CN114455852A - 可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置 - Google Patents

可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括镀膜机构，其固定设置在支架上部；调节辊，其对称设置在镀膜机构下部；清洁块，其与容置槽相配合，且活动设置在容置槽内，并可沿容置槽轴向方向往复运动；侧刮板和正刮板，其活动设置在清洁块上，且分别与容置槽的侧面和底面紧密贴合。本发明通过镀膜机构阴极发射口对称设置调节辊，通过调节调节辊之间距离来实现对镀膜间隙宽度的调节，同时在调节辊上环形阵列多组凸块，并且凸块之间形成容置槽，超出镀膜间隙的溅射无落入到容置槽内，由于容置槽内设置了能够进行往复运动的清洁块，清洁块在往复运动的过程实现对沉积物的去除，在镀膜过程中就能实现清洁。

Description

可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置
技术领域
本发明涉及玻璃镀膜设备技术领域，具体为一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置。
背景技术
磁控溅射镀膜是指在真空条件下，将涂层材料做为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。近年来，建筑对节能、风格等方面越来越多样化，镀膜玻璃在建筑领域中的使用越来越普遍。目前，磁控溅射成膜已经成为一种新型的物理气相成膜方式，磁控溅射镀膜机在玻璃镀膜的生产中应用也越来越广泛。但是，在实际生产过程中，由于溅射通道间隙无法进行调节，仅仅只能生产单一透光率的玻璃。
中国专利公开号：CN104944793B，公开了一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，通过在溅射通道下方设置能够进行距离调节的挡板，来调整溅射靶材下部的溅射缝隙宽度，使得单一生产线能满足多种规格镀膜玻璃生产，提高了效率。
但是，上述装置在实际使用过程中存在较为明显的缺陷：设备在进行玻璃镀膜的过程中，溅射物容易堆积在两侧的挡板上，将溅射通道堵塞，导致部分阴极辉光被挡不能溅射于产品之上，造成无法达到设定厚度的沉积层；同时使得镀膜厚度无法实现精确控制；传统做法是对设备通入大气，将设备拆开，把挡板取出进行清理，整个清理过程需要1～3天，镀膜机属于贵重高投入设备，停机清理所导致的时间成本较高，因此，必须尽可能减少回气次数，缩短清理时间。
发明内容
本发明的目的在于提供一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括
镀膜机构，其固定设置在支架上部；
调节辊，其对称设置在镀膜机构下部，所述调节辊同轴设置在第一转轴上，所述第一转轴两端可转动连接滑套，所述滑套滑动套接在与支架固定连接的水平导轨上，所述第一转轴贯穿至滑套外部的一端上设置有用于驱动第一转轴转动的第一电机，所述调节辊外壁环形阵列有多组凸块，且相邻凸块之间形成容置槽；
清洁块，其与容置槽相配合，且活动设置在容置槽内，并可沿容置槽轴向方向往复运动，所述清洁块与第一丝杠传动连接，所述第一丝杠两端分别连接设置在滑套上的支板，所述第一丝杠延伸至支板外部的一端上传动连接第二电机；
侧刮板和正刮板，其活动设置在清洁块上，且分别与容置槽的侧面和底面紧密贴合，所述侧刮板和正刮板连接清洁块内部的连杆，所述连杆上套接有弹簧，所述连杆另一端设置有导向轮，所述导向轮与贯穿清洁块的清洁导轨相抵接，所述清洁导轨两端分别连接支板；
第二丝杆，其两端分别与设置在滑套上的固定块传动连接，所述第二丝杆一端传动连接第三电机，所述第三电机通过电机座固定连接水平导轨；
清洁辊，其与第二主轴同轴设置，且与凸块外壁贴合，所述第二主轴两端可转动连接滑套，所述第二主轴上设置有第一驱动轮，所述第一转轴上设置有用于驱动第一驱动轮转动的第三驱动轮；以及
驱动辊，其水平阵列在支架下部，用于传送需要进行镀膜的玻璃。
优选的，所述侧刮板和正刮板至少设置有两组，平行且间隔设置。
优选的，所述清洁辊上环形阵列有多组与凸块外壁接触的刮板。
优选的，所述第一驱动轮和第三驱动轮之间设置有分别与其啮合的第二驱动轮，所述第三驱动轮通过第二驱动轮驱动第一驱动轮转动。
优选的，所述清洁导轨上设置有多组与导向轮接触的凸起结构。
优选的，所述调节辊下部对应设置有集尘装置。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
本发明通过镀膜机构阴极发射口对称设置调节辊，通过调节调节辊之间距离来实现对镀膜间隙宽度的调节，同时在调节辊上环形阵列多组凸块，并且凸块之间形成容置槽，超出镀膜间隙的溅射无落入到容置槽内，由于容置槽内设置了能够进行往复运动的清洁块，清洁块在往复运动的过程实现对沉积物的去除，同时，通过设置清洁辊，通过清洁辊的不断转动，实现对凸块外壁的清洁，有效避免了沉积物的累积对溅射间隙和镀膜层的影响，同时在镀膜过程中就能实现清洁，无需停机，降低了对生产效率的影响。
附图说明
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明的调节辊结构示意图；
图3为本发明的调节辊俯视图；
图4为图3中B区结构放大示意图；
图5为本发明的清洁块内部结构示意图；
图6为图5中A区结构放大示意图；
图7为本发明的清洁辊结构示意图。
图中：1镀膜机构、2支架、3调节辊、4第一转轴、5水平导轨、6滑套、7第一电机、8凸块、9容置槽、10清洁块、101侧刮板、102正刮板、103连杆、104弹簧、105导向轮、11第一丝杠、12支板、13第二电机、14清洁导轨、15第二丝杆、16固定块、17第三电机、18清洁辊、181刮板、19第二主轴、20第一驱动轮、21第二驱动轮、22第三驱动轮、23驱动辊。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1-7，本发明提供一种技术方案：
一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，包括
镀膜机构1，其固定设置在支架2上部，镀膜机构1的阴极发射口朝向下部，溅射物从阴极发射口喷射到下方不断传送的玻璃上，实现对下部的玻璃进行镀膜作业；
调节辊3，其对称设置在镀膜机构1下部，在本实施例的技术方案中，调节辊3共设置有两组，且关于阴极发射口对称设置，调节辊3之间的间隙构成溅射通道，因此可以通过调节调节辊3之间的距离实现对溅射通的宽度的调节，以便实现生产不同类型的产品，提高整个装置的适应性；调节辊3同轴设置在第一转轴4上，通过第一转轴4的转动联动调节辊3转动，第一转轴4两端可转动连接滑套6，滑套6滑动套接在与支架2固定连接的水平导轨5上，通过驱动两侧滑套6的同步靠近或远离，来实现对调节辊3之间距离的调节；第一转轴4贯穿至滑套6外部的一端上设置有用于驱动第一转轴4转动的第一电机7，调节辊3外壁环形阵列有多组凸块8，且相邻凸块8之间形成容置槽9；凸块8之间的距离即构成溅射通道的宽度，从阴极发射口喷出的并超出镀膜通道宽度的溅射物，会溅落沉积在容置槽9内，容置槽9能够有效实现对溅射物的收集，在本实施例的技术方案中，第一电机7为步进电机，第一电机7通过驱动第一转轴4转动，进而联动调节辊3转动，最终实现切换不同位置的凸块8和容置槽9，即将沉积有大量溅射物的凸块8和容置槽9切换至清洁位置，通过清洁装置对其进行清洁，并将清洁后的其他凸块8和容置槽9切换至沉积位置，再次对溅射物进行收集；因此，本发明的技术方案，通过调节辊3的转动(不改变溅射通道宽度)，在镀膜过程中即可实现对沉积物的清洁，无需停机和拆除相关部件，极大的降低了对生产效率的影响，保证了生产的连续性；
清洁块10，其与容置槽9形状相配合，且活动设置在容置槽9内，并可沿容置槽9轴向方向往复运动，清洁块10与第一丝杠11传动连接，第一丝杠11两端分别连接设置在滑套6上的支板12，第一丝杠11延伸至支板12外部的一端上传动连接第二电机13；在本实施例的技术方案中，凸块8两端并未与调节辊3两端平齐，使得凸块8端部与调节辊3端部之间形成空间，调节辊3在转动过程中(切换凸块8和容置槽9)，清洁块10处于端部空间内，避免与凸块8的转动产生干涉，当调节辊3静止时，清洁块10与容置槽9相对，在第二电机13和第一丝杠11的作用下，清洁块10沿容置槽9往复运动，通过“刮擦”对容置槽9内沉积物进行有效的去除和清洁；
侧刮板101和正刮板102，其活动设置在清洁块10上，且分别与容置槽9的侧面和底面紧密贴合，侧刮板101和正刮板102至少设置有两组，平行且间隔设置，一定数量的侧刮板101和正刮板102能够有效提高清洁质量，在清洁块10往复运动过程中，侧刮板101和正刮板102能够与容置槽9的侧面和底面紧密贴合，使得能够更加有效的对沉积在容置槽9内的沉积物进行“刮擦”，达到去除和清洁的功能；侧刮板101和正刮板102连接清洁块10内部的连杆103，连杆103上套接有弹簧104，弹簧104的设置能够使得侧刮板101和正刮板102能够与容置槽9内壁紧密贴合，连杆103另一端设置有导向轮105，导向轮105与贯穿清洁块10的清洁导轨14相抵接；清洁导轨14由朝向左右两侧和下方的三组轨道构成，三个方向的轨道分别与不同位置的导向轮105配合，清洁导轨14上设置有多组与导向轮105接触的凸起结构，清洁导轨14两端分别连接支板12；通过在清洁导轨14上设置凸起结构，导向轮105在连续接触凸起结构时，能够驱动相应的刮板沿径向方向往复运动，实现了动态上下“铲动”的动作，提高了对沉积物的去除效果；
第二丝杆15，其两端分别与设置在滑套6上的固定块16传动连接，第二丝杆15一端传动连接第三电机17，第三电机17通过电机座固定连接水平导轨5；滑套6上设置有与电机座相配合的避让孔，使得滑套6在运动过程中不会与电机座产生干涉；第三电机17与控制器电性连接，操作人员能够通过控制器控制第三电机17转动，在第二丝杆15的作用下，驱动两侧的滑套6同步靠近或远离，进而达到设定的溅射通道宽度，同时，在下部的玻璃之间出现间隙时，此时溅射物容易溅落在驱动辊23上，在长期使用之后，驱动辊23容易造成对玻璃的磨损和损坏，因此，在检测装置检测玻璃之间存在较大间隙时(传送不同尺寸的玻璃)，会通过控制器驱动两侧滑套6靠近，使得两侧调节辊3紧贴，并在间隙消除时，驱动滑套6恢复到设定的宽度；
清洁辊18，其与第二主轴19同轴设置，且与凸块8外壁贴合，通过清洁辊18的不断转动来实现对凸块8外壁的清洁；为了更好的清洁凸块8外壁，清洁辊18上环形阵列有多组与凸块8外壁接触的刮板181，第二主轴19两端可转动连接滑套6，第二主轴19上设置有第一驱动轮20，第一转轴4上设置有用于驱动第一驱动轮20转动的第三驱动轮22，第一驱动轮20和第三驱动轮22之间设置有分别与其啮合的第二驱动轮21，第三驱动轮22通过第二驱动轮21驱动第一驱动轮20转动，在第三驱动轮22第一驱动轮20作用下，通过第一转轴4的转动联动清洁辊18的转动，而无需在额外增加动力装置，同时为了使凸块8和第二驱动轮21转向相同，使得刮板181能够对凸块8相切“刮擦”，在第三驱动轮22第一驱动轮20之间设置有第二驱动轮21；以及
驱动辊23，其水平阵列在支架2下部，用于传送需要进行镀膜的玻璃；
调节辊3下部对应设置有集尘装置，通过清洁块10和清洁辊18去除的沉积物落入到下方的集尘装置中。
工作原理：首先通过控制器设定调节辊3之间的距离，进而设定相应宽度的溅射通道，然后开启镀膜机构1，溅射物从下方喷口喷射到下方的不断传送的玻璃上，实现镀膜，超过喷溅通道宽度的溅射物会落在凸块8和容置槽9上，通过调节辊3的转动，将累积沉积物的凸块8和容置槽9切换至清洁工位，通过清洁辊18和不断转动和清洁块10往复运动，将沉积的溅射物“刮擦”，并落入到下方的集尘装置内，实现对沉积物的实时清洁，无需停机，保证了生产的连续性。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：包括
镀膜机构(1)，其固定设置在支架(2)上部；
调节辊(3)，其对称设置在镀膜机构(1)下部，所述调节辊(3)同轴设置在第一转轴(4)上，所述第一转轴(4)两端可转动连接滑套(6)，所述滑套(6)滑动套接在与支架(2)固定连接的水平导轨(5)上，所述第一转轴(4)贯穿至滑套(6)外部的一端上设置有用于驱动第一转轴(4)转动的第一电机(7)，所述调节辊(3)外壁环形阵列有多组凸块(8)，且相邻凸块(8)之间形成容置槽(9)；
清洁块(10)，其与容置槽(9)相配合，且活动设置在容置槽(9)内，并可沿容置槽(9)轴向方向往复运动，所述清洁块(10)与第一丝杠(11)传动连接，所述第一丝杠(11)两端分别连接设置在滑套(6)上的支板(12)，所述第一丝杠(11)延伸至支板(12)外部的一端上传动连接第二电机(13)；
侧刮板(101)和正刮板(102)，其活动设置在清洁块(10)上，且分别与容置槽(9)的侧面和底面紧密贴合，所述侧刮板(101)和正刮板(102)连接清洁块(10)内部的连杆(103)，所述连杆(103)上套接有弹簧(104)，所述连杆(103)另一端设置有导向轮(105)，所述导向轮(105)与贯穿清洁块(10)的清洁导轨(14)相抵接，所述清洁导轨(14)两端分别连接支板(12)；
第二丝杆(15)，其两端分别与设置在滑套(6)上的固定块(16)传动连接，所述第二丝杆(15)一端传动连接第三电机(17)，所述第三电机(17)通过电机座固定连接水平导轨(5)；
清洁辊(18)，其与第二主轴(19)同轴设置，且与凸块(8)外壁贴合，所述第二主轴(19)两端可转动连接滑套(6)，所述第二主轴(19)上设置有第一驱动轮(20)，所述第一转轴(4)上设置有用于驱动第一驱动轮(20)转动的第三驱动轮(22)；以及
驱动辊(23)，其水平阵列在支架(2)下部，用于传送需要进行镀膜的玻璃。
2.根据权利要求1所述的一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：所述侧刮板(101)和正刮板(102)至少设置有两组，平行且间隔设置。
3.根据权利要求1所述的一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：所述清洁辊(18)上环形阵列有多组与凸块(8)外壁接触的刮板(181)。
4.根据权利要求1所述的一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：所述第一驱动轮(20)和第三驱动轮(22)之间设置有分别与其啮合的第二驱动轮(21)，所述第三驱动轮(22)通过第二驱动轮(21)驱动第一驱动轮(20)转动。
5.根据权利要求1所述的一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：所述清洁导轨(14)上设置有多组与导向轮(105)接触的凸起结构。
6.根据权利要求1所述的一种可调溅射范围的磁控溅射玻璃镀膜装置，其特征在于：所述调节辊(3)下部对应设置有集尘装置。
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