KR101918883B1 - 광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈 - Google Patents

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Abstract

하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure 112017071832126-pct00026

(일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타냄. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 됨. k는 1 이상의 정수를 나타냄)

Description

광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 및 플라스틱 렌즈
본 발명은 광학 재료용 중합성 조성물, 당해 조성물로부터 얻어지는 광학 재료 등에 관한 것이다.
중합 반응성 화합물(이하, 중합 단량체 또는 단량체라고도 기술함)을 포함하는 중합성 조성물을 열경화시켜서 광학 재료를 제조할 때, 가장 해결이 곤란한 문제 중 하나로서 맥리가 있다. 맥리는, 단량체의 주형 중합 시에 발생하는 것이나, 중합 중의 단량체 발열이나 주변과의 온도차 등의 영향에 의해 대류하여 그것이 유동 자국이 되어 경화되어 버리는 것이다. 특히 형상이 두꺼운 아이템에서는 매우 발생하기 쉽다.
맥리를 억제하는 방법으로서, 단량체가 유동하지 않도록 장시간에 걸쳐 천천히 경화시키거나, 열전도를 높이기 위해 수중 중합 등을 행하거나 하고 있다.
특허문헌 1에 기재된 플라스틱 렌즈의 제조 장치에 의하면, 로터리 테이블에 적재된 플라스틱 조성물이 주입된 성형용 형이 1회전하는 동안에 플라스틱 렌즈의 제조가 가능하게 되고, 콤팩트하며 스페이스 효율이 우수한 플라스틱 렌즈의 제조 장치를 제공할 수 있다고 되어 있다.
또한, 예를 들어 단량체 조성물을 예비 반응시켜서 특정 범위로 증점시킨 후, 종래의 제조 방법과 마찬가지의 승온 중합 프로그램에 의해 중합 경화시키는 방법(특허문헌 2), 단량체 조성물을 중합 경화하는 공정의 도중에, 단량체 조성물이 충전된 성형체를, 강제적으로, 규칙적 또는 불규칙적으로 움직임으로써, 경화 중의 단량체의 치우침을 해소하고, 광학적 변형 또는 맥리의 발생을 억제하는 방법(특허문헌 3), 단량체 조성물을 중합할 때의 온도 프로그램을 최적화하는 방법(특허문헌 4), 단량체 조성물을 중합 경화할 때, 단량체 조성물이 충전된 성형체를 수평면으로부터 특정한 각도로 유지하여 경화하는 방법(특허문헌 5), 단량체 조성물이 충전된 성형형을 액체에 침지시킨 상태에서, 마이크로파를 조사함으로써 중합하는 방법(특허문헌 6) 등이 있다.
폴리에테르 변성 화합물을 포함하는 광학 재료용 조성물로서는, 특허문헌 7 내지 9에 기재된 기술이 알려져 있다.
일본 특허 공개 제2006-224484호 공보 일본 특허 공개 제2007-90574호 공보 일본 특허 공개 제2007-261054호 공보 일본 특허 공개 제2009-226742호 공보 일본 특허 공개 제2011-207152호 공보 일본 특허 공개 제2014-141033호 공보 일본 특허 공개 평11-77841호 공보 일본 특허 공개 제2003-313215호 공보 일본 특허 공개 제2009-227801호 공보
이들 특허문헌 1 내지 6에 기재된 종래의 방법을 사용하면, 어느 정도 맥리의 발생을 억제한 성형체가 얻어지고, 그 성형체를 기재로 하여 맥리가 억제된 플라스틱 렌즈를 생산할 수 있다.
그러나, 맥리를 억제하기 위해 시간을 들여서 경화를 행하더라도, 맥리를 충분히 억제하는 것이 곤란한 단량체 조성도 수많이 존재한다. 그러한 단량체 조성은, 가령 수지 물성이 적합하더라도 맥리 불량으로 제품화할 수 없어 개발을 단념할 수밖에 없는 경우도 있었다. 또한, 열경화성 수지의 경우에는 단량체 조합액 그 자체에 가용 시간이 존재하므로, 가용 시간 내에 다 사용하는 것이 전제가 되어버려 효율적인 생산을 할 수 없는 경우가 있었다. 또한, 종래부터 알려져 있는 수중 중합을 행하는 경우에는, 고액의 설비 투자가 필요하게 되거나, 생산 효율이 저하되는 등의 과제가 있었다.
본 발명자들은, 상술한 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정한 폴리에테르 변성 화합물을 중합성 조성물에 배합함으로써, 중합 중의 대류 등을 원인으로 한 맥리가 현저하게 경감되는 것을 알아내었다. 특정한 폴리에테르 변성 화합물을 사용함으로써, 중합 시의 안전성이나 생산성을 손상시키는 일 없이, 게다가 종래보다도 대폭으로 긴 가용 시간을 갖는 중합성 조성물을 제공할 수 있고, 또한 외관이나 물성이 우수한 매우 고품질의 제품을 안정되게 제조하는 것이 가능한 것을 알아내어, 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉, 본 발명은 이하에 나타낼 수 있다.
[1] 하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure 112017071832126-pct00001
(일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타냄. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 됨. k는 1 이상의 정수를 나타냄)
[2] 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 하기 일반식 (1)
Figure 112017071832126-pct00002
(R1 내지 R8은 동일 또는 상이해도 되고, R1 내지 R8 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 기타의 R1 내지 R8은, 동일 또는 상이해도 되고, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기, 히드록실기, 또는 폴리실록시기를 나타냄. 복수 존재하는 R2 내지 R5는, 각각 동일 또는 상이해도 됨. m, n은 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물,
하기 일반식 (2)
Figure 112017071832126-pct00003
(R9 내지 R16은 동일 또는 상이해도 되고, R9 내지 R16 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기, 또한 적어도 1개는 불소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기를 나타내고, 기타의 R9 내지 R16은, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R10 내지 R13은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. p, q는 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 플루오로 화합물, 및
하기 일반식 (3)
Figure 112017071832126-pct00004
(R17 내지 R24는 동일 또는 상이해도 되고, R17 내지 R24 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 또한 적어도 1개는 (메트)아크릴로일기 또는 (메트)아크릴로일기를 갖는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타내고, 기타의 R17 내지 R24는, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R18 내지 R21은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. v, w는, 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)으로 표시되는 폴리에테르 변성(메트)아크릴 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, [1]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[3] 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 상기 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 [2]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[4] 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타내는, [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[5] 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타내는, [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[6] 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량％ 중에 0.01중량％ 이상 포함되는, [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[7] 상기 중합 반응성 화합물이, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인, [1] 내지 [6] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[8] [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 경화한 성형체.
[9] [8]에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
[10] [9]에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
[11] [1] 내지 [7] 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
[12] [11]에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 플라스틱 렌즈.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 특정한 폴리에테르 변성 화합물을 포함함으로써, 중합 시에 캐비티 내부에 발생하는 대류를 원인으로 한 맥리를 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 이러한 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은, 조합으로부터 시간이 경과해 증점된 경우에도, 얻어지는 광학 렌즈의 맥리는 현저하게 경감되어, 제품의 수율이 크게 개선된다. 또한, 얻어지는 광학 렌즈는 광학 물성 등의 품질도 우수하다.
본 발명에 따른 광학 재료용 중합성 조성물을, 이하의 실시 형태에 기초하여 설명한다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함한다. 이하, 각 성분에 대하여 설명한다.
[폴리에테르 변성 화합물]
본 실시 형태에 있어서는, 폴리에테르 변성 화합물로서, 하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물이 사용된다.
Figure 112017071832126-pct00005
일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타낸다. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 된다. k는 1 이상의 정수를 나타낸다.
또한, 폴리에테르 부위의 중합수를 나타내는 k는 1 이상의 정수 중에서 적절히 선택할 수 있지만, 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.
또한, 일 실시 형태에 있어서, 중합성 조성물의 가용 시간을 길게 하면서, 얻어지는 성형체의 맥리를 억제하는 효과와, 성형체의 투명성 향상 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, k는 바람직하게는 1 내지 1000의 정수를 나타내고, 보다 바람직하게는 40 내지 600의 정수를 나타내고, 보다 더 바람직하게는 55 내지 550의 정수를 나타낸다.
또한, 일 실시 형태에 있어서, 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 바람직하게는 수소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타낸다.
또한, 일 실시 형태에 있어서, 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타낸다.
또한, 일 실시 형태에 있어서, 중합성 조성물의 가용 시간을 길게 하면서, 얻어지는 성형체의 맥리를 억제하는 효과와, 성형체의 투명성 향상 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은, 바람직하게는 수소 원자 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기이며, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기이다.
보다 구체적으로, 본 실시 형태에 있어서는, 폴리에테르 변성 화합물로서, 하기 일반식 (1) 내지 (3)으로 표시되는 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 사용할 수 있다.
이들 화합물을 사용함으로써, 중합 시에 캐비티 내부에서 발생하는 맥리 및 조합 종료로부터의 증점에 수반되는 주형 시의 맥리를 보다 효과적으로 억제할 수 있다.
(일반식 (1)로 표시되는 화합물)
본 실시 형태에 있어서, 폴리에테르 변성 화합물로서 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112017071832126-pct00006
R1 내지 R8은 동일 또는 상이해도 되고, R1 내지 R8 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 기타의 R1 내지 R8은, 동일 또는 상이해도 되고, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기, 히드록실기, 또는 폴리실록시기를 나타낸다. 복수 존재하는 R2 내지 R5는, 각각 동일 또는 상이해도 된다. m, n은 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수, 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.
(일반식 (2)로 표시되는 화합물)
본 실시 형태에 있어서, 폴리에테르 변성 화합물로서 일반식 (2)로 표시되는 폴리에테르 변성 플루오로 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112017071832126-pct00007
R9 내지 R16은 동일 또는 상이해도 되고, R9 내지 R16 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기, 또한 적어도 1개는 불소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 기타의 R9 내지 R16은, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 R10 내지 R13은, 각각 동일 또는 상이해도 된다.
p, q는 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수, 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.
(일반식 (3)으로 표시되는 화합물)
본 실시 형태에 있어서, 폴리에테르 변성 화합물로서 하기 일반식 (3)으로 표시되는 폴리에테르 변성(메트)아크릴 화합물을 사용할 수 있다.
Figure 112017071832126-pct00008
R17 내지 R24는 동일 또는 상이해도 되고, R17 내지 R24 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 또한 적어도 1개는 (메트)아크릴로일기 또는 (메트)아크릴로일기를 갖는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타낸다. 기타의 R17 내지 R24는, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타낸다. 복수 존재하는 R18 내지 R21은, 각각 동일 또는 상이해도 된다.
v, w는 동일해도 상이해도 되며, 0 이상의 정수, 바람직하게는 1 내지 20의 정수, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수를 나타낸다.
또한, 상기의 일반식 (1) 내지 (4)에 있어서의 각 치환기로서는, 구체적으로는 이하에 나타나는 것을 들 수 있다.
C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기로서는, 예를 들어 메틸렌기, 에틸렌기, n-프로필렌기, 이소프로필렌기, n-부틸렌기, 이소부틸렌기, t-부틸렌기, n-펜틸렌기, 이소펜틸렌기, t-펜틸렌기, n-헥실렌기, n-헵틸렌기, 이소헵틸렌기, n-옥틸렌기, 이소옥틸렌기, n-노닐렌기, 이소노닐렌기, n-데실렌기, 이소데실렌기, n-운데실렌기, 이소운데실렌기, n-도데실렌기, 이소도데실렌기, 시클로펜틸렌기, 시클로헥실렌기, 시클로헵틸렌기, 시클로옥틸렌기, 시클로노닐렌기, 메틸시클로펜틸렌기, 메틸시클로헥실렌기 등을 들 수 있다. 바람직하게는, C1 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기이다.
C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기로서는, 예를 들어 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, t-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, t-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, 이소헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, n-노닐기, 이소노닐기, n-데실기, 이소데실기, n-운데실기, 이소운데실기, n-도데실기, 이소도데실기, 시클로펜틸기, 시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기, 시클로노닐기, 메틸시클로펜틸기, 메틸시클로헥실기 등을 들 수 있다.
바람직하게는, C1 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알킬기이다.
C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기로서는, 예를 들어 메톡시기, 에톡시기, n-프로필옥시기, 이소프로필옥시기, n-부틸옥시기, 이소부틸옥시기, t-부틸옥시기, n-펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, t-펜틸옥시기, n-헥실옥시기, n-헵틸옥시기, 이소헵틸옥시기, n-옥틸옥시기, 이소옥틸옥시기, n-노닐옥시기, 이소노닐옥시기, n-데실옥시기, 이소데실옥시기, n-운데실옥시기, 이소운데실옥시기, n-도데실옥시기, 이소도데실옥시기, 시클로펜틸옥시기, 시클로헥실옥시기, 시클로헵틸옥시기, 시클로옥틸옥시기, 시클로노닐옥시기, 메틸시클로펜틸옥시기, 메틸시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다.
바람직하게는, C1 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기이다.
C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기로서는, 예를 들어 비닐기, 1-프로페닐기, 2-프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 4-펜테닐기, 1-헥세닐기, 2-헥세닐기, 3-헥세닐기, 4-헥세닐기, 5-헥세닐기, 6-헵테닐기, 7-옥테닐기, 8-노네닐기, 9-데케닐기, 2-메틸-1-프로페닐기, 2-메틸-2-프로페닐기, 3-메틸-3-부테닐기, 4-메틸-4-펜테닐기, 2-시클로헥실-2-프로페닐기 등을 들 수 있다.
바람직하게는, C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기이다.
C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기로서는, 예를 들어 에티닐기, 1-프로피닐기, 2-프로피닐기, 1-부티닐기, 2-부티닐기, 3-부티닐기, 2-메틸-2-프로피닐기, 3-메틸-1-부티닐기, 4-펜티닐기, 5-헥시닐기, 6-헵티닐기, 7-옥티닐기, 8-노니닐기, 9-데시닐기 등을 들 수 있다.
바람직하게는, C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기이다.
C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기로서는, 예를 들어 퍼플루오로메틸기, 퍼플루오로에틸기, 퍼플루오로-n-프로필기, 퍼플루오로이소프로필기, 퍼플루오로-n-부틸기, 퍼플루오로이소부틸기, 퍼플루오로-t-부틸기, 퍼플루오로-n-펜틸기, 퍼플루오로이소펜틸기, 퍼플루오로-t-펜틸기, 퍼플루오로-n-헥실기, 퍼플루오로시클로헥실기, 퍼플루오로-n-헵틸기, 퍼플루오로이소헵틸기, 퍼플루오로-n-옥틸기, 퍼플루오로이소옥틸기, 퍼플루오로-n-노닐기, 퍼플루오로이소노닐기, 퍼플루오로-n-데실기, 퍼플루오로이소데실기, 퍼플루오로-n-운데실기, 퍼플루오로이소운데실기, 퍼플루오로-n-도데실기, 퍼플루오로이소도데실기, 퍼플루오로시클로펜틸기, 퍼플루오로시클로헥실기, 퍼플루오로시클로헵틸기, 퍼플루오로시클로옥틸기, 퍼플루오로시클로노닐기, 퍼플루오로메틸시클로펜틸기, 퍼플루오로메틸시클로헥실기 등을 들 수 있다.
바람직하게는, C1 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기이다.
일반식 (1)로 표시되는 화합물로서, 예를 들어, 폴리플로우 KL-100, 폴리플로우 KL-600, 글라놀 410(교에이샤 가가쿠(주) 제조 상품명);
BYK-302, BYK-307, BYK-322, BYK-323, BYK-331, BYK-333, BYK-347, BYK-348, BYK-349(빅케미(BYK-Chemie)(주) 제조 상품명);
KF-351, KF-352, KF-353, KF-354L, KF-355, KF-355A, KF-615A, KF-618(신에쓰 가가쿠 고교(주) 제조 상품명);
SH3746,SH3771, SH8400, SF8410(도레이·다우코닝(주) 제조 상품명);
TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452(도시바 실리콘(주) 제조 상품명); 등을 들 수 있지만, 이들 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
특히 바람직한 예는, 폴리플로우 KL-100, 폴리플로우 KL-600(교에이샤 가가쿠(주) 제조 상품명)이다.
또한, 중합성 조성물의 가용 시간을 길게 하면서, 얻어지는 성형체의 맥리를 억제하는 효과와, 성형체의 투명성 향상 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 일반식 (1)로 표시되는 화합물은, 바람직하게는 폴리플로우 KL-100 및 폴리플로우 KL-600(교에이샤 가가쿠(주) 제조 상품명)으로부터 선택되는 1종 이상이며, 보다 바람직하게는 폴리플로우 KL-100이다.
일반식 (2)로 표시되는 화합물로서, 예를 들어, 프터젠트 251, 212M, 215M, 250, 209F, 222F, 245F, 208G, 218GL, 240G, 212P, 220P, 228P, FTX-218, DFX-18(네오스사 제조 상품명) 등을 들 수 있지만, 이들 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
일반식 (3)으로 표시되는 화합물로서, 예를 들어, BYK 350, 354, 355, 356, 358N, 360P, 361N, 364P, 366P, 368P, 370, 377, 378, 381, 390, 392, 394, 399(빅케미 재팬사 제조 상품명) 등을 들 수 있지만, 이들 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용해도, 2종 이상의 혼합물로서 사용해도 된다.
본 실시 형태에 있어서는, 본 발명의 효과의 관점에서, 폴리에테르 변성 화합물로서, 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 사용할 수 있다.
또한, 중합성 조성물의 가용 시간을 길게 하면서, 얻어지는 성형체의 맥리를 억제하는 효과와, 성형체의 투명성 향상 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 폴리에테르 변성 화합물은, 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 포함하고;
보다 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물 및 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
더욱 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물 및 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
보다 더 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물과, 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
한층 더 바람직하게는, 하기 일반식 (6)으로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (7)로 표시되는 화합물을 포함한다.
Figure 112017071832126-pct00009
중합성 조성물의 가용 시간을 연장시키는 효과, 얻어지는 성형체의 투명성 향상 효과 및 성형체에 있어서의 맥리 억제 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 상기 일반식 (6) 중, a+c는 바람직하게는 1 내지 100이며, 보다 바람직하게는 5 내지 50이다.
같은 관점에서, 상기 일반식 (6) 중, b는 바람직하게는 1 내지 100이며, 보다 바람직하게는 5 내지 50이다.
같은 관점에서, 상기 일반식 (6) 중, d는 바람직하게는 10 내지 1000이며, 보다 바람직하게는 50 내지 500이다.
같은 관점에서, 상기 일반식 (6) 중, e는 바람직하게는 1 내지 100이며, 보다 바람직하게는 5 내지 50이다.
또한, 마찬가지의 관점에서, 상기 일반식 (6)으로 표시되는 화합물의 분자량은, 바람직하게는 100 내지 10000이며, 보다 바람직하게는 1000 내지 5000이다.
Figure 112017071832126-pct00010
중합성 조성물의 가용 시간을 연장시키는 효과, 얻어지는 성형체의 투명성 향상 효과 및 성형체에 있어서의 맥리 억제 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 상기 일반식 (7) 중, f+h는 바람직하게는 1 내지 100이며, 보다 바람직하게는 1 내지 20이다.
같은 관점에서, 상기 일반식 (7) 중, g는 바람직하게는 1 내지 100이며, 보다 바람직하게는 1 내지 10이다.
또한, 마찬가지의 관점에서, 상기 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 분자량은, 바람직하게는 100 내지 10000이며, 보다 바람직하게는 500 내지 5000이다.
또한, 폴리에테르 변성 화합물이 일반식 (6) 및 (7)로 표시되는 화합물을 포함할 때, 폴리에테르 변성 화합물 중의 일반식 (6)으로 표시되는 화합물과 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 질량 비율은, 중합성 조성물의 가용 시간을 연장시키는 효과, 얻어지는 성형체의 투명성 향상 효과 및 성형체에 있어서의 맥리 억제 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 일반식 (6)으로 표시되는 화합물과 일반식 (7)로 표시되는 화합물의 질량 합계에 대한 일반식 (6)으로 표시되는 화합물의 질량 비율이, 바람직하게는 50％ 내지 90％이고, 보다 바람직하게는 60％ 내지 80％이다.
본 실시 형태의 중합성 조성물(100중량％) 중에 있어서의, 폴리에테르 변성 화합물의 함유량은, 중합성 조성물의 종류나 조합, 중합 촉매, 내부 이형제 등의 첨가제의 종류, 사용량, 중합성 조성물을 중합하여 얻어지는 수지의 여러 물성, 성형물의 형태에 따라 적절히 선택되고, 0.01중량％ 이상, 바람직하게는 0.01중량％ 내지 7.5중량％의 범위이지만, 이들에 한정되는 것은 아니다.
예를 들어, 중합 반응성 화합물로서, 폴리이소시아네이트 화합물 및 폴리티올 화합물을 포함하는 중합성 조성물을 열경화시켜서, 티오우레탄 수지를 제조하는 경우, 중합성 조성물 중의 폴리에테르 변성 화합물의 함유량은, 0.01중량％ 이상, 바람직하게는 0.01중량％ 내지 7.5중량％, 보다 바람직하게는 0.10중량％ 내지 5.0중량％, 더욱 바람직하게는 0.5중량％ 내지 2.5중량％이다.
[중합 반응성 화합물]
이어서 본 실시 형태의 중합성 조성물에 포함되는 중합 반응성 화합물에 대하여 설명한다.
중합 반응성 화합물에는, 필요에 따라서 첨가되는 개시제 및 촉매 등의 첨가제의 존재 하 혹은 그들의 부존재 하에 있어서도, 자기 중합, 공중합 혹은 부가 중합할 수 있는 중합성 관능기를 적어도 1개 이상 갖는 중합 반응성 화합물이 포함된다.
그 자기 중합, 공중합 혹은 부가 중합할 수 있는 중합성 관능기를 갖는 화합물에 대해서, 보다 구체적으로 설명하면, 예를 들어 이소시아나토기 또는 이소티오시아나토기를 2개 이상 갖는 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 에폭시기 또는 티오에폭시기를 2개 이상 갖는 폴리(티오)에폭시 화합물, 옥세타닐기를 2개 이상 갖는 폴리옥세타닐 화합물, 티에타닐기를 2개 이상 갖거나 또는 옥세타닐기와 티에타닐기를 갖는 폴리티에타닐 화합물, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일티오기, 아크릴로일티오기, 메타크릴아미드기 또는 아크릴아미드기를 2개 이상을 갖는 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일티오기, 아크릴로일티오기, 메타크릴아미드기 또는 아크릴아미드기 이외의 중합성 탄소 탄소 이중 결합기를 2개 이상 갖는 폴리알켄 화합물, 중합성 탄소 탄소 삼중 결합기를 1개 이상 갖는 알킨 화합물, 히드록시기 또는 머캅토기를 2개 이상 갖는 폴리(티)올 화합물(단, 용제로서 사용된 알코올은 포함되지 않음), 아미노기 또는 제2 아미노기를 2개 이상 갖는 폴리아민 화합물, 산 무수기를 1개 이상 갖는 산 무수물, 카르복실기를 2개 이상 갖는 폴리카르복실산 화합물 등을 들 수 있다.
폴리이소(티오)시아네이트 화합물로서는, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타메틸렌디이소시아네이트, 옥타메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아나토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트 화합물;
이소포론디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 비스(이소시아나토시클로헥실)메탄, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소시아네이트 화합물;
톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 디페닐술피드-4,4-디이소시아네이트, 페닐렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트 화합물;
2,5-디이소시아나토티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-1,3-디티올란 등의 복소환 폴리이소시아네이트 화합물;
헥사메틸렌디이소티오시아네이트, 리신디이소티오시아네이트메틸에스테르, 리신트리이소티오시아네이트, m-크실렌디이소티오시아네이트, 비스(이소티오시아나토메틸)술피드, 비스(이소티오시아나토에틸)술피드, 비스(이소티오시아나토에틸)디술피드 등의 지방족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
이소포론디이소티오시아네이트, 비스(이소티오시아나토메틸)시클로헥산, 비스(이소티오시아나토시클로헥실)메탄, 시클로헥산디이소티오시아네이트, 메틸시클로헥산디이소티오시아네이트, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소티오시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소티오시아나토메틸)트리시클로데칸 등의 지환족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
톨릴렌디이소티오시아네이트, 4,4-디페닐메탄디이소티오시아네이트, 디페닐디술피드-4,4-디이소티오시아네이트 등의 방향족 폴리이소티오시아네이트 화합물;
2,5-디이소티오시아나토티오펜, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)티오펜, 2,5-이소티오시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소티오시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소티오시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소티오시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소티오시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소티오시아나토메틸)-1,3-디티올란 등의 황 함유 복소환 폴리이소티오시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.
폴리(티오)에폭시 화합물로서는, 비스페놀 A 디글리시딜에테르 등의 폴리에폭시 화합물;
비스(2,3-에폭시프로필)술피드, 비스(2,3-에폭시프로필)디술피드, 비스(2,3-에폭시프로필티오)메탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸프로판, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸부탄, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3-티아펜탄, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)헥산, 1,6-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-메틸헥산, 3,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-3,6-디티아옥탄, 1,2,3-트리스(2,3-에폭시프로필티오)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)-1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)프로판, 2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1-(2,3-에폭시프로필티오)부탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1-(2,3-에폭시프로필티오)-2,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4-(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(2,3-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,1,1-트리스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-2-(2,3-에폭시프로필티오)에탄, 1,1,2,2-테트라키스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]에탄, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,8-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-4,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(2,3-에폭시프로필티오)-5,7-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸 등의 쇄상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;
1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스[[2-(2,3-에폭시프로필티오)에틸]티오메틸]-1,4-디티안, 2,5-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)-2,5-디메틸-1,4-디티안 등의 환상 지방족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물;
1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오)벤젠, 1,2-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,3-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 1,4-비스(2,3-에폭시프로필티오메틸)벤젠, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]메탄, 2,2-비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]프로판, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]술피드, 비스[4-(2,3-에폭시프로필티오)페닐]술폰, 4,4'-비스(2,3-에폭시프로필티오)비페닐 등의 방향족의 2,3-에폭시프로필티오 화합물 등을 들 수 있다.
폴리옥세타닐 화합물로서는, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄, 1,4-비스{[(3-에틸-3-옥세타닐)메톡시]메틸}벤젠, 3-에틸-3-(페녹시메틸)옥세탄, 디[1-에틸-(3-옥세타닐)]메틸에테르, 3-에틸-3-(2-에틸헥실옥시메틸)옥세탄, 페놀노볼락옥세탄 등을 들 수 있다.
폴리티에타닐 화합물로서는, 1-{4-(6-머캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(머캅토메틸티오)-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 1,5-비스{4-(6-머캅토메틸티오)-1,3-디티아닐티오}-3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-2,4-디티아펜탄, 4,6-비스[3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-5-머캅토-2,4-디티아펜틸티오]-1,3-디티안, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9-비스(머캅토메틸티오)-1,11-디머캅토-2,4,6,10-테트라티아운데칸, 9-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-3,5,13,15-테트라키스(머캅토메틸티오)-1,17-디머캅토-2,6,8,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3-{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-7,9,13,15-테트라키스(머캅토메틸티오)-1,17-디머캅토-2,4,6,10,12,16-헥사티아헵타데칸, 3,7-비스{2-(1,3-디티에타닐)}메틸-1,9-디머캅토-2,4,6,8-테트라티아노난, 4,5-비스[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-머캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티올란, 4-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-머캅토-2-티아프로필티오]-5-{1,2-비스(머캅토메틸티오)-4-머캅토-3-티아부틸티오}-1,3-디티올란, 4-{4-(5-머캅토메틸티오-1,3-디티올라닐)티오}-5-[1-{2-(1,3-디티에타닐)}-3-머캅토-2-티아프로필티오]-1,3-디티올란 등을 들 수 있다.
폴리(메트)아크릴로일 화합물로서는, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 시클로헥산디메탄올디아크릴레이트, 알콕실화 헥산디올디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 카프로락톤 수식 네오펜틸글리콜히드록시피발레이트디아크릴레이트, 시클로헥산디메탄올디아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디프로필렌글리콜디아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트, 에톡실화 비스페놀 A 디아크릴레이트, 히드록시피발알데히드 수식 트리메틸올프로판디아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 프로폭실화 네오펜틸글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리시클로데칸디메탄올디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜디아크릴레이트 등의 디아크릴로일 화합물;
글리세롤트리아크릴레이트, 에톡실화 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 프로폭실화 글리세릴트리아크릴레이트, 프로폭실화 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리아크릴레이트 등의 트리아크릴로일 화합물;
디트리메틸올프로판테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 에톡실화 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 카프로락톤 수식 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 등의 테트라아크릴로일 화합물 등을 들 수 있다.
폴리알켄 화합물로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 디에틸렌글리콜비스(알릴카르보네이트), 디비닐벤젠 등을 들 수 있다.
알킨 화합물로서는, 2-부틴, 2-펜틴, 2-헥신, 3-헥신, 2-헵틴, 3-헵틴, 2-옥틴, 3-옥틴, 4-옥틴, 디이소프로필아세틸렌, 2-노닌, 3-노닌, 4-노닌, 5-노닌, 2-데신, 3-데신, 4-데신, 5-데신, 디-tert-부틸아세틸렌, 디페닐아세틸렌, 디벤질아세틸렌, 메틸-iso-프로필아세틸렌, 메틸-tert-부틸아세틸렌, 에틸-iso-프로필아세틸렌, 에틸-tert-부틸아세틸렌, n-프로필-iso-프로필아세틸렌, n-프로필-tert-부틸아세틸렌, 페닐메틸아세틸렌, 페닐에틸아세틸렌, 페닐-n-프로필아세틸렌, 페닐-iso-프로필아세틸렌, 페닐-n-부틸아세틸렌, 페닐-tert-부틸아세틸렌 등의 탄화수소계 알킨류;
아세틸렌디올, 프로핀올, 부틴올, 펜틴올, 헥신올, 헥신디올, 헵틴올, 헵틴디올, 옥틴올, 옥틴디올 등의 알키닐알코올류, 및 상기 알키닐알코올류의 일부 또는 전부의 OH기가 NH2기로 치환된 알키닐아민류 등을 들 수 있다.
폴리(티)올 화합물(단, 용제로서 사용된 알코올은 포함되지 않음) 중 폴리올 화합물로서는, 예를 들어 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 부틸렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 디트리메틸올프로판, 부탄트리올, 1,2-메틸글루코사이드, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨, 트리펜타에리트리톨, 소르비톨, 에리트리톨, 트레이톨, 리비톨, 아라비니톨, 크실리톨, 알리톨, 만니톨, 돌시톨, 이디톨, 글리콜, 이노시톨, 헥산트리올, 트리글리세로스, 디글리페롤, 트리에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트, 시클로부탄디올, 시클로펜탄디올, 시클로헥산디올, 시클로헵탄디올, 시클로옥탄디올, 시클로헥산디메탄올, 히드록시프로필시클로헥산올, 트리시클로[5.2.1.02,6]데칸-디메탄올, 비시클로[4.3.0]-노난디올, 디시클로헥산디올, 트리시클로[5.3.1.1]도데칸디올, 비시클로[4.3.0]노난디메탄올, 트리시클로[5.3.1.1]도데칸디에탄올, 히드록시프로필트리시클로[5.3.1.1]도데칸올, 스피로[3.4]옥탄디올, 부틸시클로헥산디올, 1,1'-비시클로헥실리덴디올, 시클로헥산트리올, 말티톨, 락토오스 등의 지방족 폴리올;
디히드록시나프탈렌, 트리히드록시나프탈렌, 테트라히드록시나프탈렌, 디히드록시벤젠, 벤젠트리올, 비페닐테트라올, 피로갈롤, (히드록시나프틸)피로갈롤, 트리히드록시페난트렌, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 크실릴렌글리콜, 디(2-히드록시에톡시)벤젠, 비스페놀 A-비스-(2-히드록시에틸에테르), 테트라브롬비스페놀 A, 테트라 브롬비스페놀 A-비스-(2-히드록시에틸에테르) 등의 방향족 폴리올;
디브로모네오펜틸글리콜 등의 할로겐화 폴리올;
에폭시 수지 등의 고분자 폴리올을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 이들로부터 선택되는 적어도 1종을 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 폴리올 화합물로서 그 밖에, 옥살산, 글루탐산, 아디프산, 아세트산, 프로피온산, 시클로헥산카르복실산, β-옥소시클로헥산프로피온산, 다이머산, 프탈산, 이소프탈산, 살리실산, 3-브로모프로피온산, 2-브로모글리콜, 디카르복시시클로헥산, 피로멜리트산, 부탄테트라카르복실산, 브로모프탈산 등의 유기산과 상기 폴리올의 축합 반응 생성물;
상기 폴리올과 에틸렌옥사이드나 프로필렌옥사이드 등 알킬렌옥사이드와의 부가 반응 생성물;
알킬렌폴리아민과 에틸렌옥사이드나, 프로필렌옥사이드 등 알킬렌옥사이드와의 부가 반응 생성물; 나아가서는,
비스-[4-(히드록시에톡시)페닐]술피드, 비스-[4-(2-히드록시프로폭시)페닐]술피드, 비스-[4-(2,3-디히드록시프로폭시)페닐]술피드, 비스-[4-(4-히드록시시클로헥실옥시)페닐]술피드, 비스-[2-메틸-4-(히드록시에톡시)-6-부틸페닐]술피드 및 이들 화합물에 수산기당 평균 3분자 이하의 에틸렌옥시드 및/또는 프로필렌옥시드가 부가된 화합물;
디-(2-히드록시에틸)술피드, 1,2-비스-(2-히드록시에틸머캅토)에탄, 비스(2-히드록시에틸)디술피드, 1,4-디티안-2,5-디올, 비스(2,3-디히드록시프로필)술피드, 테트라키스(4-히드록시-2-티아부틸)메탄, 비스(4-히드록시페닐)술폰(비스페놀 S), 테트라브로모비스페놀 S, 테트라메틸비스페놀 S, 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 1,3-비스(2-히드록시에틸티오에틸)-시클로헥산 등의 황 원자를 함유한 폴리올 등을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 이들로부터 선택되는 적어도 1종을 조합하여 사용할 수 있다.
폴리티올 화합물로서는, 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2,3-프로판트리티올, 1,2-시클로헥산디티올, 비스(2-머캅토에틸)에테르, 테트라키스(머캅토메틸)메탄, 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올에탄트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 비스(머캅토메틸)술피드, 비스(머캅토메틸)디술피드, 비스(머캅토에틸)술피드, 비스(머캅토에틸)디술피드, 비스(머캅토프로필)술피드, 비스(머캅토메틸티오)메탄, 비스(2-머캅토에틸티오)메탄, 비스(3-머캅토프로필티오)메탄, 1,2-비스(머캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-머캅토에틸티오)에탄, 1,2-비스(3-머캅토프로필티오)에탄, 1,2,3-트리스(머캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-머캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-머캅토프로필티오)프로판, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄,5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라키스(머캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-머캅토에틸티오메틸)메탄, 테트라키스(3-머캅토프로필티오메틸)메탄, 비스(2,3-디머캅토프로필)술피드, 2,5-디머캅토메틸-1,4-디티안, 2,5-디머캅토-1,4-디티안, 2,5-디머캅토메틸-2,5-디메틸-1,4-디티안, 및 이들의 티오글리콜산 및 머캅토프로피온산의 에스테르, 히드록시메틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸디술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸디술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 2-머캅토에틸에테르비스(2-머캅토아세테이트), 2-머캅토에틸에테르비스(3-머캅토프로피오네이트), 티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 디티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 1,1,2,2-테트라키스(머캅토메틸티오)에탄, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 트리스(머캅토메틸티오)메탄, 트리스(머캅토에틸티오)메탄 등의 지방족 폴리티올 화합물;
1,2-디머캅토벤젠, 1,3-디머캅토벤젠, 1,4-디머캅토벤젠, 1,2-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리머캅토벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸렌옥시)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토에틸렌옥시)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,5-나프탈렌디티올, 2,6-나프탈렌디티올 등의 방향족 폴리티올 화합물;
2-메틸아미노-4,6-디티올-sym-트리아진, 3,4-티오펜디티올, 비스무티올, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄 등의 복소환 폴리티올 화합물 등을 들 수 있다.
폴리아민 화합물로서는, 에틸렌디아민, 1,2-, 혹은 1,3-디아미노프로판, 1,2-, 1,3-, 혹은 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 1,10-디아미노데칸, 1,2-, 1,3-, 혹은 1,4-디아미노시클로헥산, o-, m- 혹은 p-디아미노벤젠, 3,4- 혹은 4,4'-디아미노벤조페논, 3,4- 혹은 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 3,3'-, 혹은 4,4'-디아미노디페닐술폰, 2,7-디아미노플루오렌, 1,5-, 1,8-, 혹은 2,3-디아미노나프탈렌, 2,3-, 2,6-, 혹은 3,4-디아미노피리딘, 2,4-, 혹은 2,6-디아미노톨루엔, m-, 혹은 p-크실릴렌디아민, 이소포론디아민, 디아미노메틸비시클로헵탄, 1,3-, 혹은 1,4-디아미노메틸시클로헥산, 2-, 혹은 4-아미노피페리딘, 2-, 혹은 4-아미노메틸피페리딘, 2-, 혹은 4-아미노에틸피페리딘, N-아미노에틸모르폴린, N-아미노프로필모르폴린 등의 1급 폴리아민 화합물;
디에틸아민, 디프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디이소부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-3-펜틸아민, 디헥실아민, 디옥틸아민, 디(2-에틸헥실)아민, 메틸헥실아민, 디알릴아민, N-메틸알릴아민, 피페리딘, 피롤리딘, 디페닐아민, N-메틸아민, N-에틸아민, 디벤질아민, N-메틸벤질아민, N-에틸벤질아민, 디시클로헥실아민, N-메틸아닐린, N-에틸아닐린, 디나프틸아민, 1-메틸피페라진, 모르폴린 등의 단관능 2급 아민 화합물;
N,N'-디메틸에틸렌디아민, N,N'-디메틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,5-디아미노펜탄, N,N'-디메틸-1,6-디아미노헥산, N,N'-디메틸-1,7-디아미노헵탄, N,N'-디에틸에틸렌디아민, N,N'-디에틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,5-디아미노펜탄, N,N'-디에틸-1,6-디아미노헥산, N,N'-디에틸-1,7-디아미노헵탄, 피페라진, 2-메틸피페라진, 2,5-디메틸피페라진, 2,6-디메틸피페라진, 호모피페라진, 1,1-디-(4-피페리딜)메탄, 1,2-디-(4-피페리딜)에탄, 1,3-디-(4-피페리딜)프로판, 1,4-디-(4-피페리딜)부탄, 테트라메틸구아니딘 등의 2급 폴리아민 화합물; 등을 들 수 있다.
산 무수물로서는, 무수 숙신산, 무수 프탈산, 무수 말레산, 테트라브롬 무수 프탈산, 테트라히드로 무수 프탈산, 무수 트리멜리트산 또는 도데실 무수 숙신산 등을 들 수 있다.
폴리카르복실산 화합물로서는, 숙신산, 아디프산, 세바스산, 아젤라산, 도데칸디온산, 테레프탈산, 이소프탈산, 오르토프탈산, 무수프탈산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 나프탈렌디카르복실산, 비페닐디카르복실산, 다이머산, 트리멜리트산, 피로멜리트산, ε-카프로락톤 등을 들 수 있다.
상기의 중합 반응성 화합물은 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용해도 된다.
얻어지는 광학 렌즈는 광학 물성 등의 품질을 향상시키는 관점에서, 중합 반응성 화합물은, 바람직하게는 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이다.
본 실시 형태의 조성물에 포함되는 중합 반응성 화합물에 대해서, 더욱 상세하게 설명한다. 상기의 중합 반응성 화합물은, 반응성에 따라 (A군)과 (B군)으로 분류할 수 있다.
(A군): 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물 또는 알킨 화합물은, 자기 중합 혹은 공중합성 화합물로서 (A군)으로 분류할 수 있다. 단 (A군)에 하기 (B군)은 포함되지 않는다.
(B군): 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물은, 부가 중합성 화합물로서 (B군)으로 분류할 수 있다. 단 (B군)에 상기 (A군)은 포함되지 않는다.
상기의 중합 반응성 화합물을 단독으로 사용하는 경우, (A군) 또는 (B군)으로부터 선택되는 어느 1종이 선택된다. 상기의 중합 반응성 화합물을 단독(1종)으로 사용하는 경우, 자기 중합 혹은 공중합성의 화합물인 (A군)로부터 선택되는 1종의 쪽이 부가 중합성 화합물인 (B군)으로부터 선택되는 1종보다도 용이하게 경화되기 때문에 바람직하다.
상기의 중합 반응성 화합물을 2종 이상 사용하는 경우, (A군)만으로부터 선택되는 2종 이상, (B군)만으로부터 선택되는 2종 이상, 혹은 (A군)으로부터 선택되는 1종 이상과 (B군)으로부터 선택되는 1종 이상을 혼합하는 방법을 들 수 있다.
자기 중합성 혹은 공중합성 화합물로 분류된 폴리이소(티오)시아네이트 화합물은, (A군)으로 분류되어 있는 기타의 화합물보다도 자기 중합성, 혹은 (A군) 화합물과의 공중합의 반응성은 낮은 경향이 있지만, 조건을 선택하면 1-나일론형 중합체 및 이소시아누레이트형 중합체 등의 자기 중합 반응형 중합체가 얻어지는 경우가 있다. 또한 폴리(티오)에폭시 화합물과의 공중합에 있어서도, 에틸렌카르보네이트형 공중합 중합체가 얻어지는 경우가 있다.
부가 중합성 (B군)만으로부터 2종 이상을 선택해도 일반적으로 중합하기 어렵지만, 산 무수물과 폴리(티)올 화합물을 조합한 경우, 산 무수물과 폴리아민 화합물을 조합한 경우, 또는 산 무수물과 폴리(티)올 화합물과 폴리아민 화합물의 3종을 조합한 경우, 중합 반응이 진행되기 쉬워 경화 수지를 얻을 수 있는 경향이 있다. 산 무수물과 폴리(티)올 또는 폴리아민의 배합비는, 산 무수물의 산 무수기/폴리(티)올의 머캅토기(또는 폴리아민의 아미노기)의 관능기 몰비로, 약 8/2 내지 2/8의 범위, 바람직하게는 6/4 내지 4/6의 범위, 더욱 바람직하게는 55/45 내지 45/55의 범위이다.
(A군)과 (B군)의 양쪽을 사용하는 경우의 배합비는, (A군)의 중합성 관능기/(B군) 중합성 관능기의 관능기 몰비로 나타내면, 약 999/1 내지 1/9의 범위, 바람직하게는 99/1 내지 10/90의 범위, 더욱 바람직하게는 9/1 내지 3/7의 범위, 가장 바람직하게는 7/3 내지 4/6의 범위이다.
본 실시 형태에 있어서, 중합성 조성물 중의 폴리에테르 변성 화합물과 중합 반응성 화합물의 조합의 예로서, 중합성 조성물의 가용 시간을 연장시키는 효과, 얻어지는 성형체의 투명성 향상 효과 및 성형체에 있어서의 맥리 억제 효과의 밸런스를 향상시키는 관점에서, 바람직하게는 폴리에테르 변성 화합물이, 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 포함하고;
보다 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물 및 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
더욱 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물 및 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
보다 더 바람직하게는 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 수소 원자인 화합물과, 일반식 (1)로 표시되는 화합물이며 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26이 C2 내지 C8의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기인 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하고;
한층 더 바람직하게는, 일반식 (6)으로 표시되는 화합물과 상술한 일반식 (7)로 표시되는 화합물을 포함하고;
중합 반응성 화합물이, 바람직하게는 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이며;
보다 바람직하게는 폴리이소(티오)시아네이트 화합물을 포함하고;
더욱 바람직하게는 폴리이소(티오)시아네이트 화합물과 폴리(티)올 화합물을 포함하는 조합을 들 수 있다.
[첨가제 등의 타성분]
본 실시 형태의 조성물에는, 상기 중합 반응성 화합물 이외의 성분이 포함되어 있어도 된다. 예를 들어, 단관능의 이소(티오)시아네이트 화합물, 단관능의 (티오)에폭시 화합물, 단관능의 옥세타닐 화합물, 단관능의 티에타닐 화합물, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일티오기, 아크릴로일티오기, 메타크릴아미드기 또는 아크릴아미드기로부터 임의로 선택된 관능기를 1개 갖는 단관능의 (메트)아크릴로일 화합물, 메타크릴로일옥시기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일티오기, 아크릴로일티오기, 메타크릴아미드기 또는 아크릴아미드기 이외의 중합성 탄소 탄소 이중 결합을 1개 갖는 단관능의 알켄 화합물, 용제로서 사용된 알코올 이외의 단관능의 알코올 화합물, 단관능의 티올 화합물, 아미노기, 제2 아미노기로부터 임의로 선택된 1개의 관능기를 갖는 단관능의 아민 화합물, 카르복실기를 1개 갖는 단관능의 카르복실산 화합물, 용제 및 수분 등을 들 수 있다.
단, 본 실시 형태의 성형체를 주형 중합에 의해 제조할 때, 조성물 중에 잔존 용제 및 수분이 대량으로 잔존하고 있으면, 주입 및 중합 경화 중에 기포가 발생하기 쉽고, 최종적으로는 성형체 내부에 기포가 고정화(고화)되기 때문에, 중합 반응성 화합물을 포함하는 조성물 중에는 최대한 용제 및 물은 포함되지 않는 편이 바람직하다. 따라서, 캐비티에 주입하기 직전의 본 실시 형태의 조성물 중에 포함되는 용제 및 물의 양은 적어도 20중량％ 이하가 바람직하고, 5중량％ 이하가 보다 바람직하고, 1중량％ 이하이면 더욱 바람직하다.
본 실시 형태의 조성물에 포함될 가능성이 높은 용제로서는, 예를 들어 내부 이형제에 잔존한 반응 용제, 중합성 화합물에 잔존한 반응 용제, 조성물의 점도를 낮출 목적으로 첨가된 용제, 또는 조작성 향상을 목적으로 하여 각종 첨가제를 녹이기 위해 첨가된 용제 등, 다양한 루트로 혼입되는 용제를 들 수 있다.
잔존할 가능성이 높은 용제의 종류로서는, 예를 들어 수분 등의 물, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로판올, 1-부탄올, 이소부탄올, t-부탄올, 1-펜탄올, 2-펜탄올, 3-펜탄올, 이소펜탄올, 1-헥산올, 2-에틸헥산올, 1-옥탄올, 2-메톡시에탄올, 1-메톡시-2-프로판올 등의 알코올류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-n-프로필 케톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산-n-부틸, 아세트산이소부틸 등의 에스테르류, 디에틸카르보네이트, 에틸렌카르보네이트, 1,2-프로필렌카르보네이트 등의 카르보네이트류, 디에틸에테르, 디-n-프로필에테르, 디이소프로필에테르, 디-n-부틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르류, n-헥산, 시클로헥산, 메틸시클로헥산 등의 지방족 탄화수소류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, n-메틸피롤리돈, 니트로벤젠 등의 질소 함유 화합물류, 디클로로메탄, 클로로포름, 디클로로에탄, 1,1,2-트리클로로-1,1,2-트리플루오로에탄, 1,1,2,2-테트라클로로-1,2-디플루오로에탄 등의 할로겐 함유 화합물류 등을 들 수 있다.
본 실시 형태의 조성물을 주형 중합하여 성형체를 제조하는 과정에 있어서, 필요에 따라, 열에 의해 경화시킨 경우에는 중합 촉매 또는 열중합 개시제가 첨가되고, 자외선 등의 적외선(열) 이외의 방사선에 의해 경화시킨 경우에는 광중합 개시제가 첨가된다.
중합 촉매로서는, 루이스산, 아민, 3급 아민 화합물 및 그의 무기산염 또는 유기산염, 금속 화합물, 4급 암모늄염, 또는 유기 술폰산 등을 들 수 있다.
상기 중합 촉매의 사용량은, 중합성 조성물에 대하여 바람직하게는 5ppm 내지 15중량％의 범위, 보다 바람직하게는 10ppm 내지 10중량％의 범위, 더욱 바람직하게는 50ppm 내지 3중량％의 범위이다.
중합 촉매로서 사용되는 금속 화합물로서는, 디메틸 주석 클로라이드, 디부틸 주석 클로라이드, 디부틸 주석 라우레이트 등을 들 수 있다.
사용되는 열중합 개시제로서는, 예를 들어 메틸이소부틸케톤퍼옥사이드, 시클로헥사논퍼옥사이드 등의 케톤퍼옥사이드 화합물;
이소부티릴퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드 등의 디아실퍼옥사이드 화합물;
트리스(t-부틸퍼옥시)트리아진, t-부틸쿠밀퍼옥사이드 등의 디알킬퍼옥사이드 화합물;
1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-디(t-부틸퍼옥시)부탄 등의 퍼옥시케탈 화합물;
α-쿠밀퍼옥시네오데카노에이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 2,4,4-트리메틸펜틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시-3,5,5-트리메틸헥사노에이트 등의 알킬퍼에스테르 화합물;
디-3-메톡시부틸퍼옥시디카르보네이트, 비스(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시이소프로필카르보네이트, 디에틸렌글리콜비스(t-부틸퍼옥시카르보네이트) 등의 퍼옥시카르보네이트 화합물 등을 들 수 있다.
사용되는 광중합 개시제로서는, 광 라디칼 중합 개시제, 광 양이온 중합 개시제 및 광 음이온 중합 개시제 등을 들 수 있지만, 이들 광중합 개시제 중에서도, 광 라디칼 중합 개시제가 바람직하다.
상기 광 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들어 이르가큐어 127(바스프(BASF)사 제조), 이르가큐어 651(BASF사 제조), 이르가큐어 184(BASF사 제조), 다로큐어 1173(BASF사 제조), 벤조페논, 4-페닐벤조페논, 이르가큐어 500(BASF사 제조), 이르가큐어 2959(BASF사 제조), 이르가큐어 907(BASF사 제조), 이르가큐어 369(BASF사 제조), 이르가큐어 1300(BASF사 제조), 이르가큐어 819(BASF사 제조), 이르가큐어 1800(BASF사 제조), 다로큐어 TPO(BASF사 제조), 다로큐어 4265(BASF사 제조), 이르가큐어 OXE01(BASF사 제조), 이르가큐어 OXE02(BASF사 제조), 에사큐어 KT55(란벨티사 제조), 에사큐어 ONE(란벨티사 제조), 에사큐어 KIP150(란벨티사 제조), 에사큐어 KIP100F(란벨티사 제조), 에사큐어 KT37(란벨티사 제조), 에사큐어 KTO46(란벨티사 제조), 에사큐어 1001M(란벨티사 제조), 에사큐어 KIP/EM(란벨티사 제조), 에사큐어 DP250(란벨티사 제조), 에사큐어 KB1(란벨티사 제조), 2,4-디에틸티오크산톤 등을 들 수 있다.
이들 광 라디칼 중합 개시제 중에서도, 이르가큐어 127(BASF사 제조), 이르가큐어 184(BASF사 제조), 다로큐어 1173(BASF사 제조), 이르가큐어 500(BASF사 제조), 이르가큐어 819(BASF사 제조), 다로큐어 TPO(BASF사 제조), 에사큐어 ONE(란벨티사 제조), 에사큐어 KIP100F(란벨티사 제조), 에사큐어 KT37(란벨티사 제조) 및 에사큐어 KTO46(란벨티사 제조) 등이 바람직하다.
상기 광 양이온 중합 개시제로서는, 예를 들어 이르가큐어 250(BASF사 제조), 이르가큐어 784(BASF사 제조), 에사큐어 1064(란벨티사 제조), CYRACURE UVI6990(유니온 카바이트 일본사 제조), 아데카 옵토머 SP-172(아데카(ADEKA)사 제조), 아데카 옵토머 SP-170(ADEKA사 제조), 아데카 옵토머 SP-152(ADEKA사 제조), 아데카 옵토머 SP-150(ADEKA사 제조) 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제를 사용하는 경우에는, 광중합 촉진제를 병용해도 된다. 광중합 촉진제로서는, 예를 들어 2,2-비스(2-클로로페닐)-4,5'-테트라페닐-2'H-<1,2'>비이미다졸일, 트리스(4-디메틸아미노페닐)메탄, 4,4'-비스(디메틸아미노)벤조페논, 2-에틸안트라퀴논, 캄포퀴논 등을 들 수 있다.
상기 광중합 개시제 및 열중합 개시제의 사용량은, 중합성 조성물 중에, 바람직하게는 0.1 내지 20중량％의 범위, 보다 바람직하게는 0.5 내지 10중량％의 범위, 더욱 바람직하게는 1 내지 5중량％의 범위이다.
본 실시 형태의 조성물을 주형 중합하여 성형체를 제조하는 과정에 있어서, 필요에 따라, 내부 이형제를 첨가해도 된다.
내부 이형제로서는, 산성 인산에스테르를 사용할 수 있다. 산성 인산에스테르로서는, 인산 모노에스테르, 인산 디에스테르를 들 수 있고, 각각 단독 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
내부 이형제로서 사용하는 산성 인산에스테르는, 일반식 (5)로 나타낼 수 있다.
Figure 112017071832126-pct00011
일반식 (5) 중, x는 1 또는 2의 정수를 나타내고, y는 0 내지 18의 정수를 나타내고, R27은 탄소수 1 내지 20의 알킬기를 나타내고, R28, R29는 각각 독립적으로 수소 원자 또는, 메틸기, 에틸기를 나타낸다. [ ]x 내의 탄소수는 4 내지 20인 것이 바람직하다. 복수 존재하는 R27끼리, 복수 존재하는 R28끼리 또는 복수 존재하는 R29끼리는, 동일해도 상이해도 된다.
일반식 (5) 중의 R27로서는, 예를 들어 메탄, 에탄, 프로판, 부탄, 펜탄, 헥산, 헵탄, 옥탄, 노난, 데칸, 운데칸, 도데칸, 테트라데칸, 헥사데칸 등의 직쇄의 지방족 화합물로부터 유도되는 유기 잔기, 2-메틸프로판, 2-메틸부탄, 2-메틸펜탄, 3-메틸펜탄, 3-에틸펜탄, 2-메틸헥산, 3-메틸헥산, 3-에틸헥산, 2-메틸헵탄, 3-메틸헵탄, 4-메틸헵탄, 3-에틸헵탄, 4-에틸헵탄, 4-프로필헵탄, 2-메틸옥탄, 3-메틸옥탄, 4-메틸옥탄, 3-에틸옥탄, 4-에틸옥탄, 4-프로필옥탄 등의 분지쇄의 지방족 화합물로부터 유도되는 유기 잔기, 시클로펜탄, 시클로헥산, 1,2-디메틸시클로헥산, 1,3-디메틸시클로헥산, 1,4-디메틸시클로헥산 등의 지환족 화합물로부터 유도되는 유기 잔기 등을 들 수 있고, 이들로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다. 또한, 이들 예시 화합물에만 한정되는 것은 아니다. 산성 인산에스테르는, 적어도 1종 또는 2종 이상의 혼합물을 사용할 수 있다.
상기 일반식 (5)에 있어서, y는 0 또는 1이 바람직하다.
y가 0인 경우, R27은, 탄소수 4 내지 12의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기가 바람직하고, 탄소수 4 내지 12의 직쇄 알킬기가 더욱 바람직하다.
y가 1인 경우, R27은, 탄소수 1 내지 20의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기가 바람직하고, 탄소수 3 내지 12의 직쇄 또는 분지쇄 알킬기가 바람직하다.
산성 인산에스테르는, 이들로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물로서 사용할 수 있다.
산성 인산에스테르로서는, ZelecUN(스테판(STEPAN)사 제조), MR용 내부 이형제(미쓰이 가가쿠사 제조), 죠호쿠 가가쿠 고교사 제조의 JP 시리즈, 도호 가가쿠 고교사 제조의 포스파놀 시리즈, 다이하치 가가쿠 고교사 제조의 AP, DP 시리즈 등을 사용할 수 있고, ZelecUN(STEPAN사 제조), MR용 내부 이형제(미쓰이 가가쿠사 제조)가 보다 바람직하다.
본 실시 형태의 경화 수지로 이루어지는 성형체가 장기간 외부에 노출되어도 변질되지 않도록 하기 위해서, 본 실시 형태의 조성물에, 추가로 자외선 흡수제 및 힌더드 아민계 광안정제를 첨가하여, 내후성을 부여한 조성으로 하는 것이 바람직하다.
상기 자외선 흡수제는 특별히 한정은 되지 않고, 예를 들어 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 트리아진계 자외선 흡수제, 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조에이트계 자외선 흡수제, 프로판디옥산에스테르계 자외선 흡수제, 옥사닐리드계 자외선 흡수제 등의 다양한 자외선 흡수제를 사용할 수 있다.
구체적으로는, 예를 들어 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-(3,4,5,6-테트라히드로프탈이미딜메틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-p-크레졸, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-tert-부틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-부틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-비스(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-(1-메틸-1-페닐에틸)페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-(3-온-4-옥사-도데실)-6-tert-부틸-페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일}-4-(3-온-4-옥사-도데실)-6-tert-부틸-페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일}-4-메틸-6-tert-부틸-페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4,6-디-tert-펜틸페놀, 2-{5-클로로(2H)-벤조트리아졸-2-일}-4,6-디-tert-부틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-tert-옥틸페놀, 2-(2H-벤조트리아졸-2-일)-4-메틸-6-n-도데실페놀, 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시페닐]프로피온산옥틸, 3-[3-tert-부틸-5-(5-클로로-2H-벤조트리아졸-2-일)-4-히드록시페닐]프로피온산2-에틸헥실, 메틸-3-{3-(2H-벤조트리아졸-2-일)-5-tert-부틸-4-히드록시페닐}프로피오네이트/폴리에틸렌글리콜300의 반응 생성물, 상품명 Viosorb 583(교도 야쿠힌 주식회사 제조), 상품명 티누빈 326(BASF사 제조), 상품명 티누빈 384-2(BASF사 제조), 상품명 티누빈 PS(BASF사 제조), 상품명 Seesorb 706(시프로 가세이 주식회사 제조), 상품명 EVERSORB 109(에버 라이트(EVER LIGHT)사 제조) 등의 벤조트리아졸계 자외선 흡수제; 2-(4-페녹시-2-히드록시-페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥사-헥사데실옥시)-4,6-디(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥사-헵타데실옥시)-4,6-디(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-iso-옥틸옥시-페닐)-4,6-디(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진, 상품명 티누빈 400(BASF사 제조), 상품명 티누빈 405(BASF사 제조), 상품명 티누빈 460(BASF사 제조), 상품명 티누빈 479(BASF사 제조) 등의 트리아진계 자외선 흡수제; 2-히드록시-4-n-메톡시벤조페논, 2-히드록시-4-n-옥톡시벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 흡수제; 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트 등의 벤조에이트계 자외선 흡수제; 프로판디옥산-{(4-메톡시페닐)-메틸렌}-디메틸에스테르, 상품명 호스타빈 PR-25(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 B-CAP(클라리언트·재팬 주식회사 제조) 등의 프로판디옥산에스테르계 자외선 흡수제; 2-에틸-2'-에톡시-옥사닐리드, 상품명 Sanduvor VSU(클라리언트·재팬 주식회사 제조) 등의 옥사닐리드계 자외선 흡수제 등을 들 수 있다. 이들 자외선 흡수제 중에서도 벤조트리아졸계 및 트리아진계 자외선 흡수제가 바람직한 경향이 있다.
상기 힌더드 아민계 광안정제(Hindered Amine Light Stabilizers: 약칭 HALS)는 특별히 한정은 되지 않지만, 일반적으로는 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 골격을 갖는 화합물의 총칭으로서 나타내고 있는 경우가 많고, 분자량에 따라, 저분자량 HALS, 중분자량 HALS, 고분자량 HALS 및 반응형 HALS로 크게 구별되어 있다.
구체적으로는, 힌더드 아민계 광안정제로서는, 예를 들어 상품명 티누빈 111FDL(BASF사 제조), 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트(상품명 티누빈 123(BASF사 제조)), 상품명 티누빈 144(BASF사 제조), 상품명 티누빈 292(BASF사 제조), 상품명 티누빈 765(BASF사 제조), 상품명 티누빈 770(BASF사 제조), N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민-2,4-비스[N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노]-6-클로로-1,3,5-트리아진 축합물(상품명 CHIMASSORB 119FL(BASF사 제조)), 상품명 CHIMASSORB 2020FDL(BASF사 제조), 숙신산디메틸-1-(2-히드록시에틸)-4-히드록시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘 중축합물(상품명 CHIMASSORB 622LD(BASF사 제조)), 폴리[{6-(1,1,3,3-테트라메틸-부틸)아미노-1,3,5-트리아진-2,4-디일}{(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)이미노}헥사메틸렌{(2,2,6,6-테트라메틸라우릴-4-피페리딜)이미노}](상품명 CHIMASSORB 944FD(BASF사 제조)), 상품명 Sanduvor 3050 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 Sanduvor 3052 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 Sanduvor 3058 Liq.(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 Sanduvor 3051 Powder.(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 Sanduvor 3070 Powder.(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 VP Sanduvor PR-31(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 N20(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 N24(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 N30(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 N321(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 PR-31(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 호스타빈 845(클라리언트·재팬 주식회사 제조), 상품명 나이로스탭 S-EED(클라리언트·재팬 주식회사 제조) 등을 들 수 있다.
상기 자외선 흡수제 및 힌더드 아민계 광안정제의 첨가량은, 특별히 한정은 되지 않지만, 중합성 조성물 중에, 자외선 흡수제는, 통상 0.1 내지 20중량％, 바람직하게는 0.5 내지 10중량％이며, 힌더드 아민계 광안정제는, 통상 0.1 내지 10중량％, 바람직하게는 0.5 내지 5중량％, 보다 바람직하게는 1 내지 3중량％의 범위이다. 자외선 흡수제, 힌더드 아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위 내인 경우에는, 본 실시 형태의 조성물을 중합하여 얻어지는 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 성형체의 내후성 개량 효과가 커진다. 자외선 흡수제, 힌더드 아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위 미만인 경우에는, 얻어지는 성형체의 내후성 개량 효과가 작아지는 경우가 있다. 한편, 자외선 흡수제, 힌더드 아민계 광안정제의 첨가량이 상기 범위를 초과하는 경우에는, 상기 중합 반응성 화합물을 포함하는 조성물을 UV 등의 방사선으로 중합할 때 불충분한 경우가 있다.
또한, 조광성을 부여할 목적으로, 조광 염료 또는 조광 색소를 첨가해도 된다. 대표적인 조광 염료 또는 조광 색소로서는, 예를 들어 스피로피란계 화합물, 스피로옥사진계 화합물, 풀기드계 화합물, 나프토피란계 화합물, 비스이미다졸 화합물로부터 원하는 착색에 따라, 1종 또는 2종 이상을 사용할 수 있다.
상기 스피로피란계 화합물의 예로서는, 인돌리노스피로벤조피란의 인돌환 및 벤젠환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로나프토피란의 인돌환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로퀴놀리노피란의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로피리도피란의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체 등을 들 수 있다.
상기 스피로옥사진계 화합물의 예로서는, 인돌리노스피로벤조옥사진의 인돌환 및 벤젠환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로나프토옥사진의 인돌환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로페난트로옥사진의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 인돌리노스피로퀴놀리노옥사진의 인돌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체, 피페리디노스피로나프토옥사진의 피페리딘환 및 나프탈렌환이 할로겐, 메틸, 에틸, 메틸렌, 에틸렌, 수산기 등으로 치환된 각 치환체 등을 들 수 있다.
상기 풀기드계 화합물의 예로서는, N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-메틸-2-페닐스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸], N-시아노메틸-6,7-디히드로-2-(p-메톡시페닐)-4-메틸스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸), 6,7-디히드로-N-메톡시카르보닐메틸-4-메틸-2-페닐스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸), 6,7-디히드로-4-메틸-2-(p-메틸페닐)-N-니트로메틸스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-시클로프로필-3-메틸스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-4-시클로프로필스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸), N-시아노메틸-6,7-디히드로-2-(p-메톡시페닐)-4-시클로프로필스피로(5,6-벤조[b]티오펜디카르복시이미드-7,2'-트리시클로[3.3.1.13,7]데칸) 등을 들 수 있다.
상기 나프토피란계 화합물의 예로서는, 스피로[노르보르난-2,2'-[2H]벤조[h]크로멘], 스피로[비시클로[3.3.1]노난-9,2'-[2H]벤조[h]크로멘], 7'-메톡시스피로[비시클로[3.3.1]노난-9,2'-[2H]벤조[h]크로멘], 7'-메톡시스피로[노르보르난-2,2'-[2H]벤조[f]크로멘], 2,2-디메틸-7-옥톡시[2H]벤조[h]크로멘, 스피로[2-비시클로[3.3.1]노넨-9,2'-[2H]벤조[h]크로멘], 스피로[2-비시클로[3.3.1]노넨-9,2'-[2H]벤조[f]크로멘], 6-모르폴리노-3,3-비스(3-플루오로-4-메톡시페닐)-3H-벤조(f)크로멘, 5-이소프로필-2,2-디페닐-2H-벤조(h)크로멘 등을 들 수 있다.
이들 조광 염료 또는 조광 색소 첨가량은, 특별히 한정은 되지 않지만, 중합 반응성 화합물을 포함하는 조성물에 대하여, 약 0.01 내지 10000ppm(중량)의 범위, 바람직하게는 0.1 내지 1000ppm(중량)의 범위, 보다 바람직하게는 1 내지 100ppm(중량)의 범위이다.
본 실시 형태의 조성물에는, 추가로 필요에 따라, 중합 촉진제, 촉매, 적외선 흡수제, 라디칼 포착제, 산화 방지제, 중합 금지제, 조광이 아닌 색소 및 염료, 바인더, 분산제, 소포제, 나노미터 사이즈의 유기 또는 무기 입자 등의 다양한 첨가제를 첨가해도 된다.
본 실시 형태의 조성물을 가열 중합(경화)하여 얻어지는 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 성형체는 중합 반응성 화합물 및 필요에 따라서 상기의 다양한 첨가제 등이 첨가되어 제조된다. 또한, 본 실시 형태의 조성물에, 본원에 기재되어 있지 않은 중합 반응성 화합물 및 첨가제 등이, 본 실시 형태의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 첨가되어도 된다.
본 실시 형태의 성형체를 구성하는 경화 수지는, 주형 작업이 용이한 액상의 중합성 조성물로부터 얻어지는 경화 수지가 바람직하고, 그들 경화 수지 중에서도 이하의 (a) 내지 (z)에 기재된 경화 수지가 바람직하다.
(a) 폴리이소(티오)시아네이트 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리(티오)우레탄 수지
본원에 있어서 폴리(티오)우레탄 수지란, 폴리우레탄 수지, 폴리티오우레탄 수지 및 폴리디티오우레탄 수지를 의미한다.
(b) 폴리이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소티오시아네이트 화합물과, 폴리아민 화합물이 중합된 폴리(티오)우레아 수지
본원에 있어서 폴리(티오)우레아 수지란, 폴리우레아 수지 및 폴리티오우레아 수지를 의미한다.
(c) 폴리(티오)에폭시 화합물이 중합된 폴리(티오)에폭시 수지
(d) 폴리(티오)에폭시 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리(티오)에폭시-폴리(티)올 수지
(e) 폴리(티오)에폭시 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리(티오)에폭시-폴리아민 수지
(f) 폴리(티오)에폭시 화합물과 산 무수물이 중합된 폴리(티오)에폭시-산 무수물 수지
(g) 폴리(메트)아크릴로일 화합물이 중합된 폴리(메트)아크릴로일 수지
(h) 폴리(메트)아크릴로일 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리(메트)아크로일-폴리(티)올 수지
(i) 폴리(메트)아크릴로일 화합물과 폴리알켄 화합물이 중합된 폴리(메트)아크릴-폴리알켄 수지
(j) 폴리(메트)아크릴로일 화합물과 알킨 화합물이 중합된 폴리(메트)아크릴-폴리알킨 수지
(k) 폴리(메트)아크릴로일 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리(메트)아크릴-폴리아민 수지
(l) 폴리알켄 화합물이 중합된 폴리알켄 수지
(m) 폴리알켄 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리알켄-폴리(티)올 수지
(n) 폴리알켄 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리알켄-폴리아민 수지
(o) 알킨 화합물이 중합된 폴리알킨 수지
(p) 알킨 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리알킨-폴리(티)올 수지
(q) 알킨 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리알킨-폴리아민 수지
(r) 알킨 화합물과 폴리알켄 화합물이 중합된 폴리알킨-폴리알켄 수지
(s) 폴리옥세타닐 화합물이 중합된 폴리옥세타닐 수지
(t) 폴리옥세타닐 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리옥세타닐-폴리(티)올 수지
(u) 폴리옥세타닐 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리옥세타닐-폴리아민 수지
(v) 폴리옥세타닐 화합물과 산 무수물이 중합된 폴리옥세타닐-산 무수물 수지
(w) 폴리티에타닐 화합물과 폴리(티)올 화합물이 중합된 폴리티에타닐-폴리(티)올 수지
(x) 폴리티에타닐 화합물과 폴리아민 화합물이 중합된 폴리티에타닐-폴리아민 수지
(y) 폴리티에타닐 화합물과 산 무수물이 중합된 폴리티에타닐-산 무수물 수지
(z) (a) 내지 (y)로부터 선택된 2종 이상이 공중합된 혼합 수지
상기 (a) 내지 (z)의 경화 수지 중에서도, 보다 바람직한 경화 수지를 들면, (a) 내지 (i) 및 (s) 내지 (z)에 기재된 수지 및 그들의 혼합 수지(공중합체 및 수지의 혼합물)를 들 수 있고, 더욱 바람직한 경화 수지로서, (a) 내지 (f), (s) 내지 (v), 및 (z)에 기재된 경화 수지 및 그들의 혼합 수지를 들 수 있다.
<광학 재료>
본 실시 형태에 있어서는, 중합 시의 몰드를 바꿈으로써 다양한 형상의 성형체를 얻을 수 있다. 본 실시 형태의 성형체는, 원하는 형상으로 하고, 필요에 따라 형성되는 코팅층이나 다른 부재 등을 구비함으로써, 다양한 광학 재료로서 사용할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서의 광학 재료의 제조 방법은, 예를 들어 본 실시 형태의 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함한다.
광학 재료로서는, 플라스틱 렌즈, 발광 다이오드(LED), 프리즘, 광 파이버, 정보 기록 기판, 필터, 발광 다이오드 등을 들 수 있다. 특히, 플라스틱 렌즈로서 적합하다.
이하, 본 실시 형태의 성형체로 이루어지는 플라스틱 렌즈에 대하여 설명한다. 플라스틱 렌즈는 이하와 같이 제조할 수 있다.
<플라스틱 렌즈의 제조 방법>
본 실시 형태의 플라스틱 렌즈는, 통상, 상술한 조성물을 사용한 주형 중합법에 의해 제조된다.
구체적으로는, 먼저, 폴리에테르 변성 화합물을, 중합 반응성 화합물을 포함하는 조성물에 첨가하고, 혼합 교반하고, 필요에 따라 감압 탈포를 행한다.
예를 들어, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물과 폴리(티)올 화합물로부터 폴리(티오)우레탄 수지를 제조하는 경우, 폴리(티)올 화합물에 대한 폴리에테르 변성 화합물의 용해도가 낮은 경우가 있기 때문에, 폴리에테르 변성 화합물을 미리 폴리이소(티오)시아네이트 화합물에 완전히 용해시킨 후, 폴리(티)올 화합물을 혼합하는 방법이 바람직하다.
얻어진 본 실시 형태의 조성물을 유리 몰드와 개스킷 또는 테이프로 이루어지는 캐비티에 주입하고, 가열 또는 적외선 이외의 자외선 등의 방사선을 조사함으로써, 중합 경화시켜서 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈가 제조된다.
가열에 의해 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈를 제조하는 경우, 대류에 의한 중합 불균일(맥리)을 방지할 목적으로, 가열은, 통상, 저온부터 서서히 승온하여 수일간이나 걸려서 중합된다. 대표적인 가열 조건으로서는, 예를 들어 0 내지 200℃의 범위에서 저온으로부터 서서히 승온하여 64시간, 마찬가지로 5 내지 150℃의 범위에서 40시간, 마찬가지로 20 내지 120℃의 범위에서 16시간이라는 조건을 들 수 있다.
UV 등의 방사선에 의해 중합하는 경우에도 마찬가지로, 대류에 의한 중합 불균일(맥리)을 방지하기 위해, 통상, 방사선 조사의 분할을 하거나, 조도를 저하시키거나 해서, 서서히 중합시킨다. 보다 대류가 일어나지 않도록 할 목적으로, 균일한 중합성 반응 조성물을 캐비티에 주입한 후에 일단 냉각하여 대류가 일어나기 어려운 상태를 형성하고, 이어서 약한 방사선을 조사하여 균일한 겔 상태를 형성한 반경화 조성물을, 가열에 의해 완전히 경화시키는 듀얼 큐어 방식 등이 취해지는 경우도 있다.
몰드로부터 이형하여 얻어진 플라스틱 렌즈는, 중합 완결화 또는 잔류 응력에 의한 변형을 제거할 목적 등으로, 필요에 따라 재가열 처리(어닐링)를 행해도 된다. 통상, 얻어진 플라스틱 렌즈의 Tg 내지 Tg×2배의 온도에서 1 내지 24시간의 범위에서 가열 처리가 행해진다. 보다 바람직하게는 Tg 내지 Tg×1.5배의 온도에서 1 내지 16시간의 가열 처리 조건을 들 수 있고, 더욱 바람직하게는 Tg 내지 Tg×1.2배의 온도에서 1 내지 4시간의 가열 처리 조건을 들 수 있다.
방사선에 의해 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈를 제조하는 경우, 사용되는 방사선으로서는 파장 영역이 0.0001 내지 800㎚ 범위의 에너지선이 통상 사용된다. 상기 방사선은, α선, β선, γ선, X선, 전자선, 자외선, 가시광 등으로 분류되어 있고, 상기 혼합물의 조성에 따라서 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 이들 방사선 중에서도 자외선이 바람직하고, 자외선의 출력 피크는, 바람직하게는 200 내지 450㎚의 범위, 보다 바람직하게는 230 내지 445㎚의 범위, 더욱 바람직하게는 240 내지 430㎚ 범위, 특히 바람직하게는 250 내지 400㎚의 범위이다. 상기 출력 피크 범위의 자외선을 사용한 경우에는, 중합 시의 황변 및 열변형 등의 문제가 적고, 또한 자외선 흡수제를 첨가한 경우에도 비교적으로 단시간에 중합을 완결할 수 있다.
또한, 상기 조성물 중에 자외선 흡수제, 힌더드 아민계 안정제가 첨가되어 있는 경우에는, 자외선의 에너지 출력 피크가 250 내지 280㎚의 범위 또는 370 내지 430㎚의 범위에 있는 자외선을 사용하는 편이 바람직한 경향이 있다.
이렇게 하여 얻어진 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈는, 그 표면에 하드 코팅, 반사 방지 코팅, 조광 코팅, 미끄럼성 부여 코팅 또는 미끄럼성 부여 처리, 및 대전 방지 코팅 등의 기능성 코팅층 등을 형성하거나, 패션성 부여를 위한 염색 처리를 행하거나, 표면 및 에지의 연마 등의 처리를 행하거나, 나아가서는 편광성을 부여할 목적으로 편광 필름을 내부에 넣거나 표면에 부착하거나 다양한 기능성을 부여하는 가공 등을 행해도 된다.
또한 그들 기능성 코팅층과 기재의 밀착성을 향상시키는 것 등의 목적으로, 얻어진 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈의 표면을, 코로나 처리, 오존 처리, 산소 가스 또는 질소 가스 등을 사용한 저온 플라즈마 처리, 글로우 방전 처리, 화학 약품 등에 의한 산화 처리, 화염 처리 등의 물리적 또는 화학적 처리를 실시할 수도 있다.
또한 이들 처리 대신에, 또는 이들 처리에 더하여, 본 실시 형태의 경화 수지 및 그 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈의 표면과 상기의 물리적 또는 화학적 처리 등에 의해 형성된 최외층(대기 접촉면)과의 사이에, 프라이머 처리, 언더 코팅 처리, 앵커 코팅 처리 등에 의해 형성된 프라이머 층을 형성해도 된다.
상기 프라이머층에 사용하는 코팅제로서는, 예를 들어 폴리에스테르계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리우레탄계 수지, 에폭시계 수지, 페놀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리아세트산비닐계 수지, 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌 등의 폴리올레핀계 수지 또는 그의 공중합체 내지 변성 수지, 셀룰로오스계 수지 등의 수지를 비히클의 주성분으로 하는 코팅제를 사용할 수 있다. 상기 코팅제로서는, 용제형 코팅제, 수성형 코팅제 중 어느 것이어도 된다.
이들 코팅제 중에서도, 변성 폴리올레핀계 코팅제, 에틸비닐알코올계 코팅제, 폴리에틸렌이민계 코팅제, 폴리부타디엔계 코팅제, 폴리우레탄계 코팅제;
폴리에스테르계 폴리우레탄 에멀션 코팅제, 폴리염화비닐 에멀션 코팅제, 우레탄아크릴 에멀션 코팅제, 실리콘아크릴 에멀션 코팅제, 아세트산비닐아크릴 에멀션 코팅제, 아크릴 에멀션 코팅제;
스티렌-부타디엔 공중합체 라텍스 코팅제, 아크릴니트릴-부타디엔 공중합체 라텍스 코팅제, 메틸메타크릴레이트-부타디엔 공중합체 라텍스 코팅제, 클로로프렌 라텍스 코팅제, 폴리부타디엔 라텍스의 고무계 라텍스 코팅제, 폴리아크릴산에스테르 라텍스 코팅제, 폴리염화비닐리덴 라텍스 코팅제, 폴리부타디엔 라텍스 코팅제, 또는 이들 라텍스 코팅제에 포함되는 수지의 카르복실산 변성물 라텍스 또는 디스퍼전으로 이루어지는 코팅제가 바람직하다.
이들 코팅제는, 예를 들어 딥 코팅법, 스핀 코팅법 및 스프레이 코팅법 등에 의해 도포할 수 있고, 기재에 대한 도포량은, 건조 상태에서 통상 0.05g/㎡ 내지 10g/㎡이다.
이들 코팅제 중에서는, 폴리우레탄계 코팅제가 보다 바람직하다. 폴리우레탄계의 코팅제는, 그 코팅제에 포함되는 수지의 주쇄 또는 측쇄에 우레탄 결합을 갖는 것이다. 폴리우레탄계 코팅제는, 예를 들어 폴리에스테르폴리올, 폴리에테르폴리올 또는 아크릴폴리올 등의 폴리올과 이소시아네이트 화합물을 반응시켜서 얻어지는 폴리우레탄을 포함하는 코팅제이다.
이들 폴리우레탄계 코팅제 중에서도, 축합계 폴리에스테르폴리올, 락톤계 폴리에스테르폴리올 등의 폴리에스테르폴리올과 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 화합물을 혼합하여 얻어지는 폴리우레탄계 코팅제가, 밀착성이 우수하기 때문에 바람직하다.
폴리올 화합물과 이소시아네이트 화합물을 혼합하는 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 또한 배합비도 특별히 제한되지 않지만, 이소시아네이트 화합물이 너무 적으면 경화 불량을 야기하는 경우가 있기 때문에 폴리올 화합물의 OH기와 이소시아네이트 화합물의 NCO기가 당량 환산으로 2/1 내지 1/40의 범위인 것이 적합하다.
본 실시 형태의 경화 수지는 플라스틱 렌즈 이외에 응용해도 지장이 없고, 플라스틱 렌즈 이외의 용도를 열거하자면, 예를 들어 평면 몰드를 사용하여 플라스틱 렌즈와 마찬가지로 제조되는 시트 및 필름 등을 들 수 있다. 본 실시 형태의 경화 수지로 이루어지는 시트 및 필름 등은, 그들의 표면을 플라스틱 렌즈와 마찬가지로 물리적 또는 화학적으로 처리하거나, 상기한 프라이머층 및 물리적 또는 화학적 처리 등에 의해 형성된 기능성의 최외층(대기 접촉면)이 적층되어 있어도 된다.
본 실시 형태의 경화 수지로 이루어지는 플라스틱 렌즈는, 상기의 물리적 또는 화학적 처리 등에 의해 형성된 기능성의 최외층(대기 접촉면)과 경화 수지 표면의 사이에 상기 프라이머층을 포함하는 적층체여도 된다.
이렇게 하여 얻어지는 본 실시 형태의 플라스틱 렌즈는, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 픽업 렌즈, 프레넬 렌즈, 프리즘 렌즈 및 렌티큘러 렌즈 등 다양한 렌즈 용도로 사용할 수 있다. 그들 중에서도 특히 바람직한 용도로서, 표면이 평활한 안경 렌즈, 카메라 렌즈 및 픽업 렌즈를 들 수 있다. 표면이 평활하지 않은 복잡 형상의 프레넬 렌즈 및 프리즘 렌즈는, 몰드와의 계면 부근(이형 후에는 렌즈 표면 부근)에 기포가 생기기 쉽거나, 다층화된 렌티큘러 렌즈 등은 다층 계면 부근이 균일해지기 어렵기 때문에, 본 실시 형태의 내부 이형제에 더하여 추가적인 고안이 필요한 용도이다.
마찬가지로 얻어지는 본 실시 형태의 시트 및 필름은, 플랫 패널, 스마트폰 패널 등의 표시 부재, 비산 방지 필름, 특정 파장 차단 필름, 장식용 필름 등의 필름 부재, 건축재 창 유리, 차량 창 유리, 거울 등의 유리 대체 부재 등, 높은 투명성을 요구받는 다양한 평면 부재 용도로서 사용할 수 있다.
본 발명은 이하의 형태를 포함한다.
A1. 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 중합성 조성물.
A2. 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 하기 일반식 (1)
Figure 112017071832126-pct00012
(R1 내지 R8은 동일 또는 상이해도 되고, R1 내지 R8 중 적어도 1개는 폴리에테르기를 나타내고, 기타의 R1 내지 R8은, 동일 또는 상이해도 되고, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 알킬기, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 알콕시기, 히드록실기, 또는 폴리실록시기를 나타냄. 복수 존재하는 R2 내지 R5는, 각각 동일 또는 상이해도 됨. m, n은 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물,
하기 일반식 (2)
Figure 112017071832126-pct00013
(R9 내지 R16은 동일 또는 상이해도 되고, R9 내지 R16 중 적어도 1개는 폴리에테르기, 또한 적어도 1개는 불소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 퍼플루오로알킬기를 나타내고, 기타의 R9 내지 R16은, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R10 내지 R13은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. p, q는 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 플루오로 화합물, 및
하기 일반식 (3)
Figure 112017071832126-pct00014
(R17 내지 R24는 동일 또는 상이해도 되고, R17 내지 R24 중 적어도 1개는 폴리에테르기를 나타내고, 또한 적어도 1개는 (메트)아크릴로일기 또는 (메트)아크릴로일기를 갖는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 알킬기를 나타내고, 기타의 R17 내지 R24는, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R18 내지 R21은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. v, w는, 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)으로 표시되는 폴리에테르 변성(메트)아크릴 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 상기 A1.에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
A3. 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 상기 A1. 또는 A2.에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
A4. 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량％ 중에 0.01중량％ 이상 포함되는, 상기 A1. 내지 A3. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
A5. 상기 중합 반응성 화합물이, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인, 상기 A1. 내지 A4. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
A6. 상기 A1. 내지 A5. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 가열 경화시켜서 얻어지는 성형체.
A7. 상기 A6.에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
A8. 상기 A7.에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
A9. 상기 A1. 내지 A5. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
A10. 상기 A9.에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 플라스틱 렌즈.
B1. 하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 중합성 조성물.
Figure 112017071832126-pct00015
(일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타냄. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 됨. k는 1 이상의 정수를 나타냄)
B2. 상기 폴리에테르 변성 화합물이 하기 일반식 (1)
Figure 112017071832126-pct00016
(R1 내지 R8은 동일 또는 상이해도 되고, R1 내지 R8 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 기타의 R1 내지 R8은, 동일 또는 상이해도 되고, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기, 히드록실기, 또는 폴리실록시기를 나타냄. 복수 존재하는 R2 내지 R5는, 각각 동일 또는 상이해도 됨. m, n은 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물,
하기 일반식 (2)
Figure 112017071832126-pct00017
(R9 내지 R16은 동일 또는 상이해도 되고, R9 내지 R16 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기, 또한 적어도 1개는 불소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기를 나타내고, 기타의 R9 내지 R16은, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R10 내지 R13은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. p, q는 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 플루오로 화합물, 및
하기 일반식 (3)
Figure 112017071832126-pct00018
(R17 내지 R24는 동일 또는 상이해도 되고, R17 내지 R24 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 또한 적어도 1개는 (메트)아크릴로일기 또는 (메트)아크릴로일기를 갖는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타내고, 기타의 R17 내지 R24는, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R18 내지 R21은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. v, w는, 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)으로 표시되는 폴리에테르 변성(메트)아크릴 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 상기 B1.에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B3. 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 상기 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물인 상기 B2.에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B4. 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 수소 원자, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타내는, 상기 B1. 내지 B3. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B5. 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기의 R26은 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타내는, 상기 B1. 내지 B3. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B6. 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량％ 중에 0.01중량％ 이상 포함되는, 상기 B1. 내지 B5. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B7. 상기 중합 반응성 화합물이, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물인, 상기 B1. 내지 B6. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
B8. 상기 B1. 내지 B7. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 경화한 성형체.
B9. 상기 B8.에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
B10. 상기 B9.에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
B11. 상기 B1. 내지 B7. 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
B12. 상기 B11.에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 플라스틱 렌즈.
[실시예]
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 경화 수지로 이루어지는 성형체 및 플라스틱 렌즈의 평가는 이하의 방법에 의해 실시하였다.
·맥리: 중합성 조성물을 조제한 직후, 조제하고 나서 2시간 경과 후, 4시간 경과 후, 6시간 경과 후, 8시간 경과 후, 10시간 경과 후의 중합성 조성물을 사용하여 렌즈를 제조하고, 각 렌즈를 초고압 수은등(광원 형식 OPM-252HEG: 우시오 덴키사 제조)으로 투영하고, 투과된 상을 눈으로 맥리의 유무를 평가하였다. 본 실시예에서는, 이하, 이들 렌즈를 순서대로, 조제 직후의 렌즈, 2시간 후의 렌즈, 4시간 후의 렌즈, 6시간 후의 렌즈, 8시간 후의 렌즈, 10시간 후의 렌즈라 표기한다.
·굴절률, 아베수: 굴절계 KPR-20(칼뉴 고가쿠 고교사 제조)을 사용하여, 20℃에서 측정을 행하였다.
·내열성(유리 전이 온도: Tg): TMA 침투법(50g 하중, 핀 끝 0.5㎜φ, 승온 속도 10℃/min)에 의해, 시마즈 세이사쿠쇼사 제조 열 기계 분석 장치 TMA-60으로 측정하였다.
·외관: 암실 하에서, 제작한 렌즈의 탁함을 눈으로 확인하고, 탁함이 확인된 것을 ×, 확인되지 않은 것을 ○로 하였다.
[실시예 1]
2000ml의 3구 플라스크에, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄과, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄의 혼합물 50.6중량부, 2-(2-히드록시-5-t-옥틸페닐)-2H벤조트리아졸(바이오소르브 583) 0.05중량부, ZelecUN 0.125중량부, 폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 0.1중량부 넣고, 20℃ 질소 분위기 하에서 완전 용해시킨 후, 펜타에리트리톨테트라키스머캅토프로피오네이트를 23.9중량부, 추가로 디부틸 주석 디클로라이드 0.3중량부와 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 25.5중량부의 혼합액을 투입해 10℃의 욕조에 옮긴 후 20분간 교반 혼합하고 나서 또한 0.20㎪의 감압 하에서 30분간 탈가스를 행하여, 수지 조성물을 얻었다.
직경 78㎜의 6커브의 유리 몰드(상형)와, 직경 78㎜의 4커브의 유리 몰드(하형)로 구성되고, 설정 중심 두께 10㎜의 렌즈 제작용 캐비티를 갖는 몰드형에 있어서, 얻어진 수지 조성물을, 이 캐비티 내에 10g/초의 속도로 주입하였다. 남은 수지 조성물은, 10℃의 욕조에서 발열이 발생하지 않도록 보관하였다.
수지 조성물이 주입된 몰드형을, 중합 오븐에 투입, 20℃ 내지 130℃까지 36시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출하고, 캐비티 내로부터 성형체를 이형하여, 렌즈를 얻었다. 상기의 조작을, 수지 조성물을 조제하고 나서 2시간 간격으로 행해 10시간 후까지 반복하였다.
얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 모든 렌즈에서 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.598, 아베수(νe) 39, Tg 115℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 2]
2000ml의 3구 플라스크에 비스(4-이소시아나토시클로헥실)메탄 58.9중량부, 2-(3't-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸(티누빈 326) 0.64중량부, 에버소르브 109를 1.5중량부, ZelecUN 0.1중량부, 폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 0.1중량부 넣고, 20℃ 질소 분위기 하에서 완전 용해시킨 후, 추가로 디부틸 주석 디클로라이드 0.15중량부와, 5,7-, 4,7-, 4,8-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물인 폴리티올 화합물 41.1중량부의 혼합액을 투입해 10℃의 욕조에 옮긴 후 20분간 교반 혼합하고 나서 또한 0.20㎪의 감압 하에서 30분 탈가스를 행하여, 수지 조성물을 얻었다.
직경 78㎜의 6커브의 유리 몰드(상형)와, 직경 78㎜의 4커브의 유리 몰드(하형)로 구성되며, 설정 중심 두께 10㎜의 렌즈 제작용 캐비티를 갖는 몰드형에 있어서 얻어진 수지 조성물을, 이 캐비티 내에 10g/초의 속도로 주입하였다. 남은 수지 조성물은, 10℃의 욕조에서 발열이 발생하지 않도록 보관하였다.
수지 조성물이 주입된 몰드형을, 중합 오븐에 투입, 20℃ 내지 130℃까지 36시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출하고, 캐비티 내로부터 성형체를 이형하여, 렌즈를 얻었다. 상기의 조작을, 수지 조성물을 조제하고 나서 2시간 간격으로 행해 10시간 후까지 반복하였다.
얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 8시간 후의 렌즈까지 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 121℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 3]
2,4-톨릴렌디이소시아네이트와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트의 혼합물 41.2중량부에, 자외선 흡수제(교도 야쿠힌사 제조; 바이오소르브 583) 3.0중량부, ZelecUN(STEPAN사 제조; 산성 인산에스테르) 0.6중량부, TINUVIN 292(BASF사 제조; 힌더드 아민계 화합물) 0.4중량부를 혼합 용해하여, 균일 용액으로 하였다. 20℃로 유지한 후에, 트리메틸올프로판의 프로필렌옥사이드 부가체(바이엘(Bayer)사 제조; Desmophen 4011T) 8.82중량부를 첨가하고, 20℃에서 3시간 반응시켜 예비 중합체를 제작하였다. 얻어진 예비 중합체에 폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 0.1중량부를 넣고, 이것을 20℃로 유지한 후에, 트리메틸올프로판의 프로필렌옥사이드 부가체(Bayer사 제조; Desmophen 4011T) 49.98중량부를, 20℃에서 스터러 바로 균일하게 혼합해 수지 조성물을 얻었다.
직경 78㎜의 6커브의 유리 몰드(상형)와, 직경 78㎜의 4커브의 유리 몰드(하형)로 구성되고, 설정 중심 두께 10㎜의 렌즈 제작용 캐비티를 갖는 몰드형에 있어서 얻어진 수지 조성물을, 이 캐비티 내에 10g/초의 속도로 주입하였다.
수지 조성물이 주입된 몰드형을, 중합 오븐에 투입, 20℃ 내지 130℃까지 12시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출하고, 캐비티 내로부터 성형체를 이형하여, 렌즈를 얻었다.
얻어진 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.549, 아베수(νe) 34, Tg 100℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 4]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 0.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 조제 직후 내지 10시간 후까지의 모든 렌즈에서 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.598, 아베수(νe) 39, Tg 114℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 5]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 0.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 10시간 후까지의 모든 렌즈에서 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 119℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 6]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 0.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지의 조작을 행해 조제 직후의 렌즈를 얻었다. 얻어진 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.548, 아베수(νe) 34, Tg 100℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 7]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 1.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 10시간 후까지의 모든 렌즈에서 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 113℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 8]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 1.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 10시간 후까지의 모든 렌즈에서 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 119℃로 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[실시예 9]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)의 배합량을 1.5중량부로 한 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지의 조작을 행해 조제 직후의 렌즈를 얻었다. 얻어진 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.548, 아베수(νe) 34, Tg 98℃로 약간 저하되었지만 양호한 물성을 나타냈다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[비교예 1]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 1과 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 4시간 후의 렌즈에 맥리가 확인되었다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.598, 아베수(νe) 39, Tg 114℃였다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[비교예 2]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 2와 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 맥리를 관찰한 결과, 맥리가 조제 직후의 렌즈에 확인되었다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 119℃였다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
[비교예 3]
폴리에테르 변성 실록산 화합물(KL-100: 교에이샤 가가쿠 제조)을 배합하지 않은 것 이외에는 실시예 3과 마찬가지의 조작을 행해 렌즈를 얻었다. 맥리를 관찰한 결과, 맥리가 조제 직후의 렌즈에 확인되었다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.548, 아베수(νe) 34, Tg 100℃였다. 평가 결과를 표-1에 나타냈다.
Figure 112017071832126-pct00019
표-1에 기재된 화합물은 이하와 같다.
a-1: 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄과, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄의 혼합물
a-2: 비스(4-이소시아나토시클로헥실)메탄
b-1: 2,4-톨릴렌디이소시아네이트와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트의 혼합물과 트리메틸올프로판의 프로필렌옥사이드 부가체로 이루어지는 예비 중합체
c-1: 펜타에리트리톨테트라키스머캅토프로피오네이트
c-2: 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄
c-3: 5,7(또는 4,7 또는 4,8)-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물
d-1: 트리메틸올프로판의 프로필렌옥사이드 부가체(Bayer사 제조; Desmophen 4011T)
[실시예 10]
2000ml의 3구 플라스크에 비스(4-이소시아나토시클로헥실)메탄 58.9중량부, 2-(3't-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸(티누빈 326) 0.64중량부, 에버소르브 109를 1.5중량부, ZelecUN 0.1중량부, 이하의 식 (6)으로 표시되는 화합물을 68중량％, 식 (7)로 표시되는 화합물을 29중량％ 함유하는 폴리에테르 변성 실록산 화합물을 0.4중량부 넣고, 20℃ 질소 분위기 하에서 완전 용해시킨 후, 추가로 디부틸 주석 디클로라이드 0.15중량부와, 5,7-, 4,7-, 4,8-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물인 폴리티올 화합물 41.1중량부의 혼합액을 투입해 10℃의 욕조에 옮긴 후 20분간 교반 혼합하고 나서 또한 0.20㎪의 감압 하에서 30분 탈가스를 행하여, 수지 조성물을 얻었다.
직경 78㎜의 6커브의 유리 몰드(상형)와, 직경 78㎜의 4커브의 유리 몰드(하형)로 구성되고, 설정 중심 두께 10㎜의 렌즈 제작용 캐비티를 갖는 몰드형에 있어서 얻어진 수지 조성물을, 이 캐비티 내에 10g/초의 속도로 주입하였다. 남은 수지 조성물은, 10℃의 욕조에서 발열이 발생하지 않도록 보관하였다.
수지 조성물이 주입된 몰드형을, 중합 오븐에 투입, 20℃ 내지 130℃까지 36시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합하였다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출하고, 캐비티 내로부터 성형체를 이형하여, 렌즈를 얻었다. 상기의 조작을, 수지 조성물을 조제하고 나서 2시간 간격으로 행해 10시간 후까지 반복하였다.
얻어진 각 렌즈의 맥리의 유무를 관찰한 결과, 10시간 후의 렌즈까지 맥리는 확인되지 않았다. 또한, 조제 직후의 렌즈는, 외관이 ○, 굴절률(ne) 1.602, 아베수(νe) 39, Tg 120℃로 양호한 물성을 나타냈다.
또한, 식 (6)으로 표시되는 화합물의 분자량은 약 2000 정도이고, 식 (7)로 표시되는 화합물의 분자량은 약 1000 정도이다.
또한, 식 (6) 중, a+c=5 내지 50, b=5 내지 50, d=50 내지 500, e=5 내지 50이며, 식 (7) 중, f+h=1 내지 20, g=1 내지 10이다.
Figure 112017071832126-pct00020
Figure 112017071832126-pct00021
이 출원은, 2015년 2월 3일에 출원된 일본 특허 출원 제2015-019085호를 기초로 하는 우선권, 2015년 2월 27일에 출원된 일본 특허 출원 제2015-037752호를 기초로 하는 우선권, 및 2015년 11월 18일에 출원된 일본 특허 출원 제2015-226081호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시된 전부를 여기에 원용한다.

Claims (12)

  1. 하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하고,
    상기 중합 반응성 화합물이, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이고,
    상기 폴리(티오)에폭시 화합물이 지환식 에폭시 수지 및 방향족 에폭시 수지를 어느 것도 포함하지 않고,
    상기 폴리(메트)아크릴로일 화합물이 플루오렌 아크릴레이트를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure 112018096189589-pct00022

    (일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알케닐기 또는 C2 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알키닐기를 나타냄. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 됨. k는 1 이상의 정수를 나타냄)
  2. 제1항에 있어서, 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 하기 일반식 (1)
    Figure 112017071832126-pct00023

    (R1 내지 R8은 동일 또는 상이해도 되고, R1 내지 R8 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 기타의 R1 내지 R8은, 동일 또는 상이해도 되고, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알콕시기, 히드록실기, 또는 폴리실록시기를 나타냄. 복수 존재하는 R2 내지 R5는, 각각 동일 또는 상이해도 됨. m, n은 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물,
    하기 일반식 (2)
    Figure 112017071832126-pct00024

    (R9 내지 R16은 동일 또는 상이해도 되고, R9 내지 R16 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기, 또한 적어도 1개는 불소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 퍼플루오로알킬기를 나타내고, 기타의 R9 내지 R16은, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R10 내지 R13은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. p, q는 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)로 표시되는 폴리에테르 변성 플루오로 화합물, 및
    하기 일반식 (3)
    Figure 112017071832126-pct00025

    (R17 내지 R24는 동일 또는 상이해도 되고, R17 내지 R24 중 적어도 1개는 상기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 나타내고, 또한 적어도 1개는 (메트)아크릴로일기 또는 (메트)아크릴로일기를 갖는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타내고, 기타의 R17 내지 R24는, C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R18 내지 R21은, 각각 동일 또는 상이해도 됨. v, w는, 동일 또는 상이해도 되고, 0 이상의 정수를 나타냄)으로 표시되는 폴리에테르 변성 (메트)아크릴 화합물로부터 선택되는 1종 이상의 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 상기 일반식 (1)로 표시되는 폴리에테르 변성 실록산 화합물인, 광학 재료용 중합성 조성물.
  4. 하기 일반식 (4)로 표시되는 폴리에테르기를 갖는 폴리에테르 변성 화합물과, 중합 반응성 화합물을 포함하고,
    상기 중합 반응성 화합물이, 폴리이소(티오)시아네이트 화합물, 폴리(티오)에폭시 화합물, 폴리옥세타닐 화합물, 폴리티에타닐 화합물, 폴리(메트)아크릴로일 화합물, 폴리알켄 화합물, 알킨 화합물, 폴리(티)올 화합물, 폴리아민 화합물, 산 무수물 또는 폴리카르복실산 화합물로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 화합물이고,
    상기 폴리(티오)에폭시 화합물이 지환식 에폭시 수지 및 방향족 에폭시 수지를 어느 것도 포함하지 않고,
    상기 폴리(메트)아크릴로일 화합물이 플루오렌 아크릴레이트를 포함하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 재료용 중합성 조성물.
    Figure 112018096189589-pct00027

    (일반식 (4) 중, R25는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬렌기, R26은 수소 원자 또는 C1 내지 C20의 직쇄 혹은 분지의 알킬기를 나타냄. 복수 존재하는 R25는 동일해도 상이해도 됨. k는 1 이상의 정수를 나타냄)
  5. 삭제
  6. 제1항 또는 제4항에 있어서, 상기 폴리에테르 변성 화합물이, 광학 재료용 중합성 조성물 100중량％ 중에 0.01중량％ 이상 포함되는, 광학 재료용 중합성 조성물.
  7. 삭제
  8. 제1항 또는 제4항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 경화한 성형체.
  9. 제8항에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
  10. 제9항에 기재된 광학 재료로 이루어지는 플라스틱 렌즈.
  11. 제1항 또는 제4항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주형 중합하는 공정을 포함하는, 광학 재료의 제조 방법.
  12. 제11항에 기재된 제조 방법에 의해 제조된 플라스틱 렌즈.
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