CN105908141A - 溅射镀膜机构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种溅射镀膜机构,其中,所述溅射镀膜机构包括舱室,所述舱室内部的顶部固定有靶材机构,所述舱室相对的内侧壁上分别设置有挡板机构,且所述靶材机构位于所述挡板机构的上方,所述挡板机构包括转轴、挡板和收集板,所述挡板的一端通过转轴连接所述舱室内侧壁,使得所述挡板能以所述转轴为支点上下翻转,所述挡板中靠近所述靶材的一面上可拆卸地设置有收集板。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃镀膜设备,具体地,涉及溅射镀膜机构。
背景技术
溅射设备是设计用于在平板建筑玻璃上镀制低辐射膜、低辐射太阳膜以及阳光控制膜,玻璃板由水平输送系统传送至镀膜室进行处理,镀膜室顶端设置有靶材机构,传统的镀膜是利用靶材机构直接将靶材粒子溅射至玻璃板上,由于靶材机构的溅射范围较大,如果不能控制靶材机构的溅射范围,会导致处于溅射范围边缘的粒子也沉积在玻璃板上,导致玻璃板上的镀膜效果下降。
发明内容
本发明的目的是提供一种溅射镀膜机构,解决了传统的溅射镀膜机构不能控制其靶材的溅射范围,使得溅射不集中,影响玻璃板镀膜质量的问题。
为了实现上述目的,本发明提供了一种溅射镀膜机构,其中,所述溅射镀膜机构包括舱室,所述舱室内部的顶部固定有靶材机构,所述舱室相对的内侧壁上分别设置有挡板机构,且所述靶材机构位于所述挡板机构的上方,所述挡板机构包括转轴、挡板和收集板,所述挡板的一端通过转轴连接所述舱室内侧壁,使得所述挡板能以所述转轴为支点上下翻转,所述挡板中靠近所述靶材的一面上可拆卸地设置有收集板。
优选地,所述舱室相对的内侧壁上还分别设置有贯穿的进口和出口,且所述进口和所述出口都位于所述挡板机构的下方,所述溅射镀膜机构还包括运输机构,且所述运输机构依次穿过所述进口和所述出口,所述运输机构上放置有玻璃基片,所述玻璃基片可以在所述运输机构上依次从所述进口滑移至所述出口。
优选地,所述运输机构至少包括有多个顺次设置的辊筒,且所述辊筒的表面上沿其轴向方向顺次套接有多个橡胶圈。
优选地,所述橡胶圈的数量为5-8个。
优选地,所述舱室的外侧壁上可移动地设有第一阀门机构和第二阀门机构,所述第一阀门机构位于所述进口的上方,且通过移动所述第一阀门机构可以将所述进口遮蔽,所述第二阀门机构位于所述出口的上方,且通过移动所述第二阀门机构可以将所述出口遮蔽。
优选地,所述第一阀门机构包括气缸和盖门,所述气缸的一端固定在所述舱室的外侧壁上,另一端连接盖门,所述气缸可以带动所述盖门上下运动。
优选地,所述盖门的外表面包裹有密封橡胶套。
根据上述技术方案,本发明提供了一种溅射镀膜机构,其中,所述溅射镀膜机构包括舱室,所述舱室内部的顶部固定有靶材机构,所述舱室相对的内侧壁上分别设置有挡板机构,且所述靶材机构位于所述挡板机构的上方,所述挡板机构包括转轴、挡板和收集板,所述挡板的一端通过转轴连接所述舱室内侧壁,使得所述挡板能以所述转轴为支点上下翻转,所述挡板中靠近所述靶材的一面上可拆卸地设置有收集板,工作时,可以通过调整2块挡板与舱室内侧壁的角度,来控制靶材溅射至玻璃板表面的范围,使得处于溅射范围边缘的粒子落至收集板上,由于收集板是可拆卸地设置在挡板上,可以方便对收集板上收集的粒子进行回收。
本发明的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
附图说明
附图是用来提供对本发明的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与下面的具体实施方式一起用于解释本发明,但并不构成对本发明的限制。在附图中:
图1是本发明提供的溅射镀膜机构的结构示意图;
图2是本发明提供的溅射镀膜机构中辊筒的结构示意图。
附图标记说明
1-舱室 2-靶材机构
3-收集板 4-挡板
5-转轴 6-气缸
7-盖门 8-玻璃基片
9-运输机构 10-辊筒
11-橡胶圈
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。
如图1和图2所示,本发明提供了一种溅射镀膜机构,其中,所述溅射镀膜机构包括舱室1,所述舱室1内部的顶部固定有靶材机构2,所述舱室1相对的内侧壁上分别设置有挡板机构,且所述靶材机构2位于所述挡板机构的上方,所述挡板机构包括转轴5、挡板4和收集板3,所述挡板4的一端通过转轴5连接所述舱室1内侧壁,使得所述挡板4能以所述转轴5为支点上下翻转,所述挡板4中靠近所述靶材的一面上可拆卸地设置有收集板3。工作时,可以通过调整2块挡板4与舱室1内侧壁的角度,来控制靶材溅射至玻璃板表面的范围,使得处于溅射范围边缘的粒子落至收集板上,由于收集板3是可拆卸地设置在挡板4上,可以方便对收集板3上收集的粒子进行回收。
在本发明的一种优选的实施方式中,所述舱室1相对的内侧壁上还分别设置有贯穿的进口和出口,且所述进口和所述出口都位于所述挡板机构的下方,所述溅射镀膜机构还包括运输机构9,且所述运输机构9依次穿过所述进口和所述出口,所述运输机构9上放置有玻璃基片8,所述玻璃基片8可以在所述运输机构9上依次从所述进口滑移至所述出口,玻璃基片8从进口进入到舱室1内,完成镀膜后,再从所述出口滑出。
在本发明的一种优选的实施方式中,为了使得玻璃基片8能与运输机构9更为柔和的接触,防止玻璃基片8在滑动时产生划痕,所述运输机构9至少包括有多个顺次设置的辊筒10,且所述辊筒10的表面上沿其轴向方向顺次套接有多个橡胶圈11,优选的,所述橡胶圈11的数量为5-8个,当然,这里橡胶圈11的数量可以根据本领域人员的需求进一步调整。
在本发明的一种更为优选的实施方式中,玻璃基片8在舱室1内镀膜时,为了保证舱室1的密封性,所述舱室1的外侧壁上可移动地设有第一阀门机构和第二阀门机构,所述第一阀门机构位于所述进口的上方,且通过移动所述第一阀门机构可以将所述进口遮蔽,所述第二阀门机构位于所述出口的上方,且通过移动所述第二阀门机构可以将所述出口遮蔽。
在本发明的一种优选的实施方式中,为了使得更为方便的对进出口进行开关闭合,所述第一阀门机构包括气缸6和盖门7,所述气缸6的一端固定在所述舱室1的外侧壁上,另一端连接盖门7,所述气缸6可以带动所述盖门7上下运动。
为了进一步增加盖门7的密封效果,所述盖门7的外表面包裹有密封橡胶套。
以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式,但是,本发明并不限于上述实施方式中的具体细节,在本发明的技术构思范围内,可以对本发明的技术方案进行多种简单变型,这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是,在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征,在不矛盾的情况下,可以通过任何合适的方式进行组合,为了避免不必要的重复,本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外,本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合,只要其不违背本发明的思想,其同样应当视为本发明所公开的内容。
Claims (7)
1.一种溅射镀膜机构,其特征在于,所述溅射镀膜机构包括舱室(1),所述舱室(1)内部的顶部固定有靶材机构(2),所述舱室(1)相对的内侧壁上分别设置有挡板机构,且所述靶材机构(2)位于所述挡板机构的上方,所述挡板机构包括转轴(5)、挡板(4)和收集板(3),所述挡板(4)的一端通过转轴(5)连接所述舱室(1)内侧壁,使得所述挡板(4)能以所述转轴(5)为支点上下翻转,所述挡板(4)中靠近所述靶材的一面上可拆卸地设置有收集板(3)。
2.根据权利要求1所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述舱室(1)相对的内侧壁上还分别设置有贯穿的进口和出口,且所述进口和所述出口都位于所述挡板机构的下方,所述溅射镀膜机构还包括运输机构(9),且所述运输机构(9)依次穿过所述进口和所述出口,所述运输机构(9)上放置有玻璃基片(8),所述玻璃基片(8)可以在所述运输机构(9)上依次从所述进口滑移至所述出口。
3.根据权利要求2所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述运输机构(9)至少包括有多个顺次设置的辊筒(10),且所述辊筒(10)的表面上沿其轴向方向顺次套接有多个橡胶圈(11)。
4.根据权利要求3所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述橡胶圈(11)的数量为5-8个。
5.根据权利要求2所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述舱室(1)的外侧壁上可移动地设有第一阀门机构和第二阀门机构,所述第一阀门机构位于所述进口的上方,且通过移动所述第一阀门机构可以将所述进口遮蔽,所述第二阀门机构位于所述出口的上方,且通过移动所述第二阀门机构可以将所述出口遮蔽。
6.根据权利要求5所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述第一阀门机构包括气缸(6)和盖门(7),所述气缸(6)的一端固定在所述舱室(1)的外侧壁上,另一端连接盖门(7),所述气缸(6)可以带动所述盖门(7)上下运动。
7.根据权利要求1所述的溅射镀膜机构,其特征在于,所述盖门(7)的外表面包裹有密封橡胶套。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108611612A (zh) * | 2018-06-02 | 2018-10-02 | 南通盛州电子科技有限公司 | 一种真空溅射设备及溅射方法 |
CN111455343A (zh) * | 2019-01-18 | 2020-07-28 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种镀膜机和镀膜控制方法 |
CN114455852A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-10 | 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 | 可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11350126A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Hitachi Ltd | スパッタリング装置 |
CN101665913A (zh) * | 2009-09-30 | 2010-03-10 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 真空镀膜用处理装置 |
CN202401123U (zh) * | 2011-12-15 | 2012-08-29 | 佛山市中南罗森玻璃有限公司 | 一种带有挡板的靶位溅射室 |
CN103343322A (zh) * | 2013-07-02 | 2013-10-09 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 |
-
2016
- 2016-04-27 CN CN201610266380.2A patent/CN105908141A/zh active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11350126A (ja) * | 1998-06-05 | 1999-12-21 | Hitachi Ltd | スパッタリング装置 |
CN101665913A (zh) * | 2009-09-30 | 2010-03-10 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 真空镀膜用处理装置 |
CN202401123U (zh) * | 2011-12-15 | 2012-08-29 | 佛山市中南罗森玻璃有限公司 | 一种带有挡板的靶位溅射室 |
CN103343322A (zh) * | 2013-07-02 | 2013-10-09 | 南昌欧菲光科技有限公司 | 磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108611612A (zh) * | 2018-06-02 | 2018-10-02 | 南通盛州电子科技有限公司 | 一种真空溅射设备及溅射方法 |
CN108611612B (zh) * | 2018-06-02 | 2020-08-28 | 南通盛州电子科技有限公司 | 一种真空溅射设备及溅射方法 |
CN111455343A (zh) * | 2019-01-18 | 2020-07-28 | 北京铂阳顶荣光伏科技有限公司 | 一种镀膜机和镀膜控制方法 |
CN114455852A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-05-10 | 凯盛信息显示材料(黄山)有限公司 | 可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置 |
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