KR102242620B1 - 광안정제 조성물 및 그 수지 조성물 - Google Patents

광안정제 조성물 및 그 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR102242620B1
KR102242620B1 KR1020167009087A KR20167009087A KR102242620B1 KR 102242620 B1 KR102242620 B1 KR 102242620B1 KR 1020167009087 A KR1020167009087 A KR 1020167009087A KR 20167009087 A KR20167009087 A KR 20167009087A KR 102242620 B1 KR102242620 B1 KR 102242620B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
resin
mass
silica
light stabilizer
parts
Prior art date
Application number
KR1020167009087A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20160090792A (ko
Inventor
타카시 아야베
타카시 우스이
미나코 요코모리
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아데카 filed Critical 가부시키가이샤 아데카
Publication of KR20160090792A publication Critical patent/KR20160090792A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102242620B1 publication Critical patent/KR102242620B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00—Use of pretreated ingredients
    • C08K9/12—Adsorbed ingredients, e.g. ingredients on carriers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34—Silicon-containing compounds
    • C08K3/36—Silica
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/10—Esters; Ether-esters
    • C08K5/101—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids
    • C08K5/105—Esters; Ether-esters of monocarboxylic acids with phenols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13—Phenols; Phenolates
    • C08K5/134—Phenols containing ester groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432—Six-membered rings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3412—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having one nitrogen atom in the ring
    • C08K5/3432—Six-membered rings
    • C08K5/3435—Piperidines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/10—Homopolymers or copolymers of propene
    • C08L23/12—Polypropene
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02—Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/16—Elastomeric ethene-propene or ethene-propene-diene copolymers, e.g. EPR and EPDM rubbers

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)

Abstract

본 발명은 2,2,6,6-테트라메틸피페리디놀류와 탄산 에스테르를 반응시켜 얻어지는 힌더드아민 화합물의 취급성이 개선된 광안정제 조성물을 제공하는 것이며, 구체적으로는 (A) 함수율이 2~7wt%인 실리카 100질량부에 대하여, (B) 일반식 (1)로 표시되는 힌더드아민 화합물 10~300질량부를 함침시킨 광안정제 조성물을 제공하는 것이다. 또한, (C) 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제 5~500질량부 배합하면 바람직하다. 일반식(1) 및 (3)의 상세한 내용에 대해서는 본 명세서에 기재된 바와 같다.

Description

광안정제 조성물 및 그 수지 조성물{LIGHT STABILIZER COMPOSITION AND RESIN COMPOSITION CONTAINING SAME}
본 발명은 인스트루먼트 패널이나 범퍼, 내장(內張) 등의 차량용 부재에 바람직하게 사용되는 광안정제 조성물에 관하여, 상세한 내용은 힌더드(hindered)아민 화합물을 고함수(高含水) 실리카에 함침시킨 광안정제 조성물 및 그것을 배합하여 이루어지는 수지 조성물에 관한 것이다.
폴리올레핀계 수지는 빛에 의해 열화하여 장기 사용에 견딜 수 없기 때문에, 자외선 흡수제나 힌더드아민 화합물을 배합하여 장기 안정화를 부여하는 것이 일반적으로 실시되고 있다.
광안정제로 사용되는 화합물은 일반적으로 융점이 높고, 수지의 가소화나 수지로부터의 휘산이 작은 화합물인 것이 바람직하다. 그러나 분자량화하면 수지중에서의 광안정제의 이동이 억제되기 때문에, 안정화 효과가 작아지는 경향이 있다.
2,2,6,6-테트라메틸피페리디놀류와 지방산을 반응시켜서 얻어지는 힌더드아민 화합물은 저융점 화합물이면서 뛰어난 내후성을 부여할 수 있다. 그러나 폴리올레핀계 수지에 사용한 경우에, 수지부터 휘산되기 쉬우므로 내후성의 효과가 지속되지 않는다는 문제가 있었다. 그리고 상기 힌더드아민 화합물은 저분자량으로 액상이 되기 쉽고, 표면이 점착 형상이 되기 쉽기 때문에, 취급성에 문제를 가지고 있었다.
액상 또는 융점 첨가제의 취급성을 개선하는 방법으로서는, 특허문헌 1에는 마스터배치화에 의한 방법, 특허문헌 2에는 마이크로 캡슐화에 의한 방법, 특허문헌 3에는 흡유량이 150㎖/l00g 이상인 분체 형상의 무기물에 함침시키는 방법이 제안되고 있다.
일본국 공개특허공보 2003-41008호 US5837759호 US2009/0088513호
그러나 마스터배치화에 의한 방법은 고농도의 힌더드아민 화합물을 배합하려고 하면, 마스터배치로부터 힌더드아민 화합물이 배어나와서 표면이 점착 형상이되기 때문에, 배합량을 저농도로 억제하지 않을 수 없어서 기술적인 과제가 남아있었다. 마이크로 캡슐화에 의한 방법은 고(高)비용이며, 결정화의 촉진은 비정질에 비해 취급성이 향상하지만 액상품에는 적용할 수 없고, 결정품이 저융점인 경우에는 케이킹(caking) 방지 효과가 작아서 취급성 개선이 불충분했다. 특허문헌 3에 기재된 방법은 액상의 수지 첨가제를 함침시키는 매체로서 고(高)알칼리 분체를 사용하는 방법이 기재되어 있지만, 알칼리 분체는 수지에 배합하는 다른 첨가제 성분(특히, 페놀계 산화 방지제)를 착색시키는 경우가 있었다. 또한, 규산 알루미늄 화합물을 사용하는 방법도 제안되고 있지만, 규산 알루미늄 화합물은 비교적 고가이기 때문에 공업적으로는 이용가치가 낮은 것이었다.
그래서 본 발명의 목적은 2,2,6,6-테트라메틸피페리디놀류와 탄산 에스테르를 반응시켜서 얻어지는 힌더드아민 화합물의 취급성이 개선된 광안정제 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명자는 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토를 거듭한 결과, 상기 힌더드아민 화합물을 함수율이 특정범위로 조정된 실리카에 함침시킴으로써, 상기 과제를 해결하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 (A) 함수율이 2~7wt%인 실리카 100질량부에 대하여 (B) 하기 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물 10~300질량부를 함침시킨 광안정제 조성물을 제공하는 것이다.
Figure 112016033211012-pct00001
(식(1) 중, R1은 수소원자, 하이드록시기, 탄소원자수 1~30의 알킬기, 하이드록시알킬기, 알콕시기, 하이드록시알콕시기 또는 옥시라디칼을 나타내고, R2는 탄소원자수 1~30인 알킬기 또는 탄소원자수 2~30인 알케닐기 또는 하기 일반식(2)로 표시되는 기를 나타낸다.)
Figure 112016033211012-pct00002
(R3은 상기 일반식(1) 중 R1과 동일한 것을 나타낸다.)
또한, 본 발명의 광안정제 조성물은 상기 (A)성분인 실리카가 입자경 0.1~100㎛의 실리카인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명의 광안정제 조성물은 또한, (C) 하기 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제가 5~500질량부 배합되는 것이 바람직하다.
Figure 112016033211012-pct00003
(식 중, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1~12의 알킬기 또는 탄소원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R6은 탄소원자수 8~30의 알킬기를 나타낸다.)
또한, 본 발명은 수지 100질량부에 대하여, 상기 광안정제 조성물 0.01~1 질량부를 배합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명에 있어서는, 상기 수지가 폴리올레핀계 수지인 수지 조성물이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기의 수지 조성물을 성형하여 이루어지는 차량용 부재를 제공하는 것이다.
본 발명에 따라, 취급성이 우수하고, 수지에 대해 뛰어난 내후성을 부여할 수 있는 광안정제 조성물을 제공할 수 있다.
또한, 상기 광안정제 조성물을 수지에 배합함으로써, 내후성이 우수한 수지 조성물을 제공할 수 있고, 차량용 부재에 적합하다.
이하에, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
(A) 실리카
실리카는 천연품과 합성품이 있고, 각각 결정질과 비정질의 성질을 가진다. 천연품의 결정질로서는, 석영, 수정, 규사 등을 들 수 있고, 천연품의 비정질로서는, 규조토, 산성 백토 등을 들 수 있다. 합성품으로서는, 건식 실리카, 습식 실리카, 실리카겔 등의 비정질을 들 수 있다. 본 발명에 있어서는, 이들 중에서도 저렴한 것과 수지와 함께 배합되는 첨가제의 성능을 저해시키지 않는 관점으로부터 pH가 6~8정도의 중성인 실리카가 바람직하다.
본 발명에 따른 (A) 실리카의 수분 함유율은 2~7wt%이다. 2wt%보다 적으면, 분체 형상의 무기물이 대전해서 응집하고, 취급성이 곤란해지는 경우가 있다. 7wt%보다 많으면, 이들을 배합한 폴리올레핀계 수지 조성물 등의 성형 가공 시에 발포할 경우가 있다. 실리카의 수분 함유율은 습도가 조정된 환경하에 둠으로써 용이하게 조정 가능하지만, 물을 분무 하거나, 진공이나 열원에 의한 건조에 의해 조정할 수 있다.
상기 (A) 실리카의 평균 입자경은 성형품의 용도에 따라 다르지만, 바람직하게는 0.1~100㎛, 보다 바람직하게는 O.3~50㎛, 더욱 바람직하게는 O.5~30㎛이다. 평균 입자경이 상기 범위보다 지나치게 크면, 수지중에서의 분산성이 악화해서 수지의 물성을 저하시키는 경우가 있고, 상기 범위보다 지나치게 작으면 분진이 발생하기 쉬워져서 작업 환경을 악화시키는 경우가 있다.
본 발명에 있어서는, 상기 (A) 실리카는 특별히 한정되지 않고 공지의 합성방법으로 얻은 실리카를 사용할 수 있다. 구체적인 합성방법으로서는, 예를 들면, 사염화규소를 산소 또는 수소염중에서 연소시키는 방법, 금속 실리콘 제조 시에 발생하는 부생성물로부터 얻는 방법, 규산 소다와 광산(황산, 염산 등)으로 중화 반응시키는 방법, 알콕시실란의 가수분해에 의한 방법 등을 들 수 있다. 반응 조건의 선택에 의해 입자경, 표면 구조, 세공 상태 등이 다른 실리카를 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 (A) 실리카의 바람직한 제품으로서는, 예를 들면, 미즈사와가쿠코교가부시키가이샤 제품 상품명(미즈카실P-78D), DSL 재팬 가부시키가이샤 제품 상품명(커프렉스 #80), 에보닉사 제품 상품명(시펠나트 22S), 토소·실리카가부시키가이샤 제품 상품명(닙질 KP, 닙질 KS) 등을 들 수 있다. 단, 본 발명은 상기 제품에 의해 하등 제한을 받는 것이 아니다.
(B) 힌더드아민 화합물
본 발명에서 사용되는 힌더드아민 화합물은 상기 일반식(1)로 나타내는 화합물이며, 2,2,6,6-테트라메틸피페리디놀류와 탄산 에스테르를 반응시켜서 얻어진다.
상기 일반식(1)에 있어서, R1 및 R2로 표시되는 탄소원자수 1~30의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 제2부틸, 제3부틸, 펜틸, 제2펜틸, 제3펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 2-에틸헥실, 제3옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 등을 들 수 있다. R1 및 R2는 동일한 것이어도 되고, 달라도 된다.
또한, 상기 일반식(1)에 있어서 R1로 표시되는 탄소원자수 1~30의 하이드록시알킬기로서는, 예를 들면, 하이드록시에틸, 2-하이드록시프로필, 3-하이드록시프로필 등 상기 알킬기의 하이드록시기 치환체를 들 수 있다.
또한, 상기 일반식(1)에 있어서 R1로 표시되는 탄소원자수 1~30의 알콕키시기로서는, 상기 알킬기에 대응하는 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, 부톡시, 옥톡시, 2-에틸헥실옥시 등을 들 수 있다.
더욱 또한, 상기 일반식(1)에 있어서 R1로 표시되는 탄소원자수 1~30의 하이드록시알콕시기로서는, 상기 알콕시기와 대응하는 하이드록시에틸옥시, 2-하이드록시프로필옥시, 3-하이드록시프로필옥시, 4-하이드록시부틸옥시, 2-하이드록시-2-메틸프로필옥시, 6-하이드록시헥실옥시 등을 들 수 있다.
더욱 또한, 상기 일반식(1)에 있어서 R2로 표시되는 탄소원자수 2~30의 알케닐기로서는, 비닐, 프로페닐, 부테닐, 헥세닐, 올레일 등을 들 수 있다. 이중결합의 위치는, α-위(位)여도, 내부여도, ω-위여도 된다.
본 발명에 사용되는 일반식(1)로 표시되는 화합물로서는, 보다 구체적으로는 화합물 No.1~No.9의 화합물 등을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이하의 화합물에 의해 하등 제한을 받는 것이 아니다. 또한, 화합물 N0.7, No.8의 혼합 알킬기란, 상기 일반식(1) 중의 R1이 탄소원자수 15~17의 알킬기인 힌더드아민 화합물의 혼합물을 나타내고, 화합물 No.9는 상기 일반식(1) 중의 R1이 탄소원자수 15~19의 알킬기인 힌더드아민 화합물의 혼합물을 나타낸다.
Figure 112016033211012-pct00004
상기 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물 중에서는, R1은 수소원자 또는 메틸기인 것이 바람직하고, R2는 탄소원자수 8~26의 알킬기의 혼합물인 것이 바람직하다.
상기 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물의 합성방법은, 소정의 탄소 수를 가지는 지방산과 2,2,6,6-테트라메틸피페리디놀 골격을 가지는 알코올을 조합시켜서 반응시키면 되고, 예를 들면, 산과 알코올의 직접 에스테르화, 산 할로겐화물과 알코올의 반응, 에스테르 교환 반응 등으로 에스테르화가 가능하며, 정제방법으로서는, 증류, 재결정, 누과재, 흡착제를 사용하는 방법 등을 적절히 사용할 수 있다.
본 발명의 광안정제 조성물에 있어서는, 상기 (A) 실리카 100질량부에 대하여, 상기 (B) 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물을 10~300질량부, 바람직하게는 30~200질량부, 보다 바람직하게는 60~120질량부를 함침시킨다.
(C) 벤조에이트계 광안정제
본 발명에 사용되는 (C) 벤조에이트계 광안정제는 하기 일반식(3)으로 표시되는 화합물을 나타낸다.
Figure 112016033211012-pct00005
(식 중, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1~12의 알킬기 또는 탄소원자수 7~30의 아릴 알킬기를 나타내고, R6은 탄소원자수 8~30의 알킬기를 나타낸다.)
상기 일반식(3)에 있어서, R4 및 R5로 표시되는 탄소원자수 1~12의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 펜틸, 헥실, 옥틸 등이나, 시클로알킬기인 시클로펜틸, 시클로헥실 등을 들 수 있다.
상기 일반식(3)에 있어서, R4 및 R5로 표시되는 탄소원자수 7~30의 아릴알킬기로서는, 예를 들면, 벤질, 페닐에틸, 1-메틸-1-페닐에틸 등을 들 수 있다.
상기 일반식(3)에 있어서, R6으로 표시되는 탄소수 8~30의 알킬기로서는, 예를 들면, 옥틸, 노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 옥타데실 등을 들 수 있다.
상기 일반식(3)로 표시되는 벤조에이트계 광안정제로서는, 보다 구체적으로는 하기 화합물 UV-1~UV-4를 들 수 있다. 단, 본 발명은 이하의 화합물에 의해 하등 제한을 받는 것이 아니다.
Figure 112016033211012-pct00006
본 발명의 광안정제 조성물에 있어서, 상기 (C) 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제의 바람직한 배합량은, 상기 (A) 실리카 100질량부에 대하여, 5~500질량부이며, 보다 바람직한 배합량은 10~300질량부이다.
또한, 본 발명의 광안정제 조성물에 있어서, 상기 (C) 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제와 상기 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물과의 비율은 질량비로 힌더드아민 화합물의 1/4~3/1의 범위 내가 바람직하다. 1/4보다 적으면, 힌더드아민 화합물과 벤조에이트계 광안정제의 조합에 의한 상승효과가 얻어지지 않는 경우가 있고, 3/1보다 많으면, 힌더드아민 화합물의 광안정화능을 발휘할 수 없는 경우가 있다.
본 발명의 광안정제 조성물에 있어서, 상기 (A)~(C) 이외의 성분을 배합할 경우, 그 배합량은 상기 (A) 실리카 100질량부에 대하여, 합계 200질량부 이하로 하는 것이 바람직하다.
상기 일반식(3)으로 표시되는 화합물의 합성방법으로서는, 특별히 제한되지 않고, 통상의 유기 합성에서의 수법에 의해 합성 가능하다. 예를 들면, 산과 알코올의 직접 에스테르화, 산 할로겐화물과 알코올의 반응, 에스테르 교환 반응 등으로 에스테르화가 가능하며, 생성방법으로서는, 증류, 재결정, 재심, 여과제·흡착제를 사용하는 방법 등을 적절히 채용할 수 있다.
상기 (B) 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물을 상기 (A) 실리카에 함침시키는 수법으로서는, 예를 들면, 이하의 방법을 들 수 있다. 단, 본 발명은 이들의 방법에 의해 제한되는 것이 아니다.
1. 필요에 따라 가열해서 액체상태로 한 힌더드아민 화합물을 대기압 혹은 진공하에 실리카과 혼합해서 실리카에 함침시키는 방법.
2. 고체의 힌더드아민 화합물을 실리카와 혼합하고, 대기압 혹은 진공하에 고체인채로 실리카에 흡착·수착시키는 방법.
3. 힌더드아민 화합물을 용매에 용해한 용액을 실리카과 혼합하고, 대기압 혹은 진공하에 실리카에 함침시킨 후, 용매를 유거(留去)하는 방법.
4. 힌더드아민 화합물을 실리카의 표면에 담지(擔持)시켜서, 가압에 의해 힌더드아민 화합물을 실리카의 세공(細孔)의 내부에 이동·흡착시키는 방법.
5. 힌더드아민 화합물을 기화시켜서, 기체상태로 실리카에 흡착·함침시키는 방법.
6. 실리카의 존재하에서, 힌더드아민 화합물을 합성하고, 생성물로서 힌더드아민 화합물을 실리카에 함침시키는 방법.
한편, 상기 (B) 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물은 상기 (C) 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제와 혼합한 것이어도 되고, 본 발명에서 말하는 함침이란, 고체의 세공에 액체를 함침시킨 것, 또는, 고체의 세공에 고체의 미립자가 흡착, 수착한 것을 나타낸다.
상기 (A) 실리카에 대한 상기 (B) 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물의 함침은 가능한 한 균일한 것이 바람직하다. 실리카는 힌더드아민 화합물이 함침하기 쉽도록, 세정 혹은 표면처리 등을 실시해두는 것이 바람직하다. 또한, 함침은 실리카의 세공 안에 공기가 없도록 진공하에서 실시해도 된다.
본 발명의 광안정제 조성물을 제조하는 장치는, 특별히 제한은 없고, 각종 믹서나, 교반조 혹은 전동조 등을 사용할 수 있다. 이들의 장치에는 가열-냉각 장치, 감압 장치, 교반 장치, 원료 회수 기구, 불활성 가스 공급 장치 등이 부대되어 있어도 된다.
함침은 회분식이라도, 반(半)회분식이라도, 연속식으로 이루어지고 있어도 된다.
본 발명의 광안정제 조성물에 있어서, 상기 (B) 일반식(1)로 표시되는 힌더드아민 화합물과 상기 (A) 실리카의 혼합비율은 실리카의 급유량에 따르지만, 상기 힌더드아민 화합물/상기 실리카의 중량비가 30/70 이상이 바람직하고, 50/50 이상인 것이 보다 바람직하다. 상기 힌더드아민 화합물/상기 실리카의 혼합비율이 상기 범위보다 지나치게 적으면, 수지에 다량의 무기물을 배합하는 것이 되고, 무기물에 의한 수지물성에 대한 영향이 커진다.
본 발명의 광안정제 조성물에 의해 안정화되는 수지로서는, 열가소성 수지, 열경화성 수지, 결정성 수지, 비결정성 수지, 생분해성 수지, 비생분해성 수지, 합성 수지, 천연생산제 수지, 범용 수지, 엔지니어링 수지, 폴리머 알로이 등 어느 종류의 수지라도 좋다.
안정화되는 수지로서 구체적으로는 예를 들면, 폴리프로필렌, 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐, 폴리-4-메틸펜텐, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 α-올레핀의 단중합체 또는 공중합체, 이들의 α-올레핀과 공역디엔 또는 비공역디엔 등의 다불포화 화합물, 아크릴산, 메타크릴산, 초산 비닐 등과의 공중합체, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트·이소프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트·파라옥시벤조에이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 직쇄 폴리에스테르나 산 변성 폴리에스테르, 지방족 폴리에스테르 등의 생분해성 수지, 액정 폴리에스테르, 폴리카프로락탐 및 폴리헥사메틸렌아디파미드 등의 폴리아미드, 액정 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리스티렌, 스티렌 및/또는 α-메틸스티렌과 다른 단량체(예를 들면, 무수 말레인산, 페닐말레이미드, 메타크릴산 메틸, 부타디엔, 아크릴로니트릴 등)과의 공중합체(예를 들면, 아크릴로니트릴스티렌 공중합체(AS) 수지, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 공중합체(ABS) 수지, 메틸메타크릴레이트부타디엔스티렌 공중합체(MBS) 수지, 내열 ABS 수지 등), 폴리 염화 비닐, 폴리 염화 비닐리덴, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리 불화 비닐리덴, 염화 고무, 염화 비닐-초산 비닐 공중합체, 염화 비닐-에틸렌 공중합체, 염화 비닐-염화 비닐리덴 공중합체, 염화 비닐-염화 비닐리덴-초산 비닐 삼원공중합체, 염화 비닐-아크릴산 에스테르 공중합체, 염화 비닐-말레인산 에스테르 공중합체, 염화 비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 함할로겐 수지, (메타)아크릴산 메틸, (메타)아크릴산 에틸, (메타)아크릴산 옥틸 등의 (메타)아크릴산 에스테르의 중합물, 폴리에테르케톤, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄, 폴리비닐알코올, 직쇄 또는 분기의 폴리카보네이트, 석유 수지, 쿠마론 수지, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌술파이드, 열가소성 폴리우레탄, 섬유소계 수지 등의 열가소성 수지; 에폭시 수지, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 열경화성 폴리우레탄 등의 열경화성 수지; 천연고무, 3-하이드록시부틸레이트 등의 미생물산제(biological) 지방족 폴리에스테르, 미생물산제 지방족 폴리아미드, 전분, 셀룰로오스, 키친·키토산, 글루텐·젤라틴 등 천연산제 수지, 범용 수지, 엔지니어링 수지, 폴리머 알로이 등, 어느 종류의 수지라도 좋다. 여기서 말하는 폴리머 알로이란, 고분자 다성분계이며, 공중합에 의한 블록 폴리머여도 되고, 혼합 등에 의한 폴리머 블렌드여도 된다.
또한, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 부타디엔스티렌 공중합 고무, 부타디엔아크릴로니트릴 공중합 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔스티렌 공중합 고무, 에틸렌과 프로필렌, 부텐-1 등의 α-올레핀과의 공중합 고무, 또한, 에틸렌-α-올레핀 및 에틸리덴노르보르넨, 시클로펜타디엔 등의 비공역 디엔류와의 삼원공중합체 고무 등의 엘라스토머, α-올레핀의 엘라스토머, 실리콘 수지 등이어도 되고, 이들 수지 및/또는 엘라스토머나 고무를 알로이화 또는 블렌드한 것이어도 된다.
상기 수지는 입체규칙성, 비중, 중합촉매의 종류, 중합촉매의 제거의 유무나 정도, 결정화의 정도, 온도나 압력 등의 중합 조건, 결정의 종류, X선 소각산란으로 측정한 라멜라정의 사이즈, 결정의 애스펙트비, 방향족계 또는 지방족계 용매에 대한 용해도, 용액점도, 용융점도, 평균 분자량, 분자량 분포의 정도, 분자량 분포에서의 피크가 몇 있는가, 공중합체에 있어서는 블록인가 랜덤인가, 각 모노머의 배합 비율 등에 의해 안정화 효과의 발현에 차이가 생기는 것은 있지만, 어떠한 수지를 선택한 경우에 있어서도 적용 가능하다.
본 발명에 있어서는, 상기 수지는 폴리올레핀계 수지가 본 발명의 효과가 현저하므로 바람직하게 사용할 수 있다. 폴리올레핀계 수지로서는, 예를 들면, 폴리프로필렌, 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄 저밀도 폴리에틸렌, 고밀도 폴리에틸렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐, 폴리-4-메틸펜텐, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 α-올레핀의 단중합체 또는 공중합체 등을 들 수 있다.
본 발명의 광안정제 조성물을 상기 수지는 배합하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 공지의 수지에 대한 안정제의 배합 기술을 사용할 수 있다. 예를 들면, 상기 수지를 중합할 때에 미리 중합계에 첨가하는 방법, 중합 도중에 첨가하는 방법, 중합 후에 첨가하는 방법 모두 사용해도 된다. 또한, 상기 수지의 중합 후에 배합하는 경우는, 안정화하는 수지의 분말이나 펠렛과 헨셀 믹서 등으로 혼합한 것을 압출기 등의 가공 기기를 사용해서 혼련하는 방법, 마스터배치로 한 후에 수지에 배합하는 방법 등을 들 수 있다. 사용하는 가공 기기의 종류나 가공 온도, 가공 후의 냉각 조건 등도 특별히 제한 없이 사용할 수 있고, 얻어지는 수지물성이 용도에 적합한 것이 되도록 조건을 선택할 수 있다. 또한, 본 발명의 광안정제 조성물을 단독 또는 다른 첨가제와 함께 과립으로 하고나서 수지에 배합할 수 있다.
본 발명의 광안정제 조성물의 수지에 대한 배합량은 수지 100질량부에 대하여 0.01~1질량부, 바람직하게는 0.02~0.5질량부이다. 상기 범위보다 적을 경우, 필요한 안정화 효과가 얻어지지 않을 경우가 있다. 상기 범위를 넘을 경우에는, 수지 조성물을 성형한 성형품의 표면으로부터 블리드아웃(bleed out)하는 경우가 있다.
본 발명의 광안정제 조성물을 수지에 배합할 때에, 필요에 따라 각종 배합제를 사용할 수 있다. 각종 배합제로서는, 예를 들면, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 티오에테르계 산화 방지제, 자외선 흡수제, 상기 일반식(1)과는 다른 힌더드아민 화합물, 조핵제, 난연제, 난연조제, 윤활제, 충전재, 금속 비누, 하이드로탈사이트, 대전방지제, 안료, 염료 등을 들 수 있다.
상기 페놀계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 2,6-디제3부틸4-에틸페놀, 2-제3부틸-4,6-디메틸페놀, 스티렌화 페놀, 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-제3부틸페놀), 2,2'-티오비스-(6-제3부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오디에틸렌비스[3-(3,5-디-제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2-메틸-4,6-비스(옥틸술파닐메틸)페놀, 2,2'-이소부틸리덴비스(4,6-디메틸페놀), 이소옥틸-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, N,N'-헥산-1,6-디일비스[3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온아미드, 2,2'-옥사미드-비스[에틸-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 2-에틸헥실-3-(3',5'-디제3부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트, 2,2'-에틸렌비스(4,6-디제3부틸페놀), 3,5-비스(1,1-디메틸에틸)-4-하이드록시벤젠프로판산 및 C13-15알킬의 에스테르, 2,5-디제3-아밀하이드로퀴논, 힌더드페놀의 중합물(아데카파르마롤사 제품 상품명 AO.OH 998), 2,2'-메틸렌비스[6-(1-메틸시클로헥실)-p-크레졸], 2-제3부틸-6-(3-제3부틸-2-하이드록시-5-메틸벤질)-4-메틸페닐아크릴레이트, 2-[1-(2-하이드록시-3,5-디-제3펜틸페닐)에틸]-4,6-디제3펜틸페닐아크릴레이트, 6-[3-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸)프로폭시]-2,4,8,10-테트라-제3부틸벤즈[d,f][1,3,2]-디옥사포스페핀, 헥사메틸렌비스[3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 비스[모노에틸(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트칼슘염, 5,7-비스(1,1-디메틸에틸)-3-하이드록시-2(3H)-벤조푸라논과 o-크실렌과의 반응 생성물, 2,6-디제3부틸-4-(4,6-비스(옥틸티오)-1,3,5-트리아진-2-일아미노)페놀, DL-a-토코페놀(비타민E), 2,6-비스(α-메틸벤질)-4-메틸페놀, 비스[3,3-비스-(4'-하이드록시-3'-제3부틸-페닐)부탄산]글리콜에스테르, 2,6-디제3부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 스테아릴(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 디스테아릴(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트, 트리데실-3,5-제3부틸-4-하이드록시벤질티오아세테이트, 티오디에틸렌비스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2-옥틸티오-4,6-디(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페녹시)-s-트리아진, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제3부틸페놀), 비스[3,3-비스(4-하이드록시-3-제3부틸페닐)부탄산]글리콜에스테르, 4,4'-부틸리덴비스(2,6-디제3부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-제3부틸-3-메틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄, 비스[2-제3부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-제3부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 테트라키스[메틸렌-3-(3',5'-디제3부틸-4'-하이드록시페닐)프로피오네이트]메탄, 2-제3부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페놀, 3,9-비스[2-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸하이드록신나모일옥시)-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[β-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트], 스테아릴-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산 아미드, 팔미틸-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산 아미드, 미리스틸-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산 아미드, 라우릴-3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산 아미드 등의 3-(3,5-디알킬-4-하이드록시페닐)프로피온산 유도체 등을 들 수 있다.
상기 인계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 트리페닐포스파이트, 디이소옥틸포스파이트, 헵타키스트리포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 디페닐이소옥틸포스파이트, 디이소옥틸페닐포스파이트, 디페닐트리데실포스파이트, 트리이소옥틸포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 디페닐포스파이트, 트리스(디프로필렌글리콜)포스파이트, 디이소데실펜타에리스리톨디포스파이트, 디오레일하이드로겐포스파이트, 트리라우릴트리티오포스파이트, 비스(트리데실)포스파이트, 트리스(이소데실)포스파이트, 트리스(트리데실)포스파이트, 디페닐데실포스파이트, 디노닐페닐비스(노닐페닐)포스파이트, 폴리(디프로필렌글리콜)페닐포스파이트, 테트라페닐디프로필렌글리콜디포스파이트, 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스(2,4-디제3부틸페닐)포스파이트, 트리스(2,4-디제3부틸-5-메틸페닐)포스파이트, 트리스[2-제3부틸-4-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐티오)-5-메틸페닐]포스파이트, 트리데실포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디(데실)모노페닐호스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨과 스테아린산 칼슘염의 혼합물, 알킬(C10)비스 페놀A포스파이트, 디(트리데실)펜타에리스리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디제3부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4,6-트리제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디큐밀페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라페닐-테트라(트리데실)펜타에리스리톨테트라포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸-6-메틸페닐)에틸포스파이트, 테트라(트리데실)이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-n-부틸리덴비스(2-제3부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디제3부틸페닐)비페닐렌디포스파이트, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, (1-메틸-1-프로파닐-3-일리덴)트리스 (1,1-디메틸에틸)-5-메틸-4,1-페닐렌)헥사트리데실포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)-2-에틸헥실포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)-옥타데실포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페닐)플루오로포스파이트, 4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-제3부틸페닐디트리데실)포스파이트, 트리스(2-[(2,4,8,10-테트라키스-제3부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일)옥시]에틸)아민, 3,9-비스(4-노닐페녹시)-2,4,8,10-테트라옥사-3,9-디포스페스스피로[5,5]운데칸, 2,4,6-트리제3부틸페닐-2-부틸-2-에틸-1,3-프로판디올포스파이트, 폴리 4,4'-이소프로필리덴디페놀C12-15알코올포스파이트 등을 들 수 있다.
상기 티오에테르계 산화 방지제로서는, 예를 들면, 테트라키스[메틸렌-3-(라우릴티오)프로피오네이트]메탄, 비스(메틸-4-[3-n-알킬(C12/C14)티오프로피오닐옥시]5-제3부틸페닐)술파이드, 디트리데실-3,3'-티오디프로피오네이트, 디라우릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 디미리스틸-3,3'-티오디프로피오네이트, 디스테아릴-3,3'-티오디프로피오네이트, 라우릴/스테아릴티오디프로피오네이트, 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-티오비스(6-제3부틸-p-크레졸), 디스테아릴-디술파이드를 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류; 2-(2-하이드록시-5-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-5-제3옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디제3부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3-제3부틸-5-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2-하이드록시-3,5-디큐밀페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-제3옥틸-6벤조트리아졸릴페놀), 2-(2-하이드록시-3-제3부틸-5-카르복시페닐)벤조트리아졸의 폴리에틸렌글리콜에스테르, 2-[2-하이드록시-3-(2-아크릴로일옥시에틸)-5-메틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3부틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3옥틸페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-(2-메타크릴로일옥시에틸)-5-제3부틸페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-제3부틸-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-제3아밀-5-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-3-제3부틸-5-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐]-5-클로로벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(2-메타크릴로일옥시메틸)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(3-메타크릴로일옥시-2-하이드록시프로필)페닐]벤조트리아졸, 2-[2-하이드록시-4-(3-메타크릴로일옥시프로필)페닐]벤조트리아졸 등의 2-(2-하이드록시페닐)벤조트리아졸류; 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(3-C12~13혼합 알콕시-2-하이드록시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)- 1,3,5-트리아진, 2-[2-하이드록시-4-(2-아크릴로일옥시에톡시)페닐]-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디하이드록시-3-알릴페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(2-하이드록시-3-메틸-4-헥실옥시페닐)-1,3,5-트리아진 등의 2-(2-하이드록시페닐)-4,6-디아릴-1,3,5-트리아진류; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디제3부틸페닐-3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤조에이트, 옥틸(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 도데실(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 테트라데실(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 헥사데실(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 옥타데실(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트, 베헤닐(3,5-디제3부틸-4-하이드록시)벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥사닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥사닐리드 등의 치환 옥사닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류; 각종 금속염, 또는, 금속 킬레이트, 특히 니켈, 크롬의 염, 또는, 킬레이트류 등을 들 수 있다.
상기 일반식(1)과는 다른 힌더드아민 화합물로서는, 예를 들면, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)마로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리놀/호박산 디에틸 축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/디브로모에탄 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-몰포리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-제3옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일아미노운데칸 등의 힌더드아민 화합물을 들 수 있다.
상기 조핵제로서는, 예를 들면, 안식향산 나트륨, 4-제3부틸 안식향산 알루미늄염, 아디핀산 나트륨 및 2나트륨비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복시레이트 등의 카르본산 금속염, 나트륨비스(4-제3부틸페닐)포스페이트, 나트륨-2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)포스페이트 및 리튬-2,2'-메틸렌비스(4,6-디제3부틸페닐)포스페이트 등의 인산 에스테르 금속염, 디벤질리덴솔비톨, 비스(메틸벤질리덴)솔비톨, 비스(3,4-디메틸벤질리덴)솔비톨, 비스(p-에틸벤질리덴)솔비톨, 및 비스(디메틸벤질리덴)솔비톨 등의 다가 알코올 유도체, N,N',N"-트리스[2-메틸시클로헥실]-1,2,3-프로판트리카르복사미드, N,N',N"-트리시클로헥실-1,3,5-벤젠트리카르복사미드, N,N'-디시클로헥실나프탈렌디카르복사미드, 1,3,5-트리(디메틸이소프로포일아미노)벤젠 등의 아미드 화합물 등을 들 수 있다.
상기 난연제로서는, 예를 들면, 트리페닐포스페이트, 트리크레딜포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 크레딜디페닐포스페이트, 크레딜-2,6-디크실레닐포스페이트, 레조르시놀비스(디페닐포스페이트), (1-메틸에틸리덴)-4,1-페닐렌테트라페닐디포스페이트, 1,3-페닐렌테트라키스(2,6-디메틸페닐)포스페이트, 아데카스타브 FP-500(가부시키가이샤 ADEKA 제품), 아데카스타브 FP-600(가부시키가이샤 ADEKA 제품, 아데카스타브 FP-800(가부시키가이샤 ADEKA 제품) 등의 방향족 인산 에스테르, 페닐포스폰산 디비닐, 페닐포스폰산 디알릴, 페닐포스폰산(1-부테닐) 등의 포스폰산 에스테르, 디페닐포스핀산 페닐, 디페닐포스핀산 메틸, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥시드 유도체 등의 포스핀산 에스테르, 비스(2-알릴페녹시)포스파젠, 디크레딜포스파젠 등의 포스파젠 화합물, 인산 멜라민, 피롤린산 멜라민, 폴리인산 멜라민, 폴리인산 멜람, 폴리인산 암모늄, 인산 피페라진, 피롤린산 피페라진, 폴리인산 피페라진, 인 함유 비닐벤질 화합물 및 적린 등의 인계 난연제, 수산화 마그네슘, 수산화 알루미늄 등의 금속수산화물, 브로민화 비스페놀 A형 에폭시 수지, 브로민화 페놀노볼락형 에폭시 수지, 헥사브로모벤젠, 펜타브로모톨루엔, 에틸렌비스(펜타브로모페닐), 에틸렌비스테트라브로모프탈이미드, 1,2-디브로모-4-(1,2-디브로모에틸)시클로헥산, 테트라브로모시클로옥탄, 헥사브로모시클로도데칸, 비스(트리브로모페녹시)에탄, 브로민화 폴리페닐렌에테르, 브로민화 폴리스티렌 및 2,4,6-트리스(트리브로모페녹시)-1,3,5-트리아진, 트리브로모페닐말레이미드, 트리브로모페닐아크릴레이트, 트리브로모페닐메타크릴레이트, 테트라브로모비스페놀 A 형 디메타크릴레이트, 펜타브로모벤질아크릴레이트, 및, 브로민화 스티렌 등의 취소계 난연제 등을 들 수 있다. 이들 난연제는 불소수지 등의 드립 방지제나 다가 알코올, 하이드로탈사이트 등의 난연조제와 병용하는 것이 바람직하다.
상기 활제는 성형체 표면에 활성을 부여해서 상처 방지 효과를 높일 목적으로 더해진다. 활제로서는, 예를 들면, 올레인산 아미드, 에루카산 아미드 등의 불포화 지방산 아미드; 베헨산 아미드, 스테아린산 아미드 등의 포화 지방산 아미드 등을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 병용해서 사용해도 된다.
상기 충전제로서는, 예를 들면, 탤크, 마이카, 탄산 칼슘, 산화 칼슘, 수산화 칼슘, 탄산 마그네슘, 수산화 마그네슘, 산화 마그네슘, 황산 마그네슘, 수산화 알루미늄, 황산 바륨, 유리 분말, 유리 섬유, 클레이, 드로마이트, 마이카, 실리카, 알루미나, 티탄산 칼륨 위스커, 규회석, 섬유상 마그네슘 옥시술페이트 등을 들 수 있고, 입자경(섬유상에 있어서는 섬유경이나 섬유길이 및 애스팩트비(aspect ratio))을 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 또한, 충전제는 필요에 따라 표면 처리한 것을 사용할 수 있다.
상기 하이드로탈사이트로서는, 천연물이나 합성물로서 알려지는 마그네슘, 알루미늄, 수산기, 탄산기 및 임의의 결정수로 이루어지는 복합염 화합물이며, 마그네슘 또는 알루미늄의 일부를 알칼리 금속이나 아연 등 다른 금속으로 치환한 것이나 수산기, 탄산기를 다른 음이온기로 치환한 것을 들 수 있고, 구체적으로는 예를 들면, 하기 일반식(4)로 표시되는 하이드로탈사이트의 금속을 알칼리 금속으로 치환한 것을 들 수 있다. 또한, AI-Li계의 하이드로탈사이트로서는, 하기 일반식(5)로 표시되는 화합물도 사용할 수 있다.
Figure 112016033211012-pct00007
(식 중, x1 및 x2는 각각 하기 식으로 표시되는 조건을 만족하는 수를 나타내고, p는 O 또는 양수를 나타낸다. 0≤x2/x1<10, 2≤x1+x2≤20이다.)
Figure 112016033211012-pct00008
(식 중, Aq-는 q가의 음이온을 나타내고, p는 O 또는 양수를 나타낸다.)
또한, 상기 하이드로탈사이트에서의 탄산 음이온은 일부를 다른 음이온으로 치환한 것이어도 된다.
상기 하이드로탈사이트는 결정수를 탈수한 것이어도 되고, 스테아린산 등의 고급 지방산, 올레인산 알칼리 금속염 등의 고급 지방산 금속염, 도데실벤젠술폰산 알칼리 금속염 등의 유기 술폰산 금속염, 고급 지방산 아미드, 고급 지방산 에스테르 또는 왁스 등으로 피복된 것이어도 된다.
상기 하이드로탈사이트는 천연물이어도 되고, 또한, 합성품이어도 된다. 상기 화합물의 합성방법으로서는, 공고특허공보 소46-2280호, 공고특허공보 소50-30039호, 공고특허공보 소51-29129합, 공고특허공보 평3-36839호, 공개특허공보 소61-174270호, 공개특허공보 평5-179052호 등에 기재되어 있는 공지의 방법을 들 수 있다. 또한, 상기 하이드로탈사이트는 그 결정 구조, 결정 입자 등에 제한되는 일 없이 사용할 수 있다.
상기 대전방지제로서는, 예를 들면, 지방산 제4급 암모늄 이온염, 폴리아민 4급염등의 양이온계 대전방지제; 고급 알코올인산 에스테르염, 고급 알코올 EO 부가물, 폴리에틸렌 글리콜 지방산 에스테르, 음이온형의 알킬술폰산염, 고급 알코올 황산 에스테르염, 고급 알코올에틸렌옥사이드 부가물 황산 에스테르염, 고급 알코올에틸렌옥사이드 부가물 인산 에스테르염 등의 음이온계 대전방지제; 다가 알코올 지방산 에스테르, 폴리 글리콜 인산 에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르 등의 비이온계 대전방지제; 알킬디메틸아미노초산 베타인 등의 양성형 알킬베타인, 이미다졸린형 양성 활성제 등의 양성 대전방지제를 들 수 있다. 이러한 대전방지제는 단독으로 사용해도 되고, 또는, 2종류 이상의 대전방지제를 조합해서 사용해도 된다.
본 발명의 수지조성물로 사용되는 첨가제의 바람직한 사용량의 범위는 효과가 발현되는 양으로부터 첨가 효과의 향상이 보이지 않게 되는 범위이다. 본 발명의 수지조성물을 사용해서 성형한 성형품 중, 각 첨가제가 최종적인 사용량으로서는 폴리올레핀계 수지의 경우, 폴리올레핀계 수지 100질량부에 대하여, 페놀계 산화 방지제 0.001~10질량부, 인계 산화 방지제 0.001~10질량부, 티오에테르계 산화방지제 0.001~10질량부, 자외선 흡수제 0.001~10질량부, 힌더드아민 화합물 O.001~10질량부, 난연제 1~50질량부, 활제 O.03~2질량부, 하이드로탈사이트 O.03~2질량부, 대전방지제 O.03~2질량부인 것이 바람직하다.
본 발명의 수지조성물은 차량용 부재로서 적합하게 사용할 수 있다. 차량용 부재로서는, 예를 들면, 자동차, 산업 차량, 개인 차량, 자주(自走) 가능한 차체, 철도 등의 차량용 내외장 부재, 차량용 외판 및 차량용 수지 윈도우 등을 들 수 있다. 본 발명의 수지조성물은 이들의 수지 기재여도 되고, 보호막으로 사용되는 것이어도 된다.
상기 차량용 외장 부재로서는, 예를 들면, 도어 몰딩(door moldings), 도어 미러의 프레임, 휠 캡, 스포일러(spoliers), 범퍼, 윙커 렌즈(winker lenses), 필러 가니쉬(pillar garnishes), 리어 피니셔(rear finisher), 헤드램프 커버 등을 들 수 있다.
상기 차량용 내장 부재로서는, 인스트루먼트 패널, 콘솔 박스, 미터 커버, 도어 로크 베젤, 스티어링 휠, 파워 윈도우 스위치 베이스, 센터 클러스터, 데쉬보드, 본네트 등을 들 수 있다.
상기 차량용 외판으로서는, 프론트 펜더, 도어 패널, 루프 패널, 푸드 패널, 트렁크 리드, 백 도어 패널 등을 들 수 있다.
상기 차량용 수지 윈도우로서는, 선루프, 프론트 유리, 사이드 유리, 리어 유리, 리어 쿼터 유리, 리어 도어 쿼터 유리 등을 들 수 있다.
이하 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 설명한다. 본 발명은 이하의 실시예 등에 의해 제한되는 것은 아니다.
[실시예 1-1~1-7 및 비교예 1-1, 1-5]
하기 [표 1] 또는 [표 2] 기재된 힌더드아민 화합물을 FM 믹서(FM-20형, 닛뽄콕스 가부시키가이샤 제품)을 사용해서 40℃로 20분간 교반함으로써, 힌더드아민 화합물이 용융 상태가 된 것을 확인 후, 중량비(힌더드아민 화합물/실리카)로, 30/70, 40/60, 50/50의 비율이 되도록 상압하에서 실리카를 첨가하고, 각각의 비율로 조제된 광안정제 조성물을 얻었다.
상기의 방법에 의해 얻어진 광안정제 조성물에 대해서, 하기의 평가를 실시했다.
(1) 성상(性狀)
얻어진 광안정제 조성물을 비커에 첨가하여, 유리봉으로 비커의 바닥에 원을 그리듯이 섞은 후, 성상을 눈으로 평가했다.
◎: 보슬보슬한 분말 형상
○: 촉촉한 느낌의 분말 형상
△: 끈적거리는 느낌은 적으나 덩어리 형상
×: 점착성의 풀 형상
한편, 분말 형상인 것은 취급성이 양호해서 수지중에 균일 분산시키는 것이 비교적 용이하지만, 덩어리 형상, 풀 형상의 광안정제 조성물은 분산 불량이 되는 경우가 있고, 충분한 내후성을 부여할 수 없을 뿐만 아니라, 성형품의 외관에 악영향을 미치는 경우가 있다.
(2) 대전성
실리카와 힌더드아민 화합물을 FM 믹서에 투입할 때에, 실리카의 대전성을 눈으로 하기 조건에 따라 평가했다.
○: 문제없이 투입할 수 있다.
△: 대전에 의해 FM 믹서 내부에 실리카가 부착하고, 실리카의 투입에 지장이 생긴다.
×: 대전에 의해 FM 믹서 주위에 대한 실리카의 확산이 두드러진다.
(3) 혼합 용이성
얻어진 광안정제 조성물에 있어서, 실리카와 힌더드아민 화합물의 혼합 용이성에 대해 눈으로 하기 조건에 따라 평가했다.
○: 실리카가 힌더드아민 화합물을 흡수하여 분리하지 않았다.
×: 실리카와 힌더드아민 화합물이 분리하고 있다.
Figure 112016033211012-pct00009
Figure 112016033211012-pct00010
비교예 1-1~1-4로부터 실리카의 함수율이 2~7wt%의 수치 범위 내에 없는 경우는, 광안정제 조성물의 취급성에 과제가 남는 것에 대해, 실시예 1-1~1-7로부터 실리카의 함수율이 2~7wt%로 조제된 실리카를 사용한 본 발명의 광안정제 조성물은 뛰어난 취급성을 나타내는 것을 확인할 수 있었다.
실시예 2-1(폴리프로필렌의 안정화)
폴리프로필렌 수지(MFR: 30g/10분, 밀도: O.9g/㎤) 70질량부, 엘라스토머로서, 다우사 제품 상품명 엔게이지 8100을 10질량부, 충전제로서, 탤크(닛뽄타르크 가부시키가이샤 제품 상품명 P-4) 20질량부, 페놀계 산화방지제로서, 테트라키스(3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시메틸)메탄 0.05질량부, 인계 산화방지제로서, 트리스(2,4-디제3부틸페닐)포스파이트 O.05질량부, 스테아린산 칼슘 O.05질량부, 안료로서, 도쿄잉크 가부시키가이샤 제품 베이지 마스터배치(제품명: PPCM700V-118) 3질량부 및 상기 [표 1]에 기재된 실시예 1-1의 광안정제 조성물 O.1질량부를 첨가해서 잘 혼합하고, 2축 압출기에 의해 벤트하면서 수지 온도 230℃로 용융 혼련해서 펠렛으로 하고, 230℃에서 사출 성형하고, 60㎜×20㎜×2㎜의 시험편을 얻었다.
비교예 2-1
상기 실시예 2-1에 있어서, 실시예 1-1의 광안정제 조성물 0.1질량부를 배합하지 않은 것 이외에는, 동일한 순서로 시험편을 얻었다.
비교예 2-2
상기 실시예 2-1에 있어서, 실시예 1-1의 광안정제 조성물 대신, 실리카에 대한 힌더드아민 화합물의 함침 처리를 실시하지 않았으나, 실시예 1-1의 광안정제 조성물과 동일한 조성인 것을 0.1질량부 배합하여 동일한 순서로 시험편을 얻었다.
[내후성 시험]
상기의 얻어진 시험편을 선샤인 웨더 미터로 83℃, 비가 내리는(이온 교환수를 6시간/1일 살수) 조건으로 내후 시험을 실시했다. 시험편은 120시간마다 꺼내서 시험편의 글로스 유지율로 평가했다. 평가 후는 신속하게 시험편을 내후 시험기에 셋팅하여 내후 시험을 재개했다.
[글로스 유지율]
시험편의 표면의 광택도(글로스)를 닛뽄덴쇼쿠코교 가부시키가이샤 제품 광택계(VG-2000)를 사용하여 측정각도 60˚로 측정하여 시험편의 글로스 유지율을 평가했다. 글로스 유지율은 초기의 글로스의 수치에 대한 측정값의 비율을 나타낸다. 이들의 결과에 대해서 하기 [표 3]에 나타낸다.
Figure 112016033211012-pct00011
비교예 2-1에 있어서, 1320시간 후의 시험편 표면의 열화가 현저해졌기 때문에, 그 후의 평가를 그만뒀다.
실시예 2-1과 비교예 2-2로부터 실리카에 힌더드아민 화합물을 함침시킨 본 발명의 광안정제 조성물은 우수한 안정화 효과를 나타내는 것이 확인되었다. 글로스 유지율이 양호한 결과로부터 힌더드아민 화합물에 의한 성형품 표면에 대한 블루밍이 억제되는 것을 시사하고 있고, 본 발명의 수지 조성물은 외관이 중시되는 차량용 부재, 특히, 차량 내장 부재에 있어서 적합하게 사용할 수 있다.

Claims (6)

  1. (A) 함수율이 3.5~7wt%인 실리카 100질량부에 대하여, (B) 하기 일반식(1)로 표시되는 힌더드(hindered)아민 화합물 10~300질량부를 함침시킨 광안정제 조성물.
    Figure 112020133397316-pct00012

    (식(1) 중, R1은 수소원자, 하이드록시기, 탄소원자수 1~30의 알킬기, 하이드록시알킬기, 알콕시기, 하이드록시알콕시기 또는 옥시라디칼을 나타내고, R2는 탄소원자 수 1~30의 알킬기, 탄소원자수 2~30의 알케닐기 또는 하기 일반식(2)로 표시되는 기를 나타낸다)
    Figure 112020133397316-pct00013

    (R3은 상기 일반식(1) 중 R1과 동일한 것을 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (A)성분인 실리카가 체적 평균 입자경 0.1~100㎛의 실리카인 광안정제 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    또한, (C) 하기 일반식(3)으로 표시되는 벤조에이트계 광안정제가 5~500질량부 배합되어 이루어지는 것을 특징으로 하는 광안정제 조성물.
    Figure 112020133397316-pct00014

    (식 중, R4 및 R5는 각각 독립적으로 수소원자, 탄소원자수 1~12의 알킬기 또는 탄소원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내고, R6은 탄소원자수 8~30의 알킬기를 나타낸다.)
  4. 수지 100질량부에 대하여, 제1항에 기재된 광안정제 조성물 0.01~1질량부를 배합하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 수지 조성물.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 수지가 폴리올레핀계 수지인 수지 조성물.
  6. 제4항 또는 제5항에 기재된 수지 조성물을 성형하여 이루어지는 차량용 부재.
KR1020167009087A 2013-11-26 2014-11-10 광안정제 조성물 및 그 수지 조성물 KR102242620B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-244183 2013-11-26
JP2013244183 2013-11-26
PCT/JP2014/079718 WO2015079896A1 (ja) 2013-11-26 2014-11-10 光安定剤組成物及びその樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160090792A KR20160090792A (ko) 2016-08-01
KR102242620B1 true KR102242620B1 (ko) 2021-04-21

Family

ID=53198844

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020167009087A KR102242620B1 (ko) 2013-11-26 2014-11-10 광안정제 조성물 및 그 수지 조성물

Country Status (9)

Country Link
US (1) US20160237241A1 (ko)
EP (1) EP3075815B1 (ko)
JP (1) JP6570449B2 (ko)
KR (1) KR102242620B1 (ko)
CN (1) CN105612241B (ko)
BR (1) BR112016007012B1 (ko)
ES (1) ES2754475T3 (ko)
TW (1) TWI630199B (ko)
WO (1) WO2015079896A1 (ko)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107428954B (zh) * 2015-03-30 2020-01-10 株式会社Adeka 光稳定剂母料及其制造方法
JP6630461B1 (ja) * 2019-08-09 2020-01-15 株式会社Adeka 農業用フィルム、農業用フィルム形成用樹脂組成物、及びそれを用いた植物の育成方法
JPWO2022075442A1 (ko) * 2020-10-08 2022-04-14
CN112646152B (zh) * 2020-12-10 2023-04-28 利安隆凯亚(河北)新材料有限公司 受阻胺类光稳定剂的制备方法
CN112877072A (zh) * 2021-01-14 2021-06-01 柴松锋 一种长效性农林保水剂及其制备方法
WO2023199986A1 (ja) * 2022-04-13 2023-10-19 株式会社Adeka 光安定剤組成物、これを含む樹脂組成物の製造方法、光安定剤組成物の耐ブロッキング性向上方法、およびこれらに用いるヒンダードアミン化合物

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001123022A (ja) * 1999-10-25 2001-05-08 Japan Polychem Corp 飲料容器用樹脂組成物およびそれを成形してなる飲料容器
JP2004155942A (ja) 2002-11-07 2004-06-03 Nissan Motor Co Ltd 樹脂組成物およびその製造方法、ならびにそれを用いた成形体、自動車用部品
WO2007000876A1 (ja) * 2005-06-29 2007-01-04 Adeka Corporation 樹脂添加剤組成物及びその樹脂組成物
JP2008518067A (ja) 2004-10-25 2008-05-29 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 機能性ナノ粒子

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5030039B1 (ko) 1967-07-17 1975-09-27
JPS5129129B1 (ko) 1970-12-31 1976-08-24
JPS61115089A (ja) 1984-11-09 1986-06-02 Mizusawa Ind Chem Ltd 複合水酸化物、その製造法及び塩素含有重合体用安定剤
JPH062280B2 (ja) 1984-12-28 1994-01-12 大同特殊鋼株式会社 溶 融 処 理 方 法
JPS61174270A (ja) 1985-01-29 1986-08-05 Kyowa Chem Ind Co Ltd 耐発錆性ないし耐着色性賦与剤
JPH072858B2 (ja) 1991-12-27 1995-01-18 水澤化学工業株式会社 樹脂用安定剤
JP2775146B2 (ja) * 1994-09-21 1998-07-16 小島プレス工業株式会社 車両用衝撃吸収構造体
DE19501053A1 (de) 1995-01-16 1996-07-18 Basf Ag Stabilisatorgemisch aus Chromanderivaten und inerten organischen Lösungsmitteln sowie dieses Stabilisatorgemisch enthaltende Mikrokapseln
TW416970B (en) * 1995-05-31 2001-01-01 Ciba Sc Holding Ag Carrier-bound light stabilizers and antioxidants as fillers and stabilizers
GB2332678B (en) * 1997-12-23 2000-09-27 Ciba Sc Holding Ag Stabilizer mixtures containing a sterically hindered amine
JP2003041008A (ja) 2001-07-27 2003-02-13 Jsr Corp マスターバッチ
DE10112441A1 (de) * 2001-03-15 2002-09-19 Degussa Kieselsäure durch Fällung mit konstanter Alkalizahl und deren Verwendung
JP2004001499A (ja) * 2002-04-26 2004-01-08 Sumitomo Chem Co Ltd ガラス繊維強化ポリプロピレン樹脂ペレット及びそれから得られる車輌前部構造体
JP4362071B2 (ja) * 2004-01-07 2009-11-11 オカモト株式会社 車両内装材用難燃性ポリオレフィン系シート

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001123022A (ja) * 1999-10-25 2001-05-08 Japan Polychem Corp 飲料容器用樹脂組成物およびそれを成形してなる飲料容器
JP2004155942A (ja) 2002-11-07 2004-06-03 Nissan Motor Co Ltd 樹脂組成物およびその製造方法、ならびにそれを用いた成形体、自動車用部品
JP2008518067A (ja) 2004-10-25 2008-05-29 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 機能性ナノ粒子
WO2007000876A1 (ja) * 2005-06-29 2007-01-04 Adeka Corporation 樹脂添加剤組成物及びその樹脂組成物

Also Published As

Publication number Publication date
BR112016007012B1 (pt) 2022-02-01
US20160237241A1 (en) 2016-08-18
EP3075815A1 (en) 2016-10-05
CN105612241B (zh) 2018-09-25
EP3075815A4 (en) 2017-09-13
ES2754475T3 (es) 2020-04-17
JPWO2015079896A1 (ja) 2017-03-16
CN105612241A (zh) 2016-05-25
KR20160090792A (ko) 2016-08-01
WO2015079896A1 (ja) 2015-06-04
TWI630199B (zh) 2018-07-21
JP6570449B2 (ja) 2019-09-04
TW201527280A (zh) 2015-07-16
EP3075815B1 (en) 2019-10-09
BR112016007012A2 (pt) 2017-08-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102242620B1 (ko) 광안정제 조성물 및 그 수지 조성물
EP2112200B1 (en) Resin additive master batch
EP2810976B1 (en) Resin additive masterbatch
EP3424993A1 (en) Resin additive composition, thermoplastic resin composition, and molded article thereof
EP3339376B1 (en) Resin additive composition and synthetic resin composition using same
EP2980129B1 (en) Resin additive masterbatch and polyolefin resin composition to which said resin additive masterbatch has been admixed
EP2873686B1 (en) Mixed pellet
EP3279240B1 (en) Photostabilizer master batch and method for manufacturing same
CN115335447A (zh) 成核剂、树脂组合物、树脂组合物的制造方法和成形品
KR102165994B1 (ko) 도장성을 향상시킨 피도장 기재
JP6952445B2 (ja) ポリオレフィン系樹脂組成物およびそれを用いた自動車内外装材
KR102706473B1 (ko) 수지 첨가제 조성물 및 이것을 사용한 합성 수지 조성물
EP4130127A1 (en) Additive composition, resin composition containing same, production method therefor, and molded article
WO2020213720A1 (ja) ヒンダードアミン化合物、樹脂組成物、成形品、塗料およびシーリング材
BR112017021065B1 (pt) Masterbatch de fotoestabilizador e método para fabricação do mesmo

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant