KR102297237B1

KR102297237B1 - 광 흡수성 조성물

Info

Publication number: KR102297237B1
Application number: KR1020170063096A
Authority: KR
Inventors: 쇼이치 오자와; 가츠아키 미야자키; 노리유키 히다
Original assignee: 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤
Priority date: 2016-05-25
Filing date: 2017-05-22
Publication date: 2021-09-01
Also published as: JP2017210552A; CN107434960B; JP6705699B2; TW201815936A; TWI738783B; KR20170133266A; CN107434960A

Abstract

(과제) 본 발명은, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광에 대한 광 선택 흡수성을 나타냄과 동시에, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성이 높은 광 흡수성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
(해결 수단) 적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 광 흡수성 조성물로서, 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은 동일한 공액계 구조를 갖는, 광 흡수성 조성물.

Description

광 흡수성 조성물{LIGHT ABSORPTIVE COMPOSITION}

본 발명은 광 흡수성 조성물, 그리고 그 광 흡수성 조성물을 포함하는 폴리머 조성물, 광학 필름 및 표시 장치에 관한 것이다.

유기 EL 표시 장치나 액정 표시 장치 등의 플랫 패널 표시 장치 (FPD) 에는, 유기 EL 소자나 액정 셀 등의 표시 소자, 및 편광판이나 위상차판 등의 광학 필름과 같은 다양한 부재가 사용되고 있다. 이들 부재에 사용되는 유기 EL 화합물 및 액정 화합물 등의 재료는 유기물이기 때문에, 자외선 (UV) 에 의한 열화가 문제가 되는 경우가 있다. 이와 같은 문제를 해결하기 위해서, 표시 장치에 사용되는 편광판의 보호 필름에 UV 흡수제를 첨가하는 등의 대책이 이루어지고 있다. 예를 들어 특허문헌 1 에는, 이들 표시 장치에 사용되는 편광판의 보호 필름에 UV 흡수제를 첨가함으로써 부재의 열화 방지가 도모되고 있다.

또, 최근 표시 장치의 박형화가 진행되는 가운데 광학 필름의 박형화도 요구되어, 보호 필름을 구비하지 않는 광학 필름도 개발되고 있다. 이와 같은 광학 필름에 있어서는, 종래 보호 필름에 첨가하고 있던 성분을 별도 부재에 배합할 필요가 있으며, 예를 들어, UV 흡수 기능을, 광학 필름에 적층되는 점착제층에 부여하는 경우가 있다. 특허문헌 2 에는, UV 흡수성 모노머를 포함하는 모노머 혼합물로부터 합성한 UV 흡수제를, 그 기재의 일면에 도포한 점착 시트가 기재되어 있다.

일본 공개특허공보 2006-308936호 일본 공개특허공보 2008-56859호

상기 UV 흡수제는, 자외선 영역의 광을 흡수하고, 부재의 열화를 방지하는 역할을 하는 한편, 청색 광 (예를 들어, 430 ㎚ 를 초과하는 가시광역) 에 대해서는 흡수 특성을 나타내지 않는 광 선택 흡수성을 가질 필요가 있다.

또, 이러한 UV 흡수제는, 점착제나 광학 필름 등의 표시 장치의 구성 부재에 장착하기 위해서는, 구성 부재와의 높은 친화성이나 용매에 대한 높은 용해성이 필요해진다. UV 흡수제의 친화성이 불충분하면, 예를 들어, 점착제에 UV 흡수제를 첨가한 경우, UV 흡수제가 블리드 아웃하여, 점착 기능을 저해하거나, 또, 점착제 도공액 중의 용매에 대한 용해성이 낮으면, 구성 부재 중에 UV 흡수제가 균일하게 분산되지 않고, 광 흡수 기능이 불충분해지는 경우가 있다. 또한, 위상차 필름 등의 광학 필름에 UV 흡수제를 첨가한 후에 열을 가하여 연신할 때에, UV 흡수제가 필름 표면에 블리드 아웃해 버려, 광 흡수 기능을 충분히 발현시킬 수가 없다. 그 때문에, UV 흡수제로서 사용하기 위해서는, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성이나 각종 용매에 대한 용해성이 우수한 것이 필요해진다.

그래서 본 발명은, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광에 대한 광 선택 흡수성을 나타냄과 동시에, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성이 높은 광 흡수성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명은 이하의 적합한 양태를 제공하는 것이다.

[1] 적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 광 흡수성 조성물로서, 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은 동일한 공액계 구조를 갖는, 광 흡수성 조성물.

[2] 적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 상기 광 선택 흡수성 화합물에 있어서의, 극대 흡수 파장의 최대값과 최소값의 차가 5 ㎚ 이하인, 상기 [1] 에 기재된 광 흡수성 조성물.

[3] 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은, 식 (I)：

[화학식 1]

[식 중,

R¹ 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자 또는 황 원자로 치환되어 있어도 되고,

R² 및 R³ 은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타내고,

A 는, 메틸렌기, 제 2 급 아미노기, 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고,

X¹ 및 X² 는, 서로 독립적으로, 전자 흡인성기를 나타내고, X¹ 및 X² 는 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 된다],

또는 식 (II)：

[화학식 2]

[식 중,

R¹, X¹, X² 는, 상기와 동일한 의미이고,

A² 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 제 2 급 아미노기, 산소 원자, 황 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기는 치환기를 갖고 있어도 된다]

로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인, 상기 [1] 또는 [2] 에 기재된 광 흡수성 조성물.

[4] 상기 식 (I) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은 식 (I-2)：

[화학식 3]

[식 중,

R¹ 은 상기와 동일한 의미이고,

R⁴ 는 수소 원자 또는 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자로 치환되어 있어도 된다]

로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물이며, 상기 식 (II) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은 식 (II-2)：

[화학식 4]

[식 중, R¹ 및 R⁴ 는 상기와 동일한 의미이다]

로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인, 상기 [3] 에 기재된 광 흡수성 조성물.

[5] 상기 광 흡수성 조성물에 포함되는 적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 광 선택 흡수성 화합물에 있어서, 광 흡수성 조성물 중의 함유량이 최대인 광 선택 흡수성 화합물의 함유량과 다른 광 선택 흡수성 화합물의 함유량의 총량의 비율이, 1：10 ∼ 10：1 인, 상기 [1] ∼ [4] 중 어느 하나에 기재된 광 흡수성 조성물.

[6] 식 (1), 식 (2) 및 식 (3)：

ε(420)/ε(400) ≤ 0.3 (1)

λmax ≤ 420 ㎚ (2)

ε(400) ≥ 20 (3)

[식 중,

ε(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고,

ε(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고,

λmax 는 극대 흡수 파장을 나타낸다]

을 충족하는, 상기 [1] ∼ [5] 중 어느 하나에 기재된 광 흡수성 조성물.

[7] 상기 [1] ∼ [6] 중 어느 하나에 기재된 광 흡수성 조성물과, 폴리머를 함유하는 폴리머 조성물.

[8] 상기 폴리머 100 질량부에 대한, 상기 광 흡수성 조성물의 함유량이 1 ∼ 15 질량부인, 상기 [7] 에 기재된 폴리머 조성물.

[9] 상기 [7] 또는 [8] 에 기재된 폴리머 조성물로 구성되는 광학 필름.

[10] 두께가 0.1 ∼ 18 ㎛ 인, 상기 [9] 에 기재된 광학 필름.

[11] 상기 [9] 또는 [10] 에 기재된 광학 필름과 편광 필름을 포함하는 적층 편광 필름.

[12] 하기 식 (4) 및 식 (5)：

Ap(400) ≥ 0.4 (4)

Ap(420)/Ap(400) ≤ 0.3 (5)

[식 중,

Ap(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타내고,

Ap(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타낸다]

를 충족하는, 상기 [11] 에 기재된 적층 편광 필름.

[13] 상기 [9] 또는 [10] 에 기재된 광학 필름과, 위상차 필름을 포함하는 적층 위상차 필름.

[14] 상기 [9] 또는 [10] 에 기재된 광학 필름과, 편광 필름과, 위상차 필름을 포함하는 타원 편광 필름.

[15] 상기 [9] ∼ [14] 중 어느 하나에 기재된 필름을 포함하는 표시 장치.

본 발명에 의하면, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광에 대한 광 선택 흡수성을 나타냄과 동시에, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성이 높은 광 흡수성 조성물을 제공할 수 있다.

도 1 은, 본 발명의 일 실시양태에 있어서의 광학 적층체의 층 구조의 예를 나타내는 단면 모식도이다.
도 2 는, 본 발명의 일 실시양태에 있어서의 광학 적층체의 층 구조의 예를 나타내는 단면 모식도이다.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해, 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기서 설명하는 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지를 저해하지 않는 범위에서 각종 변경을 할 수 있다.

본 발명의 광 흡수성 조성물은, 적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 조성물이며, 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은 동일한 공액계 구조를 갖는다. 또한, 본 발명에 있어서, 공액계 구조란, π 전자계가 분자 사슬을 따라 비극재화하고 있는 분자 구조를 나타낸다. 공액계 구조란, 예를 들어 이하의 사각으로 둘러싸인 범위의 구조를 들 수 있다. 또한, 하기의 화학식에 있어서, 공액계 구조 (사각으로 둘러싸인 범위의 구조) 에 결합하는 부분은 메틸렌기이지만, 공액계 구조가 신장하지 않는 한, 이러한 부분은 메틸렌기에 한정되지 않고, 예를 들어 메틴기 등을 들 수 있다.

[화학식 5]

공액계 구조가 갖는 탄소수는, 바람직하게는 1 ∼ 20, 보다 바람직하게는 2 ∼ 15, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 10 이다. 공액계 구조가 갖는 탄소수가 상기 범위 내이면, 본 발명의 광 흡수성 조성물은, 청색 광을 흡수하기 어렵고, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광에 대하여 광 선택 흡수성을 나타내는 경향이 있다.

본 발명의 광 흡수성 조성물에 있어서, 그 조성물에 포함되는 적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물이 동일한 공액계 구조를 갖는다. 이에 따라, 점착제 시트 중에 본 발명의 광 흡수성 조성물에 첨가한 경우, 점착제 중에 있어서의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있고, 동시에 점착제의 점착 기능이 저해되기 어렵다. 또한, 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃이 억제되기 때문에, 고농도의 광 선택 흡수성 화합물을 점착제에 배합할 수 있고, 얇기와 광 흡수성이 동시에 우수한 점착제 시트를 얻을 수 있다. 표시 장치의 박형화에 수반하여 각 부재의 박형화도 필요해지고 있지만, 부재의 박형화를 실시하면, 그 부재에 배합하는 광 흡수제의 농도를 높게 할 필요가 있다. 본 발명의 광 흡수성 조성물에 의하면, 블리드 아웃이 억제되기 때문에, 부재의 박형의 요구에 대응할 수 있다. 또, 광학 필름 중에 본 발명의 광 흡수성 조성물에 첨가한 경우, 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있고, 동시에 광학 기능이 저해되는 것을 억제할 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 상기 광 흡수성 조성물에 포함되는 적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물이 동일한 공액계 구조를 갖는 한, 이 공액계 구조와는 상이한 공액계 구조를 갖는 다른 광 선택 흡수성 화합물을 포함해도 된다.

본 발명의 적합한 실시양태에 있어서는, 임의의 1 종의 광 선택 흡수성 화합물이 갖는 공액계 구조는, 다른 적어도 1 종의 광 선택 흡수성 화합물이 갖는 공액계 구조와 동일하다. 즉, 공액계 구조 a 를 갖는 광 선택 흡수성 화합물 A 가 조성물 중에 포함되는 경우, 동일한 공액계 구조 a 를 갖는 다른 광 선택 흡수성 화합물 B 도 조성물 중에 포함된다. 또한, 공액계 구조 b 를 갖는 광 선택 흡수성 화합물 C 가 조성물 중에 추가로 포함되는 경우에는, 공액계 구조 b 를 갖는 광 선택 흡수성 화합물 D 도 조성물 중에 추가로 포함되는 것이 바람직하다. 즉, 본 발명의 광 흡수성 조성물에, 예를 들어, 4 종의 광 선택 흡수성 화합물 A ∼ D 가 포함되는 경우, 1 종의 광 선택 흡수성 화합물만이, 다른 공액계 구조를 갖는 경우가 없는 것이 바람직하다. 이 경우, 표시 장치의 구성 부재 (광학 필름, 점착제 등) 로부터의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 더욱 억제할 수 있고, 광학 필름의 광학 기능 및/또는 점착제의 점착 기능의 저해를 더욱 억제할 수 있다.

본 발명의 광 흡수성 조성물에 포함되는, 적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 광 선택 흡수성 화합물에 있어서, 극대 흡수 파장 (이하, 「λmax」 라고도 한다) 의 최대값과 최소값의 차는, 바람직하게는 5 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 4 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 3 ㎚ 이하, 특히 바람직하게는 2 ㎚ 이하, 예를 들어 1 ㎚ 이하이다. 상기 λmax 의 최대값과 최소값의 차가 5 ㎚ 이하라는 것은, 동일한 공액계 구조를 갖는 각각의 광 선택 흡수성 화합물의 구조가 가까운 것 (유사 구조를 갖는 것) 을 의미한다. 광 선택 흡수성 화합물의 λmax 의 최대값과 최소값의 차가 상기 상한값 이하이면, 표시 장치의 구성 부재로부터의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 더욱 억제할 수 있으며, 또, 광 선택 흡수성이 더욱 우수한 광 흡수성 조성물을 얻을 수 있다. 또한, 광 선택 흡수성 화합물의 λmax 의 최대값과 최소값의 차의 하한값은, 예를 들어 0 ㎚ 이상이다.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 높은 광 선택 흡수성을 발현시키는 관점에서, 상기 광 선택 흡수성 화합물은, 식 (I)：

[화학식 6]

[식 중,

A¹ 은, 메틸렌기, 제 2 급 아미노기, 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고,

또는 식 (II)：

[화학식 7]

[식 중,

R¹, X¹, X² 는, 상기와 동일한 의미이고,

로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명의 광 흡수성 조성물이 상기 식 (I) 로 나타내는 화합물 및 상기 식 (II) 로 나타내는 화합물의 양방을 포함하는 경우, 식 중의 X¹, X² 및 R¹ 은, 각각 상이해도 되고 동일해도 된다.

식 (I) 및 (II) 에 있어서, R¹ 은, 수소 원자, 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, 높은 광 선택 흡수성을 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 8, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 5, 더욱 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기를 나타낸다. 여기서, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자 또는 황 원자로 치환되어 있어도 된다. 이러한 알킬기로는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, n-헥실기, n-옥틸기, n-데실기, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기, 및 폴리프로필렌글리콜기 등을 들 수 있다.

식 (I) 및 (II) 에 있어서, X¹ 및 X² 는, 서로 독립적으로 전자 흡인성기를 나타낸다. 전자 흡인성기로는, 예를 들어, -CN (시아노기), -NO₂ (니트로기), 할로겐 원자, 할로겐 원자로 치환된 알킬기, -Y¹-R⁴ [식 중, R⁴ 는 수소 원자, 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알킬기 상의 탄소 원자에는 치환기가 결합되어 있어도 되고, Y¹ 은, -CO-, -COO-, -OCO-, -NR⁶CO- 또는 -CONR⁷- 를 나타낸다 (R⁶ 및 R⁷ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기 또는 페닐기를 나타낸다)] 를 들 수 있다. X¹ 및 X² 가 서로 연결되어 고리 구조를 형성해도 되고, 그 고리 구조로는, 예를 들어 4 ∼ 8 원자 고리의 고리 구조를 들 수 있으며, 5 원자 고리 또는 6 원자 고리의 고리 구조가 바람직하고, 그 예로는, 멜드럼산 구조, 바르비투르산 구조, 디메돈 구조 등을 들 수 있다.

R⁴ 에 있어서의 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기는, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성의 관점에서, 탄소수는 바람직하게는 3 이상이고, 보다 바람직하게는 6 이상이다. 또, 바람직하게는 40 이하이고, 보다 바람직하게는 30 이하이고, 더욱 바람직하게는 12 이하이다. 또, 바람직하게는 탄소수 2 ∼ 40 (예를 들어, 2 ∼ 20) 이고, 보다 바람직하게는 탄소수 3 ∼ 40 (예를 들어, 3 ∼ 18) 이고, 더욱 바람직하게는 3 ∼ 30 (예를 들어, 3 ∼ 16) 이고, 특히 바람직하게는 6 ∼ 12 (예를 들어, 6 ∼ 14) 이다.

R⁴ 에 있어서, 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 적어도 1 개의 메틸렌기가 산소 원자로 치환되어 있어도 되고, 이러한 알킬기로는, 예를 들어, 에톡시기, 프로폭시기, 2-메톡시에톡시메틸기를 들 수 있다. 또, 디에틸렌글리콜기, 트리에틸렌글리콜기 등의 폴리에틸렌글리콜기, 및 디프로필렌글리콜기, 트리프로필렌글리콜기 등의 폴리프로필렌글리콜 등도 들 수 있다.

또, R⁴ 의 알킬기 상의 탄소 원자에는 치환기가 결합되어 있어도 된다. 치환기로는, 예를 들어 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 6 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 6 의 N-알킬술파모일기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기 등을 들 수 있다.

R⁴ 가 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기인 경우, 소수성 물질과의 친화성, 및 소수성 용매에 대한 용해성의 관점에서, R⁴ 는 분기 구조를 갖는 알킬기인 것이 보다 바람직하다.

여기서, 분지 구조를 갖는 알킬기란, 그 알킬기가 갖는 탄소 원자의 적어도 1 개가 제 3 급 탄소 또는 제 4 급 탄소인 알킬기를 나타낸다. 탄소수 3 ∼ 12 의 분기 구조를 갖는 알킬기의 구체예로는, 하기 구조를 갖는 알킬기를 들 수 있다.

[화학식 8]

X¹ 및 X² 는, 광 선택 흡수성 그리고 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성의 관점에서, 각각 독립적으로, -CN (시아노기), -NO₂(니트로기), 할로겐 원자, 또는 -Y¹-R⁴ 중 Y¹ 이 -CO-, -COO-, 혹은 -OCO- 인 것이 바람직하고, -CN (시아노기), 또는 -Y¹-R⁴ 중 Y¹ 이 -COO- 인 것이 보다 바람직하다.

상기 식 (I) 에 있어서, R² 및 R³ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타내고, 높은 광 선택 흡수성을 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬기, 더욱 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 특히 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 3 의 알킬기, 매우 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다.

식 (I) 에 있어서, A¹ 은, 메틸렌기, 제 2 급 아미노기, 산소 원자 또는 황 원자를 나타낸다. 제 2 급 아미노기는, 일반식 -NR⁵- 로 나타내는 치환기이며, R⁵ 는, 예를 들어 탄소수 1 ∼ 15, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 10, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 5 의 지방족 탄화수소기, 지환식 탄화수소기 또는 방향족 탄화수소기를 나타낸다. A¹ 은, 높은 광 선택 흡수성을 발현시키는 관점에서, 바람직하게는 메틸렌기 또는 산소 원자를 나타낸다.

식 (II) 에 있어서, A² 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다. 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 제 2 급 아미노기, 산소 원자, 또는 황 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기는 치환기를 갖고 있어도 된다. A² 로서 나타내는 알킬기로는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, tert-부틸기, n-헥실기, 메톡시기, 에톡시기, 이소프로폭시기 등을 들 수 있다. 또, A² 로서 나타내는 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기가 가질 수 있는 치환기로는, 예를 들어 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기를 들 수 있다. 이와 같은 방향족 탄화수소기로는, 탄소수 6 ∼ 12 의 방향족 탄화수소기가 바람직하고, 예를 들어, 페닐기, 나프틸기 등을 들 수 있다. 또, 방향족 복소 고리기로는, 탄소수 3 ∼ 9 의 방향족 복소 고리기가 바람직하고, 예를 들어, 피리딜기, 퀴놀릴기, 티오펜기, 이미다졸릴기, 옥사졸릴기, 피롤기, 티아졸릴기, 및 푸라닐기 등을 들 수 있다. 제조상의 용이함의 관점에서, A² 는 페닐기 또는 나프틸기인 것이 바람직하고, 페닐기인 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 광 흡수성 조성물이, 상기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 적어도 2 이상 포함하는 경우, 각 화합물을 나타내는 식 (I) 중의 R¹ ∼ R³, X¹, X² 및 A¹ 은, 각각 상이해도 되고 동일해도 되지만, R¹ ∼ R³, X¹, X² 및 A¹ 중 적어도 1 개는 상이하다. 본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서는, 본 발명의 광 흡수성 조성물이, 상기 식 (I) 로 나타내는 화합물을 적어도 2 이상 포함하는 경우에는, 본 발명의 광 흡수성 조성물의 광 선택 흡수성을 더욱 높이는 관점에서, 각 화합물을 나타내는 식 (I) 중의 R¹ ∼ R³, X¹ 및 A¹ 은 각각 동일하고, X² 는 상이하다. 본 발명의 광 흡수성 조성물이, 상기 식 (II) 로 나타내는 화합물을 적어도 2 이상 포함하는 경우, 각 화합물을 나타내는 식 (II) 중의 R¹, X¹, X² 및 A² 는, 각각 상이해도 되고 동일해도 되지만, 적어도 1 개는 상이하다. 본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서는, 본 발명의 광 흡수성 조성물이, 상기 식 (II) 로 나타내는 화합물을 적어도 2 이상 포함하는 경우에는, 본 발명의 광 흡수성 조성물의 광 선택 흡수성을 더욱 높이는 관점에서, 각 화합물을 나타내는 식 (II) 중의 R¹, X¹ 및 A² 는 각각 동일하고, X² 는 상이하다.

식 (I) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물로는, 예를 들어 하기 식으로 나타내는 화합물 등을 들 수 있다.

[화학식 9]

[화학식 10]

식 (I-1-2) 중, A¹, R¹ ∼ R⁴, X¹ 및 Y¹ 은 각각 상기와 동일한 의미를 나타낸다.

식 (I) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은, 광 선택 흡수성을 갖고, 표시 장치의 구성 부재의 재료와의 친화성 및/또는 각종 용매에 대한 용해성이 우수하기 때문에, 하기 식 (I-2) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물이 바람직하다.

[화학식 11]

식 (I-2) 중, R¹ 및 R⁴ 는 상기와 동일한 의미이다.

식 (I-2) 로 나타내는 화합물로는, 구체적으로는, 이하와 같은 화합물을 들 수 있다.

[화학식 12]

[화학식 13]

[화학식 14]

[화학식 15]

식 (II) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은, 광 선택 흡수성 및 제조상의 용이함의 관점에서, 하기 식 (II-2) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인 것이 바람직하다.

[화학식 16]

식 중, R¹ 및 R⁴ 는, 상기와 동일한 의미이다.

식 (II-2) 로 나타내는 화합물로는, 구체적으로는, 이하와 같은 화합물을 들 수 있다.

[화학식 17]

[화학식 18]

[화학식 19]

[화학식 20]

[화학식 21]

또, 식 (II) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물로는, 하기 식으로 나타내는 화합물 등도 들 수 있다.

[화학식 22]

상기 식 (I-2) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 2-메틸피롤린을 메틸화제에 의해 1,2-디메틸피롤리늄염으로 하고, 계속해서, N,N'-디페닐포름아미딘과 반응시킨다. 마지막으로, 무수 아세트산 및 아민 촉매 존재하, 활성 메틸렌 화합물을 반응시킴으로써 제조할 수 있다. 상기 식 (I) 및 (I-1-2) 로 나타내는 화합물은, 상기 식 (I-2) 로 나타내는 화합물과 동일한 방법에 의해 제조할 수 있다. 식 (II) 및 (II-2) 로 나타내는 화합물은, 3-포르밀인돌과 활성 메틸렌 화합물을 반응 (Knoevenagel 반응) 시킴으로써 얻을 수 있으며, 반응에는 아민 촉매를 병용해도 된다. 식 (II) 및 (II-2) 중의 R¹ 이 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기인 경우, 3-포르밀인돌에 대하여, 염기 촉매 존재하 할로겐화알킬을 반응시키고, 그 후에 활성 메틸렌 화합물과 반응시킴으로써 목적으로 하는 광 선택 흡수성 화합물을 제조할 수 있다. 또, 이들의 화합물로서 시판되고 있는 것을 사용해도 된다.

본 발명의 광 흡수성 조성물에 포함되는, 적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 광 선택 흡수성 화합물에 있어서, 광 흡수성 조성물 중의 함유량이 최대인 광 선택 흡수성 화합물을 화합물 _cmax 로 했을 경우, 광 흡수성 조성물 중의 화합물 _cmax 의 함유량과 다른 광 선택 흡수성 화합물의 함유량의 총량의 비율 ([화합물 _cmax 의 함유량]：[다른 광 선택 흡수성 화합물의 함유량의 총량]) 이, 바람직하게는 1：10 ∼ 10：1, 보다 바람직하게는 1：8 ∼ 8：1, 더욱 바람직하게는 1：6 ∼ 6：1, 특히 바람직하게는 1：5 ∼ 5：1, 특히 바람직하게는 1：4 ∼ 4：1, 특히 1：3 ∼ 3：1, 예를 들어 1：2 ∼ 2：1 이다. 상기 비율이 상기 범위 내이면, 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃이 억제되고, 점착제로서의 점착 기능이나 광학 필름으로서의 광학 기능을 저해하기 어렵게 할 수 있다.

상기 광 흡수성 조성물은, 표시 장치의 구성 부재 (예를 들어, 점착제나 광학 필름 등) 와의 친화성 및/또는 각종 용제에 대한 용해성이 우수하다. 점착제 도공액을 구성하는 용매에 대한 용해성이 우수하면, 점착제 시트 중에 균일하게 광 선택 흡수성 화합물을 분산시킬 수 있기 때문에, 우수한 광 흡수성을 갖는 점착제를 얻을 수 있다. 이러한 용매로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 1-부탄올, 2-부탄올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용매；아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용매；아세톤, 2-부타논, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용매；펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매；톨루엔, 자일렌, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소 용매；아세토니트릴 등의 니트릴 용매；테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄, 1,4-디옥산 등의 에테르 용매；및, 디클로로메탄, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화탄화수소 용매를 들 수 있다.

이러한 용매에는, 친수성 용매 및 소수성 용매가 있다. 예를 들어 알코올 용매는, 탄소수에 따라 다르기도 하지만, 일반적으로 친수성을 갖는 용매이다. 한편, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매는 일반적으로 소수성을 갖는 용매이다. 용매의 선택성을 넓힐 수 있는 관점에서, 상기 광 흡수성 조성물이 친수성 용매 또는 소수성 용매에 가용인 것이 바람직하고, 그 광 흡수성 조성물이 친수성 용매 및 소수성 용매에 가용인 것, 즉 양친매성을 갖는 것이 보다 바람직하다.

본 발명의 광 흡수성 조성물은, 특히 점착제나 광학 필름 등과의 친화성이 우수하다. 점착제를 구성하는 폴리머 (특히 아크릴 수지) 와의 친화성이 우수하면, 점착제 시트로부터의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있고, 점착제 시트가 갖는 점착 기능을 저해하기 어렵다. 또, 본 발명의 광 흡수성 조성물이, 광학 필름을 구성하는 폴리머 (특히, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐) 와의 친화성이 우수하면, 광학 필름으로부터의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있기 때문에, 광학 필름이 갖는 광학 기능을 저해하기 어렵다. 또, 보호 필름을 구성하는 폴리머 (특히, 트리아세틸셀룰로오스, 시클로올레핀 폴리머) 와의 친화성이 우수하면, 보호 필름으로부터의 광 선택 흡수성 화합물의 블리드 아웃을 억제할 수 있다.

상기 광 흡수성 조성물은, 하기 식 (1) 을 충족하는 것이 바람직하다.

ε(420)/ε(400) ≤ 0.3 (1)

식 (1) 중, ε(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 광 흡수성 조성물의 그램 흡광 계수를 나타내고, ε(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 광 흡수성 조성물의 그램 흡광 계수를 나타낸다. ε(420)/ε(400) 의 값은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 흡수의 강도 (그램 흡광 계수) 에 대한 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡수의 강도 (그램 흡광 계수) 를 나타내고 있고, 이 값이 작을수록 420 ㎚ 부근의 파장역의 흡수와 비교하여 400 ㎚ 부근의 파장역에 특이적인 흡수가 있고, 광 선택 흡수성을 갖는 것을 나타낸다. 이 값이 작을수록 황색미가 적고 투명한 화합물이 된다.

상기 광 흡수성 조성물이 상기 식 (1) 을 충족하는 경우, 파장 400 ㎚ 의 광을 흡수하는 한편 파장 420 ㎚ 의 광을 흡수하기 어렵고, 청색 가시광을 흡수하기 어렵기 때문에, 본 발명의 광 흡수성 조성물을, 양호한 색채 표현을 저해하기 어려운 광 흡수제로서 제공할 수 있다. 또한, 이러한 광 흡수성 조성물을 포함하는 광학 적층체의 경우에는, 광학 적층체를 구성하는 부재 (예를 들어, 위상차 필름 등의 광학 필름, 유기 EL 소자나 액정 표시 소자 등의 표시 소자) 가 단파장의 가시광 (즉, 파장 400 ㎚ 부근의 광) 에 의해 성능이 열화하는 것을 억제할 수 있다. 상기 광 흡수성 조성물에 있어서의 ε(420)/ε(400) 의 값은, 바람직하게는 0.3 이하이고, 보다 바람직하게는 0.25 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.2 이하이고, 특히 바람직하게는 0.15 이하, 특히 바람직하게는 0.1 이하, 매우 바람직하게는 0.05 이하, 예를 들어 0.03 이하이다. 그 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기 광 흡수성 조성물에 의한 400 ㎚ 부근의 흡수능을 유지하는 관점에서는, 통상적으로 0.005 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 적합한 일 실시양태에 있어서, ε(420)/ε(400) 의 값은 0.01 ∼ 0.17 이다.

또, 상기 광 흡수성 조성물은 상기 식 (1) 에 더하여, 또한 하기 식 (2) 및 (3) 을 충족하는 것이 바람직하다.

λmax ≤ 420 ㎚ (2)

ε(400) ≥ 20 (3)

식 (2) 중, λmax 는 광 흡수성 조성물의 극대 흡수 파장을 나타낸다. 식 (3) 중, ε(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 광 흡수성 조성물의 그램 흡광 계수를 나타내고, 그램 흡광 계수의 단위는 ℓ/(g·㎝) 로 정의한다.

상기 식 (2) 및 (3) 을 충족하는 경우, 광 흡수성 조성물의 극대 흡수는 420 ㎚ 보다 단파장 측에 존재하고, 또한, 파장 400 ㎚ 부근에 대한 높은 흡수를 나타내는 조성물이라고 말할 수 있다. 상기 광 흡수성 조성물이 이와 같은 식을 충족함으로써, 이러한 조성물을 포함하는 광학 필름 등의 부재는, 표시 특성에 영향을 주기 어렵고 높은 내광성을 가질 수 있다. 본 발명에 있어서, 광 흡수성 조성물의 극대 흡수 λmax 는, 보다 바람직하게는 410 ㎚ 이하, 더욱 바람직하게는 400 ㎚ 이하이다. 광 흡수성 조성물의 극대 흡수 λmax 는, 예를 들어 370 ㎚ 이상이다.

또, 상기 광 흡수성 조성물이 상기 식 (3) 을 충족하는 경우, 높은 광 흡수성을 갖기 때문에, 광학 적층체를 구성하는 부재에 포함되는 광 흡수성 조성물이 소량이더라도, 점착제에 그 광 흡수성 조성물을 함유시키는 경우에는 그 점착 기능을 저해하기 어렵고, 또 보호 필름에 그 광 흡수성 조성물을 함유시키는 경우에는 보호 필름으로서의 광학 기능을 저해하기 어렵다. ε(400) 의 값은, 바람직하게는 20 [ℓ/(g·㎝)] 이상, 보다 바람직하게는 30 [ℓ/(g·㎝)] 이상, 더욱 바람직하게는 40 [ℓ/(g·㎝)] 이상, 보다 더 바람직하게는 50 [ℓ/(g·㎝)] 이상, 특히 바람직하게는 80 [ℓ/(g·㎝)] 이상, 매우 바람직하게는 90 [ℓ/(g·㎝)] 이상이다. 또한, ε(400) 의 값은, 통상적으로 300 [ℓ/(g·㎝)] 이하이다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서, 상기 광 흡수성 조성물과 폴리머를 함유하는 폴리머 조성물이 제공된다 (이하, 「본 발명의 폴리머 조성물」 이라고도 한다). 그 폴리머 조성물을 사용함으로써, 광학 적층체를 구성하는 각종 부재 (예를 들어, 점착제 시트, 보호 필름, 편광 필름, 위상차 필름 및 전면판 등) 를 얻을 수 있다. 이러한 광학 적층체는, 광 선택 흡수성이 우수한 상기 광 흡수성 조성물을 함유하기 때문에, 청색 가시광을 흡수하기 어렵기 때문에, 양호한 색채 표현을 저해하기 어렵다. 또한, 표시 장치의 구성 부재인 표시 소자나 광학 필름의 성능은, 자외선 뿐만 아니라, 단파장역의 가시광, 즉 파장 400 ㎚ 부근의 광에 의해서도 열화하는 경우가 있지만, 화상 표시 장치에 포함되는 광학 적층체를 구성하는 부재의, 단파장의 가시광에 의한 열화를 억제할 수 있다.

본 발명의 광학 필름의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로는 18 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 13 ㎛ 이하인 것이 보다 바람직하고, 8 ㎛ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 광학 필름의 두께가 상기 상한값 이하이면, 광학 필름에 포함되는 광 흡수성 조성물의 농도가 높아도 블리드 아웃이 발생하기 어렵기 때문에, 박형의 광학 적층체를 얻기 쉬움과 동시에, 안정된 광 흡수성 및 광학 필름이 갖는 기능 (예를 들어, 위상차 필름이 갖는 위상차 기능, 점착제 시트가 갖는 점착 기능) 을 발휘할 수 있다. 또, 본 발명의 광학 필름의 두께의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 0.1 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1 ㎛ 이상, 더욱 바람직하게는 2 ㎛ 이상이다. 광학 필름의 두께가 상기 상한값 이하이면, 박형화의 관점에서 바람직하다. 또한, 광학 필름의 두께는, 예를 들어, 레이저 현미경, 엘립소미터 등에 의해 측정할 수 있다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서는, 상기 폴리머 조성물로 구성되는 점착제 및 광학 필름 (「본 발명의 광학 필름」 이라고도 한다) 도 제공된다. 본 발명에 있어서, 광학 필름으로는, 편광 필름, 위상차 필름, 보호 필름, 점착제 시트, 및 전면판 등을 들 수 있다. 이들의 광학 필름 및 점착제를, 광학 적층체를 구성하는 부재로서 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서, 광학 적층체란, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 적층체를 의미하며, 후술하는 적층 편광 필름, 적층 위상차 필름 및 타원 편광 필름이 포함된다.

여기서, 광학 적층체에 대해, 몇 가지 적합한 층 구조의 예를 도 1 및 도 2 에 단면 모식도로 나타낸다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 편광 필름 (1) 의 일방의 면에, 표면 처리층 (2) 를 가질 수 있는 제 1 보호 필름 (4) 을 그 표면 처리층 (2) 과는 반대측의 면에서 첩착 (貼着) 하고, 편광 필름 (1) 의 타면에는, 제 2 보호 필름 (3) 을 첩착하여, 편광판 (10) 이 구성되어 있다. 편광판 (10) 을 구성하는 제 2 보호 필름 (3) 의 외측에는, 점착제 시트 (20) 를 형성하여, 점착제가 부착된 편광판 (15) 이 구성되어 있다. 그리고, 그 점착제 시트 (20) 의 편광판 (10) 과는 반대측의 면을, 화상 표시 소자 (30) 에 첩합 (貼合) 하여, 광학 적층체 (40) 가 구성되어 있다. 이러한 광학 적층체는, 화상 표시 장치에 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 광 흡수성 조성물을 포함하는 부재가, 열화하기 쉬운 광학 필름이나 유기 EL 소자 등의 화상 표시 소자보다 시인측에 배치되는 것이 바람직하다. 이러한 배치에 의해, 열화하기 쉬운 부재의 기능의 저하를 억제할 수 있다.

또, 도 2 에 나타내는 예에서는, 편광 필름 (1) 의 일방의 면에, 표면 처리층 (2) 을 가질 수 있는 제 1 보호 필름 (4) 을 그 표면 처리층 (2) 과는 반대측의 면으로 첩착하고, 편광 필름 (1) 의 타면에는, 제 2 보호 필름 (3) 을 첩착하고, 또한 제 2 보호 필름 (3) 의 외측에는, 층간 점착제 (6) 를 통해서 위상차 필름 (7) 을 첩착하여, 편광판 (10) 이 구성되어 있다. 편광판 (10) 을 구성하는 위상차 필름 (7) 의 외측에는, 점착제 시트 (20) 를 형성하여, 점착제가 부착된 편광판 (15) 가 구성되어 있다. 그리고, 그 점착제 시트 (20) 의 위상차 필름 (7) 과는 반대측의 면을, 화상 표시 소자 (30) 에 첩합하여, 광학 적층체 (40) 가 구성되어 있다.

이들 예에 있어서, 제 1 보호 필름 (4) 및 제 2 보호 필름 (3) 은, 트리아세틸셀룰로오스 필름 또는 폴리시클로올레핀으로 구성하는 것이 일반적이지만, 하기의 투명 수지 필름으로 구성할 수도 있다. 또, 제 1 보호 필름 (4) 의 표면에 형성될 수 있는 표면 처리층은, 하드 코트층, 방현층, 반사 방지층, 대전 방지층 등이어도 된다. 이들 중 복수의 층을 형성하는 것도 가능하다.

도 2 에 나타내는 예와 같이, 편광판 (10) 중에 위상차 필름 (7) 을 적층하는 경우, 중소형의 액정 표시 장치이면, 이 위상차 필름 (7) 의 적합한 예로서, 1/4 파장판을 들 수 있다. 이 경우에는, 편광 필름 (1) 의 흡수축과 1/4 파장판인 위상차 필름 (7) 의 지상축이 거의 45 도로 교차하도록 배치하는 것이 일반적이지만, 화상 표시 소자 (30) 의 특성에 따라 그 각도를 45 도에서 어느 정도 어긋나게 하는 경우도 있다. 한편, 텔레비전 등의 대형 액정 표시 장치이면, 화상 표시 소자 (30) 의 위상차 보상이나 시야각 보상을 목적으로, 당해 화상 표시 소자 (30) 의 특성에 맞추어 각종 위상차값을 갖는 위상차 필름이 사용된다. 이 경우에는, 편광 필름 (1) 의 흡수축과 위상차 필름 (7) 의 지상축이 거의 직교 또는 거의 평행의 관계가 되도록 배치하는 것이 일반적이다. 위상차 필름 (7) 을 1/4 파장판으로 구성하는 경우에는, 1 축 또는 2 축의 연신 필름이 적합하게 사용된다. 또, 위상차 필름 (7) 을 화상 표시 소자 (30) 의 위상차 보상이나 시야각 보상의 목적으로 형성하는 경우에는, 1 축 또는 2 축 연신 필름 외에, 1 축 또는 2 축 연신에 더하여 두께 방향으로도 배향시킨 필름, 지지 필름 상에 액정 등의 위상차 발현 물질을 도포하여 배향 고정시킨 필름 등, 광학 보상 필름이라고 불리는 것을, 위상차 필름 (7) 으로서 사용할 수도 있다.

마찬가지로 도 2 에 나타내는 예와 같이, 편광판 (10) 의 구성 중에서 위상차 필름 (7) 을, 층간 점착제 (6) 를 통해서 첩합하는 경우, 그 층간 점착제 (6) 에는, 일반적인 아크릴계 점착제를 사용하는 것이 통례이지만, 여기에 본 발명의 폴리머 조성물로 구성되는 점착제나 점착제 시트를 사용하는 것도 가능하다. 앞서 서술한 대형 액정 표시 장치와 같이, 편광 필름 (1) 의 흡수축과 위상차 필름 (7) 의 지상축이 거의 직교 또는 거의 평행의 관계가 되도록 배치하는 경우, 편광판 (10) 제조시에 편광 필름 (1) 과 위상차 필름 (7) 을 층간 점착제 (6) 를 통해서 첩합할 때에는 롤·투·롤 첩합할 수 있다.

점착제 시트를 위상차 필름 상에 형성한 점착제가 부착된 위상차 필름은, 그 점착제 시트를 화상 표시 소자에 첩합하여 광학 적층체로 할 수 있는 것 외에, 그 위상차 필름측에 편광판을 첩합할 수도 있다.

여기서, 편광 필름 (「편광자」 라고도 한다) 이란, 자연광 등의 입사광에 대하여, 편광을 출사하는 기능을 갖는 광학 필름이다. 편광판에는, 편광판면에 입사하는 어느 방향의 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 그것과 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 직선 편광판, 필름면에 입사하는 어느 방향의 진동면을 갖는 직선 편광을 반사하고, 그것과 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 편광 분리 필름, 편광판과 후술하는 위상차 필름을 적층한 타원 편광판 등이 있다. 편광판, 특히 직선 편광판 (편광자 또는 편광자 필름이라고 불리는 경우도 있다) 의 적합한 구체예로서, 1 축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 것을 들 수 있다. 또, 도포형의 박막 편광 필름을 사용할 수도 있다. 도포형의 박막 편광 필름으로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2012-58381, 일본 공개특허공보 2013-37115, 국제 공개 제2012/147633, 국제 공개 제2014/091921 에 예시되는 바와 같은 것을 사용할 수 있다. 편광자의 두께는, 특별히 한정되지 않지만, 통상적으로 0.5 ∼ 35 ㎛ 인 것이 사용된다.

위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름으로서, 예를 들어, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀 (노르보르넨이나 테트라시클로도데센 또는 그들의 유도체의 중합체), 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 액정 폴리에스테르, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등의 폴리머로 이루어지는 폴리머 필름을 1.01 ∼ 6 배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리카보네이트 필름이나 폴리시클로올레핀 필름을 1 축 연신 또는 2 축 연신한 폴리머 필름이 바람직하다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서는, 상기 폴리머 및 본 발명의 광 흡수성 조성물을 포함하는 조성물을 필름화하고, 얻어진 필름을 1 축 연신 또는 2 축 연신함으로써, 위상차 필름을 얻을 수 있다. 또, 중합성 액정 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름도 위상차 필름으로서 사용할 수 있다.

또한, 이들 광학 필름에 보호 필름이 첩착된 것도, 광학 필름으로서 사용할 수 있다. 보호 필름으로는, 투명한 수지 필름이 사용되며, 그 투명 수지로는, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스나 디아세틸셀룰로오스로 대표되는 아세틸셀룰로오스계 수지, 폴리메틸메타크릴레이트로 대표되는 메타크릴 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리올레핀계 수지, 폴리카보네이트 수지, 폴리에테르에테르케톤 수지, 폴리술폰 수지 등을 들 수 있다. 보호 필름을 구성하는 수지에는, 살리실산에스테르계 화합물, 벤조페논계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 트리아진계 화합물, 시아노아크릴레이트계 화합물, 니켈 착염계 화합물 등의 자외선 흡수제가 배합되어 있어도 되고, 이 경우, 본 발명의 광 흡수성 조성물의 효과와의 상승 효과에 의해, 표시 장치의 열화를 적합하게 억제할 수 있다. 보호 필름으로는, 트리아세틸셀룰로오스 필름 등의 아세틸셀룰로오스계 수지 필름이 적합하게 사용된다.

위에서 설명한 광학 필름 중에서도, 직선 편광판은, 그것을 구성하는 편광 필름, 예를 들어, 폴리비닐알코올계 수지로 이루어지는 편광판의 편면 또는 양면에, 보호 필름이 첩착된 상태에서 사용되는 경우가 많다. 또, 전술한 타원 편광판은, 직선 편광판과 위상차 필름을 적층한 것이지만, 그 편광판도, 편광판의 편면 또는 양면에, 보호 필름이 첩착된 상태인 경우가 많다.

또, 보호 필름이란, 피보호체인 광학 필름 등의 표면을 흠집이나 오염으로부터 보호할 목적으로 사용되는 필름이다. 보호 필름의 기재로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등의 폴리올레핀；폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 폴리불화에틸렌 등의 불소화폴리올레핀；폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트/이소프탈레이트 공중합체 등의 폴리에스테르；나일론 6, 나일론 6,6 등의 폴리아미드；폴리염화비닐, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-비닐알코올 공중합체, 폴리비닐알코올, 비닐론 등의 비닐 중합체；3아세트산셀룰로오스, 2아세트산셀룰로오스, 셀로판, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 폴리머；폴리메타크릴산메틸, 폴리메타크릴산에틸, 폴리아크릴산에틸, 폴리아크릴산부틸 등의 아크릴 폴리머；그 외에, 폴리스티렌, 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리우레탄 등을 들 수 있다.

점착제 시트란, 점착제로 이루어지는 시트이다. 점착제는, 상기 광학 필름 등의 부재를 다른 부재와 접합시키기 위한 제 (劑) 이다. 점착제를 구성하는 폴리머는 특별히 한정되는 것이 아니라, 예를 들어 폴리(메트)아크릴레이트 (아크릴 수지), 실리콘 폴리머, 폴리우레탄, 및 고무 등을 들 수 있다. 상기 폴리머는, 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, 폴리머에 도입하는 모노머의 종류를 선택함으로써 점착제에 용이하게 기능성을 부여할 수 있다는 점에서, 상기 폴리머로서 아크릴 수지를 채용하는 것이 적합하다. 또한, (메트)아크릴레이트란, 아크릴레이트 및/또는 메타크릴레이트를 의미한다.

본 발명의 폴리머 조성물을 사용함으로써, 광학 적층체를 구성하는 각 부재를 얻을 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 일 실시양태에 있어서는, 본 발명의 광 흡수성 조성물 및 폴리머를 포함하는 폴리머 조성물로 구성되는, 점착제 시트, 보호 필름, 위상차 필름, 편광 필름, 및 전면판 등을 제공할 수 있다.

상기 폴리머 조성물에 함유되는 폴리머는, 광학 적층체를 구성하는 부재를 적합하게 제조할 수 있는 관점에서, 상기한 아크릴 수지 [폴리(메트)아크릴레이트], 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리시클로올레핀 및 트리아세틸셀룰로오스로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 바람직하다.

점착제 시트에 UV 흡수제를 배합한 경우 (특히, 고농도로 배합한 경우) 에는 점착제 시트의 점착 기능이 저해되는 경우가 있지만, 본 발명의 폴리머 조성물로 구성되는 점착제 시트는, 점착 기능을 유지하면서도, 광 선택 흡수성이 우수하고, 또한, 점착제 시트로부터의 블리드 아웃을 억제할 수 있기 때문에, 장기에 걸쳐 안정된 광 흡수성을 발휘할 수 있다. 이 점착제 시트를 사용한 표시 장치에 있어서는, 광 흡수 기능을 갖는 별도의 부재를 배치할 필요가 없기 때문에, 표시 장치의 박형화 및 경량화를 도모할 수 있다.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 상기 폴리머 조성물은, 상기 폴리머 및 상기 광 흡수성 조성물 외에, 필요에 따라 가교제를 함유해도 된다. 가교제는, 예를 들어, 폴리(메트)아크릴레이트 중의 특히 수산기나 극성 관능기 함유 모노머에서 유래하는 구성 단위와 반응하고, 폴리(메트)아크릴레이트를 가교시키는 화합물이다. 구체적으로는, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등이 예시된다. 이들 중, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물 및 아지리딘계 화합물은, 폴리(메트)아크릴레이트 (A) 중의 수산기 및 경우에 따라 극성 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 분자 내에 적어도 2 개 갖는다.

상기 폴리머 조성물에 있어서, 상기 폴리머 (고형분) 100 질량부에 대한, 상기 광 흡수성 조성물 (바람직하게는, 광 흡수성 조성물에 포함되는 광 선택 흡수성 화합물의 총량) 의 함유량은, 바람직하게는 1 ∼ 15 질량부, 보다 바람직하게는 1.5 ∼ 12 질량부, 더욱 바람직하게는 2 ∼ 10 질량부, 특히 바람직하게는 2.2 ∼ 8 질량부이다. 상기 광 흡수성 조성물의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 흡수되는 광량이 많아지고, 광학 적층체를 구성하는 부재 (예를 들어, 위상차 필름 등의 광학 필름이나, 유기 EL 소자 등의 화상 표시 소자) 의, 단파장의 가시광에 의한 열화를 억제할 수 있다. 상기 광 흡수성 조성물의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 폴리머 조성물을 점착제에 사용하는 경우에는 점착 기능을 충분히 발휘할 수 있고, 또 폴리머 조성물을 사용하여 얻어지는 광학 필름으로서의 광학 기능을 더욱 저해하기 어렵다. 또한, 상기 광 흡수성 조성물은 각종 용매에 대한 용해성이 우수하기 때문에, 상기 함유량이 높아도 (예를 들어, 상기 폴리머 (고형분) 100 질량부에 대한, 상기 광 흡수성 조성물 (바람직하게는, 광 흡수성 조성물에 포함되는 광 선택 흡수성 화합물의 총량) 의 함유량이 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 1.5 질량부 이상, 더욱 바람직하게는 2 질량부 이상, 특히 바람직하게는 2.2 질량부 이상이더라도), 블리드 아웃이 억제되고, 점착제로서의 점착 기능이나 광학 필름으로서의 광학 기능을 저해하기 어렵게 할 수 있다.

본 발명의 폴리머 조성물이, 점착제 시트를 구성하는 점착제 조성물인 경우, 본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 본 발명의 폴리머 조성물은,

(A) 아크릴 수지 (폴리머) 의 고형분 전체의 양을 기준으로 하여,

(A-1) 하기 식 (A-1)：

[화학식 23]

로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 50 ∼ 99.9 질량％ 와,

(A-2) 극성 관능기를 갖는 불포화 단량체 0.1 ∼ 50 질량％

를 구성 성분으로 하는 공중합체로서, 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 200 만인 아크릴 수지, 및

(B) 상기 아크릴 수지 100 질량부에 대하여 0.01 ∼ 10 질량부의 가교제

를 함유한다.

상기 식 (A-1) 에 있어서, R^p 는 수소 원자 또는 메틸기이다. R^q 는, 탄소수 1 ∼ 20 의 알킬기 또는 아르알킬기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기 또는 아르알킬기이며, 그 알킬기 또는 그 아르알킬기를 구성하는 수소 원자는, -O-(C₂H₄O)_n-R^r 로 치환되어 있어도 된다. 여기서, n 은 바람직하게는 0 ∼ 4, 보다 바람직하게는 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, R^r 은, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 5 의 알킬기, 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 12 의 아릴기, 보다 바람직하게는 탄소수 1 ∼ 10 의 아릴기를 나타낸다.

상기 식 (A-1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 (A-1) (이하, 「단량체 (A-1)」 이라고 칭하는 경우가 있다) 로서, 구체적으로는, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산프로필, 아크릴산n-부틸, 아크릴산n-옥틸, 아크릴산라우릴 등의, 직사슬형의 아크릴산알킬에스테르；아크릴산이소부틸, 아크릴산2-에틸헥실, 아크릴산이소옥틸 등의, 분지형의 아크릴산알킬에스테르；메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산n-부틸, 메타크릴산n-옥틸, 메타크릴산라우릴 등의, 직사슬형의 메타크릴산알킬에스테르；메타크릴산이소부틸, 메타크릴산2-에틸헥실, 메타크릴산이소옥틸 등의, 분지형의 메타크릴산알킬에스테르；아크릴산페닐에스테르, 아크릴산벤질에스테르 등의, 방향족기를 갖는 아크릴산에스테르；아크릴산2-페녹시에틸, 메타크릴산2-페녹시에틸, 아크릴산페녹시에스테르, 메타크릴산페닐에스테르, 메타크릴산벤질에스테르 등의, 방향족기를 갖는 메타크릴산에스테르 등이 예시된다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 복수 종을 조합하여 사용해도 된다. 그 중에서도, 점착성 발현의 관점에서 아크릴산n-부틸이 바람직하다.

극성 관능기를 갖는 불포화 단량체 (A-2) (이하, 「단량체 (A-2)」 라고 칭하는 경우가 있다) 에 있어서, 극성 관능기로는, 유리 카르복실기, 수산기, 아미노기, 에폭시 고리를 비롯한 복소 고리기 등을 들 수 있다. 단량체 (A-2) 는, 바람직하게는 극성 관능기를 갖는 (메트)아크릴산계 화합물이다. 그 예로서, 아크릴산, 메타크릴산, 및 β-카르복시에틸아크릴레이트 등의 유리 카르복실기를 갖는 불포화 단량체；(메트)아크릴산2-하이드록시에틸, (메트)아크릴산2-하이드록시프로필, (메트)아크릴산2- 또는 3-클로로-2-하이드록시프로필, 및 디에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트 등의 수산기를 갖는 불포화 단량체；아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라하이드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 및 2,5-디하이드로푸란 등의 복소 고리기를 갖는 불포화 단량체；N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 복소 고리와는 상이한 아미노기를 갖는 불포화 단량체 등을 들 수 있다. 이들 단량체 (A-2) 는, 각각 단독으로 사용해도 되고, 상이한 복수 종을 사용해도 된다.

이들 중에서도, 점착제 조성물의 접착력을 높이고, 내구성을 보다 향상시킨다는 관점에서, 수산기를 갖는 불포화 단량체를, 아크릴 수지 (A) 를 구성하는 단량체 (A-2) 의 하나로서 포함하는 것이 바람직하다.

단량체 (A-1) 과 단량체 (A-2) 를 구성 단위로 하는 아크릴 수지 (이하, 「아크릴 수지 (A)」 라고 칭하는 경우가 있다) 는, 그 고형분 전체의 양을 기준으로 하여, 단량체 (A-1) 에서 유래하는 구성 단위를, 바람직하게는 50 ∼ 99.9 질량％, 보다 바람직하게는 70 ∼ 99.9 질량％ 의 비율로 포함한다. 또, 단량체 (A-2) 에서 유래하는 구성 단위를, 바람직하게는 0.1 ∼ 50 질량％, 보다 바람직하게는 0.1 ∼ 30 질량％ 의 비율로 포함한다. 단량체 (A-1) 과 단량체 (A-2) 의 비율이 상기 범위 내에 있으면, 가공성이 보다 우수한 점착제 조성물을 제공할 수 있다.

또한, 아크릴 수지 (A) 는, 단량체 (A-1) 과 단량체 (A-2) 이외의 다른 단량체 (이하, 「단량체 (A-3)」 이라고 칭하는 경우가 있다) 를 구성 성분으로서 포함하고 있어도 된다. 다른 단량체로는, 예를 들어, 분자 내에 지환식 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르, 스티렌계 모노머, 비닐계 모노머, 분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머, (메트)아크릴아미드 유도체 등을 들 수 있다.

지환식 구조란, 탄소수가, 통상적으로 5 이상, 바람직하게는 5 ∼ 7 정도인 시클로파라핀 구조이다. 지환식 구조를 갖는 아크릴산에스테르의 구체예로는, 아크릴산이소보르닐, 아크릴산시클로헥실, 아크릴산디시클로펜타닐, 아크릴산시클로도데실, 아크릴산메틸시클로헥실, 아크릴산트리메틸시클로헥실, 아크릴산tert-부틸시클로헥실, α-에톡시아크릴산시클로헥실, 아크릴산시클로헥실페닐 등을 들 수 있으며, 지환식 구조를 갖는 메타크릴산에스테르의 구체예로는, 메타크릴산이소보르닐, 메타크릴산시클로헥실, 메타크릴산디시클로펜타닐, 메타크릴산시클로도데실, 메타크릴산메틸시클로헥실, 메타크릴산트리메틸시클로헥실, 메타크릴산tert-부틸시클로헥실, 메타크릴산시클로헥실페닐 등을 들 수 있다.

스티렌계 모노머로는, 스티렌 외에, 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌 등의 알킬스티렌；플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌 등의 할로겐화스티렌；또한, 니트로스티렌, 아세틸스티렌, 메톡시스티렌, 디비닐벤젠 등을 들 수 있다.

비닐계 모노머로는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우르산비닐 등의 지방산 비닐에스테르；염화비닐이나 브롬화비닐 등의 할로겐화비닐；염화비닐리덴 등의 할로겐화비닐리덴；비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸 등의 함질소 방향족 비닐；부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 공액 디엔 모노머；나아가서는 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등을 들 수 있다.

분자 내에 복수의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머로는, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의, 분자 내에 2 개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머；트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트 등의, 분자 내에 3 개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머 등을 들 수 있다.

(메트)아크릴아미드 유도체로는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, 2-하이드록시에틸(메트)아크릴아미드, 3-하이드록시프로필(메트)아크릴아미드, 4-하이드록시부틸(메트)아크릴아미드, 5-하이드록시펜틸(메트)아크릴아미드, 6-하이드록시헥실(메트)아크릴아미드, N-메톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-에톡시메틸(메트)아크릴아미드, N-프로폭시메틸(메트)아크릴아미드, N-부톡시메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-[2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸](메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산 등을 들 수 있다.

상기 단량체 (A-1), 단량체 (A-2) 및 단량체 (A-3) 은, 각각 단독으로, 또는 복수 종을 조합하여 사용할 수 있다. 본 발명에 있어서, 점착제 조성물에 사용될 수 있는 아크릴 수지 (A) 에 있어서, 상기 단량체 (A-3) 에서 유래하는 구성 단위는, 아크릴 수지 (A) 의 고형분 전체의 양을 기준으로, 통상적으로 0 ∼ 20 질량부, 바람직하게는 0 ∼ 10 질량부의 비율로 포함된다.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 점착제 조성물은, 1 종 또는 2 종 이상의 상기 아크릴 수지 (A) 를 포함하고 있어도 된다.

상기 아크릴 수지 (A) 는, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 에 의한 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 (Mw) 이 바람직하게는 50 만 ∼ 200 만, 보다 바람직하게는 60 만 ∼ 180 만, 더욱 바람직하게는 70 만 ∼ 170 만이다. 그 표준 폴리스티렌 환산 중량 평균 분자량이 50 만 이상이면, 고온 고습하에서의 접착성이 향상되고, 유리 기판 (화상 표시 소자) 과 점착제 시트 사이에 들뜸이나 박리가 발생할 가능성이 낮아지는 경향이 있으며, 게다가 리워크성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또, 이 중량 평균 분자량이 200 만 이하이면, 그 점착제 시트를 광학 필름 등에 첩합했을 경우에, 광학 필름의 치수가 변화해도, 그 치수 변화에 점착제 시트가 추종하여 변동하므로, 액정 셀 등의 화상 표시 소자의 주연부의 밝기와 중심부의 밝기 사이에 차가 없어져, 백색 착색이나 색불균일이 억제되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 중량 평균 분자량 (Mw) 과 수 평균 분자량 (Mn) 의 비 (Mw/Mn) 로 나타내는 분자량 분포는, 통상적으로 2 ∼ 10 정도의 범위에 있다.

상기 아크릴 수지 (A) 는, 예를 들어, 용액 중합법, 유화 중합법, 괴상 (塊狀) 중합법, 현탁 중합법 등, 공지된 각종 방법에 의해 각각 제조할 수 있다. 이 아크릴 수지의 제조에 있어서는, 통상적으로 중합 개시제가 사용된다. 중합 개시제는, 아크릴 수지의 제조에 사용되는 모든 단량체의 합계 100 질량부에 대하여, 0.001 ∼ 5 질량부 정도 사용된다.

중합 개시제로는, 열 중합 개시제나 광 중합 개시제 등이 사용된다. 광 중합 개시제로서, 예를 들어, 4-(2-하이드록시에톡시)페닐(2-하이드록시-2-프로필)케톤 등을 들 수 있다. 열 중합 개시제로서, 예를 들어, 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카르보니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스(2,4-디메틸-4-메톡시발레로니트릴), 디메틸-2,2'-아조비스(2-메틸프로피오네이트), 2,2'-아조비스(2-하이드록시메틸프로피오니트릴) 등의 아조계 화합물；라우릴퍼옥사이드, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 과산화벤조일, tert-부틸퍼옥시벤조에이트, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디프로필퍼옥시디카보네이트, tert-부틸퍼옥시네오데카노에이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, (3,5,5-트리메틸헥사노일)퍼옥사이드 등의 유기 과산화물；과황산칼륨, 과황산암모늄, 과산화수소 등의 무기 과산화물 등을 들 수 있다. 또, 과산화물과 환원제를 병용한 레독스계 개시제 등도, 중합 개시제로서 사용할 수 있다.

아크릴 수지 (A) 의 제조 방법으로는, 위에 나타낸 방법 중에서도 용액 중합법이 바람직하다. 용액 중합법의 구체예를 들어 설명하면, 원하는 단량체 및 유기 용매를 혼합하고, 질소 분위기하에서, 열 중합 개시제를 첨가하여, 40 ∼ 90 ℃ 정도, 바람직하게는 50 ∼ 80 ℃ 정도에서 3 ∼ 15 시간 정도 교반하는 방법 등을 들 수 있다. 또, 반응을 제어하기 위해서, 단량체나 열 중합 개시제를 중합 중에 연속적 또는 간헐적으로 첨가하거나, 유기 용매에 용해한 상태에서 첨가하거나 해도 된다. 여기서, 유기 용매로는, 예를 들어, 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소류；아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류；프로필알코올, 이소프로필알코올 등의 지방족 알코올류；아세톤, 2-부타논, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류 등을 사용할 수 있다.

점착제 조성물은, 상기 아크릴 수지 (A) 에 더하여, 그것과는 상이한 아크릴 수지를 포함하고 있어도 된다. 그러한 아크릴 수지로는, 예를 들어, (메트)아크릴산에스테르에서 유래하는 구성 단위를 주성분으로 하는 것 (예를 들어, 폴리메틸(메트)아크릴레이트) 로서, 중량 평균 분자량이 5 만 ∼ 30 만의 범위에 있는 비교적 저분자량의 것을 들 수 있다.

점착제 조성물이, 아크릴 수지 (A) 와는 상이한 아크릴 수지를 포함하는 경우, 아크릴 수지 (A) 와는 상이한 아크릴 수지의 함유량은, 아크릴 수지 (A) 100 질량부에 대하여, 통상적으로 50 질량부 이하인 것이 바람직하고, 30 질량부 이하인 것이 보다 바람직하다.

점착제 조성물에 함유되는 아크릴 수지 (2 종류 이상을 조합하는 경우에는 그들의 혼합물) 는, 그것을 아세트산에틸에 녹여 고형분 농도 20 질량％ 로 조정한 용액이, 25 ℃ 에 있어서 20 ㎩·s 이하, 나아가서는 0.1 ∼ 7 ㎩·s 의 점도를 나타내는 것이 바람직하다. 이 때의 점도가 20 ㎩·s 이하이면, 고온 고습하에서의 접착성이 향상되고, 표시 소자와 점착제 시트 사이에 들뜸이나 박리의 발생할 가능성이 낮아지는 경향이 있으며, 게다가 리워크성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하다. 점도는, 브룩필드 점도계에 의해 측정할 수 있다.

점착제 조성물에 있어서, 가교제로는, 예를 들어, 아크릴 수지 (A) 중의 특히 극성 관능기를 갖는 불포화 단량체에서 유래하는 구성 단위와 반응하고, 아크릴 수지 (A) 를 가교시키는 화합물이 사용된다. 구체적으로는, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트 화합물 등이 예시된다. 이들 중, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물 및 아지리딘계 화합물은, 아크릴 수지 (A) 중의 극성 관능기와 반응할 수 있는 관능기를 분자 내에 적어도 2 개 갖는다.

이소시아네이트계 화합물은, 분자 내에 적어도 2 개의 이소시아나토기 (-NCO) 를 갖는 화합물이며, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 자일릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 또, 이들 이소시아네이트계 화합물에, 글리세롤이나 트리메틸올프로판 등의 폴리올을 반응시킨 어덕트체나, 이소시아네이트계 화합물을 2 량체, 3 량체 등으로 한 것도, 점착제에 사용되는 가교제가 될 수 있다. 2 종 이상의 이소시아네이트계 화합물을 혼합하여 사용할 수도 있다.

에폭시계 화합물은, 분자 내에 적어도 2 개의 에폭시기를 갖는 화합물이며, 예를 들어, 비스페놀 A 형의 에폭시 수지, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, N,N-디글리시딜아닐린, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N'-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산 등을 들 수 있다. 2 종 이상의 에폭시계 화합물을 혼합하여 사용할 수도 있다.

아지리딘계 화합물은, 에틸렌이민이라고도 불리는 1 개의 질소 원자와 2 개의 탄소 원자로 이루어지는 3 원자 고리의 골격을 분자 내에 적어도 2 개 갖는 화합물이며, 예를 들어, 디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌멜라민, 이소프탈로일비스-1-(2-메틸아지리딘), 트리스-1-아지리디닐포스핀옥사이드, 헥사메틸렌-1,6-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리메틸올프로판-트리-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄-트리-β-아지리디닐프로피오네이트 등을 들 수 있다.

금속 킬레이트 화합물로는, 예를 들어, 알루미늄, 철, 구리, 아연, 주석, 티탄, 니켈, 안티몬, 마그네슘, 바나듐, 크롬 및 지르코늄 등의 다가 금속에, 아세틸아세톤이나 아세토아세트산에틸이 배위한 화합물 등을 들 수 있다.

이들 가교제 중에서도, 이소시아네이트계 화합물, 특히, 자일릴렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트 혹은 헥사메틸렌디이소시아네이트, 또는 이들의 이소시아네이트계 화합물을, 글리세롤이나 트리메틸올프로판 등의 폴리올에 반응시킨 어덕트체나, 이소시아네이트계 화합물을 2 량체, 3 량체 등으로 한 것의 혼합물, 이들 이소시아네이트계 화합물을 혼합한 것 등이, 바람직하게 사용된다. 적합한 이소시아네이트계 화합물로서, 톨릴렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트를 폴리올에 반응시킨 어덕트체, 톨릴렌디이소시아네이트의 2 량체, 및 톨릴렌디이소시아네이트의 3 량체, 또, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트를 폴리올에 반응시킨 어덕트체, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 2 량체, 및 헥사메틸렌디이소시아네이트의 3 량체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

본 발명에 있어서, 점착제 조성물은, 상기 아크릴 수지의 고형분 100 질량부 (2 종 이상의 아크릴 수지를 포함하는 경우에는 그 합계 100 질량부) 에 대하여, 바람직하게는 0.01 ∼ 10 질량부, 보다 바람직하게는 0.01 ∼ 0.08 질량부, 더욱 바람직하게는 0.01 ∼ 0.06 질량부의 가교제를 포함한다. 가교제의 양이 0.01 질량부 이상이면, 점착제 시트의 내구성이 향상되는 경향이 있기 때문에 바람직하고, 또 10 질량부 이하이면, 그 점착제 조성물로부터 얻어지는 점착제를 액정 표시 장치에 적용했을 때의 백색 착색이 눈에 띄지 않게 된다.

또한, 본 발명에 있어서 점착제 조성물은, 실란계 화합물을 포함하는 것이 바람직하고, 특히, 가교제를 배합하기 전의 아크릴 수지에 실란계 화합물을 함유시켜 두는 것이 바람직하다. 실란계 화합물은 유리에 대한 점착력을 향상시키기 때문에, 실란계 화합물을 포함함으로써, 유리 기판에 끼워진 표시 소자와 점착제 시트의 밀착성을 향상시킬 수 있다.

실란계 화합물로는, 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필디메톡시메틸실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란 등을 들 수 있다. 이들은, 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

실란계 화합물은, 실리콘 올리고머 타입의 것이어도 된다. 실리콘 올리고머를 (단량체) 올리고머의 형식으로 나타내면, 예를 들어, 다음과 같은 것을 들 수 있다.

3-메르캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메르캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메르캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 메르캅토프로필기 함유의 코폴리머；

메르캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 메르캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 메르캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 메르캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 메르캅토메틸기 함유의 코폴리머；

3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-메타크릴록시일오프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 메타크릴로일옥시프로필기 함유의 코폴리머；

3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 아크릴로일옥시프로필기 함유의 코폴리머；

비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,

비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 비닐기 함유의 코폴리머；

3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머 등의, 아미노기 함유의 코폴리머 등.

점착제 조성물에 있어서의 실란계 화합물의 배합량은, 아크릴 수지의 고형분 100 질량부 (2 종류 이상 사용하는 경우에는 그들의 합계 100 질량부) 에 대하여, 통상적으로 0.01 ∼ 10 질량부 정도이며, 바람직하게는 0.01 ∼ 5 질량부의 비율로 사용된다. 아크릴 수지의 고형분 100 질량부에 대한 실란계 화합물의 양이 0.01 질량부 이상이면, 점착제 시트와 표시 소자의 밀착성이 향상되기 때문에 바람직하다. 또, 그 양이 10 질량부 이하이면, 점착제 시트로부터 실란계 화합물이 블리드 아웃하는 것이 억제되는 경향이 있기 때문에 바람직하다.

점착제 조성물은, 또한, 가교 촉매, 대전 방지제, 산화 방지제, 내후안정제, 택키파이어, 가소제, 연화제, 염료, 안료, 무기 필러, 아크릴 수지 이외의 수지 등을 포함하고 있어도 된다. 산화 방지제로는, 하이드로퀴논, 디부틸하이드록시톨루엔, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 3,9-비스[2-[3-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시]-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온, 6,6'-디-tert-부틸-4,4'-부틸리덴디-m-크레솔 등의 페놀계 산화 방지제, 아인산트리이소데실, 아인산트리스(4-노닐페닐), 아인산2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페닐)2-에틸헥실, 아인산트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 등의 인계 산화 방지제, 3,3'-티오비스프로피온산디트리데실, 비스[3-(도데실티오)프로피온산] 2,2-비스[[3-(도데실티오)-1-옥소프로필옥시]메틸]-1,3-프로판디일, 비스[3-(도데실티오)프로피온산]2,2-비스[[3-(도데실티오)-1-옥소프로필옥시]메틸]-1,3-프로판디일 등의 황계 산화 방지제, 메타크릴산2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜, 메타크릴산1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜, 탄산=비스(2,2,6,6-테트라메틸-1-운데실옥시피페리딘-4-일), 부탄-1,2,3,4-테트라카르복실산테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리디닐) 등의 아민계 산화 방지제를 들 수 있다.

또, 점착제 조성물에 자외선 경화성 화합물을 배합하고, 점착제 시트 형성 후에 자외선을 조사하여 경화시켜, 보다 단단한 점착제 시트로 하는 것도 유용하다. 그 중에서도, 점착제 조성물에 가교제와 함께 가교 촉매를 배합하면, 점착제 시트를 단시간 숙성으로 조제할 수 있고, 얻어지는 광학 적층체에 있어서, 편광판이나 보호 필름 등과 점착제 시트 사이에 들뜸이나 박리가 발생하거나 점착제 시트 내에서 발포가 일어나거나 하는 것을 억제할 수 있으며, 또 리워크성도 양호해지는 경우가 있다. 가교 촉매로는, 예를 들어, 헥사메틸렌디아민, 에틸렌디아민, 폴리에틸렌이민, 헥사메틸렌테트라민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 이소포론디아민, 트리메틸렌디아민, 폴리아미노 수지, 멜라민 수지 등의 아민계 화합물 등을 들 수 있다. 점착제 조성물에 가교 촉매로서 아민계 화합물을 배합하는 경우, 가교제로는 이소시아네이트계 화합물이 적합하다

점착제를 구성하는 상기 각 성분은, 용매에 녹인 상태에서 점착제 조성물을 구성하고 있어도 된다. 이러한 용매로는, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용매；아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 락트산에틸 등의 에스테르 용매；아세톤, 2-부타논, 메틸이소부틸케톤, 시클로펜타논, 시클로헥사논, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용매；펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매；톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화수소 용매；아세토니트릴 등의 니트릴 용매；테트라하이드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용매；및, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화탄화수소 용매를 들 수 있다. 그 중에서도, 각 성분의 용해성 및 환경 부하 저감의 관점에서, 2-부타논, 메틸이소부틸케톤 등이 바람직하다.

점착제 시트는, 예를 들어 상기 서술한 바와 같은 점착제 조성물을 유기 용제 용액으로 하고, 그것을 적층하고자 하는 필름 또는 층 (예를 들어, 편광판이나 보호 필름 등) 상에 다이 코터나 그라비아 코터 등에 의해 도포하고, 건조시키는 방법에 의해 형성할 수 있다. 또, 이형 처리가 실시된 플라스틱 필름 (세퍼레이트 필름이라고 불린다) 상에 형성된 시트상 점착제를, 적층하고자 하는 필름 또는 층에 전사하는 방법에 의해서도 형성할 수 있다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서는, 본 발명의 광학 필름과, 편광 필름을 포함하는 적층 편광 필름 (「본 발명의 적층 편광 필름」 이라고도 한다) 이 제공된다. 여기서, 편광 필름이란, 자연광 등의 입사광에 대하여, 편광을 출사하는 기능을 갖는 광학 필름이다. 편광 필름에는, 필름면에 입사하는 어느 방향의 진동면을 갖는 직선 편광을 흡수하고, 그것과 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 직선 편광 필름, 필름면에 입사하는 어느 방향의 진동면을 갖는 직선 편광을 반사하고, 그것과 직교하는 진동면을 갖는 직선 편광을 투과하는 성질을 갖는 편광 분리 필름, 편광 필름과 후술하는 위상차 필름을 적층한 타원 편광판 등이 있다. 편광 필름, 특히 직선 편광 필름 (편광자라고 불리는 경우도 있다) 의 적합한 구체예로서, 1 축 연신된 폴리비닐알코올계 수지 필름이나 중합성 액정 화합물의 중합체에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 것을 들 수 있다. 적층 편광 필름은, 편광 필름과, 본 발명의 광학 필름, 예를 들어 점착제 시트, 보호 필름, 위상차 필름 등을 포함하는 적층 광학 필름이다. 편광 필름과 점착제 시트를 포함하는 적층 광학 필름, 특히 편광 필름 상에 점착제 시트가 적층된 적층 광학 필름을, 점착제가 부착된 편광판이라고도 한다.

본 발명의 적층 편광 필름은, 하기 식 (4) 를 충족하는 것이 바람직하다.

Ap(400) ≥ 0.4 (4)

식 (4) 중, Ap(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 흡광도를 나타낸다. Ap(400) 의 값은 클수록 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡수가 높은 것을 나타내고 있으며, 이 값이 0.4 미만이면, 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡수가 약하고, 400 ㎚ 부근의 단파장의 가시광에 대한 충분히 높은 내광성을 확보하기 어려워진다. 따라서, 본 발명의 적층 편광 필름에 있어서의 Ap(400) 의 값은, 바람직하게는 0.4 이상, 보다 바람직하게는 0.6 이상이며, 더욱 바람직하게는 0.8 이상, 보다 더 바람직하게는 1 이상, 특히 바람직하게는 1.2 이상, 특히 바람직하게는 1.5 이상, 매우 바람직하게는 1.8 이상, 예를 들어 2 이상이다. Ap(400) 의 값의 상한은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 적층 편광 필름에 있어서의 광 흡수성 조성물의 블리드 아웃을 억제하는 관점에서는, 통상적으로 5 이하인 것이 바람직하다.

또, 본 발명의 적층 편광 필름은, 하기 식 (5) 를 충족하는 것이 바람직하다.

Ap(420)/Ap(400) ≤ 0.3 (5)

식 (5) 중, Ap(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 흡광도를 나타내고, Ap(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 흡광도를 나타낸다. Ap(420)/Ap(400) 의 값은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 흡수의 강도에 대한 파장 400 ㎚ 에 있어서의 흡수의 강도를 나타내고 있으며, 이 값이 작을수록 420 ㎚ 부근의 파장역의 흡수와 비교하여 400 ㎚ 부근의 파장역에 특이적인 흡수가 있는 것을 나타낸다. 이 값이 작을수록 황색미가 적고 투명한 적층 편광 필름이 얻어지는 경향이다.

상기 적층 편광 필름이 상기 식 (5) 를 충족하는 경우, 파장 400 ㎚ 의 광을 흡수하는 한편 파장 420 ㎚ 의 광을 흡수하기 어렵고, 동시에 청색 가시광을 흡수하기 어렵기 때문에, 양호한 색채 표현을 저해하기 어려워지고, 나아가서는 블루 라이트 컷 기능을 발현할 수도 있다. 이러한 적층 편광 필름을 광학 적층체에 장착하는 경우에는, 광학 적층체를 구성하는 부재 (예를 들어, 위상차 필름 등의 광학 필름, 유기 EL 소자나 액정 표시 소자 등의 표시 소자) 가 단파장의 가시광 (즉, 파장 400 ㎚ 부근의 광) 에 의해 성능이 열화하는 것을 억제할 수 있다. 상기 적층 편광 필름에 있어서의 Ap(420)/Ap(400) 의 값은, 바람직하게는 0.25 이하, 보다 바람직하게는 0.2 이하, 더욱 바람직하게는 0.15 이하, 예를 들어 0.1 이하이다. 그 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 상기 적층 편광 필름에 있어서의 400 ㎚ 부근의 흡수능을 유지하는 관점에서는, 통상적으로 0.01 이상인 것이 바람직하다. 본 발명의 적합한 일 실시양태에 있어서, Ap(420)/Ap(400) 의 값은 0.05 ∼ 0.15 이다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서는, 본 발명의 광학 필름과 위상차 필름을 포함하는 적층 위상차 필름 (「본 발명의 적층 위상차 필름」 이라고도 한다) 이 제공된다. 여기서, 위상차 필름이란, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름으로서, 예를 들어, 폴리비닐알코올, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 폴리아릴레이트, 폴리이미드, 폴리올레핀, 폴리시클로올레핀, 폴리스티렌, 폴리술폰, 폴리에테르술폰, 폴리비닐리덴플루오라이드/폴리메틸메타크릴레이트, 아세틸셀룰로오스, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 비누화물, 폴리염화비닐 등으로 이루어지는 고분자 필름을 1.01 ∼ 6 배 정도로 연신함으로써 얻어지는 연신 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리카보네이트 필름이나 시클로올레핀계 수지 필름을 1 축 연신 또는 2 축 연신한 고분자 필름이 바람직하다. 또, 본 발명에 있어서의 광학 적층체가 위상차 필름을 포함하는 경우, 중합성 액정 화합물의 도포·배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 위상차 필름을 포함하는 것이 박형화의 관점에서 바람직하다.

적층 위상차 필름은, 위상차 필름과, 본 발명의 광학 필름, 예를 들어 점착제 시트, 보호 필름, 편광 필름 등을 포함하는 적층 광학 필름이다. 또한, 본 발명의 광학 필름과, 편광 필름과, 위상차 필름을 포함하는 타원 편광 필름 (「본 발명의 타원 편광 필름」 이라고도 한다) 도 제공된다. 타원 편광 필름은, 위상차 필름과, 편광 필름과, 본 발명의 광학 필름을 포함하는 적층 광학 필름이다. 또한, 위상차 필름과 점착제 시트를 포함하는 적층 광학 필름, 특히 위상차 필름 상에 점착제 시트가 적층된 적층 광학 필름을, 점착제가 부착된 위상차 필름이라고도 한다.

본 발명의 적층 위상차 필름에 있어서, 하기 식 (6) 을 충족하는 것이 바람직하다.

100 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 170 ㎚ (6)

상기 식 (6) 으로 나타내는 광학 특성을 가짐으로써, 본 발명의 적층 위상차 필름은 1/4 파장판으로서 기능할 수 있다. 또한, 본 발명의 적층 위상차 필름은, Re(550) = 137.5 ㎚ 가 이론상 바람직하지만, 양호한 표시 특성이 얻어지는 범위로서 바람직하게는 하기 식 (6-1) 을 충족한다.

130 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 150 ㎚ (6-1)

본 발명의 적층 위상차 필름에 있어서, 위상차 필름은 역파장 분산성을 갖는 것이 바람직하다. 역파장 분산성이란, 단파장에서의 면내 위상차값 쪽이 장파장에서의 면내 위상차값보다 커지는 광학 특성이며, 바람직하게는 위상차 필름이 하기 식 (7) 및 식 (8) 을 충족하는 것이다. 또한, Re(λ) 는 파장 λnm 의 광에 대한 면내 위상차값을 나타낸다.

Re(450)/Re(550) ≤ 1 (7)

1 ≤ Re(630)/Re(550) (8)

본 발명의 적층 위상차 필름에 있어서, 위상차 필름이 역파장 분산성을 갖는 경우, 표시 장치에서의 흑표시시의 착색이 저감되기 때문에 바람직하고, 상기 식 (7) 에 있어서 0.82 ≤ Re(450)/Re(550) ≤ 0.93 이면, 보다 바람직하다.

본 발명의 적층 위상차 필름에 있어서, 위상차 필름은 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 있어서의 중합체로 이루어지는 층 (이하, 「광학 이방성층」 이라고 칭하는 경우가 있다) 인 것이 바람직하다. 중합성 액정 화합물이란, 중합성 관능기, 특히 광 중합성 관능기를 갖는 액정 화합물이다. 광 중합성 관능기란, 광 중합 개시제로부터 발생한 활성 라디칼이나 산 등에 의해 중합 반응에 관여할 수 있는 기를 말한다. 광 중합성 관능기로는, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥실라닐기, 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥실라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다. 액정성은 서모트로픽성 액정이어도 되고 리오트로픽성 액정이어도 되지만, 치밀한 막두께 제어가 가능한 점에서 서모트로픽성 액정이 바람직하다. 또, 서모트로픽성 액정에 있어서의 상 질서 구조로는 네마틱 액정이어도 되고 스멕틱 액정이어도 된다.

본 발명에 있어서, 상기 중합성 액정 화합물로는, 전술한 역파장 분산성을 발현하는 점에서 하기 식 (III) 의 구조가 특히 바람직하다.

[화학식 24]

식 (III) 중, Ar 은 2 가의 방향족기를 나타내고, 그 2 가의 방향족기 중에는 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 중 적어도 1 개 이상이 포함된다.

G¹ 및 G² 는 각각 독립적으로, 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 나타낸다. 여기서, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 4 의 알콕시기, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고, 그 2 가의 방향족기 또는 2 가의 지환식 탄화수소기를 구성하는 탄소 원자가, 산소 원자, 황 원자 또는 질소 원자로 치환되어 있어도 된다.

L¹, L², B¹ 및 B² 는 각각 독립적으로, 단결합 또는 2 가의 연결기이다.

k 및 l 은, 각각 독립적으로 0 ∼ 3 의 정수를 나타내고, 1 ≤ k ＋ l 의 관계를 충족한다. 여기서, 2 ≤ k ＋ l 인 경우, B¹ 및 B², G¹ 및 G² 는, 각각 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.

E¹ 및 E² 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기를 나타내고, 여기서, 알칸디일기에 포함되는 수소 원자는, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 알칸디일기에 포함되는 -CH₂- 는, -O-, -Si- 로 치환되어 있어도 된다.

P¹ 및 P² 는 서로 독립적으로, 중합성기 또는 수소 원자를 나타내고, 적어도 1 개는 중합성기이다.

G¹ 및 G² 는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-페닐기, 할로겐 원자 및 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 치환기로 치환되어 있어도 되는 1,4-시클로헥실기이고, 보다 바람직하게는 메틸기로 치환된 1,4-페닐기, 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이며, 특히 바람직하게는 무치환의 1,4-페닐기, 또는 무치환의 1,4-trans-시클로헥실기이다.

또, 복수 존재하는 G¹ 및 G²중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 바람직하고, 또, L¹ 또는 L² 에 결합하는 G¹ 및 G²중 적어도 1 개는 2 가의 지환식 탄화수소기인 것이 보다 바람직하다.

L¹ 및 L² 는 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH₂CH₂-, -CH₂O-, -COO-, -OCO-, -N=N-, -CR^a=CR^b-, 또는 -C≡C- 이다. 여기서 R^a 및 R^b 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는 수소 원자를 나타낸다. L¹ 및 L² 는 각각 독립적으로, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH₂CH₂-, -COO-, 또는 -OCO- 이다.

B¹ 및 B² 는 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -S-, -CH₂O-, -COO-, 또는 -OCO- 이며, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -COO-, 또는 -OCO- 이다.

k 및 l 은, 역파장 분산성 발현의 관점에서 2 ≤ k ＋ l ≤ 6 의 범위가 바람직하고, k ＋ l = 4 인 것이 바람직하고, k = 2 또한 l = 2 인 것이 보다 바람직하다. k = 2 또한 l = 2 이면, 대칭 구조가 되기 때문에 바람직하다.

E¹ 및 E² 는 각각 독립적으로, 탄소수 1 ∼ 17 의 알칸디일기가 바람직하고, 탄소수 4 ∼ 12 의 알칸디일기가 보다 바람직하다.

P¹ 또는 P² 로 나타내는 중합성기로는, 에폭시기, 비닐기, 비닐옥시기, 1-클로로비닐기, 이소프로페닐기, 4-비닐페닐기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 옥실라닐기, 및 옥세타닐기 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐옥시기, 옥실라닐기 및 옥세타닐기가 바람직하고, 아크릴로일옥시기가 보다 바람직하다.

Ar 은 방향족 복소 고리를 갖는 것이 바람직하다. 당해 방향족 복소 고리로는, 푸란 고리, 벤조푸란 고리, 피롤 고리, 티오펜 고리, 피리딘 고리, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 티에노티아졸 고리, 옥사졸 고리, 벤조옥사졸 고리, 및 페난트롤린 고리 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 티아졸 고리, 벤조티아졸 고리, 또는 벤조푸란 고리를 갖는 것이 바람직하고, 벤조티아졸기를 갖는 것이 더욱 바람직하다. 또, Ar 에 질소 원자가 포함되는 경우, 당해 질소 원자는 π 전자를 갖는 것이 바람직하다.

식 (III) 중, Ar 로 나타내는 2 가의 방향족기에 포함되는 π 전자의 합계수 N_π 는 10 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 14 이상이며, 더욱 바람직하게는 18 이상이다. 또, 바람직하게는 30 이하이고, 보다 바람직하게는 26 이하이고, 더욱 바람직하게는 24 이하이다.

Ar 로 나타내는 방향족기로는, 예를 들어 이하의 기를 들 수 있다.

[화학식 25]

식 (Ar-1) ∼ 식 (Ar-20) 중, * 표시는 연결부를 나타내고, Z⁰, Z¹ 및 Z² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술피닐기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬술포닐기, 카르복실기, 탄소수 1 ∼ 12 의 플루오로알킬기, 탄소수 1 ∼ 6 의 알콕시기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬티오기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬아미노기, 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬아미노기, 탄소수 1 ∼ 12 의 N-알킬술파모일기 또는 탄소수 2 ∼ 12 의 N,N-디알킬술파모일기를 나타낸다.

Q¹, Q² 및 Q³ 은, 각각 독립적으로, -CR^2'R^3'-, -S-, -NH-, -NR^2'-, -CO- 또는 -O- 를 나타내고, R^2' 및 R^3' 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기를 나타낸다.

Y¹, Y² 및 Y³ 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타낸다.

W¹ 및 W² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 시아노기, 메틸기 또는 할로겐 원자를 나타내고, m 은 0 ∼ 6 의 정수를 나타낸다.

Y¹, Y² 및 Y³ 에 있어서의 방향족 탄화수소기로는, 페닐기, 나프틸기, 안트릴기, 페난트릴기, 비페닐기 등의 탄소수 6 ∼ 20 의 방향족 탄화수소기를 들 수 있으며, 페닐기, 나프틸기가 바람직하고, 페닐기가 보다 바람직하다. 방향족 복소 고리기로는, 푸릴기, 피롤릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기 등의 질소 원자, 산소 원자, 황 원자 등의 헤테로 원자를 적어도 1 개 포함하는 탄소수 4 ∼ 20 의 방향족 복소 고리기를 들 수 있으며, 푸릴기, 티에닐기, 피리디닐기, 티아졸릴기, 벤조티아졸릴기가 바람직하다.

Y¹, Y² 및 Y³ 은, 각각 독립적으로, 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다. 다고리계 방향족 탄화수소기는, 축합 다고리계 방향족 탄화수소기, 또는 방향 고리 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다. 다고리계 방향족 복소 고리기는, 축합 다고리계 방향족 복소 고리기, 또는 방향 고리 집합에서 유래하는 기를 말한다.

Z⁰, Z¹ 및 Z² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 시아노기, 니트로기, 탄소수 1 ∼ 12 의 알콕시기인 것이 바람직하고, Z⁰ 은, 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기, 시아노기가 더욱 바람직하고, Z¹ 및 Z² 는, 수소 원자, 불소 원자, 염소 원자, 메틸기, 시아노기가 더욱 바람직하다.

Q¹, Q² 및 Q³ 은, -NH-, -S-, -NR^2'-, -O- 가 바람직하고, R^2' 는 수소 원자가 바람직하다. 그 중에서도 -S-, -O-, -NH- 가 특히 바람직하다.

식 (Ar-1) ∼ (Ar-20) 중에서도, 식 (Ar-6) 및 식 (Ar-7) 이 분자의 안정성의 관점에서 바람직하다.

식 (Ar-14) ∼ (Ar-20) 에 있어서, Y¹ 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z⁰ 과 함께, 방향족 복소 고리기를 형성하고 있어도 된다. 예를 들어, 피롤 고리, 이미다졸 고리, 피롤린 고리, 피리딘 고리, 피라진 고리, 피리미딘 고리, 인돌 고리, 퀴놀린 고리, 이소퀴놀린 고리, 푸린 고리, 피롤리딘 고리 등을 들 수 있다. 이 방향족 복소 고리기는, 치환기를 갖고 있어도 된다. 또, Y¹ 은, 이것이 결합하는 질소 원자 및 Z⁰ 과 함께, 전술한 치환되어 있어도 되는 다고리계 방향족 탄화수소기 또는 다고리계 방향족 복소 고리기여도 된다.

광학 이방성층은, 상기 중합성 액정 화합물을 포함하는 조성물 (「광학 이방성층 형성용 조성물」 이라고도 한다) 을, 예를 들어 광 조사 등에 의해 경화함으로써 형성된다. 광학 이방성층 형성용 조성물은 각종 첨가제를 포함해도 되며, 첨가제로는, 상기 중합 개시제, 중합 금지제, 광 증감제 및 레벨링제를 들 수 있다. 상기 광학 이방성층 형성용 조성물의 고형분 100 질량부에서 차지하는, 중합성 액정 화합물의 합계 함유량은, 통상적으로 70 질량부 ∼ 99.5 질량부이고, 바람직하게는 80 질량부 ∼ 99 질량부이고, 보다 바람직하게는 80 질량부 ∼ 94 질량부이며, 더욱 바람직하게는 80 질량부 ∼ 90 질량부이다. 상기 합계 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 광학 이방성층의 배향성이 높아지는 경향이 있다. 여기서, 고형분이란, 조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 말한다.

본 발명의 다른 실시양태에 있어서, 상기 광학 필름, 적층 편광 필름, 적층 위상차 필름, 또는 타원 편광 필름 중 어느 것을 구비한 표시 장치를 제공할 수도 있다. 이러한 표시 장치는, 상기 광 흡수성 조성물을 함유하는 부재를 구비하기 때문에, 위상차 필름 등의 광학 필름이나 표시 소자의 열화를 억제할 수 있고, 또한, 블루 라이트 컷 기능을 발현할 수 있을 수 있다. 또, 상기 광 흡수성 조성물은, 파장 400 ㎚ 부근의 광에 대한 광 선택 흡수성이 우수하기 때문에, 청색 광인 파장 430 ㎚ 부근의 광을 흡수하기 어렵고, 화상 표시 장치는 양호한 색채 표현을 발현할 수 있다.

실시예

이하, 실시예 및 비교예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다. 실시예 및 비교예 중의 「％」 및 「부」 는, 특기하지 않는 한, 「질량％」 및 「질량부」 이다.

＜겔 퍼미에이션 크로마토그래피 측정＞

또, 이하의 예에 있어서, 중량 평균 분자량 및 수 평균 분자량의 측정은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (이하, GPC 라고 기재한다.) 장치 (GPC-8120, 토소 (주) 제조) 에 칼럼으로서, 4 개의 「TSK gel XL (토소 (주) 제조)」, 및 「Shodex GPC KF-802 (쇼와 전공 (주) 제조)」 를 1 개, 합계 5 개를 직렬로 이어 배치하고, 용출액으로서 테트라하이드로푸란을 사용하여, 시료 농도 5 ㎎/㎖, 시료 도입량 100 ㎕, 온도 40 ℃, 유속 1 ㎖/분의 조건으로 실시하고, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.

＜아크릴 수지의 조제＞

표 1 에 나타내는 조성에 따라, 이하의 방법에 의해, 아크릴 수지 (a) 및 아크릴 수지 (b) 를 조제하였다.

[중합예 1] 아크릴 수지 (a) 의 조제

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8 부, 단량체 (A-1) 로서 아크릴산부틸 70.4 부, 아크릴산메틸 20.0 부, 및 아크릴산2-페녹시에틸 8.0 부, 단량체 (A-2) 로서 아크릴산2-하이드록시에틸 1.0 부, 및 아크릴산 0.6 부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불포함으로 하면서 내온을 55 ℃ 로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 (중합 개시제) 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전체량 첨가하였다. 중합 개시제를 첨가한 후 1 시간, 이 온도에서 유지하고, 이어서 내온을 54 ∼ 56 ℃ 로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr 로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하고, 아크릴 수지의 농도가 35 ％ 가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 추가로 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12 시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20 ％ 가 되도록 조절하고, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw 가 142 만, Mw/Mn 이 5.2 였다. 이것을 아크릴 수지 (a) 로 하였다.

[중합예 2] 아크릴 수지 (b) 의 조제

냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반기를 구비한 반응 용기에, 용매로서 아세트산에틸 81.8 부, 단량체 (A-1) 로서 아크릴산부틸 96.0 부 및 단량체 (A-2) 로서 아크릴산 4.0 부의 혼합 용액을 투입하고, 질소 가스로 장치 내의 공기를 치환하여 산소 불포함으로 하면서 내온을 55 ℃ 로 올렸다. 그 후, 아조비스이소부티로니트릴 (중합 개시제) 0.14 부를 아세트산에틸 10 부에 녹인 용액을 전체량 첨가하였다. 중합 개시제를 첨가한 후 1 시간 이 온도에서 유지하고, 다음으로 내온을 54 ∼ 56 ℃ 로 유지하면서 아세트산에틸을 첨가 속도 17.3 부/hr 로 반응 용기 내에 연속적으로 첨가하고, 아크릴 수지의 농도가 35 ％ 가 된 시점에서 아세트산에틸의 첨가를 멈추고, 또한 아세트산에틸의 첨가 개시로부터 12 시간 경과할 때까지 이 온도에서 보온하였다. 마지막으로 아세트산에틸을 첨가하여 아크릴 수지의 농도가 20 ％ 가 되도록 조절하고, 아크릴 수지의 아세트산에틸 용액을 조제하였다. 얻어진 아크릴 수지는, GPC 에 의한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw 가 75 만 6000, Mw/Mn 이 4.1 이었다. 이것을 아크릴 수지 (b) 로 하였다.

＜점착제 조성물 및 점착제 시트의 조제＞

(a) 점착제 조성물의 조제

이하와 같이, 아크릴 수지 (a), 광 선택 흡수성 화합물 (자외선 흡수제), 가교제 및 실란계 화합물을 혼합하고, 점착제 조성물을 각각 조제하였다.

또한, 가교제 및 실란계 화합물은 이하와 같다. 광 선택 흡수성 화합물 (화합물 (1) ∼ (9)) 의 구조 및 물성은 표 2 에 나타낸다. 또, 광 선택 흡수성 화합물 (화합물 (1) ∼ (9)) 의 첨가량을 표 3 및 5 에 나타내지만, 이 첨가량은, 아크릴 수지 중의 고형분 100 질량부에 대한 질량부이다. 가교제 및 광 선택 흡수성 화합물은, 각각 2-부타논과 혼합하여 아크릴 수지에 첨가하였다.

[가교제]

·콜로네이트 L：톨릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 어덕트체의 아세트산에틸 용액 (고형분 농도 75 ％), 닛폰 폴리우레탄 주식회사 제조

·타케네이트 D-110N：자일릴렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물의 아세트산에틸 용액 (고형분 농도 75 ％), 미츠이 화학 주식회사 제조 (이하, 「D110N」 이라고 약기한다)

[실란계 화합물]

·KBM-403：3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 액체, 신에츠 화학 공업 주식회사 제조

[광 선택 흡수성 화합물]

＜광 선택 흡수성 화합물의 합성＞

(합성예 1)

[화학식 26]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2011-184414) 을 참고로 합성한 중간체 1 분말 10 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 3.7 g, 모르폴린 (와코 쥰야쿠 (주) 제조) 2.5 g, 및 2-프로필알코올 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 15 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 72 ℃ 까지 승온하고, 3 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각시키고, 이배퍼레이터를 사용하여 용매를 증류 제거하였다. 얻어진 농축액에, 메탄올 17 g 및 물 3 g 의 혼합액을 첨가하고, 결정을 얻었다. 그 결정을 40 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (1) 을 2.0 g 얻었다. 수율은 70 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 171 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.0251 이었다.

화합물 (1) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 2)

[화학식 27]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 2 분말 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 3 g, 시아노아세트산2-에톡시에틸 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 2.2 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 12 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 75 ℃ 까지 승온 후, 피리딘 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 1.1 g 적하하고, 6 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각시키고, 이배퍼레이터를 사용하여 용매를 증류 제거하였다. 얻어진 농축액에, 톨루엔 20 g, 4.1 질량％ 염산 수용액 30 g 을 첨가하고, 톨루엔 용액을 분액 세정하였다. 또한, 톨루엔 용액에 물 40 g 을 첨가하고, 분액 세정을 실시하였다. 이배퍼레이터를 사용하여 톨루엔을 증류 제거하고, 결정을 얻었다. 그 결정을 40 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (2) 를 3.5 g 얻었다. 수율은 73 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 386 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 51 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.165 였다.

화합물 (2) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 3)

[화학식 28]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2014-194508) 을 참고로 합성한 중간체 3 분말 10 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 3.7 g, 시아노아세트산2-에톡시에틸 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 5.8 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 60 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온 25 ℃ 에서 N,N-디이소프로필에틸아민 (이하, DIPEA 로 약기한다. 토쿄 화성 공업 (주) 제조) 4.7 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 25 ℃ 에서 추가로 2 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 감압 이배퍼레이터를 사용하여 아세토니트릴을 제거하고, 얻어진 유상물에 톨루엔을 첨가하여 생성된 불용 성분을 여과로 없앴다. 여과액을 재차 감압 이배퍼레이터를 사용하여 농축하고, 농축 후의 용액을 칼럼 크로마토그래피 (실리카 겔) 에 제공하여 정제하고, 톨루엔 중으로부터 재결정함으로써 목적물을 얻었다. 그 결정을 60 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (3) 을 5.2 g 얻었다. 수율은 65 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 125 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.0153 이었다.

화합물 (3) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 4)

[화학식 29]

딤로스 냉각관, 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 특허문헌 (일본 공개특허공보 2014-194508) 을 참고로 합성한 중간체 3 분말 10 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 3.6 g, 시아노아세트산2-에틸헥실 (토쿄 화성 공업 주식회사 제조) 6.9 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 주식회사 제조) 60 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온 25 ℃ 에서 DIPEA (토쿄 화성 공업 주식회사 제조) 4.5 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 25 ℃ 에서 추가로 2 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 감압 이배퍼레이터를 사용하여 아세토니트릴을 제거하고, 칼럼 크로마토그래피 (실리카 겔) 에 제공하여 정제하고, 화합물 (4) 를 포함하는 유출액을, 감압 이배퍼레이터를 사용하여 용매를 제거하고, 황색 결정을 얻었다. 그 결정을 60 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (4) 를 4.6 g 얻었다. 수율은 50 ％ 였다.

분광 광도계 UV-3150 (주식회사 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중) 이고, ε(400) 의 값은 108 ℓ/(g·㎝) 이며, ε(420)/ε(400) 의 값은 0.013 이었다.

화합물 (4) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 5)

[화학식 30]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 시아노아세트산 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 2.0 g, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 4.3 g, p-톨루엔술폰산 1수화물 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.2 g, 톨루엔 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 20 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 110 ℃ 까지 승온하고, 3 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 톨루엔 용액에 물 40 g 을 첨가하고, 분액 세정을 실시하였다. 이배퍼레이터를 사용하여 얻어진 톨루엔 용액으로부터 톨루엔을 증류 제거하고, 오일상의 액체로서 중간체 4 를 4.7 g 얻었다. 수율은 86 ％ 였다.

[화학식 31]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 2 분말 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 2.0 g, 중간체 4 2.6 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 8.0 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 75 ℃ 까지 승온하고, 피페리딘 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.7 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 75 ℃ 에서 추가로 6 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각시키고, 이배퍼레이터를 사용하여 용매를 증류 제거하였다. 얻어진 농축액에 아세트산에틸 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 10 g, 물 20 g 을 첨가하고, 아세트산에틸 용액을 분액 세정하였다. 이배퍼레이터를 사용하여 얻어진 아세트산에틸 용액으로부터 아세트산에틸을 증류 제거하고, 오일상의 액체로서 화합물 (5) 를 3.6 g 얻었다. 수율은 93 ％ 였다.

화합물 (5) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 6)

[화학식 32]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 2 분말 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 3.0 g, 시아노아세트산2-에틸헥실 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 2.7 g, 피리딘 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 1.0 g 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 12 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 75 ℃ 까지 승온하고, 6 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 실온까지 냉각시키고, 석출한 결정을 여과하였다. 그 결정을 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 10 g 으로 세정하고, 추가로 그 결정을 40 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (6) 을 4.3 g 얻었다. 수율은 81 ％ 였다.

화합물 (6) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 7)

[화학식 33]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 3 분말 10 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 2.9 g, 시아노아세트산이소부틸 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 4.4 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 30 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온 25 ℃ 에서 DIPEA (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 3.7 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 25 ℃ 에서 추가로 2 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 냉수 150 g 에 아세토니트릴 용액을 적하하고, 석출한 결정을 여과하였다. 그 결정을 물 2 g, 아세토니트릴 10 g 의 혼합 용액으로 세정하고, 추가로 그 결정을 헵탄 10 g 으로 세정하였다. 세정한 그 결정을 70 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (7) 을 5.2 g 얻었다. 수율은 84 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 130 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.0092 였다.

화합물 (7) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 8)

[화학식 34]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 시아노아세트산 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 6.3 g, 2-n-옥틸-1-도데칸올 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 20.0 g, p-톨루엔술폰산 1수화물 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 0.6 g, 톨루엔 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 100 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 110 ℃ 까지 승온하고, 3 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 톨루엔 용액에 물 100 g 을 첨가하고, 분액 세정을 실시하였다. 이배퍼레이터를 사용하여 얻어진 톨루엔 용액으로부터 톨루엔을 증류 제거하고, 액체로서 중간체 5 를 22 g 얻었다. 수율은 90 ％ 였다.

[화학식 35]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 3 분말 6 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 1.8 g, 중간체 5 6.3 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 18 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온 25 ℃ 에서 DIPEA (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 3.7 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 25 ℃ 에서 추가로 2 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 냉수 90 g 에 아세토니트릴 용액을 적하하고, 석출한 결정을 여과하였다. 그 결정을 물 2 g, 아세토니트릴 10 g 의 혼합 용액으로 세정하고, 추가로 그 결정을 헵탄 10 g 으로 세정하였다. 세정한 그 결정을 70 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (8) 을 6.5 g 얻었다. 수율은 92 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 52 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.0121 이었다.

화합물 (8) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(합성예 9)

[화학식 36]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 시아노아세트산 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 14 g, 2-에틸-1-부탄올 (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 15 g, p-톨루엔술폰산 1수화물 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 1.4 g, 톨루엔 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 75 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온을 110 ℃ 까지 승온하고, 3 시간 교반하였다. 반응 종료 후, 톨루엔 용액에 물 100 g 을 첨가하고, 분액 세정을 실시하였다. 이배퍼레이터를 사용하여 얻어진 톨루엔 용액으로부터 톨루엔을 증류 제거하고, 액체로서 중간체 6 을 22 g 얻었다. 수율은 90 ％ 였다.

[화학식 37]

딤로스 냉각관 및 온도계를 설치한 200 ㎖-4 구 플라스크 내에, 질소 분위기에 있어서, 중간체 3 분말 10 g, 무수 아세트산 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 2.9 g, 중간체 6 4.8 g, 및 아세토니트릴 (와코 쥰야쿠 공업 (주) 제조) 30 g 을 투입하고, 마그네틱 스터러로 교반하였다. 내온 25 ℃ 에서 DIPEA (토쿄 화성 공업 (주) 제조) 3.7 g 을 적하 깔때기로부터 1 시간 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후에 내온 25 ℃ 에서 추가로 2 시간 보온하였다. 반응 종료 후, 냉수 150 g 에 아세토니트릴 용액을 적하하고, 석출한 결정을 여과하였다. 그 결정을 물 2 g, 아세토니트릴 10 g 의 혼합 용액으로 세정하고, 추가로 그 결정을 헵탄 10 g 으로 세정하였다. 세정한 그 결정을 70 ℃ 감압 건조시킴으로써, 황색 분말로서 화합물 (9) 를 5.7 g 얻었다. 수율은 84 ％ 였다.

또, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여 흡수 극대 파장 (λmax) 을 측정한 결과, λmax = 389 ㎚ (2-부타논 중), ε(400) 은 118 ℓ/(g·㎝), ε(420)/ε(400) 은 0.0090 이었다.

화합물 (9) 의 ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 그 결과는 이하와 같다.

(a-1) 제조예 1：점착제 조성물 (1) 의 조제

아크릴 수지 (a) 의 고형분 100 질량부에 대하여, 가교제 (콜로네이트 L) 0.50 질량부, 실란계 화합물 (KBM-403) 0.50 질량부를 각각 배합하였다. 또한 고형분 농도가 14 ％ 가 되도록 2-부타논을 첨가하고, 교반기 (야마토 과학 주식회사 제조 쓰리 원 모터) 를 사용하여, 300 rpm 으로 30 분간 교반 혼합하고, 점착제 조성물 (1) 을 조제하였다.

(a-2) 제조예 2 ∼ 27：점착제 조성물 (2) ∼ (27) 의 조제

아크릴 수지 (a) 의 고형분 100 질량부에 대하여, 가교제 (콜로네이트 L) 0.50 질량부 및 실란계 화합물 (KBM-403) 0.50 질량부, 그리고 표 3 에 나타내는 광 선택 흡수성 화합물 (화합물 (1) ∼ (9)) 을, 표 3 에 나타내는 양으로 배합하였다. 또한 고형분 농도가 14 질량％ 가 되도록 2-부타논을 첨가하고, 교반기 (야마토 과학 주식회사 제조 쓰리 원 모터) 를 사용하여, 300 rpm 으로 30 분간 교반 혼합하고, 점착제 조성물 (2) ∼ (27) 을 각각 조제하였다.

제조예 2 ∼ 27 에서 얻어진 점착제 조성물 (2) ∼ (27) 에 대해, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여, 극대 흡수 파장 λmax 를 측정하였다. 또, ε(400) 및 ε(420) 도 측정하고, ε(420)/ε(400) 을 산출하였다. 그 결과를 표 4 에 나타낸다.

(a-3) 제조예 28：점착제 조성물 (28) 의 조제

아크릴 수지 (b) 의 고형분 100 질량부에 대하여, 가교제 (콜로네이트 L) 0.50 질량부, 실란계 화합물 (KBM-403) 0.50 질량부를 각각 배합하였다. 또한 고형분 농도가 14 ％ 가 되도록 2-부타논을 첨가하고, 교반기 (야마토 과학 주식회사 제조 쓰리 원 모터) 를 사용하여, 300 rpm 으로 30 분간 교반 혼합하고, 점착제 조성물 (28) 을 조제하였다.

(a-4) 제조예 29 ∼ 52：점착제 조성물 (29) ∼ (52) 의 조제

아크릴 수지 (b) 의 고형분 100 질량부에 대하여, 가교제 (콜로네이트 L) 0.50 질량부 및 실란계 화합물 (KBM-403) 0.50 질량부, 그리고 표 5 에 기재된 광 선택 흡수성 화합물을 표 5 에 나타내는 양으로 배합하였다. 또한 고형분 농도가 14 ％ 가 되도록 2-부타논을 첨가하고, 교반기 (야마토 과학 주식회사 제조 쓰리 원 모터) 를 사용하여, 300 rpm 으로 30 분간 교반 혼합하고, 점착제 조성물 (29) ∼ (52) 를 각각 조제하였다.

제조예 29 ∼ 52 에서 얻어진 점착제 조성물 (29) ∼ (52) 에 대해, 분광 광도계 UV-3150 ((주) 시마즈 제작소 제조) 을 사용하여, 극대 흡수 파장 λmax 를 측정하였다. 또, ε(400) 및 ε(420) 도 측정하고, ε(420)/ε(400) 을 산출하였다. 그 결과를 표 6 에 나타낸다.

(b-1) 참고예 1

이형 처리가 실시된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 (린텍사 제조 SP-PLR382050, 이하, 「세퍼레이터」 라고 약기한다) 의 이형 처리면에, 제조예 1 에서 조제한 점착제 조성물 (1) 을, 건조 후의 점착제층의 두께가 10 ㎛ 가 되도록 어플리케이터를 사용하여 도포하고, 100 ℃ 에서 1 분간 건조시켜 점착제 시트 (R1) 을 제조하였다.

얻어진 점착제 시트 (R1) 의 광학 특성을 분광 광도계 (UV-3150；(주) 시마즈 제작소 제조) 에 의해 측정하였다. 결과를 표 7 에 나타낸다. 표 중의 T(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 투과율 (％), T(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 투과율 (％) 을 나타낸다.

(b-2) 참고예 2

세퍼레이터의 이형 처리면에, 제조예 1 에서 조제한 점착제 조성물 (1) 을, 건조 후의 점착제층의 두께가 5 ㎛ 가 되도록 어플리케이터를 사용하여 도포하고, 100 ℃ 에서 1 분간 건조시켜 점착제 시트 (R2) 를 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (R2) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 7 에 나타낸다.

(b-3) 비교예 1 ∼ 17

점착제 조성물 (1) 대신에, 제조예 2 ∼ 18 에서 조제한 점착제 조성물 (2) ∼ (18) 을 각각 사용하여, 참고예 1 과 동일한 방법에 의해, 비교예 1 ∼ 17 의 점착제 시트 (C1) ∼ (C17) 을 각각 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (C1) ∼ (C17) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 7 에 나타낸다.

(b-4) 실시예 1 ∼ 9

점착제 조성물 (1) 대신에, 제조예 19 ∼ 27 에서 조제한 점착제 조성물 (19) ∼ (27) 을 각각 사용하여, 참고예 1 과 동일한 방법에 의해, 실시예 1 ∼ 9 의 점착제 시트 (E1) ∼ (E9) 를 각각 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (E1) ∼ (E9) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 7 에 나타낸다.

(b-5) 실시예 10 ∼ 14

점착제 조성물 (1) 대신에, 제조예 19 ∼ 23 에서 조제한 점착제 조성물 (19) ∼ (23) 을 사용하여, 참고예 2 와 동일한 방법에 의해, 실시예 10 ∼ 14 의 점착제 시트 (E10) ∼ (E14) 를 각각 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (E10) ∼ (E14) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 7 에 나타낸다.

(b-6) 참고예 3

제조예 28 에서 조제한 점착제 조성물 (28) 을 사용하여, 참고예 1 과 동일한 방법에 의해, 참고예 3 의 점착제 시트 (R3) 을 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (R3) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 8 에 나타낸다.

(b-7) 비교예 18 ∼ 34

제조예 29 ∼ 45 에서 조제한 점착제 조성물 (29) ∼ (45) 를 사용하여, 참고예 1 과 동일한 방법에 의해, 비교예 18 ∼ 34 의 점착제 시트 (C18) ∼ (C34) 를 각각 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (C18) ∼ (C34) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 8 에 나타낸다.

(b-8) 실시예 15 ∼ 21

제조예 46 ∼ 52 에서 조제한 점착제 조성물 (46) ∼ (52) 를 사용하여, 참고예 1 과 동일한 방법에 의해, 실시예 15 ∼ 21 의 점착제 시트 (E15) ∼ (E21) 을 각각 제조하였다. 얻어진 점착제 시트 (E15) ∼ (E21) 의 광학 특성을 참고예 1 과 동일한 방법에 의해 측정하였다. 결과를 표 8 에 나타낸다.

＜점착제 시트의 결정 석출 평가＞

[40 ℃ 가온 시험 (표 7 및 8 에서는 「가온」 이라고 표기)]

항온조 (에스펙 주식회사 제조：형번 PL-3KT) 에, 상기 점착제 시트를 각각 투입하고, 온도 40 ℃ 의 건조 조건하에서, 7 일간 및 30 일간 각각 방치한 후, 점착제 시트의 외관 상태를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 실시하였다. 그 결과를 표 7 및 8 에 나타낸다.

[40 ℃ 가온 시험의 평가 기준]

A：30 일 후의 샘플에 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 확인되지 않는다.

B：7 일 후의 샘플에 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 확인되지 않는다.

C：7 일 후의 샘플에 결정 석출 등의 외관 변화가 현저하게 확인된다.

[―15 ℃ 냉각 시험 (표 7 및 8 에서는 「냉각」 이라고 표기)]

항온조에 상기 점착제 시트를 투입하고, 온도 ―15 ℃ 의 건조 조건하에서, 7 일간 및 30 일간 각각 방치한 후, 점착제 시트의 외관 상태를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 실시하였다. 그 결과를 표 7 및 8 에 나타낸다.

[―15 ℃ 냉각 시험의 평가 기준]

＜적층 광학 필름의 제조＞

다음으로, 이하와 같이 적층 광학 필름을 제조하였다. 적층 광학 필름의 제조에 있어서, 이하의 폴리머 필름을 사용하였다. 또, 처리 장치, 측정 장치 및 측정 방법에 대해서도 이하와 같다.

·시클로올레핀 폴리머 (COP) 필름：닛폰 제온 주식회사 제조의 ZF-14

·코로나 처리 장치：카스가 전기 주식회사 제조의 AGF-B10

·코로나 처리의 조건：상기 코로나 처리 장치를 사용하여, 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 실시

·편광 UV 조사 장치：우시오 전기 주식회사 제조의 편광자 유닛이 부착된 SPOT CURE SP-7

·레이저 현미경：올림퍼스 주식회사 제조의 LEXT

·고압 수은 램프：우시오 전기 주식회사 제조의 유니큐어 VB-15201BY-A

·면내 위상차값의 측정：복굴절 측정 장치 (오지 계측 기기 주식회사 제조의 KOBRA-WR) 를 사용하여 측정

·배향막의 막두께의 측정：닛폰 분광 주식회사 제조의 엘립소미터 M-220 을 사용하여 측정

광학 이방성층 및 적층체 등의 제조에는, 이하에 나타내는 「광 배향막 형성용 조성물」, 「러빙 배향성 폴리머 조성물」, 「중합성 액정 화합물 A 를 포함하는 조성물」, 및 「편광판」 을 사용하였다.

＜광 배향막 형성용 조성물의 조제＞

하기 구조의 광 배향성 재료 5 부와 시클로펜타논 (용제) 95 부를 혼합하고, 얻어진 혼합물을 80 ℃ 에서 1 시간 교반함으로써, 광 배향막 형성용 조성물을 얻었다.

[화학식 38]

＜중합성 액정 화합물 A 를 포함하는 조성물의 조제＞

하기 구조의 중합성 액정 화합물 A 와, 하기의 중합 개시제와 레벨링제와 용제를 성분으로서 혼합하고, 중합성 액정 화합물 A 를 포함하는 조성물을 얻었다. 또한, 중합성 액정 화합물 A 는, 일본 공개특허공보 2010-31223호에 기재된 방법으로 합성하였다. 중합성 액정 화합물 A 의 극대 흡수 파장 λmax (LC) 는, 350 ㎚ 였다.

·중합성 액정 화합물 A (12.0 부)：

[화학식 39]

·중합 개시제 (0.72 부)：2-디메틸아미노-2-벤질-1-(4-모르폴리노페닐)부탄-1-온 (이르가큐어 369；치바 스페셜리티 케미컬즈사 제조)

·레벨링제 (0.12 부)：폴리아크릴레이트 화합물 (BYK-361N；BYK-Chemie 사 제조)

·용제 (100 부)：시클로펜타논

＜편광판의 제조＞

두께 30 ㎛ 의 폴리비닐알코올 필름 (평균 중합도 약 2400, 비누화도 99.9 몰 ％ 이상) 을, 건식 연신에 의해 약 4 배로 1 축 연신하고, 또한 긴장 상태를 유지한 채로, 40 ℃ 의 순수에 40 초간 침지한 후, 요오드/요오드화칼륨/물의 중량비가 0.044/5.7/100 인 염색 수용액에 28 ℃ 에서 30 초간 침지하여 염색 처리를 실시하였다. 그 후, 요오드화칼륨/붕산/물의 중량비가 11.0/6.2/100 인 붕산 수용액에 70 ℃ 에서 120 초간 침지하였다. 계속해서, 8 ℃ 의 순수로 15 초간 세정한 후, 300 N 의 장력으로 유지한 상태에서, 60 ℃ 에서 50 초간, 이어서 75 ℃ 에서 20 초간 건조시켜, 폴리비닐알코올 필름에 요오드가 흡착 배향하고 있는 두께 12 ㎛ 의 편광자를 얻었다.

얻어진 편광자와, 시클로올레핀 폴리머 필름 (COP, 닛폰 제온 주식회사 제조 ZF-4 UV 흡수 특성 없음 30 ㎛) 사이에 수계 접착제를 주입하고, 닙 롤로 첩합하였다. 얻어진 첩합물의 장력을 430 N/m 으로 유지하면서, 60 ℃ 에서 2 분간 건조시켜, 편면에 보호 필름으로서 시클로올레핀 필름을 갖는 42 ㎛ 의 편광판을 얻었다. 또한, 상기 수계 접착제는, 물 100 부에, 카르복실기 변성 폴리비닐알코올 (주식회사 쿠라레 제조；쿠라레 포발 KL318) 3 부와, 수용성 폴리아미드 에폭시 수지 (스미카 켐텍스 주식회사 제조；스미레즈 레진 650；고형분 농도 30 ％ 의 수용액) 1.5 부를 첨가하여 조제하였다.

이하와 같이 하여, 얻어진 편광판의 편광도 Py 및 단체 투과율 Ty 를 측정하였다.

투과축 방향의 단체 투과율 (T1) 및 흡수축 방향의 단체 투과율 (T2) 를, 분광 광도계 (UV-3150；주식회사 시마즈 제작소 제조) 에 편광자가 부착된 폴더를 세트한 장치를 사용하여, 더블빔법에 의해 2 ㎚ 스텝 380 ∼ 680 ㎚ 의 파장 범위에서 측정하였다. 하기 식 (p) 그리고 (q) 를 이용하여, 각 파장에 있어서의 단체 투과율, 편광도를 산출하고, 또한 JIS Z8701 의 2 도 시야 (C 광원) 에 의해 시감도 보정을 실시하고, 시감도 보정 단체 투과율 (Ty) 및 시감도 보정 편광도 (Py) 를 산출하였다. 그 결과, 시감도 보정 단체 투과율 Ty 가 43.0 ％, 시감도 보정 편광도 Py 가 99.99 ％ 인 흡수형 편광판을 얻었다.

단체 투과율 Ty (％) = {(T1 ＋ T2)/2} × 100 (p)

편광도 Py (％) = {(T1 ― T2)/(T1 ＋ T2)} × 100 (q)

＜광학 이방성층의 제조＞

시클로올레핀 폴리머 필름 (COP, 닛폰 제온 주식회사 제조 ZF-14) 을, 코로나 처리 장치 (AGF-B10, 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리하였다. 코로나 처리를 실시한 표면에, 광 배향막 형성용 조성물을 바 코터 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조시키고, 편광 UV 조사 장치 (SPOT CURE SP-7；우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 100 mJ/㎠ 의 적산 광량으로 편광 UV 노광을 실시하였다. 얻어진 배향막의 막두께를 엘립소미터로 측정한 결과, 100 ㎚ 였다.

계속해서, 배향막 상에, 먼저 조제한 중합성 액정 화합물 A 를 포함하는 조성물로 이루어지는 도공액을 바 코터를 사용하여 도포하고, 120 ℃ 에서 1 분간 건조시킨 후, 고압 수은 램프 (유니큐어 VB-15201BY-A, 우시오 전기 주식회사 제조) 를 사용하여, 도공액을 도포한 면측으로부터 자외선을 조사 (질소 분위기하, 파장 313 ㎚ 에 있어서의 적산 광량：500 mJ/㎠) 함으로써, 광학 이방성층 (위상차 필름) 을 포함하는 광학 필름을 얻었다. 얻어진 광학 이방성층의 막두께를 레이저 현미경으로 측정한 결과, 2 ㎛ 였다.

(c-1) 실시예 22：적층 광학 필름 (1) 의 제조

상기 광학 필름의 광학 이방성층 측에, 실시예 1 에서 제조한 점착제 시트 (E1) 을 첩합하고, 상기 점착제 시트 (E1) 의 세퍼레이터를 없앤 후, 나타난 점착제 조성물 (19) 의 표면에 상기 편광판을 적층하였다. 그 후, 코로나 처리 장치 (AGF-B10, 카스가 전기 주식회사 제조) 를 사용하여 출력 0.3 ㎾, 처리 속도 3 m/분의 조건으로 1 회 처리함으로써, 상기 편광판과 상기 광학 이방성층을, 점착제 조성물 (19) 를 통해서 첩합하였다. 이 때, 편광판의 흡수축에 대하여 광학 이방성층의 지상축의 관계가 45° 가 되도록 적층하고, 원편광판을 형성하였다. 그 후, 상기 광학 필름의 기재인 COP 필름을 박리함으로써, 편광판에 광학 이방성층을 전사한 적층 광학 필름 (원편광판) 1 을 얻었다. 얻어진 적층 광학 필름 1 의 두께는 64 ㎛ 였다.

적층 광학 필름 1 의 광학 특성을 측정하기 위해서, 유리에 전사함으로써 측정용 샘플을 제조하였다. 이 샘플의 파장 450 ㎚, 파장 550 ㎚ 그리고 파장 630 ㎚ 의 위상차값을 복굴절 측정 장치 (KOBRA-WR；오지 계측 기기 주식회사 제조) 에 의해 측정하고, 파장 400 ㎚ 그리고 파장 420 ㎚ 의 투과율을 분광 광도계 (UV-3150；주식회사 시마즈 제작소 제조) 에 의해 측정하였다. 또한, 광원측에 편광 프리즘을 배치함으로써 완전 직선 편광으로 하고, 이 직선 편광을 측정용 샘플에 조사함으로써 측정하였다. 이 때, 적층 광학 필름 1 (원편광판 1) 의 편광판측의 투과축과 평행하게 직선 편광을 입사함으로써, 편광판의 투과축 방향의 파장 400 ㎚ 에 있어서의 적층 광학 필름의 흡광도 Ap(400), 그리고, 편광판의 투과축 방향의 파장 420 ㎚ 에 있어서의 적층 광학 필름의 흡광도 Ap(420) 을 측정하였다. 그 결과를 표 9 에 나타낸다. 또한, 적층 광학 필름 1 은 하기 식 (4) ∼ (8) 로 나타내는 광학 특성 전부를 가졌다.

Ap(400) ≥ 0.4 (4)

Ap(420)/Ap(400) ≤ 0.3 (5)

100 ㎚ ≤ Re(550) ≤ 170 ㎚ (6)

Re(450)/Re(550) ≤ 1 (7)

1 ≤ Re(630)/Re(550) (8)

(c-2) 참고예 4 ∼ 6, 비교예 35 ∼ 39, 및 실시예 23 ∼ 42：각각, 하기 표 9 에 기재된 점착제 시트를 사용하여, 실시예 22 와 동일한 방법에 의해, 적층 광학 필름 (원편광판) 을 제조하였다. 얻어진 적층 광학 필름 (원편광판) 의 광학 특성을, 실시예 22 와 동일한 방법에 의해 측정하였다.

＜적층 광학 필름의 평가＞

상기에서 제조한 적층 광학 필름에 대해, 광학 내구성 시험, 내열 시험, 내습열 시험 및 내히트쇼크 시험을 실시하였다. 또한, 각 시험은 이하의 방법에 따라 실시하였다.

[광학 내구성 시험]

선샤인 웨더 미터 (스가 시험기 주식회사 제조：형번 SUNSHINE WEATHER METER S80) 에 적층 광학 필름을 투입하고, 100 시간 조사한 후, 파장 450 ㎚, 파장 550 ㎚ 및 파장 630 ㎚ 의 위상차값 Re(λ) 를 측정하였다. 광학 내구성 시험 전후의 위상차값의 변화로부터, 이하의 기준에 따라 평가를 실시하였다. 결과를 표 10 에 나타낸다.

[광학 내구성 시험의 평가 기준]

A：광학 내구성 시험 전후의 위상차값의 변화 ΔRe(λ) 가 5 미만

B：광학 내구성 시험 전후의 위상차값의 변화 ΔRe(λ) 가 5 이상 10 미만

C：광학 내구성 시험 전후의 위상차값의 변화 ΔRe(λ) 가 10 이상

[내열 시험]

항온조 (에스펙 주식회사 제조：형번 PL-3KT) 에 적층 광학 필름을 투입하고, 온도 85 ℃ 의 건조 조건하에서 250 시간, 500 시간 각각 방치한 후, 적층 광학 필름의 외관 상태를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 실시하였다. 결과를 표 10 에 나타낸다.

[내열 시험의 평가 기준]

A：500 시간 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.

B：250 시간 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.

C：250 시간 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 현저하게 확인된다.

[내습열 시험]

항온조 (에스펙 주식회사 제조：형번 PH-4KT) 에 적층 광학 필름을 투입하고, 온도 60 ℃, 상대 습도 90 ％ 로 250 시간, 500 시간 각각 방치한 후, 적층 광학 필름의 외관 상태를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준에 따라 평가를 실시하였다. 결과를 표 10 에 나타낸다.

[내습열 시험의 평가 기준]

[내히트쇼크 (HS) 시험]

냉열 충격 장치 (에스펙 주식회사 제조：형번 TSA-71L-A) 에 적층 광학 필름을 투입하고, 70 ℃ 로 가열한 상태로부터 ―40 ℃ 로 강온하고, 이어서 70 ℃ 로 승온하는 과정을 1 사이클 (30 분) 로 하여, 이것을 50 사이클, 100 사이클 각각 반복한 후, 적층 광학 필름의 외관 상태를 육안으로 관찰하였다. 이하의 평가 기준에 따라 평가를 실시하였다. 결과를 표 10 에 나타낸다.

[내히트쇼크 시험의 평가 기준]

A：100 사이클 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.

B：50 사이클 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 거의 보이지 않는다.

C：50 사이클 후의 샘플에 들뜸, 박리, 발포, 결정 석출 등의 외관 변화가 현저하게 확인된다.

실시예 22 ∼ 42 의 광학 필름은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 높은 흡수 특성을 갖기 때문에, 참고예 4 ∼ 6 에 비해 위상차 필름의 ΔRe(450) 및 ΔRe(550) 을 억제하는 것을 알 수 있었다.

1 : 편광 필름
2 : 표면 처리층
3 : 제 2 보호 필름
4 : 제 1 보호 필름
6 : 층간 점착제
7 : 위상차 필름
10 : 편광판
15 : 점착제가 부착된 편광판
20 : 점착제 시트
30 : 화상 표시 소자 (유리 기판)
40 : 광학 적층체

Claims

적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 광 흡수성 조성물로서, 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은 동일한 공액계 구조를 갖는, 광 흡수성 조성물로서,
적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은, 식 (I)：

[식 중,
R¹ 은 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자 또는 황 원자로 치환되어 있어도 되고,
R² 및 R³ 은, 서로 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1 ∼ 12 의 알킬기를 나타내고,
A 는, 메틸렌기, 제 2 급 아미노기, 산소 원자 또는 황 원자를 나타내고,
X¹ 및 X² 는, 서로 독립적으로, 전자 흡인성기를 나타내고, X¹ 및 X² 는 서로 연결되어 고리 구조를 형성하고 있어도 된다],
또는 식 (II)：

[식 중,
R¹, X¹, X² 는, 상기와 동일한 의미이고,
A² 는 수소 원자, 탄소수 1 ∼ 6 의 알킬기, 방향족 탄화수소기 또는 방향족 복소 고리기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 제 2 급 아미노기, 산소 원자, 황 원자로 치환되어 있어도 되고, 그 방향족 탄화수소기 및 방향족 복소 고리기는 치환기를 갖고 있어도 된다]
로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인, 광 흡수성 조성물.
제 1 항에 있어서,
적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 상기 광 선택 흡수성 화합물에 있어서의, 극대 흡수 파장의 최대값과 최소값의 차가 5 ㎚ 이하인, 광 흡수성 조성물.
제 1 항에 있어서,
상기 식 (I) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은 식 (I-2)：

[식 중,
R¹ 은 상기와 동일한 의미이고,
R⁴ 는 수소 원자 또는 탄소수 2 ∼ 50 의 알킬기를 나타내고, 그 알킬기가 적어도 1 개의 메틸렌기를 갖는 경우, 그 메틸렌기의 적어도 1 개는 산소 원자로 치환되어 있어도 된다]
로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물이며, 상기 식 (II) 로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물은 식 (II-2)：

[식 중, R¹ 및 R⁴ 는 상기와 동일한 의미이다]
로 나타내는 광 선택 흡수성 화합물인, 광 흡수성 조성물.
제 1 항에 있어서,
상기 광 흡수성 조성물에 포함되는 적어도 2 종의, 동일한 공액계 구조를 갖는 광 선택 흡수성 화합물에 있어서, 광 흡수성 조성물 중의 함유량이 최대인 광 선택 흡수성 화합물의 함유량과 다른 광 선택 흡수성 화합물의 함유량의 총량의 비율이, 1：10 ∼ 10：1 인, 광 흡수성 조성물.
제 1 항에 있어서,
식 (1), 식 (2) 및 식 (3)：
ε(420)/ε(400) ≤ 0.3 (1)
λmax ≤ 420 ㎚ (2)
ε(400) ≥ 20 (3)
[식 중,
ε(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고,
ε(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 그램 흡광 계수를 나타내고,
λmax 는 극대 흡수 파장을 나타낸다]
을 충족하는, 광 흡수성 조성물.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 광 흡수성 조성물과, 폴리머를 함유하는 폴리머 조성물.
제 6 항에 있어서,
상기 폴리머 100 질량부에 대한, 상기 광 흡수성 조성물의 함유량이 1 ∼ 15 질량부인, 폴리머 조성물.
제 6 항에 기재된 폴리머 조성물로 구성되는 광학 필름.
제 8 항에 있어서,
두께가 0.1 ∼ 18 ㎛ 인, 광학 필름.
제 8 항에 기재된 광학 필름과, 편광 필름을 포함하는 적층 편광 필름.
제 10 항에 있어서,
하기 식 (4) 및 식 (5)：
Ap(400) ≥ 0.4 (4)
Ap(420)/Ap(400) ≤ 0.3 (5)
[식 중,
Ap(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타내고,
Ap(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타낸다]
를 충족하는, 적층 편광 필름.
제 8 항에 기재된 광학 필름과, 위상차 필름을 포함하는 적층 위상차 필름.
제 8 항에 기재된 광학 필름과, 편광 필름과, 위상차 필름을 포함하는 타원 편광 필름.
제 8 항에 기재된 필름을 포함하는 표시 장치.
적어도 2 종의 광 선택 흡수성 화합물을 포함하는 광 흡수성 조성물로서, 적어도 2 종의 상기 광 선택 흡수성 화합물은 동일한 공액계 구조를 갖는 광 흡수성 조성물과, 폴리머를 함유하는 폴리머 조성물로 구성되는 광학 필름과, 편광 필름을 포함하는 적층 편광 필름으로서, 하기 식 (4) 및 식 (5)：
Ap(400) ≥ 0.4 (4)
Ap(420)/Ap(400) ≤ 0.3 (5)
[식 중,
Ap(400) 은 파장 400 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타내고,
Ap(420) 은 파장 420 ㎚ 에 있어서의 편광 필름의 투과축 방향에 있어서의 광학 필름의 흡광도를 나타낸다]
를 충족하는, 적층 편광 필름.
제 15 항에 기재된 필름을 포함하는 표시 장치.