CN101619441B - 扫描蒸镀制膜的设备 - Google Patents
扫描蒸镀制膜的设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN101619441B CN101619441B CN200910087009A CN200910087009A CN101619441B CN 101619441 B CN101619441 B CN 101619441B CN 200910087009 A CN200910087009 A CN 200910087009A CN 200910087009 A CN200910087009 A CN 200910087009A CN 101619441 B CN101619441 B CN 101619441B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- balance
- scanning bracket
- motor
- transmission
- electron beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明属于一种扫描蒸镀制膜的设备，本发明设置使工作状态下的电子枪摆动的装置，使电子枪在移动状态下进行喷镀。该设备采用电子枪位于摆动装置上，电子枪在移动状态下进行喷镀。本发明的使电子枪在移动状态下进行喷镀，镀膜均匀，简便可行。该设备使电子枪在移动状态下进行喷镀，具有镀膜均匀，速度快，价格低，质量好，可大幅度提高基板光电转换率，并大幅延长其使用寿命。
Description
技术领域
本发明属于一种扫描蒸镀制膜的设备。
背景技术
薄膜光伏电池，包括CIGS光伏电池可替代单晶硅材料用作太阳能发电，晶体硅材料作为光伏发电材料价格昂贵，制作难度大，成本高，难以推广使用。最新的科学显示可以用在玻璃或其他材料的基板上用电子枪蒸镀方法镀数层金属和非金属薄膜来替代晶体硅材料用作太阳能发电，这种新材料价格低廉，利于推广使用。用电子枪蒸镀方法镀数层金属薄膜在基板上，要求薄膜必须厚度均匀，但目前的设备难以达到这样的要求。传统的电子枪蒸镀设备包括一个真空腔体，真空腔体内下端固定设置若干个电子枪，待镀的基板置于电子枪上端，完成电子枪蒸镀制膜。这种传统的设备不能保证基板上薄膜厚度的均匀，往往造成靠近电子枪的基板上薄膜厚，反之，则薄。而薄膜厚度的不均匀使玻璃基板光电转换率大幅下降，质量一致性差，难以在市场上推广使用。
发明内容
本发明的目的是设计一种扫描蒸镀制膜的设备，该设备使电子枪在移动状态下进行喷镀，镀膜均匀，简便可行，其设备具有镀膜均匀，速度快，价格低，质量好，可大幅度提高基板光电转换率，大幅延长其使用寿命的优点。
为此，本发明设置使工作状态下的电子枪摆动的装置，使电子枪在移动状态下进行喷镀。
实现本发明的设备是电子枪位于摆动装置上，电子枪在移动状态下进行喷镀。
所述的摆动装置是：扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮；摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；传动装置，包括传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带和传动摆盘的电机、传送轮和传送带，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮，传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。
所述的摆动装置还可是：扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮；摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧；传动装置，由传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带所构成，传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。
所述的摆动装置还可是：扫描支架，其内中空，扫描支架的一端位于真空腔体内其上设有摆盘，位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波纹管轴接，扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨滑配，位于真空腔体外的扫描支架侧端与滚珠丝杆螺接；摆盘，呈中空T字形，位于真空腔体内的扫描支架内侧上端，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪。
所述的摆动装置还可是：扫描支架，其内中空，扫描支架的一端位于真空腔体内其上设有摆盘，位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波纹管轴接，扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨滑配，位于真空腔体外的扫描支架侧端与滚珠丝杆螺接；摆盘，呈中空T字形，位于真空腔体内的扫描支架内侧上端，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；传动装置，包括传动扫描支架的电机、电机轮、传送带、传送轮、受传送轮带动的滚珠丝杆和传动摆盘的电机、传送轮和传送带，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮，传动扫描支架的电机通过电机轮、传送带、传送轮和受传送轮带动的滚珠丝杆带动扫描支架左右移动。上述结构设计达到了本发明的目的。
本发明的优点是使电子枪在移动状态下进行喷镀，镀膜均匀，简便可行。该设备使电子枪在移动状态下进行喷镀，具有镀膜均匀，速度快，价格低，质量好，可大幅度提高基板光电转换率，并大幅延长其使用寿命。利于在市场上推广使用。
附图说明
图1是本发明的结构示意图
图2是图1的A-A剖面局部结构示意图
图3是本发明的结构示意图
图4是图3的A-A剖面局部结构示意图
图5是本发明的使用状态结构示意图
图6是本发明的另一实施例结构示意图
具体实施方案
本发明设置使工作状态下的电子枪摆动的装置，使电子枪在移动状态下进行喷镀。以实现镀膜均匀。
如图1至图6所示，一种用扫描蒸镀制膜设备，主要由多个电子枪7，机架1和真空腔体2所组成。电子枪位于摆动装置上，电子枪在移动状态下进行喷镀。
如图1和图2所示，所述的摆动装置由扫描支架、摆盘和传动装置构成。该装置为扫描支架、摆盘均旋转摆动。
扫描支架3，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体16密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮13。扫描支架上端的真空腔体内设有加热器9，用于保障真空腔体内的蒸镀温度。位于真空腔体内上端两侧的基板框8，用于夹持基板10并受位于真空腔体外的输送轴11传动，输送轴由电机带动。
摆盘6，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘与扫描支架通过磁流体12密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮15，摆盘上端设有电子枪。位于扫描支架的上端两侧的摆盘为两个摆盘，每个摆盘上设一个或数个电子枪。
传动装置，包括传动扫描支架的电机20、减速器19、传送轮、传送带14和传动摆盘的电机5、传送轮4和传送带。传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内。传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮15，每个摆盘下端各设一组传动摆盘的装置。传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。在真空腔体下端的支架上还设有电子枪电源盒18，其内的电子枪电源通过电子枪导线17与摆盘上的电子枪连接。支架用于支撑真空腔体。
所述的电子枪的数量为一个或数个，电子枪位于摆盘上端。所述的摆盘可呈正反90°～180°，正反90°，或正反180°范周内转动。所述的扫描支架可呈正反90°～180°，正反90°，或正反180°范周内转动。
所述的位于摆盘上的电子枪呈十字分布。
如图3和图4所示，该结构与如图1和图2所示结构不同的是在扫描支架的大带轮下端设有一个电刷滑环21，以方便各电子枪电源通过各电子枪导线与摆盘上的电子枪连接。显然在每个摆盘的摆盘轮下端亦可设有一个电刷滑环，以方便各电子枪电源通过各电子枪导线与摆盘上的电子枪连接。这样亦可使扫描支架和摆盘在任意范周内转动。其余结构相同，故不再累述。
如图5所示，是本发明使用状态结构示意图，在真空腔体内，可根据需要在扫描支架一端设一个摆盘装置。
使用时，传动装置带动扫描支架呈正反90°，或正反180°范周内转动，同时使摆盘呈正反90°，或正反180°范周内转动，使其上的数个电子枪亦移动，电子枪在移动状态下进行喷镀，保证了喷镀膜的均匀性。
显然，在上述实施例中扫描支架、摆盘均旋转摆动。在上述实施例中可令扫描支架摆动，而摆盘固定不转；或反之。喷镀膜的均匀性效果相同。
如：扫描支架摆动，而摆盘固定不转时，采用：
扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮；
摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘固定在扫描支架的上端两侧；
传动装置，由传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带所构成，传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动。其余结构相同，故不再累述。
亦可去掉摆盘装置及相关的传动装置，多个电子枪直接固定在扫描支架两端，摆动的扫描支架配合移动的玻璃基板亦可达到喷镀膜均匀的目的。故不再累述。
或如：扫描支架固定不转，而摆盘摆动时，采用：
扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架固定在真空腔体内；
摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；
传动装置，由传动摆盘的电机、传送轮和传送带所构成，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮。其余结构相同，故不再累述。
如图6所示，所述的摆动装置还可以包括扫描支架、摆盘和传动装置。该装置为横向左右摆动。
扫描支架，其内中空，扫描支架的一端位于真空腔体内其上设有摆盘，位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波纹管28轴接。扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨22滑配。位于真空腔体外的扫描支架侧端与滚珠丝杆26螺接。
摆盘，呈中空T字形，位于真空腔体内的扫描支架内侧上端，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪。
传动装置，包括传动扫描支架的电机23、电机轮24、传送带25、传送轮27、受传送轮带动的滚珠丝杆和传动摆盘的电机、传送轮和传送带。传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮。传动扫描支架的电机通过电机轮、传送带、传送轮和受传送轮带动的滚珠丝杆带动扫描支架左右移动。
使用时，传动装置带动扫描支架在直线导轨上横向左右摆动，同时使摆盘呈正反90°，或正反180°范周内转动，使其上的数个电子枪亦移动，电子枪在移动状态下进行喷镀，保证了喷镀膜的均匀性。
总之，本发明使电子枪在移动状态下进行喷镀，具有镀膜均匀，速度快，质量好，价格低，可大幅度提高基板光电转换率，经本发明蒸镀的基板光电转换率较高，并大幅延长其使用寿命，利于在市场上推广使用。
Claims (3)
1.一种扫描蒸镀制膜的设备，其特征在于：
设置使工作状态下的电子枪摆动的装置，使电子枪在移动状态下进行喷镀；
设备主要由多个电子枪、机架和真空腔体所组成，电子枪位于摆动装置上，电子枪在移动状态下进行喷镀；
所述的摆动装置是：扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮；摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；传动装置，包括传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带和传动摆盘的电机、传送轮和传送带，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮，传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动；
或所述的摆动装置是：扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内，扫描支架与真空腔体之间通过磁流体密封装置轴接，扫描支架下端连接大带轮；摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧；传动装置，由传动扫描支架的电机、减速器、传送轮、传送带所构成，传动扫描支架的电机通过减速器、传送轮和传送带带动扫描支架转动；
或所述的摆动装置是：扫描支架，呈中空T字形，呈T字形扫描支架的上端位于真空腔体内；摆盘，呈中空T字形，位于呈T字形扫描支架的上端两侧，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；传动装置，由传动摆盘的电机、传送轮和传送带所构成，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮；
或所述的摆动装置是：扫描支架，其内中空，扫描支架的一端位于真空腔体内其上设有摆盘，位于真空腔体内的扫描支架与真空腔体之间通过密封波纹管轴接，扫描支架另一端位于真空腔体外并与直线导轨滑配，位于真空腔体外的扫描支架侧端与滚珠丝杆螺接；摆盘，呈中空T字形，位于真空腔体内的扫描支架内侧上端，摆盘与扫描支架通过磁流体密封装置轴接，摆盘下端设有摆盘轮，摆盘上端设有电子枪；传动装置，包括传动扫描支架的电机、电机轮、传送带、传送轮、受传送轮带动的滚珠丝杆和传动摆盘的电机、传送轮和传送带，传动摆盘的电机、传送轮和传送带位于扫描支架内，传动摆盘的电机通过传送轮和传送带带动摆盘轮，传动扫描支架的电机通过电机轮、传送带、传送轮和受传送轮带动的滚珠丝杆带动扫描支架左右移动。
2.按权利要求1所述的设备，其特征在于：所述的电子枪的数量为数个，电子枪位于摆盘上端。
3.按权利要求1所述的设备，其特征在于：所述的位于摆盘上的电子枪呈十字分布。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910087009A CN101619441B (zh) | 2009-06-22 | 2009-06-22 | 扫描蒸镀制膜的设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN200910087009A CN101619441B (zh) | 2009-06-22 | 2009-06-22 | 扫描蒸镀制膜的设备 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN101619441A CN101619441A (zh) | 2010-01-06 |
| CN101619441B true CN101619441B (zh) | 2012-10-17 |
Family
ID=41512852
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN200910087009A Active CN101619441B (zh) | 2009-06-22 | 2009-06-22 | 扫描蒸镀制膜的设备 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN101619441B (zh) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105695938B (zh) * | 2016-04-08 | 2018-06-12 | 光驰科技(上海)有限公司 | 采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法 |
| CN107393860B (zh) * | 2017-07-20 | 2019-07-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种基板传送装置及方法、蒸镀设备 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244212B1 (en) * | 1999-12-30 | 2001-06-12 | Genvac Aerospace Corporation | Electron beam evaporation assembly for high uniform thin film |
| JP2003277920A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法及び製造装置 |
| CN1928149A (zh) * | 2005-09-06 | 2007-03-14 | 株式会社半导体能源研究所 | 沉积装置 |
| CN201459232U (zh) * | 2009-06-22 | 2010-05-12 | 北京京运通科技股份有限公司 | 一种用扫描蒸镀制膜设备 |
-
2009
- 2009-06-22 CN CN200910087009A patent/CN101619441B/zh active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244212B1 (en) * | 1999-12-30 | 2001-06-12 | Genvac Aerospace Corporation | Electron beam evaporation assembly for high uniform thin film |
| JP2003277920A (ja) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜の製造方法及び製造装置 |
| CN1928149A (zh) * | 2005-09-06 | 2007-03-14 | 株式会社半导体能源研究所 | 沉积装置 |
| CN201459232U (zh) * | 2009-06-22 | 2010-05-12 | 北京京运通科技股份有限公司 | 一种用扫描蒸镀制膜设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN101619441A (zh) | 2010-01-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN106972104B (zh) | 一种碱金属氟化物掺杂的钙钛矿太阳电池制备方法 | |
| CN103560169B (zh) | 一种大型太阳能薄膜电池片组件生产工艺及设备 | |
| CN108456850B (zh) | 一种三明治结构薄膜及其制备方法与应用 | |
| CN101619441B (zh) | 扫描蒸镀制膜的设备 | |
| CN213388868U (zh) | 红外光学薄膜镀膜机 | |
| CN101634012B (zh) | 一种用于表面防护的离子束辅助磁控溅射沉积方法 | |
| CN104916785A (zh) | 一种CH3NH3PbI3薄膜太阳能电池制备方法 | |
| CN108666424B (zh) | 一种基于醋酸甲胺室温熔盐作绿色溶剂制备钙钛矿太阳能电池及其方法和应用 | |
| CN105161625B (zh) | 一种氧化亚铜异质结太阳能电池的制备方法 | |
| CN110416356A (zh) | 一种硒化锑薄膜太阳能电池的制备方法 | |
| CN107240645B (zh) | 钙钛矿-纳米锗颗粒有机-无机复合太阳能电池的制备 | |
| CN106057930A (zh) | 一种由氯化铜和氯化镓制备铜镓硒光电薄膜的方法 | |
| CN103227286A (zh) | 硫掺杂的MoO3薄膜作为阳极界面层的有机光伏电池及其制备方法 | |
| CN201459232U (zh) | 一种用扫描蒸镀制膜设备 | |
| CN108906475B (zh) | 一种锂电池加工用涂布烘干装置 | |
| CN101694854B (zh) | 制备cis薄膜及器件的非真空液相化学法合成方法 | |
| CN103014623A (zh) | 一种铜铟硒基太阳能薄膜电池光吸收层用陶瓷靶材制备方法 | |
| CN201655826U (zh) | 铜铟镓硒太阳电池缓冲层制备装置 | |
| CN109545989A (zh) | 钙钛矿太阳能电池制备方法 | |
| CN112467042B (zh) | 一种钙钛矿太阳能电池组件智能自动化生产系统 | |
| CN201425944Y (zh) | 制造薄膜光伏电池的生产线 | |
| CN113019205B (zh) | 一种钛酸锶超细粉体制备设备 | |
| TW201504464A (zh) | 蒸氣分配裝置及成型太陽能面板之方法 | |
| CN201466049U (zh) | 制造薄膜光伏电池的循环生产线 | |
| CN105118888A (zh) | 一种由硫酸铜制备氧化亚铜光电薄膜的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |