구체적인 시험 방법은, 후술하는 시험예에 나타내는 바와 같다.

(3) 점착 시트의 제조

점착 시트(1)의 일 제조예로서, 상기 점착성 조성물(P)을 사용했을 경우에 대해서 설명한다. 한쪽 박리 시트(12a(또는 12b))의 박리면에, 점착성 조성물(P)의 도포액을 도포하고, 가열 처리를 행하여 점착성 조성물(P)을 열가교하고, 도포층을 형성한 후, 그 도포층에 다른 쪽 박리 시트(12b(또는 12a))의 박리면을 중합시킨다. 양생 기간이 필요할 경우에는 양생 기간을 둠으로써, 양생 기간이 불필요할 경우에는 그대로, 상기 도포층이 점착제층(11)이 된다. 이에 따라, 상기 점착 시트(1)를 얻을 수 있다. 가열 처리 및 양생의 조건에 대해서는, 상술한 바와 같다.

점착 시트(1)의 다른 제조예로서는, 한쪽 박리 시트(12a)의 박리면에, 점착성 조성물(P)의 도포액을 도포하고, 가열 처리를 행하여 점착성 조성물(P)을 열가교하고, 도포층을 형성하여, 도포층이 부착된 박리 시트(12a)를 얻는다. 또한, 다른 쪽 박리 시트(12b)의 박리면에, 상기 점착성 조성물(P)의 도포액을 도포하고, 가열 처리를 행하여 점착성 조성물(P)을 열가교하고, 도포층을 형성하여, 도포층이 부착된 박리 시트(12b)를 얻는다. 그리고, 도포층이 부착된 박리 시트(12a)와 도포층이 부착된 박리 시트(12b)를, 양(兩)도포층이 서로 접촉하도록 첩합시킨다. 양생 기간이 필요할 경우에는 양생 기간을 둠으로써, 양생 기간이 불필요할 경우에는 그대로, 상기의 적층된 도포층이 점착제층(11)이 된다. 이에 따라, 상기 점착 시트(1)를 얻을 수 있다. 이 제조예에 의하면, 점착제층(11)이 두꺼울 경우에도, 안정되게 제조하는 것이 가능해진다.

상기 점착성 조성물(P)의 도포액을 도포하는 방법으로서는, 예를 들면 바 코팅법, 나이프 코팅법, 롤 코팅법, 블레이드 코팅법, 다이 코팅법, 그라비어 코팅법 등을 이용할 수 있다.

〔반복 굴곡 적층 부재〕

도 2에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 반복 굴곡 적층 부재(2)는, 제1 굴곡성 부재(21)(하나의 굴곡성 부재)와, 제2 굴곡성 부재(22)(다른 굴곡성 부재)와, 그것들 사이에 위치하고, 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)를 서로 첩합하는 점착제층(11)을 구비하여 구성된다.

상기 반복 굴곡 적층 부재(2)에 있어서의 점착제층(11)은, 상술한 점착 시트(1)의 점착제층(11)이다.

반복 굴곡 적층 부재(2)는, 반복 굴곡 디바이스 자체이거나, 또는 반복 굴곡 디바이스의 일부를 구성하는 부재이다. 반복 굴곡 디바이스는, 반복의 굴곡(절곡(折曲)을 포함함)이 가능한 디스플레이인 것이 바람직하지만, 이에 한정되는 것이 아니다. 이러한 반복 굴곡 디바이스로서는, 예를 들면, 유기 일렉트로 루미네선스(유기 EL) 디스플레이, 전기 영동 방식의 디스플레이(전자 페이퍼), 기판으로서 플라스틱 기판(필름)을 사용한 액정 디스플레이, 폴더블 디스플레이 등을 들 수 있고, 터치 패널이어도 된다.

제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)는, 반복의 굴곡(절곡을 포함함)이 가능한 부재이며, 예를 들면, 커버 필름, 배리어 필름, 편광 필름, 편광자, 위상차 필름, 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름, 콘트라스트 향상 필름, 확산 필름, 반투과 반사 필름, 전극 필름, 투명 도전성 필름, 금속 메쉬 필름, 필름 센서, 액정 폴리머 필름, 발광 폴리머 필름, 필름상 액정 모듈, 유기 EL 모듈(유기 EL 필름), 전자 페이퍼 모듈(필름상 전자 페이퍼) 등을 들 수 있다.

상기 중에서도, 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 적어도 한쪽이, 반복 굴곡 가능한 표시 소자, 구체적으로는, 액정 폴리머 필름, 발광 폴리머 필름, 필름상 액정 모듈, 유기 EL 모듈(유기 EL 필름), 또는 전자 페이퍼 모듈(필름상 전자 페이퍼)인 것이 바람직하다.

제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)는, 구성 부재로서, 실온 이하의 유리 전이 온도를 갖는 재료를 포함하는 것도 바람직하다. 실온 이하의 유리 전이 온도를 갖는 재료의 유리 전이 온도는, 상한치로서, 25℃ 이하가 바람직하고, 특히 10℃ 이하가 바람직하고, 더욱이는 0℃ 이하가 바람직하다. 실온 이하의 유리 전이 온도를 갖는 재료의 유리 전이 온도의 하한치는, 특별히 한정되지 않지만, -150℃ 이상이 바람직하고, 특히 -100℃ 이상이 바람직하고, 더욱이는 -80℃ 이상이 바람직하다. 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)가, 상기와 같은 실온 이하의 유리 전이 온도를 갖는 재료를 포함함으로써, 각 굴곡성 부재의 유연성이 양호한 것이 되어, 반복 굴곡시키는 것이 용이해진다.

제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 영률은, 각각 0.1∼10㎬인 것이 바람직하고, 특히 0.5∼7㎬인 것이 바람직하고, 더욱이는 1.0∼5㎬인 것이 바람직하다. 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 영률이 이러한 범위에 있음으로써, 각 굴곡성 부재에 대해서 반복 굴곡시키는 것이 용이해진다.

제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 두께는, 각각 10∼3000㎛인 것이 바람직하고, 특히 25∼1000㎛인 것이 바람직하고, 더욱이는 50∼500㎛인 것이 바람직하다. 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 두께가 이러한 범위에 있음으로써, 각 굴곡성 부재에 대해서 반복 굴곡시키는 것이 용이해진다.

상기 반복 굴곡 적층 부재(2)를 제조하기 위해서는, 일례로서, 점착 시트(1)의 한쪽 박리 시트(12a)를 박리하고, 점착 시트(1)의 노출된 점착제층(11)을, 제1 굴곡성 부재(21)의 한쪽 면에 첩합한다.

그 후, 점착 시트(1)의 점착제층(11)으로부터 다른 쪽 박리 시트(12b)를 박리하고, 점착 시트(1)의 노출된 점착제층(11)과 제2 굴곡성 부재(22)를 첩합하여, 반복 굴곡 적층 부재(2)를 얻는다. 또한, 다른 예로서, 제1 굴곡성 부재(21) 및 제2 굴곡성 부재(22)의 첩합 순서를 교체해도 된다.

〔반복 굴곡 디바이스〕

본 실시형태에 따른 반복 굴곡 디바이스는, 상기의 반복 굴곡 적층 부재(2)를 구비한 것이며, 반복 굴곡 적층 부재(2)만으로 이루어져도 되고, 하나 또는 복수의 반복 굴곡 적층 부재(2)와, 다른 굴곡성 부재를 구비하여 구성되어도 된다. 하나의 반복 굴곡 적층 부재(2)와 다른 반복 굴곡 적층 부재(2)를 적층할 때, 또는 반복 굴곡 적층 부재(2)와 다른 굴곡성 부재를 적층할 때에는, 상술한 점착 시트(1)의 점착제층(11)을 개재하여 적층하는 것이 바람직하다.

본 실시형태에 따른 반복 굴곡 디바이스는, 점착제층이 상술한 점착제로 이루어지기 때문에, 반복 굴곡시켰을 경우에 있어서, 외력을 해방한 후에도, 굴곡 상태가 완화된다. 예를 들면, 23℃의 환경 하, 4㎜φ의 굴곡경에 있어서, 3만회 반복 굴곡시킨 후의, 굴곡 부분에서의 꺽임 각도를 30° 이하, 꺽임 높이를 4㎝ 이하로 억제할 수 있다.

또한, 본 실시형태에 따른 반복 굴곡 디바이스는, 점착제층이 상술한 점착제로 이루어지기 때문에, 내구성의 저하가 억제될 수 있다. 예를 들면, 85℃, 85％ RH 조건 하에 72시간 둔 경우에도, 굴곡성 부재와 점착제층과의 계면에 들뜸이나 벗겨짐이 발생하는 것이 억제된다.

이상 설명한 실시형태는, 본 발명의 이해를 용이하게 하기 위해 기재된 것으로서, 본 발명을 한정하기 위해 기재된 것이 아니다. 따라서, 상기 실시형태에 개시된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.

예를 들면, 점착 시트(1)에 있어서의 박리 시트(12a, 12b) 중 어느 한쪽 또는 양쪽은 생략되어도 되고, 또한, 박리 시트(12a 및／또는 12b) 대신에 원하는 광학 부재가 적층되어도 된다.

[실시예]

이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예 등에 한정되는 것이 아니다.

〔실시예 1〕

1. (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 조제

아크릴산n-부틸 47질량부, 아크릴산2-에틸헥실 47질량부, 아크릴산 5질량부 및 아크릴산2-히드록시프로필 1질량부를 공중합시켜, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)를 조제했다. 이 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 분자량을 후술하는 방법으로 측정한 바, 중량 평균 분자량(Mw) 70만이었다.

2. 점착성 조성물의 조제

상기 공정 1에서 얻어진 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A) 100질량부(고형분 환산치; 이하 동일함)와, 가교제(B)로서의 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(B1: 도요켐사제, 제품명 「BHS8515」) 1.5질량부와, 폴리로탁산 화합물(C)(어드밴스트·소프트머터리얼즈사제, 제품명 「셀무 수퍼 폴리머 SH3400P」, 직쇄상 분자: 폴리에틸렌글리콜, 환상 분자: 히드록시프로필기 및 카프로락톤쇄를 갖는 α-시클로덱스트린, 블록기: 아다만탄기, 중량 평균 분자량(Mw) 70만, 수산기가 72㎎KOH／g) 5질량부와, 실란커플링제로서의 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 0.28질량부를 혼합하고, 충분히 교반하여, 메틸에틸케톤으로 희석함으로써, 점착성 조성물의 도포 용액을 얻었다.

3. 점착 시트의 제조

얻어진 점착성 조성물의 도포 용액을, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 편면을 실리콘계 박리제로 박리 처리한 중박리형 박리 시트(린텍사제, 제품명 「SP-PET752150」)의 박리 처리면에, 나이프 코터로 도포했다. 그리고, 도포층에 대하여, 90℃에서 1분간 가열 처리하여 도포층을 형성했다.

그 다음에, 상기에서 얻어진 중박리형 박리 시트 상의 도포층과, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 편면을 실리콘계 박리제로 박리 처리한 경박리형 박리 시트(린텍사제, 제품명 「SP-PET382120」)를, 당해 경박리형 박리 시트의 박리 처리면이 도포층에 접촉하도록 첩합하고, 23℃, 50％ RH의 조건 하에서 7일간 양생함으로써, 두께 25㎛의 점착제층을 갖는 점착 시트, 즉, 중박리형 박리 시트／점착제층(두께: 25㎛)／경박리형 박리 시트의 구성으로 이루어지는 점착 시트를 제작했다. 또한, 점착제층의 두께는, JIS K7130에 준거하고, 정압 두께 측정기(테크로크사제, 제품명 「PG-02」)를 사용하여 측정한 값이다.

여기에서, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)를 100질량부(고형분 환산치)로 했을 경우의 점착성 조성물의 각 배합(고형분 환산치)을 표 1에 나타낸다. 또한, 표 1에 기재된 약호 등의 상세는 이하와 같다.

[(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)]

BA: 아크릴산n-부틸

2EHA: 아크릴산2-에틸헥실

ACMO: N-아크릴로일모르폴린

IBXA: 아크릴산이소보르닐

AA: 아크릴산

HEMA: 메타크릴산2-히드록시에틸

HEA: 아크릴산2-히드록시에틸

HPA: 아크릴산2-히드록시프로필

[가교제(B)]

B1: 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(도요켐사제, 제품명 「BHS8515」)

B2: 트리메틸올프로판 변성 자일릴렌디이소시아네이트(소켄가가쿠사제, 제품명 「TD-75」)

〔실시예 2∼9, 비교예 1∼4〕

(메타)아크릴산에스테르 중합체(A)를 구성하는 각 모노머의 종류 및 비율, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 중량 평균 분자량(Mw), 가교제(B)의 배합량, 폴리로탁산 화합물(C)의 배합량, 그리고 점착제층의 두께를 표 1에 나타내는 바와 같이 변경하는 것 이외, 실시예 1과 마찬가지로 하여 점착 시트를 제조했다.

〔시험예 1〕(유리 전이 온도의 측정)

실시예 및 비교예에서 조제·사용한 (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)의 유리 전이 온도(Tg)를, 시차 주사 열량 측정 장치(티·에이·인스트루먼트·쟈판사제, 제품명 「DSC Q2000」)에 의해, 승온·강온 속도 20℃／분으로 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.

〔시험예 2〕(저장 탄성률(G')의 측정)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트의 점착제층을 복수층 적층하고, 두께 3㎜의 적층체로 했다. 얻어진 점착제층의 적층체로부터, 직경 8㎜의 원기둥체(높이 3㎜)를 펀칭하고, 이것을 샘플로 했다.

상기 샘플에 대해서, JIS K7244-6에 준거하고, 점탄성 측정기(REOMETRIC사제, DYNAMIC ANALAYZER)를 사용하여 비틀림 전단법에 의해, 이하의 조건으로 저장 탄성률(G')(㎫)을 측정했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

측정 주파수: 1㎐

측정 온도: -20℃, 23℃, 50℃

〔시험예 3〕(겔분율의 측정)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트를 80㎜×80㎜의 사이즈로 재단하여, 그 점착제층을 폴리에스테르제 메쉬(메쉬 사이즈 200)로 감싸고, 그 질량을 정밀(精密) 천칭으로 칭량하고, 상기 메쉬 단독의 질량을 뺌으로써, 점착제만의 질량을 산출했다. 이때의 질량을 M1로 한다.

다음으로, 상기 폴리에스테르제 메쉬로 감싸인 점착제를, 실온 하(23℃)에서 아세트산에틸에 24시간 침지시켰다. 그 후 점착제를 취출하여, 온도 23℃, 상대 습도 50％의 환경 하에서, 24시간 풍건시키고, 추가로 80℃의 오븐 중에서 12시간 건조시켰다. 건조 후, 그 질량을 정밀 천칭으로 칭량하고, 상기 메쉬 단독의 질량을 뺌으로써, 점착제만의 질량을 산출했다. 이때의 질량을 M2로 한다. 겔분율(％)은, (M2／M1)×100으로 표시된다. 결과를 표 2에 나타낸다.

〔시험예 4〕(헤이즈치의 측정)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트의 점착제층에 대해서, JIS K7136:2000에 준하여, 헤이즈 미터(니혼덴쇼쿠고교사제, 제품명 「NDH-2000」)를 사용하여 헤이즈치(％)를 측정했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

〔시험예 5〕(점착력의 측정)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트로부터 경박리형 박리 시트를 박리하고, 노출된 점착제층을, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도요보사제, 제품명 「코스모샤인 A4300」, 두께: 100㎛)의 이(易)접착층에 첩합하여, 중박리형 박리 시트／점착제층／PET 필름의 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 25㎜ 폭, 100㎜ 길이로 재단했다.

23℃, 50％ RH의 환경 하에서, 상기 적층체로부터 중박리형 박리 시트를 박리하고, 노출된 점착제층을, 편면에 주석 도프 산화인듐(ITO)으로 이루어지는 투명 도전막이 마련된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(오이케고교사제, 제품명 「ITO 필름」, 두께: 125㎛)의 투명 도전막에 첨부하고, 쿠리하라세이사쿠쇼사제 오토클레이브로 0.5㎫, 50℃에서, 20분 가압했다. 그 후, 23℃, 50％ RH의 조건 하에서 24시간 방치하고 나서, 인장 시험기(오리엔테크사제, 제품명 「텐시론」)를 사용하여, 박리 속도 300㎜／min, 박리 각도 180도의 조건으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름과 점착제층과의 적층체를, 투명 도전막으로부터 박리했을 때의 점착력(N／25㎜)을 측정했다. 여기에 기재한 것 이외의 조건은 JIS Z0237:2009에 준거하여 측정을 행했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

〔시험예 6〕(인장 시험)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트의 점착제층을 복수층 적층하고, 합계 두께 800㎛로 한 후, 10㎜ 폭×75㎜ 길이의 샘플을 잘라냈다. 샘플 측정 부위가 10㎜ 폭×25㎜ 길이(신장 방향)가 되도록 상기 샘플을 인장 시험기(오리엔테크사제, 제품명 「텐시론」)에 세트하고, 23℃, 50％ RH의 환경 하에서 당해 인장 시험기를 사용하여 인장 속도 200㎜／분으로 신장시켰다. 응력-왜곡선(SS 커브)으로, 신장율이 100％가 되는 응력치를 100％ 모듈러스(N／㎟)로서 산출(측정)했다. 또한, 상기 샘플이 파단할 때까지 신장시켜, 파단 신도(％) 및 파단 응력(N／㎟)을 측정했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

〔시험예 7〕(굴곡 시험)

23℃, 50％ RH의 환경 하에서, 실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트로부터 경박리형 박리 시트를 박리하고, 노출된 점착제층을, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도요보세키사제, 제품명 「코스모샤인 4300」, 두께: 100㎛)의 한쪽 면에 첩합했다. 그 다음에, 중박리형 박리 시트를 박리하고, 노출된 점착제층을, 다른 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도요보세키사제, 제품명 「코스모샤인 4300」, 두께: 100㎛)의 한쪽 면에 첩합했다. 그리고, 쿠리하라세이사쿠쇼사제 오토클레이브로 0.5㎫, 50℃에서, 20분 가압한 후, 23℃, 50％ RH의 조건 하에서 24시간 방치했다. 이와 같이 하여 얻은 PET 필름／점착제층／PET 필름으로 이루어지는 적층체를, 50mm 폭, 200mm 길이로 재단하고, 이것을 샘플로 했다.

얻어진 샘플을, 내구 시험기(유아사시스템기기사제, 제품명 「면상체 무부하 U자 신축 시험기」)를 사용하여, 이하의 조건으로 반복 굴곡시켰다. 그 후, 샘플을 수평 테이블 상에 두어, 당해 샘플의 굴곡부를 끼운 한쪽 부분(파트 A)을 테이블면에 고정했다. 그리고, 당해 샘플의 굴곡부를 끼운 다른 쪽 부분(파트 B)의 단부(端部)의 테이블면으로부터의 수직 거리(꺽임 높이; ㎝) 및 파트 B의 테이블면으로부터의 각도(꺽임 각도; °)를 측정했다. 결과를 표 2에 나타낸다.

굴곡경: 4㎜φ

굴곡 횟수: 30000회

시험 온도: 23℃

〔시험예 8〕(내구성의 평가)

실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트의 점착제층을, 편면에 주석 도프 산화인듐(ITO)으로 이루어지는 투명 도전막이 마련된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(오이케고교사제, ITO 필름, 두께: 125㎛)의 투명 도전막과, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(도요보사제, 제품명 「코스모샤인 A4300」, 두께: 100㎛)으로 끼워, 적층체를 얻었다.

얻어진 적층체(샘플)를, 50℃, 0.5㎫의 조건 하에서 30분간 오토클레이브 처리한 후, 상압, 23℃, 50％ RH로 24시간 방치했다. 그 다음에, 85℃, 85％ RH의 고온 고습 조건 하에서 72시간 보관했다. 그 후, 점착제층과 피착체와의 계면에 들뜸·벗겨짐이 있는지의 유무, 목시(目視)에 의해 확인하고, 이하의 기준에 의해 내구성을 평가했다.

◎… 들뜸 및 벗겨짐이 전혀 없었다.

○… 1㎜ 미만의 미소한 기포가 1개 또는 2개 발생했지만, 들뜸 및 벗겨짐이 전혀 없었다.

×… 들뜸 또는 벗겨짐이 발생했다.

[표 1]

[표 2]

표 2에서 알 수 있는 바와 같이, 실시예의 점착 시트의 점착제층은, 굴곡 상태 완화 효과가 우수함과 함께, 고온 고습 조건의 내구성도 우수한 것이었다.

본 발명은 반복 굴곡 디바이스를 구성하는 하나의 굴곡성 부재(예를 들면 각종 필름)와 다른 굴곡성 부재(예를 들면 표시 소자)를 첩합하기 위해서도 호적하다.

1: 점착 시트
11: 점착제층
12a, 12b: 박리 시트
2: 반복 굴곡 적층 부재
21: 제1 굴곡성 부재
22: 제2 굴곡성 부재

Claims

하나의 굴곡성 부재 및 다른 굴곡성 부재와,
상기 하나의 굴곡성 부재와 상기 다른 굴곡성 부재를 서로 첩합하는 점착제층을 구비한 반복 굴곡 디바이스이며,
상기 점착제층이, 폴리로탁산 화합물을 함유하는 점착제로 이루어지는 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제가, (메타)아크릴산에스테르 중합체(A)와, 가교제(B)와, 상기 폴리로탁산 화합물(C)을 함유하는 점착성 조성물을 가교하여 이루어지는 점착제인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제의 -20℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(-20)이, 0.01㎫ 이상, 1.8㎫ 이하인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제의 50℃에 있어서의 저장 탄성률(G')(50)이, 0.001㎫ 이상, 0.5㎫ 이하인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제의 100％ 모듈러스가, 0.005N／㎟ 이상, 0.1N／㎟ 이하인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제의 인장 시험에 의한 파단 신도가, 500％ 이상, 4000％ 이하인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
제1항에 있어서,
상기 점착제의 인장 시험에 의한 파단 응력이, 0.2N／㎟ 이상, 5N／㎟ 이하인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
삭제
삭제
삭제
제1항에 있어서,
상기 하나의 굴곡성 부재 및 상기 다른 굴곡성 부재의 적어도 한쪽이, 표시 소자인 것을 특징으로 하는 반복 굴곡 디바이스.
삭제