KR102375478B1 - 중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법 - Google Patents

중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것으로, 상기 중합체 입자는 현탁중합법의 간단한 공정으로 제조할 수 있으며, 비교적 가교도 조절이 용이하다는 장점이 있다. 또한, 상기 중합체 입자를 포함하는 소광제를 사용하여 소광성 고분자 조성물을 제조할 경우, 기존 열가소성 고분자의 충격강도 및 인장강도와 같은 기계적 특성을 저하하지 않고, 수려한 외관을 가지면서, 우수한 소광효과를 갖는 성형품을 제조할 수 있으며, 특히, 종래에 달성하기 어려웠던 압출가공에서도 우수한 소광효과를 발현할 수 있다.

Description

중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법 {A matting agent comprising suspension polymer particles, a matting polymer composition comprising the same, and a manufacturing method thereof}
본 발명은 중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
전기차가 보편화되면서 자동차 산업에서는 경량화 이슈가 더욱 중요해지고 있으며 이를 위한 다양한 노력이 시도되고 있다. 대표적으로는 차체의 금속 소재를 가볍고 고강도의 엔지니어링 플라스틱으로 대체하거나, 기존 볼트 너트의 조합으로 접합되던 부분을 접착제로 고정하는 등 금속 소재를 제거하려는 시도들이다.
또한, 자동차 내/외장재를 도장하여 다양한 색감 및 질감을 표현하던 것에서, 경량화 이슈, 환경적 이슈, 도장면의 빛 반사로 인한 운전자 운행 문제 및 인테리어의 고급화 등으로 인하여 저광택 또는 무광택의 질감을 갖는 제품에 대한 선호도가 높아지고 있는 추세이다.
광택을 저하시키기 위한 방법으로, 수지를 부식면 금형에 사출할 수 있지만 이는 충분한 소광효과를 내지 못하고, 또는 무기필러를 첨가할 수 있지만 과량을 사용해야 충분한 소광효과를 발휘할 수 있으며, 과량 사용시 기계적 강도가 미흡해지기 때문에 매우 제한적으로 사용되고 있다.
미국 공개특허 US 5580924 A에서는 PC의 광택도를 저하시키기 위하여, 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체를 합성하고 이를 3,4-에폭시사이클헥실-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트와 블랜드하여 반응압출기를 통해 가교화된 SAN을 제조하였지만, 상기 선행기술은 반응 압출시에 흑점 등과 같은 표면이물이 발생하고, 색상 개선이 어려우며, 가교점 조절이 어려워 가공시 용해되지 못하고 외관불량이 발생하는 등 우수한 품질의 성형품을 제조하는데 한계가 있다.
따라서, 소광효과가 우수하며, 기계적 물성 저하가 없으며, 우수한 품질의 외관을 나타낼 수 있는 소광성 첨가제에 대한 연구개발이 절실히 요구된다.
상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 현탁중합을 이용하여 중합체 입자를 제조하고, 이를 포함하는 소광제를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 다른 목적은 상기 소광제를 포함하는 소광성 고분자 조성물을 제공하는 것이고, 상기 조성물을 압출 또는 사출가공하여, 우수한 소광효과, 기계적 물성 및 우수한 외관 품질을 갖는 성형품을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기의 문제점을 해결하기 위하여 종래에는 시도되지 못했던 현탁중합법으로 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 중합성 조성물로부터 중합체 입자를 제조하였다. 상기 중합체 입자는 비교적 용이하게 가교도를 조절할 수 있으며, 이를 포함하는 소광제 및 소광성 고분자 조성물의 경우, 놀랍게도 기존 열가소성 고분자의 물성은 저하시키지 않으면서, 소량의 첨가만으로도 우수한 소광효과를 나타낼 수 있고, 우수한 외관품질을 갖는 성형품을 제조할 수 있음을 발견하여 본 발명을 완성하였다.
본 발명은 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 중합성 조성물로부터 제조되며, 평균 입경은 1 내지 5000㎛이고, 상기 지환족 에폭시 화합물의 에폭시기는 개환된 것인 중합체 입자를 제공한다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합체 입자는 현탁중합하여 제조될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 지환족 에폭시 화합물은 2개 이상의 에폭시기를 가지는 것일 수 있고, 상기 지환족 에폭시 화합물은 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트, 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 2-에틸-1,3-헥산디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 3-메틸-1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 옥살레이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 숙시네이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트 및 1,2,8,9-디에폭시리모넨으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 20 내지 45 중량부 및 지환족 에폭시 화합물을 2.5 내지 25 중량부로 포함하여 제조될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함하며, 상기 R1 및 R2는 독립적으로 C6-30 알킬, C6-30 아릴 또는 C6-30아르C6-30알킬일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 상기 산 화합물을 0.05 내지 1 중량부로 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합체 입자는 2가의 -SO3-를 포함할 수 있다.
본 발명은 상기 중합체 입자를 포함하는 소광제를 제공할 수 있다.
본 발명은 상기 소광제를 포함하는 마스터배치 칩을 제공할 수 있다.
본 발명은 상기 소광제 및 열가소성 고분자를 포함하는 소광성 고분자 조성물을 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 열가소성 고분자는 폴리프로필렌(PP), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리아마이드(polyamide), 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(SAN) 아크릴로니트릴-부타디엔-스타이렌(ABS), 아크릴로니트릴-스타이렌-아크릴레이트(ASA) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있다.
본 발명은 상기 소광성 고분자 조성물을 압출 또는 사출하여 제조한 성형품을 제공할 수 있다.
본 발명은 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함한 중합성 조성물을 현탁안정제를 포함하는 수용액에 분산시키는 단계; 및 상기 분산된 중합성 조성물을 현탁중합하는 단계;를 포함하는 중합체 입자의 제조방법을 제공할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 중합체 입자의 제조방법에서, 상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 20 내지 45 중량부 및 지환족 에폭시 화합물을 2.5 내지 25 중량부로 포함할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 중합체 입자의 제조방법에서, 상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함하며, 상기 R1 및 R2는 독립적으로 C6-30 알킬, C6-30 아릴 또는 C6-30아르C6-30알킬일 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따른 중합체 입자의 제조방법에서, 상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 상기 산 화합물을 0.05 내지 1 중량부로 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 중합체 입자는 현탁중합법의 간단한 공정을 통해 제조할 수 있으며, 비교적 가교도 조절이 용이하다는 장점이 있다. 또한, 상기 중합체 입자를 포함하는 소광제를 사용하여 소광성 고분자 조성물을 제조할 경우, 다른 물성저하 없이 효과적으로 소광성을 발휘할 수 있어 좋다.
또한, 상기 소광성 고분자 조성물의 경우, 기존 열가소성 고분자의 충격강도 및 인장강도와 같은 기계적 특성을 저하하지 않고, 수려한 외관을 가지면서, 우수한 소광효과를 갖는 성형품을 제조할 수 있으며, 특히, 종래에 달성하기 어려웠던 압출가공에서도 우수한 소광효과를 발현할 수 있어 매우 좋다.
본 발명의 소광제 및 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물을 이용하여 자동차 내/외장재용, 인테리어용 및 가전제품용 등의 다양한 제품군에 적용할 수 있다.
이하 첨부된 도면들을 포함한 구체예 또는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 구체예 또는 실시예는 본 발명을 상세히 설명하기 위한 하나의 참조일 뿐 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 여러 형태로 구현될 수 있다.
또한 달리 정의되지 않는 한, 모든 기술적 용어 및 과학적 용어는 본 발명이 속하는 당업자 중 하나에 의해 일반적으로 이해되는 의미와 동일한 의미를 갖는다. 본 발명에서 설명에 사용되는 용어는 단지 특정 구체예를 효과적으로 기술하기 위함이고 본 발명을 제한하는 것으로 의도되지 않는다.
또한 명세서 및 첨부된 특허청구범위에서 사용되는 단수 형태는 문맥에서 특별한 지시가 없는 한 복수 형태도 포함하는 것으로 의도할 수 있다.
또한 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서의 용어 "소광성"은 비상용성 고분자 조성물에서 고분자간 및 고분자와 첨가제간의 수축률 및 굴절률 차이 또는 표면 가공을 통하여 난반사 효과에 의해 광택을 낮추는 성질을 의미한다.
본 명세서의 용어 "분산상"은 분산매질 전체에 걸쳐 분포된 불연속상을 의미하며, 구체적으로 물을 매질로 하여 중합성 조성물이 액적(drop-let)형태로 분포된 불연속상을 의미할 수 있다.
이하, 본 발명의 중합체 입자를 포함하는 소광제, 이를 포함하는 소광성 고분자 조성물 및 이의 제조방법에 대하여 바람직한 실시형태 및 물성측정 방법을 상세히 설명한다.
본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이고, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
이하, 본 발명의 일 실시예에 관하여 보다 상세히 설명한다.
본 발명은 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 중합성 조성물로부터 제조되며, 평균 입경은 1 내지 5000㎛이고, 상기 지환족 에폭시 화합물의 에폭시기는 개환된 것인 중합체 입자를 제공한다.
상기 중합체 입자의 평균 입경은 D50을 의미하는 것일 수 있고, 상기 D50은 레이저 산란법에 의한 입도 분포 측정에서 작은 입경부터 누적 체적이 50%가 될 때의 입자 직경을 의미한다. 여기서 D50은 중합체 입자에 대해 KS A ISO 13320-1 규격에 따라 입자를 채취하여 Malvern사의 Mastersizer 3000을 이용하여 입도 분포가 측정될 수 있다. 구체적으로 물을 분산매로 하고 필요한 경우 초음파 분산기를 사용하여 분산시킨 뒤, Volume density를 측정할 수 있으나, 본 발명이 이에 한정되는 것은 아니며, 평균 입경을 측정하기 위하여 통상적으로 사용하거나 공지된 방법을 이용할 수 있다.
구체적으로 상기 중합체 입자의 평균 입경은 1 내지 5000㎛, 5 내지 2000㎛ 또는 10 내지 1500㎛ 일 수 있고, 좋게는 50 내지 1000 ㎛일 수 있다. 상기 범위의 평균입경을 갖는 중합체 입자의 경우, 소량의 첨가만으로 다른 물성을 저하시키지 않고 우수한 소광효과를 발현할 수 있어 좋다. 또한, 상기 중합체 입자는 비교적 구상의 형상을 가질 수 있으며, 이를 이용하여 양호한 외관품질을 갖는 성형품을 제조할 수 있어 좋다.
상기 중합체 입자에 포함되는 지환족 에폭시 화합물의 에폭시기는 개환된 상태일 수 있고, 구체적으로 상기 개환된 에폭시기는 상기 중합성 조성물에 포함되는 다른 화합물들과 반응하여 개환된 것일 수 있다. 더욱 구체적으로 지환족 에폭시 화합물은 중합체와 화학적으로 결합되어 중합체 입자 내에 포함되는 것일 수 있으나 반드시 이에 제한되지는 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합체 입자는 현탁중합하여 제조된 것일 수 있다. 종래기술에서 발생했던 문제점을 해결하기 위하여 현탁중합을 이용하여 현탁중합체 입자를 제조할 수 있으며, 이를 이용할 경우 가교도 조절이 용이하여 우수한 외관 품질을 갖는 성형품을 제조할 수 있으며, 소량 첨가만으로 우수한 소광효과를 발휘할 수 있어 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 방향족 비닐 화합물은 비제한적인 예로 스티렌, α-메틸 스티렌, o-메틸 스티렌, ρ-메틸 스티렌, m-메틸 스티렌, 에틸 스티렌, 이소부틸 스티렌, t-부틸 스티렌, o-브로보 스티렌, ρ-브로모 스티렌, m-브로모 스티렌, o-클로로 스티렌, ρ-클로로 스티렌, m-클로로 스티렌, 비닐톨루엔, 비닐크실렌, 플루오로스티렌 및 비닐나프탈렌 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있고, 좋게는 스티렌을 사용할 수 있다.
상기 불포화 니트릴 화합물은 비제한적인 예로 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 에타크릴로니트릴, 페닐아크릴로니트릴 및 α-클로로아크릴로니트릴 등으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상일 수 있고, 좋게는 아크릴로니트릴을 사용할 수 있다.
바람직하게 상기 지환족 에폭시 화합물은 2개 이상의 에폭시기를 가질 수 있고, 구체적으로 상기 지환족 에폭시 화합물은 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트, 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 2-에틸-1,3-헥산디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 3-메틸-1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 옥살레이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 숙시네이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트 및 1,2,8,9-디에폭시리모넨 등으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있으며, 좋게는 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트를 사용할 수 있다. 다른 예로는 시중에서 판매하는 제품으로는 다이셀켐의 CEL-2021, CLE-3000 및 CEL-2081 등을 사용할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 1 내지 90 중량부, 좋게는 10 내지 70 중량부, 더 좋게는 20 내지 45 중량부를 포함할 수 있으며, 상기 지환족 에폭시 화합물을 0.1 내지 50 중량부, 좋게는 1 내지 40 중량부, 더 좋게는 2.5 내지 25 중량부 또는 5 내지 20 중량부로 포함할 수 있다. 상기 범위를 만족할 경우, 반응안정성을 유지할 수 있고, 본 발명에서 목적으로 하는 물성을 갖는 중합체 입자를 제조할 수 있어 좋으며, 이를 포함하는 소광제를 소량 첨가하여도 소광효과가 효과적으로 발휘될 수 있어 더욱 좋다.
또한, 상기 방향족 비닐 화합물은 상기 중합성 조성물 전제 중량의 50 내지 90 wt%로 포함될 수 있으며, 좋게는 65 내지 80 wt%로 포함될 수 있고, 불포화 니트릴 화합물은 10 내지 50 wt%, 좋게는 20 내지 35 wt%로 포함될 수 있다. 상기 범위를 만족할 경우, 소광효과가 더욱 효과적으로 발휘될 수 있고, 황변 현상을 억제할 수 있으며, 색상 구현 성능도 향상될 수 있어 더욱 선호될 수 있지만, 본 발명에서 목적으로 하는 물성을 저해하지 않는다면 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함할 수 있으며, 상기 R1 및 R2는 독립적으로 C6-30 알킬, C6-30 아릴 또는 C6-30아르C6-30알킬일 수 있고, 또한, 상기 산 화합물의 염 화합물은 R1COOM 및 R2SO3M으로 표시될 수 있으며, 상기 R1 및 R2은 상기 서술한 바와 동일하고, M은 양이온일 수 있다. 상기 M은 알칼리금속 양이온 또는 암모늄 양이온일 수 있고, 비제한적인 예로 M은 소듐이온, 포타슘이온, 리튬이온으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
바람직하게 상기 산 화합물은 R2SO3H 이고, 상기 R2는 C6-12아르C6-18알킬일 수 있으며, 일예로 부틸벤젠술폰산, 옥틸벤젠술폰산, 도데실벤젠술폰산 및 펜타데실벤젠술폰산 등에서 선택되는 것일 수 있지만, 이에 제한되지 않는다. 상기 산 화합물은 상기 중합성 조성물의 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 0.005 내지 5 중량부, 좋게는 0.05 내지 1 중량부로 포함할 수 있다.
또한, 상기 중합체 입자는 2가의 -SO3- 또는 -CO3- 치환기를 포함할 수 있으며, 구체적으로 -SO3- 치환기를 포함할 수 있다. 상기 2가의 치환기는 중합성 조성물에 포함된 산 화합물과 지환족 에폭시 화합물이 반응하여 형성된 것일 수 있으며 2가의 치환기는 하이드로카빌기에 각각 결합된 것일 수 있다. 상기 2가의 치환기는 고분자 사슬에 결합되어 포함되는 것일 수 있다. 또한, 상기 2가의 치환기는 중합체 입자의 표면에 주로 존재하여 중합체 입자의 표면에서 중합체 내부 방향으로 2가의 치환기의 농도가 감소하는 농도구배를 가질 수 있다. 상기 농도구배는 현탁중합 메커니즘에 의해 유래된 것일 수 있다. 구체적으로 산 화합물이 분산상의 계면에 위치함에 따라 계면에 위치하는 산 화합물과 지환족 에폭시 화합물이 계면에서 반응을 통해 중합체 입자의 표면에 상기 2가의 치환기가 고농도로 존재할 수 있다. 상기 구조를 갖는 중합체 입자는 현저한 소광효과를 발휘할 수 있어 더욱 좋다.
구체적으로 상기 중합성 조성물은 물(매질)과 혼합되어 분산상을 형성할 수 있으며, 상기 산 화합물 이의 염 화합물은 분산상과 수상의 계면에 위치하며 상기 중합성 조성물이 중합되는 것일 수 있다. 상기 중합성 조성물에 상기 산 화합물을 더 첨가하여 현탁중합하는 경우, 반응성을 효과적으로 향상시킬 수 있고, 견고한 가교네트워크를 형성한 중합체 입자를 제조할 수 있어 매우 좋다.
본 발명은 상기 중합체 입자를 포함하는 소광제를 제공할 수 있다. 현탁중합을 완료한 후, 상기 중합체 입자는 비드(bead)형태로 수득되며, 이를 탈수 및 건조하여 소광제로 사용하는 것일 수 있다.
본 발명은 상기 소광제를 포함하는 마스터배치 칩(Master Batch Chip)을 제공할 수 있다. 상기 마스터 배치 칩은 열가소성 고분자 및 소광제를 포함할 수 있고, 추가로 산화방지제, UV 흡수제, UV 안정제, 활제 및 이들 혼합물 등으로 이루어진 군으로부터 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 첨가제를 더 포함하는 것일 수 있다. 상기 첨가제는 일반적으로 사용되거나 공지된 것이라면 제한없이 사용할 수 있다. 상기 소광제는 마스터배치 칩 전체 중량에서 0.1 내지 50 wt%, 좋게는 5 내지 30 wt%로 포함되는 것일 수 있다. 상기 범위의 마스터 배치 칩을 사용할 경우, 소광제 및 첨가제의 분산성 및 함량의 균일성이 향상되어 고품질의 제품(성형품)을 제조할 수 있어 좋다.
본 발명은 상기 소광제 및 열가소성 고분자를 포함하는 소광성 고분자 조성물을 제공할 수 있다. 상기 소광제는 소량의 첨가만으로 기존 열가소성 고분자의 물성을 저하시키지 않으면서 효과적으로 소광성을 발현할 수 있으며, 조밀한 가교도를 가져 상기 열가소성 고분자와의 분산성이 우수하다. 이를 통해 종래기술의 문제점을 해결할 수 있으며, 상기 소광성 고분자 조성물을 압출 및 사출가공하여 기계적강도가 우수한 저광택 또는 무광택의 제품을 제조할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 열가소성 고분자는 폴리프로필렌(PP), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리아마이드(polyamide), 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(SAN) 아크릴로니트릴-부타디엔-스타이렌(ABS), 아크릴로니트릴-스타이렌-아크릴레이트(ASA) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상일 수 있고, 구체적으로 PC와 SAN의 혼합물, PC와 ABS의 혼합물, 또는 PC와 ASA의 혼합물을 사용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 소광성 고분자 조성물은 상기 소광제 0.1 내지 30wt% 및 상기 열가소성 고분자 70 내지 99.9 wt%로 포함되는 것일 수 있지만, 이에 제한되지 않으며, 제조하고자 하는 제품의 표면광택도에 따라 상기 소광제 투입량이 조절될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 소광성 고분자 조성물은 목적 및 용도에 따라, 당해 기술분야에서 일반적으로 사용되는 첨가제를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 산화방지제, UV 흡수제, UV 안정제, 활제 등을 더 포함할 수 있다. 이 때, 상기 첨가제들은 본 발명이 목적으로 하는 물성을 저해하지 않는 범위 내에서 적절한 함량으로 포함될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 소광제는 열가소성 고분자를 포함하여 마스터배치 칩으로 제조된 후에 다시 열가소성 고분자와 혼합될 수 있으며, 상기 마스터배치 칩은 첨가제를 더 포함하는 것일 수 있다. 상기 마스터배치 칩은 상기 소광성 고분자 조성물 전체 중량에서 0.1 내지 50 wt%, 좋게는 1 내지 30 wt%로 포함되는 것일 수 있으며, 상기 마스터 배치 칩의 투입량을 조절하여 최종적으로 제조되는 제품에서의 소광제 함량을 결정할 수 있다.
본 발명은 상기 소광성 고분자 조성물을 압출 또는 사출하여 제조한 성형품을 제공할 수 있다. 종래에 압출가공시 소광효과가 우수한 성형품을 제조하기 매우 어려웠지만, 본 발명의 중합체 입자를 포함하는 소광제를 적용한 소광성 고분자 조성물의 경우 특히 압출가공에서 입자 돌출로 인한 외관불량 현상을 효과적으로 억제할 수 있을 뿐만이 아니라, 기존 고분자의 기계적 특성을 저해하지 않으면서도 우수한 소광성 및 우수한 품질의 외관을 갖는 성형품을 제조할 수 있어 매우 좋다.
이하, 본 발명에 따른 중합체 입자의 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.
본 발명은 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함한 중합성 조성물을 현탁안정제를 포함하는 수용액에 분산시키는 단계; 및 상기 분산된 중합성 조성물을 현탁중합하는 단계;를 포함하는 중합체 입자의 제조방법을 제공할 수 있다.
상기 현탁중합은 본 발명에서 목적으로 하는 중합체 입자를 제조할 수 있다면, 공지되거나 통상적으로 사용하는 방법을 포함하여 제한없이 사용할 수 있다. 또한, 상기 중합성 조성물, 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물에 대한 구체적인 화합물의 예시 및 함량 등에 대한 구체적인 설명은 앞서 설명한 바와 동일하다.
본 발명의 일 실시예에 따른 중합체 입자의 제조방법에서, 상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함할 수 있고, 상기 산 화합물에 대한 자세한 설명 및 구체적인 화합물의 예는 앞서 설명한 바와 동일하다.
또한, 상기 중합성 조성물에 가교제가 더 포함될 수 있다. 상기 가교제는 가교 가능한 관능기가 두 개 이상인 것이라면 크게 제한되지 않고 사용할 수 있고, 가교제에 대한 자세한 설명 및 구체적인 화합물의 예는 앞서 설명한 바와 동일하다.
또한, 상기 중합성 조성물에 분자량을 조절하기 위하여 분자량 조절제를 더 포함할 수 있다. 상기 분자량 조절제는 n-도데실메르캅탄, n-아밀 메르캅탄, t-부틸메르캅탄, t-도데실메르캅탄, n-헥실메르캅탄, n-옥틸메르캅탄, n-노닐메르캅탄 등을 사용할 수 있으며, 상기 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여 0.001 내지 10 중량부, 좋게는 0.01 내지 5 중량부를 사용할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 중합성 조성물을 현탁안정제를 포함하는 수용액에 분산시키는 단계는 탈이온수에 현탁안정제를 용해시킨 수용액에 중합성 조성물, 산 화합물 및 개시제를 투입하고 상온에서 교반 및 분산시켜 중합성 현탁액을 제조하는 단계로, 충분한 시간 및 교반속도로 분산시키는 것이 바람직할 수 있으며, 상기 중합성 현탁액의 분산성이 안정할수록 반응안정성이 좋을 수 있다. 이에 시간 및 교반속도는 크게 제한되지 않지만, 일예로 2L 반응기 크기일 때, 500rpm이상의 교반속도로 10분 이상의 교반시간을 두는 것이 좋다. 이때, 상기 중합성 현탁액은 통상적으로 사용되거나 공지된 현탁 안정 보조제, 버퍼(pH 조절제) 및 분자량 조절제 등을 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 분산 단계에서 탈이온수(수상)를 매질로 상기 중합성 조성물이 분산상을 형성하고 있으며, 상기 분산상의 액적이 균일하게 퍼질 수 있도록 충분히 교반하는 것이 좋다. 또한, 수상과 분산상의 계면에 상기 현탁안정제 및 산 화합물 또는 이의 염 화합물이 위치할 수 있으며, 외부 온도 조건에 따라 상기 분산상 내부에 있는 개시제가 개시되어, 상기 분산상 내부 및 해당 계면에서 상기 중합성 조성물의 중합이 이루어지는 것일 수 있다.
상기 분산된 중합성 조성물을 현탁중합하는 단계는 반응기 내부 온도를 50 내지 70℃로 상승시켜 반응을 개시하는 단계로, 반응이 진행됨에 따라 발열이 발생할 수 있으며, 이를 냉각기를 이용하여 반응기 온도를 65 내지 75℃로 일정하게 유지하는 것이 바람직하다. 상기 반응시간은 1 내지 5시간일 수 있다. 또한, 상기 중합 단계는 추가중합 단계를 1회 또는 2회 이상 더 포함할 수 있으며, 예를 들어 60 ℃ 내지 75 ℃의 온도에서 30분 내지 5시간 동안 추가 중합을 하고 이어서 80 ℃ 내지 95 ℃의 온도에서 30분 내지 6시간 동안 추가 중합을 수행하는 것일 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다.
또한, 반응 종결 후에는 탈수 및 건조 공정을 거쳐 수분 함유량이 0.5wt% 이하인 백색 분말 상태의 중합체 입자를 수득할 수 있다. 상기 제조된 중합체 입자에 대한 구체적인 설명은 앞서 서술한 바와 동일하다.
상기 현탁안정제는 상기 분산상인 중합성 조성물과 탈이온수인 수성 사이의 계면에너지를 낮추어 더욱 균일한 분산상이 유지되어 안정적인 중합성 현탁액을 제조할 수 있도록 해주며, 따라서 현탁중합이 안정적으로 진행될 수 있다. 상기 현탁안정제는 본 발명에서 목적으로 하는 중합체 입자를 제조할 수 있다면, 크게 제한되지 않는다.
상기 현탁안정제는 유기 및 무기 현탁안정제를 모두 사용할 수 있고, 비제한적인 예로 상기 현탁 안정제로는 아크릴산이나 메타크릴산의 단일 중합체 또는 공중합체, 폴리알킬아크릴레이트-(메타)아크릴산(폴리에틸아크릴레이트-아크릴산, 폴리에틸아크릴레이트-메타아크릴산 및 폴리에틸헥실아크릴레이트-아크릴산 등), 폴리올레핀-말레인산, 폴리비닐알코올, 셀룰로오스 등을 포함하는 유기 현탁 안정제;　트리칼슘포스페이트　등을 포함하는 무기 현탁 안정제; 이들의 혼합물 등을 들 수 있지만, 이에 제한되는 것은 아니고, 상기 (메타)아크릴산은 나트륨, 칼륨 또는 암모늄의 염 형태일 수 있다. 또한, 상기 중합성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 내지 3 중량부, 좋게는 0.05 내지 0.5 중량부로 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
상기 현탁 안정 보조제로는 디소듐 하이드로겐 포스페이트 및 소듐 디하이드로겐 포스페이트 등이 사용될 수 있으며, 수용성 고분자나 단량체의 용해도 특성을 제어하기 위해 소듐 설페이트 등이 첨가될 수도 있지만, 이에 제한되지 않는다.
상기 산 화합물에 대한 설명 및 구체적인 화합물의 예시는 앞서 설명한 바와 동일하다.
또한, 상기 중합성 조성물에서 상기 지환족 에폭시 화합물 및 상기 산 화합물의 중량비는 1 : 0.001 내지 0.5, 좋게는 1 : 0.005 내지 0.2, 더 좋게는 1 : 0.01 내지 0.1일 수 있다. 상기 범위를 만족할 경우, 반응안정성이 유지될 수 있고, 중합체 입자를 비교적 구상으로 제조할 수 있어 좋고, 상기 현탁중합제 입자를 소광제로 사용할 경우, 기계적 물성저하 없이도 소량의 첨가만으로 소광효과 및 외관품질이 향상된 성형품을 제조할 수 있어 바람직하다.
본 발명의 일 실시예에 따라, 상기 개시제는 상기 중합성 조성물에 용해되는 유용성 개시제일 수 있지만, 일반적으로 현탁중합에 사용되는 개시제이거나 공지된 화합물이라면 특별한 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 라디칼 중합 개시제일 수 있으며, 비제한적인 예로 옥탄오일 퍼옥사이드, 데칸오일 퍼옥사이드, 라우로일 퍼옥사이드, 벤조일 퍼옥사이드, 모노클로로벤조일 퍼옥사이드, 디클로로벤조일 퍼옥사이드, p-메틸벤조일 퍼옥사이드, tert-부틸 퍼벤조에이트, 아조비스이소부틸로니트릴 및 아조비스-(2,4-디메틸)-발레로니트릴 등을 사용할 수 있으나, 이에 제한되는 것은 아니다. 상기 중합성 조성물 100 중량부에 대하여 0.01 내지 5 중량부, 좋게는 0.05 내지 0.5 중량부로 포함할 수 있지만, 이에 제한되지 않는다.
이하, 실시예 및 비교예를 바탕으로 본 발명을 더욱 상세히 설명한다. 다만 하기 실시예 및 비교예는 본 발명을 더욱 상세히 설명하기 위한 하나의 예시일 뿐, 본 발명이 하기 실시예 및 비교예에 의해 제한되는 것은 아니다.
[물성측정방법]
1) 평균 입경 : 입도분석장치 (Malvern사 Mastersizer 3000)를 이용하여 측정하였다.
2) 표면 광택도(GLOSS) : ASTM D523에 의거하여 60°및 85°에서 측정하였다.
3) IZOD 충격강도(Noched IZOD Impact strength) : 충격강도를 ASTM D256에 의거하여 1/4” 및 1/8”에서 측정하였다.
4) 인장강도(tensile strength) : 인장강도를 ASTM D638에 의거하여 측정하였다.
-중합체 입자 제조
[실시예 1]
반응기에 탈이온수 150g 및 트리칼슘포스페이트 2.0g을 투입하여 교반하여 용해시켰다. 이후 스티렌 65g, 아크릴로니트릴 26g, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트 9g, 도데실벤젠술폰산 0.25g 및 아조비스이소부틸로니트릴 0.15g을 포함하는 중합성 조성물을 반응기에 투입하여 500 rpm이상의 교반속도로 30분 이상 교반하였다. 상기 현탁액의 분산 안정성을 확인한 후에 질소분위기 하에서 65 ℃로 승온 및 교반하며 3시간 동안 현탁중합을 진행하였다. 이후 70 ℃로 1시간 동안 승온하였고 다시 3시간동안 반응하였으며, 90 ℃로 1시간동안 승온 및 4시간 동안 반응하여 현탁중합을 종료하였다. 반응 종료 후에, 세척, 탈수 및 건조단계를 거쳐 백색 분말형태의 실시예 1에 따른 중합체 입자를 최종적으로 수득하였다. 상기 중합체는 비드형태로 수득되었으며, 측정된 입자의 평균 입경은 220㎛이었다.
[실시예 2]
상기 실시예 1에서 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트를 5g 투입한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 250㎛로 측정되었다.
[실시예 3]
상기 실시예 1에서 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트를 12g 투입한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 170㎛로 측정되었다.
[실시예 4]
상기 실시예 1에서 현탁안정제로 트리칼슘포스페이트 대신 폴리에틸아크릴레이트-메틸아크릴산을 사용한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 190㎛로 측정되었다.
[실시예 5]
상기 실시예 1에서 중합성 조성물 제조시 스티렌을 86g 및 아크릴로니트릴을 14g 투입한 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 210㎛로 측정되었다.
[실시예 6]
상기 실시예 5에서 중합성 조성물 제조시 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트를 2g 투입한 것을 제외하고 실시예 5과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 270㎛로 측정되었다.
[비교예 1]
상기 실시예 1에서 도데실벤젠술폰산을 투입하지 않고, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥실 카복실레이트 대신 디비닐벤젠을 동량 투입하는 것을 제외하고 실시예 1과 동일하게 진행하였다. 상기 중합체 비드 입자의 평균 입경은 200㎛로 측정되었다.
- 사출성형품 및 압출시트 제조
[실시예 7 내지 12 및 비교예 2 내지 4]
PC(3020PJ) 65.5wt%, ABS(IM-601) 11.4wt%, SAN(92HR) 18wt% 및 산화방지제 0.3wt%와 상기 실시예 1 내지 6 및 비교예 1에 따른 중합체 입자 4.7 wt%를 믹싱 후 압출기를 통하여 소광성 고분자 조성물 펠렛을 얻고, 상기 펠렛을 건조하여 사출기로 가로, 세로 및 두께가 70mm x 75mm x 3.0mm의 시편과 단일 시트 압출기로 가로, 세로 및 두께가 100mm x 75mm x 2.0mm의 시트 형태의 시편을 제조하였다. 제조한 사출성형품 및 압출시트의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
[비교예 5]
상기 실시예 7에서 상기 중합체 입자 대신 미국 공개특허 US 5580924 A에 따른 SAN Gel-1을 동량 투입했다는 것을 제외하고 실시예 7과 동일하게 진행하였다. 제조한 사출성형품 및 압출시트의 물성을 측정하여 하기 표 1에 나타내었다.
사용한
현탁중합체
입자		 표면광택도 IZOD 충격강도
[J/m]		 인장강도
[MPa]
60° 85° 1/4” 1/8”
사출성형품 압출시트 압출시트
실시예 7 실시예 1 10.8 8.8 18.1 20.5 53.7 575
실시예 8 실시예 2 12.3 11.5 22.5 21.0 57.0 581
실시예 9 실시예 3 9.2 8.5 16.8 19.1 50.4 561
실시예 10 실시예 4 9.8 10.2 17.3 20.4 54.1 566
실시예 11 실시예 5 22.7 26.4 42.1 18.2 50.5 560
실시예 12 실시예 6 27.1 31.8 45.4 17.5 50.1 563
비교예 2 비교예 1 45.6 56.8 79.7 14.9 40.2 551
비교예 3 BLENDEX BMAT 11.4 34.9 48.6 15.6 47.1 567
비교예 4 XPHERE-NGR 28.5 56.5 78.1 18.5 42.2 569
비교예 5 SAN Gel-1 18.2 51.7 71.2 20.9 51.2 589
-BLENDEX BMAT : 스티렌-아크릴니트릴 공중합체-XPHERE-NGR : 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체
상기 표 1에서 보는 바와 같이, 본 발명의 중합체 입자를 포함하여 소광성 고분자 조성물을 압출 또는 사출가공하여 제조한 시트(성형품)의 경우, 표면광택도가 효과적으로 감소하였으며, 구체적으로 본 발명의 중합체 입자를 PC/ABS에 적용한 실시예의 경우, 충격강도, 인장강도와 같은 기계적 물성에서는 크게 변화하지 않으면서, 시중에서 판매되는 제품을 적용한 비교예 3 및 4 보다 우수한 소광효과를 나타냈음을 확인하였다.
특히, 비교예 2 내지 5의 85°에서의 표면광택도가 모두 45 이상인 반면, 실시예 7 내지 11는 모두 25 이하인 것으로 보아, 본 발명에 따른 소광제(중합체 입자)를 사용할 경우, 종래에 구현하기 어려웠던 압출가공에서의 소광효과를 매우 효과적으로 나타낼 수 있음을 확인하였다. 또한, 적절하게 가교도를 조절한 중합체 입자를 사용한 실시예 7에 따른 시트의 외관은 양호한 반면, 상기 비교예 5의 시트는 표면이 매우 울퉁불퉁하여 고르지 못하고, 다수의 흑점이 발생하여 불량이라고 판단하였다.
실시예 5 및 6의 중합체 입자를 사용한 실시예 11 및 12를 실시예 7과 비교해보면, 상기 중합성 조성물에 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 20 내지 45 중량부 및 지환족 에폭시 화합물을 2.5 내지 25 중량부로 포함되어 제조되는 중합체 입자의 경우, 더욱 우수한 소광효과를 나타낸다는 것을 확인할 수 있었다.
또한, 상기 실시예 1 내지 3의 중합체 입자를 사용한 실시예 7 내지 9을 비교해보면, 상기 지환족 에폭시 화합물 및 산 화합물의 중량비를 1 : 0.005 내지 0.2로 포함할 경우 더욱 우수한 소광효과를 나타낸다는 것을 확인할 수 있었다.
이상과 같이 본 발명에서는 특정된 사항들과 한정된 실시예 및 도면에 의해 설명되었으나 이는 본 발명의 보다 전반적인 이해를 돕기 위해서 제공된 것일 뿐, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이러한 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다.
따라서, 본 발명의 사상은 설명된 실시예에 국한되어 정해져서는 아니되며, 후술하는 특허청구범위뿐 아니라 이 특허청구범위와 균등하거나 등가적 변형이 있는 모든 것들은 본 발명 사상의 범주에 속한다고 할 것이다.

Claims (17)

  1. 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함하는 중합성 조성물로부터 제조되며,
    평균 입경이 1 내지 5000㎛이고, 상기 지환족 에폭시 화합물의 에폭시기는 개환된 것이고, 상기 지환족 에폭시 화합물은 2개 이상의 에폭시기를 가지는 것인 중합체 입자.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 중합체 입자는 현탁중합하여 제조된 것인 중합체 입자.
  3. 삭제
  4. 제 1항에 있어서,
    상기 지환족 에폭시 화합물은 3,4-에폭시사이클로헥실메틸 3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트, 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 2-에틸-1,3-헥산디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 디에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 3-메틸-1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 1,5-펜탄디올 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시사이클로헥산-카르복실레이트), 에틸렌 글리콜 비스(3,4-에폭시-6-메틸사이클로헥산-카르복실레이트), 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 옥살레이트, 비스(3,4-에폭시사이클로헥실메틸) 숙시네이트, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸) 아디페이트 및 1,2,8,9-디에폭시리모넨으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것인 중합체 입자.
  5. 제 1항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 20 내지 45 중량부 및 지환족 에폭시 화합물을 2.5 내지 25 중량부로 포함하여 제조되는 중합체 입자.
  6. 제 1항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함하며, 상기 R1 및 R2는 독립적으로 C6-30 알킬, C6-30 아릴 또는 C6-30아르C6-30알킬인 것인 중합체 입자.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 상기 산 화합물을 0.05 내지 1 중량부로 포함하는 중합체 입자.
  8. 제 1항에 있어서,
    상기 중합체 입자는 2가의 -SO3-를 포함하는 것인 중합체 입자.
  9. 제 1항, 제 2항, 제 4항 내지 제 8항에서 선택되는 한 항에 따른 중합체 입자를 포함하는 소광제.
  10. 제 9항에 따른 소광제를 포함하는 마스터배치 칩.
  11. 제 9항에 따른 소광제 및 열가소성 고분자를 포함하는 소광성 고분자 조성물.
  12. 제 11항에 있어서,
    상기 열가소성 고분자는 폴리프로필렌(PP), 폴리아크릴레이트(polyacrylate), 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT), 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 폴리아마이드(polyamide), 스티렌-아크릴로니트릴 공중합체(SAN) 아크릴로니트릴-부타디엔-스타이렌(ABS), 아크릴로니트릴-스타이렌-아크릴레이트(ASA) 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것인 조성물.
  13. 제 11항에 따른 소광성 고분자 조성물을 압출 또는 사출하여 제조한 성형품.
  14. 방향족 비닐 화합물, 불포화 니트릴 화합물 및 지환족 에폭시 화합물을 포함한 중합성 조성물을 현탁안정제를 포함하는 수용액에 분산시키는 단계; 및
    상기 분산된 중합성 조성물을 현탁중합하는 단계;를 포함하고, 상기 지환족 에폭시 화합물은 2개 이상의 에폭시기를 가지는 것인 중합체 입자의 제조방법.
  15. 제 14항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 불포화 니트릴 화합물을 20 내지 45 중량부 및 지환족 에폭시 화합물을 2.5 내지 25 중량부로 포함하는 중합체 입자의 제조방법.
  16. 제 14항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 R1COOH, R2SO3H 및 이의 염 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나 또는 둘 이상의 산 화합물을 더 포함하며,
    상기 R1 및 R2는 독립적으로 C6-30 알킬, C6-30 아릴 또는 C6-30아르C6-30알킬인 중합체 입자의 제조방법.
  17. 제 16항에 있어서,
    상기 중합성 조성물은 방향족 비닐 화합물 100 중량부에 대하여, 상기 산 화합물을 0.05 내지 1 중량부로 포함하는 중합체 입자의 제조방법.
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