KR102226666B1 - 효율적인 수소 방출을 위한 테더링된 전이 금속 촉진된 광촉매 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적어도 부분적으로는 유기 리간드를 사용하여 금속 (예를 들어, 후 전이 금속(late transition metal), 예컨대 니켈의 금속 이온)을 반도체 (광촉매) 표면에 테더링(tethering) (침착)시킴으로써 광촉매 (반도체 광촉매)의 효율을 개선시키는 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 1,2-에탄디티올 (EDT)이 전이 금속 착물 (예를 들어, 니켈 (Ni2+ 이온))을 반도체 표면에 부착시키기 위한 우수한 분자 연결기(linker) (예를 들어, 유기 리간드)로서 기능하며, 반도체 표면은 황화카드뮴 표면의 형태일 수 있다. 광촉매는 H2S로부터 수소를 생성하는 데 특히 유용하다.

Description

효율적인 수소 방출을 위한 테더링된 전이 금속 촉진된 광촉매 시스템 {TETHERED TRANSITION METALS PROMOTED PHOTOCATALYTIC SYSTEM FOR EFFICIENT HYDROGEN EVOLUTIONS}
관련 출원의 교차 참조
본 출원은 2013년 9월 5일자로 출원된 미국 가특허 출원 시리얼 번호 61/874,063을 기초로 하며, 그것을 우선권 주장하며, 그것은 그의 전문이 본원에 설명된 것처럼 본원에 참조로 포함된다.
기술 분야
본 발명은 광촉매 재료 (반도체 광촉매), 보다 구체적으로는 연결기 (유기 리간드)에 의해서 광촉매 표면을 금속 (예를 들어, 니켈 이온 또는 다른 전이 금속 이온)과 테더링(tethering)하여 광촉매의 성능을 개선시키고, 그로 인해서 효율적인 수소 방출을 위한 개선된 광촉매 시스템뿐만 아니라 다른 광촉매 응용에서 사용하기 위한 것을 제공하는 방법에 관한 것이다.
천연 가스 작동 및 정유공장에서의 수소화탈황 공정은 다량의 황화수소 (H2S)를 생성한다. 일부 사워 가스 정(sour gas well)은 30%를 초과하는 H2S를 함유할 수 있다. H2S는 본래 부식성이어서, 파이프라인의 온전성을 방해한다. H2S는 수화물 형성을 유도하여, 가스 생성에 영향을 준다. H2S는 유독성이고, 환경적으로 유해하기 때문에, 그것은 중화되어야 한다.
일반적으로 현재 수행되는 원유의 탈황 단계에서는, 중질 나프타를 원유 증류 동안 수소화정제(hydrofining)에 적용하여 원유 중에 함유된 황 성분의 전부를 황화수소로서 회수한다. 현재, H2S를 무독성 원소 황으로 전환시키는 우세한 방법은 클라우스(Claus) 황 회수 방법이다. 클라우스 방법은 유독성 H2S를 중화시키기 위해서 수행되는 다수의 상이한 단계를 포함한다. 먼저, H2S를 아민 추출을 사용하여 호스트 가스 스트림으로부터 분리한다. 이어서, H2S를 클라우스 장치에 공급하는데, 여기에서 그것은 하기 두 단계에서 전환된다. 제1 단계는 H2S를 공기로 부분적으로 산화시키는 열적 단계이다. 이것은 고온 (1000 내지 1400℃)에서 반응로(reaction furnace)에서 수행된다. 황이 형성되지만, 일부 H2S가 반응하지 않고 남아있고, 일부 SO2가 제조된다. 제2 단계는 잔류하는 H2S를 더 낮은 온도 (약 200 내지 350℃)에서 촉매 상에서 SO2와 반응시켜서 황을 더 제조하는 촉매적 단계이다. 제2 단계에서는 성분이 타당한 속도로 반응하는 것을 돕기 위해서 촉매가 필요하다. 불행하게도, 반응은 최적의 촉매를 사용하는 경우에도 완결되지 않는다. 이러한 이유로 인해서, 2단계 또는 3단계가 사용되며, 그 단계들 사이에서 황이 제거된다. 필연적으로, 소량의 H2S가 테일 가스(tail gas) 중에 남아있고, 이러한 잔류량은 다른 미량의 황 화합물과 함께 통상적으로 테일 가스 장치에서 처리된다.
클라우스 방법은 높은 전환율을 제공할 수 있지만, 이러한 황 회수 방법과 연관된 다수의 결함이 존재한다. 특히, 클라우스 방법은 아황산 가스와 황화수소의 촉매적 반응뿐만 아니라 가열 및 응축의 반복으로 인해서 상당한 양의 에너지를 필요로 한다. 그 방법은 추가의 문제점, 예를 들어 아황산 가스의 처리가 고비용이라는 추가 문제점을 갖는다. 또한, 그 방법은 H2S의 에너지 함량을 회수할 수 없고, 상당히 요구되는 H2를 생성할 수 없다.
촉매작용은 물질이 최종적으로 변경되거나 또는 소모되지 않으면서 반응물의 화학적 변형 속도를 개질시키는 데 참여하는 방법이다. 이러한 물질은 촉매로서 공지되어 있는데, 이것은 활성화 에너지를 감소시킴으로써 반응 속도를 증가시킨다. 일반적으로, 광촉매작용은 그 자신을 포함시키지 않으면서, 화학 반응의 속도를 개질시키는 물질을 활성화시키기 위해서 광을 사용하는 반응이다. 광촉매는 광 조사를 사용하여 화학 반응의 속도를 개질시킬 수 있는 물질이다.
반도체 광촉매는 전도대(conduction band) 및 가전자대(valence band) 구조가 금지대(forbidden band)에 의해서 분리된 에너지대 구조를 갖는다. 광촉매가 밴드 갭 이상의 에너지를 갖는 광으로 조사되는 경우, 가전자대의 전자가 전도대로 여기되고, 정공이 가전자대에 생성된다. 전도대로 여기된 전자는 전자가 가전자대에 존재할 때보다 더 높은 환원력을 가지며, 정공은 더 높은 산화력을 갖는다.
따라서, 광촉매작용은 특히 미립자 형태의 반도체에 의한 광 흡수 및 분리될 엑시톤의 생성을 포함하여 산화환원 반응을 생성하는 방법의 형태일 수 있다. 그 방법은 태양 에너지의 화학 에너지로의 전환을 위해서 사용될 수 있는, 반응기 (장치)에 입사하는 광자 에너지를 사용하여 자유-에너지 포저티브 반응(free-energy positive reaction) (열역학적으로 비선호되는 반응)이 일어나게 한다.
태양 에너지 전환 또는 폐기물, 예컨대 바이오매스-관련 유기 폐기물 및 황화수소로부터의 회수 에너지의 중요성으로 인해서, 반도체 분말 재료를 사용한 수소의 광촉매 방출 (생성)이 상당한 주목을 받고 있다. 광촉매작용을 위해서 태양 에너지를 사용하는 것은 가시광 범위에서의 광범위한 흡수뿐만 아니라 낮은 자본 비용을 갖는 큰 규모의 응용을 요구한다. 따라서, 지구에 풍부한 원소가 광촉매 재료의 성분인 것이 선호된다. 귀금속 나노입자는 일반적으로 물/양성자를 환원시켜서 수소 분자를 생성하기 위한 양호한 전기촉매 재료이기 때문에, 효율적인 광촉매는 반도체 재료의 표면 상에 귀금속 나노입자를 포함할 수 있다. 높은 전기촉매 활성을 갖는 귀금속의 대체품을 찾는 것이 여전히 요구되며, 바람직하다.
광촉매 물 분해(splitting)의 매우 효율적인 전환을 위해서는, 광촉매 표면을 공촉매로 개질시키는 것이 필수적인데, 그 이유는 그것이 전하 분리를 증진시켜서 신규한 금속-반도체 전자 구조를 생성하고, 목표하는 산화환원 반응을 촉매작용하는 전기촉매 특성을 증진시키기 때문이다. 광촉매 재료 상에 데코레이팅된(decorated) (침착된) 다수의 나노재료, 예컨대 Pt, Pt-Pd(S), Au, MoS2, 및 Ag2S가 광촉매 수소 방출을 증진시킨다고 보고되어 있다. 오랫동안, 니켈계 나노입자 구조가 광촉매 물 분해 반응에 활성인 것으로 공지되어 있고, 금속 니켈 입자의 중간 크기 (전형적으로는 10 nm 초과)가 수소 방출의 활성 자리를 위해서 사용된다고 고려되어 왔다. 보다 최근의 연구는 니켈-티올레이트 착물이 수소 방출 자리로서 효과적으로 기능하는 것이 가능하다고 보고하였다.
이러한 발전에도 불구하고, 태양 기반 수소 제조 기술에서는 개선이 여전히 필요하며, 특히, H2S 또는 그것을 함유하는 가스를 가치있는 수소 및 황으로 동시에 전환시키는 개선된 대체 방법이 필요하다. 즉, 황화수소를 광촉매를 사용하여 분해시켜서 실용적으로 사용될 수 있는 수소 및 황을 산출하고, 그로 인해서 유해한 물질로서의 황화수소를 더 적은 양의 에너지를 사용하여 분해시켜서 유용한 물질로서의 수소 및 황을 제조하는 것을 가능하게 하는 방법이 바람직하고, 필요하다.
이는 높은 연 일조량을 갖는 지역, 예컨대 사우디 아라비아에 위치된 산업에 대해서는 특히 사실이다.
본 발명은 적어도 부분적으로는 본원에 기술된 바와 같은 유기 리간드를 사용하여 금속 (예를 들어, 후 전이 금속(late transition metal), 예컨대 니켈의 금속 이온)을 반도체 (광촉매) 표면에 테더링 (침착)함으로써 광촉매 (반도체 광촉매)의 효율을 개선시키는 방법에 관한 것이다. 하나 이상의 변형에서, 1,2-에탄디티올 (EDT)이 금속 착물 (예를 들어, 니켈 (Ni2+ 이온))을 반도체 표면에 부착시키기 위한 우수한 분자 연결기 (예를 들어, 유기 리간드)로서 기능하며, 반도체 표면은 황화카드뮴 (CdS) 표면의 형태일 수 있다.
본 발명의 광촉매는 H2S로부터의 수소 생성, 물 분해, CO2 환원 등을 비롯한, 다수의 상이한 응용에서 사용될 수 있다.
도 1은 본 발명의 한 실시양태에 따른, 에탄디티올-니켈 종으로의 CdS 표면 개질의 반응식을 나타내고;
도 2는 CdS, CdS-EDT-Ni 및 CdS를 갖는 EDT-Ni 중합체의 DR UV-VIS 스펙트럼이다.
따라서, 본 발명의 한 목적은 상기에 기술된 관련 기술분야 기술의 단점을 극복하고, 높은 촉매 활성을 갖고, 무독성이고, 긴 수명을 갖고, 광촉매 반응을 위해서 가시광을 그대로 사용할 수 있고, 특히 수소 생성에 유용한 광촉매를 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 광촉매의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본원에 논의된 바와 같이, 의도되는 예시적인 한 응용에서, 본 발명에 따른 광촉매 시스템은 광촉매작용 동안 산화 상태가 Ni2 +로부터 Ni+로 변하는, 용액 중에 용해된 니켈 이온 (균질한 상)의 존재를 요구한다. 따라서, 니켈 이온은 용액 중에서 유지되어야 하며, 이것이 실용적인 응용을 어렵게 한다. 따라서, 본 발명의 한 목적은 이러한 니켈 착물을 반도체 광촉매 재료의 표면 상에서 효과적으로 안정화시켜서, 시스템의 광촉매 성능을 실질적으로 개선시키는 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 방법은 본원에 논의된 바와 같은 반도체 표면의 개질에 의해서 그러한 결과를 성취한다.
본 발명은 적어도 부분적으로는 본원에 기술된 바와 같은 유기 리간드를 사용하여 금속 (예를 들어, 후 전이 금속의 금속 이온)을 반도체 (광촉매) 표면에 테더링함으로써 H2S로부터 수소를 제조하기 위한 광촉매 (반도체 광촉매)의 효율을 개선시키는 방법에 관한 것이다. 본 발명의 방법을 H2S의 중화에 적용하는 것 및 H2S로부터 최종적으로 수소를 제조하는 것은 광촉매의 예시적인 한 응용이라고 이해된다. 황이 또한 본 발명의 반도체 광촉매 재료를 사용하는 H2S의 전환의 결과로서 제조된다. 따라서, 본 발명은 H2S로부터의 수소의 제조뿐만 아니라 다른 응용을 가지며, 특히 본 발명의 교시 내용은 다른 광촉매 응용, 예컨대 물 분해 및 CO2 환원에 적용될 수 있다는 것이 인지되고, 이해될 것이다.
전통적으로, 광촉매의 효율은 의도되는 응용에 적합한 반도체의 표면 상의 직접 전이 금속 도핑에 의해서 향상된다. 그러나, 그러한 접근에는 제한 및 결함이 존재한다. 본원에 설명된 바와 같이, 이러한 전통적인 방법과 본 발명의 방법 간의 중요한 한 차이점은, 본 발명에 따라서, 반도체는 전통적인 직접 도핑 접근에서와 같은 도판트 층을 갖지 않는다는 것이다.
광촉매의 효율을 증진시키기 위해서 종래의 금속 도핑 방법을 사용하는 것 대신에, 본 발명은 반도체 표면을 분자 수준에서 개질시킴으로써 개선된 반도체 광촉매를 제공하는 것에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 분자 연결기 (예컨대 유기 리간드)를 사용하여 금속 착물 (예를 들어, 니켈 착물)을 반도체 광촉매의 표면에 부착시킨다. 본원에 언급된 바와 같이, 예를 들어 테더링된 전이 금속의 형태의 이러한 개질은 H2S로부터의 수소 생성 (그러나, 다른 응용이 동등하게 가능함)에서 사용하기에 특히 적합한 개선된 광촉매 재료를 산출한다. 본 발명의 방법은 촉매 활성 자리에서 전하 재조합을 회피하며, (전통적인 방법 및 재료에 비해서) 동일하거나 또는 보다 양호한 전도도를 성취하여 광촉매작용의 보다 양호한 효율을 성취하기 위해서, 일반적으로 고비용인 금속을 훨씬 적게 요구한다.
도 1은 본 발명에 따라서 반도체 광촉매의 표면을 개질시켜서 광촉매 재료의 성능 특성을 개선시키는 방법을 도시한다.
광촉매 재료
의도되는 응용에 적합한 한, 임의의 수의 상이한 반도체 광촉매 재료가 본 발명에 따라서 사용될 수 있다. 예를 들어, 반도체 광촉매 재료는 CdS, MoS2, FeS, CoS, NiS, MnS2, ZnS, ZnS2, Cu2S, Rh2S, Ag2S, HgS, In2S3, SnS2, PbS, SnS2, PbS, SnS, TiS, 및 Sb2S3을 포함하지만, 이에 제한되지 않는 1종 이상의 황화물을 포함할 수 있다. 예시적인 한 실시양태에서, 반도체 광촉매 재료는 황화카드뮴 (CdS) 재료의 형태이다. 공지된 바와 같이, 황화카드뮴은 반도체 광촉매로서 기능하고, 태양 전지, 뿐만 아니라 다른 응용의 코어 성분으로서 종종 사용되는 직접 밴드 갭(direct band gap) 반도체이다. CdS 재료는 높은 결정화도를 갖는 CdS (CdS 나노결정)를 제조하는 합성 기술을 포함하지만, 이에 제한되지 않은 종래의 기술을 사용하여 제조된다.
하나 이상의 변형에서, 반도체 광촉매 재료는 TiO2, CoTiO3, NiTiO3, CuTiO3, ZnTiO3, V2O5, FeO2, FeO3, CuO, NiO, Cu2O, ZnO, 및 SrTiO3을 포함하지만, 이에 제한되지 않는 1종 이상의 산화물을 또한 포함할 수 있다. 적어도 한 변형에서, 반도체 광촉매 재료는 CdSe, ZnSe, PbSe, Ag2Se, CuInS2, CuInGaSe2, ZnS2CdSe를 포함하지만, 이에 제한되지 않는 1종 이상의 다른 반도체 재료를 포함할 수 있다.
분자 연결기 /금속 종
방법은 분자 연결기를 사용하여 금속 (예를 들어, 전이 금속), 예컨대 니켈 (후 전이 금속)을 반도체 광촉매 재료의 표면에 부착시키는 단계를 포함한다. 본 발명의 의도되는 응용에 적합한 다른 전이 금속 및 관련된 금속은 Ag, Au, Pb, Ru, Ir, Cu, Fe, Mn, Co, 및 Pt/Au 합금을 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다. 본 출원은 1,2-에탄디티올 (EDT)이 전이 금속 착물을 황화카드뮴 표면 (반도체 재료의 표면)에 부착시키기 위한 우수한 분자 연결기 (유기 리간드)로서 기능하는 것을 발견하였다. 1,2-에탄디티올 (EDT)은 화학식 C2H4(SH)2를 갖는 무색 액체이며, 금속 이온을 위한 우수한 리간드로서 작용한다. 본 발명의 의도되는 응용에 적합한 다른 유기 리간드 (분자 연결기)는 2-메르캅토프로피온산, 티오글리콜산, 11-메르캅토운데칸산, 메르캅토숙신산, 1,4-벤젠디티올, 4,4'-디메르캅토스틸벤, p-페닐렌디아민, 4-메르캅토벤조산, 소듐 2,3-디메르캅토프로판술포네이트 모노히드레이트, 1,3,4-티아디아졸-2,5-디티올, 트리티오시아누르산, 비페닐-4,4-디티올, 및 (3-메르캅토프로필)트리에톡시실란을 포함하지만, 이에 제한되는 것은 아니다.
도 1을 구체적으로 참고하면, 반도체 재료, 이 경우에는 합성된 CdS 나노결정의 형성 후에, 반도체 재료를 에탄올 용액 중에 희석된 EDT 중에서 처리한다. 이러한 처리는 CdS 표면을 EDT 종으로 포화시키는 것을 보장하기 위해서 미리 결정된 시간, 예컨대 약 6시간 동안 수행된다. 이러한 처리는 도 1에서 단계 1로서 설명되어 있다.
도 1의 단계 2에 도시된 바와 같이, 여과 후, CdS 나노결정을 2 M Ni2 + 수용액 중에 현탁시킨다. 이 용액을 미리 결정된 시간, 예컨대 약 6시간 (그러나, 더 짧거나 긴 아지테이션(agitation) 시간이 가능함) 동안 교반에 의해서와 같이 아지테이팅(agitating)한다. 처리 시간은 구체적인 응용 및 다른 작동 파리미터에 따라서 달라질 수 있다는 것을 이해할 것이다 (따라서, 처리 시간은 6시간 미만이거나 또는 6시간을 초과할 수 있음).
확산 반사율 푸리에-변환 적외선(Diffuse reflectance Fourier-transformed infrared) (DRIFT) 스펙트럼은, 미처리(bare) CdS 표면이 Cd 전구체로부터의 표면 상에 잔류하는 아세테이트 종을 함유하는 것을 나타낸다. EDT로 처리된 CdS 샘플의 경우, 비대칭/대칭 CH 신축 진동과 관련된 3068, 2968, 2937, 2878 cm-1에서의 신호뿐만 아니라 감소된 전형적인 두자리 아세테이트 종으로부터의 1550 및 1432 cm-1에서의 신호 및 EDT 풋프린트(footprint) (예를 들어 CH 신축의 경우 2922 cm- 1)에 대한 강도가 EDT 처리에 의해서 증진되었는데, 이는 CdS 표면이 EDT로 성공적으로 개질되었음을 나타낸다. Ni 개질은 EDT 풋프린트의 강도를 감소시키는데, 이는 EDT 관능기를 사용한 Ni 종의 성공적인 데코레이션을 나타낸다. C/H/N에 대한 원소 분석에 대한 결과는, 탄소의 존재가 적은 양으로 검출되었는데, 이는 FTIR 결과와 일치하였다. 하기 결과는, EDT (연결기)에 의한 광촉매 표면과 니켈 이온 (또는 다른 금속 이온)의 성공적인 테더링을 나타낸다.
상이한 EDT 함량으로 제조되고 (도 1의 단계 1), 이어서 니켈 용액 중에 함침시킴으로써 (도 1의 단계 2) 제조된 샘플을 사용하여 0.5 M Na2S 0.5 M Na2SO3 중에서 광촉매 측정을 수행하였다. 단계 1에서 적은 양 (예를 들어, 1% EDT 용액을 0.01 ml까지 첨가함)의 EDT로 처리된 샘플의 경우, 광촉매 성능은 단조식으로(monotonically) 증가하였는데, 이는 EDT 양이 CdS 표면 상에서 포화되지 않았음을 나타낸다. 본 출원인은 용액 중에 더 많은 (예를 들어, 0.01 ml 초과) EDT를 첨가하는 것이 광촉매 성능을 추가로 개선시키지 않고, 유사한 속도를 제공하는 것을 발견하였다. 이러한 결과는, CdS 미립자 상에서의 EDT 흡수의 비가역적이고, 재생가능한 본성과 일치하며, 이것은 이어서 표면 상에서 유사한 양의 니켈 침착을 제공한다. EDT를 처리하지 않고 CdS를 Ni 용액 중에 직접 침치시키는 것과 Ni를 고정화시키지 않고 단지 EDT를 처리하는 것 모두는 높은 속도의 수소 방출을 제공하지 않았다. 상기 내용을 기초로, EDT는 니켈 고정화에 필수적일 뿐만 아니라, 니켈의 존재는 광촉매작용의 고성능에 필수적이었다. 즉, 도 1에 도시된 두 단계 모두 (단계 1 및 2)의 성능이 개선된 결과를 제공하고, 광촉매의 성능을 증진시킨다.
도 2는 (1) 550 nm에서 CdS의 특징적인 흡수 엣지(edge)를 나타내는 미처리 CdS; (2) CdS-EDT-Ni (니켈-EDT 종으로 표면 개질됨, 이러한 흡수 엣지는 니켈-EDT 종의 존재에 의해서 영향을 받지 않음); 및 (3) CdS를 갖는 EDT-Ni 중합체 (샘플을 EDT 용액으로부터 여과하지 않고, Ni 공급원을 직접 첨가함, 니켈-EDT 중합체가 형성되었고, 이것은 결국 550 nm에서의 CdS의 흡수 엣지를 지나서 최대 1000 nm에서의 추가적인 흡수를 제공하였으며, 이는 분말의 시각적인 녹색을 제공함)를 포함하는 다양한 종의 확산 반사율 UV-Vis 스펙트럼을 나타낸다. 그러나, 본 출원인은 광촉매 재료로서 니켈-EDT 중합체를 사용하는 것은 수소의 생성을 유발하지 않는다는 것을 발견하였다 (즉, 수소 방출이 검출되지 않음). 그 결과, 이러한 중합체는 그 자체로는 H2S를 수소 및 황으로 전환시키는 광촉매로서 사용하기에 양호한 후보물질이 아니다.
양자 효율 (QE)이 또한 도 2에 도시되어 있다. 그 결과는, 흡수 엣지 (약 540 nm)에 따른 비교적 높은 QE를 보여주며, 이것은 수소 방출의 공급원으로서의 CdS의 밴드 갭 여기와 일치한다. QE는 가시 범위에서 높으며 (>10%), 그 최대값은 460 nm에서 19.4%임을 발견하였다.
별도의 실험에서, 종래의 함침 방법에 의해서 제조된 1 wt% Pd를 사용하여 샘플을 데코레이팅하였으며, 이 샘플은 460 nm에서 36%의 더 높은 QE를 가지며, 요구되는 니켈-EDT 양은 훨씬 더 적었다. 상기 내용을 기초로, 이러한 재료는 특정 응용에서 사용하기 위한 적합한 광촉매 재료를 제공할 수 있다.
따라서, 본 출원인은 1,2-에탄디티올 (EDT)이 니켈 착물 (또는 그 밖의 것)을 황화카드뮴 표면에 부착시키기 위한 우수한 분자 연결기로서 기능한다는 것을 발견하였다. Ni(EDT)2 생성 상수는 매우 크며 (1025), 이것은 본 출원에서 EDT가 우수한 분자 연결기로서 기능하도록 한다. 이러한 분자 접근을 통한 표면 개질은 상당히 재현가능한데, 그 이유는 Ni 개질제의 양이 CdS 표면 상에 침착된 EDT의 양에 의해서 본질적으로 결정되기 때문이다. 표면 상에 고정된 니켈의 양이 매우 적더라도 (예를 들어, 약 0.1 wt%), 황-함유 수용액으로부터 빠른 속도로 매우 안정한 수소 방출 (TONNi > 8000)이 성취되며, 이는 가시 범위에서 약 20% 양자 효율 (QE)에 달한다.
실시예
본 발명의 광촉매 재료를 이하에서 하기 실시예(들)의 방식으로 상세하게 추가로 기술한다. 그러나, 본 발명은 하기 실시예(들)로 제한되지 않는다.
실시예 1
1,2-에탄디티올 (EDT) 및 질산니켈(II) 헥사히드레이트 (Ni(NO3)2ㆍ6H2O, ≥98.5%)를 시그마-알드리치(Sigma-Aldrich)로부터 구입하였다. 디소듐 술피드 노나히드레이트 (Na2Sㆍ9H2O, ≥98%) 및 디아세트산카드뮴(II) 데히드레이트 (Cd(OAc)2ㆍ9H2O, ≥98%)을 아크로스 오가닉스(Acros Organics)로부터 구입하였다. 모든 화학물질은 추가로 정제하지 않고 사용하였다. CdS 나노결정의 합성은 Na2S (0.14 M) 수용액 400 ml와 Cd(OAc)2 (0.14 M) 500 ml를 함께 혼합하는 것을 포함하였고, 혼합은 격렬한 교반 하에서 진행하였다. 대략 24시간 동안 연속적으로 교반한 후, 용액을 여과하고, 고체를 탈이온수로 세척하였다. 이러한 세척 단계를 수회 반복하였다. 이어서, 생성된 황색 고체를 탈이온수 100 ml 중에 분산시키고, 열수 가공을 위해서 테플론-라이닝(lining)된 스테인레스 오토클레이브(autoclave)에 옮겼다. 453 K에서 3일 동안 가열한 후, 황색 고체를 다시 여과하고, 건조될 때까지 진공 하에서 유지시켰다. 생성된 구조물은 CdS 기재였다.
톨루엔 (50 mL, >99.9% 시그마-알드리치) 중의 CdS (100 mg) 용액을 실온에서 초음파 처리한 후, 에탄올 (무수 등급, 시그마-알드리치) 중의 1% (v/v) EDT 용액 다양한 부피를 CdS 용액에 첨가하였다. 생성된 혼합물을 약 6시간 동안 교반하고, 이어서 원심분리하였다. 침전물을 에탄올 (20 mL)로 3회 세척하고, 이어서 에탄올 (40 mL) 중에 재분산시켰다. 현탁액에, 에탄올 (10 mL) 중의 5 M Ni(NO3)2를 첨가하고, 약 1시간 동안 교반하고, 이어서 원심분리하였다. 생성된 침전물을 에탄올 (20 mL)로 3회 세척하고, 원심분리하고, 50℃에서 진공 하에서 건조하여, 정량 수율로 녹황색 고체를 형성하였다.
재순환 배치 반응기 장치 및 상부-조사 유형의 광촉매 반응기를 사용하여 광촉매 시험 (상기에 기술됨)을 수행하였다. TCD 및 분자체(Molecular Sieve) 5A 컬럼이 장치된 브루커(Bruker)-450 기체 크로마토그래프를 사용함으로써 축적된 가스 생성물을 분석하였다. 사용된 광원은 콜드 미러(cold mirror) 및 다양한 밴드 통과 여과기를 갖는 아사히 스펙트라(Asahi Spectra) MAX-303 (300 W Xe 램프)이었다. EKO LS-100 분광복사계(spectroradiometer)를 사용하여 광자 조사량을 측정하였고, 광자 분포를 지지 정보에 나타낸다. 전형적으로, 0.5 M Na2S, 0.5 M Na2SO3 (알파 아에사르(Alfa Aeser), 98%) 25 ml 중에서의 초음파 처리에 의해서 광촉매 50 mg을 잘 침지시켰다. 반응기를 재순환 시스템에 설치하고, 광 촉매 시험 전에 용액 중의 용존 공기를 배출시켰다.
합성된 샘플을 유도 결합 플라즈마 광학 방출 분광계(inductively coupled plasma optical emission spectrometer) (ICP-OES), 원소 분석 (C, H, N), X-선 회절 (XRD), UV-Vis 흡수 스펙트럼, 순환 전압전류법(cyclic voltammetry) (CV), X-선 광전자 분광분석법 (XPS), 투과 전자 현미경 (TEM) 및 확산 반사율 적외선 푸리에 변환 스펙트럼 (DRIFTS)에 의해서 특징분석하였다.
배리안(Varian) 720-ES 상에서의 ICP-OES에 의해서 Ni, Cd 및 S의 양을 측정하였다. 플래쉬 2000 써모 사이언티픽 CHNS/O 분석기(Flash 2000 Thermo Scientific CHNS/O analyser)를 사용하여 원소 분석을 수행하였다. Cu Kα 방사선 (λ = 0.154 nm)을 사용하는 브루커 DMAX 2500 X-선 회절계 상에서 생성물의 XRD 패턴을 수집하였다. 적분구가 장치된 JASCO V-670 분광광도계 상에서 UV-Vis 스펙트럼을 수집하였다. RRDE-3를 위한 Au 디스크 작동 전극 (3 mm) (에이엘에스 코., 엘티디.(ALS Co., Ltd.)), 탄소지 반대 전극 (토레이(Toray) TGP-H-60), 및 Ag/AgCl (KCl 포화된) 기준 전극을 갖는 3-전극 시스템을 사용하여 바이오-로직(Bio-Logic) VMP3 전기화학 스테이션(electrochemical station)으로 CV 측정을 수행하였다. NaOH (99.99%, 시그마-알드리치)에 의해서 pH 13으로 조정된 0.5 M Na2SO4 (≥99.99%, 시그마-알드리치) 중에서, Ar 분위기 하에서 1600 rpm의 회전 속도에서 측정을 수행하였다. 12 kV 및 10 mA에서 Mg/Al 애노드를 사용하여 AMICUS KRATOS로부터 XPS 스펙트럼을 수득하였다. 300 kV에서 작동되는 TITAN ST 투과 전자 현미경을 사용하여 모폴로지 및 입자 크기 분포를 특징분석하였다. 유동 질소 하의 써멀 사이언티픽 니콜렛(Thermal Scientific Nicolet) 6700 상에서 DRIFTS 측정을 수행하였다. 흡착된 물을 제거하기 위한 시도로 샘플을 120 내지 200℃에서 예열하였지만, 이러한 처리에 의해서 스펙트럼은 변화되지 않았다.
산업적 응용가능성
상기 개시내용으로부터, 본 발명의 광촉매가 높은 촉매 활성을 갖고, 무독성이고, 광촉매 반응을 위해서 가시광을 그대로 사용할 수 있고, 수소 생성 등에 유용한 것이 이해될 것이다.
본 발명은 본원에 널리 기술되고, 하기에 청구된 바와 같은 그의 구조, 방법, 또는 다른 본질적인 특징을 벗어나지 않으면서, 다른 특별한 형태로 포함될 수 있다. 기술된 실시양태는 모든 점에 있어서 단지 설명으로서 간주되어야 하며, 제한이 아니다. 따라서, 본 발명의 범주는 상기 설명에 의해서가 아니라 첨부된 청구범위에 의해서 설명된다. 청구범위의 등가물의 의미 및 범위 내의 모든 변화는 그의 범주 내에 포괄되어야 한다.

Claims (25)

  1. 초기 반도체 광촉매 재료를 형성하는 단계;
    초기 광촉매 재료를 유기 리간드를 함유하는 제1 용액에 노출시켜서 그의 표면 상에 유기 리간드가 침착된 광촉매 재료를 형성하는 단계; 및
    상기 유기 리간드가 침착된 광촉매 재료를 금속 수용액 중에 현탁시켜서 그의 표면 상에 금속-유기 리간드 종이 침착된 광촉매 재료를 형성하는 단계
    를 포함하며, 여기서 광촉매 재료는 CdS를 포함하고, 유기 리간드는 1,2-에탄디티올 (EDT)을 포함하며, 금속 수용액은 Ni2+를 포함하는 것인, 광촉매를 제조하는 방법.
  2. 제1항에 있어서, 초기 CdS 광촉매 재료가 합성된 CdS 나노결정을 포함하는 것인 방법.
  3. 제1항에 있어서, 초기 광촉매 재료를 광촉매 재료의 표면이 유기 리간드로 포화되는 것을 보장하기에 충분한 시간 동안 유기 리간드를 함유하는 용액에 노출시키는 것인 방법.
  4. 제3항에 있어서, 충분한 시간이 적어도 6시간인 방법.
  5. 제1항에 있어서, 제1 용액이 에탄올 용액 중의 1,2-에탄디티올 (EDT)을 포함하는 것인 방법.
  6. 제1항에 있어서, 그의 표면 상에 유기 리간드가 침착된 광촉매 재료를 금속 수용액 중에 현탁시키기 전에 여과하는 것인 방법.
  7. 제1항에 있어서, 광촉매 재료를 현탁시키는 단계가 미리 결정된 시간 동안 금속 수용액을 교반하는 단계를 더 포함하는 것인 방법.
  8. 제7항에 있어서, 미리 결정된 시간이 적어도 6시간인 방법.
  9. 제1항에 있어서, 광촉매가 (1) H2S로부터의 수소 방출; (2) 물 분해(splitting) 및 (3) CO2 환원을 가능하게 하는 것인 방법.
  10. 광촉매 재료를 제조하는 단계; 및
    유기 리간드를 사용하여 도판트 층의 형성 없이 광촉매 재료의 표면에 전이 금속 종을 부착시키는 단계
    를 포함하며, 여기서 광촉매 재료는 CdS를 포함하고, 유기 리간드는 1,2-에탄디티올 (EDT)을 포함하며, 전이 금속 종은 Ni2+를 포함하는 것인, H2S를 수소 및 황으로 전환시킬 수 있는 광촉매를 제조하는 방법.
  11. 제10항에 있어서, 유기 리간드를 사용하여 전이 금속 종을 부착시키는 단계가
    1,2-에탄디티올 (EDT)을 CdS 광촉매 재료를 함유하는 제1 용액에 첨가하여 제1 혼합물을 형성하는 단계;
    제1 혼합물로부터 CdS 침전물을 형성하는 단계;
    CdS 침전물을 제2 용액 중에 재분산시켜서 현탁액을 형성하는 단계;
    현탁액에 Ni(NO3)2를 첨가하는 단계; 및
    CdS 광촉매 재료의 표면에 Ni-EDT 종이 부착된 CdS 광촉매 재료를 형성하는 단계
    를 포함하는 것인 방법.
  12. 제11항에 있어서, 제1 용액 및 제2 용액이 에탄올을 포함하는 것인 방법.
  13. 제10항의 방법에 따라 제조된 광촉매.
  14. H2S를 수소 및 황으로 전환시킬 수 있고, 하기 화학식을 갖는 광촉매.
    Figure 112019091441205-pct00004
  15. 광촉매의 기재의 표면 상에 Ni-1,2-에탄디티올 (EDT) 착물이 침착된 광촉매를 사용하여 H2S로부터 수소를 생성하는 단계를 포함하며,
    여기서 Ni-1,2-에탄디티올 (EDT) 착물이 침착된 CdS 광촉매는
    1,2-에탄디티올 (EDT)을 CdS 광촉매 재료를 함유하는 제1 용액에 첨가하여 제1 혼합물을 형성하는 단계;
    제1 혼합물로부터 CdS 침전물을 형성하는 단계;
    CdS 침전물을 제2 용액 중에 재분산시켜서 현탁액을 형성하는 단계;
    현탁액에 Ni(NO3)2를 첨가하는 단계; 및
    CdS 광촉매의 표면에 Ni-1,2-에탄디티올 (EDT) 착물이 침착된 CdS 광촉매를 형성하는 단계
    에 의해 제조되는 것인, H2S로부터의 수소 방출을 위한 방법.
  16. 제15항에 있어서, 기재가 반도체 기재를 포함하는 것인 방법.
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