KR102030429B1 - 이온성 실리콘 및 막형성제를 함유하는 퍼스널 케어 조성물 - Google Patents

Abstract

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 적어도 1종의 말단-관능화된 실리콘 및 적어도 1종의 막형성제를 포함한다.

Description

이온성 실리콘 및 막형성제를 함유하는 퍼스널 케어 조성물{PERSONAL CARE COMPOSITIONS CONTAINING IONIC SILICONE AND FILM-FORMING AGENT}

본 출원은 2012년 1월 4일자 미국 가특허출원 제 61/582,914호를 우선권으로 주장하는 2013년 1월 3일자 미국특허출원 제13/733,482의 일부계속출원이며, 상기 특허출원들의 전체 내용은 본 명세서에 참조문헌으로 통합된다.

본 발명은 1종 이상의 이온성 실리콘 성분과 적어도 1종의 막형성제를 함유하는 퍼스널 케어 조성물에 관한 것이다.

이온성 실리콘으로 제제화된 퍼스널 케어 제품은 화학가교된 폴리머 막 형성제로 제제화된 퍼스널 케어 제품인 것으로 알려져 있다.

그러나 이온성 실리콘 성분 및 막형성제 양자를 함유하는 퍼스널 케어 제품은 아직까지 제시된 바 없는 것으로 생각된다.

본 발명에 의하면, (a) 하기 식(I)을 갖는 적어도 1종의 말단-관능화 이온성 실리콘과 (b) 0.1 내지 99중량부의 적어도 1종의 막형성제를 포함하여 구성되는 퍼스널 케어 조성물이 제공된다:

M¹ _a M² _b　M³ _cD¹ _d　D² _e　D³ _f　T¹ _g T² _h　T³ _i Q_j (I)

여기서,

M¹　= R¹R²R³SiO_{1 /2}

M²　= R⁴R⁵R⁶SiO_{1 /2}

M³　= R⁷R⁸R⁹SiO_{1 /2}

D¹　= R¹⁰R¹¹SiO_{2 /2}

D²=R¹²R¹³SiO_{2 /2}

D³=R¹⁴R¹⁵SiO_{2 /2}

T¹　= R^l6Si0_{3 /2}

T² = R¹⁷SiO_{3 /2}

T³ 　= R¹⁸Si0_{3 /2}

Q = Si0_{4 / 2} 이고_,

여기서

R¹, R², R³, R⁵, R⁶, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹, R¹³, R¹⁵　및 R¹⁶은 각각 독립적으로 1 내지 내지 60개의 탄소원자를 가지는 지방족, 방향족 또는 플루오로 1가 탄화수소 기이고;

R⁴, R¹²　및 R¹⁷은　각각 독립적으로 이온-쌍을 보유하며 식 -A-I^{x -}M_n ^{y +}을 가지는 1가의 기 또는 식 -R'-N⁺(R")₂-R'"-I^-을 가지는 쯔비터이온이고, 여기서 A는 적어도 하나의 스페이싱 원자를 가지는 스페이싱 모이어티이고, 상기 스페이싱 모이어티는 2가의 탄화수소 기 및 하이드로카본옥시 기로 이루어진 군에서 선택되고, I는 이온성 기이고, R'는 1 내지 20개의 탄소원자를 가지는 2가의 탄화수소 기이고, R"는 1 내지 20개의 탄소원자를 가지는 1가의 탄화수소 기이고, R'"는 2 내지 20개의 탄소원자를 가지는 2가의 탄화수소 기이며, 각각의 M은 독립적으로 수소 또는 알칼리금속, 알칼리토금속, 전이금속, 4차 암모늄 기 및 포스포늄 기에서 독립적으로 선택되는 양이온이고;

R⁷, R¹⁴　및 R¹⁸은 　각각 독립적으로 -CH₂CH(R¹⁹)(C_nH_2n)-0-(C₂H₄0)_o-(C₃H₆O)_p-(C₄H₈0)_q-R¹⁹이고, 　여기서 R¹⁹는 수소 또는 위에서 정의한 R¹기이고;

첨자 x 및 y는 양의 정수이나, 단 x = ny이며; 각 첨자 n은 독립적으로 0 내지 6의 값을 가지고, 첨자 o, p 및 q는 각각 독립적으로 0 내지 1000의 값을 가지나, 단 o + p + q ≥ 1이고; 그리고,

첨자 a, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 각각 독립적으로 영(0) 또는 양의 정수이나, 단 2 ≤ a+b+c+d+e+f+g+h+i+j ≤ 4500이고, b ≥ 2이다.

본 발명 퍼스널 케어 조성물의 말단-관능화 이온성 실리콘 성분은 본 조성물에서 이온성 필러로서 작용하는, 특정 치수의 이온-리치 도메인(ion-rich domains)에 대한 이온성 기들의 응집체를 형성한다. 이러한 이온성 응집체들은 가교로서 기능하고, 재료의 모듈러스를 증가시킨다. 화학 가교 폴리머 막형성제는 그 화학 가교들이 몇몇 외력(예를 들어, 가열 또는 전단)으로 인해 끊어지면 그 시스템의 일체성이 영구적으로 상실되는 것과는 달리, 이온 가교들은 이러한 외력이 가해질 때 이온 클러스터가 분해되고 외력이 제거되면 다시 응집하여 이온클러스터를 재구성한다. 이온 결합의 상대적으로 낮은 결합 강도로 인하여, 이온성 실리콘 만으로 제제화된 퍼스널 케어 조성물은 공지 및 기존의 화학가교 폴리머 막형성제로 배합된 유사한 퍼스널 케어 조성물과 비교할 때, 동일한 수준의 장점들 제공하는데 충분하지 않을 수 있다.

본 명세서 및 특허청구의 범위에서, 다음의 용어들 및 표현은 아래 제시하는 바와 같이 이해되어야 한다.

특허청구의 범위를 포함하는 본 명세서에서 사용된, 단수 형태의 "하나의",및 "상기"는 복수형태를 포함하며, 특정 수치에 대한 참조는 문맥상 달리 명시하지 않는 한, 적어도 그 특정 값을 포함한다.

실시예 또는 달리 표시하는 곳 이외에, 수치 및 범위는 지시된 수치와 그 근사값을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 이러한 범위가 표현될 때, 다른 구체예들은 하나의 특정 값과 다른 특정 값 또는 하나의 특정 값 내지 다른 특정 값을 포함한다. 마찬가지로, 값이 근사치로서 표현될 때, 예를 들어 수식어 "약"을 사용할 때, 그 특정 값은 또 하나의 구체예를 구성하는 것임을 이해하여야 한다.

또한 여기에서 언급된 수치 범위는 그 범위 내의 아-범위를 포함하는 것으로 의도된 것임을 이해하여야 한다.

본 명세서에서 설명된 모든 방법들은 문맥상 달리 명시하지 않는 한 임의의 적절한 순서로 수행될 수 있다. 본 명세서에서 사용된 일부 및 모든 예들 및 예시 용어(예를 들어, '~과 같은')은 본 발명을 더 잘 이해할 수 있도록 의도한 것이여, 달리 청구하지 않는 한 본 발명의 범위에 제한을 가하고자 한 것은 아니다. 본 명세서에 사용된 언어는 본 발명의 구현에 필수적인 임의의 비청구 요소들을 지시하는 것으로 해석되지 않아야 한다.

본 명세서에서 사용된 용어 "포함하여 구성되는", "포함하는", "함유하는", "특징으로 하는" 그리고 이의 문법적 등가 표현은 추가적인, 제시되지 않은 요소들, 방법 단계들을 배제하지 않는 개방형 용어이며, 보다 제한적인 용어 "구성되는" 및 "본질적으로 구성되는"을 포함하는 것으로 이해되어야 한다.

또한, 본 명세서에서 명시적으로 또는 암묵적으로 제시된 및/또는 청구항에서 언급된 구조적, 조성적 및/또는 기능적으로 연관된 화합물, 재료 또는 물질에 속하는 임의의 화합물, 재료 또는 물질은 이들의 집단 및 모든 조합들에 개별적인 대표자로 포함된 것으로 이해되어야 한다.

본 발명의 말단-관능화된 이온성 실리콘(I)은, 본 조성물에서 이온성 필러로서 작용하는, 예를 들어 40 내지 200nm의 치수를 가지는 이온-리치 도메인(ion-rich domains)에 대한 이온성 기들의 응집체를 형성한다. 이러한 이온성 응집체들은 가교로서 기능하고, 재료의 모듈러스를 증가시킨다. 가교로서 기능하는 것 이외에도, 상기 응집체들은 또한 보강 필러 입자로도 기능하여, 이를 함유하는 본 퍼스털 케어 조성물의 모듈러스를 더 증가시킬 수도 있다. 또한, 이온 상호작용의 가역적 성질로 인해, 특정 수준(예를 들어, 약 180℃)으로 가열되면, 상기 이온성 응집체들은 다소 탈응집하여 냉각시에 열역학적으로 보다 안정한 이온성 응집체들을 형성한다. 이러한 현상의 결과로서, 이러한 물질의 점도는 가열/냉각 사이클을 반복하는 동안 계속 증가한다. 게다가, 상기 이온성 응집체들은 물과 같은 극성용매에 용해되고 용매의 제거로 재형성될 수 있다. 또한 이온성 기들의 존재는 본 실리콘(I)을 모이스쳐라이저, 선스크린 등과 같은 퍼스널 케어 용도에 통상적으로 이용되는 친수성 및 친유성 성분들과 예상외의 상용성을 갖게 한다.

본 발명의 말단 관능화된 이온성 실리콘(I)의 상기한 바와 같은 특유의 물리화학 특성들은 립 칼라 제제들에서 높은 전달저항성 및 고광택, 선스크린제 및 기타 퍼스널 케어 제품 들에서 활성 성분 및 물질의 방출조절 등과 같은 매우 바람직한 제품 성능 특성을 제공하는 중요한 역할을 하는 것으로 생각된다.

본 발명의 말단-관능화된 이온성 실리콘(I)에서, R¹, R², R³, R⁵, R⁶, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹, R¹³, R¹⁵　및 R¹⁶ 기 각각은 바람직하게 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소-펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸; n-헥실과 같은 헥실; n-헵틸과 같은 헵틸; n-옥틸과 같은 옥틸: n-노닐과 같은 노닐; n-데실과 같은 데실, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸 및 메틸사이클로헥실 라디칼과 같은 사이클로알킬 라디칼이며, 대표적인 방향족 기는 페닐, 나프틸; 오르쏘-, 메타- 및 파라-톨릴, 자일릴, 에틸페닐 및 벤질을 포함한다.

R⁴, R¹²　및 R¹⁷기에서, 이온-쌍 -A-I^{x -}M_n ^{y +}의 2가의 탄화수소 스페이싱 기(spacing group) A는 예를 들어 -(CHR²⁰)_m- 와 같은 알킬렌 기((여기서 R²⁰은 수소 또는 위에서 정의한 R¹　기이고, 첨자 m은 1 내지 100의 범위, 바람직하게 1 내지 20의 범위에 있는 양의 정수임), 또는 -(CHR^2l)_kC₆H₄(CH₂)_r-CH₂CH(R')(CH₂)_kC₆H₄- 또는 -CH₂CH(R²²)(CH₂)_rC₆H₃R²³와 같은 아릴렌 기(여기서 R'는 수소 또는 위에서 정의한 R¹　기이고, R²¹은 수소 또는 위에서 정의한 R¹기이고, R²²는 수소 또는 위에서 정의한 R¹　기이고, R²³은 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 1가의 라디칼이며, 첨자 k 및 r은 영(0) 또는 양의 정수이나, 단 0 ≤ k + r ≤ 100임)이다.

또한, 2가의 탄화수소 스페이싱 기 A는 예를 들어 -(CHR²⁴)_s-(0-CHR²⁴CH₂)_s'-0-(CH₂)_t-에서 선택되는 2가의 하이드로카본옥시 기이고, 여기서 R²⁴는 수소 또는 위에서 정의한 R¹　기이고, s는 0 내지 50의 값을 가지고, s'는 1 내지 50의 값을 가지며, t는 0 내지 50의 값을 가지나, 단 1 ≤ s + s' + t ≤ 100이다.

상기 이온-쌍-보유 기와 상기 쯔비터이온에 있는 I^-는 바람직하게 설포네이트 -SO₃ ^-　, 설페이트 -OSO₃ ^-및 그 동종물이다.

양이온 M⁺의 예는 Li, Na, K, Cs, Mg, Ca, Ba, Zn, Cu, Fe, Ni, Ga, Al, Mn, Cr, Ag, Au, Pt, Pd, Ru 및 Rh를 포함한다.

상기 쯔비터이온에서, R'은 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가의 탄화수소 라디칼, 예를 들어 -(CH₂)_s-이고; R"는 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼, 예를 들어 -CH₂CH₃이고, R"'는 2 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가의 탄화수소 라디칼, 예를 들어 -(CH₂)₄- 이다.

말단-관능화된 이온성 실리콘(I)에 있어서, R⁷, R¹⁴　및 R¹⁸은 　각각 독립적으로 -CH₂CH(R¹⁹)(C_nH_2n)-0-(C₂H₄0)_o-(C₃H₆O)_p-(C₄H₈0)_q-R¹⁹이고, 　여기서 R¹⁹는 수소 또는 위에서 정의한 R¹기이고; 각 첨자 n은 독립적으로 0 내지 6의 값을 가지고, 첨자 o, p 및 q는 각각 독립적으로 o + p + q ≥ 1 인 것을 전제로 하는 값을 갖는다.

말단-관능화된 이온성 실리콘(I)에 있어서, 첨자 a, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 각각 독립적으로 영(0) 또는 양수이나, 단, 2 ≥ a+b+c+d+e+f+g+h+i+j ≥ 4500 이고, b ≥ 2이다. 하나의 구체예에서, 첨자 b는 2이고; 첨자 a, c, e, f, g, h, i, j, k, 1 및 m은 0이고; 첨자 d는 5 내지 1000, 더 바람직하게 10 내지 500, 더더욱 바람직하게 10 내지 200이고, R⁵, R⁶, R¹⁰　및 R¹¹은 메틸 또는 에틸이고; R¹⁰은 -CH₂CH(H 또는 CH₃)-A-SO₃M 이고; A는 2가의 벤질 라디칼이고; M은 Li, Na, K, Ag, 4차 암모늄 기, 암모늄 염 또는 포스포늄 기이다.

말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)의 예는 소듐 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 은(silver) 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 마그네슘 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 칼슘 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 아연 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산 및 트리에탄올암모늄 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실란을 포함한다.

본 발명에 따르는 막형성제의 비한정적인 예는 오가노실록산 레진들, 탄화수소 폴리머들, 적어도 1종의 헤테로원자를 함유하는 탄화수소 폴리머들, 불소원자-함유 탄화수소 폴리머들 및 클레이들을 포함한다.

상기 오가노실록산 막형성제는 관계식 R_nSiO_(4-n)/2 (여기서 n은 0과 1.50 사이의 값이고, R은 독립적으로 메틸, 트리플루오로메틸, 페닐렌메틸 및 페닐 기에서 선택됨)을 만족하는 상호 간 비율로 R₃SiO_{1 /2} , R₂SiO, RSiO_{3 /2}, 및 Si0₂　단위들의 조합을 포함하여 구성될 수 있다.

본 발명에 따르는 상기 탄화수소 폴리머 막형성제는 폴리부텐, 폴리이소부텐, 폴리사이클로펜타디엔, 바세린 및 광유로 이루어진 군에서 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 따르는 막형성제로 유용한 적어도 1종의 헤테로원자를 함유하는 상기 탄화수소 폴리머는 폴리비닐피롤리돈 (PVP)/에이코센 코폴리머, PVP/헥사데센 코폴리머, 아크릴레이트 코폴리머 및 폴리비닐 알코올로 이루어진 군에서 선택될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.

본 발명에 따르는 막형성성인 클레이의 유용한 예는 변성 클레이들, 비변성 클레이들, 클로이사이트 30B, 몬모릴라이트 (NaMMT), LDH 및 벤토나이트를 포함할 수 있다.

본 발명에 따르는 퍼스널 케어 조성물의 비한정적인 예는 스프레이, 스틱 및 롤-온 제품을 포함하는 데오도런트, 발한억제제, 데오도런트/발한억제제, 쉐이빙제, 스킨 로션, 모이스쳐라이져, 토너, 목욕제, 클렌징제, 샴푸, 콘디셔너, 조합된 샴푸/콘디셔너, 무스, 스타일링 겔, 헤어스프레이, 모발염색제, 모발색제, 모발표백제, 웨이빙제, 헤어스트레이트너, 네일폴리시, 네일폴리시 리무버, 네일 크림 및 로션, 각질 연화제, 썬스크린, 방충제, 노화방지제, 립스틱, 화운데이숀, 페이스 파우더, 아이라이너, 아이쉐도우, 블러쉬(blushes), 메이크업, 마스카라, 모이스쳐라이징 조제, 화운데이숀, 바디 및 핸드 조제, 스킨케어 조제, 페이스 및 넥 조제, 토닉, 드레싱, 헤어 그루밍 에이드, 에어로졸 픽사티브, 향 조제, 애프터쉐이브, 메이크-업 조제, 소프트 포커스 용품, 밤 및 낮 스킨케어 조제, 비-착색 모발 조제, 태닝 조제, 합성 및 비-합성 비누 바, 핸드 리퀴드, 노우즈 스트립, 퍼스널 케어용 부직포 용품, 베이비로션, 베이비 배스 및 샴푸, 베이비 콘디셔너, 쉐이빙 조제, 큐컴버 슬라이스, 스킨 패드, 메이크업 리무버, 페이셜 클렌징제, 콜드크림, 썬스크린제, 무스, 스프리츠, 페이스트 마스크 및 머드, 페이스 마스크, 콜로뉴 및 화장수, 헤어 큐티클 코트, 샤워겔, 페이스 및 바디 워시, 퍼스널 케어 린스-오프제, 겔, 포움 배스, 스크러빙 클렌저, 아스트린젠트, 네일 콘디셔너, 아이쉐도우 스틱, 페이스 또는 아이용 파우더, 립밤, 립글로스, 헤어케어 펌프 스프레이 및 기타 비-에어로졸 스프레이, 헤어-프리즈-콘트롤 겔, 헤어 리브-인 콘디셔너, 헤어 포마드, 헤어 디탱글링제, 모발 고정제, 헤어 블리치제, 스킨 로션, 프리쉐이브 및 프리일렉트릭 쉐이브, 무수 크림 및 로션, 유/수형, 수/유형, 다중 매크로 및 마이크로 에멀젼, 내수성 크림 및 로션, 여드름피부용 조제, 구강세척제, 마사지 오일, 치약, 클리어 겔 및 스틱, 연고 베이스, 국부 상처치유제, 에어로졸 탈크, 배리어 스프레이, 비타민 및 노화방지 조제, 허브추출물 조제, 배스 솔트, 배스 및 바디 밀크, 헤어 스타일링 에이드, 헤어-, 아이-, 네일- 및 스킨-소프트 용품, 방출 조절 퍼스널 케어제, 헤어 콘디셔닝 미스트, 스킨 케어 모이스쳐라이징 미스트, 스킨 와이프(skin wipes), 포어 스킨 와이프, 포어 클렌저, 블레미시 리듀서(blemish reducers), 스킨 엑스폴리에이터, 박피개선제, 스킨 타월레트 및 클로스, 제모제, 퍼스널 케어 윤활제, 네일 착색 조제, 피부에 적용되는 의약 조성물의 국부 적용을 위한 약물 전달 시스템 및 상기 퍼스널 케어 용품들 중 적어도 1종을 포함하는 조합제들을 포함한다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 선택적으로 1종 이상의 안료를 99 중량부 이하로 함유할 수 있다. 본 발명에 이용하기에 적합한 안료는 모든 무기 및 유기 착색제/안료를 포함한다. 보통 안료는 알루미늄, 바륨 또는 칼슘의 염 또는 레이크이다. 레이크(lake)는 흡착면에 수용성 염료의 침착에 의해 제조된 유기 안료 또는 고체 희석제로 증량 또는 감량된 안료이며, 보통 알루미늄 수화물이다. 레이크는 또한 산성 또는 염기성 염료의 불용성 염의 침전으로 형성시킨다. 칼슘 및 바륨 레이크 또한 본 발명에 이용될 수 있다. 본 조성물에 함유될 수 있는 기타 착색제 및 염료의 예는 펄, 산화티타늄, Red 6, Red 21, Blue 1, Orange 5 및 Green 5 염료, 쵸크, 탈크, 산화철 및 티타네이티드 마이카(titanated mica) 등을 포함한다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 선택적으로 공지 또는 통상의 화장료로 허용가능한 유기 막 형성제 1종 이상을 99 중량부 이하로 함유할 수 있다. 유용한 막형성제의 예는 천연 왁스, 폴리머, 예를 들어ㅍ폴리에틸렌 폴리머, PVP, 에틸렌 비닐 아세테이트의 코폴리머, 디메티오닌 검, 레진, 예를 들어 쉘락(shellac), 폴리테르펜 등을 포함한다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 선택적으로 차단성 및/또는 흡수성 선스크린 제를 50 중량부 이하로 함유할 수 있다. 차단성 선스크린 제는 일반적으로 무기성이며, 그 예를 들면 각종 산화 세슘, 산화크롬, 산화코발트, 산화철, 레드 페트롤라툼(red petrolatum), 실리콘- 및 기타 처리된 이산화티탄, 이산화티탄, 산화아연, 및/또는 산화지르코늄, BaTi0₃, CaTi0₃, SrTiO₃ 및 SiC가 있다. 흡수성 썬스크린 제는 보통 유기 종이며, 그 비한정적인 예는 일반적으로 320 내지 400 nm의 자외선 스펙트럼 영역의 방사선을 흡수하는 UV-A 흡수제인 안트라닐레이트계, 벤조페논계 및 디벤조일 메탄계 자외선 흡수제 등과; 및 일반적으로 280 내지 320 nm의 자외선 스펙트럼 영역의 방사선을 흡수하는 UV-B 흡수제인 p-아미노벤조산 유도체계, 캄포 유도체계, 신나메이트계 및 살리실레이트계 자외선 흡수제 등을 포함한다.

유기 선스크린 제의 구체적인 예는 p-아미노 벤조산, 아보벤존 시녹세이트, 디옥시벤존, 호모살레이트, 멘틸안트라닐레이트, 옥토크릴렌, 옥틸 메톡시신나메이트, 옥틸 살리실레이트, 옥시벤존, 파디메이트, 페닐벤즈이미다졸 설폰산, 술이소벤존, 트롤아민 살리실레이트, 아미노 벤조산, 아밀디멘틸 p-아미노벤조산, 다이 에탄올아민 P-메톡시신나메이트, 디갈로일 트리올레에이트, 2-에틸헥실-2-시아노 -3,3-디페닐아크릴레이트, 에틸헥실 p-메톡시신나메이트, 2-에틸헥실 살리실레이트, 글리세릴 아미노 벤조에이트, 호모멘틸 살리실레이트, 호모살레이트, 3-이미 다졸-4-일 아크릴산 산 및 이의 에틸 에스테르, 메틸 안트라닐레이트, 옥틸디메틸 PABA, 2-페닐벤즈이미다졸-5-설폰산 및 염, 술이소벤존, 트리에탄올아민 살리실레이트,N,N,N-트리메틸-4-(2-옥소-3-일디엔 메틸) 아닐리늄 메틸 설페이트, 아미노 벤조에이트, 4-이소프로필벤질 살리실레이트, 2-에틸헥실-4-메톡시신나메이트, 메틸 디이소프로필신나메이트, 이소아밀 4-메톡시신나메이트, 3-(4'-트리메틸암모늄)-벤질리덴-보만-2-온 메틸설페이트, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-메톡시벤조페논-5-술포네이트, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,2',4,4'-테트라히드 록시벤조페논, 2,2'-디히드록시-4, 4'디메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시-4'-메톡시벤조페논, ca-(2-옥소본-3-일리덴)-톨릴-4 -설폰산 및 이의 수용성 염, 3-(4'-술포)벤질리덴-보르난 -2 -온 및 이의 용해성 염, 3-(4'-메틸벤질리덴)-d,l-캠퍼, 3-벤질리덴-d,l-캠퍼, 벤젠-1,4-디(3-메틸리덴-10-캄포설폰) 산 및 이의 염, 우로칸산, 2,4,6-트리스-(2'-에틸헥실-1'-옥시카보닐)-아닐리놀 1,3,5-트리아진, 2-(p-(tert-부틸아미도)아닐리놀-4,6-비스-(p-(2'-에틸 헥실 1'-옥시카보닐) 아닐리놀 1,3,5-트리아진, 2,4-비스{1,4- (2-에틸헥실옥시)-2- 히드록시-페닐}-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, N-(2 또는 4)-(2-옥소본-3-일리덴)메틸벤질 아크릴아미드, 1,4-비스벤질이미다졸릴-페닐렌-3,3',5,5'-테트라 트라설폰산 및 이의 염, 벤잘말로네이트-치환 폴리오가노실록산, 벤조트리아졸-치환 폴리오가노실록산 (드로메트리졸 트리실록산), 용해된 2,2'-메틸렌 -비스-1,6-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀, 2-메틸디벤조일메탄, 4-메틸디벤조일메탄, 4-이소프로필디벤조일메탄, 4-tert-부틸디벤조일메탄, 2,4-디메틸디벤조일메탄, 4,4'-디메톡시디벤조일메탄, 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디 벤조일 메탄, 2-메틸-5-tert-부틸-4'- 메톡시디벤조일메탄, 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 2,6-디메틸-4-tert-부틸 -4'-메톡시디벤조일메탄, 상기 선스크린 제들 중의 적어도 1종을 포함하는 조합들을 포함한다.

하나의 구체예에서, 적어도 3종의 선스크린제 조합이 특히 효과적인 것으로 판명되었다. 또 하나의 구체예에서, 4종의 선스크린제 조합이 특히 효과적이며, 특히 화학 선스크린제가 사용되는 경우 효과적이다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 색조 화장료, 선스크린, 헤어 컨디셔너 및 모이스쳐라이져로 사용하기 위하여 제제화할 수 있다. 이러한 용도에 적합한 제형 및 제제는 당 분야의 통상의 기술자에게 알려져 있다. 예를 들어, 선스크린 용도로 제제화하는 경우, 본 조성물은 라멜라 에멀젼, 마이크로에멀젼 또는 나노에멀젼형태로 할 수 있다. 게다가, 상기 에멀젼은 유체 단일 에멀젼, 유체 다중 에멀젼, 경질 단일 에멀젼, 또는 경질 다중 에멀젼일 수 있다. 상기 단일 에멀젼 또는 다중 에멀젼은 분산된 지질 소포 또는 유적을 함유하는 연속 수성 상, 또는 분산된 지질 소포 또는 유적을 함유하는 연속 지방 상을 포함할 수 있다.

하나의 구체예에서, 상기 선스크린 용품은 연속 수성상을 가지는 에멀젼이며, 제형은 스틱, 로션, 겔, 스프레이 등일 수 있다. 선스크린 에멀젼의 형성에 적합한 유화제의 예는 당 분야에 알려진 에톡실화 계면활성제, 예를 들어 폴리소르베이트-20, 라우레스(Laureth)-7, Laureth-4, SEPPIC에서 구입가능한 Sepigel(상표명) 305, 식물성 및 광물성 오일과 같은 오일류; 밀납, 파라핀, 쌀겨 왁스, 칸델릴라 왁tm 카마우바 왁스 및 이들의 유도체와 같은 동물성 및/또는 합성 왁스; 겔(Gel) SS71, Gel EA2786, 쿼터늄(Quaternium)-18 벤토나이트, 38 CE, Gel ISD V 또는 Gel ISD와 같은 탄화수소 겔 또는 벤톤 타입 겔; 세틸 디메티콘 코폴리올-폴리글리세릴-4-이소스테아레이트-헥실라우레이트 (ABIL® WE 09: Goldschmidt Chemical Corporation의 제품, 베헤네이트 디메티콘, 세틸 디메티콘 코폴리올 (ABIL® EM 90), (ABIL® EM 97), 라우릴메티콘 코폴리올 (5200), 사이클로메티콘 및 디메티콘 코폴리올 (DC 5225 C 및 DC 3225 C : Momentive Performance Materials Inc.의 제품), 사이클로펜타실록산 및 디메티콘 코폴리올과 같은 오가노실리콘 유화제 (이들은 또한 Momentive Performance Materials, Inc.에서 구입가능함)를 포함한다.

가소제들이 또한 썬스크린 제제에 첨가될 수 있으며, 가소제를 첨가하면 얻어지는 제제의 유연성 및 화장료 특성을 향상시킬 수 있다. 가소제는 종종 막형성제의 부서짐 및 크래킹을 방지하기 위하여 사용된다. 가소제의 예는 레시틴, 폴리소르베이트, 디메티콘 코폴리올, 글리콜, 시트레이트 에스테르, 글리세린, 및 디메티콘을 포함한다. 당 분야의 기술자는 일상적으로 원하는 특성, 예상 용도에 기초하여 가소제의 양을 변화시킬 수 있다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 우선적으로 캐리어, 특히 도포 후에 신속하게 휘발하는 휘발성 캐리어에 혼입된다. 본 발명의 휘발성 캐리어들은 휘발성 탄화수소들, 휘발성 실리콘들 및 이들의 혼합물로이루어진 군에서 선택된다. 본 발명에 유용한 탄화수소 오일들은 60-260℃ 범위의 비점을 가지는 탄화수소 오일들을 포함하며, 더욱 바람직하게 탄화수소 오일들은 약 C8 내지 약 C20의 사슬 길이를 가지는 것이며, 더더욱 바람직하게 C8 내지 C20의 이소파라핀들이다. 가장 바람직한 탄화수소 오일은 이소도데칸, 이소헥사데칸, 이소에오코산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 2,3-디메틸헥산 및 이들의 혼합물들로 이루어진 군에서 선택되는 것이다. 바람직한 휘발성 실리콘 유체들은 식 (R₂SiO)_x (여기서 x는 약 3 내지 약 6 임)에 대응하는 3, 4 및 5-원 고리 구조를 가지는 사이클로메티콘, 또는 식 (R₃SiO(R₂SiO)Si_R3에 대응하는 선형 메티콘을 포함한다.

증점 폴리머도 본 발명에 유용할 수 있다. 여기서, "증점 폴리머 (thickening polymer)"라는 표면은 본 발명의 목적을 위하여 25℃에서 물 또는 에탄올 중에 1중량%의 활성 물질을 함유하는 용액 또는 분산액에서 1 s^-1의 전단 속도(shear rate)에서 0.2 포아즈 보다 큰 점도를 가지는 폴리머를 의미하는 것으로 이해될 것이다. 상기 점도는 써모일렉트론(THERMO ELECTRON)의 HAAKE RS600 점도계로 측정될 수 있다. 상기 점도계는 (예를 들어 60 mm의 직경 및 1도 각도의) 콘-플레이트 지오메트리(cone-plate geometry)를 갖는 스트레스-조절형(controlled-stress) 점도계이다. 증점제의 예는 연합형 증점제, 가교된 아크릴산 호모폴리머, 가교된 (메트)아크릴산과 (C1-C6)알킬 아크릴레이트의 코폴리머; 에스테르 및 아미드 형태의 에틸렌성 불포화 모노머를 함유하는 비이온성 호모폴리머 및 코폴리머; 암모늄 아크릴레이트 호모폴리머 또는 암모늄 아크릴레이트와 아크릴아미드의 코폴리머; (메트)아크릴아미도(C1-C4)알킬설폰산 호모폴리머 및 코폴리머; 가교된 메타크릴로일(C1-C4)알킬트리(C1-C4)알킬암모늄 호모폴리머 및 코폴리머를 포함한다. 미립자상 증점제도 사용될 수 있다. 또는 천연에서 유래한 폴리머 및 발효에 의해 산출된 폴리머도 사용될 수 있으며, 그 예로는 폴리사카라이드 검, 잔탄 검, 풀루란 검, 스크렐로티움 검, 카라기난 검, 로커스트 빈 검, 알지네이트, 겔란 검, 셀룰로오즈, 카복시메틸셀룰로오즈, 하이드록시에틸셀룰로오즈, 펙틴, 전분, 키토산, 젤라틴 및 이들의 조합이 있다.

미립자들이 또한 본 발명의 퍼스널 케어 조성물과 조합하여 사용될 수 있다. 미립자들은 유기 또는 무기 입자이다. 무기 입자의 예는 산화 티탄, 티나네이티드 마이카, 산화 지르코늄, 산화아연, 산화세륨, 산화 마그네슘, 황산 바륨, 황산칼슘, 황산마그네슘, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 탈크, 절개한 탈크, 마이카, 카오린, 세리사이트, 무스코바이트, 합성 마이카, 플로고파이트, 레피도라이트, 바이오타이트, 리티아 마이카, 실릭 산, 이산화규소, 퓸드 실리카, 함수 이산화규소, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산 칼슘, 규산 바륨, 규산 스트론튬, 금속 텅스텐산염, 하이드록시아파타이트, 버미큘라이트, 하이지라이트, 벤토나이트, 몬모릴로나이트, 헥토라이트, 제올라이트, 세라믹스, 디칼슘 포스페이트, 알루미나, 수산화 알루미늄, 질화 붕소, 질화붕소 또는 유리로 이루어진 마이크로입자들을 포함한다. 유기 입자의 예는 폴리아미드, 폴리아크릴산/아크릴산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 스티렌/아크릴산 코폴리머, 디비닐벤젠/스티렌 코폴리머, 폴리우레탄, 비닐 레진, 우레아 레진, 멜라민 레진, 벤조구아나민, 폴리메틸벤조구아나민, 테트라플루오로에틸렌, 폴리(메틸 메타크릴레이트) 등과 같은 폴리메틸메타크릴레이트, 셀룰로오즈, 실크, 나일론, 페놀 레진, 에폭시 레진 또는 폴리카보네이트로 이루어진 분말들을 포함한다.

유용한 첨가제들은 pH 조절제/완충제, 및 킬레이트제, 예를 들어 수산화 암모늄, 수산화나트륨, 수산화칼륨, C12-C15 알킬 벤조에이트, 시트르산, 글리콜산, 락트산, 시트르산 나트륨, 트리에탄올아민, 트롤아민, 디소듐 EDTA, 에데테이트 디소듐, 펜타소듐 펜테테이트, 테트라소듐 EDTA, 트리소듐 EDTA을 포함한다.

향기 성분들(fragrance ingredients)이 본 발명의 퍼스널 케어 조성물에 혼입될 수 있으며, 그 예로는 디아세틸, 이소아밀 아세테이트, 벤즈알데히드, 신남산 알데히드, 에틸 프로피오네이트, 메틸 안트라닐레이트, 리모넨, 에틸 데카디에노에이트, 알릴 헥사노에이트, 에틸 말톨, 에틸 바닐린, 메틸 살리실레이트, 클레리 추출물, 유칼리피스 글로불루수 오일, 포도 오일, 라다넘 오일, 마스킹 향료(masking fragrance), 매트리카리아 오일, 노필 아세테이트, 페녹시에탄올, 로즈우드 오일, 일랑 일랑 오일, 및 퍼퓸 오일 등이 있다. 또한, 거론될 수 있는 것은 천연 및/또는 합성 방향 물질들의 퍼퓸 오일 혼합물이 있다. 천연 방향 물질들은 예를 들어 꽃(릴리, 라벤더, 장미, 쟈스민, 네롤리,일랑-일랑) 추출물, 줄기 및 잎(제라늄, 팻쵸울리, 페티트그레인) 추출물, 과일 (애니시드, 코리안더, 캐라웨이, 쥬니퍼) 추출물, 과일 껍질(베르가못, 레몬, 오랜지) 추출물, 뿌리 (메이스, 안젤리카, 셀러리, 카다몸, 코스터스, 아이리스, 칼무스) 추출물, 나무 (소나무, 백단향, 유창목, 삼목, 장미목) 추출물, 허브 및 볏과 식물 (사철쑥, 레몬그라스, 세이지, 백리향) 추출물, 침엽 및 잔가지(가문비나무, 소나무, 유럽적송, 마운틴파인) 추출물, 수지 및 발삼 (갈바늄, 엘레미, 안식향, 몰약, 유향, 오포포낙스) 추출물이 있다. 동물성 원료도 포함할 수 있으며, 그 예로는 사향, 비비향 등이 있다. 대표적인 합성 방향 물질의 예는 에스테르, 에테르, 알데히드, 케톤, 알코올 또는 탄화수소 타입의 제품들을 포함한다. 에스테르 타입 방향 물질 화합물의 예는 벤질 아세테이트, 페녹시에틸 이소부티레이트, p-tert-부틸사이클로헥실 아세테이트, 리날릴 아세테이트, 디메틸벤질카비닐 아세테이트, 페닐에틸 아세테이트, 리날릴 벤조에이트, 벤질 포르메이트, 에틸메틸페닐 글리시네이트, 알릴사이클로헥실 프로피오네이트, 스티르알릴 프로피오네이트 및 벤질 살리실레이트를 포함한다.

에테르 타입의 예로 벤질 에틸 에테르가 있고; 알데히드 타입의 예로 8 내지 18개의 탄소원자를 가지는 선형 알칸알, 시트랄, 시트로넬랄, 시트로넬릴 옥시아세트알데히드, 사이클라멘 알데히드, 하이드록시시트로넬랄, 릴리알 및 보우르져날이 있으며, 케톤 타입의 예로 이오논(ionones), 이소메틸이오논 및 메틸 세드릴 케톤이 있고; 알코올 타입의 예로 아네톨, 시트로넬롤, 유게놀, 이소유게놀, 게라니올, 리날로올, 페닐 에틸 알코올 및 터피놀이 있으며; 탄화수소 타입의 예로는 테르펜과 발삼이 있다.

매력적인 향을 내는, 이들 및 기타 방향 물질들의 조향 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 아로마 성분으로 주로 사용되는, 휘발성이 비교적 낮은 정유(ethereal oil)가 또한 퍼퓸 오일로 적합하며, 그 예로는 세이지 오일, 샤모밀 오일, 클로베 오일, 멜리사 오일, 신나몬 잎 오일, 라임 꽃 오일, 쥬니퍼 베리 오일, 베티버 오일, 올리바눔 오일, 갈바눔 오일, 라볼라눔 오일, 및 라벤디 오일이 있다. 바람직한 것은 베르가못 오일, 디하이드로미르세놀, 릴리알, 라이랄, 시트로넬롤, 페닐 에틸 알코올, α,α-헥실 신남알데히드, 게라니올, 벤질 아세톤, 사이클라멘 알데히드, 리날로올, 보이삼브렌 포르테, 암브록산, 인돌, 헤디온, 산딜리스, 레몬 오일, 탄제린 오일, 오랜지 오일, 알릴 아밀 글리콜레이트, 사이클로버탈, 라반딘 오일, 머스카텔 세이지 오일, α-다마스콘, 부르봉 제라늄 오일, 사이클로헥실 살리실레이트, 베리토픽스 쾨호(vertofix coeur), 이소-이-슈퍼(iso-E-Super), 픽솔라이드(Fixolide) NP, 에버닐(evernyl), 이랄데인 감마(iraldein gamma), 페닐아세트산, 제라닐 아세테이트, 벤질 아세테이트, 로즈 옥사이드, 로밀라트(romillat), 이로틸(irotyl) 및 플로라맷(floramat)을 단독으로 사용하거나 조합하여 사용하는 것이다.

플레이버 성분들(Flavor ingredients)이 본 발명의 퍼스널 케어 조성물에 사용될 수도 있으며, 그 예로는 스테아릴 글리시르레티네이트, 멘톨, 신나밀 알코올, 아세트산, 이스코르브산, 시트르산, 푸마르산, 락트산, 말산, 인산, 타르타르산, 과일 및 식물 추출물이 있다.

피부보호제 및 습윤제(skin protectants and humectants)도 본 발명의 퍼스널 케어 조성물에 사용될 수 있으며, 그 예로는 디메티콘, 페트롤라툼, 글리세린, 암모늄 락테이트, 라놀린, 메틸 글루세스(gluceth)-20, PEG-20, 솔비톨, 1,2,6 헥산트리올, 부틸렌 글리콜, 디프로필렌 글리콜, 글리세린, 헥실렌 글리콜, 판테놀. 파이탄트리올, 판테놀, 프로필렌 글리콜, 소듐 PCA, 솔비톨, 트리에틸렌 글리콜, 폴리글리세릴 솔비톨, 글루코오스, 프룩토즈, 폴리덱스트로즈, 포타슘 피이(potassium pea), 우레아, 수소화 허니, 히알루론산, 이노시톨, 헥산디올 밀납, 헥산트리올 밀납, 가수분해된 엘라스틴, 가수분해된 콜라겐, 가수분해된 실크, 가수분해된 케라틴, 에리스리톨, 카프릴 글리콜 등이 있다.

헤어 컨디셔닝제도 본 발명에서 사용될 수 있으며, 그 예로는 탄화수소계, 실리콘 유체계, 양이온성 물질계 등이 있다. 적합한 탄화수소계는 선형 또는 가지형 사슬을 갖는 것일 수 있고, 약 10 내지 16, 바람직하게 약 12 내지 16의 탄소원자를 함유할 수 있다. 적합한 탄화수소계의 예는 데칸, 도데칸, 테트라데칸, 트리데칸, 및 이들의 혼합물들을 포함한다. 적합한 실리콘 유체계 헤어 컨디셔닝제의 예는 선형 및 사이클릭 폴리디메틸실록산들, 페닐 및 알킬 페닐 실리콘들 및 실리콘 코폴리올들을 포함한다. 본 발명에 유용한 양이온성 물질계 헤어 컨디셔닝제의 예는 4차 암모늄염, 지방아민의 염을 포함한다.

네일 컨디셔닝제도 본 발명에 혼입될 수 있으며, 그 예로는 아디프산, 푸마르산, 트리사이클로데칸 디메탄올 코폴리머, AMP-이소스테아로일 가수분해된 실크, 안젤리카 푸르시쥬가(angelica furcijuga) 꽃/잎/줄기 추출물, 알-바실러스 리테니포르미스 케라티나제(r-bacillus licheniformis keratinase), 비피다/파낙스 인삼 뿌리 세포 배양 추출물 발효 여과액(bifida/panax ginseng root cell culture extract ferment filtrate), 비스-아미노프로필 디메티콘/IPDI 코폴리머, 비스-디카프로락톤 에톡시아크릴레이트 IPDI, 비스-hEMA IPDI, 보스웰리아 카르테리(boswellia carterii) 검 추출물, 보스웰리아 세라타(boswellia serrata) 검 추출물, 칼슘 가수분해된 콜라겐, 카프릴로일 메티오닌/실크 아미노산 메틸 에스테르, 카프릴로일 세린/실크 아미노산 메틸 에스테르, 카울러파 이아세모사(caulerpa eacemosa) 추출물, 시트러스 아우란티움 아마라(citrus aurantium amara) (비터 오랜지) 과일 즙 추출물, 코멜리나 콤무니스(commelina communis) 꽃/잎/줄기 추출물, 콤미포라 미르하(commiphora myrrha) 수지 추출물, 디클로로 디하이드록시 디플루오로 에틸클로프로스테놀라니드, 데옥시글루타밀 프룩토즈, 디카프로락톤 에톡시아크릴레이트 헤마 이피디(hema ipdi), 디카프릴 석시네이트, 디메틸 우레아, 디펜타에리스리틸 헥사아크릴레이트, 디펜타에리스리틸 펜타아크릴레이트, 에치나세아 앵구스티폴리아(echinacea angustifolia) 뿌리 추출물, 프라가리아 아나나사(fragaria ananassa) (스트로베리) 씨 오릴, 푸마르산/무수프탈산/트리사이클로데칸디메탄올 코폴리머, 진쿄 빌로바 너트(ginkgo biloba nut) 추출물, 글리시독시프로필 트리메톡시실란, 벌꿀 분말, 하이드노카프스 펜탄드러스 케르넬( hydnocarpus pentandrus kernel) 오일, 수소화 아세토페논/옥시메틸렌 코폴리머, 가수분해된 콜라겐, 가수분해된 케라틴, 가수분해된 비닐 아세테이트/비닐 아세토아세테이트 코폴리머, 이사티스 틴크토리아(isatis tinctoria) 뿌리 추출물, 키겔리아 아프리카나(kigelia africana) 껍질 추출물, 류칸테뭄 불가레(leucanthemum vulgare) 씨 추출물, 로이코노스톡(leuconostoc)/알로에바르반데시스(aloe barbadensis) 잎/소르부스 아우크파리아 열매(sorbus aucuparia fruit) 발효 여과액, 로벨리아 인플라타(lobelia inflata) 추출물, 루피누스 텍센시스(lupinus texensis) 씨 추출물t, 리시움 바르바룸(lycium barbarum) 열매 추출물, 멘타 아쿠라티카(mentha aquatica) 추출물, 메타크릴로일에틸 포스페이트, 메틸렌 글리콜, 2-메틸프로판알, 모모르디카 차란티아(momordica charantia) 추출물, 나르시수스 슈도-나르시수브(narcissus pseudo-narcissus) (수선화) 뿌리 추출물, 오푼티아 투나 (opuntia tuna) 잎 추출물, 오푼티아 불가리스(opuntia vulgaris) 열매 추출물, 팔미틸로일 올리고펩타이드-70, 팔미틸로일 세린/실크 아미노산 메틸 에스테르, 파셀로스 불가리스(phaseolus vulgaris) (강낭콩) 추출물, 플록스 드루몬디(phlox drummondii) 씨 추출물, 폴리아크릴레이트-12, 폴리아크릴레이트-30, 폴리에스테르-18, 로사(rosa) (아메리칸 뷰티) 추출물, 로사 보르보니아나(rosa borboniana) 추출물, 로사 록스버그히(rosa roxburghii) 씨 오일, 루드베키아 히르타(rudbeckia hirta) 씨 추출물, 실버 카프(silver carp) 추출물, 소듐 칼슘 아연 포스페이트, 소르부스 아우큐파리아(sorbus aucuparia) 씨 오일, r-스파이더 폴리펩티드-1(r-spider polypeptide-1), r-스파이더 폴리펩티드-2, 운데세노일 세린/실크 아미노산 메틸 에스테르, 박시늄 미르틸러스(vaccinium myrtillus) 잎 추출물, 비닐 알코올/비닐포름아미드 코폴리머, 비스텀 알붐(viscum album) (겨우살이) 추출물 등이 있다.

양이온성 폴리머가 본 발명의 퍼스널 케어 조성물에 사용될 수 있으며, 그 예는 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드 및 하이드록시프로필 구아 하이드록시프로필트리모늄 클로라이드와 같은 양이온성 구아 검 유도체가 있으며, 이는 롱플랑(Rhone-Poulenc)에서 재규어(Jaguar: 상표명) 시리즈로 구입가능하다.

자외선 흡수제(UV 흡수제)도 본 발명의 퍼스널 케어 조성물에 유용하며, 자외광에 의해 유도된 화학적 또는 물리적 변질로부터 본 조성물을 보호하는데 이용된다. 선스크린제 등과 같은 UV 흡수제는 입사하는 자외 방사선을 손상이 덜한 적외 방사선(열)으로 변환시키는 능력이 있다. 적합한 UV 흡수제의 예는 아세트아미노살올(아세트아미노살올), 알란토인 PABA, 벤잘프탈라이드, 벤조페논, 벤조페논-1, 벤조페논-2, 벤조페논-3, 벤조페논-4, 벤조페논-5, 벤조페논-6, 벤조페논-7, 벤조페논-8, 벤조페논-9, 벤조페논- 10, 벤조페논-11, 및 페논-12와 같은 벤조페논류, 벤조트리아졸릴 도데실 p-크레졸, 3-벤질리덴 캄포, 벤질리덴캄포 가수분해된 콜라겐 설폰아미드, 벤질리덴 캄포 설폰산, 벤질 살리실레이트, 비스-에틸헥실옥시페놀 메톡시페닐 트리아진, 보르넬론, 부메트리졸, 부틸 메톡시디벤조일메탄, 부틸 PABA, 칼로필룸 이노필룸(Callophyllum inophyllum) 씨 오일, 카멜리아 지넨시스(camellia sinensis) 잎 추출물, 카로테노이드, 세리아/실리카, 세리아/실리카 탈크, 시녹세이트, 데아-메톡시신나메이트, 디벤족사조일 나프탈렌, 디-t-부틸 하이드록시벤질리덴 캄포, 디에틸헥실 부타미도 트리아존, 디에틸헥실 2,6-나프탈레이트, 디갈로일 트리올레에이트, 디이소프로필 메틸 신나메이트, l-(3,4-디메톡시페닐)-4,4-디메틸-l,3-펜탄디엔, 디메틸 PABA 에틸 세테아릴디모니움 토실레이트, 디모폴리노피리다지논, 디페닐 카보메톡시 아세톡시 나프토피란, 디소듐 비스에틸페닐 트리아미노트리아진 스틸베네디설포네이트, 디소듐 디스티릴비페닐 디설포네이트, 디소듐 페닐 디벤즈이미다졸 테트라설포네이트, 드로메트리졸, 드로메트리졸 트리실록산, 에스쿨린, 에틸 디하이드록시프로필 PABA, 에틸 디이소프로필신나메이트, 에틸헥실 디메톡시벤질리덴 디옥소이미다졸리딘 프로피오네이트, 에틸헥실 디메틸 PABA, 에틸헥실 페룰레이트, 에틸헥실 메톡시신나메이트, 에틸헥실 살리실레이트, 에틸헥실 트리아존, 에틸 메톡시신나메이트, 에틸 PABA, 에틸 우로카네이트, 에토크릴렌, 페룰산, 4-(2-베타-글루코피라노실록시) 프로폴시-2-하이드록시벤조페논, 글리세릴 에틸헥사노에이트 디메톡시신나메이트, 글리세릴 PABA, 글리콜 살리실레이트, 헥산디올 살리실레이트, 호모살레이트, 가수분해된 루핀 프로틴(lupine protein), 이소아밀 p-메톡시신나메이트, 이소펜틸 트리메톡시신나메이트 트리실록산, 이소프로필벤질 살리실레이트, 이소프로필 디벤조일메탄, 이소프로필 메톡시신나메이트, 멘틸 안트라닐레이트, 멘틸 살리실레이트, 4-메틸벤질리덴 캄포, 메틸렌 비스-벤조트리아졸릴 테트라메틸부틸페놀, 옥토크릴렌, 옥트리졸, PABA, PEG-25 PABA, 펜틸 디메틸 PABA, 페닐벤즈이미다졸 설폰산, 피누스 피나스터(pinus pinaster) 껍질 추출물, 폴리아크릴아미도메틸 벤질리덴 캄포, 폴리실리콘-15, 포타슘 메톡시신나메이트, 포타슘 페닐벤즈이미다졸 설포네이트, 레드 페트롤라툼(Red petrolatum), 소듐 벤조트리아졸릴 부틸페놀 설포네이트, 소듐 이소페룰레이트, 소듐 페닐벤즈이미다졸 설포네이트, 소듐 우로카네이트, 스피룰리나 플라텐시스(Spirulina platensis) 분말, TEA-페닐벤즈이미다졸 설포네이트, TEA-살리실레이트, 테레프탈릴리덴 디캄포 설폰산, 테트라부틸 페닐 하이드록시벤조에이트, 이산화티탄, 토코트리에놀, 트리PABA 판테놀, 우로칸산, 비닐 아세테이트/크로토네이트/메타크릴옥시벤조페논-1 코폴리머 및 비티스 비니페라(Vitis vinifera) (포도) 씨 추출물, 및 SPF 향상제(enhancers)와 같은 폴리머 비드 또는 중공구를 포함한다. 전술한 UV 흡수제와 SPF 향상제의 조합이 UV 보호를 향샹시킬 수 있으며, SPF 향상제의 예는 스티렌/아크릴레이트 코폴리머 실리카 비드, 스페로이달(spheroidal) 마그네슘 실리케이트, 스페로이달 폴리아미드 분말, 예를 들어 n-락탐 폴리머 [orgasol(상표명) 레인지, 엘프 아토켐(elf atochem)], 가교된 폴리메틸메타크릴레이트 (pmma; micopearl m305 seppic) 등이 있다. 홀로스페어(Holosphere) 첨가제 [Sunspheres(상표명) ISP, Silica Shells Kobo.)는 방사를 편향시키고, 이에 따라 광자의 유효 패스 길이가 길어진다 (EP0893119). 몇몇 비드는 바르는 동안 소프트한 감촉을 제공한다. 또한, 이러한 비드(예를 들어 Micropearl M305)의 광학 활성은 반사현상을 줄이는 것으로 피부 빛남을 조정할 수 있고, 간접적으로 UV광을 산란시킬 수 있다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 또한 공지 통상의 가소제를 함유할 수도 있으며, 이러한 가소제는 이를 배합한 제제의 유연성 및 화장료 특성을 향상시킬 수 있다. 가소제는 막 형성제의 부서짐 및 크래킹을 방지하기 위하여 종종 사용되며, 그 예로는 레시틴, 폴리소르베이트, 디메티콘 코폴리올, 글리콜, 시트레이트 에스테르s, 글리세린, 및 디메티콘 등이 있다. 당 분야의 기술자는 특정 퍼스널 케어 조성물의 제제화 및 소망 특성에 따라 일상적으로 가소제의 양을 변화시킬 수 있다.

본 발명의 퍼스널 케어 조성물은 유리하게 캐리어, 특히 도포 후에 신속하게 휘발하는 휘발성 캐리어에 혼입된다. 본 발명의 휘발성 캐리어들은 휘발성 탄화수소들, 휘발성 실리콘들 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택된다.

본 발명에 유용한 탄화수소 오일들은 60-260℃ 범위의 비점을 가지는 탄화수소 오일들을 포함하며, 더욱 바람직하게 탄화수소 오일들은 약 C8 내지 약 C20의 사슬 길이를 가지는 것이며, 더더욱 바람직하게 C8 내지 C20의 이소파라핀들이다. 가장 바람직한 탄화수소 오일은 이소도데칸, 이소헥사데칸, 이소에오코산, 2,2,4-트리메틸펜탄, 2,3-디메틸헥산 및 이들의 혼합물들로 이루어진 군에서 선택되는 것이다.

실시예

하기 실시예 1-12는 본 발명에 따라 후에 막형제와 배합하기 위한 말단-관능화 이온성 실리콘들(I)의 제조를 예증한 것이다.

실시예 1

설폰산-관능 테트라메틸디실록산의 제조.

응축기가 장치된 3-목 500 mL 플라스크에 18.16 g (154.0 mmol)의 알파-메틸스티렌 및 27.2x10^-5　g의 백금 촉매를 투입하였다. 그 결과로 얻어진 혼합물의 온도를 115℃로 승온한 후에, 9.40 g (70.0 mmol)의 1,1,3,3-테트라메틸디실록산을 하이드로실릴화 반응이 완료될 때까지 연속적인 교반 하에 적하식으로 첨가하였다. 하이드로실릴화의 완료는 ¹H NMR에서 실리콘 하이드라이드 피크의 사라짐으로 지시되었다. 그 결과로 얻어진 혼합물을 150℃의 오일 배스에 2 시간 동안 정치하면서 진공 스트리핑하여 미반응 알파-메틸스티렌을 제거하고, 23.2 g의 아르알킬렌-치환 디실록산을 수득하였다 (수율 : 90%).

이 아르알킬렌-치환 디실록산 (23.2 g, 62.4 mmol)에 29.6 g (252.8 mmol)의 클로로설폰산을 30분에 걸쳐 적하식으로 첨가하면서 주위 온도에서 연속 교반하였다. 추가로 30 분 더 교반하였다. 이 반응의 완료는 ¹H NMR에서 파라-치환 방향족 프로톤 피크의 사라짐으로 표시되는 방향족 고리의 완전 설폰화로 측정하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여, 갈색의 점성 오일 상태의 33.0 g의 설폰화 디실록산을 수득하였다.

실시예 2

설폰산-관능 테트라메틸테트라사이클로실록산의 제조.

3-목 500 mL 플라스크에 70.08 g (60.0 mmol)의 알파-메틸스티렌 및 10.0 xlO^-4　g의 백금촉매를 투입하였다. 얻어진 혼합물의 온도를 115℃로 승온한 후에, 30.0 g (120.5 mmol)의 1,3,5,7-테트라메틸사이클로테트라실록산을 연속 교반하에 적하식으로 첨가하였다. 반응의 진행과정은 ¹H NMR로 모니터하였다. 12 시간의 반응 후에, ¹H NMR은 실리콘 하이드라이드의 완전 전화를 보여주었다. 다음, 반응 혼합물을 150 ℃에서 2시간 동안 진공 스트리핑하여 미반응 알파-메틸스티렌을 제거하고 80.5 g의 아르알킬렌-치환 사이클로테트라실록산을 수득하였다 (수율: 95%).

14.24 g (20.0 mmol)의 상기 아르알킬렌-치환 사이클로테트라실록산에 4.0 mL 디클로로메탄에 용해된 18.64 g (160.0 mmol)의 클로로설폰산을 30분에 걸쳐 적하하면서 주위 온도에서 계속 교반하였다. 반응 혼합물을 추가로 30분 더 교반하였다. ¹H NMR에서 파라-치환 방향족 프로톤 피크의 사라짐으로 표시된 방향족 고리의 완전 설폰화로 반응의 완료를 보여주었다. 감압하에 반응 혼합물의 진공 스트리핑하여 갈색 점성 검 상태의 설폰산-관능 사이클로테트라실록산 20.6 g을 수득하였다.

실시예 3

소듐 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산의 제조.

3-목 250 mL 플라스크에 1.1 g (2.0 mmol)의 상기 실시예 1의 설폰화 디실록산 및 59.3 (200.0 mmol)의 옥타메틸테트라사이클로실록산을 투입하였다. ~87 중량%의 선형 실록산들의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 0.7 g (8.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 점성 검 상태의 생성물 49.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 설폰화-캡핑된 폴리디메틸실록산임을 보여주었다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 53 Pas이었다.

이와 유사하게, 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산 (PDMS)의 칼슘, 마그네슘, 아연, 은 및 코발트 염들이 설폰산-캡핑된 폴리디메틸실록산과 상기 각각의 산화물 간의 중화를 통해 합성되었다.

실시예 4

소듐 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산의 제조.

3-목 250 mL 플라스크에 2.12 g (4.0 mmol)의 상기 실시예 1의 설폰화 디실록산 및 59.3 g (200.0 mmol)의 옥타메틸테트라사이클로실록산을 투입하였다. 반응 혼합물을 오일 배스에 정치한 상태로 주위 온도에서 연속 교반하였다. ~87 중량%의 선형 실록산들의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 1.4 g (16.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 점성 검 상태의 생성물 53.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 설폰화-캡핑된 폴리디메틸실록산임을 보여주었다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 100 Pas이었다.

실시예 5

소듐 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산의 제조.

3-목 500 mL 플라스크에 10.6 g (20.0 mmol)의 상기 실시예 1의 설폰화 디실록산 및 118.0 g (400.0 mmol)의 옥타메틸테트라사이클로실록산을 투입하였다. 반응 혼합물을 오일 배스에 정치한 상태로 주위 온도에서 연속 교반하였다. ~87 중량%의 선형 실록산들의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 6.7 g (80.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 점성 검 상태의 생성물 112.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 설폰화-캡핑된 폴리디메틸실록산임을 보여주었다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 1230 Pas이었다.

실시예 6

펜던트 설포네이트-관능 폴리오가노실록산의 제조

실시예 2에서 수득한 설폰산 관능 사이클로테트라실록산 5.7 g (8.0 mmol)에, 474.7 g (1600.0 mmol) 옥타메틸테트라사이클로실록산 및 2.96 g (16.0 mmol) l,l,3,3-테트라메틸-l,3-디비닐디실록산을 첨가하고 나서 실온에서 교반하였다. 선형 실록산 ~87 중량%의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 10.0 g (128.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 우유같은 오일로 생성물 411.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 펜던트 폴리디메틸실록산임을 보여주었다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 5.0 Pas이었다.

실시예 2에서 수득한 설폰산 관능 사이클로테트라실록산 5.7 g (8.0 mmol)에, 474.7 g (1600.0 mmol) 옥타메틸테트라사이클로실록산 및 2.96 g (16.0 mmol) l,l,3,3-테트라메틸-l,3-디비닐디실록산을 첨가하고 나서 실온에서 교반하였다. 선형 실록산 ~87 중량%의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 10.0 g (128.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 점성 검으로 생성물 427.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 펜던트 폴리디메틸실록산임을 보여주었다.

실시예 7

펜던트 설포네이트-관능 폴리오가노실록산의 제조

실시예 2에서 수득한 설폰산 관능 사이클로테트라실록산 5.7 g (8.0 mmol)에, 474.7 g (1600.0 mmol) 옥타메틸테트라사이클로실록산 및 2.96 g (16.0 mmol) l,l,3,3-테트라메틸-l,3-디비닐디실록산을 첨가하고 나서 실온에서 교반하였다. 선형 실록산 ~87 중량%의 평형에 도달한 후, 반응 혼합물을 70 ℃에서 10.0 g (128.0 mmol)의 함습 중탄산나트륨을 사용하여 중화하였다. 감압하에 반응혼합물을 진공 스트리핑하여 우유같은 오일로 생성물 427.0 g을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석은 생성된 폴리머가 펜던트 폴리디메틸실록산임을 보여주었다.

실시예 8

소듐 카복실레이트-관능 폴리디메틸실록산의 제조

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 184.28 g (1M) 운데세노산 및 300 ml 톨루엔을 투입하였다. 이 용액을 70 ℃로 가열하고 80.7 g (0.5M) 헥사메틸디실라잔을 2시간에 걸쳐 첨가하였다. 얻어진 용액을 70-80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 이 용액을 스트리핑하여 용매를 제거하고, 반응생성물을 1-5 Hg의 압력 및 150-160℃의 온도에서 진공증류하여 운데세노산 트리메틸실릴에스테르(A)를 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 1.34 g (0.01M) 테트라메틸디실록산, 296.6g (1M) 옥타메틸사이클로테트라실록산 및 6g 산성 이온교환수지를 투입하였다. 이 용액을 55-60 ℃에서 12시간 동안 교반하여 하이드라이드 말단 실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 5.1 g (0.016 M)의 상기 화합물(A), 237.8 g (0.008M)의 화합물(B) 및 0.0003 g 백금 카스테트촉매를 투입하고, 이 용액을 90℃에서 8시간 동안 교반하였다. 이어서 중탄산나트륨으로 보호기 제거 및 중화를 행하여 소듐 카복실레이트 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 18 Pas이었다.

실시예 9

소듐 카복실레이트- 관능 폴리디메틸실록산의 제조.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 184.28 g (1M) 운데세노산 및 300 ml 톨루엔을 투입하였다. 이 용액을 70℃로 가열하고 80.7 g (0.5M) 헥사메틸디실라잔을 2시간에 걸쳐 첨가하였다. 얻어진 용액을 70-80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 이 용액을 스트리핑하여 용매 및 저비점 물질을 제거하고, 반응생성물을 1-5 Hg의 압력 및 150-160℃의 온도에서 진공증류하여 운데세노산 트리메틸실릴에스테르(A)를 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 6.7 g (0.05M) 테트라메틸디실록산, 370.7g (1.25M) 옥타메틸사이클로테트라실록산 및 10g 산성 이온교환수지를 투입하였다. 이 용액을 55-60 ℃에서 12시간 동안 교반하여 하이드라이드 말단 실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 11.3 g (0.044 M)의 상기 화합물(A), 150.7 g (0.02M)의 화합물(B) 및 0.0001 g 백금 카스테트촉매를 투입하고, 이 용액을 90℃에서 8시간 동안 교반하였다. 이어서 중탄산나트륨으로 보호기 제거 및 중화를 행하여 소듐 카복실레이트 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 689 Pas이었다.

실시예 10

소듐 카복실레이트-관능 폴리디메틸실록산의 제조

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 184.28 g (1M) 운데세노산 및 300 ml 톨루엔을 투입하였다. 이 용액을 70 ℃로 가열하고 80.7 g (0.5M) 헥사메틸디실라잔을 2시간에 걸쳐 첨가하였다. 얻어진 용액을 70-80℃에서 4시간 동안 교반하였다. 이 용액을 스트리핑하여 용매 및 저비점 물질을 제거하고, 반응생성물을 1-5 Hg의 압력 및 150-160℃의 온도에서 진공증류하여 운데세노산 트리메틸실릴에스테르(A)를 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 6.7 g (0.05M) 테트라메틸디실록산, 185.4g (0.625M) 옥타메틸사이클로테트라실록산 및 5g 산성 이온교환수지를 투입하였다. 이 용액을 55-60 ℃에서 12시간 동안 교반하여 하이드라이드 말단 실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 10.3 g (0.04 M)의 상기 화합물(A), 76.4 g (0.02M)의 화합물(B) 및 0.0001 g 백금 카스테트촉매를 투입하고, 이 용액을 90℃에서 8시간 동안 교반하였다. 이어서 중탄산나트륨으로 보호기 제거 및 중화를 행하여 소듐 카복실레이트 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다. 생성된 폴리머의 점도는 20℃에서 HAAKE 레오미터에서 측정한바, 10 rad/s의 전단 속도에서 283 Pas이었다.

실시예 11

소듐 포스페이트-관능 폴리디메틸실록산의 제조.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 256.3 g (2 M) 알릴글리시딜에테르 및 0.0003 g 백금 카스테트 촉매를 투입하고, 이 용액을 70℃로 가열하였다. 상기 용액에 134.3 g (1M) 테트라메틸디실록산을 70-75℃에서 6시간 동안 적하식으로 첨가하여 에폭시 관능 테트라메틸디실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 3.9 g (0.03 M) 상기 생성물, 296.6 g (1M) 옥타메틸디실록산 및 6 g 산성 이온교환수지를 투입하고, 이용액을 70℃에서 16시간 동안 교반하여 에폭시 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 150 g (0.005M) 상기 ㅅ생성물 및 1.2 g (0.01M) 인산 (85%)을 투입하고, 이 용액을 85-90℃에서 4시간 동안 교반하였다. 얻어진 용액을 대략 15℃로 냉각하고 1 ml 물에 용해된 0.8 g (0.02M) 수산화나트륨을 첨가한 다음, 15-20℃에서 2시간 동안 교반하여 소듐 포스페이트 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석결과 수득된 폴리머는 포스페이트 관능 폴리오가노실록산이었다.

실시예 12

소듐 포스페이트-관능 폴리디메틸실록산의 제조

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 256.3 g (2 M) 알릴글리시딜에테르 및 0.0003 g 백금 카스테트 촉매를 투입하고, 이 용액을 70℃로 가열하였다. 상기 용액에 134.3 g (1M) 테트라메틸디실록산을 70-75℃에서 6시간 동안 적하식으로 첨가하여 에폭시 관능 테트라메틸디실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 11.7 g (0.03 M) 상기 생성물, 222.5 g (0.75M) 옥타메틸디실록산 및 5 g 산성 이온교환수지를 투입하고, 이용액을 70℃에서 16시간 동안 교반하여 에폭시 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다.

응축기가 장치된 1000 ml 3목 둥근 바닥 플라스크에 152.7 g (0.03M) 상기 ㅅ생성물 및 7.0 g (0.06M) 인산 (85%)을 투입하고, 이 용액을 85-90℃에서 4시간 동안 교반하였다. 얻어진 용액을 대략 15℃로 냉각하고 1 ml 물에 용해된 0.8 g (0.02M) 수산화나트륨을 첨가한 다음, 15-20℃에서 2시간 동안 교반하여 소듐 포스페이트 관능 폴리디메틸실록산을 수득하였다. 생성물의 NMR 분석결과 수득된 폴리머는 포스페이트 관능 폴리오가노실록산이었다.

립 칼라 제제(CF 1-11)를 실시예 3-12의 말단-관능화 이온성 실리콘으로 제조하되, 막형성제를 배합하지 않은 제제들(비교 제제들)이 하기 표 1에 제시되어 있다. 들이

표 1 : 비교 립 칼라 제제들(CF 1 - 11)

배합성분, 함량 (g)	CF1	CF2	CF3	CF4	CF5	CF6	CF7	CF8	CF9	CF10	CF11
이온성 실리콘, 실시예 3	2.5	-	-	-	-	-	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 4	-	2.5	-	-	-	-	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 5	-	-	2.5	-	-	-	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 6	-	-	-	2.5	-	-	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 7	-	-	-	-	2.5	-	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 8	-	-	-	-	-	2.5	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 9	-	-	-	-	-	-	2.5	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 10	-	-	-	-	-	-	-	2.5	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 11	-	-	-	-	-	-	-	-	2.5	-	-
이온성 실리콘, 실시예 12	-	-	-	-	-	-	-	-	-	2.5	-
SE30(실리콘 검), Mementive Performance Materials	-	-	-	-	-	-	-	-	-	-	1.0
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	-	-	-	-	-	-	-	-	-	-	1.5
Bentone Gel VS-5 PC V (증점제), Elementis Specialties Inc.	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81
D5(용매), Mementive Performance Materials	4	4	4	4	4	4	4	4	4	4	4
Red Shade Dispersion "GE" (안료), International Foodcraft Corp.	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4
TiO2-MT100 TV(안료), Tri-K Industries	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29
탈이온수	-	-	-	-	-	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	-
글리세린(보습제), Sigma- Aldrich Inc.	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	-	-	-	-	-	-

하기 표 2 내지 5에 제시하는 바와 같이 본 발명에 따라 말단-관능화 이온성 실리콘 (I)과 막형성제의 혼합물로 립 칼라 제제(F1 -F30)를 제조하였다.

표 2: 술폰화된 이온성 실리콘과 막형성제의 혼합물을 함유하는 립 칼라 제제들

배합성분, 함량 (g)	F1	F2	F3	F4	F5	F6	F7	F8	F9
이온성 실리콘, 실시예 3	1.0	1.0	1.0	1.0	1.0	2.0	1.0	-	-
이온성 실리콘, 실시예 4	-	-	-	-	-	-	-	1.0	-
이온성 실리콘, 실시예 5	-	-	-	-	-	-	-	-	1.0
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	1.5	-	-	-	-	-	-	1.5	1.5
SilForm (유연성 레진), Mementive Performance Materials	-	1.5	-	-	-	-	-	-	-
Cloisite 30B(나노클레이), Southern Clay Products	-	-	1.5	-	-	-	-	-	-
Montmorillolite K10(클레이), Sigma-Aldrich Inc.	-	-	-	1.5	-	-	-	-	-
GanexV-220(VP/에이코센 코폴리머), ISP Corp.	-	-	-	-	1.5	-	-	-	-
Covacryl E14 (아크릴레이트 코폴리머), Sensient Cosmetic Technologies	-	-	-	-	-	1.5	-	-	-
Koboguard 5400 (폴리사이클로펜타디엔), Kobo Products Inc.	-	-	-	-	-	-	2.15	-	-
Bentone Gel VS-5 PC V (증점제), Elementis Specialties Inc.	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81
D5(용매), Mementive Performance Materials	4	4	4	4	4	4	3.3	4	4
Red Shade Dispersion "GE" (안료), International Foodcraft Corp.	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4
TiO2-MT100 TV(안료), Tri-K Industries	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29
글리세린(보습제), Sigma- Aldrich Inc.	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	-	1.24	1.24	1.24

표 3: 펜던트 술폰화 이온성 실리콘과 막형성제의 혼합물을 함유하는 립 칼라 제제들

배합성분, 함량 (g)	F10	F11	F12	F13	F14	F15	F16	F17
이온성 실리콘, 실시예 6	1.0	2.0	1.0	1.0	1.0	2.0	1.0	-
이온성 실리콘, 실시예 7	-	-	-	-	-	-	-	1.0
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	1.5	-	-	-	-	-	-	1.5
Aerosil 300(실리카), Evonik Industries	-	0.5	-	-	-	-	-	-
Cloisite 30B(나노클레이), Southern Clay Products	-	-	1.5	-	-	-	-	-
Montmorillolite K10(클레이), Sigma-Aldrich Inc.	-	-	-	1.5	-	-	-	-
GanexV-220(VP/에이코센 코폴리머), ISP Corp.	-	-	-	-	1.5	-	-	-
Covacryl E14 (아크릴레이트 코폴리머), Sensient Cosmetic Technologies	-	-	-	-	-	1.5	-	-
Koboguard 5400(폴리사이클로펜타디엔), Kobo Products Inc.	-	-	-	-	-	-	2.15	-
Bentone Gel VS-5 PC V (증점제), Elementis Specialties Inc.	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81
D5(용매), Mementive Performance Materials	4	4	4	4	4	4	3.3	4
Red Shade Dispersion "GE" (안료), International Foodcraft Corp.	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4
TiO2-MT100 TV(안료), Tri-K Industries	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29
글리세린(보습제), Sigma- Aldrich Inc.	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	-	1.24	1.24

표 4: 카복실레이트-관능화된 이온성 실리콘과 막형성제의 혼합물을 함유하는 립 칼라 제제들

배합성분, 함량 (g)	F18	F19	F20	F21	F22	F23	F24	F25	F26
이온성 실리콘, 실시예 8	1.0	2.0	1.0	1.0	1.0	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 9	-	-	-	-	-	1.0	1.0	1.0	-
이온성 실리콘, 실시예 10	-	-	-	-	-	-	-	-	1.0
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	1.5	-	-	-	-	1.5	-	-	1.5
Aerosil 300(실리카), Evonik Industries	-	0.5	-	-	-	-	-	-	-
Cloisite 30B(나노클레이), Southern Clay Products	-	-	1.5	-	-	-	1.5	-	-
Montmorillolite K10(클레이), Sigma-Aldrich Inc.	-	-	-	1.5	-	-	-	1.5	-
Koboguard 5400(폴리사이클로펜타디엔), Kobo Products Inc.	-	-	-	-	2.15	-	-	-	-
Bentone Gel VS-5 PC V (증점제), Elementis Specialties Inc.	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81	0.81
D5(용매), Mementive Performance Materials	4	4	4	4	3.3	4	4	4	4
Red Shade Dispersion "GE" (안료), International Foodcraft Corp.	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4	2.4
TiO2-MT100 TV(안료), Tri-K Industries	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29	0.29
탈이온수	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24	1.24

표 5: 포스페이트-관능화된 이온성 실리콘과 막형성제의 혼합물을 함유하는 립 칼라 제제들

배합성분, 함량 (g)	F27	F28	F29	F30
이온성 실리콘, 실시예 11	1.0	2.0	1.0	-
이온성 실리콘, 실시예 12	-	-	-	1.0
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	1.5	-	-	1.5
Aerosil 300(실리카), Evonik Industries	-	0.5	-	-
Cloisite 30B(나노클레이), Southern Clay Products	-	-	1.5	-
Bentone Gel VS-5 PC V(증점제), Elementis Specialties Inc.	0.81	0.81	0.81	0.81
D5(용매), Mementive Performance Materials	4	4	4	4
Red Shade Dispersion "GE" (안료), International Foodcraft Corp.	2.4	2.4	2.4	2.4
TiO2-MT100 TV(안료), Tri-K Industries	0.29	0.29	0.29	0.29
탈이온수	1.24	1.24	1.24	1.24

A. 전달 저항성

LCF 1 내지 LCF 26의 전달 저항성은 다음과 같은 예외 조건으로 미국특허 제6,074,654호에 기술된 방법을 이용하여 측정하였다:

각 제제의 균일한 막을 자동 막 도포기를 사용하여 인조 피부 필름(사전에 30% 수성 글리세린 용액을 통해 24 시간 동안 수화된 것임)에 형성하고, 40℃에서 건조하였다. 상기 막들을 테스터 장치를 사용하는 연마 공격(rubbing insult)을 받게 하였다. 500g 매스(mass)를 백색 면 니트 천으로 덮어씌워, 코팅된 실험용 피부(in vitro skin)의 표면에 올려놓고, 360도 회전시켰다. 다음 상기 천을 전자적으로 이미지화하여, 전달된 적색 립칼라 제제에 의해 어두워진 면적율을 이미지 처리 소프트웨어로 측정하였다. 이러한 과정은 각각의 실험용 피부의 동일한 위치에서 반복된다. 건조된 막을 가로지르는 연마 면의 각 회전(360도)은 1회 공격(one insult)으로 카운트된다. 전달율의 상한은 100%인 것으로 간주하며, 이는 전체 연마 면이 착색 물질로 커버된 것을 의미한다. 전달율이 낮을수록 전달저항이 더 양호함을 보여준다. 전달 저항 시험의 결과들이 하기 표 6-10에 제시되어 있다:

표 6: 비교 제제들(CF1 -11)의 전달 측정결과

	CF1	CF2	CF3	CF4	CF5	CF6	CF7	CF8	CF9	CF10	CF11
공격횟수 1	59%	55%	36%	67%	61%	56%	37%	30%	67%	37%	22%
공격횟수 2	23%	19%	13%	24%	19%	17%	11%	4%	18%	11%	19%
공격횟수 3	13%	78%	7%	7%	5%	7%	4%	3%	8%	4%	14%
공격횟수 4	4%	4%	2%	3%	2%	9%	4%	2%	3%	4%	10%
공격횟수 5	3%	3%	2%	3%	1%	3%	1%	0%	3%	1%	5%

표 7: 말단-캡핑된 이온성 실리콘과 막형성제를 함유하는 제제들(Fl-9)의 전달결과

	F1	F2	F3	F4	F5	F6	F7	F8	F9
공격횟수 1	4%	46%	18%	32%	13%	30%	24%	26%	9%
공격횟수 2	4%	22%	20%	18%	27%	11%	16%	22%	7%
공격횟수 3	6%	11%	15%	10%	18%	6%	8%	20%	9%
공격횟수 4	4%	5%	7%	7%	7%	3%	6%	7%	3%
공격횟수 5	4%	1%	3%	4%	3%	2%	3%	5%	1%

표 8: 펜던트-술폰화 실리콘과 막형성제를 함유하는 제제들(Fl0-17)의 전달결과

	F10	F11	F12	F13	F14	F15	F16	F17
공격횟수 1	48%	29%	40%	58%	32%	67%	47%	16%
공격횟수 2	29%	27%	25%	23%	36%	14%	21%	13%
공격횟수 3	9%	13%	13%	8%	20%	7%	6%	14%
공격횟수 4	10%	7%	5%	3%	7%	3%	4%	4%
공격횟수 5	11%	4%	3%	2%	3%	4%	2%	3%

표 9: 카복실레이트-관능화된 이온성 실리콘과 막형성제를 함유하는 제제들(Fl8-26)의 전달 측정결과

	F18	F19	F20	F21	F22	F23	F24	F25	F26
공격횟수 1	34%	20%	6%	9%	26%	0%	5%	5%	0%
공격횟수 2	11%	15%	10%	10%	13%	0%	5%	2%	0%
공격횟수 3	5%	7%	15%	13%	10%	0%	4%	2%	1%
공격횟수 4	4%	3%	5%	8%	6%	0%	4%	1%	0%
공격횟수 5	6%	2%	3%	10%	3%	0%	2%	1%	0%

표 10: 포스페이트-관능화된 이온성 실리콘과 막형성제를 함유하는 제제들(F27-30)의 전달 측정결과

	F27	F28	F29	F30
공격횟수 1	39%	25%	37%	1%
공격횟수 2	21%	17%	17%	5%
공격횟수 3	9%	12%	9%	9%
공격횟수 4	9%	7%	7%	16%
공격횟수 5	7%	5%	6%	23%

B. 태키니스(Tackiness) 특성

실험용 피부는 전술한 바와 동일하게 준비하였다. 제제가 상기 피부 표면상에서 건조된 다음, 건조된 필름의 택력(tack force)을 다이아-스트론 기기( Dia-Stron MTT 175)를 사용하여 측정하였다. 택력이 낮을수록 태키니스가 낮다. 태키니스 시험결과는 하기 표 11에 제시되어 있다.

표 11. 태키니스 특성

택력 (gmf)	CF3	CF11	F1	F9
1차 측정값	46.4	49.7	3.55	4.9
2차 측정값	33.7	51.85	4.75	4.85
3차 측정값	31.95	52.15	5.65	4.55
4차 측정값	30.35	52.65	6.25	4.8
5차 측정값	29.4	54.05	6.3	4.95
평균	34.36 ±6.92	52.08 ±1.57	5.3 ±1.16	4.81 ±0.15

C. 광택성

각 제제로 표준 레네타 카드(standard leneta card) 상에 균일한 두께의 막을 만들어 40℃에서 건조하였다. BYK 글로스미터(glossmeter)를 사용하여 건조된 막의 60도 및 85도 광택 측정값을 기록하였다. 측정결과는 하기 표 12에 제시되어 있다.

표 12: 광택성

	CF11	F1	F9	F6	F10	F17	F23
60 도	18.5	36.2	20.5	24.1	46.4	22.4	28.1
85 도	66.3	78.4	72.1	42.3	77.1	69.0	77.8

D. 경피수분손실량 (TEWL) 특성

본 발명의 화장료 조성물의 경피수분손실량 특성을 다음과 같은 예외 조건으로 미국 특허 제5,679,335호에 기술된 방법을 이용하여 측정하였다:

수화된 실험용 피부를 각각의 제제로 코팅하고 하룻밤 동안 40℃에서 건조하였다. 한 세트의 파인(Pyne) 컵 각각에 3.00 ml의 물을 넣고 각 제제로 코팅된 건조 실험용 피부로 각각 덮었다. 피부 표면에서 수분 손실의 속도를 MPA 580 기기에 부착된 Tewameter(상표명) TM 300 프로브를 사용하여 측정하였다. TWEL 시험 결과는 하기 표 13에 제시되어 있다.

	없음	F1	F26	F23
TEWL (g/mh2)	11.0	7.7	9.3	8.4

이온성 실리콘 (I)과 막형성제가 배합된 립 칼라 제제들이 관능화되지 않은 실리콘 또는 다른 비교 이온성 실리콘 만을 사용한 립 칼라 제제에 비해 우수한 전달저항성을 가진다는 것을 보여준다. 본 발명의 조성물들은 관능화되지 않은 실리콘에 기초한 조성물에 비하여, 광택성, 태키니스 감소, 및 경피수분손실량 특성에서 상당한 개선을 나타내었다.

아래(표 14)에 제시된 배합으로 헤어 트리트먼트 제제들(HTC 1-8)을 조제하여 컬 압축력(curl compression force)을 평가하였다(그 결과는 하기 표 15에 제시됨). 각 HTC는 사이클로디메티콘 D5로 희석하여 D5 중의 고형물 함량 5% 용액을 제조하였다. 각 표백 머릿단(2g 또는 6g 머릿단)을 각 용액에 1분간 침지하였다. 잉여 액체를 짜낸 머릿단을 45℃에서 오븐에 넣어 송풍 드라이어로 하룻밤 동안 건조하여 D5를 제거하였다. 이 절차에 의해, 같은 양의 실리콘이 각 머릿단에 전달되었다. 머릿단 측정은 50% 습도실에서 평형 후에 행하여 졌다. 모발 컬 압축은 다이아 스트론(MTT 175)를 사용하여 측정하였다.

본 발명에 따르는 헤어 트리트먼트 제제(표 14의 HTC 5-8)는 이온성 실리콘 만을 함유하는 헤어 트리트먼트 제제(표 14의 HTC 1-4)에 비하여 이온성 실리콘과 실리콘 수지의 조합을 갖는 모발 유지성의 상당한 개선을 보여주었다.

표 14: 이온성 실리콘을 함유하는 트리트먼트 조성물들

배합성분, 함량(g)	HTC1	HTC2	HTC3	HTC4	HTC5	HTC6	HTC7	HTC8
이온성 실리콘, 실시예 3	1.25	-	-	-	0.5	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 8	-	1.25	-	-	-	0.5	-	-
이온성 실리콘, 실시예 11	-	-	1.25	-	-	-	-	-
이온성 실리콘, 실시예 9	-	-	-	-	-	-	0.5	-
이온성 실리콘, 실시예 12	-	-	-	1.25	-	-	-	0.5
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	-	-	-	-	0.75	0.75	0.75	0.75
D5(용매), Mementive Performance Materials	25	25	25	25	25	25	25	25
탈이온수	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5	0.5

표 15: 다수회 컬 압축 결과

조성	HTC1	HTC2	HTC3	HTC4	HTC5	HTC6	HTC7	HTC8
평균 피크 스티프니스(gmf)	4.4	7.8	4.3	9.5	4.9	12.1	11.8	11.5

추가로 표 16에 제시한 바와 같은 배합조성을 가지는 헤어 트리트먼트 조성물들((HTC 9-11)을 제조하였다. 레진과 말단-관능화 이온성 실리콘의 블렌드들을 사이클로디메티콘 D5로 희석하여 D5 중의 고형물 함량 5% 용액을 제조하였다. 단일 표백 머릿단(2g 또는 6g 머릿단)을 각 용액에 1분간 침지하였다. 잉여 액체를 짜낸 머릿단을 45℃에서 오븐에 넣어 송풍 드라이어로 하룻밤 동안 건조하여 D5를 제거하였다. 이 절차에 의해, 같은 양의 실리콘이 각 머릿단에 전달되었다. 머릿단 측정은 50% 습도실에서 평형 후에 행하여 졌다. 모발 마찰계수μ는 긴장된 편평한 머릿단에서 편평 스테인레스 강 프로브를 갖는 CSM 마찰계로 측정하였다. 모발은 μ < 0.12 일 때 매끄러운 것으로 간주되었다.

표 16에 나타낸 바와 같이, HTC 9 및 10이 HTC 11의 비처리 모발(비교)에 비해 모발 마찰계수 및 안티-프리즈 효과(anti-frizz effect)의 상당한 감소를 나타내었다.

표 16 : 이온성 실리콘을 함유하는 헤어 트리트먼트들

	HTC9	HTC10	HTC11(비교)
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	1.13
SilForm (유연성 레진), Mementive Performance Materials		1.13
이온성 실리콘, 실시예 3	0.87	0.87
D5(용매), Mementive Performance Materials	98	98
모발 마찰계수	0.11	0.106	0.16
90% 상대 습도실 저장 후 모발 외관	적은 곱슬거림	적은 곱슬거림	매우 높은 곱슬거림

헤어 케어 제품으로 제제화될 때, 말단-관능화 이온성 실리콘과 비관능화 실리콘 레진의 블렌드는 예를 들어 에틸 트리록산, 옥틸 트리실록산, 사이클로디메티콘 등의 휘발성 실리콘 또는 휘발성 유기 용매(이소도데칸)과 같은 휘발성 용매로 희석될 수 있다. 희석된 블렌드는 수성 또는 비수성 스프레이, 수성 또는 비수성 포움, W/O 에멀젼 또는 O/W 에멀젼의 제형으로 모발에 적용될 수 있다.

공지 및 통상의 이러한 헤어 트리트먼트 제제 및 기타 헤어 트리트먼트 제제는 헤어 케어 제품에 사용되는 기타 성분들을 함유할 수 있으며, 그 예로는 습윤제(예를 들어, 판테놀, 부틸렌 글리콜, 솔비톨, 글리세린, 기타 폴리올 등), 아미노 산 및 천연 보습제(예를 들어, 피롤리돈 카본 산의 나트륨염), 비이온성 왁스(예를 들어, 지방 알코올, 에톡실화 왁스, 글리세롤 스테아레이트, 밀납, 파라핀 왁스 등), 양이온성 계면활성제, 에스테르, 트리글리세라이드 오일(예: 올리브 오일, 호호바 오일, 해바라기씨 오일, 코코넛 오일, 아르간 오일, 포도씨 오일 등), 천연 버터(예, 세어 버터, 코코아 버터 등), 유화제 (예, 실리콘 유화제, 실리콘 폴리에테르 코폴리머, 유기 유화제 등), 음이온성 및 양쪽성 계면활성제 (예: 에코코베아티인, SLES, 이소티오네이트, 슈가 계면활성제 등), 전착제 (예: 실리콘 슈퍼스프레더 등), 고체 입자 (예: 안료, 미네랄, 탈크, 마이카, 산화철, 질화붕소, 산화티탄, 클레이 등), 영구 및 반-영구 모발 염료, 방향제, 식물추출물과 같은 활성물질, 폴리페놀, 폴리사카라이드 (예: 키토산), 프로틴 (예: 케라틴, 실크 프로틴, 휘트 프로틴 등), 지질, 스테롤, 및 비듬방지활성물질(예: 아연 피리티온, 셀레늄 설파이드, 항진균제 등), 살리실산, 글리콜산, 모발 성장 활성물질, 노화방지활성물질(예: 레티놀, 알파-하이드록시 산 등.), 니아신아미드, 환원제 (예: 티오글리콜레이트, 시스테아민, 등), 설파이트, 산화제 (예: 과산화 수소, 브로메이트 등), 릴렉서 (예: 수산화나트륨, 구아니딘 등), 가교제 (예: 알데히드, 에폭시 함유 화학물, 실란, 엔자임 등), 스타일링 폴리머 (예: PVP, 아크릴레이트 코폴리머 등), 증점 폴리머 (예: 아크릴레이트, 폴리아크릴아미드, 셀룰로오즈, 전분, 폴리사카라이드 검, 펙틴, 등), 디포지션 에이드 폴리머 (예: 양이온성 구아, 양이온성 셀룰로오즈, 메르콰트, 등), 방부제, 살생물제(예: 페녹시에탄올, 소르브산 칼륨, 벤조산, 소르브산, 등.), 방향제, 산화방지제 (예: 비타민 E), UVA 및 UVB 썬스크린제, 선리스 태닝제 (예: 디하이드록시아세톤, 등)가 있다.

곱슬머리 처리용 빗질 오일들(Combing oils: COs)이 표 17에 나타낸 바와 같이 제조되었다. 각 CO가 손상되지 않은 곱슬머리(Hair International Inc.)에 산포되어 모발 투여량이 0.25 g/g이었다. 이 모발을 세빗으로 빗질하고, 전체 빗 이동거리를 자(ruler)로 측정하였다. 빗 이동거리가 비처리 모발에 비해 증대되는 경우에 CO 효과가 있는 것으로 나타내었다.

표 17에 나타낸 바와 같이, 비처리 모발(C03, 비교)은 불량한 빗질능력을 보여주었다. 비교 1은 바셀린으로 처리될 모발이며, 빗질능이 다소 개선되었으나, 미끈거리는 느낌을 주었다. CO 1로 처리된 머릿단은 향상된 빗질능을 나타내었으며, 미끈거림이 덜하였다.

표 17: 곱슬머리 빗질 오일

배합성분, 함량 (g)	CO1	CO2	CO3(비교)
백섹 바세린	49	100
이온성 실리콘, 실시예 5	49
탈이온수	2
풀어진 길이 (cm)	5	4	3
감촉	매끄러움	미끈거림	깨끗함

본 발명에 따르는 다양한 이온성 실리콘을 함유하는 유중수 에멀젼 (WO 1-6)을 표 18에 제시한 바와 같이 제조하였다.

표 18: 이온성 실리콘을 함유하는 유중수 에멀젼

배합성분, 함량 (g)	WO1	WO2	WO3	WO4	WO5	WO6
SilForm 60A, Mementive Performance Materials	2	2	2	2	2	2
Isododecane (용매), Presperse LLC	10	10	10	10	10	10
Silsoft ETS, Mementive Performance Materials	10	10	10	10	10	10
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	5	5	5	5	5	5
이온성 실리콘, 실시예 3	2.5	0	0	0	0	0
이온성 실리콘, 실시예 5	0	2.5	0	0	0	0
이온성 실리콘, 실시예 6	0	0	2.5	0	0	0
이온성 실리콘, 실시예 7	0	0	0	2.5	0	0
이온성 실리콘, 실시예 8	0	0	0	0	2.5	0
이온성 실리콘, 실시예 11	0	0	0	0	0	2.5
NaCl	0.8	0.8	0.8	0.8	0.8	0.8
부틸렌글리콜	3	3	3	3	3	3
탈이온수	66.7	66.7	66.7	66.7	66.7	66.7

실시예 5의 이온성 실리콘을 함유하는 수중유 에멀젼 (OW 1-7)을 표 19에 제시한 바와 같이 제조하였다.

표 19: 이온성 실리콘을 함유하는 수중유 에멀젼

배합성분, 함량 (g)	OW1	OW2	OW3	OW4	OW5	OW6	OW7
AMP-95(아미노메틸 프로판올), Dow Chemical	0.56						0.7
Aculyn 180(아크릴레이트s/Hydroxyesters 아크릴레이트s Coppolymer), Dow Chemical	2
Aculyn 88(아크릴레이트s/Steareth-20 메타크릴레이트 가교폴리머), Dow Chemical	5
Cellosize PCG-10(하이드록시에틸 셀룰로오즈), Dow Chemical		1.5
Ucare-JR 30M(polyquaternium-10), Dow Chemical		0.05
Ssepigel 305, SEPPIC			5
Aristoflex AVC, Clariant				2
Carbopol 980, Lubrizol							0.9
Fixate G-100, Lubrizol							2.6
Ultrez 20, Lubrizol					0.2
Carbopol Aqua SF-1(30%), Lubrizol						1
글리세릴 스테아레이트 및 PEG-100 스테아레이트, HallStar					2	6
세테아릴 알코올, Sigma Aldrich					1	3
수산화나트륨 (18%)					0.2	0.2
판테놀, Sigma Aldrich					0.5	0.5
디소듐 EDTA					0.05	0.05
SR1000(실리콘 레진), Mementive Performance Materials	5	5	5	5	5	5	5
이온성 실리콘, 실시예 5	2.5	2.5	2.5	2.5	2.5	2.5	2.5
D5(용매), Mementive Performance Materials	7	7	7				7
Isododecane (용매), Presperse LLC		7				7
Silsoft ETS, Mementive Performance Materials			7	7	7
탈이온수	q.s 100	q.s 100	q.s 100	q.s 100	q.s 100	q.s 100	q.s 100

위의 상세한 설명은 다수의 구체적인 실시예들을 포함하고 있지만, 이러한 구체적인 실시예들은 본 발명의 바람직한 구현들의 예시들로만 해석되어야지, 본 발명에 제한을 가하기 위한 것으로 해석되어서는 아니 된다. 당 분야의 전문가들은 첨부하는 청구범위에서 한정된 바와 같은 본 발명의 범위 및 정신 안에서 수많은 다른 구현들을 예상할 수 있을 것이다.

Claims (22)

1. 적어도 1종의 말단-관능화 이온성 실리콘 및 적어도 1종의 막형성제를 포함하여 구성되며,
   여기서 상기 말단-관능화 이온성 실리콘이 하기 식을 가지고:
   M¹ _aM² _bM³ _cD¹ _dD² _eD³ _fT¹ _gT² _hT³ _iQ_j (I)
   [여기서,
   M¹　= R¹R²R³SiO_1/2
   M²　= R⁴R⁵R⁶SiO_1/2
   M³　= R⁷R⁸R⁹SiO_1/2
   D¹　= R¹⁰R¹¹SiO_2/2
   D²　= R¹²R¹³SiO_2/2
   D³　= R¹⁴R¹⁵SiO_2/2
   T¹　= R^l6Si0_3/2
   T²　= R¹⁷SiO_3/2
   T³　= R¹⁸Si0_3/2
   Q = Si0_4/2 이고_,
   여기서
   R¹, R², R³, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹, R¹³, R¹⁴, R¹⁵, R¹⁶ 및 R¹⁸은 각각 독립적으로 1 내지 60개의 탄소원자를 가지는 지방족 또는 방향족 1가 탄화수소 기이고;
   R⁴, R¹²　및 R¹⁷은　각각 독립적으로 이온-쌍을 보유하며 식 -A-I^x-M_n ^y+을 가지는 1가의 기 또는 식 -R'-N⁺(R")₂-R'"-I^-을 가지는 쯔비터이온이고, 여기서 A는 적어도 하나의 스페이싱 원자를 가지는 스페이싱 모이어티이고, 상기 스페이싱 모이어티는 2가의 탄화수소 기 및 하이드로카본옥시 기로 이루어진 군에서 선택되고, I는 이온성 기이고, R'는 1 내지 20개의 탄소원자를 가지는 2가의 탄화수소 기이고, R"는 1 내지 20개의 탄소원자를 가지는 1가의 탄화수소 기이고, R'"는 2 내지 20개의 탄소원자를 가지는 2가의 탄화수소 기이며, 각각의 M은 독립적으로 수소 또는 알칼리금속, 알칼리토금속, 전이금속, 4차 암모늄 기 및 포스포늄 기에서 독립적으로 선택되는 양이온이고;
   첨자 a, c, d, e, f, g, h, i 및 j는 각각 독립적으로 영(0) 또는 양의 정수이나, 단 2 ≤ a+b+c+d+e+f+g+h+i+j ≤ 4500이고, b ≥ 2이고],
   여기서 상기 막형성제가 오가노실록산 레진들, 탄화수소 폴리머들, 적어도 1종의 헤테로원자를 함유하는 탄화수소 폴리머들, 불소원자-함유 탄화수소 폴리머들 및 클레이들로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종이고,
   그리고 여기서 오가노실록산 막형성제가 관계식 R_nSiO_(4-n)/2 (여기서 n은 0과 1.50 사이의 값이고, R은 독립적으로 메틸, 트리플루오로메틸, 페닐렌메틸 및 페닐 기에서 선택됨)을 만족하는 상호 간 비율의 R₃SiO_1/2, R₂SiO, RSiO_3/2, 및 Si0₂　단위들의 조합을 포함하는, 퍼스널 케어 조성물.
2. 삭제
3. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, R¹, R², R³, R⁵, R⁶, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹, R¹³, R¹⁵　및 R¹⁶ 기는 각각 독립적으로 메틸, 에틸, n-프로필, 이소-프로필, n-부틸, 이소부틸, tert-부틸, n-펜틸, 이소-펜틸, 네오펜틸, tert-펜틸, 헥실, 헵틸, 옥틸, 노닐, 데실, 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 메틸사이클로헥실, 나프틸; 톨릴, 자일릴, 에틸페닐 및 벤질에서 선택되는, 퍼스널 케어 조성물.
4. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 2가의 스페이싱 기 A는 알킬렌 기 -(CHR²⁰)_m-이고, 여기서 R²⁰은 수소 또는 R¹　기이고, 첨자 m은 1 내지 100의 범위에 있는 양의 정수인, 퍼스널 케어 조성물.
5. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 2가의 스페이싱 기 A는 -(CHR^2l)_kC₆H₄(CH₂)_r-CH₂CH(R')(CH₂)_kC₆H₄- 또는 -CH₂CH(R²²)(CH₂)_rC₆H₃R²³-에서 선택되는 아릴렌 기이고, 여기서 R'는 수소 또는 R¹　기이고, R²¹은 수소 또는 R¹기이고, R²²는 수소 또는 R¹　기이고, R²³은 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 1가의 라디칼이며, 첨자 k 및 r은 영(0) 또는 양의 정수이나, 단 0 ≤ k + r ≤ 100인, 퍼스널 케어 조성물.
6. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 2가의 스페이싱 기 A는 -(CHR²⁴)_s-(0-CHR²⁴CH₂)_s'- 및 -0-(CH₂)_t-에서 선택되는 하이드로카본옥시 기이고, 여기서 R²⁴는 수소 또는 R¹　기이고, s는 0 내지 50의 값을 가지고, s'는 1 내지 50의 값을 가지며, t는 0 내지 50의 값을 가지나, 단 1 ≤ s + s' + t≤ 100 인, 퍼스널 케어 조성물.
7. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 상기 이온-쌍-보유 기와 상기 쯔비터이온에 있는 I^-는 설포네이트 -SO₃ ^-　및 설페이트 -OSO₃ ^-에서 선택되는, 퍼스널 케어 조성물.
8. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, M⁺는 Li, Na, K, Cs, Mg, Ca, Ba, Zn, Cu, Fe, Ni, Ga, Al, Mn, Cr, Ag, Au, Pt, Pd, Ru 및 Rh에서 선택되는, 퍼스널 케어 조성물.
9. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 상기 쯔비터이온에 있는 R'은 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가의 탄화수소 라디칼이고, R"는 1 내지 20개의 탄소원자를 갖는 1가의 탄화수소 라디칼이며, R"'는 2 내지 20개의 탄소원자를 갖는 2가의 탄화수소 라디칼인, 퍼스널 케어 조성물.
10. 삭제
11. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)에서, 첨자 b는 2이고; 첨자 a, c, e, f, g, h, i 및 j는 0이고; 첨자 d는 5 내지 1000이고, R⁵, R⁶, R¹⁰　및 R¹¹은 메틸 또는 에틸이고; A는 2가의 벤질 라디칼이고; M⁺는 Li, Na, K, Ag, 4차 암모늄 기, 암모늄 염 또는 포스포늄 기인, 퍼스널 케어 조성물.
12. 제1항에 있어서, 말단-관능화된 이온성 실리콘 (I)이 소듐 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 은 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 마그네슘 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 칼슘 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산, 아연 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실록산 및 트리에탄올암모늄 설포네이트-캡핑된 폴리디메틸실란 중의 적어도 1종인, 퍼스널 케어 조성물.
13. 삭제
14. 삭제
15. 제1항에 있어서, 상기 탄화수소 폴리머 막형성제가 폴리부텐, 폴리이소부텐, 폴리사이클로펜타디엔, 바세린 및 광유로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 퍼스널 케어 조성물.
16. 제1항에 있어서, 적어도 1종의 헤테로원자를 함유하는 상기 탄화수소 폴리머가 폴리비닐피롤리돈 (PVP)/에이코센 코폴리머, PVP/헥사데센 코폴리머, 아크릴레이트 코폴리머 및 폴리비닐 알코올로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 퍼스널 케어 조성물.
17. 제1항에 있어서, 막형성성인 상기 클레이가 변성 클레이들, 비변성 클레이들, 몬모릴로나이트 및 벤토나이트로 이루어진 군에서 선택되는 적어도 1종인, 퍼스널 케어 조성물.
18. 제1항에 있어서, 제1항에서 정의된 바와 같은 말단-관능화 실리콘을 제외한 비-관능화 실리콘을 적어도 1종 더 포함하여 구성되는, 퍼스널 케어 조성물.
19. 제1항에 있어서, 적어도 1종의 유기 용매를 더 포함하여 구성되는, 퍼스널 케어 조성물.
20. 제1항에 있어서, 수중유형 또는 유중수형 에멀젼으로 제제화된, 퍼스널 케어 조성물.
21. 제1항에 있어서, 상기 퍼스널 케어 조성물이 데오도런트, 발한억제제, 롤-온 제품, 쉐이빙제, 토너, 목욕제, 클렌징제, 샴푸, 조합된 샴푸/콘디셔너, 스타일링 겔, 헤어스프레이, 모발염색제, 모발색제, 모발표백제, 웨이빙제, 헤어스트레이트너, 네일폴리시, 네일폴리시 리무버, 네일 크림 및 로션, 각질 연화제, 방충제, 노화방지제, 립스틱, 페이스 파우더, 아이라이너, 아이쉐도우, 블러쉬(blushes), 마스카라, 모이스쳐라이징 조제, 화운데이숀, 바디 및 핸드 조제, 스킨케어 조제, 페이스 및 넥 조제, 토닉, 드레싱, 헤어 그루밍 에이드, 에어로졸 픽사티브, 향 조제, 애프터쉐이브, 메이크-업 조제, 소프트 포커스 용품, 비-착색 모발 조제, 태닝 조제, 합성 및 비-합성 비누바, 핸드 리퀴드, 노우즈 스트립, 퍼스널 케어용 부직포 용품, 베이비로션, 베이비 배스 및 샴푸, 베이비 콘디셔너, 큐컴버 슬라이스, 스킨 패드, 메이크업 리무버, 콜드크림, 썬스크린제, 무스, 스프리츠, 페이스트 마스크 및 머드, 페이스 마스크, 콜로뉴 및 화장수, 헤어 큐티클 코트, 샤워겔, 페이스 및 바디 워시, 퍼스널 케어 린스-오프제, 포움 배스, 스크러빙 클렌저, 아스트린젠트, 네일 콘디셔너, 아이쉐도우 스틱, 립밤, 립글로스, 헤어케어 펌프 스프레이 및 기타 비-에어로졸 스프레이, 헤어-프리즈-콘트롤 겔, 헤어 리브-인 콘디셔너, 헤어 포마드, 헤어 디탱글링제, 모발 고정제, 헤어 블리치제, 스킨 로션, 프리쉐이브 및 프리일렉트릭 쉐이브, 무수 크림 및 로션, 유/수형, 수/유형, 멀티플 매크로 및 마이크로 에멀젼, 내수성 크림 및 로션, 여드름피부용 조제, 구강세척제, 마사지 오일, 치약, 클리어 겔 및 스틱, 연고 베이스, 국부 상처치유제, 에어로졸 탈크, 배리어 스프레이, 허브추출물 조제, 배스 솔트, 배스 및 바디 밀크, 헤어 스타일링 에이드(hair styling aids), 헤어-, 아이-, 네일- 및 스킨-소프트 용품, 방출 조절 퍼스널 케어제, 헤어 콘디셔닝 미스트, 스킨 케어 모이스쳐라이징 미스트, 스킨 와이프, 포어 클렌저, 블레미시 리듀서, 스킨 엑스폴리에이터, 박피개선제, 스킨 타월레트 및 클로스, 제모제, 퍼스널 케어 윤활제, 네일 착색 조제, 피부에 적용되는 의약 조성물의 국부 적용을 위한 약물 전달 시스템 및 이들의 조합들로 이루어진 군에서 선택되는, 퍼스널 케어 조성물.
22. 삭제