KR102160155B1 - 진공증착기 - Google Patents

진공증착기 Download PDF

Info

Publication number
KR102160155B1
KR102160155B1 KR1020130027487A KR20130027487A KR102160155B1 KR 102160155 B1 KR102160155 B1 KR 102160155B1 KR 1020130027487 A KR1020130027487 A KR 1020130027487A KR 20130027487 A KR20130027487 A KR 20130027487A KR 102160155 B1 KR102160155 B1 KR 102160155B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
unit
shutter
movement
vacuum evaporator
linear movement
Prior art date
Application number
KR1020130027487A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20140112861A (ko
Inventor
이영욱
한정원
Original Assignee
삼성디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성디스플레이 주식회사 filed Critical 삼성디스플레이 주식회사
Priority to KR1020130027487A priority Critical patent/KR102160155B1/ko
Priority to US14/020,218 priority patent/US9546417B2/en
Priority to TW102132315A priority patent/TW201435109A/zh
Priority to CN201310463790.2A priority patent/CN104046944B/zh
Priority to JP2014050811A priority patent/JP6359298B2/ja
Publication of KR20140112861A publication Critical patent/KR20140112861A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102160155B1 publication Critical patent/KR102160155B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/10—Apparatus or processes specially adapted to the manufacture of electroluminescent light sources
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
    • F16K1/16—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with pivoted closure-members
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
    • F16K1/16—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with pivoted closure-members
    • F16K1/18—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with pivoted closure-members with pivoted discs or flaps
    • F16K1/20—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with pivoted closure-members with pivoted discs or flaps with axis of rotation arranged externally of valve member
    • F16K1/2007—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces with pivoted closure-members with pivoted discs or flaps with axis of rotation arranged externally of valve member specially adapted operating means therefor
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
    • F16K31/44—Mechanical actuating means
    • F16K31/53—Mechanical actuating means with toothed gearing
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
    • F16K51/00—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus
    • F16K51/02—Other details not peculiar to particular types of valves or cut-off apparatus specially adapted for high-vacuum installations

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)

Abstract

본 발명은 진공증착기를 개시한다. 본 발명은, 구동부와, 상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 선형운동부와, 상기 선형운동부와 연결되어 회전 운동하는 회전운동부와, 상기 회전운동부와 연결되어 회동하는 셔터부를 포함한다.

Description

진공증착기{Vacuum evaporating apparatus}
본 발명은 진공증착기에 관한 것이다.
이동성을 기반으로 하는 전자 기기가 폭 넓게 사용되고 있다. 이동용 전자 기기로는 모바일 폰과 같은 소형 전자 기기 이외에도 최근 들어 태블릿 PC가 널리 사용되고 있다.
이와 같은 이동형 전자 기기는 다양한 기능을 지원하기 위하여, 이미지 또는 영상과 같은 시각 정보를 사용자에게 제공하기 위하여 디스플레이부를 포함한다. 최근, 디스플레이부를 구동하기 위한 기타 부품들이 소형화됨에 따라, 디스플레이부가 전자 기기에서 차지하는 비중이 점차 증가하고 있는 추세이며, 평평한 상태에서 소정의 각도를 갖도록 구부릴 수 있는 구조도 개발되고 있다.
상기와 같은 디스플레이부는 유기 발광 소자를 구비하여 외부로부터 인가되는 전류에 의하여 유기 발광층이 발광함으로써 각종 이미지 및 글자 등을 구현할 수 있다. 이때, 상기와 같은 유기 발광 소자는 다양한 방법으로 형성될 수 있다. 예를 들면, 유기 발광 소자는 유기물 증착 방법, 레이저 열전사 방법, 프린트 스크린 방법 등을 통하여 형성될 수 있다. 이 중에서 유기물 증착 방법은 간단한 순서와 비교적 저렴한 비용으로 유기 발광 소자를 형성할 수 있어 빈번하게 사용되고 있다.
본 발명의 실시예들은 개별 막 두께의 제어가 가능한 진공증착기를 제공하고자 한다.
본 발명의 일 측면은, 구동부와, 상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 선형운동부와, 상기 선형운동부와 연결되어 회전 운동하는 회전운동부와, 상기 회전운동부와 연결되어 회동하는 셔터부를 포함하는 진공증착기를 제공할 수 있다.
또한, 상기 구동부는 길이가 가변하는 엑추에이터일 수 있다.
또한, 상기 셔터부가 회동 가능하도록 설치되며, 상기 선형운동부가 슬라이딩 가능하도록 연결되는 고정부;를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 고정부와 상기 선형운동부 사이에 설치되어 상기 선형운동부의 슬라이딩을 가이드하는 제 1 가이드;를 더 포함할 수있다.
또한, 상기 선형운동부는, 상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 운동부와, 상기 운동부와 연결되는 전달부와, 상기 전달부와 연결되도록 설치되는 운동블럭을 구비할 수 있다.
또한, 상기 회전운동부는 스퍼기어(Spur gear)를 구비하고, 상기 운동블럭은 상기 회전운동부와 연결되어 작동하는 랙 기어(Rack gear)를 구비할 수 있다.
또한, 상기 회전운동부는, 상기 선형운동부와 연결되어 상기 선형운동부의 운동 시 회전하는 제 1 회전부와, 상기 제 1 회전부 및 상기 셔터부와 연결되며, 상기 제 1 회전부의 회전을 상기 셔터부로 전달하는 제 2 회전부를 구비할 수 있다.
또한, 상기 셔터부는 표면이 메쉬(Mesh) 형태로 형성될 수 있다.
또한, 상기 셔터부는, 제 1 셔터바디부와, 상기 제 1 셔터바디부로부터 절곡되어 형성되는 제 2 셔터바디부를 구비할 수 있다.
또한, 상기 셔터부는, 상기 제 1 셔터바디부 및 상기 제 2 셔터바디부에 연결되도록 설치되는 보강리브를 더 구비할 수 있다.
또한, 상기 선형운동부에 설치되는 제 1 충격저감부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 1 충격저감부는, 상기 선형운동부에 고정되도록 설치되는 제 1 고정브라켓과, 상기 제 1 고정브라켓에 설치되는 제 1 충격저감부재를 구비할 수 있다.
또한, 상기 선형운동부로부터 이격되어 설치되는 제 2 충격저감부를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 제 2 충격저감부는, 외부에 고정되도록 설치되는 제 2 고정브라켓과, 상기 제 2 고정브라켓에 설치되는 제 2 충격저감부재를 구비할 수 있다.
또한, 상기 선형운동부에 설치되어 상기 선형운동부의 운동을 가이드하는 제 2 가이드를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 실시예들은 셔터부를 통하여 증착 물질의 주재료의 소스부와 보조재료의 소스부를 동시에 가열 가능함으로써 작업 효율을 증대시킬 수 있다. 또한, 진공증착기는 셔터부를 완전히 개방할 때 소스부로부터 방출되는 증착 물질의 증착 각도를 방해하지 않아 안정적이고 넓은 범위의 증착 각도를 확보할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공증착기를 보여주는 사시도이다.
도 2는 도 1의 A부분을 확대하여 보여주는 부분사시도이다.
본 발명은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 구성요소들은 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 진공증착기(100)를 보여주는 사시도이다. 도 2는 도 1의 A부분을 확대하여 보여주는 부분사시도이다.
도 1 및 도 2를 참고하면, 진공증착기(100)는 내부가 진공 상태로 유지되는 챔버(미도시)를 포함할 수 있다. 또한, 진공증착기(100)는 증착 물질을 가열하여 분사하는 소스부(미도시)와 상기 소스부가 설치되는 리플랙터(111)를 포함할 수 있다.
진공증착기(100)는 리플랙터(111)와 연결되는 측면방착판(112)을 포함할 수 있다. 진공증착기(100)는 상기 소스부 사이에 설치되어 상기 소스부에서 분사되는 증착 물질의 분사 각도를 제한하는 각도제한판(113)을 포함할 수 있다. 또한, 진공증착기(100)는 상기 챔버 내부에 고정되도록 설치되는 고정프레임(114)을 포함할 수 있다.
한편, 진공증착기(100)는 상기 챔버에 설치되는 에어박스(미도시)를 포함할 수 있다. 또한, 진공증착기(100)는 상기 에어박스에 설치되는 구동부(미도시)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 에어박스는 대기압 상태를 유지할 수 있으며, 상기 구동부는 길이가 가변하는 엑추에이터(미도시)를 포함할 수 있다. 특히 상기 구동부는 공압 또는 유압으로 작동하는 실린더(131) 및 실린더(131)에 설치되어 선형 운동하는 샤프트(132)를 포함할 수 있다. 이때, 상기 구동부는 상기에 한정되지 않으며, 길이가 가변하여 다른 기구 또는 물체를 선형 운동시킬 수 있는 구조를 모두 포함할 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 상기 구동부가 유압으로 작동하는 실린더(131)와 샤프트(132)를 포함하는 경우를 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
한편, 진공증착기(100)는 상기 구동부와 연결되어 운동하는 선형운동부(140)를 포함할 수 있다. 또한, 진공증착기(100)는 선형운동부(140)와 연결되어 회전 운동하는 회전운동부(150)를 포함할 수 있다. 특히 회전운동부(150)는 선형운동부(140)의 선형 운동을 회전 운동으로 변환시킬 수 있다.
이때, 선형운동부(140)는 상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 운동부(141)를 포함할 수 있다. 또한, 선형운동부(140)는 운동부(141)와 연결되는 전달부(142) 및 전달부(142)와 연결되는 운동블럭(143)을 포함할 수 있다.
특히 운동부(141)는 상기 구동부의 작동에 따라서 상하로 선형 운동할 수 있으며, 전달부(142)는 운동블럭(143)으로 운동부(141)의 운동을 전달할 수 있다. 또한, 운동블럭(143)은 전달부(142)로부터 전달되는 운동부(141)의 운동에 따라 운동부(141)와 함께 선형 운동할 수 있다.
이때, 회전운동부(150)는 선형운동부(140)와 연결되어 선형운동부(140)의 운동 시 회전하는 제 1 회전부(151)를 포함할 수 있다. 또한, 회전운동부(150)는 제 1 회전부(151) 및 셔터부(160)에 연결되며, 제 1 회전부(151)의 회전을 셔터부(160)로 전달하는 제 2 회전부(152)를 포함할 수 있다.
특히 제 1 회전부(151)와 제 2 회전부(152)는 외면이 기어 형태로 형성될 수 있다. 구체적으로 제 1 회전부(151)와 제 2 회전부(152)는 스퍼기어(Spur gear)를 구비할 수 있다. 이때, 운동블럭(143)은 스퍼기어에 형합하도록 랙 기어(Rack gear)를 구비할 수 있다.
한편, 진공증착기(100)는 회전운동부(150)와 연결되어 회동하는 셔터부(160)를 포함할 수 있다. 이때, 셔터부(160)의 표면은 메쉬(Mesh) 형태로 형성될 수 있다. 특히 메쉬 형태의 셔터부(160) 표면은 후술할 증착 물질을 셔터부(160) 표면에 용이하게 증착시킴으로써 상기 소스부로 셔터부(160) 표면의 증착 물질이 떨어지는 것을 방지할 수 있다.
상기와 같은 셔터부(160)는 제 1 셔터바디부(161) 및 제 2 셔터바디부(162)를 포함할 수 있다. 또한, 셔터부(160)는 제 1 셔터바디부(161) 및 제 2 셔터바디부(162)를 연결하는 보강리브(163)를 포함할 수 있다.
이때, 제 1 셔터바디부(161)와 제 2 셔터바디부(162)는 소정 각도를 형성할 수 있다. 특히 제 2 셔터바디부(162)는 셔터부(160)의 회전 시 외부 장치와의 간섭을 최소화하도록 제 1 셔터바디부(161)와 직각을 형성할 수 있다.
또한, 보강리브(163)는 복수개 형성될 수 있으며, 복수개의 보강리브(163)는 서로 이격되어 형성될 수 있다. 특히 보강리브(163)는 제 1 셔터바디부(161)와 제 2 셔터바디부(162)가 서로 만나는 곳에 형성되어 외부 환경에 따른 제 1 셔터바디부(161)와 제 2 셔터바디부(162)이 형성하는 각도 및 형상을 유지시킬 수 있다.
한편, 진공증착기(100)는 셔터부(160)가 회동 가능하도록 설치되며, 선형운동부(140)가 슬라이딩 가능하도록 연결되는 고정부(170)를 포함할 수 있다. 특히 고정부(170)와 선형운동부(140) 사이에는 제 1 가이드(181)가 설치되어 선형운동부(140)의 운동을 가이드할 수 있다. 이때, 제 1 가이드(181)는 엘엠 가이드(LM guide, Linear motion guide) 형태로 형성될 수 있다. 또한, 제 1 가이드(181)는 복수개 구비될 수 있으며, 복수개의 제 1 가이드(181)는 고정부(170)와 운동블럭(143)을 연결하여 운동블럭(143)의 운동 경로가 어긋나는 것을 방지할 수 있다.
진공증착기(100)는 선형운동부(140)에 설치되는 제 1 충격저감부(191)와, 선형운동부(140)로부터 이격되어 설치되는 제 2 충격저감부(192)를 포함할 수 있다. 이대, 제 1 충격저감부(191)와 제 2 충격저감부(192)는 셔터부(160)의 회전에 따라서 선형운동부(140)에 가해지는 충격을 저감시킬 수 있다. 특히 제 1 충격저감부(191)와 제 2 충격저감부(192)는 셔터부(160)의 동작에 따른 전달부(142)의 운동을 저감시킬 수 있다.
상기와 같은 제 1 충격저감부(191)는 선형운동부(140)에 설치되는 제 1 고정브라켓(191a)을 포함할 수 있다. 이때, 제 1 고정브라켓(191a)은 전달부(142)에 고정되도록 설치될 수 있다. 또한, 제 1 충격저감부(191)는 제 1 고정브라켓(191a)에 설치되는 제 1 충격저감부재(191b)를 포함할 수 있다. 이때, 제 1 충격저감부재(191b)는 다양한 형태로 형성될 수 있다. 예를 들면, 제 1 충격저감부재(191b)는 볼 플린저를 포함할 수 있으며, 고무, 스프링을 포함할 수 있다.
제 2 충격저감부(192)는 외부에 고정되도록 설치되는 제 2 고정브라켓(192a)을 포함할 수 있다. 특히 제 2 고정브라켓(192a)은 고정프레임(114)에 고정되도록 설치될 수 있다. 또한, 제 2 충격저감부(192)는 제 2 고정브라켓(192a)에 설치되는 제 2 충격저감부재(192b)를 포함할 수 있다. 이때, 제 2 충격저감부재(192b)는 제 1 충격저감부재(191b)와 서로 동일 또는 유사하게 형성되므로 상세한 설명은 생략하기로 한다.
상기와 같은 제 1 충격저감부재(191b)는 셔터부(160)의 회전 시 선형운동부(140)가 과도한 범위에서 운동하는 것을 방지할 수 있다. 예를 들면, 제 1 충격저감부재(191b)는 셔터부(160)가 열리는 경우 고정프레임(114)과 접촉하여 셔터부(160)의 하중에 의하여 선형운동부(140)가 운동 범위를 벗어나는 것을 방지할 수 있다. 또한, 제 2 충격저감부재(192b)는 셔터부(160)가 닫히는 경우 전달부(142)와 접촉하여 셔터부(160)의 하중에 의하여 선형운동부(140)가 운동 범위를 벗어나는 것을 방지할 수 있다.
진공증착기(100)는 상기의 구성 이외에도 선형운동부(140)에 설치되어 선형운동부(140)의 운동을 가이하는 제 2 가이드(182)를 포함할 수 있다. 이때, 제 2 가이드(182)는 고정프레임(114)과 전달부(142) 사이에 설치될 수 있으며, 전달부(142)는 제 2 가이드(182)를 따라 선형 운동할 수 있다.
한편, 상기와 같은 진공증착기(100)의 작동을 살펴보면, 우선 상기 챔버 내부를 대기압과 동일하게 형성하고 기판을 로딩한 후 상기 챔버 내부를 진공 상태로 유지시킬 수 있다.
상기와 같이 상기 챔버 내부가 진공을 유지된 상태에서 상기 소스부를 작동시켜 증착 물질을 증발시켜 기판(미도시)에 공급할 수 있다. 이때, 상기 소스부는 복수개 구비될 수 있으며, 복수개의 상기 소스부에는 증착 물질의 주재료와 보조재료가 각각 저장될 수 있다. 뿐만 아니라 복수개의 상기 소스부는 상기와 같은 경우 동시에 가열될 수 있다. 상기와 같이 상기 소스부의 가열이 완료되면, 셔터부(160)는 상기 소스부를 개방함으로써 증착 물질이 상기 기판으로 공급되도록 할 수 있다.
구체적으로 상기와 같은 경우 기 설정된 제어신호에 따라서 상기 구동부가 작동할 수 있다. 상기 구동부가 작동하여 선형운동부(140)를 선형 운동시킬 수 있다. 특히 상기 구동부가 작동하여 선형운동부(140)를 승하강시킬 수 있다. 다만, 이하에서는 설명의 편의를 위하여 선형운동부(140)가 하강하는 경우 셔터부(160)가 개방되는 것을 중심으로 상세히 설명하기로 한다.
예를 들면, 상기 구동부의 길이가 작아지는 경우 상기 구동부는 운동부(141)를 하강시킬 수 있다. 이때, 운동부(141)는 하강하면서 전달부(142)를 하강시키고, 전달부(142)는 다시 운동블럭(143)을 하강시킬 수 있다. 특히 운동블럭(143)은 상기에서 설명한 바와 같이 제 1 가이드(181)에 의하여 고정부(170)를 슬라이딩할 수 있다.
상기와 같이 운동블럭(143)이 하강하는 경우 운동블럭(143)은 제 1 회전부(151)를 시계방향으로 회전시킬 수 있다. 이때, 제 1 회전부(151)는 다시 제 2 회전부(152)를 반시계방향으로 회전시킬 수 있다.
상기와 같이 제 2 회전부(152)가 반시계방향으로 회전하는 경우 제 2 회전부(152)에 연결되는 셔터부(160)는 상기 소스부를 개방시키도록 회동할 수 있다. 이때, 셔터부(160)는 일정한 속도로 상기 소스부를 개방할 수 있다.
상기와 같이 셔터부(160)가 회전하는 경우 셔터부(160)는 특정 각도 이상 회전하게 되면, 셔터부(160)의 자중에 의하여 회전속도가 증가할 수 있다. 이때, 셔터부(160)의 회전속도에 의하여 제 2 회전부(152)의 회전속도 증가할 수 있다. 또한, 제 2 회전부(152)의 회전속도 증가는 제 1 회전부(151)의 회전속도를 증가시키고, 운동블럭(143)에 힘을 가할 수 있다.
상기와 같이 운동블럭(143)에 힘이 가해지는 경우, 운동블럭(143)에 연결된 전달부(142)와 운동부(141)의 하강속도도 증가할 수 있다. 이때, 제 1 충격저감부재(191b)가 고정프레임(114)에 접촉하게 되면, 제 1 충격저감부재(191b)는 선형운동부(140)의 하강하는 힘을 일부 흡수할 수 있다. 뿐만 아니라 제 1 충격저감부재(191b)는 선형운동부(140)의 하강속도를 저감시킴으로써 셔터부(160)의 회전속도가 증가하는 것을 방지할 수 있다.
한편, 상기와 같이 증착 물질을 상기 소스부로부터 상기 기판으로 공급하여 상기 기판에 증착 물질을 증착시킬 수 있다. 이때, 셔터부(160)는 증착 물질을 완전히 상기 기판에 증착시키는 동안에 개방된 상태를 유지할 수 있다.
상기의 과정이 완료되면, 상기 기판에 증착된 증착 물질의 상태를 점검할 수 있다. 특히 상기 기판의 증착 물질의 상태를 점검한 후 경우에 따라서는 증착 물질을 다시 한번 상기 기판에 공급할 수 있다. 이때, 증착 물질 중 주재료의 두께 또는 보조재료의 두께를 측정하여 주재료 또는 보조재료를 공급하는 상기 소스부를 개폐함으로써 상기 기판의 증착 물질의 증착 정도를 보정할 수 있다.
상기와 같이 상기 기판의 증착 물질의 증착 정도를 보정하는 경우 셔터부(160)를 통하여 복수개의 상기 소스부 중 적어도 하나를 폐쇄시킬 수 있다. 이때, 상기 구동부를 작동시킴으로써 선형운동부(140)를 작동시키고, 선형운동부(140)를 통하여 셔터부(160)를 폐쇄시키도록 작동시킬 수 있다.
구체적으로 상기 구동부의 길이가 늘어나는 경우 상기 구동부는 운동부(141)를 상승시킬 수 있다. 운동부(141)는 상승하면서 전달부(142)를 상승시킬 수 있다. 이때, 전달부(142)는 운동부(141)의 운동을 운동블럭(143)에 전달하여 운동블럭(143)을 상승시킬 수 있다. 특히 운동블럭(143)은 상기에서 설명한 바와 같이 제 1 가이드(181)에 의하여 고정부(170)를 슬라이딩할 수 있다.
상기와 같이 운동블럭(143)이 상승하는 경우, 운동블럭(143)은 제 1 회전부(151)를 반시계방향으로 회전시킬 수 있다. 이때, 제 1 회전부(151)의 회전에 따라서 제 2 회전부(152)는 시계방향으로 회전할 수 있다.
상기와 같이 제 2 회전부(152)가 회전하는 경우 제 2 회전부(152)에 연결된 셔터부(160)는 일방향으로 회동할 수 있다. 특히 셔터부(160)는 상기 소스부를 폐쇄시키도록 회전할 수 있다.
이때, 상기와 같이 셔터부(160)가 작동하는 경우 셔터부(160)는 회전하면서 일정 지점을 지날 때, 셔터부(160)의 하중에 의하여 하강 속도가 증가할 수 있다. 상기와 같이 셔터부(160)의 하강 속도가 증가하는 경우 셔터부(160)는 제 2 회전부(152)의 회전 속도를 증가시킬 수 있다. 또한, 제 2 회전부(152)는 제 1 회전부(151)의 회전 속도를 증가시킬 수 있으며, 제 1 회전부(151)는 운동블럭(143)의 상승속도를 증가시킬 수 있다.
상기와 같이 운동블럭(143)의 상승 속도가 증가하는 경우 선형운동부(140)가 운동 경로를 이탈하거나 연결된 다른 구성요소에 충격을 가할 수 있다. 이때, 전달부(142)가 일정정도 상승하는 경우 제 2 충격저감부재(192b)는 전달부(142)와 접촉함으로써 전달부(142)의 상승 속도를 저감시키고, 다른 구성요소에 가해지는 충격을 저감시킬 수 있다. 뿐만 아니라 제 2 가이드(182)는 전달부(142)의 승하강 시 전달부(142)의 승하강 경로를 가이드함으로써 전달부(142)가 뒤틀리거나 승하강 경로를 벗어나는 것을 방지할 수 있다.
한편, 상기와 같은 진공증착기(100)의 경우 셔터부(160)가 회동하는경우 셔터부(160)에 증착된 증착 물질이 상기 소스부로 이탈할 수 있다. 특히 셔터부(160)가 상기 소스부를 폐쇄하는 경우 또는 셔터부(160)가 과도하게 빠르게 회전하는 경우 등에는 증착 물질이 셔터부(160)의 표면으로부터 이탈할 수 있다. 상기와 같이 증착 물질이 셔터부(160) 표면을 이탈하여 상기 소스부로 유입되는 경우 상기 소스부의 작동을 방해할 수 있다. 그러나 본 발명의 실시예에 따른 셔터부(160)의 표면에 형성되어 있는 메쉬 구조는 증착 물질과 셔터부(160) 표면의 흡착력을 증대시킴으로써 상기와 같은 문제가 발생하는 것을 방지할 수 있다.
따라서 진공증착기(100)는 셔터부(160)를 통하여 증착 물질의 주재료의 상기 소스부와 보조재료의 상기 소스부를 동시에 가열 가능함으로써 작업 효율을 증대시킬 수 있다. 또한, 진공증착기(100)는 셔터부(160)를 완전히 개방할 때 상기 소스부로부터 방출되는 증착 물질의 증착 각도를 방해하지 않아 안정적이고 넓은 범위의 증착 각도를 확보할 수 있다.
비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되었지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위에는 본 발명의 요지에 속하는 한 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.
100 : 진공층착기
111 : 리플랙터
112 : 측면방착판
113 : 각도제한판
114 : 고정프레임
130 : 구동부
131 : 실린더
132 : 샤프트
140 : 선형운동부
141 : 운동부
142 : 전달부
143 : 운동블럭
150 : 회전운동부
151 : 제 1 회전부
152 : 제 2 회전부
160 : 셔터부
161 : 제 1 셔터바디부
162 : 제 2 셔터바디부
163 : 보강리브
170 : 고정부
181 : 제 1 가이드
182 : 제 2 가이드
191 : 제 1 충격저감부
192 : 제 2 충격저감부

Claims (15)

  1. 구동부;
    상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 선형운동부;
    상기 선형운동부와 연결되어 회전 운동하는 회전운동부;
    상기 회전운동부와 연결되어 회동하는 셔터부; 및
    상기 셔터부가 회동 가능하도록 설치되며, 상기 선형운동부가 슬라이딩 가능하도록 연결되는 고정부;를 포함하는 진공증착기.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 구동부는 길이가 가변하는 엑추에이터인 진공증착기.
  3. 삭제
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 고정부와 상기 선형운동부 사이에 설치되어 상기 선형운동부의 슬라이딩을 가이드하는 제 1 가이드;를 더 포함하는 진공증착기.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 선형운동부는,
    상기 구동부와 연결되어 선형 운동하는 운동부;
    상기 운동부와 연결되는 전달부; 및
    상기 전달부와 연결되도록 설치되는 운동블럭;을 구비하는 진공증착기.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 회전운동부는 스퍼기어(Spur gear)를 구비하고,
    상기 운동블럭은 상기 회전운동부와 연결되어 작동하는 랙 기어(Rack gear)를 구비하는 진공증착기.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 회전운동부는,
    상기 선형운동부와 연결되어 상기 선형운동부의 운동 시 회전하는 제 1 회전부; 및
    상기 제 1 회전부 및 상기 셔터부와 연결되며, 상기 제 1 회전부의 회전을 상기 셔터부로 전달하는 제 2 회전부;를 구비하는 진공증착기.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 셔터부는 표면이 메쉬(Mesh) 형태로 형성되는 진공증착기.
  9. 제 1 항에 있어서,
    상기 셔터부는,
    제 1 셔터바디부; 및
    상기 제 1 셔터바디부로부터 절곡되어 형성되는 제 2 셔터바디부;를 구비하는 진공증착기.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 셔터부는,
    상기 제 1 셔터바디부 및 상기 제 2 셔터바디부에 연결되도록 설치되는 보강리브;를 더 구비하는 진공증착기.
  11. 제 1 항에 있어서,
    상기 선형운동부에 설치되는 제 1 충격저감부;를 더 포함하는 진공증착기.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 충격저감부는,
    상기 선형운동부에 고정되도록 설치되는 제 1 고정브라켓; 및
    상기 제 1 고정브라켓에 설치되는 제 1 충격저감부재;를 구비하는 진공증착기.
  13. 제 1 항에 있어서,
    상기 선형운동부로부터 이격되어 설치되는 제 2 충격저감부;를 더 포함하는 진공증착기.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 2 충격저감부는,
    외부에 고정되도록 설치되는 제 2 고정브라켓; 및
    상기 제 2 고정브라켓에 설치되는 제 2 충격저감부재;를 구비하는 진공증착기.
  15. 제 1 항에 있어서,
    상기 선형운동부에 설치되어 상기 선형운동부의 운동을 가이드하는 제 2 가이드;를 더 포함하는 진공증착기.
KR1020130027487A 2013-03-14 2013-03-14 진공증착기 KR102160155B1 (ko)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130027487A KR102160155B1 (ko) 2013-03-14 2013-03-14 진공증착기
US14/020,218 US9546417B2 (en) 2013-03-14 2013-09-06 Vacuum evaporating apparatus
TW102132315A TW201435109A (zh) 2013-03-14 2013-09-06 真空蒸鍍設備
CN201310463790.2A CN104046944B (zh) 2013-03-14 2013-10-08 真空蒸发装置
JP2014050811A JP6359298B2 (ja) 2013-03-14 2014-03-13 真空蒸着器

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020130027487A KR102160155B1 (ko) 2013-03-14 2013-03-14 진공증착기

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20140112861A KR20140112861A (ko) 2014-09-24
KR102160155B1 true KR102160155B1 (ko) 2020-09-28

Family

ID=51500330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020130027487A KR102160155B1 (ko) 2013-03-14 2013-03-14 진공증착기

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9546417B2 (ko)
JP (1) JP6359298B2 (ko)
KR (1) KR102160155B1 (ko)
CN (1) CN104046944B (ko)
TW (1) TW201435109A (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113278926B (zh) * 2021-04-16 2022-06-03 布勒莱宝光学设备（北京）有限公司 一种镀膜遮挡装置及包含其的镀膜装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050218365A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-06 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for providing vacuum isolation
JP2008144191A (ja) * 2006-12-06 2008-06-26 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置及びその運用方法

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2443036A (en) * 1948-06-08 Valve
US3847210A (en) * 1972-09-14 1974-11-12 J Wells Damper sequencer
US4065097A (en) * 1976-05-17 1977-12-27 Airco, Inc. Slot sealing valve for vacuum coating apparatus
JPS56146879A (en) * 1980-04-14 1981-11-14 Fujitsu General Ltd Vapor deposition method
JPS58177463A (ja) * 1982-04-12 1983-10-18 Hitachi Ltd 積層薄膜成膜装置
US4582296A (en) * 1985-03-04 1986-04-15 Lothar Bachmann Composite blade for dampers for ducts of large cross sectional areas
US4911029A (en) * 1988-11-17 1990-03-27 Koso International, Inc. Shock responsive actuator
JPH0693428A (ja) * 1991-12-20 1994-04-05 Ulvac Japan Ltd 真空蒸着装置用蒸発源のシャッタ機構
CN1099117A (zh) * 1993-08-18 1995-02-22 尚庆英 排油烟机防止倒烟返味自动电磁阀
KR100362333B1 (ko) 2000-05-26 2002-11-23 주식회사 켐트로닉 유기발광소자 제조용 박막 증착장치
US6770562B2 (en) * 2000-10-26 2004-08-03 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film formation apparatus and film formation method
ITBO20020303A1 (it) * 2002-05-17 2003-11-17 Magneti Marelli Powertrain Spa Nuovi otturatori per valvole a farfalla
KR100674033B1 (ko) 2004-01-30 2007-01-26 엘지전자 주식회사 증착 장치
JP2006002200A (ja) 2004-06-16 2006-01-05 Seiko Epson Corp 蒸着装置、蒸着方法、有機ｅｌ装置、および電子機器
JP2006046599A (ja) * 2004-08-06 2006-02-16 Eagle Ind Co Ltd ゲートバルブ
JP4682311B2 (ja) * 2005-10-17 2011-05-11 株式会社昭和真空 真空成膜装置および方法
JP2007302924A (ja) * 2006-05-09 2007-11-22 Sharp Corp シャッタ装置および表面処理装置
JP2008234923A (ja) 2007-03-19 2008-10-02 Seiko Epson Corp 坩堝、蒸着装置及び有機ｅｌ装置の製造方法
TWI447319B (zh) * 2007-12-20 2014-08-01 Tel Solar Ag 真空室之閘閥及真空室
CN101665913B (zh) * 2009-09-30 2012-05-23 东莞宏威数码机械有限公司 真空镀膜用处理装置
CN201626980U (zh) * 2010-01-29 2010-11-10 东莞宏威数码机械有限公司 观察窗挡板结构及具有该挡板结构的腔体观察窗装置
JP2011190530A (ja) * 2010-02-16 2011-09-29 Canon Anelva Corp シャッター装置及び真空処理装置
CN201713567U (zh) * 2010-05-21 2011-01-19 光驰科技(上海)有限公司 双层膜厚均匀性修正板驱动装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050218365A1 (en) * 2004-03-31 2005-10-06 Tokyo Electron Limited Method and apparatus for providing vacuum isolation
JP2008144191A (ja) * 2006-12-06 2008-06-26 Showa Shinku:Kk 真空蒸着装置及びその運用方法

Also Published As

Publication number Publication date
CN104046944A (zh) 2014-09-17
KR20140112861A (ko) 2014-09-24
US9546417B2 (en) 2017-01-17
US20140264120A1 (en) 2014-09-18
JP6359298B2 (ja) 2018-07-18
JP2014177703A (ja) 2014-09-25
TW201435109A (zh) 2014-09-16
CN104046944B (zh) 2018-11-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2014019954A5 (ko)
JP5120959B2 (ja) 蒸着システム用蒸着源の駆動軸及びこれを具備した蒸着システム
US11207707B2 (en) Curved surface coating device for curved surface display panel and glue coating apparatus
US8475595B2 (en) Coating system
JP6374093B2 (ja) レーザーパッケージングシステム及び方法
US20140007814A1 (en) Evaporation device for a vaccum deposition apparatus and vacuum deposition apparatus comprising such an evaporation device
CN109306453B (zh) 显示器制造装置和使用其的显示器制造方法
KR102160155B1 (ko) 진공증착기
KR102109375B1 (ko) 기판 얼라인 장치
KR101074630B1 (ko) 유기박막 형성장치
CN104377148A (zh) 密封设备及基底密封方法
EP3633065B1 (en) Evaporation device
KR101648489B1 (ko) 박막 증착 장치 및 이를 이용한 박막 증착 방법
KR101032080B1 (ko) 증착챔버의 촬영창 오염방지 장치 및 방법
KR101514210B1 (ko) 박막 증착장치
KR101765249B1 (ko) 증착장치
KR102264650B1 (ko) 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
CN110195210B (zh) 坩埚、蒸发源及蒸镀设备
JP5744160B2 (ja) 部品実装機およびその実装ヘッド装置
KR102136787B1 (ko) 진공증착기
US20160064670A1 (en) Thin film forming apparatus and thin film forming method using the same
KR20220096613A (ko) 기판의 코팅 방법
KR20170067247A (ko) 디스플레이 장치
KR20150068798A (ko) 평면디스플레이용 화학 기상 증착 장치
CN117218984A (zh) 一种用于制备显示面板的测试单元及测试机构

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant