CN117747475A - 基板处理装置 - Google Patents

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Abstract

基板处理装置的姿态变换部具备：在基板为水平姿态的情况下载置多张基板的两个水平保持部；在基板为铅垂姿态的情况下设置于水平保持部的下方并以铅垂姿态保持基板的两个铅垂保持部；使两个铅垂保持部在保持位置与通过位置之间移动的开闭部；支撑两个水平保持部和两个铅垂保持部的支撑部；以使两个铅垂保持部朝向水平基板搬运机构的方式使支撑部绕水平轴旋转的纵向旋转部；以及使支撑部及纵向旋转部移动的移动部。在基板变换为水平姿态后，开闭部使两个铅垂保持部移动至通过位置。

Description

基板处理装置
技术领域
本发明涉及一种处理基板的基板处理装置。基板例如可以举出半导体基板、FPD(Flat Panel Display：平板显示器)用的基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板、磁盘用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。FPD例如可以举出液晶显示装置、有机EL(electroluminescence：电致发光)显示装置等。
背景技术
作为现有的基板处理装置，具有混合式基板处理装置，该混合式基板处理装置具备一并处理多张基板的分批式处理模块(批处理部)、以及一张张地对在分批式处理模块中处理后的基板进行处理的单张式处理模块(单张处理部)(例如参照日本特表2016-502275号公报以及日本特开2021-064652号公报)。
分批式处理模块所处理的多张基板为铅垂姿态。相对于此，单张式处理模块所处理的基板为水平姿态。因此，旋转机构(姿态变换机构)将各基板的姿态从铅垂变换为水平。
此外，日本特开2018-056341号公报的基板处理装置具备姿态变换机构(姿态变换部或旋转机构)。
发明内容
发明所要解决的课题
日本特表2016-502275号公报的装置具备槽、机器人以及旋转机构。机器人从槽取出两张基板，并将该两张基板载置于旋转机构。然后，旋转机构将两张基板的姿态变更为水平姿态。即，旋转机构对机器人搬运来的基板的姿态进行变换。关于这一点，旋转机构(姿态变换部)有时想要自身移动来变换接收到的基板的姿态。
并且，例如，有时姿态变换部具备以铅垂姿态保持基板的铅垂保持部，并且基板处理装置具备搬运水平姿态的基板的水平基板搬运机构。在该情况下，姿态变换部有时在将基板变换为水平姿态之后，想要铅垂保持部、即铅垂保持部的下表面朝向水平基板搬运机构。这是为了水平基板搬运机构从铅垂保持部侧访问姿态变换部。
本发明是鉴于这样的情况而完成的，其目的在于提供一种基板处理装置，在该基板处理装置中，姿态变换部能够自身移动来变换接收到的基板的姿态，并且在变换为水平姿态之后，水平基板搬运机构能够从以铅垂姿态保持基板的铅垂保持部侧进行访问。
用于解决课题的方案
为了实现这样的目的，本发明采取如下结构。即，本发明的基板处理装置连续地进行一并处理多张基板的批处理和逐张地处理基板的单张处理，其特征在于，具备：批处理槽，其一并处理多张基板；成批基板搬运机构，其向上述批处理槽一并搬运铅垂姿态的上述多张基板；单张处理室，其逐张地处理基板；水平基板搬运机构，其向上述单张处理室逐张地搬运水平姿态的基板；以及姿态变换机构，其将批处理后的上述多张基板从垂直姿态变换为水平姿态，上述姿态变换机构具备：基板保持部，其保持由上述成批基板搬运机构搬运且以预定间隔配置的铅垂姿态的上述多张基板；以及姿态变换部，其从上述基板保持部接收上述多张基板，并且将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，上述姿态变换部具备：两个水平保持部，其收纳上述多张基板所包含的各基板的在半径方向上对置的两个侧部，并且在上述多张基板为水平姿态的情况下，上述两个水平保持部以预定间隔载置上述多张基板；两个铅垂保持部，其收纳上述多张基板所包含的各基板的两个侧部，并且在上述多张基板为铅垂姿态的情况下，上述两个铅垂保持部设置于上述水平保持部的下方并以铅垂姿态保持上述多张基板；开闭部，其使上述两个铅垂保持部在保持位置与通过位置之间移动，其中，上述保持位置是为了使用上述两个铅垂保持部来保持上述多张基板而缩小上述两个铅垂保持部的间隔的位置，上述通过位置是为了使各基板在上述两个铅垂保持部之间通过而扩大上述两个铅垂保持部的间隔的位置；支撑部，其支撑上述两个水平保持部和上述两个铅垂保持部；纵向旋转部，其为了使上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，以使上述两个铅垂保持部朝向上述水平基板搬运机构的方式使上述支撑部绕水平轴旋转；以及移动部，其使上述支撑部及上述纵向旋转部遍及配置有上述基板保持部的基板待机区域和用于将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态的姿态变换执行区域地移动，在铅垂姿态的上述多张基板由上述基板保持部保持时，上述移动部使上述支撑部以及上述纵向旋转部移动至上述基板待机区域，上述两个铅垂保持部由上述开闭部移动至上述保持位置，对由上述基板保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板进行保持，并且上述两个水平保持部收纳由上述两个铅垂保持部保持的上述多张基板，在由上述两个铅垂保持部保持上述多张基板的状态下，上述移动部使上述支撑部以及上述纵向旋转部移动至上述姿态变换执行区域，上述纵向旋转部使上述支撑部绕上述水平轴旋转，来将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，在上述多张基板变换为水平姿态时，上述开闭部使上述两个铅垂保持部移动至上述通过位置，上述水平基板搬运机构一边在移动至上述通过位置的上述两个铅垂保持部之间通过，一边从水平姿态的上述多张基板一张张地取出基板，并将取出的基板搬运至上述单张处理室。
根据本发明的基板处理装置，姿态变换机构具备基板保持部和姿态变换部。姿态变换部的移动部能够使支撑两个水平保持部和两个铅垂保持部的支撑部移动。并且，姿态变换部的纵向旋转部使支撑部绕水平轴旋转。因此，姿态变换部能够自身移动来变换接收到的基板的姿态。并且，为了将基板从铅垂姿态变换为水平姿态，纵向旋转部以两个铅垂保持部朝向水平基板搬运机构的方式使支撑部绕水平轴旋转。之后，开闭部使两个铅垂保持部移动至通过位置。由此，水平基板搬运机构能够从铅垂保持部侧搬运基板。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述姿态变换部还具备横向旋转部，该横向旋转部使上述支撑部绕沿与上述多张基板所排列的方向正交且与上述水平轴正交的方向延伸的旋转轴旋转，上述移动部使上述支撑部、上述横向旋转部以及上述纵向旋转部移动。姿态变换部能够在从基板保持部接收到基板之后的任意时机，改变基板的表背的方向。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述姿态变换机构还具备使上述基板保持部绕铅垂轴旋转的第二横向旋转部。由于能够在基板保持部侧改变基板的表背的方向，所以能够简化姿态变换部的结构。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述两个铅垂保持部具备分别保持一张基板的多对保持槽和分别使一张基板通过的多对通过槽，上述多对保持槽以及上述多对通过槽各一对地交替配置，上述两个铅垂保持部由上述开闭部移动至上述保持位置，利用上述多对保持槽对由上述基板保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板中的每隔一张排列的第一分割基板组进行保持，并且上述两个水平保持部收纳上述第一分割基板组。由于两个铅垂保持部保持多张基板中的每隔一张排列的第一分割基板组，所以能够扩大相邻的两张基板的间隔。因此，水平基板搬运机构能够从姿态变换部容易地取出基板。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，为了使由上述基板保持部保持的上述多张基板浸渍在液体中，上述姿态变换机构还具备贮存上述液体的待机槽。若在单张处理室的烘干处理之前，基板烘干，则产生基板的图案倒塌。但是，根据本发明，能够防止由基板保持部保持的基板的烘干。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述姿态变换机构还具备姿态变换部用喷嘴，该姿态变换部用喷嘴呈喷淋状或雾状地向由上述姿态变换部的上述两个铅垂保持部保持的上述多张基板供给液体。若在单张处理室的烘干处理之前，基板烘干，则产生基板的图案倒塌。但是，根据本发明，能够防止由姿态变换部的两个铅垂保持部保持的基板的烘干。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述移动部设置于比由上述两个铅垂保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板高的位置。能够防止因液滴从润湿了的基板落下而污染包含移动部的姿态变换部的驱动部分的情况。例如，能够防止驱动部分因污染而产生故障。
并且，在上述的基板处理装置中，优选为，上述水平轴设置于比由上述两个铅垂保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板高的位置，上述支撑部隔着上述两个水平保持部从上述两个铅垂保持部的相反侧支撑上述两个水平保持部和上述两个铅垂保持部。由此，在纵向旋转部使支撑部绕水平轴旋转后，能够使由两个铅垂保持部等保持的基板向水平基板搬运机构侧接近。
发明的效果如下。
根据本发明的基板处理装置，姿态变换部能够自身移动来变换接收到的基板的姿态，并且在变换为水平姿态之后，水平基板搬运机构能够从以铅垂姿态保持基板的铅垂保持部侧进行访问。
附图说明
为了说明发明而图示了目前认为优选的几个方式，但应理解为，发明不限定于图示的结构以及方案。
图1是示出实施例1的基板处理装置的简要结构的俯视图。
图2是示出基板搬运机构的侧视图。
图3A～图3F是用于说明移载块的第一姿态变换机构(姿态变更部和推动机构)的侧视图。
图4A是示出第二姿态变换机构的俯视图，图4B是示出第二姿态变换机构的主视图。
图5是用于说明姿态变换部的两个夹具(水平保持部和铅垂保持部)的主视图。
图6是用于说明基板处理装置的动作的流程图。
图7是用于说明第二姿态变换机构的动作的流程图。
图8A～图8C是用于说明第二姿态变换机构的前半部分的动作的主视图。
图9A～图9C是用于说明第二姿态变换机构的前半部分的动作的俯视图。
图10A～图10C是用于说明第二姿态变换机构的后半部分的动作的主视图。
图11A～图11C是用于说明第二姿态变换机构的后半部分的动作的俯视图。
图12A是示出实施例2的第二姿态变换机构的俯视图，图12B是示出实施例2的第二姿态变换机构的主视图。
图13A是示出实施例3的第二姿态变换机构的升降机的纵剖图，图13B是示出实施例3的第二姿态变换机构的姿态变换部的侧视图。
图14是示出变形例的基板处理装置的简要结构的俯视图。
符号说明
1—基板处理装置，5—移载块，7—处理块，13A—搁板，BT1～BT6—批处理槽，WTR—搬运机构，35—第二姿态变换机构，CR—中心机器人，59—控制部，LF9—升降机，63—姿态变换部，65—基板保持部，78—臂部支撑部，79、81—水平保持部，80、82—铅垂保持部，87—开闭部，93—横向旋转部，94—纵向旋转部，95—水平移动部，AX5—水平轴，107—推动件，109—升降旋转部，112—待机槽，116—喷嘴。
具体实施方式
【实施例1】
以下，参照附图对本发明的实施例1进行说明。图1是示出实施例1的基板处理装置1的简要结构的俯视图。图2是示出基板搬运机构HTR的侧视图。
＜1.整体结构＞
参照图1。基板处理装置1具备储料块3、移载块5以及处理块7。储料块3、移载块5以及处理块7依次在水平方向上配置为一列。
基板处理装置1例如对基板W进行药液处理、清洗处理、烘干处理等。基板处理装置1连续地对基板W进行批处理和单张处理。即，基板处理装置1在进行批处理之后，对基板W进行单张处理。批处理是一并处理多张基板W的处理方式。单张处理是逐张地处理基板W的处理方式。
在本说明书中，为了便于说明，将储料块3、移载块5以及处理块7所排列的方向称作“前后方向X”。前后方向X是水平的。将前后方向X中的从移载块5朝向储料块3的方向称作“前方”。将与前方相反的方向称作“后方”。将与前后方向X正交的水平方向称作“宽度方向Y”。适当地将宽度方向Y的一方向称作“右方”。将与右方相反的方向称作“左方”。将与水平方向垂直的方向称作“铅垂方向Z”。例如图1中，作为参考，适当地示出前、后、右、左、上、下。
＜2.储料块＞
储料块3收纳至少一个的载具C。在储料块3设置一个或两个以上(例如两个)装载端口9。储料块3具备载具搬运机构(机器人)11和搁板13。
载具搬运机构11在装载端口9与搁板13之间搬运载具C。载具搬运机构11具备把持载具C的上表面的突起部的把持部、或者与载具C的底面接触并支撑载具C的手部。搁板13分类为用于取出、容纳基板W的搁板13A和保管用的搁板13B。
搁板13A与移载块5相邻地配置。搁板13A也可以设置有装卸载具C的盖部的机构。搁板13A至少设置一个。搁板13A载置载具C。载具C以水平姿态且空开预定间隔(例如10mm间隔)地在铅垂方向Z上容纳多张(例如25张)基板W。此外，基板W在基板W的厚度方向上排列。作为载具C，例如使用FOUP(Front Opening Unify Pod：前开式晶圆传送盒)。FOUP是密闭型容器。载具C也可以是敞开型容器，其种类没有限制。
＜3.移载块＞
移载块5相邻地配置于储料块3的后方X。移载块5具备基板搬运机构(机器人)HTR和第一姿态变换机构15。
基板搬运机构HTR设置于移载块5内的右方Y侧。基板搬运机构HTR能够在载置于搁板13A的载具C、第一姿态变换机构15以及缓冲部27(下述)之间一并搬运水平姿态的多张(例如25张)基板W。
参照图2。基板操纵机构HTR具备多个(例如25个)手部17。图2中，为了便于图示，基板操纵机构HTR具备三个手部17。各手部17保持一张基板W。
并且，基板搬运机构HTR具备手部支撑部19、进退部20以及升降旋转部21。手部支撑部19支撑多个手部17。由此，多个手部17一体地移动。进退部20经由手部支撑部19使多个手部17前进以及后退。升降旋转部21使进退部20绕铅垂轴AX1旋转，来使多个手部17等绕铅垂轴AX1旋转。并且，升降旋转部21使进退部20升降来使多个手部17等升降。升降旋转部21固定于地板面。即，升降旋转部21在上不移动。此外，进退部20以及升降旋转部21分别具备电动马达。此外，基板搬运机构HTR也可以除了具备手部17以及手部支撑部19之外，还具备用于搬运一张基板W的手部(未图示)。
参照图1。第一姿态变换机构15将从载具C取出的多张基板W从水平姿态变换为铅垂姿态。第一姿态变换机构15具备姿态变换部23和推动机构25。图1中，基板搬运机构HTR、姿态变换部23以及推动机构25依次配置于左方Y。图3A～图3F是用于说明移载块5的第一姿态变换机构15(姿态变换部23和推动机构25)的侧视图。
如图1、图3A所示，姿态变换部23具备支撑台23A、一对水平保持部23B、一对铅垂保持部23C、以及旋转驱动部23D。一对水平保持部23B以及一对铅垂保持部23C设置于支撑台23A。水平保持部23B以及铅垂保持部23C接收由基板搬运机构HTR搬运来的多张基板W。当基板W为水平姿态时，一对水平保持部23B与各基板W的下表面接触，并且从下方支撑基板W。并且，当基板W为铅垂姿态时，一对铅垂保持部23C保持基板W。
旋转驱动部23D以能够绕水平轴AX2旋转的方式支撑支撑台23A。并且，旋转驱动部23D使支撑台23A绕水平轴AX2旋转，将保持部23B、23C所保持的多张基板W的姿态从水平变换为铅垂。
如图1、图3F所示，推动机构25具备推动件25A、升降旋转部25B、水平移动部25C以及轨道25D。推动件25A支撑铅垂姿态的多张(例如50张)基板W各自的下部。此外，图3A～图3F中，为了便于图示，推动件25A构成为能够支撑六张基板W。
升降旋转部25B与推动件25A的下表面连结。升降旋转部25B通过伸缩来使推动件25A沿上下方向升降。并且，升降旋转部25B使推动件25A绕铅垂轴AX3旋转。水平移动部25C支撑升降旋转部25B。水平移动部25C使推动件25A以及升降旋转部25B沿轨道25D水平移动。轨道25D形成为沿宽度方向Y延伸。此外，旋转驱动部23D、升降旋转部25B以及水平移动部25C分别具备电动马达。
此处，说明第一姿态变换机构15的动作。处理块7的下述的批处理槽BT1～BT6一并处理两份儿的载具C的例如50张基板W。第一姿态变换机构15每25张地对50张基板W进行姿态变换。并且，第一姿态变换机构15将多张基板W以面对面(Face to Face)方式按照预定的间隔(半间距)排列。半间距例如为5mm间隔。推动机构25将这50张基板W搬运至搬运机构WTR。
此外，将第一载具C内的25张基板W作为第一基板组的基板W1进行说明。将第二载具C的25张基板W作为第二基板组的基板W2进行说明。并且，图3A～图3F中，为便于图示，以第一基板组的基板W1的张数为三张且第二基板组的基板W2为三张的例子进行说明。并且，在不特别区别基板W1和基板W2的情况下，将基板W1以及W2记载为“基板W”。
参照图3A。姿态变换部23利用保持部23B、23C来接收由基板搬运机构HTR搬运来的第一基板组的25张基板W1。此时，25张基板W1为水平姿态，设备面朝向上方。25张基板W1以预定的间隔(全间距)配置。全间距例如为10mm间隔。全间距也被称作正常间距。
此外，半间距是全间距的一半的间隔。并且，基板W(W1、W2)的设备面是形成电子电路的面，被称作“表面”。并且，基板W的背面是指未形成电子电路的面。设备面的相反侧的面是背面。
参照图3B。姿态变换部23使保持部23B、23C绕水平轴AX2旋转90度(degree)，将25张基板W1的姿态从水平变换为铅垂。参照图3C。推动机构25使推动件25A上升至比姿态变换部23的保持部23B、23C高的位置。由此，推动件25A从保持部23B、23C接收25张基板W。推动件25A所保持的25张基板W1朝向左方Y。此外，图3A～图3F中，对基板W标注的箭头AR示出基板W的设备面的方向。
参照图3D。推动机构25使铅垂姿态的25张基板W绕铅垂轴AX3旋转180度。由此，25张基板W1反转而朝向右方Y。而且，反转后的25张基板W1从旋转前的位置向左方Y移动半间距的量(例如5mm)。并且，使姿态变换部23的保持部23B、23C绕水平轴AX2旋转－90度，成为能够接收下一个基板W2的状态。之后，姿态变换部23利用保持部23B、23C来接收由基板搬运机构HTR搬运来的第二基板组的25张基板W2。此时，25张基板W2为水平姿态，设备面朝向上方。此外，姿态变换部23和推动机构25以不会相互干涉的方式动作。
参照图3E。推动机构25使保持第一基板组的25张基板W1的推动件25A下降至退避位置。之后，姿态变换部23将25张基板W2的姿态从水平变换为铅垂。姿态变换后的25张基板W2朝向左方Y。参照图3F。之后，推动机构25使保持第二基板组的25张基板W2的推动件25A上升。由此，推动机构25进一步从姿态变换部23接收25张基板W2。
由此，推动件25A保持第一基板组以及第二基板组的50张基板W(W1、W2)。在50张基板W中，25张基板W1和25张基板W2逐张地交替配置。50张基板W以半间距(例如5mm间隔)配置。而且，25张基板W1朝向与25张基板W2的方向相反的方向。因此，50张基板W以面对面方式配置。即，相邻的两张基板W1、W2的两个设备面(或者两个背面)对置。
之后，推动机构25使保持50张基板W的推动件25A沿轨道25D移动至搬运机构WTR的一对夹具29、30的下方的基板交接位置PP。
＜4.处理块7＞
处理块7与移载块5相邻。处理块7配置于移载块5的后方X。处理块7具备批处理区域R1、成批基板搬运区域R2、姿态变换区域R3、单张基板搬运区域R4以及单张处理区域R5。并且，基板处理装置1具备载置基板W的缓冲部27。
＜4-1.批处理区域R1＞
批处理区域R1与成批基板搬运区域R2、姿态变换区域R3以及单张处理区域R5相邻。并且，批处理区域R1向从移载块5离开的方向(后方X)延伸。
在批处理区域R1设置例如六个批处理槽BT1～BT6。六个批处理槽BT1～BT6在批处理区域R1所延伸的前后方向X上排列成一列。此外，批处理槽的个数不限定于六个，设为多个即可。
六个批处理槽BT1～BT6分别对铅垂姿态的多张基板W一并进行浸渍处理。例如，六个批处理槽BT1～BT6由四个药液处理槽BT1～BT4和两个水洗处理槽BT5、BT6构成。具体而言，将两个药液处理槽BT1、BT2和水洗处理槽BT5作为一组。而且，将两个药液处理槽BT3、BT4和水洗处理槽BT6作为另一组。
四个药液处理槽BT1～BT4分别进行利用药液的蚀刻处理。作为药液，例如使用磷酸。药液处理槽BT1贮存从未图示的药液喷出管供给的药液。药液喷出管设置于药液处理槽BT1的内壁。三个药液处理槽BT2～BT4分别与药液处理槽BT1相同地构成。
两个水洗处理槽BT5、BT6分别进行利用纯水来冲洗附着于多张基板W的药液的纯水清洗处理。作为纯水，例如使用去离子水(DIW：Deionized Water)。两个水洗处理槽BT5、BT6分别贮存从未图示清洗液喷出管供给的纯水。清洗液喷出管设置于各水洗处理槽BT5、BT6的内壁。
在六个批处理槽BT1～BT6分别设置六个升降机LF1～LF6。例如，升降机LF1保持以预定间隔(半间距)配置的铅垂姿态的多张基板W。并且，升降机LF1使多张基板W在批处理槽(药液处理槽)BT1的内部的处理位置与批处理槽BT1的上方的交接位置之间升降。其它五个升降机LF2～LF6与升降机LF1相同地构成。
＜4-2.成批基板搬运区域R2＞
成批基板搬运区域R2与移载块5、批处理区域R1以及姿态变换区域R3相邻。成批基板搬运区域R2沿批处理区域R1设置。成批基板搬运区域R2的一端侧延伸至移载块5，其另一端侧向从移载块5离开的方向(后方X)延伸。成批基板搬运区域R2与批处理区域R1平行地延伸。
成批基板搬运区域R2具有搬运机构(机器人)WTR。即，在成批基板搬运区域R2设置搬运机构WTR。搬运机构WTR在移载块5内所确定的基板交接位置PP、例如六个批处理槽BT1～BT6、以及第二姿态变换机构35(升降机LF9)之间一并搬运铅垂姿态的多张(例如50张)基板W。此外，当搬运机构WTR通过第二姿态变换机构35时，搬运机构WTR在下述的姿态变换部63的水平移动部95的上方移动。
搬运机构WTR具备一对夹具29、30以及导轨33。夹具29、30分别例如为了保持50张基板W而具备50个保持槽。两个夹具29、30分别在俯视下与Y方向(图1)平行地延伸。搬运机构WTR打开或闭合两个夹具29、30。搬运机构WTR使一对夹具29、30沿导轨33移动。搬运机构WTR由电动马达驱动。此外，搬运机构WTR相当于本发明的成批基板搬运机构。
＜4-3.姿态变换区域R3＞
姿态变换区域R3设置在移载块5与批处理区域R1之间。并且，姿态变换区域R3配置在成批基板搬运区域R2、单张基板搬运区域R4以及单张处理区域R5之间。因此，姿态变换区域R3与移载块5、批处理区域R1、成批基板搬运区域R2、单张基板搬运区域R4以及单张处理区域R5相邻。
在姿态变换区域R3设置第二姿态变换机构35。第二姿态变换机构35将批处理后的多张基板W从铅垂姿态变换为水平姿态。第二姿态变换机构35的详细结构如下。此外，第二姿态变换机构35相当于本发明的姿态变换机构。
＜4-4.单张基板搬运区域R4＞
单张基板搬运区域R4与移载块5、姿态变换区域R3以及单张处理区域R5相邻。并且，单张基板搬运区域R4隔着姿态变换区域R3设置于成批基板搬运区域R2的相反侧。
在单张基板搬运区域R4设置中心机器人CR。中心机器人CR能够在第二姿态变换机构35、单张处理室SW1、SW2(下述)以及缓冲部27之间逐张地搬运水平姿态的基板W。并且，能够在中心机器人CR的周围配置移载块5、第二姿态变换机构35以及单张处理室SW1、SW2。由此，能够缩短中心机器人CR搬运基板W的搬运距离，因此能够高效地搬运基板W。此外，中心机器人CR相当于本发明的水平基板搬运机构。
中心机器人CR具备两个手部37A、37B、两个多关节臂部39A、39B以及升降台41。两个手部37A、37B分别保持水平姿态的一张基板W。两个手部37A、37B分别能够进行水平移动。两个多关节臂部39A、39B分别例如由SCARA型(关节式)构成。多关节臂部39A的前端部支撑手部37A，多关节臂部39B的前端部支撑手部37B。多关节臂部39A使手部37A沿水平方向(前后方向X以及宽度方向Y)移动，并且多关节臂部39B使手部37B沿水平方向移动。
升降台41支撑两个多关节臂部39A、39B各自的基端部。升降台41构成为能够沿上下方向伸缩。因此，升降台41使两个手部37A、37B以及两个多关节臂部39A、39B升降。升降台41在水平方向上的位置固定而不会移动。由此，例如，能够缩短因升降台41沿水平方向移动引起的基板W的搬运距离。并且，能够省略升降台41的移动。
缓冲部27跨过移载块5和单张基板搬运区域R4地配置。即，设置于移载块5与单张基板搬运区域R4的边界。并且，缓冲部27也可以仅设置于移载块5或者单张基板搬运区域R4。因此，缓冲部27固定地设置于移载块5与单张基板搬运区域R4的边界、移载块5、以及单张基板搬运区域R4的任一方即可。此外，中心机器人CR具备两组手部37A、37B和多关节臂部39A、39B，但中心机器人CR也可以具备一组或者三组以上的手部和多关节臂部。
缓冲部27具备多个载置搁板。多个载置搁板分别为水平姿态。多个载置搁板分别能够载置一张基板W。缓冲部27将多张基板W以水平姿态空开预定间隔(全间距)地在铅垂方向Z上载置。即，多个载置搁板以预定间隔(全间距)且在铅垂方向Z上配置。缓冲部27构成为，能够至少载置基板搬运机构HTR所能够搬运的例如25张基板W。缓冲部27构成为例如能够载置50张基板W。根据需要，缓冲部27的载置搁板的个数也可以为2个以上且24个以下。
＜4-5.单张处理区域R5＞
单张处理区域R5与批处理区域R1、姿态变换区域R3以及单张基板搬运区域R4相邻。单张处理区域R5隔着单张基板搬运区域R4设置于移载块5的相反侧。
在单张处理区域R5设置多个(例如两个)单张处理室SW1、SW2。两个单张处理室SW1、SW2沿与批处理区域R1所延伸的前后方向X正交的宽度方向Y配置。各单张处理室SW1、SW2逐张地处理水平姿态的基板W。第一单张处理室SW1配置于姿态变换区域R3的右方Y。第二单张处理室SW2配置于第一单张处理室SW1的右方Y。
并且，单张处理室SW1、SW2也可以由多层构成。例如，六个单张处理室SW1、SW2也可以在宽度方向Y(水平方向)上配置两个且在铅垂方向Z上配置三个。此外，单张处理室的个数不限定于两个或六个。
例如，第一单张处理室SW1具备旋转处理部45和喷嘴47。旋转处理部45具备以水平姿态保持一张基板W的旋转夹具、以及使旋转夹具绕通过该基板W的中心的铅垂轴旋转的电动马达。旋转夹具也可以通过真空吸附来保持基板W的下表面。并且，旋转夹具也可以具备抓住基板W的外缘的三根以上的夹具销。
喷嘴47向由旋转处理部45保持的基板W供给处理液。喷嘴47在从旋转处理部45离开的待机位置与旋转处理部45的上方的供给位置之间移动。作为处理液，例如使用纯水(DIW)以及IPA(异丙醇)。单张处理室SW1也可以例如在利用纯水对基板W进行清洗处理之后，在基板W的上表面形成IPA的液膜。
单张处理室SW2例如进行利用超临界流体的烘干处理。作为流体，例如使用二氧化碳。单张处理室SW2具备腔室主体(容器)48、支撑托盘以及盖部。腔室主体48具备设置在内部的处理空间、用于向该处理空间放入基板W的开口、供给口以及排气口。基板W被支撑托盘支撑且被收纳于处理空间。盖部封堵腔室主体48的开口。例如，单张处理室SW2分别使流体成为超临界状态，并从供给口向腔室主体48内的处理空间供给超临界流体。此时，腔室主体48内的处理空间从排气口排气。利用被供给至处理空间的超临界流体对基板W进行烘干处理。
超临界状态通过成为流体固有的临界温度和临界压力来获得。具体而言，在流体为二氧化碳的情况下，临界温度为31℃，临界压力为7.38MPa。通过由超临界流体对基板W进行烘干处理，能够抑制形成于基板W的图案倒塌。
＜5.控制部＞
基板处理装置1具备控制部59和存储部(未图示)。控制部59控制基板处理装置1的各结构。控制部59例如具备中央运算处理装置(CPU)等一个以上的处理器。存储部例如具备ROM(Read-Only Memory，只读存储器)、RAM(Random-Access Memory，随机存取存储器)、以及硬盘的至少一个。存储部存储为了控制基板处理装置1的各结构而需要的计算机程序。
＜6.第二姿态变换机构＞
图4A是第二姿态变换机构35的俯视图。图4B是第二姿态变换机构35的主视图。图5是用于说明姿态变换部63的两个夹具71、72(水平保持部79、81和铅垂保持部80、82)的主视图。
第二姿态变换机构35具备基板待机区域R31和姿态变换执行区域R32。基板待机区域R31和姿态变换执行区域R32沿批处理区域R1或者六个批处理槽BT1～BT6所延伸的前后方向X配置。
第二姿态变换机构35具备升降机LF9和姿态变换部63。在基板待机区域R31设置升降机LF9。相对于此，在姿态变换执行区域R32设置姿态变换部63。接下来，对升降机LF9以及姿态变换部63的详细结构进行说明。
＜6-1.升降机LF9＞
升降机LF9以铅垂姿态保持由搬运机构WTR搬运来的多张(例如50张)基板W。升降机LF9具备基板保持部65和使基板保持部65沿铅垂方向Z升降的升降部67。基板保持部65相当于本发明的基板保持部。
基板保持部65从下方保持以预定间隔(例如半间距)配置的例如50张基板W。基板保持部65具备分别沿Y方向延伸的例如三根保持部件68。为了保持50张基板W，三根保持部件68分别具备数量与基板W的张数相同(50个)的保持槽68A。各保持槽68A的里侧形成为V状。升降部67使基板保持部65升降。升降部67例如具备电动马达或者气缸。
此外，升降机LF9(基板保持部65)和六个批处理槽BT1～BT6在前后方向X上呈直线状地配置，以便搬运机构WTR能够呈直线状地搬运50张基板W。
＜6-2.姿态变换部＞
姿态变换部63从基板保持部65接收多张基板W，并且将多张基板W的姿态从铅垂变换为水平。姿态变换部63具备两个夹具71、72、两根臂部75、76以及臂部支撑部78。臂部支撑部78相当于本发明的支撑部。
姿态变换部63在基板待机区域R31使用两个夹具71、72从基板保持部65接收多张(例如25张)基板W，并在姿态变换执行区域R32内使用纵向旋转部94将多张基板W的姿态从垂直变换为水平。具体地如下进行说明。
两个夹具71、72保持多张(例如25张)基板W。第一夹具71具备第一水平保持部79和第一铅垂保持部80。并且，第二夹具72具备第二水平保持部81和第二铅垂保持部82。两个水平保持部79、81以及两个铅垂保持部80、82分别形成为沿多张基板W所排列的方向延伸。
两个水平保持部79、81收纳多张基板W所包含的各基板W的在半径方向上对置的两个侧部。在多张基板W为水平姿态的情况下，两个水平保持部79、81以预定间隔(例如半间距)载置多张基板W。两个铅垂保持部80、82收纳多张基板W所包含的各基板W的两个侧部。在多张基板W为铅垂姿态的情况下，两个铅垂保持部80、82设置于水平保持部79、81的下方。并且，在多张基板W为铅垂姿态的情况下，两个铅垂保持部80、82以铅垂姿态保持多张基板W。此外，在两个铅垂保持部80、82所保持的多张基板W为铅垂姿态的情况下，两个水平保持部79、81夹持多张基板W并配置于水平方向XY。同样，在基板W为铅垂姿态的情况下，两个铅垂保持部80、82夹持多张基板W并配置于水平方向XY。
参照图5。两个水平保持部79、81具备多对(例如50对)水平放置导向槽85、86。50个第一水平放置导向槽85设置于水平保持部79。50个第二水平放置导向槽86设置于水平保持部81。例如两个水平放置导向槽85A、86A对置地配置。此外，在多张基板W为铅垂姿态的情况下，多对水平放置导向槽85、86分别具有与下述的通过槽91、92相同的功能。
并且，两个水平保持部79、81也可以例如具备25对水平放置导向槽85、86。并且，水平放置导向槽85、86的对的数量不限定于50对或者25对。下述的保持槽89、90以及通过槽91、92的对的数量也不限定于25对。
两个铅垂保持部80、82具备多对(例如25对)保持槽89、90和多对(25对)通过槽91、92。多对保持槽89、90分别保持一片基板W。对于多对通过槽91、92而言，分别各一对地交替配置使一张基板W通过的多对保持槽89、90以及多对通过槽91、92。此外，两个保持槽89A、90A对置地配置。
25个保持槽89以及25个通过槽91设置于第一铅垂保持部80。25个保持槽89以及25个通过槽91各一个地交替配置。25个保持槽90以及25个通过槽92设置于第二铅垂保持部82。25个保持槽90以及25个通过槽92各一个地交替配置。各保持槽89、90的里侧形成为截面呈V状。因此，各保持槽89、90能够以铅垂姿态保持一张基板W。由此，不会倾倒在相邻的基板W上。
如图4B所示，第一臂部75支撑第一水平保持部79以及第一铅垂保持部80。第二臂部76支撑第二水平保持部81以及第二铅垂保持部82。臂部支撑部78支撑两个臂部75、76各自的上端部(基端部)。臂部支撑部78和两个臂部75、76形成为C状或者U状。
臂部支撑部78隔着两个水平保持部79、81配置于两个铅垂保持部80、82的相反侧。因此，臂部支撑部78等经由两个水平保持部79、81从两个铅垂保持部80、82的相反侧支撑两个水平保持部79、81以及两个铅垂保持部80、82。
并且，如图5中实线和单点划线所示，两个铅垂保持部80、82构成为在水平方向上开闭。即，姿态变换部63具备开闭部87(参照图4)。开闭部87例如具备电动马达或者气缸。开闭部87使两个铅垂保持部80、82在保持位置PP2与通过位置PP3之间直线移动，其中，保持位置PP2是为了利用两个铅垂保持部80、82保持基板W而缩小两个铅垂保持部80、82的间隔的位置，通过位置PP3是为了使各基板W在两个铅垂保持部80、82之间通过而扩大两个铅垂保持部80、82的间隔的位置。
两个铅垂保持部80、82在位于保持位置PP2时为闭合的状态。例如，在多张基板W为铅垂姿态的情况下，缩小两个铅垂保持部80、82的间隔。两个铅垂保持部80、82由开闭部87移动至保持位置PP2，对基板保持部65所保持的铅垂姿态的多张基板W进行保持，并且两个水平保持部79、81收纳由两个铅垂保持部80、82保持的多张基板W。并且，两个铅垂保持部80、82在位于通过位置PP3时为打开的状态。例如，在下述的纵向旋转部94使基板W的姿态从铅垂旋转至水平的情况下，开闭部87使两个铅垂保持部80、82移动至通过位置PP3。即，在多张基板W为水平姿态的情况下，扩大两个铅垂保持部80、82的间隔。
并且，姿态变换部63具备横向旋转部93、纵向旋转部94、水平移动部95、旋转轴97以及铅垂臂部98。横向旋转部93能够旋转地支撑臂部支撑部78。在两个铅垂保持部80、82以铅垂姿态保持基板W时，横向旋转部93使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等绕与基板W所排列的方向正交的旋转轴(铅垂轴)AX4旋转。横向旋转部93以及纵向旋转部94分别例如具备电动马达。
旋转轴97的前端部与横向旋转部93连接。旋转轴97的基端部与纵向旋转部94能够旋转地连结。旋转轴97沿水平方向(前后方向X)延伸。因此，旋转轴97的中心轴是水平轴AX5。水平轴(中心轴)AX5设置于比由两个铅垂保持部80、82保持的铅垂姿态的基板W高的位置。纵向旋转部94为了使基板W的姿态从铅垂旋转至水平而使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等绕水平轴AX5旋转。纵向旋转部94被铅垂臂部98的下端部支撑。
水平移动部95使两个夹具71、72、臂部支撑部78、开闭部87、横向旋转部93以及纵向旋转部94沿水平方向移动。并且，水平移动部95使臂部支撑部78以及纵向旋转部94遍及配置有基板保持部65的基板待机区域R31以及用于将多张基板W从铅垂姿态变换为水平姿态的姿态变换执行区域R32地沿水平方向移动。
水平移动部95设置于比由两个铅垂保持部80、82保持的铅垂姿态的各基板W高的位置。由此，两个夹具71、72成为悬垂的状态。因此，防止基板W所附着的液滴落下而污染移动部以及旋转部的情况。由此，防止移动部以及旋转部因液滴的污染而产生故障。
水平移动部95具备X方向移动部101和Y方向移动部102。X方向移动部101使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等沿前后方向X移动。Y方向移动部102使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等沿宽度方向Y移动。两个移动部101、102分别具备具有电动马达的线性致动器。图4A中，铅垂臂部98的上端部与Y方向移动部102能够移动地连接。Y方向移动部102使铅垂臂部98沿宽度方向Y移动。此外，水平移动部相当于本发明的移动部。
＜7.动作说明＞
接下来，参照图6、图7的流程图对基板处理装置1的动作进行说明。参照图1。未图示的外部搬运机器人将两个载具C依次搬运至装载端口9。
[步骤S01]从载具搬运基板
储料块3的载具搬运机构11将第一载具C从装载端口9搬运至搁板13A。移载块5的基板搬运机构HTR从载置于搁板13A的第一载具C取出水平姿态的25张基板W1，并将其搬运至姿态变换部23。之后，载具搬运机构11将空的第一载具C搬运至搁板13B。之后，载具搬运机构11将第二载具C从装载端口9搬运至搁板13A。基板搬运机构HTR从载置于搁板13A的第二载具C取出水平姿态的25张基板W2，并将其搬运至姿态变换部23。
[步骤S02]姿态变换为铅垂姿态
向姿态变换部23搬运两个载具C的50张基板W(W1、W2)。如图3A～图3F所示，姿态变换部23和推动机构25使50张基板W以面对面方式且以半间距(5mm)排列，并且将50张基板W的姿态从水平姿态变换为铅垂姿态。推动机构25将铅垂姿态的50张基板W搬运至在移载块5内确定的基板交接位置PP。
[步骤S03]药液处理(批处理)
搬运机构WTR在基板交接位置PP从推动机构25接收铅垂姿态的50张基板W，并将50张基板W搬运至四个药液处理槽BT1～BT4的四个升降机LF1～LF4的任一方。此外，在搬运机构WTR通过姿态变换区域R3时，搬运机构WTR以不与第二姿态变换机构35干涉的方式例如在第二姿态变换机构35的上方通过。
例如，搬运机构WTR将50张基板W搬运至药液处理槽BT1的升降机LF1。升降机LF1在药液处理槽BT1的上方的位置接收50张基板W。升降机LF1使50张基板W浸渍在药液处理槽BT1内的作为处理液的磷酸中。由此，对50张基板W进行蚀刻处理。在蚀刻处理之后，升降机LF1将50张基板W从药液处理槽BT1的磷酸提起。此外，在将50张基板W搬运至其它药液处理槽BT2～BT4的各个升降机LF2～LF4的情况下，也进行与药液处理槽BT1相同的处理。
[步骤S04]纯水清洗处理(批处理)
搬运机构WTR例如从升降机LF1(或者升降机LF2)接收铅垂姿态的50张基板W，并将50张基板W搬运至水洗处理槽BT5的升降机LF5。升降机LF5在水洗处理槽BT5的上方的位置接收50张基板W。升降机LF5使50张基板W浸渍在水洗处理槽BT5内的纯水中。由此，对50张基板W进行清洗处理。
此外，在搬运机构WTR从升降机LF3、LF4的一方接收铅垂姿态的50张基板W的情况下，搬运机构WTR将50张基板W搬运至水洗处理槽BT6的升降机LF6。升降机LF6在水洗处理槽BT6的上方的位置接收50张基板W。升降机LF6使50张基板W浸渍在水洗处理槽BT6内的纯水中。
[步骤S05]姿态变换为水平姿态
第二姿态变换机构35将进行清洗处理后的基板W的姿态从铅垂变换为水平。此处，存在以下问题。即，若一并变换以半间距(5mm间隔)配置的50张基板W的姿态，则有时中心机器人CR的各手部37A、37B无法良好地侵入50张基板W中的相邻的两张基板W的间隙。
并且，在以面对面方式排列基板W的情况下，变换为水平姿态的基板W既有设备面朝向上方的基板W，也有设备面朝向下方的基板W。例如，不优选中心机器人CR的各手部37A、37B与基板W的设备面接触。并且，不优选向各单张处理室SW1、SW2搬运设备面的方向不同的基板W。
因此，在本实施例中，扩大相邻的两张基板W的间隔，并且使50张基板W的设备面的方向相互一致。参照图7的流程图、图1、图8A～图11C，具体地进行说明。
此外，图8A～图8C、图10A～图10C是第二姿态变换机构35的主视图。图9A～图9C、图11A～图11C是第二姿态变换机构35的俯视图。例如图9A与图8A对应。并且，图11B与图10B对应。
[步骤S11]向升降机LF9搬运基板
参照图1。搬运机构WTR将50张基板W从升降机LF5、LF6的一方搬运至第二姿态变换机构35的升降机LF9的基板保持部65。升降机LF9的基板保持部65保持以半间距且以面对面方式配置的铅垂姿态的50张基板W。并且，50张基板W沿宽度方向Y排列。
[步骤S12]姿态变换部向基板待机区域移动
参照图8A、图9A。在铅垂姿态的50张基板W由基板保持部65保持时，姿态变换部63的水平移动部95(主要是X方向移动部101)使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等从姿态变换执行区域R32移动至基板待机区域R31的基板保持部65的上方。并且，水平移动部95的Y方向移动部102使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等移动至第一基板保持位置。此外，第一基板保持位置是25对保持槽89、90能够保持第一基板组的25张基板W1的位置。
并且，姿态变换部63的开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互分离的方向水平移动而成为打开的状态(参照图5的通过位置PP3)。
[步骤S13]由姿态变换部接收第一基板组
两个铅垂保持部80、82由开闭部87移动至保持位置PP2，利用25对保持槽89、90对基板保持部65所保持的铅垂姿态的50张基板W中的每隔一张排列的第一分割基板组(25张基板W1)进行保持，并且两个水平保持部79、81收纳第一分割基板组(25张基板W1)。具体地如下进行说明。
基板保持部65是以铅垂姿态保持50张基板W(W1、W2)的状态。升降机LF9的升降部67使基板保持部65上升至交接基板W的上方位置。此时，50张基板W在两个铅垂保持部80、82之间通过，并且分别被收纳于两个水平保持部79、81的50对水平放置导向槽85、86。
之后，开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互接近的方向水平移动而成为闭合的状态(参照图5的保持位置PP2)。由此，如图5的下侧的两个框所示，基板保持部65以铅垂姿态保持的50张基板W由各一对地交替配置的25对保持槽89、90以及25对通过槽91、92收纳。
之后，升降机LF9的升降部67使基板保持部65下降至下侧的待机位置。由此，向姿态变换部63交接第一基板组的25张基板W1，而第二基板组的25张基板W2留在基板保持部65。即，姿态变换部63由25对保持槽89、90从基板保持部65保持并提取50张基板W中的每隔一张排列的第一基板组的25张基板W1。此外，第一基板组的多张基板W1相当于本发明的第一分割基板组。并且，第二基板组的多张基板W2被称作第二分割基板组。
此外，每隔一张地被提取的25张基板W1以全间距排列。并且，留在基板保持部65的25张基板W2也以全间距配置。留在基板保持部65的25张基板W2成为待机状态。
[步骤S14]向姿态变换执行区域移动
参照图8B、图9B。水平移动部95(X方向移动部101以及Y方向移动部102)在由两个铅垂保持部80、82保持25张基板W1的状态下，使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等从基板待机区域R31的基板保持部65的上方移动至姿态变换执行区域R32的预定的位置。即，姿态变换部63将铅垂姿态的第一基板组的25张基板W1搬运至姿态变换执行区域R32。
[步骤S15]由姿态变换部进行第一基板组的水平姿态变换
参照图8C、图9C。之后，在姿态变换执行区域R32中，姿态变换部63将提取的25张基板W1的姿态变换为水平姿态。具体而言，姿态变换部63的纵向旋转部94以两个铅垂保持部80、82朝向中心机器人CR(参照图1)的方式使基板W1、两个夹具71、72以及臂部支撑部78绕水平轴AX5旋转90度。
在该状态下，中心机器人CR不从姿态变换部63取出基板W1。因此，姿态变换部63的开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互分离的方向水平移动而成为打开的状态。即，在变换为水平姿态的25张基板W1载置于两个水平保持部79、81时，开闭部87使两个铅垂保持部80、82移动至通过位置PP3。由此，基板W1能够在两个铅垂保持部80、82之间通过。并且，25张基板W1分别载置于25个水平放置导向槽85、86。由于25张基板W1以全间距排列，所以中心机器人CR能够容易地取出基板W。
之后，中心机器人CR一边使用两个手部37A、37B在移动至通过位置PP3的两个铅垂保持部80、82之间通过，一边从水平姿态的25张基板W1逐张地取出基板W1，并将取出的基板W1搬运至单张处理室SW1。
[步骤S16]姿态变换部向基板待机区域移动
参照图10A、图11A。在从姿态变换部63搬运出所有25张基板W1之后，水平移动部95(主要是X方向移动部101)使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等从姿态变换执行区域R32移动至基板待机区域R31的基板保持部65的上方。并且，水平移动部95的Y方向移动部102使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等移动至第二基板保持位置。此外，第二基板保持位置是25对保持槽89、90能够保持第二基板组的25张基板W2的位置。
并且，姿态变换部63的开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互分离的方向水平移动而成为打开的状态(参照图5的通过位置PP3)。
[步骤S17]由姿态变换部接收第二基板组
基板保持部65为以铅垂姿态保持第二基板组的25张基板W2的状态。升降机LF9的升降部67使基板保持部65上升至交接基板W2的上方位置。此时，25张基板W2在两个铅垂保持部80、82之间通过，并且分别被收纳于50对水平放置导向槽85、86中的25对水平放置导向槽85、86。
之后，开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互接近的方向水平移动而成为闭合的状态(参照图5的保持位置PP2)。由此，基板保持部65以铅垂姿态保持的25张基板W2由25对保持槽89、90收纳。
之后，升降机LF9的升降部67使基板保持部65下降至下侧的待机位置。由此，向姿态变换部63交接第二基板组的25张基板W2。即，姿态变换部63由25对保持槽89、90从基板保持部65保持并接收第二基板组的25张基板W2。
[步骤S18]向姿态变换执行区域移动
参照图10B、图11B。水平移动部95(X方向移动部101以及Y方向移动部102)在由两个铅垂保持部80、82保持25张基板W2的状态下，使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等从基板待机区域R31的基板保持部65的上方移动至姿态变换执行区域R32的预定的位置。即，姿态变换部63将铅垂姿态的25张基板W2搬运至姿态变换执行区域R32。
[步骤S19]由横向旋转部进行第二基板组的180度旋转
并且，在姿态变换执行区域R32中，姿态变换部63的横向旋转部93使铅垂姿态的基板W2以及臂部支撑部78等绕旋转轴AX4旋转180度。由此，箭头AR所示的设备面的方向从左方Y向右方Y旋转180度。因此，在水平姿态变换之后，能够使各基板W2的设备面的方向朝向上方。
[步骤S20]由姿态变换部进行第二基板组的水平姿态变换
参照图10C、图11C。之后，姿态变换部63将保持的25张基板W2的姿态变换为水平姿态。具体而言，姿态变换部63的纵向旋转部94以两个铅垂保持部80、82朝向中心机器人CR(参照图1)的方式使基板W2、两个夹具71、72以及臂部支撑部78绕水平轴AX5旋转90度。
之后，姿态变换部63的开闭部87使两个铅垂保持部80、82向相互分离的方向水平移动而成为打开的状态(参照图5的通过位置PP3)。由此，基板W2能够在两个铅垂保持部80、82之间通过。并且，25张基板W2分别载置于25个水平放置导向槽85、86。
之后，中心机器人CR一边使用两个手部37A、37B在移动至通过位置PP3的两个铅垂保持部80、82之间通过，一边从水平姿态的25张基板W2逐张地取出基板W2，并将取出的基板W2搬运至单张处理室SW1。此外，如图10C、图11C所示，由搬运机构WTR将接下来的50张基板W搬运至升降机LF9的基板保持部65。
[步骤S06]第一单张式处理
返回至图6的流程图的说明。例如，中心机器人CR将基板W(W1、W2)从姿态变换部63向第一单张处理室SW1逐张地搬运。第一单张处理室SW1例如利用旋转处理部45使设备面朝向上方的基板W旋转，并且从喷嘴47向设备面供给纯水。之后，第一单张处理室SW1从喷嘴47向基板W的设备面(上表面)供给IPA，由IPA置换基板W的纯水。
[步骤S07]第二单张式处理(烘干处理)
之后，中心机器人CR从第一单张处理室SW1取出由IPA润湿了的基板W，并将该基板W搬运至第二单张处理室SW2。第二单张处理室SW2利用超临界状态的二氧化碳(超临界流体)对基板W进行烘干处理。通过使用了超临界流体的烘干处理，抑制基板W的图案面(设备面)的图案倒塌。
[步骤S08]从缓冲部向载具搬运基板
中心机器人CR将烘干处理后的基板W从第二单张处理室SW2搬运至缓冲部27的载置搁板的任一个。若向缓冲部27搬运一批次份儿(25张)的基板W1，则基板搬运机构HTR将25张基板W1从缓冲部27一并搬运至载置于搁板13A的空的第一载具C内。之后，储料块3内的载具搬运机构11将第一载具C搬运至装载端口9。
并且，若在缓冲部27载置一批次份儿的基板W2，则基板搬运机构HTR将25张基板W2从缓冲部27一并搬运至载置于搁板13A的空的第二载具C内。之后，储料块3内的载具搬运机构11将第二载具C搬运至装载端口9。未图示的外部搬运机器人将两个载具C依次搬运至下一目的地。
根据本实施例，第二姿态变换机构35具备基板保持部65和姿态变换部63。姿态变换部63的水平移动部95能够使支撑两个水平保持部79、81和两个铅垂保持部80、82的臂部支撑部78移动。并且，姿态变换部63的纵向旋转部94使臂部支撑部78绕水平轴AX5旋转。因此，姿态变换部63能够自身移动来变换接收到的基板W的姿态。
并且，纵向旋转部94为了使基板W从铅垂姿态变换为水平姿态而使臂部支撑部78绕水平轴AX5旋转，以使两个铅垂保持部80、82朝向中心机器人CR。之后，开闭部87使两个铅垂保持部80、82移动至通过位置PP3。由此，中心机器人CR能够从两个铅垂保持部80、82侧搬运基板W。
并且，姿态变换部63具备使臂部支撑部78绕沿与多张基板W所排列的方向(例如宽度方向Y)正交且与水平轴AX5正交的方向延伸的旋转轴AX4旋转的横向旋转部93。水平移动部95使臂部支撑部78、横向旋转部93以及纵向旋转部94等沿水平方向移动。姿态变换部63能够在从基板保持部65接收到基板W之后的任意时机，改变基板W的表背的方向。
并且，两个铅垂保持部80、82具备分别保持一张基板W的多对保持槽89、90和使一张基板W分别通过的多对通过槽91、92。多对保持槽89、90以及多对通过槽91、92各一对地交替配置。两个铅垂保持部80、82由开闭部87移动至保持位置PP2，利用25对保持槽89、90对基板保持部65所保持的铅垂姿态的50张基板W中的每隔一张排列的第一分割基板组(25张基板W1)进行保持，并且两个水平保持部79、81收纳第一分割基板组(25张基板W1)。由于两个铅垂保持部80、82对50张基板W中的每隔一张排列的第一分割基板组(25张基板W1)进行保持，所以能够扩大相邻的两张基板W的间隔。因此，中心机器人CR能够容易地从姿态变换部63取出基板W。
并且，水平移动部95设置于比由两个铅垂保持部80、82保持的铅垂姿态的25张基板W1(W2)高的位置。能够防止因液滴从润湿了的基板W1(W2)落下而污染包含水平移动部95的姿态变换部63的驱动部分。例如，能够防止驱动部分因污染而产生故障。
并且，水平轴AX5设置于比由两个铅垂保持部80、82保持的铅垂姿态的25张基板W1(W2)高的位置，臂部支撑部78隔着两个水平保持部79、81从两个铅垂保持部80、82的相反侧支撑两个水平保持部79、81和两个铅垂保持部80、82。由此，在纵向旋转部94使臂部支撑部78绕水平轴AX5旋转后，能够使由两个铅垂保持部80、82等保持的基板W向中心机器人CR接近。
并且，姿态变换区域R3(包含第二姿态变换机构35)设置在移载块5与批处理区域R1之间。并且，单张基板搬运区域R4与移载块5以及姿态变换区域R3相邻。再有，单张处理区域R5(包含多个单张处理室SW1、SW2)与单张基板搬运区域R4相邻。并且，设置于单张基板搬运区域R4的中心机器人CR的升降台41的水平方向XY的位置固定。因此，能够在中心机器人CR的周围配置移载块5、第二姿态变换机构35以及多个单张处理室SW1、SW2。由此，例如能够缩短中心机器人CR搬运基板W的搬运距离，因此能够高效地搬运基板W。并且，搬运机构WTR能够在移载块5内的基板交接位置PP、六个批处理槽BT1～BT6以及第二姿态变换机构35之间一并搬运多张基板W。其结果，能够使吞吐量变得良好。
【实施例2】
接下来，参照附图对本发明的实施例2进行说明。此外，省略与实施例1重复的说明。图12A是示出实施例2的第二姿态变换机构35的俯视图。图12B是图12A的主视图。
在实施例1中，第二姿态变换机构35具备升降机LF9和具有横向旋转部93的姿态变换部63。关于这一点，实施例2的第二姿态变换机构35具备推动机构105和不具有横向旋转部93的姿态变换部63。
推动机构105以铅垂姿态保持由搬运机构WTR搬运来的多张(例如50张)基板W。推动机构105具备推动件107和升降旋转部109。此外，推动件107相当于本发明的基板保持部。升降旋转部109相当于本发明的第二横向旋转部。
推动件107从下方保持以预定间隔(例如半间距)配置的例如50张基板W。为了保持50张基板W，推动件107具备数量与基板W的张数相同(50个)的保持槽(未图示)。推动件107的各保持槽的里侧形成为V状。升降旋转部109使推动件107升降，并且使推动件107绕铅垂轴AX6旋转。升降旋转部109例如具备一个或两个以上的电动马达。
如图12B所示，实施例2的姿态变换部63不具备图4B所示的横向旋转部93。因此，旋转轴97的前端部固定于臂部支撑部78。
接下来，参照图7的流程图，对实施例2的第二姿态变换机构35的动作进行说明。第二姿态变换机构35的动作基本上如图7的流程图那样动作。但是，由于实施例2的第二姿态变换机构35不具备横向旋转部93，所以不进行图7所示的步骤S19。取而代之地，推动机构105使第二基板组的25张基板W2绕铅垂轴AX6旋转。
在图7的步骤S13中，姿态变换部63利用两个铅垂保持部80、82(25对保持槽89、90)从基板保持部65保持并提取50张基板W中的每隔一张排列的25张基板W1。
之后，推动机构105的升降旋转部109使由推动件107保持的25张基板W2绕铅垂轴AX6旋转180度(degree)。由此，在第二基板组的基板W2的姿态变换后，能够与第一基板组的基板W1相同地使设备面朝向上方。并且，铅垂轴AX6在俯视下设定于由推动件107保持的50张基板W的中央。因此，通过180度的旋转，基板W2的位置在基板W的排列方向上偏离半间距。因此，在与能够由25对保持槽89、90保持第一基板组的基板W1的第一基板保持位置相同的位置，两个铅垂保持部80、82能够保持第二基板组的基板W1。此外，水平移动部95也可以使两个铅垂保持部80、82等移动至第一基板保持位置以及第二基板保持位置的各个位置。
之后，在图7的步骤S17中，姿态变换部63保持并搬运旋转180度后的25张基板W2。此外，在实施例2中，不进行图7的步骤S19。
根据本实施例，推动机构105的升降旋转部109使推动件107绕铅垂轴AX6旋转。因此，姿态变换部63也可以不具备实施例1的横向旋转部93，能够在推动件107侧改变基板W的表背的方向，因而能够简化姿态变换部63的结构。
【实施例3】
接下来，参照附图对本发明的实施例3进行说明。此外，省略与实施例1、2重复的说明。图13A是示出实施例3的第二姿态变换机构35的升降机LF9的纵剖视图。图13B是示出实施例3的第二姿态变换机构35的姿态变换部63的侧视图。
参照图13A。为了在使升降机LF9的基板保持部65下降后，使由基板保持部65保持的基板W浸渍在液体中，实施例3的第二姿态变换机构35具备贮存液体的待机槽112和将作为液体的例如纯水(DIW)供给至待机槽112的两根喷出管114。喷出管114沿前后方向X或者宽度方向Y呈直线状延伸地设置。喷出管114在喷出管114所延伸的方向上具备多个喷出口114A(保持部用喷嘴)。多个喷出口114A分别喷出纯水。待机槽112贮存由喷出管114喷出的纯水。
例如，如图8C所示，在姿态变换部63正对基板W1进行姿态变换等时，使待机中的基板W2浸渍在待机槽112内的纯水中，能够防止基板W2的烘干。
此外，待机槽112也可以不贮存纯水。在该情况下，喷出管114的喷出口114A也可以向由基板保持部65保持的基板W呈喷淋状或雾状地供给纯水。并且，喷出口114A(喷出管114)也可以如图13A的虚线所示地配置于比基板W高的位置。在向基板W呈喷淋状或雾状地供给纯水的情况下，可以设置待机槽112，也可以不设置待机槽112。
接下来，参照图13B。第二姿态变换机构35具备喷嘴116。向由姿态变换部63的铅垂保持部80、82保持的基板W呈喷淋状或雾状地供给作为液体的例如纯水(DIW)。喷嘴116设置于比基板W高的位置。并且，喷嘴116也可以构成为能够以不与姿态变换部63干涉的方式移动。
例如，纵向旋转部94使由铅垂保持部80、82保持的基板W的姿态成为铅垂姿态以及倾斜姿态的一方。在该状态下，喷嘴116向由铅垂保持部80、82保持的基板W供给喷淋状或雾状的纯水。此外，倾斜姿态是基板的设备面朝向上方的姿态。
例如，在中心机器人CR中断基板W的搬运后，能够防止由姿态变换部63保持的基板W的烘干。并且，在供给时，若基板W的姿态为水平姿态，则喷淋状或雾状的纯水难以到达设备面的整个面。但是，通过使基板W的姿态成为铅垂姿态以及设备面朝向上方的倾斜姿态的一方，喷淋状或雾状的纯水容易到达设备面的整个面。
此外，基板处理装置1也可以采用图13A所示的结构和图13B所示的结构双方。并且，基板处理装置1也可以仅采用图13A所示的结构和图13B所示的结构的一方。并且，喷嘴116相当于本发明的姿态变换部用喷嘴。
若在单张处理室SW2的烘干处理之前，基板W烘干，则产生基板W的图案倒塌。但是，根据本实施例，能够防止由推动件107保持的基板W的烘干。并且，能够防止由姿态变换部63的两个铅垂保持部80、82保持的基板W的烘干。
本发明不限定于上述实施方式，能够如下变形来实施。
(1)在上述的各实施例中，例如图1中，第二姿态变换机构35的基板待机区域R31与批处理区域R1相邻，姿态变换执行区域R32与移载块5相邻。即，第二姿态变换机构35的基板待机区域R31以及姿态变换执行区域R32在前后方向X上配置。关于这一点，也可以如图14所示，基板待机区域R31以及姿态变换执行区域R32在宽度方向Y上配置。
在该情况下，姿态变换执行区域R32配置于单张基板搬运区域R4的左方Y。基板待机区域R31配置于姿态变换执行区域R32的左方Y。
(2)在上述的各实施例以及各变形例中，各批处理槽BT1～BT6对以半间距且面对面方式配置的50张基板W进行处理。关于这一点，各批处理槽BT1～BT6也可以对以所有基板W的设备面朝向相同方向的面对背方式配置的基板W进行处理。各批处理槽BT1～BT6也可以对以全间距配置的一个载具C份儿的25张基板W进行处理。此外，在图11B中50张基板W以面对背方式配置的情况下，Y方向移动部102使两个夹具71、72沿基板W所排列的宽度方向Y移动。即，Y方向移动部102使两个夹具71、72在第一基板保持位置与第二基板保持位置之间移动。由此，姿态变换部63能够提取25张基板W1或25张基板W2。
(3)在上述的各实施例以及各变形例中，单张处理室SW2使用超临界流体进行基板W的烘干处理。关于这一点，单张处理室SW2也可以与单张处理室SW1相同地具备旋转处理部45和喷嘴47。在该情况下，单张处理室SW1、SW2分别例如在将纯水以及IPA依次供给至基板W之后，进行基板W的烘干处理(旋转烘干)。
(4)在上述的各实施例以及各变形例中，例如在步骤S13中，当姿态变换部63从基板保持部65接收基板W时，作为相对升降部的升降部67使基板保持部65升降。关于这一点，姿态变换部63也可以具备升降部而使两个夹具71、72以及臂部支撑部78等升降，从而从基板保持部65接收基板W。此外，在姿态变换部63从基板保持部65接收基板W时，也可以使姿态变换部63的升降部和升降部67一起升降。
(5)在上述的各实施例以及各变形例中，开闭部87使两个铅垂保持部80、82沿水平方向呈直线状地移动。关于这一点，开闭部87也可以使两个铅垂保持部80、82摆动。
本发明能够在不脱离其思想或者本质的情况下以其它具体的形式实施，因此，不应该参照以上的说明而应该参照附加的权利要求来示出发明的范围。

Claims (8)

1.一种基板处理装置，连续地进行一并处理多张基板的批处理和逐张地处理基板的单张处理，其特征在于，具备：
批处理槽，其一并处理多张基板；
成批基板搬运机构，其向上述批处理槽一并搬运铅垂姿态的上述多张基板；
单张处理室，其逐张地处理基板；
水平基板搬运机构，其向上述单张处理室逐张地搬运水平姿态的基板；以及
姿态变换机构，其将批处理后的上述多张基板从垂直姿态变换为水平姿态，
上述姿态变换机构具备：
基板保持部，其保持由上述成批基板搬运机构搬运且以预定间隔配置的铅垂姿态的上述多张基板；以及
姿态变换部，其从上述基板保持部接收上述多张基板，并且将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，
上述姿态变换部具备：
两个水平保持部，其收纳上述多张基板所包含的各基板的在半径方向上对置的两个侧部，并且在上述多张基板为水平姿态的情况下，上述两个水平保持部以预定间隔载置上述多张基板；
两个铅垂保持部，其收纳上述多张基板所包含的各基板的两个侧部，并且在上述多张基板为铅垂姿态的情况下，上述两个铅垂保持部设置于上述水平保持部的下方并以铅垂姿态保持上述多张基板；
开闭部，其使上述两个铅垂保持部在保持位置与通过位置之间移动，其中，上述保持位置是为了使用上述两个铅垂保持部来保持上述多张基板而缩小上述两个铅垂保持部的间隔的位置，上述通过位置是为了使各基板在上述两个铅垂保持部之间通过而扩大上述两个铅垂保持部的间隔的位置；
支撑部，其支撑上述两个水平保持部和上述两个铅垂保持部；
纵向旋转部，其为了使上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，以上述两个铅垂保持部朝向上述水平基板搬运机构的方式使上述支撑部绕水平轴旋转；以及
移动部，其使上述支撑部及上述纵向旋转部遍及配置有上述基板保持部的基板待机区域和用于将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态的姿态变换执行区域地移动，
在铅垂姿态的上述多张基板由上述基板保持部保持时，上述移动部使上述支撑部以及上述纵向旋转部移动至上述基板待机区域，
上述两个铅垂保持部通过由上述开闭部移动至上述保持位置，对由上述基板保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板进行保持，并且上述两个水平保持部收纳由上述两个铅垂保持部保持的上述多张基板，
在由上述两个铅垂保持部保持上述多张基板的状态下，上述移动部使上述支撑部以及上述纵向旋转部移动至上述姿态变换执行区域，
上述纵向旋转部使上述支撑部绕上述水平轴旋转，来将上述多张基板从铅垂姿态变换为水平姿态，
在上述多张基板变换为水平姿态后，上述开闭部使上述两个铅垂保持部移动至上述通过位置，
上述水平基板搬运机构一边在移动至上述通过位置的上述两个铅垂保持部之间通过，一边从水平姿态的上述多张基板逐张地取出基板，并将取出的基板搬运至上述单张处理室。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述姿态变换部还具备横向旋转部，该横向旋转部使上述支撑部绕沿与上述多张基板所排列的方向正交且与上述水平轴正交的方向延伸的旋转轴旋转，
上述移动部使上述支撑部、上述横向旋转部以及上述纵向旋转部移动。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
上述姿态变换机构还具备使上述基板保持部绕铅垂轴旋转的第二横向旋转部。
4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述两个铅垂保持部具备分别保持一张基板的多对保持槽和分别使一张基板通过的多对通过槽，
上述多对保持槽以及上述多对通过槽各一对地交替配置，
上述两个铅垂保持部由上述开闭部移动至上述保持位置，利用上述多对保持槽对由上述基板保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板中的每隔一张排列的第一分割基板组进行保持，并且上述两个水平保持部收纳上述第一分割基板组。
5.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
为了使由上述基板保持部保持的上述多张基板浸渍在液体中，上述姿态变换机构还具备贮存上述液体的待机槽。
6.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述姿态变换机构还具备姿态变换部用喷嘴，该姿态变换部用喷嘴呈喷淋状或雾状地向由上述姿态变换部的上述两个铅垂保持部保持的上述多张基板供给液体。
7.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述移动部设置于比由上述两个铅垂保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板高的位置。
8.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
上述水平轴设置于比由上述两个铅垂保持部保持的铅垂姿态的上述多张基板高的位置，
上述支撑部隔着上述两个水平保持部从上述两个铅垂保持部的相反侧支撑上述两个水平保持部和上述两个铅垂保持部。
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