CN2900551Y - 真空塗覆蒸发系统结构改进装置 - Google Patents
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Abstract
一种涉及闪烁体真空塗覆蒸发系统结构的改进装置，尤指一种用于材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分的真空塗覆蒸发系统结构改进装置。本实用新型由钟罩、工件、支架底座、蒸发源及真空系统等部件组成，在钟罩内设有两组相互平行的对称结构，其自上往下依次由支架、工件、蒸发源、托架、底座和真空管道等组成。主要解决如何在不影响真空系统前提下，提高塗覆效率，塗层均匀且受控等技术问题。本实用新型的优点是：具有调节方便，受热均匀，速率一致，增加了工位，提高了产量，降低了成本；提高了产品的合格率，同时真空度的提高，又增强了涂层的附着强度，提高了产品质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种闪烁体真空塗覆蒸发系统结构的改进装置，尤指一种用于材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分的真空塗覆蒸发系统结构改进装置。
背景技术
真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜。真空镀复的关键是蒸发系统，涂层质量的好坏取决于蒸发系统的合理设计。蒸发系统涉及结构的机械系统设计、电气系统设计和测量系统设计。
机械设计除了工装、旋转机构，包括工件的距离调节、角度调节。机械设计的合理性决定了空间的利用，直接影响工件的数量；距离、角度的调节影响闪烁体的结晶成长及其塗覆均匀性控制。
电气系统设计包括加热与温度控制、旋转控制，温度加热控制设计影响闪烁体的塗覆速率及其塗覆的洁净度；旋转调节控制影响塗覆均匀性。
测量系统设计直接或间接测量和控制塗层的厚度和沉积变化。
原蒸发结构系统虽然能够进行塗覆，达到一定的要求，但是，由于原设计当时的种种局限原因，原蒸发结构系统存在着较低的有限空间的利用率、调节不便、加热不匀、涂层的厚度不易控制，生产成本高等问题，直接影响了产品质量。
发明内容
为了克服上述不足之处，本实用新型的主要目的旨在提供一种闪烁体在真空状态中，受热均匀在其蒸发温度控制下，均匀沉积在物件表面的一种设计新颖，操作容易、控制方便、效率提高的蒸发结构系统的真空塗覆蒸发系统结构改进装置。
本实用新型要解决的技术问题是：要解决如何在不影响真空系统前提下，提高塗覆效率，塗层均匀且受控问题；要解决如何改变闪烁体加热方法，即由原直接加热方法设计为间接加热方法问题；要解决在工件与闪烁体之间加设一定的电位差问题；要解决如何将工件为可调α角的放置设计，即将原先工件的水平放置如何改变成可调α角放置设计等有关技术问题。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：该装置由钟罩、工件、支架 底座、蒸发源及真空系统等部件组成，在钟罩内设有两组相互平行的对称结构，其自上往下依次由支架、工件、蒸发源、托架、底座和真空管道等组成，支架与工件之间为固定连接，蒸发源与托架之间为固定连接，托架与底座之间为固定连接，钟罩与底座之间通过橡皮为真空密封固定连接，底座与真空管道之间为真空密封固定连接，且真空电机直接带动旋转机构。
所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置的工件与蒸发源之间设有电位差结构，其工件为施加电压，蒸发源为接地。
所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置的工件的放置结构设计为分六挡0°-90°的α角调整。
本实用新型的有益效果是：工件的α角调整可使闪烁体塗层分布实现可控，调节方便；利用工件与闪烁体之间的电位差形成的控制信号，能有效地起到控制作用；间接加热方式受热均匀，速率一致，有效地防止直热式热源局部温度过高而产生的疵点；在同样的空间里，增加了工位，提高了产量，降低了成本。真空电机直接带动的旋转机构设计有效解决了原齿轮传动而产生的动态真空度差问题，提高了产品的合格率，同时真空度的提高，又增强了涂层的附着强度，提高了产品质量。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
附图1是本实用新型的蒸发结构系统结构示意图；
附图2是本实用新型原蒸发结构系统的结构示意图；
附图中标号说明：
1—钟罩；
2—支架；
3—工件；
4—蒸发源；
5—托架；
6—底座；
7—真空管道；
具体实施方式
请参阅附图1、2所示，本实用新型是由钟罩、工件、支架 底座、蒸发源及真空系统等部件组成，在钟罩(1)内设有两组相互平行的对称结构，其自上往下依次由支架(2)、工件(3)、蒸发源(4)、托架(5)、底座(6)和真空管道(7)等组成，支架(2)与工件(3)之间为固定连接，蒸发源(4)与托架(5)之间为固定连接，托架(5)与底座(6)之间为固定连接，钟罩(1)与底座(6)之间通过橡皮为真空密封固定连接，底座(6)与真空管道(7)之间为真空密封固定连接，且真空电机直接带动旋转机构。
所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置的工件(3)与蒸发源(4)之间设有电位差结构，其工件(3)为施加电压，蒸发源(4)为接地，在工件(3)与蒸发源(4)之间就形成了电位差。
所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置的工件(3)的放置结构设计为分六挡0°-90°的α角调整，即设计为(0°-90°)分六挡进行α角调整。
本实用新型在不影响真空系统前提下，提高塗覆效率，塗层均匀且受控，达到提高质量、降低成本的目的。
本实用新型采取的具体实施例的技术方案是：改变闪烁体加热方法；增加塗覆过程的监控系统；工件的可调α角的放置设计。
所述改变闪烁体加热方法就是由原直接加热方法设计为间接加热方法(见图1中的蒸发源4)，使闪烁体辐射受热且均匀，塗覆过程稳定。另外在工件(见图1中的工件3)与闪烁体(蒸发源4)之间加设一定的电位差，使塗覆过程产生的微弱信号变化通过放大形成控制信号，监控整个过程，使塗覆过程受到监控。
所述工件的可调α角的放置设计，将原先工件的水平放置(见附图2示意图)改变成可调α角放置的设计(见图1中的工件3)，原先工件的放置中心(见附图2)示意图，占有空间大，旋转采用齿轮旋转机构；本实用新型改进结构设计成可调α角的放置，它占有空间小，旋转机构简洁，采用真空电机直接带动，腾出空间增加工位(见附图1示意图)，提高了设备利用效率。
Claims (3)
1、一种真空塗覆蒸发系统结构改进装置，该装置有钟罩、工件、支架 底座、蒸发源及真空系统，其特征在于：在钟罩(1)内设有两组相互平行的对称结构，其自上往下依次由支架(2)、工件(3)、蒸发源(4)、托架(5)、底座(6)和真空管道(7)组成，支架(2)与工件(3)之间为固定连接，蒸发源(4)与托架(5)之间为固定连接，托架(5)与底座(6)之间为固定连接，钟罩(1)与底座(6)之间通过橡皮为真空密封固定连接，底座(6)与真空管道(7)之间为真空密封固定连接，且真空电机直接带动旋转机构。
2、根据权利要求1所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置，其特征在于：所述的工件(3)与蒸发源(4)之间设有电位差结构，其工件(3)为施加电压，蒸发源(4)为接地。
3、根据权利要求1所述的真空塗覆蒸发系统结构改进装置，其特征在于：所述的工件(3)的放置结构设计为分六挡0°-90°的α角调整。
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| CN 200620040816 CN2900551Y (zh) | 2006-04-05 | 2006-04-05 | 真空塗覆蒸发系统结构改进装置 |
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| CN 200620040816 CN2900551Y (zh) | 2006-04-05 | 2006-04-05 | 真空塗覆蒸发系统结构改进装置 |
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| CN (1) | CN2900551Y (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101665913B (zh) * | 2009-09-30 | 2012-05-23 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 真空镀膜用处理装置 |
| WO2023216313A1 (zh) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置及蒸发源系统 |
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2006
- 2006-04-05 CN CN 200620040816 patent/CN2900551Y/zh not_active Expired - Fee Related
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| WO2023216313A1 (zh) * | 2022-05-13 | 2023-11-16 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸发源装置及蒸发源系统 |
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