JPH06247827A

JPH06247827A - メイクアップ化粧料

Info

Publication number: JPH06247827A
Application number: JP5031641A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Watanabe; 博渡辺; Masanori Okada; 正紀岡田
Original assignee: Pola Chemical Industries Inc
Current assignee: Pola Chemical Industries Inc
Priority date: 1993-02-22
Filing date: 1993-02-22
Publication date: 1994-09-06

Abstract

(57)【要約】【目的】塗布部に滑らかな感触を付与する効果に優
れ、かつ、皮膚への吸着性が高く、洗浄や摩擦で落ちに
くいメイクアップ化粧料を提供する。【構成】化１又は化２で表されるスルホン酸変性シリ
コーンをメイクアップ化粧料に配合する。【化１】【化２】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、メイクアップ化粧料に
関し、詳しくはスルホン酸変性シリコーンを含有するメ
イクアップ化粧料に関する。

【０００２】

【従来の技術】メイクアップ化粧料の塗布膜に滑らかさ
や撥水、撥油性（耐汗、耐皮脂性）による化粧持ちの良
さを与えるために、各種のシリコーン誘導体が使用され
ている。これらのシリコーン誘導体は、炭化水素やエス
テル油剤に比べ、べたつきが少ないという利点も有する
ため、メイクアップ化粧料に汎用されている。

【０００３】しかしながら、一般にシリコーン誘導体
は、角質ケラチンへの吸着性が小さく、洗浄や摩擦によ
り肌から除去され易く、洗浄や摩擦に対しては化粧持ち
が悪いという問題があった。

【０００４】そこで、耐汗、耐皮脂性等を向上させ、化
粧持ちを良くするために、高分子シリコーン（特開昭６
３−１８３５１６号）、フッ素変性シリコーン（特開平
２−２９５９１３号、特開平２−２９８３３８号公
報）、ポリエーテル変性シリコーン（特開平３−２０４
８０６号）を使用したメイクアップ化粧料が開発されて
いる。これらの技術により化粧持ちを良くすることに成
功しているが、一層化粧持ちを良くするために、耐洗浄
性や耐摩擦性に優れたメイクアップ化粧料が望まれてい
る。

【０００５】一方、シリコーン誘導体の中でも、アミノ
変性シリコーンは、角質ケラチンへの吸着性が比較的高
いといわれており、化粧持ちには優れているが、一般的
なシリコーンが持つ肌への滑らかさ、しっとり感付与と
いう効果は不十分であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記観点か
らなされたものであり、メイクアップ化粧料の塗布膜に
滑らかさを付与し、かつ、洗浄や摩擦に対する化粧持ち
が良いメイクアップ化粧料を提供することを課題とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意研究を行った結果、下記化３又は化
４で表わされるスルホン酸変性シリコーンをメイクアッ
プ化粧料に配合すると、塗布膜に滑らかさを付与するこ
とができ、かつ、洗浄や摩擦に対する化粧持ちを向上さ
せることができることを見出し、本発明に至った。

【０００８】すなわち本発明は、下記化３で表されるス
ルホン酸変性シリコーン（以下、「スルホン酸変性シリ
コーンＩ」という。）、あるいは化４で表されるスルホ
ン酸変性シリコーン（以下、「スルホン酸変性シリコー
ンII」という。）を含有するメイクアップ化粧料であ
る。

【０００９】

【化３】

【００１０】ただし、Ｒ₁はメチル基、又はフェニル
基、Ｒ₂はアリーレン基、アルキレン基、アルカリーレ
ン基又はアラルキレン基、好ましくはフェニレン基、炭
素数１〜４の低級アルキル基で置換されたフェニレン
基、炭素数１〜５のアルキレン基、-C₆H₄CH₂-、-C₆H₄CH
₂CH₂-等を表す。また、Ａは、水素原子、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ等のアルカリ金属、アンモニア、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−
アミノ−２−メチル１−プロパノール、２−アミノ−２
−メチル−１，３−プロパンジオール等の有機アミン塩
を、ｍ、ｎは各々好ましくは１０〜２００、５０〜２０
００、さらに好ましくは３０〜１００、３００〜１００
０の整数を表す。

【００１１】

【化４】

【００１２】ただし、Ｒ₁はメチル基、又はフェニル
基、Ｒ₂はアリーレン基、アルキレン基、アルカリーレ
ン基又はアラルキレン基、好ましくはフェニレン基、炭
素数１〜４の低級アルキル基で置換されたフェニレン
基、炭素数１〜５のアルキレン基、-C₆H₄CH₂-、-C₆H₄CH
₂CH₂-等を表す。また、Ａは、水素原子、Ｌｉ、Ｎａ、
Ｋ等のアルカリ金属、アンモニア、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２−
アミノ−２−メチル１−プロパノール、２−アミノ−２
−メチル−１，３−プロパンジオール等の有機アミン塩
を、ｎは好ましくは１０〜３０００、さらに好ましくは
２００〜２０００の整数を表す。以下、本発明を詳細に
説明する。

【００１３】＜１＞本発明に用いるスルホン酸変性シリ
コーンＩ前記スルホン酸変性シリコーンＩは、上記化３で表さ
れ、ブロック共重合体でもランダム共重合体でもよく、
その数平均分子量（Ｍｎ）は好ましくは３〜１０万、特
に好ましくは５万〜６万である。

【００１４】ｍが１０よりも少ない、あるいはｎが５０
よりも少ないと、本発明の目的を満足する効果が期待で
きない。また、ｍが２００以上、あるいはｎが２０００
以上であってもよいが、合成過程での反応が進行しにく
い。

【００１５】以下に、スルホン酸変性シリコーンＩの製
造法を説明する。本発明に用いるスルホン酸変性シリコ
ーンＩは、側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシ
リコーンを合成し、続いて該シリコーンをスルホン化す
ることにより製造することができる。

【００１６】ここで、側鎖にスルホン化剤と反応しうる
基を持つシリコーンは、化５で示される。

【００１７】

【化５】

【００１８】ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、ｍ、ｎは上記と同じで
あり、Ｘはスルホン化剤と反応する基、例えばハロゲン
原子、ビニル基、又は芳香環に結合した水素原子等であ
る。また該シリコーンはブロック共重合体でもランダム
共重合体でもよい。

【００１９】側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つ
シリコーンは、ｍ個のＳｉに結合した水素を持つシリコ
ーンと、スルホン化剤と反応しうる基及びビニル基を持
つ化合物（ヒドロシリル化剤）とを白金系触媒の存在下
に付加反応させるヒドロシリル化反応により製造する。

【００２０】ヒドロシリル化反応の原料として使用する
上記Ｓｉに結合した水素を持つシリコーンは、化６で示
される。

【００２１】

【化６】

【００２２】ここで、Ｒ₁、ｍ、ｎは上記と同じであ
り、また該シリコーンはブロック共重合体でもランダム
共重合体でもよい。該Ｓｉに結合した水素を持つシリコ
ーンは公知の方法によって製造される。例えば該シリコ
ーンとしてのポリメチルポリハイドロジェンポリシロキ
サンは、オクタメチルシクロテトラシロキサンと１，
３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン及び
エンドキャップとしてペンタメチルジシロキサンの平衡
化反応で製造される。好ましくは該平衡化反応は、窒素
等の不活性ガス雰囲気下で、ヘキサン等の炭化水素系溶
媒の存在下に、反応温度０〜１００℃、反応時間２４〜
１００時間で終了する。また、原料として使用されるオ
クタメチルシクロテトラシロキサンと１，３，５，７−
テトラメチルシクロテトラシロキサン及びヘキサメチル
ジシロキサンのモル比は、所望の目的物の分子量及びｎ
／ｍ比により適宜調節される。

【００２３】一方、スルホン化剤と反応しうる基及びビ
ニル基を持つヒドロシリル化剤は化７の一般式で示され

【００２４】

【化７】

【００２５】（ここで、Ｒ₂は上記と同じであり、Ｒ₃は
アリール基、アルカリール基又はアラルキル基であ
る。）、例えば

【００２６】

【化８】

【００２７】（ここで、ｐは、整数であり好ましくは１
〜５である。）等が挙げられる。該ヒドロシリル化剤の
使用量は、化６の式中のＳｉに結合した水素に対し当量
比で１．０〜１．３が好ましい。

【００２８】また、白金系触媒としては、例えば塩化白
金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が使用
され、その添加量はヒドロシリル化剤に対して１×１０
^-4〜１×１０^-5当量が好ましい。また、該ヒドロシリル
化反応に際しては、好ましくは、溶媒として例えばヘキ
サン、ベンゼン等の脂肪族炭化水素あるいは芳香族炭化
水素が使用される。該ヒドロシリル化反応の好ましい例
を挙げれば、該反応は、反応系を窒素等の不活性ガス雰
囲気下に置き、反応温度を０〜１００℃として、反応時
間が１時間〜２４時間程度で終了する。

【００２９】次に、上記ヒドロシリル化反応によって製
造された側鎖にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリ
コーンをスルホン化してスルホン酸変性シリコーンを製
造する。

【００３０】ここで使用するスルホン化剤は、ヒドロシ
リル化反応で使用したヒドロシリル化剤の種類によって
異なり、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子
を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学式（１）又は
化学式（２）の化合物を使用した場合には、例えばＮａ
₂ＳＯ₃、ＮａＨＳＯ₃等が好ましい。スルホン化剤と反
応する基としてビニル基を有するヒドロシリル化剤、例
えば、化学式（３）又は化学式（４）の化合物を使用し
た場合には、例えばＮａＨＳＯ₃等が好ましい。スルホ
ン化剤と反応する基としてフェニル基を有するヒドロシ
リル化剤、例えば、化学式（５）又は化学式（６）の化
合物を使用した場合には、例えばＨ₂ＳＯ₄、ＨＳＯ₃Ｃ
ｌ等が好ましい。該スルホン化剤の使用量は、化５中の
スルホン化剤と反応する基Ｘに対して当量比で１〜５が
好ましい。

【００３１】スルホン化反応に際しては、溶媒として例
えば１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン又は炭素数５〜８の炭化
水素系溶媒（例えばヘキサン等）等、又はこれらの二種
類以上を混合して使用してもよい。好ましい反応条件を
例示すると、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気下に置
き、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は反応温度は５０
〜３００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。ビニ
ル基を有するヒドロシリル化剤あるいはフェニル基を有
するヒドロシリル化剤を使用した場合は共に反応温度は
０〜１００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。

【００３２】あるいは、本発明のスルホン酸変性シリコ
ーンは、化６のｍ個のＳｉに結合した水素を持つシリコ
ーンを一工程でヒドロシリル化することにより製造する
こともできる。このためのヒドロシリル化剤は化９の一
般式で示され

【００３３】

【化９】

【００３４】（ここで、Ｒ₂は上記と同じである。）、
例えば

【００３５】

【化１０】

【００３６】等が挙げられる。また、該化合物の使用量
は、化６中のｍ個のＳｉに結合した水素に対し当量比で
１〜１．１が好ましい。白金系触媒としては、例えば塩
化白金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液等が
使用され、その添加量は上記ヒドロシリル化剤に対して
１×１０^-4〜１×１０^-5当量が好ましい。

【００３７】該反応においても、好ましくは、溶媒とし
て例えば１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、炭素数５〜８の脂
肪族炭化水素（例えばヘキサン等）又は芳香族炭化水素
等が使用され、これら二種類以上を混合して使用しても
よい。また、好ましい反応条件を例示すれば、反応系を
窒素等の不活性ガス雰囲気下に置き、反応温度を０〜１
００℃とし、反応時間を１〜１０時間程度とする。

【００３８】スルホン酸基をアンモニウム塩又はアミン
塩にする方法は公知である。例えば、上記のようにして
製造した化３のＡが一価の金属であるスルホン酸変性シ
リコーンをヘキサン又はヘプタンに溶解し、これに塩酸
又は硫酸の水溶液を加えて、好ましくは反応温度０〜５
０℃、好ましくは反応時間５分〜１時間で酸性加水分解
した後、シリコーン相を取り出し、これに上記のアミン
を加えるとアミン塩の形のスルホン酸変性シリコーンが
生成する。

【００３９】＜２＞本発明に用いるスルホン酸変性シリ
コーンII 前記スルホン酸変性シリコーンIIの数平均分子量（Ｍ
ｎ）は好ましくは１０００〜２０万、特に好ましくは１
万〜１５万である。

【００４０】ｎが１０よりも少ないと、本発明の目的を
満足する効果が期待できない。また、ｎが３０００以上
であってもよいが、合成過程での反応が進行しにくい。
以下に、スルホン酸変性シリコーンIIに製造法を説明す
る。

【００４１】本発明に用いるスルホン酸変性シリコーン
IIは、片末端にスルホン化剤と反応しうる基を持つシリ
コーンを合成し、続いて該シリコーンをスルホン化する
ことにより製造することができる。

【００４２】ここで、片末端にスルホン化剤と反応しう
る基を持つシリコーンは、化１１で示される。

【００４３】

【化１１】

【００４４】ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、ｎは上記と同じであ
り、Ｘはスルホン化剤と反応する基、例えばハロゲン原
子、ビニル基、又は芳香環に結合した水素原子等であ
る。上記の片末端にスルホン化剤と反応しうる基を持つ
シリコーンは、片末端のＳｉに結合した水素を持つシリ
コーンと、スルホン化剤と反応しうる基及びビニル基を
持つ化合物（ヒドロシリル化剤）とを白金系触媒の存在
下に付加反応させるヒドロシリル化反応により製造す
る。

【００４５】ヒドロシリル化反応の原料として使用する
上記の片末端のＳｉに結合した水素を持つシリコーン
は、化１２で示される。

【００４６】

【化１２】

【００４７】ここで、Ｒ₁、ｎは上記と同じである。該
片末端のＳｉに結合した水素を持つシリコーンは公知の
方法によって製造される。例えば該シリコーンとしての
片末端水素封止のポリメチルポリシロキサンは、オクタ
メチルシクロテトラシロキサン及びエンドキャップとし
てペンタメチルジシロキサンの平衡化反応で製造され
る。好ましくは該平衡化反応は、窒素等の不活性ガス雰
囲気下で、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶媒の存
在下に、反応温度０〜１００℃、反応時間１０〜１００
時間で終了する。また、原料として使用されるオクタメ
チルシクロテトラシロキサン及びペンタメチルジシロキ
サンのモル比は、所望の目的物の分子量により適宜調節
される。

【００４８】一方、スルホン化剤と反応しうる基及びビ
ニル基を持つヒドロシリル化剤は化１３の一般式で示さ
れ

【００４９】

【化１３】

【００５０】（ここで、Ｒ₂は上記と同じであり、Ｒ₃は
アリール基、アルカリール基又はアラルキル基であ
る。）、例えば

【００５１】

【化１４】

【００５２】（ここで、ｐは、整数であり好ましくは１
〜５である。）等が挙げられる。該ヒドロシリル化剤の
使用量は、化１２中のＳｉに結合した水素に対し当量比
で１．０〜５．０が好ましい。

【００５３】また、白金系触媒としては、例えば塩化白
金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液当が使用
され、その添加量はヒドロシリル化剤に対して１×１０
^-4〜１×１０^-5当量が好ましい。また、該ヒドロシリル
化反応に際しては、好ましくは、溶媒として例えばヘキ
サン、ベンゼン等の脂肪族炭化水素あるいは芳香族炭化
水素が使用される。該ヒドロシリル化反応の好ましい例
を挙げれば、該反応は、反応系を窒素等の不活性ガス雰
囲気下に置き、反応温度を０〜１００℃として、反応時
間が５時間〜５０時間程度で終了する。

【００５４】次に、上記ヒドロシリル化反応によって製
造された片末端にスルホン化剤と反応しうる基を持つシ
リコーンをスルホン化してスルホン酸変性シリコーンを
製造する。

【００５５】ここで使用するスルホン化剤は、ヒドロシ
リル化反応で使用したヒドロシリル化剤の種類によって
異なり、スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子
を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学式（１）又は
化学式（２）の化合物を使用した場合には、例えばＮａ
₂ＳＯ₃、ＮａＨＳＯ₃等が好ましい。

【００５６】スルホン化剤と反応する基としてビニル基
を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学式（３）又は
化学式（４）の化合物を使用した場合には、例えばＮａ
ＨＳＯ₃等が好ましい。スルホン化剤と反応する基とし
てフェニル基を有するヒドロシリル化剤、例えば、化学
式（５）又は化学式（６）の化合物を使用した場合に
は、例えばＨ₂ＳＯ₄、ＨＳＯ₃Ｃｌ等が好ましい。

【００５７】該スルホン化剤の使用量は、化１１中のス
ルホン化剤と反応する基Ｘに対して当量比で１〜５が好
ましい。スルホン化反応に際しては、溶媒として例えば
１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチルエー
テル、テトラヒドロフラン又は炭素数５〜８の炭化水素
系溶媒（例えばヘキサン等）等、又はこれらの二種類以
上を混合して使用してもよい。好ましい反応条件を例示
すると、反応系を窒素等の不活性ガス雰囲気下に置き、
スルホン化剤と反応する基としてハロゲン原子を有する
ヒドロシリル化剤を使用した場合は反応温度は５０〜３
００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。ビニル基
を有するヒドロシリル化剤あるいはフェニル基を有する
ヒドロシリル化剤を使用した場合は共に反応温度は０〜
１００℃、反応時間は５〜３０時間程度である。

【００５８】あるいは、本発明のスルホン酸変性シリコ
ーンは、化１２の片末端のＳｉに結合した水素を持つシ
リコーンを一工程でヒドロシリル化することにより製造
することもできる。このためのヒドロシリル化剤は化１
５の一般式で示され

【００５９】

【化１５】

【００６０】（ここで、Ｒ₂は上記と同じである。）、
例えば

【００６１】

【化１６】

【００６２】等が挙げられる。また、該化合物の使用量
は、化１２中の片末端のＳｉに結合した水素に対し当量
比で１〜５．０が好ましい。白金系触媒としては、例え
ば塩化白金酸のイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）溶液
等が使用され、その添加量は上記ヒドロシリル化剤に対
して１×１０^-4〜１×１０^-5当量が好ましい。

【００６３】該反応においても、好ましくは、溶媒とし
て例えば１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエ
チルエーテル、テトラヒドロフラン、炭素数５〜８の脂
肪族炭化水素（例えばヘキサン等）又は芳香族炭化水素
等が使用され、これら二種類以上を混合して使用しても
よい。また、好ましい反応条件を例示すれば、反応系を
窒素等の不活性ガス雰囲気下に置き、反応温度を０〜１
００℃とし、反応時間を１〜２０時間程度とする。

【００６４】スルホン酸基をアンモニウム塩又はアミン
塩にする方法は公知である。例えば、上記のようにして
製造した化４のＡが一価の金属であるスルホン酸変性シ
リコーンをヘキサン又はヘプタンに溶解し、これに塩酸
又は硫酸の水溶液を加えて、好ましくは反応温度０〜５
０℃、好ましくは反応時間５分〜１時間で酸性加水分解
した後、シリコーン相を取り出し、これに上記のアミン
を加えるとアミン塩の形のスルホン酸変性シリコーンが
生成する。

【００６５】＜３＞本発明のメイクアップ化粧料本発明のメイクアップ化粧料は、上記スルホン酸変性シ
リコーンＩ、あるいはスルホン酸変性シリコーンIIを含
有する。また、これらのスルホン酸変性シリコーンのう
ち、２種以上の混合物として使用してもよい。

【００６６】スルホン酸変性シリコーンの配合量は、好
ましくは０．１〜４０％、さらに好ましくは０．５〜３
０％である。配合量が０．１％未満では化粧膜に滑らか
さや耐洗浄性、耐摩擦性を付与する効果に乏しい。また
４０％を越えると、分離がおきやすい等、剤型的に安定
に配合するのが難しかったり、作製する化粧料に粘度、
硬度おいて狙いの物性が得にくいことがある。

【００６７】尚、本発明でいうメイクアップ化粧料と
は、ファンデーション、口紅、アイシャドー、マスカ
ラ、アイライナー、アンダーメイクアップ料、ネイルエ
ナメル、ほお紅、眉墨等が挙げられる。剤型は、特に問
わない。

【００６８】本発明のメイクアップ化粧料には、上記の
スルホン酸変性シリコーンＩ、スルホン酸変性シリコー
ンII以外に、通常メイクアップ化粧料に配合されるオイ
ル、界面活性剤、アルコール類、高分子化合物、粉体、
水、その他の成分を用途、剤型、目的等に応じて適宜配
合することができる。

【００６９】上記のオイルとしては、流動パラフィン、
スクワラン、2-エチルヘキサン酸セチル、ミリスチン酸
イソプロピル、オリーブ油、ヒマシ油等の液体油；ワセ
リン、固パラ、牛脂、ラノリン、蜜ロウ、鯨ロウ、コレ
ステロール等の半固体〜固体脂；セタノール、ベヘニル
アルコール等の高級アルコール；パルミチン酸、ステア
リン酸等の高級脂肪酸；パーフルオロポリエーテル等の
フッ素系油剤；本発明で用いられる上記スルホン酸変性
シリコーン以外のシリコーン誘導体等が挙げられる。

【００７０】上記界面活性剤としては、ソルビタン脂肪
酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエ
チレン（以下、「POE」と略す）ソルビタン脂肪酸エス
テル、POEグリセリン脂肪酸エステル、POEアルキルエー
テル、POEポリオキシプロピレンアルキルエーテル、POE
ポリオキシプロピレンコポリマー、POEアルキルフェニ
ルエーテル、POE硬化ヒマシ油、ポリエチレングリコー
ル脂肪酸エステル、デカグリセリン脂肪酸エステル、ア
ルキルジエタノールアミド等の非イオン性界面活性剤；
アルキル硫酸塩、POEアルキルエーテル硫酸塩、POEアル
キルエーテル酢酸塩、アルキルリン酸塩、POEアルキル
エーテルリン酸塩、高級脂肪酸塩、高級脂肪酸加水分解
コラーゲン塩、アミノ酸系陰イオン界面活性剤；スルホ
コハク酸系界面活性剤、オレフィンスルホン酸塩等の陰
イオン性界面活性剤；レシチンや酢酸ベタイン系、イミ
ダゾリニウムベタイン系等の両性界面活性剤；塩化アル
キルトリメチルアンモニウム、塩化ジアルキルジメチル
アンモニウム、塩化アルキルジメチルベンジルアンモニ
ウム等の陽イオン性界面活性剤が挙げられる。

【００７１】アルコール類としては、エタノール、プロ
パノール、ベンジルアルコール等の１価のアルコール；
１，３−ブチレングリコール、プロピレングリコール、
ジプロピレングリコール、グリセリン、ポリエチレング
リコール、ソルビトール等の多価アルコールが挙げられ
る。

【００７２】高分子化合物としては、ポリビニルピロリ
ドン、ポリビニルアルコール、ビニルピロリドン-酢酸
ビニル共重合体、アクリル樹脂アルカノールアミン、N-
メタクリロイルエチルN,N-ジメチルアンモニウムα-N-
メチルカルボキシベタイン/メタクリル酸アルキルエス
テル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ヒドロキシエチルセル
ロースジメチルジアリルアンモニウムクロリド、ヒドロ
キシエチルセルロースヒドロキシプロピルトリメチルア
ンモニウムクロリドエーテル、カルボキシビニルポリマ
ー、カルボキシメチルセルロース塩、キサンタンガム、
ヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。

【００７３】また、粉体としては、タルク、雲母、二酸
化チタン、セリサイト、カリオン、パール顔料、アルミ
ニウムパウダー、カッパーパウダー等の金属粉末顔料、
酸化鉄（ベンガラ）、黄酸化鉄、黒酸化鉄、カーボンブ
ラック、マンゴバイオレット、コバルトバイオレット、
酸化クロム、水酸化クロム、群青、亜鉛華、ベントナイ
ト、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸カルシウム、炭酸カル
シウム、シリカ、ナイロンパウダー、ポリエステルパウ
ダー、ポリエチレンパウダー、ポリスチレンパウダー、
セルロースパウダー、赤色２０１号、赤色２０２号、赤
色２０５号、赤色２２０号、赤色２２６号、赤色４０５
号、橙色２０３号、黄色２０５号、黄色４０１号及び青
色４０４号等の有機顔料、赤色３号、赤色１０４号、赤
色２２７号、赤色４０１号、赤色５０５号、橙色２０５
号、黄色４号、黄色２０２号、黄色２０３号、緑色３号
及び青色１号のジルコニウム、バリウムまたはアルミニ
ウムレーキ等の有機顔料等が挙げられる。

【００７４】また、上記のその他の成分としては、アミ
ノ酸、ヒアルロン酸等の保湿剤；オキシベンゾン、パラ
アミノ安息香酸エステル等の紫外線吸収剤；トコフェロ
ール、ジブチルヒドロキシトルエン等の抗酸化剤；パラ
ベン、フェノキシエタノール等の防腐剤；イソプロピル
メチルフェノール、トリクロロカルバン等の殺菌剤、コ
ラーゲン、ケラチン、絹等のタンパクの加水分解物(例
えば成和化成工業(株)社製加水分解コラーゲン:プロモ
イスW42R)；クエン酸、クエン酸ナトリウム等のpH調整
剤、植物抽出エキス、グリチルリチン酸ジカリウム等の
抗炎症剤；ジメチルエーテル、ＬＰＧ等の噴射剤；Ｎａ
Ｃｌ等の無機塩；ハマメリス水等の収斂剤；キレート
剤、各種ビタミン、香料等が挙げられる。

【００７５】

【作用】本発明のメイクアップ化粧料は、肌に塗布する
と、滑らかな感触の化粧膜を形成し、さらにその化粧膜
はスルホン酸変性シリコーンの角質ケラチンへの吸着性
により、洗浄や摩擦等でも落ちにくく、化粧持ちが良
い。

【００７６】

【実施例】以下に、本発明に用いるスルホン酸変性シリ
コーンの製造例、本発明の実施例を比較例と共に挙げ、
本発明の効果について更に詳細に説明するが、本発明は
これらのスルホン酸変性シリコーン及び実施例に限定さ
れるものではない。

【００７７】

【製造例１】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンＩの製造例を説明する。１リットルの丸底フラスコに
オクタメチルシクロテトラシロキサン５４４重量部、
１，３，５，７−テトラメチルシクロテトラシロキサン
４４重量部、ヘキサメチルジシロキサン１重量部、濃硫
酸１２重量部およびヘキサン５００重量部を収め、窒素
雰囲気下、室温で７０時間撹拌後、炭酸水素ナトリウム
で中和し、低沸点物を蒸留によって除き、ポリメチルポ
リハイドロジェンポリシロキサン４９６ｇ（収率８４
％）を得た。

【００７８】次に、このポリメチルポリハイドロジェン
ポリシロキサン２００重量部をヘキサン２００重量部に
溶解し、ｐ−クロロメチルスチレン４９重量部（ポリメ
チルポリハイドロジェンポリシロキサン中のＳｉに結合
した水素に対して当量比は１．３である）と塩化白金酸
のＩＰＡ溶液（２×１０^-4モル／ｍｌ）０．０２ｍｌ
（ｐ−クロロメチルスチレンに対して当量比は１．３×
１０^-5である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気下、
７０℃で撹拌しながら滴下した。１０時間撹拌後、濾過
し、続いて低沸点物を蒸留によって除き、クロロメチル
フェネチル基を有するシリコーン１８７ｇ（収率７６
％）を得た。

【００７９】更に、得られたクロロメチルフェネチル基
を有するシリコーン１００重量部をヘキサン２００重量
部に溶解し、亜硫酸ナトリウム・７水和物４３重量部
（クロロメチルフェネチル基に対して当量比は１．７で
ある）を窒素雰囲気下オートクレーブ中に仕込み、２０
０℃で２４時間撹拌しながら反応させた。冷却後、生成
した塩及び未反応の亜硫酸ナトリウムを濾別、溶媒を蒸
留して除き乳白色のオイル８５ｇを得た。

【００８０】このオイルはＩＲスペクトルによりスルホ
ン酸変性シリコーンであることが確認された（化１のＲ
₂ が−Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂−であり、ＡがＮａであり、Ｒ₁ が
メチル基であり、ｍ＝９７、ｎ＝８１８である）。

【００８１】

【製造例２】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンＩの製造例を説明する。オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン２００重量部、１，３，５，７−テトラメチル
シクロテトラシロキサン５．４重量部、ヘキサメチルジ
シロキサン０．３３重量部、濃硫酸５重量部から、製造
例１と同様な操作でポリメチルポリハイドロジェンポリ
シロキサンを得た。

【００８２】次に、トルエンとテトラヒドロフランの
１：１混合溶液１００重量部とｐ−スチレンスルホン酸
ナトリウム１０重量部（ポリメチルポリハイドロジェン
ポリシロキサン中のＳｉに結合した水素に対して当量比
は１．１である）及び塩化白金酸のＩＰＡ溶液（２×１
０^-4モル／ｍｌ）０．０２ｍｌ（ｐ−スチレンスルホン
酸ナトリウムに対して当量比は８×１０^-5である）を収
めた丸底フラスコに、上記で得られたポリメチルポリハ
イドロジェンポリシロキサン１００重量部とヘキサン１
００重量部の混合物を窒素雰囲気下５０℃で撹拌しなが
ら滴下した。１０時間撹拌後、濾過し、続いて低沸点物
を蒸留によって除き乳白色のオイル９０ｇを得た。

【００８３】このオイルはＩＲスペクトルによりスルホ
ン酸変性シリコーンであることが確認された（化１のＲ
₂ がｐ−フェニレンであり、ＡがＮａであり、Ｒ₁ がメ
チル基であり、ｍ＝４４、ｎ＝７９０である）。

【００８４】

【製造例３】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンＩの製造例を説明する。製造例１で製造したスルホン
酸変性シリコーン５０ｇをヘキサン５０ｍｌに溶解し、
１ＮＨＣｌ水溶液５０ｍｌと撹拌しながら室温で２０
分間反応させた。反応後シリコーン相を取り出し、トリ
エタノールアミン５．０ｇを加えて撹拌しながら３０分
間反応させた後、未反応部分を留去して乳白色のオイル
４６ｇを得た。

【００８５】このオイルはＩＲスペクトルによりトリエ
タノールアミンとの塩の形のスルホン酸変性シリコーン
であることが確認された。

【００８６】

【製造例４】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンIIの製造例を説明する。１リットルの丸底フラスコに
オクタメチルシクロテトラシロキサン２５０重量部、ペ
ンタメチルジシロキサン０．３７重量部、濃硫酸５重量
部及びトルエン３００重量部を収め、窒素雰囲気下、室
温で４８時間撹拌後、炭酸水素ナトリウムで中和し、低
沸点物を蒸留によって除き、ポリメチルハイドロジェン
ポリシロキサン２１４ｇ（収率８６％）を得た。

【００８７】次に、このポリメチルハイドロジェンポリ
シロキサン１８０重量部をヘキサン３６０重量部に溶解
し、ｐ−クロロメチルスチレン１．２重量部（ポリメチ
ルハイドロジェンポリシロキサン中の片末端のＳｉに結
合した水素に対して当量比は４．４である）と塩化白金
酸のＩＰＡ溶液（２×１０^-4モル／ｍｌ）０．００１ｍ
ｌ（ｐ−クロロメチルスチレンに対して当量比は２．５
×１０^-5である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気
下、５０℃で撹拌しながら滴下した。２４時間撹拌後、
濾過し、続いて低沸点物を蒸留によって除き、クロロメ
チルフェネチル基を有するシリコーン１３４ｇ（収率７
４％）を得た。

【００８８】更に、得られたクロロメチルフェネチル基
を有するシリコーン１２０重量部をヘキサン１２０重量
部に溶解し、亜硫酸ナトリウム・７水和物１．４重量部
（クロロメチルフェネチル基に対して当量比は４．６で
ある）を窒素雰囲気下オートクレーブ中に仕込み、２０
０℃で２４時間撹拌しながら反応させた。冷却後、生成
した塩及び未反応の亜硫酸ナトリウムを濾別、溶媒を蒸
留して除き乳白色のオイル１００ｇを得た。

【００８９】このオイルはＩＲスペクトルによりスルホ
ン酸変性シリコーンであることが確認された（化２のＲ
₂ が−Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂−であり、ＡがＮａであり、Ｒ₁ が
メチル基であり、ｎ＝７０５である）。

【００９０】

【製造例５】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンIIの製造例を説明する。オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン２００重量部、ペンタメチルジシロキサン２．
９８重量部、濃硫酸４重量部を使用した以外は製造例４
と同様にして、ポリメチルハイドロジェンポリシロキサ
ン１７２ｇ（収率８６％）を得た。

【００９１】次に、このポリメチルハイドロジェンポリ
シロキサン１６０重量部をヘキサン１４０重量部に溶解
し、ｐ−クロロメチルスチレン５重量部（ポリメチルハ
イドロジェンポリシロキサン中の片末端のＳｉに結合し
た水素に対して当量比は２．０である）と塩化白金酸の
ＩＰＡ溶液（２×１０^-4モル／ｍｌ）０．０１ｍｌ（ｐ
−クロロメチルスチレンに対して当量比は６．２×１０
^-5である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気下、室温
で撹拌しながら滴下した。

【００９２】２４時間撹拌後、濾過し、続いて低沸点物
を蒸留によって除き、クロロメチルフェネチル基を有す
るシリコーン１２７ｇ（収率７９％）を得た。更に、得
られたクロロメチルフェネチル基を有するシリコーン１
００重量部をヘキサン８０重量部に溶解し、亜硫酸ナト
リウム・７水和物５重量部（クロロメチルフェネチル基
に対して当量比は２．０である）を窒素雰囲気下オート
クレーブ中に仕込み、２００℃で２４時間撹拌しながら
反応させた。冷却後、生成した塩及び未反応の亜硫酸ナ
トリウムを濾別、溶媒を蒸留して除き乳白色のオイル８
２ｇを得た。

【００９３】このオイルはＩＲスペクトルによりスルホ
ン酸変性シリコーンであることが確認された（化２のＲ
₂ が−Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂−であり、ＡがＮａであり、Ｒ₁ が
メチル基であり、ｎ＝２１８である）。

【００９４】

【製造例６】本発明に使用するスルホン酸変性シリコー
ンIIの製造例を説明する。オクタメチルシクロテトラシ
ロキサン２５０重量部、ペンタメチルジシロキサン０．
５９重量部、濃硫酸４重量部を使用した以外は、製造例
４と同様にして、ポリメチルハイドロジェンポリシロキ
サン２２７ｇ（収率９１％）を得た。

【００９５】次に、このポリメチルハイドロジェンポリ
シロキサン１６０重量部をヘキサン２００重量部に溶解
し、ｐ−ジアリルベンゼン１．５重量部（ポリメチルハ
イドロジェンポリシロキサン中の片末端のＳｉに結合し
た水素に対して当量比は３．０である）と塩化白金酸の
ＩＰＡ溶液（２×１０^-4モル／ｍｌ）０．００５ｍｌ
（ｐ−ジアリルベンゼンに対して当量比は１．０×１０
^-4である）を収めた丸底フラスコに窒素雰囲気下、室温
で撹拌しながら滴下した。

【００９６】１２時間撹拌後、濾過し、続いて低沸点物
を蒸留によって除き、３−（ｐ−アリルフェニル）プロ
ピル基を有するシリコーン１３９ｇ（収率８７％）を得
た。更に、得られた３−（ｐ−アリルフェニル）プロピ
ル基を有するシリコーン１２０重量部をヘキサン１２０
重量部に溶解し、硫酸水素ナトリウム１重量部（３−
（ｐ−アリルフェニル）プロピル基に対して当量比は
３．５である）を窒素雰囲気下、５０℃で２４時間撹拌
しながら反応させた。未反応の硫酸水素ナトリウムを濾
別、溶媒を蒸留して除き乳白色のオイル９６ｇを得た。

【００９７】このオイルはＩＲスペクトルによりスルホ
ン酸変性シリコーンであることが確認された（化２のＲ
₂ が−ＣＨ₂Ｃ₆Ｈ₄ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂−であり、ＡがＮａ
であり、Ｒ₁がメチル基であり、ｎ＝３８９である）。

【００９８】

【実施例１〜４】プレストパウダー＜製法＞表１に示す各シリコーン系化合物を用い、表２
の処方のプレストパウダーを製造した。均一に混合溶解
したＡ相を、均一に撹拌混合したＢ相に加え、混合、粉
砕後、金皿に打型する。

【００９９】

【表１】

【０１００】

【表２】

【０１０１】＜評価＞上記各実施例及び比較例のプレス
トパウダーを一定量パフで上腕部に塗布し、塗布部の滑
らかさ、洗浄、摩擦に対する化粧持ちの良さを評価し
た。

【０１０２】（１）塗布部の滑らかさ上記各実施例及び比較例のプレストパウダーを一定量パ
フで上腕部に塗布し、塗布部の滑らかさの程度を熟練評
価者により４段階に官能評価した。

【０１０３】◎：滑らかである ○：やや滑らかである △：やや滑らかでない ×：滑らかでない

【０１０４】（２）洗浄、摩擦に対する化粧持ちの良さ（１）の塗布部の滑らかさを評価後、塗布部を１５％ポ
リオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム（Ｌ
ＥＳ）水溶液を用い、手で擦りながら洗浄、すすぎを３
回繰り返す。乾燥後、色味の残り具合いで化粧持ちのレ
ベルを官能評価した。評価は熟練評価者により、４段階
に評価した。

【０１０５】◎：良い ○：やや良い △：やや悪い ×：悪い上記各評価の結果を表３に示す。

【０１０６】

【表３】

【０１０７】

【実施例５〜７】リキッドファンデーション表４に示す各シリコーン系化合物を用い、表５の処方の
リキッドファンデーションを製造した。８０℃に加熱溶
解したＡ相に均一混合したＢ相を加え、均一分散する。
これに８０℃で加熱溶解したＣ相を撹拌しながら加え、
更に８０℃で加熱溶解したＤ相を加える。その後、撹拌
しながら室温まで冷却する。

【０１０８】上記各実施例及び比較例のリキッドファン
デーション０．３ｇを３ｃｍ×３ｃｍの面積で上腕部に
塗布し、乾燥後、塗布部の滑らかさを官能評価した。そ
の後、１５％ＬＥＳ水溶液を用い、塗布部を手で擦りな
がら、洗浄、すすぎを３回繰り返し、乾燥後、色味の残
り具合いで化粧持ちを官能評価した。結果を表４に示
す。

【０１０９】

【表４】

【０１１０】

【表５】

【０１１１】

【実施例８〜１０】口紅表６に示すシリコーン系化合物を用い、表７の処方の口
紅を製造した。80℃で加熱融解し、混合均一化したＡ相
にＢ相を加え、ロールミルで練り、均一に分散した後、
再融解し、Ｃ相を加え、型に流し込み、急冷して固め
る。

【０１１２】この口紅を上腕部に3回塗布し、塗布部の
滑らかさを官能評価した。その後、15%LES水溶液を用
い、塗布部を手で擦りながら、洗浄、すすぎを3回繰り
返し、乾燥後、官能評価した。結果を表６に示す。

【０１１３】

【表６】

【０１１４】

【表７】

【０１１５】以上の各実施列の評価結果から、本発明の
メイクアップ化粧料は、比較例のメイクアップ化粧料に
比べて塗布部の滑らかさ、洗浄、摩擦に対する化粧持ち
において、格段に優れていることは明らかである。特
に、界面活性剤による複数回の洗浄後においても、皮膚
から失われない。

【０１１６】

【発明の効果】本発明のメイクアップ化粧料は、塗布部
に滑らかな感触を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への
吸着性が高く、洗浄や摩擦で落ちにくい。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】化１で表されるスルホン酸変性シリコー
ンを含有するメイクアップ化粧料。【化１】ただし、Ｒ₁はメチル基、フェニル基、Ｒ₂はアリーレン
基、アルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン
基、Ａは水素原子、アルカリ金属、有機アミン塩を、
ｍ、ｎは各々１０〜２００、５０〜２０００の整数を表
す。
【請求項２】前記Ｒ₂は、フェニレン基、炭素数１〜
４の低級アルキル基で置換されたフェニレン基、炭素数
１〜５のアルキレン基、-C₆H₄CH₂-、-C₆H₄CH₂CH₂-から
選ばれることを特徴とする請求項１記載のメイクアップ
化粧料。
【請求項３】化２で表されるスルホン酸変性シリコー
ンを含有するメイクアップ化粧料。【化２】ただし、Ｒ₁はメチル基、又はフェニル基、Ｒ₂はアリー
レン基、アルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキ
レン基、Ａは、アルカリ金属、有機アミン塩を、ｎは１
０〜３０００の整数を表す。
【請求項４】前記Ｒ₂は、フェニレン基、炭素数１〜
４の低級アルキル基で置換されたフェニレン基、炭素数
１〜５のアルキレン基、-C₆H₄CH₂-、-C₆H₄CH₂CH₂-から
選ばれることを特徴とする請求項３記載のメイクアップ
化粧料