KR102416391B1 - 기판 처리 장치 - Google Patents

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KR102416391B1
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노리유키 기쿠모토
유조 우치다
히로유키 가와하라
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판을 세정 처리하는 기판 처리 장치로서, 처리 블록은, 처리 유닛을 상단과 하단의 각각에 복수 개 구비하고 있다. 처리 블록은, 상기 상단에 표면 세정 유닛 및 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고 있다. 처리 블록은, 상기 하단에 표면 세정 유닛 및 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비한 타워 유닛을 적어도 1개 구비하고 있다. 반송 블록은, 센터 로봇을 상기 상단 및 상기 하단의 각각에 구비하고 있다.

Description

기판 처리 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS}
본 발명은, 반도체 웨이퍼, 액정 표시기나 유기 EL(Electroluminescence) 표시 장치용 기판, 포토마스크용 유리 기판, 광디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 세라믹 기판, 태양 전지용 기판 등의 기판(이하, 간단하게 기판이라고 칭한다)에 대하여, 표면 세정이나 이면 세정 등의 세정 처리를 행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.
종래, 이러한 종류의 장치로서, 인덱서 블록과, 처리 블록과, 반전 패스 블록을 구비한 것이 있다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2014-72490호 공보(도 2)를 참조한 것이다.
인덱서 블록은, 캐리어 재치부(載置部)와 인덱서 로봇을 구비하고 있다. 처리 블록은, 처리 유닛으로서 표면 세정 유닛과 이면 세정 유닛을 구비하고 있다. 캐리어 재치부는, 복수 장의 기판을 수용한 캐리어가 재치된다. 인덱서 로봇은, 캐리어와 반전 패스 블록의 사이에서 기판을 반송한다. 반전 패스 블록은, 반전 패스 유닛을 구비하고 있다. 반전 패스 유닛은, 기판이 재치되는 복수 단의 선반을 구비하고, 처리 블록과의 사이에서 기판을 수도(受渡)하거나, 기판의 표리를 반전시키거나 한다.
처리 블록은, 인덱서 블록에서 보았을 때 좌방에, 2대의 이면 세정 유닛을 구비하고 있다. 처리 블록은, 2대의 이면 세정 유닛 위에 2대의 표면 세정 유닛을 구비하고 있다. 즉, 처리 블록은, 인덱서 블록에서 보았을 때 좌방에, 4층 구조의 제1 처리부 열(列)을 구비하고 있다. 처리 블록은, 인덱서 블록에서 보았을 때 우방에, 2대의 이면 세정 유닛을 구비하고 있다. 처리 블록은, 2대의 이면 세정 유닛 위에 2대의 표면 세정 유닛을 구비하고 있다. 즉, 처리 블록은, 인덱서 블록에서 보았을 때 우방에, 4층 구조의 제2 처리부 열을 구비하고 있다. 처리 블록은, 표면 세정 유닛 및 이면 세정 유닛과 반전 패스 유닛의 사이에서 기판을 반송하는 1대의 메인 로봇을 구비하고 있다.
이 장치에서는, 메인 로봇이 처리 블록에 1대만 배치된 구성이다. 그러나, 최근에는, 스루풋을 향상시키기 위하여, 다음과 같이 구성되어 있는 것이 있다. 즉, 처리 블록 중 상단의 2층의 처리 유닛에 1대의 메인 로봇을 구비하고 있다. 처리 블록 중 하단의 2층의 처리 유닛에 1대의 메인 로봇을 구비하고 있다. 환언하면, 처리 블록이 2대의 메인 로봇을 탑재하고 있다. 예를 들면, 일본국 특허공개 2016-201526호 공보(도 10)를 참조한 것이다.
그러나, 이와 같은 구성을 갖는 종래예의 경우에는, 다음과 같은 문제가 있다.
즉, 종래의 장치는, 상단이나 하단 중 한쪽의 메인 로봇이 고장난 경우나, 상단 또는 하단의 처리 유닛이 모두 고장난 경우에는, 표면 세정이나 이면 세정 중 어느 한쪽의 처리밖에 행할 수 없다. 따라서, 그와 같은 고장이 발생한 경우, 종래의 장치는, 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 없다고 하는 문제가 있다.
본 발명은, 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 스루풋을 향상시킬 수 있는 구성을 채용하면서도, 상단 또는 하단의 구성 중 어느 한쪽에 고장이 발생한 경우이더라도 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있는 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 이와 같은 목적을 달성하기 위하여, 다음과 같은 구성을 채용한다.
본 발명은, 기판을 세정 처리하는 기판 처리 장치로서, 상기 장치는, 이하의 요소: 복수 장의 기판을 수용하는 캐리어가 재치되는 캐리어 재치부를 구비하고, 상기 캐리어 재치부의 상기 캐리어와의 사이에서 기판을 반송하는 인덱서 로봇을 구비한 인덱서 블록; 처리 유닛으로서, 기판의 표면 세정 처리를 행하는 표면 세정 유닛 및 기판의 이면 세정 처리를 행하는 이면 세정 유닛을 구비하고 있는 처리 블록; 상기 인덱서 블록과 상기 처리 블록의 사이에 배치되고, 기판을 재치하는 복수 단의 선반을 구비하고 있음과 더불어, 기판의 표리를 반전시키는 반전 기능을 구비하고 있는 반전 패스 블록; 을 구비하고, 상기 처리 블록은, 상기 처리 유닛을 상단과 하단의 각각에 복수 개 구비하며, 상기 상단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고, 상기 하단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비한 타워 유닛을 적어도 1개 구비하며, 상기 타워 유닛에 있어서의 상기 각 처리 유닛과 상기 반전 패스 블록의 사이에서 기판을 반송하는 센터 로봇을 상기 상단 및 상기 하단의 각각에 구비한 반송 블록을 구비하고 있다.
본 발명에 의하면, 처리 블록은 적어도 1개의 타워 유닛을 구비하고 있다. 이 타워 유닛은, 처리 유닛을 상단과 하단의 각각에 복수 개 구비하고 있다. 이 타워 유닛은, 상단에 표면 세정 유닛 및 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고 있다. 이 타워 유닛은, 하단에 표면 세정 유닛 및 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고 있다. 또한, 반송 블록은, 처리 블록에 있어서의 상단 및 하단의 각각에 센터 로봇을 구비하고 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있다. 이 구성에 있어서, 상단 또는 하단 중 한쪽의 센터 로봇이 고장난 경우나 상단 또는 하단 중 한쪽의 전체 처리 유닛이 고장난 경우이더라도, 상단 또는 하단 중 다른 쪽에 의하여 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있는 구성을 채용하면서, 상단 또는 하단의 구성 중 어느 한쪽에 고장이 발생한 경우이더라도 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다.
또한, 본 발명에 있어서, 상기 반전 패스 블록은, 상기 상단 및 상기 하단의 각각에, 적어도 2개의 개별 반전 패스 유닛을 구비하고 있고, 상기 반전 패스 유닛의 각각은, 기판을 재치하는 복수 단의 선반을 구비하고 있음과 더불어, 기판의 표리를 반전시키는 반전 기능을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
반전 패스 블록은, 상단 및 하단의 각각에 적어도 2개의 개별 반전 패스 유닛을 구비하고 있다. 그 때문에, 표면 세정 처리를 위하여 표리를 반전시키지 않고 기판을 수도할 뿐인 동작과, 이면 세정을 위하여 기판을 반전시키는 동작을 병행하여 각 단에서 실시할 수 있다. 따라서, 상단 및 하단에 있어서의 표리에 걸친 세정 처리를 효율적으로 행할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 처리 블록은, 상기 타워 유닛을 복수 개 구비하고, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 반전 패스 블록으로부터 먼 타워 유닛보다 많은 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
일반적으로, 이면 세정 처리보다 표면 세정 처리가 실시되는 비율이 많다. 그 때문에, 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛이 많은 표면 세정 유닛을 구비하고 있음으로써, 센터 로봇에 의한 반송 시간을 단축할 수 있다. 따라서, 표면 세정 처리를 효율적으로 행할 수 있다.
본 발명은, 상기 각 타워 유닛은, 상기 센터 로봇을 사이에 두고 대향하는 같은 높이 위치에, 상기 표면 세정 유닛과, 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
반전 패스 유닛을 경유하여 기판을 표면 세정 유닛과 이면 세정 유닛의 사이에서 반송할 때에, 센터 로봇에 있어서의 상하 방향의 이동을 없앨 수 있으므로, 기판의 반송 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 각 타워 유닛 중, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 표면 처리 유닛과 상기 이면 처리 유닛이 상하 방향에 대하여 인접하는 조(組)를 적어도 1개 갖는 것이 바람직하다.
타워 유닛 중 반전 패스 블록에 가까운 것은, 표면 처리 유닛과 이면 처리 유닛이 상하 방향으로 인접하여 배치되어 있다. 따라서, 표리에 걸친 세정 처리를 행할 때에, 센터 로봇이 전후 방향으로 이동하는 거리를 단축할 수 있으므로, 기판의 반송을 효율적으로 행할 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
일반적으로, 이면 세정 처리보다 표면 세정 처리가 실시되는 비율이 많다. 그 때문에, 표면 세정 유닛을 상단과 하단의 경계에 배치함으로써, 상단과 하단의 양단을 이용하여 표면 세정 처리를 행할 때에 있어서의 인덱서 로봇의 상하 방향의 이동 거리를 단축할 수 있다. 따라서, 표면 세정 처리에 있어서의 처리 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
이면 세정 유닛을 상단과 하단의 경계에 배치하고 있으므로, 이면 세정 처리를 많이 처리할 때에 인덱서 로봇의 상하 방향에 있어서의 이동 거리를 단축할 수 있다. 따라서, 이면 세정 처리에 있어서의 처리 효율을 향상시킬 수 있다.
본 발명에 있어서, 상기 타워 유닛은, 상기 상단에 구비한 복수 개의 처리 유닛과 같은 배치로 상기 하단에 복수 개의 처리 유닛을 구비하고 있는 것이 바람직하다.
상단 또는 하단 중 한쪽에 있어서의 처리 유닛이 고장난 경우이더라도, 상하 방향에 있어서의 반송 경로를 동일하게 하면서 다른 쪽에서 같은 처리를 계속할 수 있다. 따라서, 다른 쪽에서 처리하는 경우이더라도, 스루풋이 변하지 않도록 처리할 수 있다.
발명을 설명하기 위하여 현재의 적합하다고 생각되는 몇 가지의 형태가 도시되어 있지만, 발명이 도시된 바와 같은 구성 및 방책에 한정되는 것은 아닌 것을 이해하기 바란다.
도 1은, 실시예에 따른 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 사시도이다.
도 2는, 기판 처리 장치의 평면도이며, 처리 블록의 상단에 있어서의 상층을 나타내는 도면이다.
도 3은, 기판 처리 장치의 평면도이며, 처리 블록의 상단에 있어서의 하층을 나타내는 도면이다.
도 4는, 기판 처리 장치의 측면도이다.
도 5는, 인덱서 로봇의 전체를 나타내는 사시도이다.
도 6은, 인덱서 로봇의 핸드를 나타내는 사시도이고, 도 6a는, 4장의 핸드 본체를 나타내며, 도 6b는, 2장으로 된 핸드 본체를 나타낸다.
도 7은, 인덱서 블록을 배면에서 본 상태에 있어서의 반전 패스 블록의 사시도이다.
도 8은, 인덱서 블록 및 반전 패스 블록을 좌측면에서 본 상태를 나타내는 도면이다.
도 9는, 반전 패스 유닛의 주요부를 나타내는 사시도이다.
도 10a~도 10d는, 반전 패스 유닛의 동작 설명도이다.
도 11은, 기판 처리 장치의 운반 시에 있어서의 상태를 나타내는 분해 사시도이다.
도 12는, 반송 블록의 주요부를 나타내는 사시도이다.
도 13은, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 1을 나타내는 모식도이다.
도 14는, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 2를 나타내는 모식도이다.
도 15는, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 3을 나타내는 모식도이다.
도 16은, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 4를 나타내는 모식도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 대하여 설명한다.
도 1은, 실시예에 따른 기판 처리 장치의 전체 구성을 나타내는 사시도이다. 도 2는, 기판 처리 장치의 평면도이며, 처리 블록의 상단에 있어서의 상층을 나타내는 도면이다. 도 3은, 기판 처리 장치의 평면도이며, 처리 블록의 상단에 있어서의 하층을 나타내는 도면이다. 도 4는, 기판 처리 장치의 측면도이다.
본 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)의 표면을 세정하는 표면 세정 처리와, 기판의 이면을 세정하는 이면 세정 처리를 실시할 수 있는 장치이다. 이 기판 처리 장치(1)는, 인덱서 블록(3)과, 반전 패스 블록(5)과, 처리 블록(7)과, 반송 블록(9)과, 유틸리티 블록(11)을 구비하고 있다.
인덱서 블록(3)은, 처리 대상인 기판(W)을 반전 패스 블록(5)과의 사이에서 수도한다. 반전 패스 블록(5)은, 인덱서 블록(3)과 처리 블록(7)의 사이에 배치되어 있다. 반전 패스 블록(5)은, 기판(W)의 표리를 반전시키는 일 없이, 기판(W)을 그대로 인덱서 블록(3)과 반송 블록(9)의 사이에서 수도한다. 또한, 반전 패스 블록(5)은, 기판(W)의 표리를 반전시켜 반송 블록(9)과의 사이에서 기판(W)을 수도한다. 반송 블록(9)은, 반전 패스 블록(5)과 처리 블록(7)의 사이에 있어서의 기판(W)의 반송을 행한다. 처리 블록(7)은, 기판(W)의 표면을 세정하는 표면 세정 유닛(SS)과, 기판(W)의 이면을 세정하는 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 유틸리티 블록(11)은, 처리 블록(7)에 약액이나 순수 등의 처리액이나, 질소 가스나 공기 등의 기체를 공급하는 구성 등을 구비하고 있다.
기판 처리 장치(1)는, 인덱서 블록(3)과, 반전 버스 블록(5)과, 처리 블록(7) 및 반송 블록(9)과, 유틸리티 블록(11)이 이 순번으로 늘어서도록 배치되어 있다.
이하의 설명에 있어서는, 인덱서 블록(3)과, 반전 패스 블록(5)과, 처리 블록(7) 및 반송 블록(9)과, 유틸리티 블록(11)이 늘어서는 방향을 「전후 방향(X)」(수평 방향)이라고 한다. 특히, 유틸리티 블록(11)으로부터 인덱서 블록(3)으로 향하는 방향을 「전방(XF)」이라고 하고, 전방(XF) 방향의 반대 방향을 「후방(XB)」이라고 한다. 전후 방향(X)과 수평 방향에서 직교하는 방향을 「폭 방향(Y)」이라고 한다. 또한, 인덱서 블록(3)의 정면에서 본 경우에, 폭 방향(Y)의 일방향을 적절하게 「우방(YR)」이라고 하고, 우방(YR)의 반대의 타방향을 「좌방(YL)」이라고 한다. 또한, 수직인 방향을 「상하 방향(Z)」(높이 방향, 수직 방향)이라고 한다. 또한, 간단하게 「측방」이나 「횡방향」 등이라고 기재할 때에는, 전후 방향(X) 및 폭 방향(Y) 중 어느 것에도 한정되지 않는다.
인덱서 블록(3)은, 캐리어 재치부(13)와, 반송 스페이스(AID)와, 인덱서 로봇(TID)을 구비하고 있다. 본 실시예에 있어서의 기판 처리 장치(1)는, 예를 들면, 4개의 캐리어 재치부(13)를 구비하고 있다. 구체적으로는, 폭 방향(Y)으로 4개의 캐리어 재치부(13)를 구비하고 있다. 각 캐리어 재치부(13)는, 캐리어(C)가 재치된다. 캐리어(C)는, 복수 장(예를 들면, 25장)의 기판(W)을 적층하여 수납하는 것이다. 각 캐리어 재치부(13)는, 예를 들면, 도시하지 않은 OHT(Overhead Hoist Transport: 천장 주행 무인 반송차라고도 불린다)와의 사이에서 캐리어(C)의 수도를 행한다. OHT는, 클린 룸의 천장을 이용하여 캐리어(C)를 반송한다. 캐리어(C)로서는, 예를 들면, FOUP(Front Opening Unified Pod)를 들 수 있다.
반송 스페이스(AID)는, 캐리어 재치부(13)의 후방(XB)에 배치되어 있다. 반송 스페이스(AID)에는, 인덱서 로봇(TID)이 배치되어 있다. 인덱서 로봇(TID)은, 캐리어(C)와의 사이에서 기판(W)을 수도한다. 인덱서 로봇(TID)은, 반전 블록(5)과의 사이에서 기판(W)을 수도한다. 인덱서 로봇(TID)은, 1대만이 반송 스페이스(AID)에 배치되어 있다.
여기서 도 5를 참조한다. 또한, 도 5는, 인덱서 로봇의 전체를 나타내는 사시도이다.
도 5에 나타내는 바와 같이, 인덱서 로봇(TID)은, 가이드 레일(15)과, 기대부(基臺部)(17)와, 다관절 아암(19)과, 핸드(21)를 구비하고 있다. 가이드 레일(15)은, 상하 방향(Z)으로 길이 방향이 배치되어 있다. 가이드 레일(15)은, 도시하지 않은 구동부에 의한 구동에 따라 기대부(17)가 승강한다. 가이드 레일(15)은, 그때에 기대부(17)를 상하 방향(Z)으로 안내한다. 가이드 레일(15)은, 전후 방향(X) 및 폭 방향(Y)에 있어서의 위치가 고정되어 있다. 구체적으로는, 가이드 레일(15)은, 폭 방향(Y) 중, 인덱서 블록(3)의 캐리어 재치부(13)측에서 본 경우에, 반전 패스 블록(5)에 있어서의 기판(W)의 재치 위치와 겹치지 않는 위치에 배치되어 있다. 또한, 인덱서 블록(3) 중, 반전 패스 블록(5)측의 내벽측에 배치되어 있다. 여기서, 평면에서 보았을 때, 폭 방향(Y)으로 있어서의 인덱서 블록(3)의 중앙과, 폭 방향(Y)에 있어서의 반전 패스 블록(5)의 중앙을 잇는 가상선(VL)을 정의한다(도 2 및 도 3을 참조). 가이드 레일(15) 및 기대부(17)는, 이 가상선(VL)으로부터 측방으로 어긋난 위치에 배치되어 있다. 본 실시예에서는, 가이드 레일(15) 및 기대부(17)는, 우방(YR)으로 어긋난 위치에 배치되어 있다. 기대부(17)는, 평면에서 보았을 때, 인덱서 블록(3)의 배면으로부터 캐리어 재치부(13)측으로 공간(SP)을 두고 배치되어 있다. 이 공간(SP)은, 반전 패스 블록(5)의 적어도 일부의 수용을 허용하는 크기를 갖는다.
기대부(17)는, 기대부 본체(17a)와, 고정 아암(17b)을 구비하고 있다. 기대부 본체(17a)는, 가이드 레일(15)에 이동 가능하게 배치되어 있다. 고정 아암(17b)은, 기대부 본체(17a)로부터 측방으로 연장되어 나와 있다. 고정 아암(17b)은, 그 선단측이, 4개의 캐리어 재치부(13)의 폭 방향(Y)에 있어서의 중앙에 위치하도록, 기대부 본체(17a)로부터 전방(XF)으로 연장되어 나와 배치되어 있다. 즉, 고정 아암(17b)은, 그 선단측이, 상기 가상선(VL)에 위치하도록 기대부 본체(17a)로부터 전방(XF)으로 연장되어 나와 배치되어 있다. 다관절 아암(19)은, 제1 아암(19a)과, 제2 아암(19b)과, 제3 아암(19c)으로 구성되어 있다. 여기서, 핸드(21)가 배치된 제3 아암(19c)을 선단부측, 제1 아암(19a)을 기단부측이라고 한다. 다관절 아암(19)은, 기단부측인 제1 아암(19a)의 기단부가 고정 아암(17b)의 선단부측에 장착되어 있다.
다관절 아암(19)은, 회전축(P1)과, 회전축(P2)과, 회전축(P3)으로 각 제1~제3 아암(19a, 19b, 19c)이 회전 가능하게 구성되어 있다. 회전축(P1)은, 제1 아암(19a)의 기단부측의 회전축이다. 회전축(P2)은, 제2 아암(19b)의 기단부측의 회전축이다. 회전축(P3)은, 제3 아암(19c)의 기단부측의 회전축이다. 다관절 아암(19)은, 핸드(21)가 전후 방향(X) 및 폭 방향(Y)으로 자유자재로 이동 가능하게 구성되어 있다. 기대부(17)는, 가이드 레일(15)을 따라 승강한다. 핸드(21)는, 기대부(17)와 함께 가이드 레일(15)을 따라 승강한다. 이와 같이, 핸드(21)는, 상하 방향(Z)으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 또한, 다관절 아암(19)은, 기단부측의 제1 아암(19a)에 있어서의 회전축(P1)이, 캐리어 재치부(13)측에서 보았을 때, 폭 방향(Y)에 있어서, 가이드 레일(15)보다 반전 패스 블록(5)측으로 어긋나 배치되어 있다. 즉, 회전축(P1)은, 상기 가상선(VL)에 위치하고 있다. 또한, 회전축(P1)은, 기대부(17)를 기준으로 하면, 좌방(YL)에 위치하고 있다. 이와 같이 구성된 인덱서 로봇(TID)은, 다관절 아암(19)에 의하여, 4개의 캐리어(C)와, 후술하는 반전 패스 블록(5)에 대하여 액세스 가능하게 되어 있다.
여기서, 도 6을 참조한다. 도 6은, 인덱서 로봇의 핸드를 나타내는 사시도이다. 도 6a는 4장의 핸드 본체를 나타내며, 도 6b는 2장으로 된 핸드 본체를 나타낸다.
상술한 인덱서 로봇(TID)은, 핸드(21)를 구비한다. 핸드(21)는, 도 6a에 나타내는 바와 같이, 위에서 아래를 향하여 순서대로, 핸드 본체(21a)와, 핸드 본체(21b)와, 핸드 본체(21c)와, 핸드 본체(21d)를 구비하고 있다. 핸드(21)에 있어서의 4개의 핸드 본체(21a~21d)는, 제3 아암(19c)에 장착되어 있다. 이들 4개의 핸드 본체(21a~21d) 중, 최상부의 핸드 본체(21a)와, 최하부의 핸드 본체(21d)는, 도 6b에 나타내는 바와 같이, 상하 방향(Z)으로 승강 가능하게 구성되어 있다. 인덱서 로봇(TID)은, 캐리어(C)와의 사이에서 기판(W)을 반송할 때에, 예를 들면, 25장의 기판(W)이 캐리어(C)에 수납되어 있을 때에는, 4개의 핸드 본체(21a~21d)로 기판(W)을 4장씩 순차적으로 반송한다. 캐리어(C)에 수납되어 있는 기판(W)이 나머지 1장이 된 경우에는, 예를 들면, 1장의 기판(W)을 핸드 본체(21a)와 핸드 본체(21b)로 일체화시킨 핸드 본체(21a, 21b)로 반송한다. 다음의 캐리어(C)의 1장의 기판(W)을 핸드 본체(21c)와 핸드 본체(21d)로 일체화시킨 핸드 본체(21c, 21d)로 반송한다. 이에 의하여, 4개의 핸드 본체(21a~21d)를 구비한 인덱서 로봇(TID)에 의하여, 25장의 기판(W)이 수납된 캐리어(C)와의 반송을 효율적으로 행할 수 있다.
여기서 도 7 및 도 8을 참조한다. 도 7은, 인덱서 블록을 배면에서 본 상태에 있어서의 반전 패스 블록의 사시도이다. 도 8은, 인덱서 블록 및 반전 패스 블록을 좌측면에서 본 상태를 나타내는 도면이다.
반전 패스 블록(5)은, 인덱서 블록(3)의 처리 블록(7)측에서 인덱서 블록(3)에 대하여 일체적으로 장착되어 있다. 구체적으로는, 인덱서 블록(3)은, 그 배면측(후방(XB))에, 인덱서 블록(3)으로부터 처리 블록(7)측으로 연장되어 나온 재치 프레임(25)과, 재치 현가(懸架) 프레임(27)과, 현가 프레임(29)을 구비하고 있다. 반전 패스 블록(5)은, 반전 패스 유닛(31)을 구비하고 있다. 인덱서 블록(3)의 배면측에는, 반송 스페이스(AID)에 연통한 상부 액세스구(口)(3a) 및 하부 액세스구(3b)가 형성되어 있다. 반전 패스 유닛(31)은, 상단 반전 패스 유닛(33)과, 하단 반전 패스 유닛(35)을 구비하고 있다. 상단 반전 패스 유닛(33)은, 상부 액세스구(3a)에 대응하는 위치에 배치되고, 하단 반전 패스 유닛(35)은, 하부 액세스구(3b)에 대응하는 위치에 배치되어 있다. 하단 반전 패스 유닛(35)은, 재치 프레임(25)에 하부가 나사 체결 고정되어 있다. 하단 반전 패스 유닛(35)은, 상부가 고정구(37)에 의하여 재치 현가 프레임(27)에 고정되어 있다. 또한, 상단 반전 패스 유닛(33)은, 재치 현가 프레임(27)에 하부가 나사 체결 고정되어 있다. 상단 반전 패스 유닛(33)은, 상부가 고정구(39)에 의하여 현가 프레임(29)에 고정된다.
상단 반전 패스 유닛(31)과 하단 반전 패스 유닛(33)은, 평면에서 보았을 때, 전후 방향(X) 및 폭 방향(Y)으로 어긋나는 일 없이 겹쳐 배치되어 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 풋프린트를 작게 할 수 있다.
반전 패스 블록(5)은, 인덱서 블록(3)과 일체적으로 구성되어 있지만, 반전 패스 블록(5)은, 기판 처리 장치(1)의 운반 시에는, 적어도 일부가 인덱서 블록(3)의 내부에 수납 가능하게 구성되어 있다.
구체적으로는, 먼저, 상단 반전 패스 유닛(33) 및 하단 반전 패스 유닛(35)의 하부를 체결하고 있는 나사를 분리한다. 다음으로, 고정구(37, 39)를 분리한다. 또한, 상단 반전 패스 유닛(33)을 상부 액세스구(3a)로부터 인덱서 블록(3)의 내부에 있는 공간(SP)으로 밀어 넣는다. 마지막으로, 하단 반전 패스 유닛(35)을 하부 액세스구(3b)로부터 인덱서 블록(3)의 내부에 있는 공간(SP)으로 밀어 넣는다. 이에 의하여, 반전 패스 블록(5)의 적어도 일부가 인덱서 블록(3)의 내부에 확실히 수납 가능하게 구성되어 있다.
상부 반전 패스 유닛(33)은, 반전 패스 하우징부(33a)와, 하우징부 칸막이(33b)를 구비하고 있다. 하우징부 칸막이(33b)로 구획된 상부에는, 상부 반전 패스부(33U)가 배치되어 있다. 하우징부 칸막이(33b)로 구획된 하부에는, 하부 반전 패스부(33D)가 배치되어 있다. 또한, 하부 반전 패스 유닛(35)은, 반전 패스 하우징부(35a)와, 하우징부 칸막이(35b)를 구비하고 있다. 하우징부 칸막이(35b)로 구획된 상부에는, 상부 반전 패스부(35U)가 배치되어 있다. 하우징부 칸막이(33b)로 구획된 하부에는, 하부 반전 패스부(35D)가 배치되어 있다.
여기서, 도 9 및 도 10을 참조하고, 반전 패스 유닛(31)의 상세에 대하여 설명한다. 또한, 도 9는, 반전 패스 유닛의 주요부를 나타내는 사시도이다. 도 10a~도 10d는, 반전 패스 유닛의 동작 설명도이다.
반전 패스 유닛(31)은, 상단 반전 패스 유닛(33)과 하단 반전 패스 유닛(35)을 구비하고 있다. 상단 반전 패스 유닛(33)과 하단 반전 패스 유닛(35)은, 상부 반전 패스부(33U, 35U)와 하부 반전 패스부(33D, 35D)를 구비하고 있다. 이하의 설명에 있어서는, 상부 반전 패스부(33U)를 예로 들어 설명한다. 또한, 상부 반전 패스부(35U)와, 하부 반전 패스부(33D, 35D)에서도 동일한 구성이다.
상부 반전 패스부(33U)는, 가이드부(41)와, 회전 유지부(43)를 구비하고 있다. 가이드부(41)는, 기판(W)을 재치한다. 회전 유지부(43)는, 가이드부(41)에 재치된 기판(W)의 표리를 반전시키도록 회전시킨다. 또한, 우방(YR)측에도 동일한 가이드부(41)와 회전 유지부(43)가 대향하여 배치되어 있지만, 도시의 편의상 생략되어 있다. 가이드부(41)는, 복수 단(예를 들면, 5단+5단의 합계 10단)의 선반(45)을 전후 방향(X)으로 이격하여 구비하고 있다. 복수 단의 선반(45)은, 복수 장의 기판(W)을 수평 자세로 적층하여 유지한다. 이 가이드부(41)는, 우방(YR)으로 돌출한 재치 위치(도시하지 않음)와, 도 9에 나타내는 좌방(YL)으로 퇴피한 퇴피 위치에 걸쳐 구동부(도시하지 않음)에 의하여 구동된다. 퇴피 위치는, 기판(W)의 하면으로부터 좌방(YL)으로 내려간 비스듬한 하방향이다. 이에 의하여 퇴피 시에 기판(W)의 하면에 가이드부(41)에 의한 슬라이딩을 발생시키지 않는다. 또한, 도시하지 않은 가이드부(41)는, 좌방(YL)으로 돌출한 재치 위치와, 우방(YR)의 비스듬한 하방으로 퇴피한 퇴피 위치에 걸쳐 구동된다.
회전 유지부(43)는, 가이드부(41)의 사이에 배치되어 있다. 회전 유지부(43)는, 가이드부(41)와 동수의 복수 단(합계 10단)의 선반(47)을 구비하고 있다. 상하 방향(Z)에 있어서의 선반(47)이 배치되어 있는 높이 위치는, 가이드부(41)가 재치 위치에 위치하고 있는 경우에 있어서의 가이드부(41)의 각 선반(45)과 같다. 각 선반(47)은, 기판(W)의 표리면을 약하게 파지하는 파지 부재(도시하지 않음)를 구비하고 있다. 그 때문에, 각 선반(47)은, 기판(W)을 회전시켰을 때에 각 선반(47)으로부터의 낙하를 방지할 수 있다. 회전 유지부(43)는, 회전 부재(49)에 장착되어 있다. 회전 유지부(43)는, 전후 방향(X)에 있어서 이격하여 각 선반(47)이 배치되어 있다. 본 실시예에서는, 회전 부재(49)가 알파벳의 H형상을 나타낸다. 회전 부재(49)의 H형상의 양단에 있는 I형상 부분에 각 선반(47)이 배치되어 있다. 회전 부재(49)는, 도시하지 않은 회전 구동부와 진퇴 구동부에 연결되어 있다. 회전 부재(49)는, 폭 방향(Y)을 따른 회전축(P4) 둘레로 회전된다. 또한, 회전 부재(49)는, 도 9에 나타내는 우방(YR)으로 돌출한 파지 위치와, 좌방(YL)으로 퇴피한 퇴피 위치(도시하지 않음)의 사이에서 진퇴 구동된다. 이들 동작에 의하여, 각 선반(47)이 회전되거나, 진퇴되거나 한다. 또한, 도시하지 않은 회전 부재(49)는, 좌방(YL)으로 돌출한 파지 위치와, 우방(YR)으로 퇴피한 퇴피 위치의 사이에서 진퇴 구동된다.
상술한 상부 반전 패스부(33U)는, 도 10a의 상태 그대로로서, 복수 장의 기판(W)을 재치하고 표리를 반전시키는 일 없이, 그대로의 상태로 수도시킨다. 또한, 도 10a~도 10d와 같이 동작함으로써, 복수 장의 기판(W)의 표리를 반전시켜 수도시킨다.
기판(W)의 표리를 반전시키는 경우에는, 예를 들면, 이하와 같이 가이드부(41)와 회전 유지부(43)가 구동된다.
초기 상태에서는, 가이드부(41)끼리가 폭 방향(Y)에 있어서 기판(W)의 직경 정도로 이격한 재치 위치로 이동되어 있다. 회전 유지부(43)는, 퇴피 위치로 이동되어 있다(도 10a). 이 상태로 복수 장의 기판(W)이 가이드부(41)에 재치된다. 다음으로, 회전 유지부(43)가 파지 위치에 위치된다(도 10b). 계속해서, 가이드부(41)가 퇴피 위치로 이동된다(도 10c). 또한, 회전 유지부(43)가 회전축(P4) 둘레로 반주(半周)만큼 회전된다(도 10d). 이들 일련의 동작에 의하여, 복수 장의 기판(W)의 표리가 동시에 반전된다.
또한, 상술한 상부 반전 패스부(33U) 및 하부 반전 패스부(33D)와, 상부 반전 패스부(35U) 및 하부 반전 패스부(35D)가, 본 발명에 있어서의 「개별 반전 패스 유닛」에 상당한다.
도 2~도 4로 되돌아간다. 또한, 도 11을 참조한다. 또한, 도 11은, 기판 처리 장치의 운반 시에 있어서의 상태를 나타내는 분해 사시도이다.
반전 패스 블록(5)의 후방(XB)에는, 처리 블록(7)과 반송 블록(9)이 배치되어 있다. 처리 블록(7)은, 반송 블록(9)을 사이에 두고 좌방(YL)과 우방(YR)에 대향하여 배치되어 있다.
각 처리 블록(7)은, 예를 들면, 상단(UF)과 하단(DF)에 각각 2층의 처리 유닛(PU)을 구비하고 있다. 또한, 각 처리 블록(7)은, 전후 방향(X)으로 2개의 처리 유닛(PU)을 구비하고 있다. 즉, 1개의 처리 블록(7)은, 8대의 처리 유닛(PU)을 구비하고 있다. 따라서, 2개의 처리 블록(7)의 전체에서 16대의 처리 유닛(PU)을 구비하고 있다. 이하의 설명에 있어서는, 각 처리 유닛(PU)을 구별할 필요가 있는 경우에는, 도 11에 나타내는 바와 같이, 좌방(YL)에서 전방(XF)의 처리 유닛(PU)의 위에서 아래를 향하여 배치되어 있는 4대의 처리 유닛(PU)을 각각 처리 유닛 PU11~PU14라고 한다. 우방(YR)에서 전방(XF)의 처리 유닛(PU) 위에서 아래를 향하여 배치되어 있는 4대의 처리 유닛(PU)을 각각 처리 유닛 PU21~PU24라고 한다. 좌방(YL)에서 후방(XB)의 처리 유닛(PU) 위에서 아래를 향하여 배치되어 있는 4대의 처리 유닛(PU)을 각각 처리 유닛 PU31~PU34라고 한다. 우방(YR)에서 후방(XB)의 처리 유닛(PU) 위에서 아래를 향하여 배치되어 있는 4대의 처리 유닛(PU)을 각각 처리 유닛 PU41~PU44라고 한다.
좌방(YL)에서 전방(XF)의 4대의 처리 유닛(PU11~PU14)을 타워 유닛 TW1이라고 칭한다. 우방(YR)에서 전방(XF)의 4대의 처리 유닛(PU21~PU24)을 타워 유닛 TW2라고 칭한다. 좌방(YL)에서 후방(XB)의 4대의 처리 유닛(PU31~PU34)을 타워 유닛 TW3이라고 칭한다. 우방(YR)에서 후방(XB)의 4대의 처리 유닛(PU41~PU44)을 타워 유닛 TW4라고 칭한다. 또한, 2개의 처리 유닛(7)은, 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)으로 구성되어 있다. 그러나, 타워 유닛(TW1~TW4)마다 제어나 관리가 행해지고, 전기적 배선이나 유체의 관로를 타워 유닛(TW1~TW4)마다 용이하게 분리·접속할 수 있는 구성을 채용하고 있다.
처리 블록(7)의 상단(UF)의 상층은, 예를 들면, 도 2에 나타내는 바와 같이, 표면 세정 유닛(SS)이 배치되어 있다. 표면 세정 유닛(SS)은, 기판(W)의 표면을 세정 처리한다. 기판(W)의 표면은, 일반적으로 전자 회로 패턴 등이 형성되어 있다. 표면 세정 유닛(SS)은, 예를 들면, 흡인 척(51)과, 가드(53)와, 처리 노즐(55)을 구비하고 있다. 흡인 척(51)은, 기판(W)의 이면의 중심 부근을 진공 흡인에 의하여 흡착한다. 흡인 척(51)은, 도시하지 않은 전동 모터에 의하여 회전 구동된다. 이에 의하여, 흡인 척(51)은, 기판(W)을 수평면 내에서 회전 구동한다. 가드(53)는, 흡인 척(51)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있다. 가드(53)는, 처리 노즐(55)로부터 기판(W)에 공급된 처리액이 주위에 비산하는 것을 방지한다. 처리 노즐(55)은, 예를 들면, 제트 분류(噴流)로 처리액을 기판(W)의 표면에 공급한다. 이에 의하여 처리 노즐(55)은, 기판(W)의 표면을 세정한다.
처리 블록(7)의 상단(UF) 중 하층은, 예를 들면, 도 3에 나타내는 바와 같이, 이면 세정 유닛(SSR)이 배치되어 있다. 이면 세정 유닛(SSR)은, 기판(W)의 이면을 세정 처리한다. 기판(W)의 이면은, 일반적으로 전자 회로 패턴 등이 형성되어 있지 않다. 이면 세정 유닛(SSR)은, 예를 들면, 메커니컬 척(57)과, 가드(59)와, 세정 브러시(61)를 구비하고 있다. 메커니컬 척(57)은, 기판(W)의 주연을 당접 지지하여, 기판(W)의 하면의 대부분에 접촉하는 일 없이 기판(W)을 수평 자세로 지지한다. 메커니컬 척(57)은, 도시하지 않은 전동 모터에 의하여 회전 구동된다. 이에 의하여 메커니컬 척(57)은, 기판(W)을 수평면 내에서 회전 구동한다. 가드(59)는, 메커니컬 척(57)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있다. 가드(59)는, 세정 브러시(61)에 의하여 처리액이 주위에 비산하는 것을 방지한다. 세정 브러시(61)는, 예를 들면, 세로축 둘레로 회전하는 브러시를 구비하고 있다. 세정 브러시(61)는, 공급된 처리액을 브러시의 회전력으로 기판(W)의 이면에 작용시켜 세정한다.
본 실시예에 있어서의 처리 블록(7)의 하단(DF)은, 예를 들면, 상술한 상단(UF)의 상층 및 하층과 같은 구성으로 되어 있다. 즉, 처리 블록의 하단(DF)의 상층은, 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 처리 블록의 하단(DF) 중 하층은, 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 즉, 처리 블록(7)의 전체 16대의 처리 유닛(PU)은, 8대의 표면 세정 유닛(SS)과, 8대의 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다.
여기서, 도 2~도 4에 더하여 도 12를 참조한다. 도 12는, 반송 블록의 주요부를 나타내는 사시도이다.
반송 블록(9)은, 상단(UF)과 하단(DF)에 대응하는 위치에 각각 센터 로봇(CR1, CR2)이 배치되어 있다. 반송 블록(9)은, 상단(UF)과 하단(DF)의 경계 위치에 칸막이판 등은 배치되어 있지 않다. 따라서, 반송 블록(9)은, 상단(UF)으로부터 하단(DF)으로 장치 내의 다운 플로가 유통 가능하다. 센터 로봇(CR1)은, 반전 패스 블록(5)에 있어서의 상단 반전 패스 유닛(33)과, 상단(UF)에 있어서의 각 처리 유닛(PU)의 사이에 있어서 기판(W)의 반송을 행한다. 또한, 센터 로봇(CR2)은, 반전 패스 블록(5)에 있어서의 하단 반전 패스 유닛(35)과, 하단(DF)에 있어서의 각 처리 유닛(PU)의 사이에서 기판(W)의 반송을 행한다. 이와 같이, 반전 패스 블록(5)의 상단 반전 패스 유닛(33)과 하단 반전 패스 유닛(35)을 개재함으로써, 상단(UF)과 하단(DF)의 처리 블록(7)에 대하여, 각 센터 로봇(CR1, CR2)에 의하여 기판(W)을 배분할 수 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있다.
센터 로봇(CR1)과 센터 로봇(CR2)은 같은 구성이므로, 여기에서는 센터 로봇(CR1)을 예로 들어 설명한다.
센터 로봇(CR1)은, 고정 프레임(63)과, 가동 프레임(65)과, 기대부(67)와, 선회 베이스(69)와, 아암(71)을 구비하고 있다. 고정 프레임(63)은, 상단(UF)에 있어서의 전체 처리 유닛(PU)에 이르는 개구를 구비하고 있다. 가동 프레임(65)은, 고정 프레임(63) 내에 전후 방향(X)으로 이동 가능하게 장착되어 있다. 기대부(67)는, 가동 프레임(65)을 구성하는 4프레임 중 하측 프레임에 장착되어 있다. 기대부(67)의 상부에는, 선회 베이스(69)가 탑재되어 있다. 선회 베이스(69)는, 기대부(67)에 대하여 수평면 내에서 선회 가능하게 구성되어 있다. 선회 베이스(69)의 상부에는, 아암(71)이 선회 베이스(69)에 대하여 진퇴 가능하게 탑재되어 있다. 아암(71)은, 아암 본체(71a)의 상부에 아암 본체(71b)가 겹쳐 배치되어 있다. 아암(71)은, 선회 베이스(69)에 겹쳐진 제1 위치와, 선회 베이스(69)로부터 돌출한 제2 위치의 사이에서 진퇴 가능하게 구성되어 있다. 이 구성에 의하여, 센터 로봇(CR1)은, 예를 들면, 처리 유닛(PU)에 대한 액세스 시에, 선회 베이스(69)를 처리 유닛(PU)을 향하게 한 상태로, 처리 유닛(PU)에서 처리 완료된 기판(W)을 아암 본체(71a)로 수취한다. 센터 로봇(CR1)은, 아암 본체(71b)로 지지한 미처리의 기판(W)을 처리 유닛(PU)에 건네줄 수 있다.
반송 블록(9)은, 상술한 바와 같이 구성되어 있고, 폭 방향(Y)으로 인접하는 2개의 처리 블록(7)과는 공통 프레임이 존재하지 않는다. 따라서, 반송 블록(9)은, 인접하는 처리 블록(7)과 분리 가능하다. 또한, 상술한 구성의 기판 처리 장치(1)는, 도 11에 나타내는 바와 같이, 운반 시에는, 반전 패스 블록(5)이 일체적으로 장착된 인덱서 블록(3)과, 처리 블록(7)과, 반송 블록(9)과, 유틸리티 블록(11)으로 분리할 수 있다. 또한, 처리 블록(7)은, 추가로 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)으로 분리할 수 있다. 따라서, 항공기에 의한 운반 시에 생기는 높이, 폭이나 깊이의 제한을 클리어할 수 있다. 또한, 인덱서 블록(3)에 일체적으로 장착되어 있는 반전 패스 블록(5)은, 도 8에 나타낸 바와 같이, 그 일부를 인덱서 블록(3)의 내부에 수용할 수 있다. 따라서, 항공기에 의한 운반 시에 생기는 높이, 폭이나 깊이의 제한에 더하여, 용적의 제한을 클리어할 수 있다.
<배치예 1>
여기서, 도 13을 참조한다. 도 13은, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 1을 나타내는 모식도이다.
상술한 처리 블록(7)은, 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)으로 구성되어 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 예를 들면, 다음과 같이 구성되어 있는 것이 바람직하다.
타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU11)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU12)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU13)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU14)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU21)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU22)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU23)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU24)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU31)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU32)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU33)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU34)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU41)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU42)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU43)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU44)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다.
즉, 상술한 구성의 배치예 1은, 각 타워 유닛(TW1~TW4)이, 처리 유닛(PU)을 상단(UF)과 하단(DF)의 각각에 2개씩 구비하고 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 상단(UF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 하단(DF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 또한, 상단(UF) 및 하단(DF)에 있어서의 표면 세정 유닛(SS)과 이면 세정 유닛(SSR)의 상하의 위치 관계를 바꾼 구성으로 해도 된다.
이와 같이, 배치예 1에서는, 처리 블록(7)은 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)을 구비하고 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 처리 유닛(PU)을 상단(UF)과 하단(DF)의 각각에 2개 구비하고 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 상단(UF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 각 타워 유닛(TW1~TW4)은, 하단(DF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 반송 블록(9)은, 처리 블록(7)에 있어서의 상단(UF) 및 하단(DF)의 각각에 센터 로봇(CR1, CR2)을 구비하고 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있다. 이 배치예 1에 있어서, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 한쪽의 센터 로봇(CR1, CR2)이 고장난 경우나, 상단(UF)의 전체 처리 유닛(PU11, PU12, PU21, PU22, PU31, PU32, PU41, PU42) 또는 하단(DF)의 전체 처리 유닛(PU13, PU14, PU23, PU24, PU33, PU34, PU43, PU44) 중 한쪽이 고장난 경우를 상정한다. 그러면, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 고장나지 않은 다른 쪽의 처리 유닛(PU)에 의하여 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다. 따라서, 상단(UF) 또는 하단(DF)의 구성 중 어느 한쪽에 고장이 발생한 경우이더라도, 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다.
또한, 상술한 바와 같이, 반전 패스 블록(5)은, 상단(UF)에 상단 반전 패스 유닛(33) 및 하단(DF)에 하단 반전 패스 유닛(35)을 구비하고 있다. 따라서, 상단(UF) 및 하단(DF)의 각각에 있어서 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다. 또한, 상단(UF)의 상단 반전 패스 유닛(33)은, 상부 반전 패스부(33U) 및 하부 반전 패스부(33D)를 구비하고 있다. 하단(DF)의 하단 반전 패스 유닛(35)은, 상부 반전 패스부(35U) 및 하부 반전 패스부(35D)를 구비하고 있다. 상단(UF) 및 하단(DF)의 각각에 적어도 2개소에 복수 단의 선반(45, 47) 및 반전 기능을 구비하고 있다. 따라서, 표면 세정 처리를 위하여 표리를 반전시키지 않고 기판(W)을 수도할 뿐인 동작과, 이면 세정을 위하여 기판(W)을 반전시키는 동작을 병행하여 상단(UF) 및 하단(DF)의 각각에서 실시할 수 있다. 그 결과, 상단(UF) 및 하단(DF)에 있어서의 표리에 걸친 세정 처리를 효율적으로 행할 수 있다.
<배치예 2>
여기서, 도 14를 참조한다. 도 14는, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 2를 나타내는 모식도이다.
처리 블록(7)이 구비하고 있는 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)은, 예를 들면, 다음과 같이 구성되어 있어도 된다.
타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU11)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU12)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(UF)의 처리 유닛(PU13, PU14)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 타워 유닛(TW1)과 동일하게, 상단(UF)의 처리 유닛(PU21)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU22)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU23, PU24)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU31)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU32)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(UF)의 처리 유닛(PU33)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU34)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 타워 유닛(TW3)과 동일하게, 상단(UF)의 처리 유닛(PU41)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU42)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(UF)의 처리 유닛(PU43)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU44)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다.
즉, 이 배치예 2는, 처리 블록(7)이, 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)을 구비하고 있다. 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1, TW2)은, 반전 패스 블록(5)으로부터 타워 유닛(TW1, TW2)보다 먼 위치에 배치되어 있는 타워 유닛(TW3, TW4)보다 많은 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다.
기판(W)의 표리를 세정하는 세정 처리에서는, 일반적으로, 이면 세정 처리보다 표면 세정 처리가 실시되는 비율이 많다. 그 때문에, 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1, TW2)이 많은 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있음으로써, 센터 로봇(CR1, CR2)에 의한 전후 방향(X)에 있어서의 반송 시간을 단축할 수 있다. 따라서, 기판(W)에 대한 표면 세정 처리를 효율적으로 실시할 수 있다.
<배치예 3>
여기서, 도 15를 참조한다. 도 15는, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 3을 나타내는 모식도이다.
처리 블록(7)이 구비하고 있는 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)은, 예를 들면, 이하와 같이 구성되어 있는 것이 바람직하다.
타워 유닛(TW1)은, 상술한 배치예 1과 동일하게, 상단(UF)의 처리 유닛(PU11)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU12)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU13)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU14)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU21)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU22)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU23)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU24)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상술한 배치예 1과 동일하게, 상단(UF)의 처리 유닛(PU31)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU32)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU33)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU34)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU41)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU42)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU43)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU44)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다.
즉, 상기의 배치예 3은, 타워 유닛(TW1)과 타워 유닛(TW2)이, 센터 로봇(CR1, CR2)을 사이에 두고 대향하는 같은 높이 위치에, 표면 세정 유닛(SS)과, 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)과 타워 유닛(TW4)이, 센터 로봇(CR1, CR2)을 사이에 두고 대향하는 같은 높이 위치에, 표면 세정 유닛(SS)과, 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 따라서, 반전 패스 블록(5)을 경유하여 기판(W)을 표면 세정 유닛(SS)과 이면 세정 유닛(SSR)의 사이에서 반송할 때에, 센터 로봇(CR1, CR2)에 있어서의 상하 방향(Z)의 이동을 없앨 수 있다. 그 결과, 기판(W)의 반송 효율을 향상시킬 수 있다.
<배치예 4>
여기서, 도 16을 참조한다. 도 16은, 처리 블록에 있어서의 처리 유닛의 배치예 4를 나타내는 모식도이다.
처리 블록(7)이 구비하고 있는 4개의 타워 유닛(TW1~TW4)은, 예를 들면, 이하와 같이 구성되어 있는 것이 바람직하다.
타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU11)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU12)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU13)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU14)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU21)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU22)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU23)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW2)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU24)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU31)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU32)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU33)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW3)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU34)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU41)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 상단(UF)의 처리 유닛(PU42)으로서 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU43)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다. 타워 유닛(TW4)은, 하단(DF)의 처리 유닛(PU44)으로서 표면 세정 유닛(SS)을 구비하고 있다.
즉, 이 배치예 4에서는, 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)과 하단(DF)이 그 경계에 각각 이면 세정 유닛(SSR)을 구비하고 있다.
이와 같이, 이면 세정 유닛(SSR)을 상단(UF)과 하단(DF)의 경계에 배치하고 있다. 따라서, 이면 세정 처리를 많이 처리할 때에 인덱서 로봇(TID)의 상하 방향에 있어서의 이동 거리를 단축할 수 있다. 그 결과, 이면 세정 처리에 있어서의 처리 효율을 향상시킬 수 있다.
또한, 상술한 배치예 1에서는, 각 타워 유닛(TW1~TW4) 중, 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1)은, 표면 처리 유닛(SS)과 이면 처리 유닛(SSR)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW1)은, 처리 유닛(PU11, PU12) 및 처리 유닛(PU13, PU14)을 갖는다. 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW2)은, 타워 유닛(TW1)과 동일하게, 표면 처리 유닛(SS)과 이면 처리 유닛(SSR)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW2)은, 처리 유닛(PU21, PU22) 및 처리 유닛(PU23, PU24)을 갖는다.
또한, 상술한 배치예 2는, 각 타워 유닛(TW1~TW4) 중, 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1)은, 이면 처리 유닛(SSR)과 표면 처리 유닛(SS)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW1)은, 처리 유닛(PU11, PU12)을 갖는다. 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW2)은, 이면 처리 유닛(SSR)과 표면 처리 유닛(SS)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW2)은, 처리 유닛(PU21, PU22)을 갖는다.
상술한 배치예 3, 4에서는, 각 타워 유닛(TW1~TW4) 중, 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW1)은, 표면 처리 유닛(SS)과 이면 처리 유닛(SSR)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW1)은, 처리 유닛(PU11, PU12) 및 처리 유닛(PU13, PU14)을 갖는다. 반전 패스 블록(5)에 가까운 타워 유닛(TW2)은, 이면 처리 유닛(SSR)과 표면 처리 유닛(SS)이 상하 방향(Z)에 대하여 인접하는 조를 갖는다. 구체적으로는, 타워 유닛(TW2)은, 처리 유닛(PU21, PU22) 및 처리 유닛(PU23, PU24)을 갖는다.
이들 배치예 1~4와 같이, 타워 유닛(TW1~TW4) 중 반전 패스 블록(5)에 가까운 것은, 표면 처리 유닛(SS)과 이면 처리 유닛(SSR)이 상하 방향(Z)으로 인접하여 배치되어 있다. 따라서, 표리에 걸친 세정 처리를 행할 때에, 센터 로봇(CR1, CR2)이 전후 방향(X)으로 이동하는 거리를 단축할 수 있다. 그 결과, 기판(W)의 반송을 효율적으로 행할 수 있다.
또한, 상술한 배치예 1은, 각 타워 유닛(TW1~TW4)이, 상단(UF)에 구비한 2개의 처리 유닛(PU11, PU12)과 같은 배치로 되어 있다. 즉 상층에 표면 처리 유닛(SS), 그 하층에 이면 처리 유닛(SSR)으로 하단(DF)에 2개의 처리 유닛(PU13, PU14)을 구비하고 있다.
상술한 배치예 3은, 각 타워 유닛(TW1, TW3)이, 상단(UF)에 구비한 2개의 처리 유닛(PU11, PU12 및 PU31, PU32)과 같은 배치로 되어 있다. 즉 상층에 표면 처리 유닛(SS), 그 하층에 이면 처리 유닛(SSR)으로 하단(DF)에 2개의 처리 유닛(PU13, PU14 및 PU33, PU44)을 구비하고 있다. 또한, 각 타워 유닛(TW2, TW4)이, 상단(UF)에 구비한 2개의 처리 유닛(PU21, PU22 및 PU41, PU44)과 같은 배치로 되어 있다. 즉 상층에 이면 처리 유닛(SSR), 그 하층에 표면 처리 유닛(SS)으로 하단(DF)에 2개의 처리 유닛(PU23, PU24 및 PU43, PU44)을 구비하고 있다.
이와 같은 구성에 의하면, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 한쪽에 있어서의 처리 유닛(PU)이 고장난 경우이더라도, 상하 방향(Z)에 있어서의 반송 경로를 동일하게 하면서 다른 쪽에서 동일한 처리를 계속할 수 있다. 따라서, 다른 쪽에서 처리하는 경우이더라도, 스루풋이 변하지 않도록 처리할 수 있다.
본 실시예에 의하면, 처리 블록(7)은 적어도 1개의 타워 유닛(TW1(또는, TW2, TW3, TW4))을 구비하고 있다. 이 타워 유닛(TW1)은, 처리 유닛(PU)을 상단(UF)과 하단(DF)의 각각에 2개 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 상단(UF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 타워 유닛(TW1)은, 하단(UF)에 표면 세정 유닛(SS) 및 이면 세정 유닛(SSR)을 1개씩 구비하고 있다. 또한, 반송 블록(9)은, 처리 블록(7)에 있어서의 상단(UF) 및 하단(DF)의 각각 센터 로봇(CR1, CR2)을 구비하고 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있다. 이 구성에 있어서, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 한쪽의 센터 로봇(CR1, CR2)이 고장난 경우나, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 한쪽의 전체 처리 유닛(PU)이 고장난 경우이더라도, 상단(UF) 또는 하단(DF) 중 다른 쪽에 의하여 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다. 따라서, 스루풋을 향상시킬 수 있는 구성을 채용하면서, 상단(UF) 또는 하단(DF)의 구성 중 어느 한쪽에 고장이 발생한 경우이더라도 표리에 걸친 세정 처리를 행할 수 있다.
본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.
(1) 상술한 실시예에서는, 처리 블록(7)이 4개의 타워 블록(TW1~TW4)으로 구성되어 있다. 그러나, 본 발명은, 그와 같은 구성을 필수로 하는 것은 아니다. 본 발명은, 적어도 1개의 타워 유닛이 있으면 된다. 또한, 본 발명은, 5개 이상의 타워 블록을 구비하도록 해도 된다.
(2) 상술한 실시예에서는, 처리 블록(7)이 상단(UF)과 하단(DF)에 각각 2층으로 처리 유닛(PU)을 구비하고 있다. 그러나, 본 발명은 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 본 발명은, 예를 들면, 3층 이상의 처리 유닛(PU)을 구비하는 구성이어도 된다. 이에 의하여, 더욱 많은 기판(W)을 처리할 수 있다.
(3) 상술한 실시예에서는, 반전 패스 블록(5)이, 상단 반전 패스 유닛(33)과 하단 반전 패스 유닛(35)을 구비하고 있다. 상단 반전 패스 유닛(33)은, 상부 반전 패스부(33U)와 하부 반전 패스부(33D)를 구비하고 있다. 하단 반전 패스 유닛(35)은, 상부 반전 패스부(35U)와 하부 반전 패스부(35D)를 구비하고 있다. 그러나, 본 발명은 이와 같은 구성에 한정되지 않는다. 예를 들면, 상단 반전 패스 유닛(33)과 하단 반전 패스 유닛(35)은, 각각 1개의 반전 패스부를 구비하는 구성을 채용해도 된다. 이에 의하여 구성 부품을 줄일 수 있으므로, 장치 비용을 억제할 수 있다.
본 발명은, 그 사상 또는 본질로부터 벗어나지 않고 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있으며, 따라서, 발명의 범위를 나타내는 것으로서, 이상의 설명이 아니라, 부가된 클레임을 참조해야 한다.

Claims (20)

  1. 기판을 세정 처리하는 기판 처리 장치로서, 상기 장치는, 이하의 요소:
    복수 장의 기판을 수용하는 캐리어가 재치(載置)되는 캐리어 재치부를 구비하고, 상기 캐리어 재치부의 상기 캐리어와의 사이에서 기판을 반송하는 인덱서 로봇을 구비한 인덱서 블록;
    처리 유닛으로서, 기판의 표면 세정 처리를 행하는 표면 세정 유닛 및 기판의 이면 세정 처리를 행하는 이면 세정 유닛을 구비하고 있는 처리 블록;
    상기 인덱서 블록과 상기 처리 블록의 사이에 배치되고, 기판을 재치하는 복수 단의 선반을 구비하고 있음과 더불어, 기판의 표리를 반전시키는 반전 기능을 구비하고 있는 반전 패스 블록; 을 구비하고,
    상기 처리 블록은, 상기 처리 유닛을 상단과 하단의 각각에 복수 개 구비하며, 상기 상단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고, 상기 하단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비한 타워 유닛을 적어도 1개 구비하며,
    상기 타워 유닛에 있어서의 상기 각 처리 유닛과 상기 반전 패스 블록의 사이에서 기판을 반송하는 센터 로봇을 상기 상단 및 상기 하단의 각각에 구비한 반송 블록을 구비하고 있으며,
    상기 반전 패스 블록은, 상기 상단 및 상기 하단의 각각에, 적어도 2개의 개별 반전 패스 유닛을 구비하고 있고,
    상기 반전 패스 유닛의 각각은, 기판을 재치하는 복수 단의 선반을 구비하고 있음과 더불어, 기판의 표리를 반전시키는 반전 기능을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  2. 삭제
  3. 기판을 세정 처리하는 기판 처리 장치로서, 상기 장치는, 이하의 요소:
    복수 장의 기판을 수용하는 캐리어가 재치되는 캐리어 재치부를 구비하고, 상기 캐리어 재치부의 상기 캐리어와의 사이에서 기판을 반송하는 인덱서 로봇을 구비한 인덱서 블록;
    처리 유닛으로서, 기판의 표면 세정 처리를 행하는 표면 세정 유닛 및 기판의 이면 세정 처리를 행하는 이면 세정 유닛을 구비하고 있는 처리 블록;
    상기 인덱서 블록과 상기 처리 블록의 사이에 배치되고, 기판을 재치하는 복수 단의 선반을 구비하고 있음과 더불어, 기판의 표리를 반전시키는 반전 기능을 구비하고 있는 반전 패스 블록; 을 구비하고,
    상기 처리 블록은, 상기 처리 유닛을 상단과 하단의 각각에 복수 개 구비하며, 상기 상단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비하고, 상기 하단에 상기 표면 세정 유닛 및 상기 이면 세정 유닛을 적어도 1개씩 구비한 타워 유닛을 적어도 1개 구비하며,
    상기 타워 유닛에 있어서의 상기 각 처리 유닛과 상기 반전 패스 블록의 사이에서 기판을 반송하는 센터 로봇을 상기 상단 및 상기 하단의 각각에 구비한 반송 블록을 구비하고 있으며,
    상기 처리 블록은, 상기 타워 유닛을 복수 개 구비하고,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 반전 패스 블록으로부터 먼 타워 유닛보다 많은 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리 블록은, 상기 타워 유닛을 복수 개 구비하고,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 반전 패스 블록으로부터 먼 타워 유닛보다 많은 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 각 타워 유닛은, 상기 센터 로봇을 사이에 두고 대향하는 같은 높이 위치에, 상기 표면 세정 유닛과, 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  6. 청구항 4에 있어서,
    상기 각 타워 유닛은, 상기 센터 로봇을 사이에 두고 대향하는 같은 높이 위치에, 상기 표면 세정 유닛과, 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  7. 청구항 3에 있어서,
    상기 각 타워 유닛 중, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 표면 세정 유닛과 상기 이면 세정 유닛이 상하 방향에 대하여 인접하는 조(組)를 적어도 1개 갖는, 기판 처리 장치.
  8. 청구항 4에 있어서,
    상기 각 타워 유닛 중, 상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 표면 세정 유닛과 상기 이면 세정 유닛이 상하 방향에 대하여 인접하는 조를 적어도 1개 갖는, 기판 처리 장치.
  9. 청구항 3에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  10. 청구항 4에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  11. 청구항 7에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  12. 청구항 8에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 표면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  13. 청구항 3에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  14. 청구항 4에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  15. 청구항 7에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  16. 청구항 8에 있어서,
    상기 반전 패스 블록에 가까운 타워 유닛은, 상기 상단과 상기 하단이 그 경계에 각각 상기 이면 세정 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 타워 유닛은, 상기 상단에 구비한 복수 개의 처리 유닛과 같은 배치로 상기 하단에 복수 개의 처리 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  18. 삭제
  19. 청구항 3에 있어서,
    상기 타워 유닛은, 상기 상단에 구비한 복수 개의 처리 유닛과 같은 배치로 상기 하단에 복수 개의 처리 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
  20. 청구항 5에 있어서,
    상기 타워 유닛은, 상기 상단에 구비한 복수 개의 처리 유닛과 같은 배치로 상기 하단에 복수 개의 처리 유닛을 구비하고 있는, 기판 처리 장치.
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