CN101665913B - 真空镀膜用处理装置 - Google Patents
真空镀膜用处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101665913B CN101665913B CN2009101929673A CN200910192967A CN101665913B CN 101665913 B CN101665913 B CN 101665913B CN 2009101929673 A CN2009101929673 A CN 2009101929673A CN 200910192967 A CN200910192967 A CN 200910192967A CN 101665913 B CN101665913 B CN 101665913B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- baffle
- baffle plate
- mentioned
- cooling
- processing device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 101
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 41
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 37
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims abstract description 37
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 34
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 20
- 239000011553 magnetic fluid Substances 0.000 claims description 19
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 claims description 19
- 230000008676 import Effects 0.000 claims description 6
- 210000001503 joint Anatomy 0.000 claims description 6
- 238000003032 molecular docking Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 48
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 10
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 26
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 17
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 5
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 4
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明提供了一种真空镀膜用处理装置，包括柜体、处理板及蒸发源，柜体呈中空结构，中空结构形成密封腔，蒸发源与处理板设置于密封腔内，且处理板位于蒸发源上方，其中，还包括挡板机构，挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，磁流体安装于柜体上，挡板驱动机构位于柜体外并与冷却轴的一端连接，冷却轴的另一端枢接地穿过磁流体并伸入密封腔内，挡板与冷却轴固定连接，挡板容置于密封腔内且位于蒸发源与处理板之间，挡板隔离或开通蒸发源与处理板的空间连接，挡板驱动机构驱动冷却轴，冷却轴带动挡板转动，一方面使得本发明的处理装置能最大限度地提高了基片镀膜层的品质，另一方面能最大限度上延长了本发明的处理装置的正常寿命。
Description
技术领域
本发明涉及一种真空镀膜用处理装置，尤其涉及一种适用于对有机发光二极管中的真空镀膜处理工艺进行去除杂质的真空镀膜用处理装置。
背景技术
OLED，即有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode)，又称为有机电激光显示(Organic Electroluminesence Display，OELD)。因为具备轻薄、省电等特性，因此在数码产品的显示屏上得到了广泛应用，并且具有较大的市场潜力，目前世界上对OLED的应用都聚焦在平板显示器上，因为OLED是唯一在应用上能和TFT-LCD相提并论的技术，OLED是目前所有显示技术中，唯一可制作大尺寸、高亮度、高分辨率软屏的显示技术，可以做成和纸张一样的厚度。其中，在OLED的制作流程中，真空镀膜工艺是OLED制作流程中一个很重要的工艺，因为它是关系到OLED的品质及寿命的最重要因素之一，所以应用于真空镀膜工艺上的各种设备必须满足真空镀膜工艺的精度要求，使得在该设备内被镀膜了产品的镀膜层均匀，且其成分纯净、性能稳定和无应力，以及该镀膜层能牢固地附着于产品中以防止脱落，进而提升了产品的品质并延长了产品的寿命。其中，处理装置就是应用于真空镀膜工艺上诸多设备之一种。
处理装置就是通过把其内部的蒸发源加热蒸发后，使得蒸发后的镀膜材料沉积到OLED的基片表面而形成单层或多层薄膜，从而完成OLED的基片的镀膜加工。但是，现有的处理装置普遍存在以下的不足：
目前，市面上应用于有机发光二极管的真空镀膜中的处理装置主要包括柜体、蒸发源及处理板，所述柜体呈中空结构，该中空结构形成密封腔，所述蒸发源及处理板设置于密封腔内，且所述处理板位于上述蒸发源的上方。使用时，在OLED基片镀膜之前加热过程中，由于在未达到蒸发物的蒸发温度时就会有蒸发源将杂质蒸发掉，使得蒸发了的杂质首先沉积于基片的表面上，造成基片镀膜层的组分不纯净，进而影响到基片性能的稳定，以及镀膜层与基片表面连接的牢固性。同时，由于一些蒸发物在加热蒸发过程中会释放气体，使得密封腔内压强上升，使得处理装置的密封腔各处受到不同的压力，从而导致基片镀膜层极其不均匀，最终影响到基片的品质及正常的寿命。
因此，急需要一种能最大限度地提高了有机发光二极管基片镀膜层的均匀性且能最大程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空镀膜用处理装置。
发明内容
本发明的目的在于提供一种能最大限度地提高了有机发光二极管基片镀膜层的均匀性且能最大程度地保证了基片镀膜层的成分纯净性的真空镀膜用处理装置。
为实现上述目的，本发明的技术方案为：提供一种真空镀膜用处理装置，所述真空镀膜用的处理装置包括柜体、处理板及蒸发源，所述柜体呈中空结构，所述中空结构形成密封腔，所述蒸发源与所述处理板设置于所述密封腔内，且所述处理板位于所述蒸发源上方，其中，所述真空镀膜用的处理装置还包括挡板机构，所述挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，所述磁流体安装于所述柜体上，所述挡板驱动机构位于所述柜体外并与所述冷却轴的一端连接，所述冷却轴的另一端枢接地穿过所述磁流体并伸入所述密封腔内，所述挡板与所述冷却轴固定连接，所述挡板容置于所述密封腔内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接，所述挡板驱动机构驱动所述冷却轴，所述冷却轴带动所述挡板转动。
较佳地，沿垂直于所述冷却轴方向的所述挡板的截面呈直角梯形或矩形，于截面呈矩形的所述挡板上设置有加强筋，能最大限度地减少挡板挠性变形的程度，从而使挡板能更可靠的工作。
较佳地，所述挡板包括第一挡板及第二挡板，所述冷却轴包括第一冷却轴及第二冷却轴，所述第一挡板的一侧安装在所述第一冷却轴上，所述第一挡板的另一侧向所述第二挡板延伸形成第一卡接部，所述第二挡板的一侧安装在所述第二冷却轴上，且所述第二挡板的另一侧向所述第一挡板延伸形成与所述第一卡接部相卡合对接的第二卡接部，于所述第一卡接部与所述第二卡接部卡合对接时隔离所述蒸发源与所述处理板的空间连接。通过由第一挡板和第二挡板组成的挡板，使得挡板能灵活地工作，且能最大限度上减少挡板的变形，使得挡板能更可靠地工作；通过第一卡接部与第二卡接部的卡合对接，使得第一挡板与第二挡板卡合对接处具有优异的密封性能，从而最大限度地阻隔镀膜中的杂质从第一挡板与第二挡板的卡合对接处通过而污染基片，进而提高了基片镀膜层的品质；通过由第一冷却轴及第二冷却轴组成的冷却轴，使得分别固定于第一、二冷却轴上的第一、第二挡板能处于较佳的温度下工作，防止已沉积在第一、二挡板上的各处杂质因受到不一致热应力作用下发生剥落，从而使得剥落后的杂质污染了本发明真空镀膜用处理装置的密封腔，进而影响基片镀膜层的品质。具体地，所述第一挡板与第二挡板卡合对接时的面积之和大于所述处理板的面积，且所述第一挡板的侧缘与所述柜体相对应的内壁的距离小于10毫米，所述第二挡板的侧缘与所述柜体相对应的内壁的距离小于10毫米，一方面使得由第一挡板和第二挡板组成的挡板能最大限度地阻隔镀膜中的杂质，保证处理板上的基片镀膜层的品质；另一方面保证第一、二挡板与柜体之间能更可靠地工作。
较佳地，所述挡板机构还包括传动轴及真空轴承，所述传动轴具有凹槽，所述冷却轴具有与所述凹槽相卡合对接的凸块，所述传动轴横跨所述密封腔且两端分别与所述真空轴承枢接，所述真空轴承与所述柜体固定连接。通过凸块与凹槽的配合，使得冷却轴与传动轴连接简单及可靠，且使得冷却轴与传动轴的加工简单以降低其成本。具体地，所述凹槽与所述凸块卡合对接处位于所述真空轴承内，便于冷却轴与传动轴的装拆及维护。
较佳地，所述挡板驱动机构包括马达、主动齿轮及从动齿轮，所述马达安装在所述柜体的外壁上且与所述主动齿轮连接，所述从动齿轮安装于所述冷却轴上且与所述主动齿轮相啮合，使得挡板驱动机构结构简单、传动精准且能更可靠地工作。具体地，所述马达为摆动汽缸或伺服电机，能对挡板的运动进行精准的控制。
较佳地，所述冷却轴包括：轴体，所述轴体沿轴向方向开有中空的冷却腔；冷却循环室，所述冷却循环室与所述轴体固定连接，所述冷却循环室开有进口和出口，所述进口与所述冷却腔连通；输入管，所述输入管与所述冷却循环室固定连接；循环管，所述循环管与所述输入管固定连接且悬于所述冷却腔内，所述循环管的一端与所述输入管连通，另一端与所述冷却腔连通；及输出管，所述输出管与所述冷却循环室固定连接并与所述冷却循环室的出口连通。通过由轴体、冷却循环室、输入管、循环管及输出管组成的冷却轴，一方面能把固定在其上面的挡板的热量排出到本发明真空镀膜用处理装置的密封腔外，使挡板处于较佳的温度下工作以保证基片镀膜层的均匀性；另一方面保证冷却轴能处于较佳的温度下工作以延长冷却轴的寿命及传动精度，以防止挡板驱动机构在传动过程中产生震动及噪音进而影响真空中基片镀膜层的品质。
与现有技术相比，由于本发明的冷却轴及连接于冷却轴上的挡板，使得挡板及冷却轴能处于较佳的温度下工作，一方面能防止已沉积在挡板上的各处杂质因受到不同的热应力时发生剥落而污染了本发明真空镀膜用处理装置的密封腔，从而为基片的镀膜提供极其优异的真空环境；另一方面能提升与冷却轴连接的挡板驱动机构的传动精度，使得连接于冷却轴上的挡板能更精准地工作，从而最大限度地减少在基片镀膜开始时蒸发的杂质及不稳定气体对基片镀膜层的影响，进而使基片镀膜层更均匀，其成分更纯净，其性能更稳定，且基片镀膜层与基片表面的连接更牢固及可靠，因此提高了基片镀膜层的品质及正常寿命。同时，由于本发明的磁流体，使得发明真空镀膜用处理装置具有极优异的真空环境，从而满足真空中基片镀膜的要求。
附图说明
图1是本发明真空镀膜用处理装置的结构示意图。
图2是本发明真空镀膜用处理装置的挡板机构的结构示意图。
图3是本发明真空镀膜用处理装置的冷却轴的一结构示意图。
图4是本发明真空镀膜用处理装置的与传动轴配合传动的冷却轴的另一结构示意图。
图5是本发明真空镀膜用处理装置的与冷却轴配合传动的传动轴的结构示意图。
图6是本发明真空镀膜用处理装置的冷却轴与传动轴装配时的结构示意图。
图7是本发明真空镀膜用处理装置的挡板的一结构示意图。
图8是本发明真空镀膜用处理装置的挡板的另一结构示意图。
具体实施方式
为了详细说明本发明真空镀膜用处理装置的技术内容、构造特征，以下结合实施方式并配合附图作进一步说明。
首先，请参阅图1及图2。在图1及图2中，本发明真空镀膜用处理装置100用于有机发光二极管的真空镀膜处理工艺中，其包括柜体1、处理板及蒸发源(图中未示)。该柜体1是由左侧板13、右侧板11、前门板(图中未示)、后板12、底板14及顶板(图中未示)密封连接而成的，且上述左侧板13、右侧板11、前门板、后板12、底板14及顶板形成上述柜体1的密封腔10。上述蒸发源与上述处理板均设置于上述密封腔10内，且上述处理板位于上述蒸发源上方。其中，上述真空镀膜用的处理装置100还包括挡板机构，上述挡板机构包括挡板21、磁流体、冷却轴24及挡板驱动机构25。上述磁流体安装于上述柜体1的左侧板13上，上述挡板驱动机构25安装在上述柜体1的左侧板13的外侧并与上述冷却轴24的一端连接，上述冷却轴24的另一端枢接地穿过上述磁流体并伸入上述密封腔10内；具体地，上述挡板机构还包括真空轴承，上述冷却轴24依次枢接地穿过上述磁流体、真空轴承并与上述挡板21固定连接，上述真空轴承固定于柜体1的左、右侧板13、11上，上述挡板21容置于上述密封腔10内且位于上述蒸发源与上述处理板之间，上述挡板21隔离或开通上述蒸发源与上述处理板的空间连接，把上述密封腔10隔离成上密封腔10a和下密封腔10b，上述挡板驱动机构25驱动上述冷却轴24，上述冷却轴24带动上述挡板21转动。
可选择地，在本实施例中，上述挡板21包括第一挡板21a及第二挡板21b，使得由第一挡板21a和第二挡板21b组成的挡板21能灵活地工作，且能最大限度上减少挡板21因自重而产生的变形，使得挡板21能更可靠地工作；上述冷却轴24包括第一冷却轴24a及第二冷却轴24b，使得分别固定于第一、二冷却轴24a、24b上的第一、第二挡板21a、21b能处于较佳的温度下工作，防止已沉积在第一、二挡板21a、21b上的各处杂质因受到不一致热应力作用下发生剥落，使得剥落后的杂质污染了本发明真空镀膜用处理装置100的密封腔10，从而影响基片镀膜层的品质；上述磁流体包括第一磁流体22a及第二磁流体22b，使得第一、第二冷却轴24a、24b与柜体1的连接处具有优异的密封性能；上述真空轴承包括第一真空轴承23a及第二真轴承23b，使得第一、第二冷却轴24a、24b与柜体1的连接处具有优异的密封性能；上述挡板驱动机构25包括第一挡板驱动机构25a及第二挡板驱动机构25b，使得第一挡板21a与第二挡板21b的卡合与开启精准，从而保证基片镀膜层的品质。且上述第一、二真空轴承23a、23b分别安装于上述柜体1的左、右侧板13、11的内壁上，上述第一、第二磁流体22a、22b分别安装在上述柜体1的左侧板13的外壁上且与上述第一、第二真空轴承23a、23b处于同一轴心线上。上述第一冷却轴24a的右端与上述第一真空轴承23a的右轴承枢接，上述第一冷却轴24a的左端依次枢接地穿过上述第一真空轴承23a的左轴承、上述第一磁流体22a且与上述第一挡板驱动机构25a连接，上述第一挡板21a通过螺钉及安装孔214a安装在上述第一冷却轴24a上；上述第二冷却轴24b的右端与上述第二真空轴承23b的右轴承枢接，上述第二冷却轴24b的左端依次枢接地穿过上述第二真空轴承23b的左轴承、上述第二磁流体22b，上述第二挡板21b通过螺钉及安装孔214b固定在上述第二冷却轴24b上。上述第一挡板21a与第二挡板21b相卡合对接时把上述密封腔10分隔成上密封腔10a和下密封腔10b；上述第一挡板21a与第二挡板21b打开后使上述蒸发源与处理板处于空间连通状态以便于基片的镀膜。结合图7，具体地，上述第一挡板21a的一侧向上述第二挡板21b延伸形成第一卡接部211a，上述第二挡板21b的一侧向上述第一挡板21a延伸形成与上述第一卡接部211a相卡合对接的第二卡接部211b，于上述第一卡接部211a与上述第二卡接部211b卡合对接时把上述密封腔10分隔成上、下密封腔10a、10b；于上述第一卡接部211a与上述第二卡接部211b打开时使上述蒸发源与处理板处于空间连通状态以便于基片的镀膜，一方面使得第一挡板21a与第二挡板21b卡合对接处具有优异的密封性能，最大限度地阻隔基片镀膜中的杂质从第一挡板21a与第二挡板21b的卡合对接处通过而污染基片，从而提高了基片镀膜层的品质；另一方面能保证去掉杂质后使蒸发源与处理板处于空间连通状态以便于基片镀膜的进行，从而保证了真空中基片镀膜层的品质。给合图3，更具体地，如下：
较佳者，上述第一挡板21a与第二挡板21b卡合对接时的面积之和大于上述处理板的面积，且上述第一挡板21a的后表面与上述柜体1的后板12的内壁之间、上述第一挡板21a的右表面与上述柜体1的右侧板11的内壁之间、上述第一挡板21a左表面与上述柜体1的左侧板13的内壁之间的距离均小于10毫米；上述第二挡板21b的前表面与上述柜体1的前门板的内壁之间、上述第二挡板21b的左表面与上述柜体1的左侧板13的内壁之间、上述第二挡板21b的右表面与上述柜体1的右侧板11的内壁之间的距离均小于10毫米；其中，最优地，使它们之间的相互距离保持在5毫米以内。一方面使得由第一挡板21a及第二挡板21b组成的挡板21能最大限度地阻隔杂质，保证处理板上基片镀膜层的品质；另一方面保证第一、二挡板21a、21b与柜体1之间既能有效地阻隔杂质从它们之间的间隙处通过，又能使挡板21与柜体1之间的旋转更可靠且无干涉。
较佳者，上述第一挡板驱动机构25a包括第一马达251a、第一主动齿轮(图中未标)及第一从动齿轮253a，上述第一马达251a通过第一支架250a安装在上述柜体1的左侧板13的外壁上且与上述第一主动齿轮连接，上述第一从动齿轮253a安装于上述第一冷却轴24a上且与上述第一主动齿轮相啮合，使得第一挡板驱动机构25a结构简单、传动精准且能更可靠地工作。上述第二挡板驱动机构25b包括第二马达251b、第二主动齿轮252b、第二从动齿轮(图中未示)，上述第二马达251b通过第二支架250b安装在上述柜体1的左侧板13的外壁上且与上述第二主动齿轮252b连接，上述第二从动齿轮安装于上述第二冷却轴24b上且与上述第二主动齿轮252b相啮合，使得第二挡板驱动机构25b结构简单、传动精准且能更可靠地工作。具体地，所述第一、二马达251a、251b为摆动汽缸或伺服电机，能对第一、第二挡板21a、21b的运动进行精准的控制。
较佳者，上述冷却轴24包括：轴体241，该轴体241沿轴向方向开有中空的冷却腔246；冷却循环室245，该冷却循环室245与上述轴体241通过焊接密封工艺固定连接并开有进口2451和出口2450，上述进口2451与上述冷却腔246连通输入管243，该输入管243与上述冷却循环室245紧密套接；循环管242，该循环管242与上述输入管243紧密套接且悬于上述冷却腔246内，上述循环管242的一端与上述输入管243连通，另一端与上述冷却腔246连通；及输出管244，该输出管244与上述冷却循环室245紧密套接并与上述冷却循环室245的出口2450连通。其中，冷却轴24的冷却介质的流向如图3中箭头所指，这样能增加冷却效果。通过由轴体241、冷却循环室245、输入管243、循环管242及输出管244组成的冷却轴24，一方面能把固定在其上面的挡板21的热量排出到本发明真空镀膜用处理装置100的密封腔10外，使挡板21处于较佳的温度下工作以保证基片镀膜层的均匀性；另一方面保证冷却轴24能处于较佳的温度下工作以延长冷却轴24的寿命及传动精度，以防止挡板驱动机构25在传动过程中产生震动及噪音进而影响真空中基片镀膜层的品质。
其次，请参图4至图6，图4至图6展示了相互配合传动的冷却轴24`与传动轴26的结构示意图，以及传动轴26与冷却轴24`的装配示意图。其中，冷却轴24`与图3中冷却轴24的结构绝大部分均相同，区别点仅在于：该冷却轴24`设置有凸块240`。因此，可选择地，在本发明另一实施例中，上述挡板机构还包括传动轴26，该传动轴26的一端与上述真空轴承枢接，该传动轴26横跨上述密封腔10且其一端与上述真空轴承枢接，上述传动轴26的另一端具有与上述冷却轴24`的凸块240`相卡合对接的凹槽260，上述冷却轴24`的一端与上述传动轴26对接，且另一端依次枢接地穿过上述真空轴承、上述磁流体且与上述挡板驱动机构25连接，上述挡板21通过螺钉及安装孔261安装在上述传动轴26上。通过凸块240`与凹槽260的配合，使得冷却轴24`与传动轴26连接简单及可靠，且使得冷却轴24`与传动轴26的加工简单以降低其成本。具体地，上述凹槽260与上述凸块240`卡合对接处位于上述真空轴承内，便于冷却轴24`与传动轴26的装拆及维护。
再次，请再参阅图7，图7展示了本发明真空镀膜用处理装置的挡板一实施例的结构示意图。在图7中，该由第一挡板21a及第二挡板21b组成的挡板21的截面呈矩形，且第一挡板21a的第一卡接部211a呈弧形，第二挡板21b的第二卡接部211b呈弧形，于第一挡板21a上设置有第一加强筋210a，于第二挡板21b上设置有第二加强筋210b。通过截面呈矩形的第一、第二挡板21a、21b及第一、第二加强筋210a、210b，最大限度地减少第一、第二挡板21a、21b挠性变形的程度，从而使第一、第二挡板21a、21b能更可靠的工作；通过弧形的第一、第二卡接部211a、211b，使得第一挡板21a与第二挡板21b的卡合对接处具有优异的密封性能。
最后，请参阅图8，图8展示了本发明真空镀膜用的处装置的挡板另一实施例的结构示意图。在图8中，该由第一挡板21a`及第二挡板21b`组成的挡板21`的截面呈直角梯形，上述第一挡板21a`的第一卡接部211a`呈弧形，上述第二挡板21b`的第二卡接部211b`呈弧形，能最大限度地减少第一、第二挡板21a`、21b`挠性变形的程度，从而使第一、第二挡板21a`、21b`能更可靠地工作；通过弧形的第一、第二卡接部211a`、211b`，使得第一挡板21a`与第二挡板21b`的卡合对接处具有优异的密封性能。
本发明的冷却轴24及连接于冷却轴24上的挡板21，使得挡板21及冷却轴24能处于较佳的温度下工作，一方面能防止已沉积在挡板21上的各处杂质因受到不同的热应力时发生剥落而污染了本发明真空镀膜用处理装置100的密封腔10，从而为基片的镀膜提供极其优异的真空环境；另一方面能提升与冷却轴24连接的挡板驱动机构25的传动精度，使得连接于冷却轴24上的挡板21能更精准地工作，从而最大限度地减少在基片镀膜开始时蒸发的杂质及不稳定气体对基片镀膜层的影响，进而使基片镀膜层更均匀，其成分更纯净，其性能更稳定，且基片镀膜层与基片表面的连接更牢固及可靠，因此提高了基片镀膜层的品质及正常寿命。同时，由于本发明的磁流体，使得发明真空镀膜用处理装置100具有极优异的真空环境，从而满足真空中基片镀膜的要求。
本发明真空镀膜用处理装置100所涉及蒸发源及处理板的具体形状，以及摆动汽缸或伺服电机的工作原理均为本领域普通技术人员根据实际需要所熟知的，在此不再做详细的说明。
以上所揭露的仅为本发明的较佳实例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明申请专利范围所作的等同变化，仍属于本发明所涵盖的范围。
Claims (9)
1.一种真空镀膜用处理装置，包括柜体、处理板及蒸发源，所述柜体呈中空结构，所述中空结构形成密封腔，所述蒸发源与所述处理板设置于所述密封腔内，且所述处理板位于所述蒸发源上方，其特征在于：还包括挡板机构，所述挡板机构包括挡板、磁流体、冷却轴及挡板驱动机构，所述磁流体安装于所述柜体上，所述挡板驱动机构位于所述柜体外并与所述冷却轴的一端连接，所述冷却轴的另一端枢接地穿过所述磁流体并伸入所述密封腔内，所述挡板与所述冷却轴固定连接，所述挡板容置于所述密封腔内且位于所述蒸发源与所述处理板之间，所述挡板隔离或开通所述蒸发源与所述处理板的空间连接，所述挡板驱动机构驱动所述冷却轴，所述冷却轴带动所述挡板转动。
2.如权利要求1所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：沿垂直于所述冷却轴方向的所述挡板的截面呈直角梯形或矩形，于截面呈矩形的所述挡板上设置有加强筋。
3.如权利要求1所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述挡板包括第一挡板及第二挡板，所述冷却轴包括第一冷却轴及第二冷却轴，所述第一挡板的一侧安装在所述第一冷却轴上，所述第一挡板的另一侧向所述第二挡板延伸形成第一卡接部，所述第二挡板的一侧安装在所述第二冷却轴上，且所述第二挡板的另一侧向所述第一挡板延伸形成与所述第一卡接部相卡合对接的第二卡接部，于所述第一卡接部与所述第二卡接部卡合对接时隔离所述蒸发源与所述处理板的空间连接。
4.如权利要求3所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述第一挡板与所述第二挡板卡合对接时的面积之和大于所述处理板的面积，且所述第一挡板的侧缘与所述柜体相对应的内壁的距离小于10毫米，所述第二挡板的侧缘与所述柜体相对应的内壁的距离小于10毫米。
5.如权利要求1所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述挡板机构还包括传动轴及真空轴承，所述传动轴具有凹槽，所述冷却轴具有与所述凹槽相卡合对接的凸块，所述传动轴横跨所述密封腔且两端分别与所述真空轴承枢接，所述真空轴承与所述柜体固定连接。
6.如权利要求5所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述凹槽与所述凸块卡合对接处位于所述真空轴承内。
7.如权利要求1所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述挡板驱动机构包括马达、主动齿轮及从动齿轮，所述马达安装在所述柜体的外壁上且与所述主动齿轮连接，所述从动齿轮安装于所述冷却轴上且与所述主动齿轮相啮合。
8.如权利要求7所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于：所述马达为摆动汽缸或伺服电机。
9.如权利要求1所述的真空镀膜用处理装置，其特征在于，所述冷却轴包括：
轴体，所述轴体沿轴向方向开有中空的冷却腔；
冷却循环室，所述冷却循环室与所述轴体固定连接，所述冷却循环室开有进口和出口，所述进口与所述冷却腔连通；
输入管，所述输入管与所述冷却循环室固定连接；
循环管，所述循环管与所述输入管固定连接且悬于所述冷却腔内，所述循环管的一端与所述输入管连通，另一端与所述冷却腔连通；及
输出管，所述输出管与所述冷却循环室固定连接并与所述冷却循环室的出口连通。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009101929673A CN101665913B (zh) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 真空镀膜用处理装置 |
| PCT/CN2009/076119 WO2011038561A1 (zh) | 2009-09-30 | 2009-12-28 | 真空镀膜用处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2009101929673A CN101665913B (zh) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 真空镀膜用处理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101665913A CN101665913A (zh) | 2010-03-10 |
| CN101665913B true CN101665913B (zh) | 2012-05-23 |
Family
ID=41802685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2009101929673A Expired - Fee Related CN101665913B (zh) | 2009-09-30 | 2009-09-30 | 真空镀膜用处理装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101665913B (zh) |
| WO (1) | WO2011038561A1 (zh) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101876056B (zh) * | 2010-03-23 | 2011-12-14 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 蒸发镀膜设备 |
| CN101876055B (zh) * | 2010-03-23 | 2012-02-15 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 挡板冷却装置 |
| KR101885245B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2018-09-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치 및 이를 이용한 유기 발광 표시장치의 제조방법 |
| CN103045994B (zh) * | 2012-12-29 | 2014-08-06 | 中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司 | 可自锁的基片挡板组件 |
| KR102160155B1 (ko) * | 2013-03-14 | 2020-09-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 진공증착기 |
| CN105908141A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-08-31 | 芜湖真空科技有限公司 | 溅射镀膜机构 |
| CN105695944A (zh) * | 2016-04-27 | 2016-06-22 | 芜湖真空科技有限公司 | 溅射镀膜机构 |
| CN107841727A (zh) * | 2017-12-15 | 2018-03-27 | 北京创昱科技有限公司 | 一种冷却构件及真空镀膜设备 |
| CN107881480B (zh) * | 2017-12-25 | 2019-03-26 | 苏州浩联光电科技有限公司 | 一种镀膜飞行平衡装置以及镀膜系统 |
| JP7354086B2 (ja) * | 2020-11-30 | 2023-10-02 | キヤノントッキ株式会社 | 蒸着装置、成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
| CN114481036B (zh) * | 2022-01-19 | 2023-12-05 | 安徽光智科技有限公司 | 一种镀膜用坩埚挡板 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2900551Y (zh) * | 2006-04-05 | 2007-05-16 | 上海泰雷兹电子管有限公司 | 真空塗覆蒸发系统结构改进装置 |
| JP2008031557A (ja) * | 2007-09-27 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 真空アーク蒸発源 |
| CN201538813U (zh) * | 2009-09-30 | 2010-08-04 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 基片镀膜用处理机构 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63125655A (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-28 | Nissin Electric Co Ltd | 表面改質装置 |
| JPH05339706A (ja) * | 1992-06-05 | 1993-12-21 | Kobe Steel Ltd | 真空蒸着めっき設備 |
| JP4175815B2 (ja) * | 2002-03-01 | 2008-11-05 | 株式会社アルバック | 薄膜形成装置 |
| CN100334251C (zh) * | 2004-09-22 | 2007-08-29 | 吉林大学 | 有定向及自控制功能的真空镀膜机 |
| CN101451230B (zh) * | 2007-11-28 | 2011-06-01 | 上海华虹Nec电子有限公司 | 金属蒸发设备 |
-
2009
- 2009-09-30 CN CN2009101929673A patent/CN101665913B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-12-28 WO PCT/CN2009/076119 patent/WO2011038561A1/zh active Application Filing
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN2900551Y (zh) * | 2006-04-05 | 2007-05-16 | 上海泰雷兹电子管有限公司 | 真空塗覆蒸发系统结构改进装置 |
| JP2008031557A (ja) * | 2007-09-27 | 2008-02-14 | Kobe Steel Ltd | 真空アーク蒸発源 |
| CN201538813U (zh) * | 2009-09-30 | 2010-08-04 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 基片镀膜用处理机构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101665913A (zh) | 2010-03-10 |
| WO2011038561A1 (zh) | 2011-04-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101665913B (zh) | 真空镀膜用处理装置 | |
| CN201538813U (zh) | 基片镀膜用处理机构 | |
| CN101760720A (zh) | 真空腔体遮挡装置 | |
| KR101173645B1 (ko) | 가스 분사 유닛 및 이를 구비하는 박막 증착 장치 | |
| CN110777337A (zh) | 成膜装置以及电子器件的制造方法 | |
| CN102051581A (zh) | 基片镀膜处理系统 | |
| CN113913756A (zh) | 一种真空镀膜机 | |
| CN101857951A (zh) | 磁控溅射装置 | |
| US20050241586A1 (en) | Vacuum vapor deposition apparatus | |
| US8758579B2 (en) | Chamber for physical vapour deposition and door for a physical vapour deposition chamber | |
| CN101876058B (zh) | 真空蒸镀装置 | |
| CN202022972U (zh) | 基片镀膜处理设备 | |
| CN201605316U (zh) | 真空镀膜用遮挡装置 | |
| JP2017115246A (ja) | 有機材料用の蒸発源、有機材料用の蒸発源を有する真空チャンバにおいて有機材料を堆積するための堆積装置、及び有機材料を蒸発させるための方法 | |
| CN203222614U (zh) | 复式轨道双对称可分离腔体磁控溅射镀膜设备 | |
| JP2007119829A (ja) | スパッタ成膜装置 | |
| KR101430653B1 (ko) | 박막 증착용 인라인 스퍼터 장치 | |
| CN101876056B (zh) | 蒸发镀膜设备 | |
| KR200410865Y1 (ko) | 실링 회전 장치 및 박막 증착 장치 | |
| JP6605073B2 (ja) | 有機材料用の蒸発源、有機材料用の蒸発源を有する真空チャンバにおいて有機材料を堆積するための堆積装置、及び有機材料を蒸発させるための方法 | |
| KR102255959B1 (ko) | 기판 상에 재료를 증착하기 위한 증착 장치 및 캐소드 구동 유닛 | |
| KR101778602B1 (ko) | 플라즈마 증착 장치용 전극 본체 구동수단 | |
| CN204529964U (zh) | 一种电子枪双挡板 | |
| JP7344929B2 (ja) | 成膜装置、成膜方法、及び電子デバイスの製造方法 | |
| CN208136322U (zh) | 玻璃硬化光学镀膜腔体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20131205 Granted publication date: 20120523 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20140905 Granted publication date: 20120523 |
|
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20140905 Granted publication date: 20120523 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20150905 Granted publication date: 20120523 |
|
| PP01 | Preservation of patent right |
Effective date of registration: 20150905 Granted publication date: 20120523 |
|
| RINS | Preservation of patent right or utility model and its discharge | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent | ||
| PD01 | Discharge of preservation of patent |
Date of cancellation: 20210905 Granted publication date: 20120523 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20120523 Termination date: 20130930 |