KR102158917B1 - 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법, 이에 의해 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물, 기체 분리막의 제조방법 및 기체 분리막 - Google Patents

기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법, 이에 의해 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물, 기체 분리막의 제조방법 및 기체 분리막 Download PDF

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Abstract

본 명세서는 셀룰로오스계 화합물과 불소로 치환된 산을 반응시켜 제1 반응물을 얻는 단계; 및 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법 및 기체 분리막 활성층 형성용 조성물에 관한 것이다.

Description

기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법, 이에 의해 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물, 기체 분리막의 제조방법 및 기체 분리막 {PREPARATION METHOD FOR COMPOSITION FOR PREPARING ACTIVATION LAYER OF GAS SEPARATION MEMBRANE, COMPOSITION FOR PREPARING ACTIVATION LAYER OF GAS SEPARATION MEMBRANE PREPARED THEREOF, PREPARATION METHOD FOR GAS SEPARATION MEMBRANE AND GAS SEPARATION MEMBRANE}
본 출원은 2017년 12월 4일 한국 특허청에 제출된 한국 특허 출원 제 10-2017-0165055호의 출원일 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 명세서는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법, 이에 따라 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물, 기체 분리막의 제조방법 및 기체 분리막에 관한 것이다.
기체 분리막은 지지층, 활성층 및 보호층으로 구성되어 있으며, 활성층의 기공 크기 및 구조적 특성을 이용하여 혼합기체로부터 선택적으로 기체를 분리하는 막이다. 따라서 기체 투과도와 선택도는 막의 성능을 나타내는 중요한 지표로 사용되며, 이러한 성능은 활성층을 구성하는 고분자 물질에 의해 큰 영향을 받는다.
따라서, 기체 분리막의 투과도 및 선택도를 증가시키기 위한 방법의 개발이 요구되고 있다.
한국 특허 공개 10-2013-0137238
본 명세서는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법, 이에 의해 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물, 기체 분리막의 제조방법 및 기체 분리막에 대하여 제공하고자 한다.
본 명세서의 일 실시상태는, 셀룰로오스계 화합물과 불소로 치환된 산을 반응시켜 제1 반응물을 얻는 단계; 및 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는, 전술한 제조방법에 따라 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태는, 하기 화학식 1로 표시되는 단위를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112018120179913-pat00001
상기 화학식 1에 있어서,
n은 단위의 반복 수로, 1 내지 1,000이고,
R1 내지 R3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 -(CO)CF3이고, R1 내지 R3 중 적어도 하나는 -(CO)CF3이다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는, 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법에 따른 방법으로 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제조하는 단계; 다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 다공성 지지체를 형성하는 단계; 및 상기 다공성 지지체 상에 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하여 활성층을 형성하는 단계를 포함하는 기체 분리막의 제조방법을 제공한다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태는, 다공성 지지체; 및 상기 다공성 지지체 상에 구비된 상기 화학식 1로 표시되는 단위를 포함하는 활성층을 포함하는 기체 분리막을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 기체 분리막은, 우수한 이산화탄소 투과도 및 메탄에 대한 이산화탄소 선택도를 가진다.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 기체 분리막을 도시한 것이다.
이하 본 명세서에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.
본 명세서에서 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에서 어떤 부분이 어떤 구성요소를 "포함"한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라, 다른 구성요소를 더 포함할 수 있다는 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태는, 셀룰로오스계 화합물과 불소로 치환된 산을 반응시켜 제1 반응물을 얻는 단계; 및 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법을 제공한다.
셀룰로오스 트리플루오로아세테이트(Cellulose trifluoroacetate, CTFA)의 합성과정에서 반응을 상온에서 수행하면, 반응물을 혼합한 후 2시간 내지 3시간 정도 휘젓는(stirring) 과정이 필요하고, 이후 1시간정도 상온에서 방치하는 과정이 필요하다. 그러나, 상온보다 높은 온도에서 반응하게 되는 경우, 1시간 내지 1.5시간 동안 반응시켜 반응을 종결할 수 있고, 상온에서 방치하는 시간도 필요없어, 반응 시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
또한, CTFA 합성과정에서 반응 시간을 단축하는 것은, 합성시 사용되는 불소로 치환된 산과 불소로 치환된 산무수물이 강한 산이기 때문에 장시간 산에 노출되면 셀룰로오스 중합체가 깨질 수 있는데, 산에 노출되는 시간을 줄임으로써 셀룰로오스 중합체가 깨지는 현상을 방지할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산은 불소가 적어도 하나 치환된 탄소수 2 내지 10의 알칸산일 수 있다. 상기 알칸산은, 아세트산(acetic acid), 프로피온산(propionic acid), 부티르산(butyric acid), 발레르산(valeric acid), 카프로산(caproic acid), 에난트산(enanthic acid), 카프릴산(caprylic acid), 펠라르곤산(pelargonic acid), 또는 카프르산(capric acid) 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산은, 불소가 3개 치환된 탄소수 2 내지 10의 알칸산일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산은 불소가 3개 치환된 탄소수 2 내지 6의 알칸산일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 알칸산은 바람직하게는 아세트산일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산은 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic acid, TFA) 일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산은 99% 이상의 고순도의 산일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물은 불소가 적어도 하나 치환된 탄소수 3 내지 10의 산무수물일 수 있다. 상기 알칸산은 전술한 바와 같다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물은 불소가 3개 치환된 탄소수 3 내지 10의 산무수물일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물은 불소가 3개 치환된 탄소수 3 내지 6의 산무수물일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 산무수물은 아세트산무수물(acetic anhydride), 아세트포름산무수물(acetic formic anhydride), 아세트프로피온산무수물(acetic propionic anhydride), 프로피온산무수물(propionic anhydride), 아세트부티르산무수물(acetic butyric anhydride), 부티르프로피온산무수물(butyric propionic anhydride), 숙신산무수물(succinic anhydride), 또는 글루타르산무수물(glutaric anhydride) 등일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 산무수물은 바람직하게는 아세트산무수물일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물은 트리플루오로아세트산무수물(Trifluoroacetic anhydride, TFAA) 일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물은 99% 이상의 고순도의 산무수물일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 셀룰로오스계 화합물은 셀룰로오스일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 상온보다 높은 온도는 30℃ 내지 80℃일 수 있다. 구체적으로, 상기 상온보다 높은 온도는 40℃ 내지 70℃일 수 있고, 더 바람직하게는 50℃ 내지 60℃일 수 있다. CTFA의 합성과정에서 반응 온도를 상온에서 수행하면, 반응물을 혼합한 후 2시간 내지 3시간 정도 휘젓는(stirring) 과정이 필요하고, 이후 1시간정도 상온에서 방치하는 과정이 필요하다. 그러나, 상온보다 높은 온도에서 반응하게 되는 경우, 1시간 내지 1.5시간 동안 반응시켜 반응을 종결할 수 있고, 상온에서 방치하는 시간도 필요없어, 반응시간을 단축할 수 있는 효과가 있다.
또한, CTFA 합성과정에서 반응 시간을 단축하는 것은, 합성시 사용되는 TFA와 TFAA가 강한 산이기 때문에 장시간 산에 노출되면 셀룰로오스 중합체가 깨질 수 있는데, 산에 노출되는 시간을 줄임으로써 셀룰로오스 중합체가 깨지는 현상을 방지할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계는, 상기 불소로 치환된 산무수물을 10분 내지 60분동안 적하시키는 것일 수 있다. 바람직하게는 15분 내지 50분동안 적하시키는 것일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계의 적하속도는 2ml/min 내지 5ml/min일 수 있다. 구체적으로 2ml/min 내지 3ml/min인 것이 바람직하다. 상기 적하시키는 속도가 2ml/min 미만인 경우, 반응 시간이 많이 소모되어 경제적이지 못하고, 5ml/min 초과인 경우 제1 반응물과 상기 불소로 치환된 산무수물의 교반이 충분히 되지 않을 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법은, 상기 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계 이후, 형성된 혼합물을 제1 유기용매에서 침전하는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 유기용매는 극성 용매일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 유기용매는 이써(ether) 용매일 수 있고, 더 바람직하게는 디에틸이써(diethyl ether)일 수 있다.
상기 불소로 치환된 산무수물을 상기 제1 반응물에 적하시키면, 겔(gel) 상태의 혼합물이 얻어진다. 이 겔 상태의 혼합물을 제1 유기용매에 조금씩 따라주면, 불소로 치환된 셀룰로오스계 화합물은 침전물로 가라앉게 되고, 불소로 치환된 산 또는 불소로 치환된 산무수물은 제1 유기용매에 용해되어 있다. 즉, 상기 제1 유기용매는 불소로 치환된 셀룰로오스계 화합물을 용해시키지 않으며, 불소로 치환된 산 또는 불소로 치환된 산무수물을 잘 용해시키는 것이 바람직하다.
구체적으로, 디에틸이써에서 침전하는 경우, 디에틸이써에 용해도가 좋지 않은 CTFA는 침전물로 가라앉게 되며, 디에틸이써에 용해도가 좋은 TFA 또는 TFAA는 용해되어 있다. 따라서, CTFA를 침전물로 얻을 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물은, 상기 불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계 이후, 형성된 혼합물을 제1 유기용매에 침전하여 형성된 침전물을 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법은, 상기 침전물을 제2 유기용매에 녹이는 단계를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 유기용매는 니트로메탄(nitromethane)일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법은, 셀룰로오스계 화합물과 불소로 치환된 산을 반응시켜 제1 반응물을 얻는 단계; 불소로 치환된 무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시켜 혼합물을 얻는 단계; 상기 혼합물을 제1 유기용매에 침전시켜 침전물을 얻는 단계; 및 상기 침전물을 제2 유기용매에 녹이는 단계를 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물은 전술한 침전물 외에 니트로메탄(nitromethane)을 용매로 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물은 전술한 침전물 및 니트로메탄(nitromethane)으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 니트로메탄의 함량은 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물 전체 중량을 기준으로 95wt% 내지 97.1wt% 일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물 전체 중량을 기준으로 셀룰로오스계 화합물의 함량은 2.9wt% 내지 5wt% 일 수 있다. 상기 셀룰로오스계 화합물의 함량이 상기 범위를 만족하는 경우, 이산화탄소와 -CF3 작용기와의 흡착이 용이해져서, 기체 분리막은 이산화탄소 투과도 및 선택도를 높일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태는, 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법에 따라 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제공한다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태는, 하기 화학식 1로 표시되는 단위를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제공한다.
[화학식 1]
Figure 112018120179913-pat00002
상기 화학식 1에 있어서,
n은 단위의 반복 수로, 1 내지 1,000이고,
R1 내지 R3은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소 또는 -(CO)CF3이고, R1 내지 R3 중 적어도 하나는 -(CO)CF3이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1은 -(CO)CF3이고, 상기 R2 및 R3은 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R2는 -(CO)CF3이고, 상기 R1 및 R3은 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R3은 -(CO)CF3이고, 상기 R1 및 R2는 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R2는 -(CO)CF3이고, 상기 R3은 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 및 R3은 -(CO)CF3이고, 상기 R2는 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R2 및 R3은 -(CO)CF3이고, 상기 R1은 수소일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 내지 R3은 -(CO)CF3일 수 있다.
상기 R1 내지 R3에 -(CO)CF3에 비해 사슬 길이가 긴 치환기가 도입될 경우, 선택도에 악영향을 미칠 수 있다. 길어진 사슬로 인해 활성층을 구성하는 고분자 사슬 간의 packing density가 감소하면서, 이산화탄소 및 메탄의 투과도가 동시에 증가하고 이에 따라 CO2/CH4 선택도가 감소하기 때문이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 n이 2 이상인 경우, 괄호 안의 구조는 서로 같거나 상이할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 단위 외에 용매를 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 용매는 전술한 제2 유기용매에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 n은 단위의 반복 수로 100 내지 500일 수 있다. 바람직하게는 100 내지 300 일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1로 표시되는 단위의 중량평균분자량은 100g/mol 내지 200,000g/mol일 수 있다. 바람직하게는 10,000g/mol 내지 200,000g/mol일 수 있고, 더 바람직하게는 100,000g/mol 내지 200,000g/mol 일 수 있다. 상기 화학식 1로 표시되는 단위의 중량평균분자량이 상기 범위를 만족하는 경우, 기체 분리막의 이산화탄소의 투과도를 높이고, 메탄 기체 대비 이산화탄소의 선택도를 향상시킬 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태는, 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법에 따른 방법으로 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제조하는 단계; 다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 다공성 지지체를 형성하는 단계; 및 상기 다공성 지지체 상에 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하여 활성층을 형성하는 단계를 포함하는 기체 분리막의 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는, 다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 다공성 지지체를 형성하는 단계; 및 상기 다공성 지지체 상에 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하여 활성층을 형성하는 단계를 포함하는 기체 분리막의 제조방법을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 다공성 기재는 기체 분리막의 지지체로 사용되는 재질이면 제한 없이 사용될 수 있으며, 예를 들어, 폴리에스테르, 폴리프로필렌, 나일론, 폴리에틸렌, 또는 부직포일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 구체적으로, 상기 다공성 기재는 부직포를 사용할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 친수성 고분자는 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리메틸클로라이드, 또는 폴리비닐리덴플루오라이드 등이 사용될 수 있으나, 반드시 이들로 제한되는 것은 아니다. 구체적으로, 상기 친수성 고분자는 폴리설폰일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 친수성 고분자 용액은 상기 친수성 고분자를 용매에 녹여 형성할 수 있다. 상기 용매는 친수성 고분자를 용해할 수 있는 용매라면 제한없이 사용할 수 있다. 예를 들어, 아세톤(acetone), 아세토니트릴(acetonitrile), 테트라하이드로퓨란(THF), 디메틸설폭사이드(DMSO), 디메틸포름아미드(DMF), 또는 헥사메틸포스포아미드(HMPA) 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 친수성 고분자는 친수성 고분자 용액을 기준으로 12 중량% 내지 20 중량% 포함될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 다공성 지지체 상에 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하는 방법은 침지, 스프레이 또는 코팅 등의 방법을 이용할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 다공성 지지체 상에 전술한 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하는 방법은 슬롯 코팅 방법일 수 있다.
본 명세서의 또 하나의 실시상태는, 전술한 기체 분리막의 제조방법에 따라 제조된 기체 분리막을 제공한다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태는, 다공성 지지체; 및 상기 다공성 지지체 상에 구비된 상기 화학식 1로 표시되는 단위를 포함하는 활성층을 포함하는 기체 분리막을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 다공성 지지체는 다공성 기재 및 친수성 고분자를 포함할 수 있다. 즉, 상기 다공성 지지체는, 상기 다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 형성된 것일 수 있다. 상기 다공성 기재와 상기 친수성 고분자 용액은 전술한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막의 두께는 100㎛ 내지 250㎛일 수 있다. 상기 기체 분리막의 두께가 상기 범위를 만족하는 경우, 기체 분리막의 기체 투과도가 감소되는 현상을 방지할 수 있는 효과가 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 다공성 지지체의 두께는 60㎛ 내지 150㎛일 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니고 필요에 따라 조절될 수 있다. 또한, 상기 다공성 지지체의 기공 크기는 1㎚ 내지 500㎚인 것이 바람직하나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 활성층의 두께는 1㎛ 내지 5㎛일 수 있고, 더 바람직하게는 1㎛ 내지 3㎛일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막은 메탄을 기준으로 이산화탄소의 선택도가 5 내지 40일 수 있다. 구체적으로 10 내지 35일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 기체 분리막은 이산화탄소 투과도가 10 내지 100일 수 있다. 구체적으로 12 내지 80일 수 있다.
본 명세서에 있어서, "이산화탄소(CO2) 투과도"는 셀(Cell) 내부에 기체 분리막을 체결한 후 기체 분리막에 CO2 단일 기체를 80 psi로 밀어주고, 기체 분리막을 통과한 후 투과된CO2의 유량을 유량계(flowmeter)로 측정할 수 있다. 상기와 같은 방법으로 기체의 종류를 바꾸어 메탄(CH4)의 기체 투과도를 측정한 후 메탄을 기준으로 이산화탄소의 선택도(CO2 투과도/CH4 투과도)를 계산하여 CO2/CH4 선택도를 측정할 수 있다.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 기체 분리막의 구조를 예시한 것이다.
도 1에는 다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 형성한 다공성 지지체(10) 및 상기 다공성 지지체(10) 상에 구비된 활성층 형성용 조성물을 도포하여 형성된 활성층(11)을 포함하는 기체 분리막(100)이 예시되어 있다. 상기 활성층 형성용 조성물은 상기 화학식 1로 표시되는 단위를 포함할 수 있다.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세히 설명한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 상술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지는 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
<실험예 1>
<실시예 1>
Cellulose powder 10g, TFA(Trifluoroacetic acid) 200ml 를 질소 분위기 하에서 저어주었다.(stirring) 그 후, TFAA(Trifluoroacetic anhydride) 70ml 를 질소 분위기를 유지하면서 1시간 동안 적하(dropping)하여 60℃에서 1시간 30분 반응시켰다. 반응 후 겔(gel) 상태의 물질을 디에틸이써(diethyl ether)용매에 조금씩 따라주어 CTFA(Cellulose trifluoroacetate)를 침전시켰다.
니트로메탄에 상기 CTFA을 5wt% 넣어주어 활성층 형성용 조성물을 제조하였다.
다공성 부직포에 폴리설폰 용액을 코팅하여 준비한 UF 지지체 상에 상기 활성층 형성용 조성물을 슬롯 코팅으로 도포하여 기체 분리막을 제조하였다.
<실시예 2>
실시예 1에서, CTFA 5wt% 대신 CTFA 2.9wt%를 사용하여 활성층 형성용 조성물을 제조한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기체 분리막을 제조하였다.
<비교예 1>
실시예 1에서, CTFA 5wt% 대신 Cellulose acetate 5wt%를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기체 분리막을 제조하였다.
<비교예 2>
실시예 1에서, CTFA 5wt% 대신 Cellulose acetate 2.5wt%를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기체 분리막을 제조하였다.
<비교예 3>
실시예 1에서, CTFA 5wt% 대신 하기 구조의 Fluorinated cellulose acetate 5wt%를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기체 분리막을 제조하였다.
<비교예 4>
실시예 1에서, CTFA 5wt% 대신 하기 구조의 Fluorinated cellulose acetate 2.5wt%를 사용한 것을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법으로 기체 분리막을 제조하였다.
[Fluorinated cellulose acetate]
Figure 112018120179913-pat00003
상기 실시예 1에서, TFAA를 첨가한 후 반응 시간 경과에 따른 치환도를 NMR로 분석한 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
상기 실시예 1 및 2, 비교예 1 내지 4에 의하여 제조된 기체 분리막에 대하여, TFC 샘플을 만들어서 기체 투과도를 평가하였다. 이산화탄소 투과도, 메탄 투과도, 및 메탄 대비 이산화탄소 투과도 값을 계산하여 하기 표 2에 나타내었다.
상온에서 기체 투과 셀의 상부에 Pressure Regulator를 이용하여 일정 압력(50psi, 80psi, 100psi, 200psi 등)의 가스를 주입하여 막 상부와 하부의 압력차로 인한 기체 투과를 유도했다. 이때 분리막을 투과한 기체의 유량을 bubble flowmeter를 이용하여 측정하고 안정화 시간(> 1 hour)을 고려하여 분리막의 투과도를 평가하였다.
반응 시간 치환도(%)
0min 43
30min 42
60min 45
90min 40
120min 45
150min 45
180min 47
300min 48
24hr 73
상기 표 1의 결과에 따르면, 반응 후 300분까지는 치환도 45% 내외에서 큰 변화가 없음을 확인할 수 있었다. 24시간 반응시킨 70% 이상의 불소 치환 고분자는 기체 분리막으로 사용하지 못하였다. 불소 치환도가 높으면 불소에 의한 기체 흡착 능력이 향상될 수 있으나, 그에 따라 고분자의 용해도가 감소한다. 합성한 고분자를 사용하기 위해서는 고분자를 특정 용매, 즉 니트로메탄에 녹여 사용해야 하는데, 불소 치환도가 지나치게 높은 고분자의 경우, 이를 녹일 수 있는 용매가 없기 때문에 기체 분리막으로 코팅할 수 있는 가공성이 떨어지게 된다. 따라서, 본 발명의 일 실시상태에 따르면, TFAA 첨가 후 1시간 30분 정도 반응시킨 치환도 40~45% 의 CTFA를 활성층 형성용 조성물로 사용하는 경우에, 니트로메탄에도 적당히 녹으면서 활성층 형성 후 건조과정이 용이하게 된다.
활성층 고분자 물질 함량
(중량%)
PCO2
(GPU)
PCH4
(GPU)
Selectivity
(CO2/CH4)
실시예 1 CTFA 5 12.5 0.394 32
실시예 2 CTFA 2.9 73 5 13
비교예 1 Cellulose acetate 5 5.7 2.8 2.0
비교예 2 Cellulose acetate 2.5 18.0 8.0 2.3
비교예 3 Fluorinated cellulose acetate 5 25.5 5.8 4.4
비교예 4 Fluorinated cellulose acetate 2.5 80.7 22.6 3.6
상기 CO2/CH4 선택도(Selectivity)는 메탄 기체를 기준으로한 이산화탄소 기체의 기체 선택도를 의미한다.상기 표 2에 따르면, 실시예 1 및 2에 따른 기체 분리막은 메탄을 기준으로 이산화탄소의 선택도가 10 이상으로서, CTFA(Cellulose trifluoroacetate)를 활성층에 포함하는 기체 분리막은 이산화탄소 투과도 및 선택도가 우수한 결과를 나타내었다.
실시예 1에 따른 CTFA를 활성층에 포함하는 기체 분리막은, 비교예 1에 따른 셀룰로오스 아세테이트를 활성에 포함하는 기체 분리막과 대비하여, 이산화탄소의 투과도는 2배 이상 더 높고, 메탄의 투과도는 7배 더 낮아서, 16 배 이상 향상된 CO2/CH4 선택도를 가진다.
마찬가지로, 실시예 2에 따른 CTFA를 활성층에 포함하는 기체 분리막은, 비교예 2에 따른 셀룰로오스 아세테이트를 활성층에 포함하는 기체 분리막과 대비하여, 이산화탄소의 투과도는 4배 이상 더 높고, 메탄의 투과도는 1.6배 더 낮아서, 5.6 배 이상 향상된 CO2/CH4 선택도를 가진다.
또한, 실시예 1 및 2에 따른 기체 분리막은 비교예 3 및 4에 따른 기체 분리막에 비해 2배, 많게는 8배 이상의 CO2/CH4 선택도를 가진다. 이를 통해, 치환기 사슬의 길이가 길어지면 기체의 투과도는 증가하나 선택도가 감소하는 것을 확인할 수 있다. 이는 길어진 사슬로 인해 활성층을 구성하는 고분자 사슬 간의 packing density가 감소하였기 때문으로, 이산화탄소 및 메탄의 투과도가 동시에 증가하면서 선택도가 감소한 것이다.
이상을 통해 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 발명의 범주에 속한다.
100: 기체 분리막
10: 다공성 지지체
11: 활성층

Claims (20)

  1. 셀룰로오스계 화합물과 불소로 치환된 산을 반응시켜 제1 반응물을 얻는 단계; 및
    불소로 치환된 산무수물을 상온보다 높은 온도에서 상기 제1 반응물에 적하시키는 단계
    를 포함하는 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법으로서,
    상기 상온보다 높은 온도는 50℃ 내지 60℃인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물 전체 중량을 기준으로 셀룰로오스계 화합물의 함량은 2.9wt% 내지 5wt%인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 불소로 치환된 산은 불소가 적어도 하나 치환된 탄소수 2 내지 10의 알칸산인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 불소로 치환된 산무수물은 불소가 적어도 하나 치환된 탄소수 3 내지 10의 산무수물인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  5. 청구항 1에 있어서, 상기 불소로 치환된 산은 트리플루오로아세트산(Trifluoroacetic acid) 인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 불소로 치환된 산무수물은 트리플루오로아세트산무수물(Trifluoroacetic anhydride) 인 것인 기체 분리막 활성층 형성용 조성물의 제조방법.
  7. 삭제
  8. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 따라 제조된 기체 분리막 활성층 형성용 조성물.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 청구항 1 내지 6 중 어느 한 항에 따른 방법으로 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 제조하는 단계;
    다공성 기재 상에 친수성 고분자 용액을 도포하여 다공성 지지체를 형성하는 단계; 및
    상기 다공성 지지체 상에 상기 기체 분리막 활성층 형성용 조성물을 도포하여 활성층을 형성하는 단계
    를 포함하는 기체 분리막의 제조방법.
  15. 청구항 14에 있어서, 상기 다공성 기재는 다공성 부직포인 것인 기체 분리막의 제조방법.
  16. 청구항 14에 있어서, 상기 활성층 형성용 조성물을 도포하는 방법은 슬롯 코팅 방법인 것인 기체 분리막의 제조방법.
  17. 청구항 14에 있어서, 상기 친수성 고분자는 폴리설폰, 폴리에테르설폰, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 폴리메틸클로라이드, 폴리비닐리덴플루오라이드 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 것인 기체 분리막의 제조방법.
  18. 삭제
  19. 삭제
  20. 삭제
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