KR101890128B1 - 측정 장치 및 측정 방법 - Google Patents

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토모히로 엔도
히데노부 카와다
야수시 콘도
타케시 무라나카
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후지레비오 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 복수의 라인에서 시료와 시약을 반응시킴으로써 생성된 복합 물질을 공통의 측정부에서 측정하는 경우여도 스루풋을 저하시키지 않는 측정 장치 및 측정 방법을 제공하는 것이다.
본 발명의 해결 수단은 시료를 수용한 반응 용기를 반송하는 복수의 라인을 구비하고, 당해 복수의 라인에 있어서 반응 용기를 반송시키면서 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 측정 장치(1)로서, 복수의 라인으로서 반응 용기를 제1 반송 속도로 반송하는 제1 반응 라인(30)과, 반응 용기를 제2 반송 속도로 반송하는 제2 반응 라인(40)과, 제1 반응 라인(30)에 있어서 반응 용기의 내부에서 시약과 반응된 시료와, 제2 반응 라인(40)에 있어서 반응 용기의 내부에서 시약과 반응된 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 측정 라인(50)으로서, 반응 용기를 제1 반송 속도 및 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송하는 측정 라인(50)을 구비한다.

Description

측정 장치 및 측정 방법{MEASUREMENT DEVICE AND MEASUREMENT METHOD}
본 발명은 시료를 수용한 반응 용기를 반송시키면서, 이 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 측정 장치 및 측정 방법에 관한 것이다.
종래, 복수 종류의 물질을 함유하는 시료(샘플) 중에서, 측정 대상이 되는 소정 물질(이하, 표적 물질)을 분리·동정하여 분석을 실시하기 위한 측정 장치나 측정 방법이 여러 가지 개발되어 있다. 예를 들면, 표적 물질에만 선택적으로 결합하는 항체를 포함한 시약을 시료에 분주(分注)하고, 당해 시료 중에 포함되어 있는 표적 물질을 시약 중의 항체에 결합시켜, 결합에 의해 생성된 복합 물질을 화학 발광, 형광, 흡수, 혹은 산란 등의 현상을 이용하여 정량적으로 검출함으로써, 표적 물질을 측정하는 면역 측정 방법이 이용되고 있다. 이러한 면역 측정 방법으로서 구체적으로는 EIA(Enzyme Immunoassay: 효소 면역 측정법), FIA(Fluorescence Immunoassay: 형광 면역 측정법) 등을 들 수 있다.
이러한 측정을 행하기 위한 측정 장치로서 반응 용기에 시료와 시약을 각각 분주하고, 이 반응 용기의 내부에서 시료와 시약을 반응시켜 측정을 행하는 측정 장치가 제안되어 있다. 이러한 측정 장치는 복수의 반응 용기를 반송하는 반송 라인을 구비하여 구성되어 있고, 이 반송 라인에 있어서 복수의 반응 용기를 소정의 반송 속도로 반송시키면서, 반응이나 측정을 위한 각 공정을 행할 수 있도록 되어 있다.
이 때, 시료를 시약과 반응시키기 위해서 필요한 반응 시간은 시료와 시약의 종류나 농도(희석도)의 조합에 따라서 상이할 수 있다. 여기에서, 종래, 복수의 반응 시간에 의한 측정을 행할 수 있는 측정 장치도 제안되어 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 면역 분석 장치는 동일 평면 내에 배치된 내측 반응 라인과 외측 반응 라인을 구비하고, 내측 반응 라인과 외측 반응 라인에서 서로 상이한 속도로 반응 용기를 반송하는 것이 가능하다.
일본 공개특허공보 평4-47268호
그러나, 상기 특허문헌 1에 기재된 장치는 상이한 반응 시간에 대응한 측정 항목에 대해서, 내측 반응 라인과 외측 반응 라인에 형성한 반응 용기에 시료를 분주하여 서로 상이한 속도로 반응 용기를 반송하고, 이들 내측 반응 라인과 외측 반응 라인 각각에서 생성된 표적 물질을 이들 내측 반응 라인과 외측 반응 라인에 이어 측방에 형성한 측정부에서 측정하고 있었다. 이 경우, 측정 방법에 따라서는 내측 반응 라인 또는 외측 반응 라인의 일방에만 시료를 분주하는 경우가 발생하기 때문에, 내측 및 외측 반응 라인 상에는 시료가 분주되지 않는 반응 용기가 존재하여, 2개의 라인을 형성했음에도 불구하고, 이들 내측 반응 라인과 외측 반응 라인의 스루풋을 저하시킨다는 문제가 있었다.
즉, 내측 반응 라인이나 외측 반응 라인의 스루풋을 최대화하기 위해서는, 반응 라인 상의 반응 용기를 전부(공백 없이) 사용할 필요가 있고, 그러한 경우는 내측 반응 라인과 외측 반응 라인의 테스트수가 1:1인 경우뿐이다. 그러나, 상기 특허문헌 1에 기재된 장치에서는 상이한 측정 시간의 항목을 측정하는 경우에, 항목의 조합에 따라서는 내측과 외측의 반응 용기 전부가 사용되지 않고, 어딘가에 공백이 생기는 경우가 있고, 그 경우에는 스루풋이 저하되어 있었다.
한편, 이러한 스루풋의 저하를 방지하기 위해서는, 샘플러부를 2지점에 설치하여, 시료를 나눔으로써, 각각의 반응 라인 상의 반응 용기에 따로 따로 샘플링하는 것이 필요하지만, 그러한 경우에는 장치가 대형화되어 제어가 복잡해지는 것은 피할 수 없다.
본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 반응 용기를 반송하는 면역 반응 라인과, 반응 라인보다 고속으로 반응 용기를 반송하는 측정 라인을 조합함으로써, 반응 라인 상에 공백이 없고, 반응 시간이 상이한 측정 항목의 조합을 측정하는 경우에 있어서도, 스루풋을 저하시키지 않으며, 또한, 장치가 대형화되는 것 등을 회피할 수 있는 측정 장치 및 측정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상술한 과제를 해결하고, 목적을 달성하기 위해, 청구항 1에 따른 측정 장치는 시료를 수용한 반응 용기를 반송하는 복수의 라인을 구비하고, 당해 복수의 라인에 있어서 상기 반응 용기를 반송시키면서 상기 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 측정 장치로서, 상기 복수의 라인으로서, 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키는 반응 라인으로서, 상기 반응 용기를 소정의 반송 속도로 반송하는 반응 라인과, 상기 반응 라인에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료를 대상으로 하여, 당해 시료에 포함되는 상기 소정 물질을 측정하는 측정 라인으로서, 상기 반응 라인으로부터 반송된 반응 용기를 상기 반송 속도보다 빠른 소정의 반송 속도로 반송하는 측정 라인을 구비한다.
청구항 2에 따른 측정 장치는 청구항 1에 따른 측정 장치에 있어서, 상기 반응 라인으로서, 상기 반응 용기를 제1 반송 속도로 반송하는 제1 반응 라인과, 상기 반응 용기를 제2 반송 속도로 반송하는 제2 반응 라인을 구비하고, 상기 측정 라인은 제1 반응 라인에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료와, 상기 제2 반응 라인에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 상기 소정 물질을 측정하는 측정 라인으로서, 상기 반응 용기를 상기 제1 반송 속도 및 상기 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송한다.
청구항 3에 따른 측정 장치는 청구항 2에 따른 측정 장치에 있어서, 상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도로 하였다.
청구항 4에 따른 측정 장치는 청구항 3에 따른 측정 장치에 있어서, 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도를 서로 동일한 반송 속도로 하고, 상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 정수배의 반송 속도로 하였다.
청구항 5에 따른 측정 장치는 청구항 2 내지 4 중 어느 한 항에 따른 측정 장치에 있어서, 면역 측정법에 의한 측정을 행하는 측정 장치로서, 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 상기 시약을 면역 반응시키는 반응 모드로서, 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 통상 모드와, 이 통상 모드보다 짧은 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 시간 단축 모드가 설정되어 있고, 제1 반응 라인은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 일부와, 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부를 행하는 라인이고, 제2 반응 라인은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 나머지의 전부를 행하는 라인이며, 상기 측정 라인은 상기 제1 반응 라인 및 상기 제2 반응 라인에 있어서 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료와, 상기 제1 반응 라인에 있어서 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료를 대상으로 측정을 행하는 라인이다.
청구항 6에 따른 측정 방법은 시료를 수용한 반응 용기를 반송시키면서 상기 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 측정 방법으로서, 상기 반응 용기를 소정의 반송 속도로 반송시키면서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키는 반응 공정과, 상기 반응 공정에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 상기 소정 물질을 측정하는 측정 공정으로서, 상기 반응 용기를 상기 반송 속도보다 빠른 소정의 반송 속도로 반송하는 측정 공정을 포함한다.
청구항 1에 따른 측정 장치 또는 청구항 6에 따른 측정 방법에 의하면, 반응 용기를 소정의 반송 속도로 반송시키면서 시료와 시약을 반응시킨 후, 이 반응 용기의 내부의 시료에 포함되는 소정 물질을 반송 속도보다 빠른 소정의 반송 속도로 반송하면서 측정하므로, 시료와 시약을 반응시킨 반응 용기를 지체없이 측정할 수 있어, 반응시의 반송 속도를 측정시의 반송 속도에 맞출 필요가 없어지기 때문에, 반응시의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 또한, 샘플러부를 복수 형성할 필요도 없어지기 때문에, 장치가 대형화되는 것 등을 회피할 수 있다.
또한, 청구항 2에 따른 측정 장치에 의하면, 제1 반응 라인에 있어서, 반응 용기를 제1 반송 속도로 반송시키면서 시료와 시약을 반응시키고, 제2 반응 라인에 있어서, 반응 용기를 제2 반송 속도로 반송시키면서 시료와 시약을 반응시킨 후, 측정 라인에 있어서, 이들 반응 용기의 내부의 시료에 포함되는 소정 물질을 제1 반송 속도 및 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송하면서 측정하므로, 제1 반응 라인과 제2 반응 라인 각각에서 시료와 시약을 반응시킨 반응 용기를 지체없이 측정할 수 있어, 반응시의 반송 속도를 측정시의 반송 속도에 맞출 필요가 없어지기 때문에, 제1 반응 라인과 제2 반응 라인의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
또한, 청구항 3에 따른 측정 장치에 의하면, 제3 반송 속도를 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도로 했으므로, 제1 반응 라인으로부터 측정 라인에 반송되는 큐벳과, 제2 반응 라인으로부터 측정 라인에 반송되는 큐벳이 측정 라인의 동일한 공백 위치에 동시에 반송되어 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 청구항 4에 따른 측정 장치에 의하면, 제1 반송 속도와 제2 반송 속도를 서로 동일한 반송 속도로 하고, 제3 반송 속도를 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 정수배의 반송 속도로 했으므로, 제1 반응 라인으로부터 측정 라인에 반송되는 큐벳과, 제2 반응 라인으로부터 측정 라인에 반송되는 큐벳이 측정 라인의 동일한 공백 위치에 동시에 반송되어 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 청구항 5에 따른 측정 장치에 의하면, 제1 반응 라인 및 제2 반응 라인에 있어서 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 시료와, 제1 반응 라인에 있어서 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 소정 물질을 측정 라인에서 지체없이 측정할 수 있어, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시킨 경우여도 제1 반응 라인과 제2 반응 라인의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다.
도 2는 제1 테이블의 확대 평면도이다.
도 3은 제2 테이블의 확대 평면도이다.
도 4 는 큐벳이 배치된 측정 라인의 주요부 확대 평면도로서, (a)는 통상 모드와 시간 단축 모드를 동일한 비율로 혼재시킨 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내고, (b)는 시간 단축 모드만을 행한 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내고, (c)는 통상 모드만을 행한 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내는 도면이다.
도 5는 실시형태 2에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다.
도 6은 실시형태 3에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다.
도 7은 실시형태 4에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다.
이하에 첨부 도면을 참조하여, 이 발명의 각 실시형태를 상세하게 설명한다. 우선, [Ⅰ] 각 실시형태에 공통적인 기본적 개념을 설명한 후, [Ⅱ] 각 실시형태의 구체적 내용에 대해 설명하고, [Ⅲ] 마지막으로, 각 실시형태에 대한 변형예에 대해 설명한다. 다만, 이들 각 실시형태에 의해 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
[Ⅰ] 각 실시형태에 공통적인 기본적 개념
우선, 각 실시형태에 공통적인 기본적 개념에 대해 설명한다. 각 실시형태 에 따른 측정 장치는 시료를 수용한 반응 용기를 반송하는 복수의 라인을 구비하고, 당해 복수의 라인에 있어서 반응 용기를 반송시키면서, 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 것이다. 또한, 각 실시형태에 따른 측정 방법은 시료를 수용한 반응 용기를 반송시키면서, 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하는 것이다.
각 실시형태에 따른 측정 장치 및 측정 방법의 구체적인 적용 분야는 특별히 기재하는 경우를 제외하고 임의이고, 예를 들면, 의료 분야에 있어서, 복수 종류의 표적 물질을 함유하는 시료 중에서 원하는 물질을 분리·동정하여 분석을 행하기 위한 자동 면역 측정 장치 및 자동 면역 측정 방법에 적용할 수 있다. 이하의 실시형태에서는, 본 발명을 표지 물질에 효소를 이용하는 EIA(Enzyme Immunoassay: 효소 면역 측정법) 측정법에 따라 혈액 등의 시료의 분석을 실시하기 위한 자동 면역 측정 장치 및 자동 면역 측정 방법에 적용한 경우에 대해 설명한다.
또한, 이러한 종류의 측정 장치 및 측정 방법으로는, 반응 용기를 측정 후에 세정하여 다음 측정에 반복하여 사용하는 장치 및 방법과, 일회용 반응 용기(이하, 큐벳)를 측정 후에 폐기하는 장치 및 방법이 있고, 본 발명은 이들 어느 장치 및 방법에도 적용할 수 있지만, 이하에서는, 본 발명을 후자의 장치 및 방법에 적용한 경우에 대해 설명한다.
또한, 이러한 종류의 측정 방법으로는, 1스텝법, 딜레이 1스텝법, 2스텝법, 희석 2스텝법, 경합법 등이 있고, 측정에 사용하는 고상으로는 각종 자성 입자, 폴리스티렌 입자, 라텍스 입자 등을 사용할 수 있다. 본 발명은 이들 어느 방법에 대해서도 적용할 수 있지만, 이하에서는, 본 발명을 고상에 자성 입자를 이용하여 표지 물질을 효소로 하고, 기질로서 발광 기질을 이용하여 시료 중의 항원을 측정하는 희석 2스텝법에 적용한 경우에 대해 설명한다. 이 희석 2스텝법에서는, 개략적으로, 1) 시료에 대해서 희석 등의 전처리를 행하는 「전처리 공정」, 2) 시료에 제1 시약을 분주하는 것 등에 의해, 시료에 함유되는 표적 물질(항원)을 자성 입자에 결합한 제1 항체와 반응시킴으로써, 표적 물질을 제1 항체에 결합시키는 「제1 반응 공정」, 3) 제1 반응 공정에서 생성된 자성 입자와의 복합체에 제2 시약(효소 표지 항체)을 분주하는 것 등에 의해, 효소 표지 항체(제2 항체)를 반응시킴으로써, 자성 입자와의 복합체와 효소 표지 항체(제2 항체)를 결합시키는 「제2 반응 공정」, 4) 제2 반응 공정에서 생성된 표지 항체와의 복합체에 발광 기질을 분주하는 것 등에 의해, 자성 입자에 복합체를 형성하여 결합한 효소와 발광 기질을 반응시키는 「효소 반응 공정」 및 5) 효소 반응 공정에서 발생하는 화학 발광량을 측광하는 「측정 공정」을 차례로 행한다. 그 결과, 측정 공정에서 얻어진 발광량으로부터 표적 물질(항원)의 양을 측정할 수 있다.
각 실시형태에 따른 측정 장치의 특징 중 하나는, 개략적으로 1) 반응 용기의 내부에서 시료와 시약을 반응시키는 복수의 반응 라인과, 각 반응 라인에서 반응된 반응 용기의 시료를 대상으로 표적 물질을 측정하는 측정 라인을 서로 분리하고, 2) 또한, 측정 라인에 있어서의 반응 용기의 반송 속도를 복수의 반응 라인에 있어서의 반응 용기의 반송 속도보다 빠르게 한 점에 있다. 이와 같이, 복수의 반응 라인과 측정 라인을 서로 분리함으로써, 반응 공정에 있어서의 반응 용기의 반송 속도와, 측정 공정에 있어서의 반응 용기의 반송 속도를 서로 상이한 반송 속도로 하는 것이 가능해진다. 또한, 측정 라인에 있어서의 반응 용기의 반송 속도를 복수의 반응 라인에 있어서의 반응 용기의 반송 속도보다 빠르게 함으로써, 각 반응 라인의 스루풋보다 측정 라인의 스루풋을 높일 수 있어, 각 반응 라인에서 반응을 끝낸 반응 용기를 지체없이 측정 라인으로 이동하는 것이 가능해지므로, 전체 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
이하에서는, 스루풋이란, 반응 라인이나 측정 라인으로부터 처리를 끝내고 반출되는 큐벳의 단위 시간 당의 수(단위: 개/시간)를 의미하는 것으로 한다. 이 때, 스루풋이 저하된다는 것은 반응 공정의 스루풋이 당해 반응 공정에 있어서의 최대의 스루풋보다 낮아지는 것을 의미하고, 예를 들면, 반응 라인의 최대 스루풋이 240개/시간임에도 불구하고, 실제 반응 라인의 스루풋이 최대 240개/시간보다 낮은 경우에는 스루풋이 저하되게 된다. 환언하면, 이 경우에 있어서, 실제 반응 라인의 스루풋이 최대 240개/시간이면, 스루풋이 저하되는 것을 방지할 수 있게 된다.
[Ⅱ] 각 실시형태의 구체적 내용
다음으로, 각 실시형태의 구체적 내용에 대해 설명한다. 각 실시형태에 따른 측정 장치와 측정 방법에 대해 순차적으로 설명한다.
[실시형태 1]
우선 실시형태 1에 대해 설명한다. 이 실시형태 1은 제1 반응 라인과 제2 반응 라인을 서로 상이한 원반상의 테이블에 형성한 형태이다.
(구성-전체)
우선, 측정 장치의 전체 구성에 대해 설명한다. 도 1은 실시형태 1에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다. 이 측정 장치(1)는 자동 면역 측정 장치이고, 개략적으로는, 베이스면(2)의 상부에 측정 기구(3)를 배치하여 구성되어 있고, 이 측정 기구(3)에서 큐벳(도시 생략)을 소정의 복수 위치에 순차 반송하고, 이들 각 위치에 있어서 각종 소정 조작을 행함으로써 측정을 실시하고, 측정 후에 큐벳을 폐기하는 것이다. 또한, 측정 장치(1)의 구성에 대해서는, 특별히 기재하는 구성을 제외하고, 공지된 자동 면역 측정 장치의 구성을 채용할 수 있다.
이 측정 기구(3)는 큐벳 공급부(4), 시료 공급부(5), 팁 공급부(6), 시약 설치부(7), 제1 큐벳 반송부(8), 제2 큐벳 반송부(9), 제3 큐벳 반송부(10), 시료 반송부(11), 팁 반송부(12), 제1 시약 분주부(13), 제2 시약 분주부(14), 제1 테이블(15) 및 제2 테이블(16)을 구비하여 구성되어 있다.
큐벳 공급부(4)는 사용 전 복수의 큐벳을 수용하여 정렬시키는 수용 정렬 수단이고, 예를 들면, 파트 피더로서 구성된다. 시료 공급부(5)는 측정 전의 복수의 시료를 수용하여 정렬시키는 시료 수용 정렬 수단이고, 예를 들면, 복수의 시료가 정렬되어 수용된 랙(도시 생략)을 반송하는 시료 랙 로더로서 구성된다. 팁 공급부(6)는 시료의 흡인에 사용하는 일회용 팁을 수용하여 정렬시키는 팁 수용 정렬 수단이고, 예를 들면, 파트 피더로서 구성된다. 시약 설치부(7)는 복수의 시약을 수용한 용기(여기에서는, 자성 입자액 보틀, 표지 체액 보틀, 전처리액 보틀, 검체 희석액 보틀 등. 전부 도시 생략)를 정렬 상태로 수용하는 시약 수용 수단이며, 특히, 자성 입자액 보틀을 교반하는 기능을 갖는다.
제1 큐벳 반송부(8)는 큐벳 공급부(4)에 수용되어 있는 큐벳을 후술하는 전처리 라인(20) 및 제1 반응 라인(30)에 반송하는 큐벳 반송 수단이다. 제2 큐벳 반송부(9)는 큐벳을 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40)으로부터 후술하는 측정 라인(50)에 반송하는 큐벳 반송 수단이다. 제3 큐벳 반송부(10)는 큐벳을 제1 반응 라인(30)으로부터 제2 반응 라인(40)에 반송하는 큐벳 반송 수단이다. 이들 제1 큐벳 반송부(8), 제2 큐벳 반송부(9) 및 제3 큐벳 반송부(10)는 스텝 모터 등을 이용한 공지된 로봇 아암으로서 구성되어 있다.
시료 반송부(11)는 시료 공급부(5)에서 반송된 랙을 소정의 시료 분주 위치(팁 반송부(12)의 근방 위치)까지 반송하는 시료 반송 수단이고, 예를 들면, 시료가 정렬상으로 수용된 랙(도시 생략)을 반송하는 시료 랙 로더로서 구성된다. 팁 반송부(12)는 팁 공급부(6)에 수용되어 있는 팁을 취득하고, 당해 팁을 개재하여 시료 반송부(11)에서 반송된 랙으로부터 시료를 흡인하고, 당해 흡인한 시료를 전처리 라인(20) 및 제1 반응 라인(30)에 배치된 큐벳에 토출한다. 제1 시약 분주부(13)는 시약 설치부(7)에 수용된 용기로부터, 전처리 라인(20), 제1 반응 라인(30) 및 제2 반응 라인(40)에 배치된 큐벳에 시약을 분주한다. 제2 시약 분주부(14)는 시약 설치부(7)에 수용된 용기로부터, 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40)에 배치된 큐벳에 시약을 분주한다. 이들 팁 반송부(12), 제1 시약 분주부(13) 및 제2 시약 분주부(14)는 스텝 모터 등을 이용한 공지된 로봇 아암에 펌프를 이용한 흡인 기구를 조합하여 구성되어 있다.
제1 테이블(15)은 복수의 큐벳을 반송하는 반송 라인이고, 그 내주에 전처리 라인(20)이 형성됨과 함께, 그 외주에 제1 반응 라인(30)이 형성되어 있다. 전처리 라인(20)은 시료의 전처리나 희석을 행하는 라인이다. 제1 반응 라인(30)은 시료와 자성 입자의 반응을 행하거나, 혹은 이 반응에 의한 반응물과 표지 항체의 반응을 행하는 라인이다. 이들 전처리 라인(20)과 제1 반응 라인(30)은 서로 동심원상으로 배치된 링 형상체로서 형성되어 있고, 이 링 형상체에는 큐벳을 상방으로부터 자유롭게 착탈할 수 있도록 수용하기 위한 복수의 구멍부가 형성되어 있고, 이 링 형상체를 펄스 모터 등을 이용한 도시하지 않은 공지된 구동 기구를 개재하여 서로 동일 또는 상이한 반송 속도(회전 속도)로 회전시키는 것이 가능해져 있다. 또한, 이들 전처리 라인(20)과 제1 반응 라인(30)의 상세에 대해서는 후술한다.
제2 테이블(16)은 복수의 큐벳을 반송하는 반송 라인이고, 그 외주에 제2 반응 라인(40)이 형성됨과 함께, 그 내주에 측정 라인(50)이 형성되어 있다. 제2 반응 라인(40)은 시료와 자성 입자를 반응시킨 반응물과 표지 항체의 반응을 행하는 라인이다. 측정 라인(50)은 표지 항체와 기질의 효소 반응과, 효소 반응에 의한 생성물로부터 화학 발광에 의해 생성된 빛의 광량을 검출하는 라인이다. 이들 제2 반응 라인(40)과 측정 라인(50)은 서로 동심원상에 배치된 링 형상체로서 형성되어 있고, 이 링 형상체에는 큐벳을 상방으로부터 자유롭게 착탈할 수 있도록 수용하기 위한 복수의 구멍부가 형성되어 있어, 이 링 형상체를 서로 동일 또는 상이한 반송 속도(회전 속도)로 회전시키는 것이 가능해져 있다. 또한, 이들 제2 반응 라인(40)과 측정 라인(50)의 상세에 대해서는 후술한다.
(구성-반송 라인)
다음으로, 반송 라인에 대해 더욱 상세하게 설명한다. 도 2는 제1 테이블(15)의 확대 평면도, 도 3은 제2 테이블(16)의 확대 평면도이다. 전처리 라인(20)은 30개의 큐벳을 원주상으로 서로 등간격으로 배치 가능하고, 이들 큐벳을 15초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송함으로써, 450초(＝30×15초)에 1회전한다. 이하에서는, 필요에 따라서, 전처리 라인(20)에 있어서의 큐벳의 각 위치(간헐 반송에 있어서 큐벳이 일시적으로 정지하는 위치. 이하 동일)에 P1로부터 시계 방향으로 순차적으로 한개씩 증분하는 번호를 붙여 설명한다(다만, 도시 간편화를 위해서, 각 도면에서는 「P」는 생략하여 도시하고, 또한 인출선을 생략함으로써, 상이한 구성 요소에 대한 동일 수치에 의한 부호와 구별한다. 이 점은 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40) 및 측정 라인(50)에 있어서 동일하다). 또한, 전처리 라인은 임의의 회전 방향(시계 방향, 또는 반시계 방향)으로 동작시킬 수 있다.
제1 반응 라인(30) 및 제2 반응 라인(40)의 각각은 60개의 큐벳을 원주상으로 서로 등간격으로 배치 가능하고, 이들 큐벳을 15초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송함으로써, 900초(＝60×15초)에 1회전한다. 이하에서는, 필요에 따라서, 제1 반응 라인(30)에 있어서의 큐벳의 위치에 초기 위치 P1로부터 최종 위치 P60까지 순차 번호를 붙이고, 제2 반응 라인(40)에 있어서의 큐벳의 위치에 초기 위치 P61로부터 최종 위치 P120까지 순차 번호를 붙여 설명한다.
이들 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)에는 집자(集磁)부(60∼75), 세정액토출 흡인부(80∼87), 교반부(90∼97) 및 기질 분주부(100, 101)가 도시한 바와 같이 각각 복수 형성되어 있다. 집자부(60∼75)는 큐벳에 대해서 외부로부터 자석의 자력을 인가하여, 큐벳의 내벽면에 자성 입자를 집자하는 것이다. 세정액 토출 흡인부(80∼87)는 도시하지 않은 세정액 탱크로부터 공급되는 세정액을 펌프를 개재하여 큐벳에 토출시키고, 당해 토출시킨 세정액을 펌프를 개재하여 흡인함으로써, 큐벳의 내부의 자성 입자를 세정하는 것이다. 교반부(90∼97)는 큐벳을 당해 큐벳의 중심축 주위에 모터를 개재하여 자전시키거나, 혹은 큐벳에 대해서 진동 바이브레이터를 개재하여 가진함으로써, 큐벳 내부의 자성 입자를 분산시키는 것이다. 기질 분주부(100, 101)는 도시하지 않은 기질액 탱크로부터 공급되는 기질액을 펌프를 개재하여 큐벳에 분주하는 것이고, 또한 기질액의 분주 후에, 교반부(90∼97)와 동일하게 큐벳을 교반하는 것이다.
측정 라인(50)은 40개의 큐벳을 원주상으로 서로 등간격으로 배치 가능하고, 이들 큐벳을 7.5초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송함으로써, 300초(＝40×7.5초)에 1회전한다. 이하에서는, 필요에 따라서, 측정 라인(50)에 있어서의 큐벳의 위치에 초기 위치 P121로부터 최종 위치 P160까지 순차 번호를 붙여 설명한다. 이 측정 라인(50)에는 위치 P153에 측정부(110)가 형성되어 있다. 이 측정부(110)는 효소 반응에 의한 생성물로부터 화학 발광에 의해 생성된 미약한 빛의 광량을 측정하는 것이고, 보다 구체적으로는, 광전자 배증관에 의해 광자의 수를 포톤 카운트하는 것이다.
또한, 여기에서는 설명의 편의상 반송 라인을 전처리 라인(20), 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40) 및 측정 라인(50)으로 크게 나누고 있지만, 이러한 라인의 명칭은 각 라인에서 행해지는 처리를 엄밀하게 정의하는 것은 아니다. 예를 들면, 제1 반응 라인(30)에 있어서, 반응에 관한 처리 이외의 처리(예를 들면, 전처리의 일부)를 행해도 되고, 혹은 제1 반응 라인(30) 이외의 라인에 있어서 제1 반응 공정의 처리의 일부를 행해도 된다.
(측정 방법)
다음으로, 상기와 같이 구성된 측정 장치(1)를 이용하여 행해지는 측정 방법에 대해 설명한다. 이 측정 방법은 실제로는 측정 프로그램으로서 프로그램화되고, 이 측정 프로그램은 도시하지 않은 임의의 기록 매체를 개재하거나 혹은 인터넷을 포함하는 임의의 네트워크를 개재하여, 측정 장치(1)에 있어서의 도시하지 않은 기억부에 인스톨되어 있다. 그리고, 측정 장치(1)의 도시하지 않은 제어부는 사용자로부터의 소정의 기동 지시를 도시하지 않은 입력 수단을 개재하여 받아 들였을 경우에, 이 측정 프로그램을 해석 실행함으로써 측정 방법을 자동적으로 실행한다.
이 측정 방법에서는, 통상 모드와 시간 단축 모드 중 어느 일방에서 측정을 행하거나, 혹은, 이들 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하는 것이 가능하다. 이하에서는, 이들 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하는 경우에 대해 설명한다.
통상 모드란, 반응 용기의 내부에서 시료와 시약을 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 모드이고, 개략적으로는, 제1 반응 라인(30)에 의해 제1 반응 공정을 약 8분, 제2 반응 라인(40)에 의해 제2 반응 공정을 약 8분, 측정 라인(50)에 의해 효소 반응 공정을 약 4분 행하여, 합계 약 20분의 반응을 행한다. 보다 구체적으로는, 통상 모드에서는, 「전처리 공정」을 전처리 라인(20)의 위치 P1로부터 위치 P30, 「제1 반응 공정」을 제1 반응 라인(30)의 위치 P1로부터 위치 P33(32간헐 간격×15초＝약 8분), 「제2 반응 공정」을 제2 반응 라인(40)의 위치 P72로부터 위치 P103(31간헐 간격×15초＝약 8분), 「효소 반응 공정」을 측정 라인(50)의 위치 P121로부터 위치 P152(31간헐 간격×7.5초＝약 4분)에 있어서 각각 행한다. 그 후, 「측정 공정」을 측정 라인(50)의 위치 P153에서 행한다.
한편, 시간 단축 모드란, 통상 모드보다 짧은 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 모드이고, 시간 단축 모드 전용 시약으로 사용되는 모드로서, 개략적으로는, 제1 반응 라인(30)에 의한 제1 반응 공정을 4분, 제1 반응 라인(30)에 의한 제2 반응 공정을 4분, 주로 측정 라인(50)에 의한 효소 반응 공정을 4분 행하여, 합계 12분의 반응을 행한다. 보다 구체적으로는, 시간 단축 모드에서는, 「전처리 공정」을 전처리 라인(20)의 위치 P1로부터 위치 P30, 「제1 반응 공정」을 제1 반응 라인(30)의 위치 P1로부터 위치 P17(16간헐 간격×15초＝4분), 「제2 반응 공정」을 제1 반응 라인(30)의 위치 P28로부터 위치 P44(16간헐 간격×15초＝4분), 「효소 반응 공정」을 측정 라인(50)의 위치 P121로부터 위치 P152(31간헐 간격×7.5초＝약 4분)에 있어서 각각 행한다. 그 후, 「측정 공정」을 측정 라인(50)의 위치 P153에서 행한다.
다만, 이러한 각 위치의 각 처리가 어느 공정에 속하는지는, 각 처리의 기능을 어느 공정의 기능으로 생각하는지에 따라 바뀔 가능성도 있고, 특히, 자성 입자의 집자, 큐벳의 세정 및 큐벳의 교반에 대해서는 상기 설명한 공정에 대한 전후 중 어느 공정에 속하는 것으로 생각해도 된다.
여기에서는, 상술한 바와 같이, 제1 반응 라인(30)에 있어서의 큐벳의 반송 속도(제1 반송 속도)와 제2 반응 라인(40)에 있어서의 큐벳의 반송 속도(제2 반송 속도)를 각각 1스텝/15초(이하, 15초 간격으로 표기한다)로 하고, 측정 라인(50)에 있어서의 큐벳의 반송 속도(제3 반송 속도)를 1스텝/7.5초(이하, 7.5초 간격으로 표기한다)(제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도이고, 정수배의 반송 속도)로 한다. 다만, 제1 반응 라인(30) 및 제2 반응 라인(40)에 있어서의 큐벳의 15초 간격에서의 간헐 반송 동작과, 측정 라인(50)에 있어서의 큐벳의 7.5초 간격에서의 간헐 반송 동작에 대해서는 설명을 생략한다.
(측정 방법-통상 모드)
첫번째로, 통상 모드에 의한 측정 방법에 대해 설명한다. 구체적으로는, 통상 모드에서는 전처리 라인(20)의 위치 P27에 큐벳 반송부(8)를 개재하여 새로운 큐벳을 공급한다. 그 후, 위치 P30에서 시약 분주부(13)를 개재하여 희석액을 분주한다. 이어서 위치 P1에서 팁 공급부(6)로부터 새로운 팁을 취득하고, 시료 반송부(11)에서 반송된 랙으로부터 시료를 흡인하여, 희석액이 들어가 있는 큐벳에 시료를 분주하고, 그 후 교반을 행한다.
동시에 제1 반응 라인(30)의 위치 P58에, 제1 큐벳 반송부(8)를 개재하여, 큐벳 공급부(4)로부터 새로운 큐벳을 공급한다. 그 후, 위치 P60에서 제1 시약 분주부(13)를 개재하여 시약 설치부(7)에 설치한 자성 입자액 보틀로부터 자성 입자액을 큐벳에 분주한다. 이어서, 위치 P1에서 전처리 라인(20)의 위치 P1로부터 희석한 시료를 흡인하고, 이 흡인한 시료를 큐벳에 토출한 후, 위치 P2, P3의 각각에서 교반부(90, 91)를 개재하여 큐벳을 교반한다.
그 후, 위치 P33에서 제3 큐벳 반송부(10)를 개재하여 제2 반응 라인(40)의 위치 P120에 큐벳을 반송한다. 이어서, 제2 반응 라인(40)의 위치 P61, P62의 각각에서 집자부(68, 69)를 개재하여 큐벳 내부의 자성 입자를 집자한 후, 위치 P63, P64의 각각에서 세정부(84)를 개재하여 큐벳 내부에 세정액을 토출 흡인함으로써, 자성 입자의 세정을 행한다. 이어서, 위치 P65에서 교반부(95)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P67, P68의 각각에서 집자부(70, 71)를 개재하여 자성 입자를 다시 집자한 후, 위치 P69, P70의 각각에서 세정부(85)를 개재하여 자성 입자를 세정한다.
그 후, 위치 P71에서 제2 시약 분주부(14)를 개재하여 시약 설치부(7)에 설치한 표지 체액 보틀로부터 표지 체액을 큐벳에 분주하고, 위치 P72에서 교반부(96)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P104, P105의 각각에서 집자부(72, 73)를 개재하여 자성 입자를 집자한 후, 위치 P106, P107의 각각에서 세정부(86)를 개재하여 자성 입자를 다시 세정한다. 동일하게 위치 P108에서 교반부(97)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P110, P111의 각각에서 집자부(74, 75)를 개재하여 자성 입자를 집자하고, 위치 P112, P113의 각각에서 세정부(87)를 개재하여 자성 입자를 다시 세정한다.
그 후, 위치 P114에서 기질 분주부(101)를 개재하여, 기질액을 큐벳에 분주한 후에, 큐벳을 교반하여 자성 입자를 분산시키고, 위치 P115에서 제2 큐벳 반송부(9)를 개재하여, 측정 라인(50)의 위치 P121에 큐벳을 반송하고, 이 측정 라인(50)의 위치 P121∼P152의 각각에서 효소 반응을 행하고, 위치 P153에 있어서, 측정부(110)를 개재하여 측광을 행한다. 이로써 통상 모드에서의 측정이 종료된다.
(측정 방법-시간 단축 모드)
다음으로, 시간 단축 모드에 의한 측정 방법에 대해 설명한다. 우선, 제1 반응 라인(30)의 위치 P2, P3의 각각에서 교반부를 개재하여 큐벳을 교반할 때까지는, 통상 모드와 동일하게 처리를 행한다. 이 교반 후, 위치 P17, 18의 각각에서 집자부(60, 61)를 개재하여 자성 입자를 집자한 후, 위치 P19, 20의 각각에서 세정부(80)를 개재하여 자성 입자를 세정하고, 위치 P21에서 교반부(92)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P23, P24의 각각에서 집자부(62, 63)를 개재하여 자성 입자를 집자한 후, 위치 P25, 26의 각각에서 세정부(81)를 개재하여 자성 입자를 다시 세정한다.
그 후, 위치 P27에서 제2 시약 분주부(14)를 개재하여 시약 설치부(7)에 설치한 표지 체액 보틀로부터 표지 체액을 큐벳에 분주하고, 위치 P28에서 교반부(93)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P44, P45의 각각에서 집자부(64, 65)를 개재하여 자성 입자를 집자한 후, 위치 P46, P47의 각각에서 세정부(82)를 개재하여 자성 입자를 다시 세정한다. 이어서, 위치 P48에서 교반부(94)를 개재하여 큐벳을 교반하고, 위치 P50, P51의 각각에서 집자부(66, 67)를 개재하여 자성 입자를 집자한 후, 위치 P52, P53의 각각에서 세정부(83)를 개재하여 자성 입자를 다시 세정한다.
그 후, 위치 P54에서 기질 분주부(100)를 개재하여, 기질액을 큐벳에 분주한 후, 큐벳을 교반하여 자성 입자를 분산시키고, 위치 P55에서 제2 큐벳 반송부(9)를 개재하여, 측정 라인(50)의 위치 P121에 큐벳을 반송하고, 이 측정 라인(50)의 위치 P121∼P152의 각각에서 효소 반응을 행하고, 위치 P153에 있어서, 측정부(110)를 개재하여 측광을 행한다. 이로써 시간 단축 모드에서의 측정이 종료된다.
(측정 방법-통상 모드와 시간 단축 모드의 상호 관계)
다음에, 이들 통상 모드와 시간 단축 모드의 상호 관계에 대해 설명한다. 우선, 통상 모드에서는 상술한 바와 같이 제1 반응 라인(30)에서 반응 공정의 일부를 행하고, 제2 반응 라인(40)에서 그 나머지의 반응 공정을 행한다. 이 때, 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40) 중 어느 것에 있어서도, 15초 간격으로 간헐 반송을 행하고 있으므로, 통상 모드에 의해 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정을 끝낸 큐벳은 제2 반응 라인(40)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출되게 된다. 한편, 시간 단축 모드에서는 제1 반응 라인(30)에서만 반응 공정의 전부를 행한다. 이 때, 제1 반응 라인(30)은 15초 간격으로 간헐 반송을 행하고 있으므로, 시간 단축 모드에 의해 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정을 끝낸 큐벳은 제1 반응 라인(30)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출되게 된다.
이 때문에, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하고 있는 경우로서, 이들 통상 모드에서 측정하는 큐벳과 시간 단축 모드에서 측정하는 큐벳을 서로 동일한 수로 한 경우에는, 시간 단축 모드에서 측정하는 큐벳이 제1 반응 라인(30)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출되고, 통상 모드에서 측정하는 제2 반응 라인(40)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된다. 이 때, 측정 라인(50)은 15초의 절반인 7.5초의 간격으로 큐벳을 반송하기 때문에, 제1 반응 라인(30)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 큐벳의 양쪽을 교대로 받아 들이는 것이 가능해진다.
도 4는 큐벳이 배치된 측정 라인(50)의 주요부 확대 평면도로서, (a)는 통상 모드와 시간 단축 모드를 동일한 비율로 혼재시킨 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내고, (b)는 시간 단축 모드만을 행한 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내며, (c)는 통상 모드만을 행한 경우의 큐벳의 배치 상태를 나타내는 도면이다.
통상 모드와 시간 단축 모드를 동일한 비율로 혼재시킨 경우에는, 도 4(a)에 나타내는 바와 같이 측정 라인(50)에는 제2 반응 라인(40)에서 처리를 끝낸 큐벳과, 제1 반응 라인(30)에서 처리를 끝낸 큐벳이 교대로 연속적으로 배치되게 된다. 따라서, 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)을 각각 최고 속도의 반송 간격으로 동작시킬 수 있어, 15초 간격의 스루풋을 저하시키지 않고 측정을 행하는 것이 가능해진다.
한편, 통상 모드만을 행한 경우에는, 도 4(c)에 나타내는 바와 같이, 측정 라인(50)에는 제1 반응 라인(30)에서 처리를 끝낸 큐벳은 배치되지 않기 때문에, 제2 반응 라인(40)에서 처리를 끝낸 큐벳만이 큐벳 한개분의 간격을 두고 배치되게 된다. 혹은, 시간 단축 모드만을 행한 경우에는, 도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 측정 라인(50)에는 제2 반응 라인(40)에서 처리를 끝낸 큐벳은 배치되지 않기 때문에, 제1 반응 라인(30)에서 처리를 끝낸 큐벳만이 큐벳 한개분의 간격을 두고 배치되게 된다.
(실시형태 1의 효과)
이와 같이 실시형태 1에 의하면, 제1 반응 라인(30)에 있어서, 큐벳을 제1 반송 속도로 반송시키면서 시료와 시약을 반응시키고, 제2 반응 라인(40)에 있어서, 큐벳을 제2 반송 속도로 반송시키면서 시료와 시약을 반응시킨 후, 측정 라인(50)에 있어서, 이들 큐벳 내부의 시료에 포함되는 소정 물질을 제1 반송 속도 및 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송하면서 측정하므로, 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40) 각각에서 시료와 시약을 반응시킨 반응 용기를 지체없이 측정할 수 있어, 반응시의 반송 속도를 측정시의 반송 속도에 맞출 필요가 없어지기 때문에, 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
또한, 제3 반송 속도를 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도로 했으므로, 제1 반응 라인(30)으로부터 측정 라인(50)에 반송되는 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 측정 라인(50)에 반송되는 큐벳이 측정 라인(50)의 동일한 공백 위치에 동시에 반송되어 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제1 반송 속도와 제2 반송 속도를 서로 동일한 반송 속도로 하고, 제3 반송 속도를 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 정수배의 반송 속도로 했으므로, 제1 반응 라인(30)으로부터 측정 라인(50)에 반송되는 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 측정 라인(50)에 반송되는 큐벳이 측정 라인(50)의 동일한 공백 위치에 동시에 반송되어 간섭하는 것을 방지할 수 있다.
또한, 제1 반응 라인(30) 및 제2 반응 라인(40)에 있어서 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 시료와, 제1 반응 라인(30)에 있어서 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 소정 물질을 측정 라인(50)에서 지체없이 측정할 수 있어, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시킨 경우여도 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
[실시형태 2]
다음에, 실시형태 2에 대해 설명한다. 이 실시형태 2는 반응 라인을 하나만 형성한 형태이다. 특별히 기재하는 경우를 제외하고 실시형태 1의 구성과 대략 동일하고, 실시형태 1의 구성과 대략 동일한 구성에 대해서는 이 실시형태 1에서 이용한 것과 동일한 부호 또는 명칭을 필요에 따라서 붙여, 그 설명을 생략한다(실시형태 3∼4에 있어서도 동일하다).
(구성)
도 5는 실시형태 2에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다. 이 측정 장치(200)는 실시형태 1의 제1 테이블(15) 및 제2 테이블(16)을 대신하여, 제1 테이블(201), 제2 테이블(202) 및 제3 테이블(203)을 구비하여 구성되어 있다. 제1 테이블(201)에는 전처리 라인(204), 제2 테이블(202)에는 반응 라인(205)과 시약 설치부(206), 제3 테이블(203)에는 측정 라인(207)이 각각 형성되어 있다. 또한, 도 5에 있어서는 각 라인의 상호간 등에서 큐벳을 반송하기 위한 반송부나, 시약의 분주를 행하는 시약 분주부를 생략하여 나타낸다(후술하는 도 6, 7에 있어서 동일하다).
전처리 라인(204)은 시료의 전처리나 희석을 행하는 라인이다. 반응 라인(205)은 시료와 자성 입자의 반응을 행하거나, 혹은 이 반응에 의한 반응물과 표지 항체의 반응을 행하는 라인이고, 큐벳을 15초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송한다. 측정 라인(207)은 표지 항체와 기질의 효소 반응과, 효소 반응에 의한 생성물로부터 화학 발광에 의해 생성된 빛의 광량을 검출하는 라인이고, 큐벳을 7.5초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송한다.
(측정 방법)
이와 같이 구성된 측정 장치(200)에 있어서, 전처리 라인(204)에서 전처리를 끝낸 큐벳이 반응 라인(205)에 반송된다. 이 반응 라인(205)에 있어서, 통상 모드의 큐벳은 반응 라인(205)을 약 1바퀴 도는 동안에 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정이 행해지고, 측정 라인(207)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해지고, 시간 단축 모드의 큐벳은 반응 라인(205)을 약 반바퀴 도는 동안에 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정이 행해지고, 측정 라인(207)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해진다.
예를 들면, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하고 있는 경우에는, 반응 라인(205)의 초기 위치에는 통상 모드의 큐벳과 시간 단축 모드의 큐벳이 교대로 세트되고, 통상 모드의 큐벳은 반응 라인(205)의 최종 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(207)에 반송되고, 시간 단축 모드에서 측정하는 큐벳은 반응 라인(205)의 중앙 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(207)에 반송된다.
측정 라인(207)은 15초의 절반인 7.5초의 간격으로 큐벳을 반송하기 때문에, 반응 라인(205)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 통상 모드의 큐벳과, 반응 라인(205)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 시간 단축 모드의 큐벳의 양쪽을 교대로 받아 들이는 것이 가능해진다.
(실시형태 2의 효과)
이와 같이 실시형태 2에 의하면, 반응 라인(205)을 하나만 형성한 경우여도 반응 라인(205)으로부터 통상 모드에서 배출되는 큐벳과, 시간 단축 모드에서 배출되는 큐벳의 양쪽을 측정 라인(207)에 있어서 지체없이 받아 들이는 것이 가능해져, 반응 라인(205)의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
[실시형태 3]
다음에, 실시형태 3에 대해 설명한다. 이 실시형태 3은 제1 반응 라인과 제2 반응 라인을 서로 상이한 직선상의 반송 기구로서 형성한 형태이다.
(구성)
도 6은 실시형태 3에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다. 이 측정 장치(300)는 실시형태 1의 제1 테이블(15) 및 제2 테이블(16)을 대신하여, 제1 테이블(301), 제1 반응 라인(302), 제2 반응 라인(303), 제2 테이블(304) 및 시약 설치부(305, 306)를 구비하여 구성되어 있다. 제1 테이블(301)에는 전처리 라인(307), 제2 테이블(304)에는 측정 라인(308)이 각각 형성되어 있다.
전처리 라인(307)은 시료의 전처리나 희석을 행하는 라인이다. 제1 반응 라인(302)과 제2 반응 라인(303)의 각각은 시료와 자성 입자의 반응을 행하거나, 혹은 이 반응에 의한 반응물과 표지 항체의 반응을 행하는 라인이고, 이 때는 큐벳을 수평 방향을 따라 직선상으로 반송하는 직선 반송 기구로서 구성되어 있고, 큐벳을 15초 간격으로 도시한 화살표 방향으로 간헐적으로 반송한다. 측정 라인(308)은 표지 항체와 기질의 효소 반응과, 효소 반응에 의한 생성물로부터 화학 발광에 의해 생성된 빛의 광량을 검출하는 라인이고, 큐벳을 7.5초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송한다.
(측정 방법)
이와 같이 구성된 측정 장치(300)에 있어서, 전처리 라인(307)에서 전처리를 끝낸 큐벳이 제1 반응 라인(302)에 반송된다. 이 제1 반응 라인(302)에 있어서, 통상 모드의 큐벳은 제1 반응 라인(302)을 초기 위치로부터 약 절반 정도 진행시키는 동안에 제1 반응 공정이 행해진 후, 제2 반응 라인(303)에 반송되어 그 초기 위치로부터 최종 위치 근방까지 진행시키는 동안에 제2 반응 공정이 행해지고, 다시 측정 라인(308)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해진다. 또한, 시간 단축 모드의 큐벳은 제1 반응 라인(302)을 초기 위치로부터 최종 위치 근방까지 진행시키는 동안에 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정이 행해진 후, 측정 라인(308)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해진다.
예를 들면, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하고 있는 경우에는, 제1 반응 라인(302)의 초기 위치에는 통상 모드의 큐벳과, 시간 단축 모드의 큐벳이 교대로 세트되고, 통상 모드의 큐벳은 제2 반응 라인(303)의 최종 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(308)에 반송되고, 시간 단축 모드에서 측정하는 큐벳은 제1 반응 라인(302)의 최종 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(308)에 반송된다.
측정 라인(308)은 15초의 절반인 7.5초의 간격으로 큐벳을 반송하기 때문에, 제1 반응 라인(302)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 시간 단축 모드의 큐벳과, 제2 반응 라인(303)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 통상 모드의 큐벳의 양쪽을 교대로 받아 들이는 것이 가능해진다.
(실시형태 3의 효과)
이와 같이 실시형태 3에 의하면, 제1 반응 라인(302)과 제2 반응 라인(303)을 서로 상이한 직선상의 반송 기구로서 형성한 경우여도 제1 반응 라인(302)으로부터 배출되는 시간 단축 모드의 큐벳과, 제2 반응 라인(303)으로부터 배출되는 통상 모드의 큐벳의 양쪽을 측정 라인(308)에 있어서 지체없이 받아 들이는 것이 가능해져, 제1 반응 라인(302)과 제2 반응 라인(303)의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
[실시형태 4]
다음으로, 실시형태 4에 대해 설명한다. 이 실시형태 4는 제1 반응 라인을 원반상의 테이블에 형성함과 함께, 제2 반응 라인을 직선상의 반송 기구로서 형성한 형태이다.
(구성)
도 7은 실시형태 4에 따른 측정 장치의 주요부 평면도이다. 이 측정 장치(400)는 실시형태 1의 제1 테이블(15) 및 제2 테이블(16)을 대신하여, 제1 테이블(401), 제1 반응 라인(402), 제2 테이블(403) 및 시약 설치부(404, 405)를 구비하여 구성되어 있다. 제1 테이블(401)에는 전처리 라인(406), 제2 테이블(403)에는 그 외주에 제2 반응 라인(407)이 배치되고, 그 내주에 측정 라인(408)이 배치되어 있다.
전처리 라인(406)은 시료의 전처리나 희석을 행하는 라인이다. 제1 반응 라인(402)과 제2 반응 라인(407)의 각각은 시료와 자성 입자의 반응을 행하거나, 혹은 이 반응에 의한 반응물과 표지 항체의 반응을 행하는 라인이다. 여기에서는, 제2 반응 라인(407)은 실시형태 1의 제1 반응 라인(30)과 동일하게, 큐벳을 15초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송하는 회전 반송 기구로서 구성되어 있고, 제1 반응 라인(402)은 실시형태 3의 제2 반응 라인(303)과 동일하게, 큐벳을 수평 방향을 따라 직선상으로 반송하는 직선 반송 기구로서 구성되어 있고, 큐벳을 15초 간격으로 도시한 화살표 방향으로 간헐적으로 반송한다. 측정 라인(408)은 표지 항체와 기질의 효소 반응과, 효소 반응에 의한 생성물로부터 화학 발광에 의해 생성된 빛의 광량을 검출하는 라인이고, 큐벳을 7.5초 간격으로 도시한 시계 방향으로 간헐적으로 반송한다.
(측정 방법)
이와 같이 구성된 측정 장치(400)에 있어서, 전처리 라인(406)에서 전처리를 끝낸 큐벳이 제1 반응 라인(402)에 반송된다. 이 제1 반응 라인(402)에 있어서, 통상 모드의 큐벳은 제1 반응 라인(402)을 초기 위치로부터 약 절반 정도 진행시키는 동안에 제1 반응 공정이 행해진 후, 제2 반응 라인(407)에 반송되어 그 초기 위치로부터 최종 위치 근방까지 진행시키는 동안에 제2 반응 공정이 행해지고, 다시 측정 라인(408)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해진다. 또한, 시간 단축 모드의 큐벳은 제1 반응 라인(402)을 초기 위치로부터 거의 최종 위치까지 진행시키는 동안에 제1 반응 공정 및 제2 반응 공정이 행해진 후, 측정 라인(408)에 반송되어 효소 반응 공정과 측정 공정이 행해진다.
예를 들면, 통상 모드와 시간 단축 모드를 혼재시켜 측정을 행하고 있는 경우에는 제1 반응 라인(402)의 초기 위치에는 통상 모드의 큐벳과, 시간 단축 모드의 큐벳이 교대로 세트되고, 통상 모드의 큐벳은 제2 반응 라인(407)의 최종 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(408)에 반송되고, 시간 단축 모드에서 측정하는 큐벳은 제1 반응 라인(402)의 최종 위치 근방에서 최대로 15초 간격으로 측정 라인(408)에 반송된다.
측정 라인(408)은 15초의 절반인 7.5초의 간격으로 큐벳을 반송하기 때문에, 제1 반응 라인(402)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 시간 단축 모드의 큐벳과, 제2 반응 라인(407)으로부터 최대로 15초 간격으로 배출된 통상 모드의 큐벳의 양쪽을 교대로 받아 들이는 것이 가능해진다.
(실시형태 4의 효과)
이와 같이 실시형태 4에 의하면, 제2 반응 라인(407)을 원반상의 테이블에 형성함과 함께, 제1 반응 라인(402)을 직선상의 반송 기구로서 형성한 경우여도 제1 반응 라인(402)으로부터 배출된 시간 단축 모드의 큐벳과, 제2 반응 라인(407)으로부터 배출된 통상 모드의 큐벳의 양쪽을 측정 라인(408)에 있어서 지체없이 받아 들이는 것이 가능해져, 제1 반응 라인(402)과 제2 반응 라인(407)의 스루풋이 저하되는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
[Ⅲ] 각 실시형태에 대한 변형예
이상, 본 발명에 따른 각 실시형태에 대해 설명했지만, 본 발명의 구체적인 구성 및 수단은 특허 청구의 범위에 기재한 각 발명의 기술적 사상의 범위 내에 있어서, 임의로 개변 및 개량할 수 있다. 이하, 이러한 변형예에 대해 설명한다.
(해결하고자 하는 과제나 발명의 효과에 대해)
우선, 발명이 해결하고자 하는 과제나 발명의 효과는 상기한 내용에 한정되는 것이 아니고, 본 발명에 의해 상기에 기재되어 있지 않은 과제를 해결하거나, 상기에 기재되어 있지 않은 효과를 발휘할 수도 있으며, 또한 기재되어 있는 과제의 일부만을 해결하거나, 기재되어 있는 효과의 일부만을 발휘하는 경우가 있다.
(전처리 라인 및 전처리 공정에 대해)
전처리 공정은 실시하는 측정 방법의 종류에 따라서는 생략할 수도 있고, 이 경우에는 전처리 라인(20)을 생략해도 된다. 혹은, 전처리 공정을 실시하는 경우여도 이 전처리 공정을 제1 반응 라인(30)이나 제2 반응 라인(40)에 있어서 행하도록 하여, 전처리 라인(20)을 생략해도 된다.
(라인 구성에 대해)
전처리 라인(20), 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40) 및 측정 라인(50)은 상기 각 실시형태에서 설명한 바와 같이, 평면 원반상이나 평면 직선상 이외에, 임의의 라인 형상으로 구성할 수 있고, 예를 들면, 수직 방향을 따라 큐벳을 반송하면서 각 공정을 행하는 라인 형상을 채용할 수도 있다. 또한, 전처리 라인(20), 제1 반응 라인(30), 제2 반응 라인(40) 및 측정 라인(50)으로는 서로 상이한 평면 형상이나 구조의 라인을 조합할 수도 있다.
(측정 모드에 대해)
상기 각 실시형태에서는 측정 모드로서 통상 모드와 시간 단축 모드의 2종류의 측정 모드에서 측정을 행하는 것으로서 설명했지만, 1개의 모드만으로 측정을 행해도 되고, 혹은 3개 이상의 모드에서 측정을 행해도 된다. 예를 들면, 1개의 모드만으로 측정을 행하는 경우의 예로서, 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)을 각각 시간 단축 모드의 반응만을 15초 간격으로 행하는 라인으로서 구성하고, 제1 반응 라인(30)으로부터 15초 간격으로 배출된 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 15초 간격으로 배출된 큐벳을 측정 라인(50)에서 7.5초 간격으로 반송하도록 해도 된다. 혹은, 3개의 모드에서 측정을 행하는 경우의 예로서, 반응을 30초 간격으로 행하는 제1∼제3 반응 라인을 형성하고, 시간 단축 모드를 제1 반응 라인(30)만으로 행하고, 통상 모드를 제1 반응 라인(30)과 제2 반응 라인(40)에서 행하고, 통상 모드보다 긴 시간에 반응을 행하는 연장 모드를 제1∼제3 반응 라인에서 행하고, 제1∼제3 반응 라인의 각각으로부터 30초 간격으로 배출된 큐벳을 측정 라인(50)에서 10초 간격으로 반송하도록 해도 된다.
(반송 속도에 대해)
상기 각 실시형태에 있어서는, 제1 반응 라인(30)의 제1 반송 속도와 제2 반응 라인(40)의 제2 반송 속도를 서로 동일한 속도로 한 다음, 측정 라인(50)의 제3 반송 속도를 이들 제1 반송 속도나 제2 반송 속도의 2배로 하고 있지만, 이러한 관계에 한정되지 않고 각 반송 속도를 설정할 수 있다.
예를 들면, 측정 라인(50)의 제3 반송 속도는 제1 반응 라인(30)의 제1 반송 속도와 제2 반응 라인(40)의 제2 반송 속도의 2배에 한정되지 않고, 적어도 제1 반송 속도 및 제2 반송 속도보다 빠르면 된다. 구체적으로는, 제1 반송 속도를 1스텝/40초(60초 간격)로 하고, 제2 반송 속도를 1스텝/30초(40초 간격)로 하고, 제3 반송 속도를 1스텝/10초(10초 간격)로 해도 된다. 이 경우에는, 제1 반응 라인(30)으로부터 배출된 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 배출된 큐벳을 측정 라인(50)에 지체없이 반송할 수 있다. 다만, 이 경우에는, 측정 라인(50)의 스페이스에 공백이 생기게 된다. 또한, 제1 반응 라인(30)으로부터 배출된 큐벳과, 제2 반응 라인(40)으로부터 배출된 큐벳을 동시에 측정 라인(50)에 반송할 필요가 생길 수 있지만, 이 경우에는, 측정 라인(50)이 상이한 공백 위치에 큐벳을 반송 가능하게 함으로써, 큐벳끼리가 간섭하는 것을 방지해도 된다.
혹은, 이러한 큐벳끼리의 간섭을 방지하기 위해서는, 제3 반송 속도는 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 공배수로 하는 것이 바람직하다. 예를 들면, 제1 반송 속도를 1스텝/45초(45초 간격)로 하고, 제2 반송 속도를 1스텝/30초(30초 간격)로 하고, 제3 반송 속도를 1스텝/15초(15초 간격)로 해도 된다. 또한, 동일한 이유에 의해, 제1 반응 라인(30)의 제1 반송 속도와 제2 반응 라인(40)의 제2 반송 속도를 서로 동일한 속도로 한 경우에는, 측정 라인(50)의 제3 반송 속도는 제1 반송 속도나 제2 반송 속도의 정수배로 하는 것이 바람직하다.
특히, 측정 라인(50)의 스페이스 효율을 높이기 위해서는, 제3 반송 속도는 제1 반송 속도와 제2 반송 속도의 최소 공배수(제1 반응 라인(30)의 제1 반송 속도와 제2 반응 라인(40)의 제2 반송 속도를 서로 동일한 속도로 한 경우에는 2배)로 하는 것이 바람직하다.
(반송 방법에 대해)
상기 각 실시형태에 있어서는, 큐벳을 간헐 반송하는 것으로서 설명했지만, 간헐 반송에 한정되지 않고, 연속 반송해도 된다.
1, 200, 300, 400: 측정 장치
2: 베이스면
3: 측정 기구
4: 큐벳 공급부
5: 시료 공급부
6: 팁 공급부
7, 206, 305, 306, 404, 405: 시약 설치부
8: 제1 큐벳 반송부
9: 제2 큐벳 반송부
10: 제3 큐벳 반송부
11: 시료 반송부
12: 팁 반송부
13: 제1 시약 분주부
14: 제2 시약 분주부
15, 201, 301, 401: 제1 테이블
16, 202, 304, 403: 제2 테이블
20, 204, 307, 406: 전처리 라인
30, 302, 402: 제1 반응 라인
40, 303, 407: 제2 반응 라인
50, 207, 308, 408: 측정 라인
60∼75: 집자부
80∼87: 세정액 토출 흡인부
90∼97: 교반부
100, 101: 기질 분주부
110: 측정부
203: 제3 테이블
205: 반응 라인

Claims (6)

  1. 시료를 수용한 반응 용기를 반송하는 복수의 라인을 구비하고, 당해 복수의 라인에 있어서 상기 반응 용기를 반송시키면서 상기 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하며, 면역 측정법에 의한 측정을 행하는 측정 장치로서,
    상기 복수의 라인으로서,
    상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키고, 상기 반응 용기를 제1 반송 속도로 반송하는 제1 반응 라인;
    상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키고, 상기 반응 용기를 제2 반송 속도로 반송하는 제2 반응 라인; 및
    상기 제1 반응 라인에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료와, 상기 제2 반응 라인에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 상기 소정 물질을 측정하는 측정 라인으로서, 상기 반응 용기를 상기 제1 반송 속도 및 상기 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송하는 측정 라인을 구비하며,
    상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 상기 시약을 면역 반응시키는 반응 모드로서, 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 통상 모드와, 이 통상 모드보다 짧은 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 시간 단축 모드가 설정되어 있고,
    제1 반응 라인은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 일부와, 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부를 행하는 라인이고,
    제2 반응 라인은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 나머지의 전부를 행하는 라인이고,
    상기 측정 라인은 상기 제1 반응 라인 및 상기 제2 반응 라인에 있어서 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료와, 상기 제1 반응 라인에 있어서 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료를 대상으로 측정을 행하는 라인인 측정 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도로 한 측정 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도를 서로 동일한 반송 속도로 하고,
    상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 정수배의 반송 속도로 한 측정 장치.
  4. 시료를 수용한 반응 용기를 반송시키면서 상기 시료에 포함되는 소정 물질을 측정하며, 면역 측정법에 의한 측정을 행하는 방법인 측정 방법으로서,
    상기 반응 용기를 제1 반송 속도로 반송하면서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키는 제1 반응 공정;
    상기 반응 용기를 제2 반송 속도로 반송하면서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 시약을 반응시키는 제2 반응 공정; 및
    상기 제1 반응 공정에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료와, 상기 제2 반응 공정에 있어서 상기 반응 용기의 내부에서 상기 시약과 반응된 상기 시료를 대상으로 하여, 이들 시료에 포함되는 상기 소정 물질을 측정하는 측정 공정으로서, 상기 반응 용기를 상기 제1 반송 속도 및 상기 제2 반송 속도보다 빠른 제3 반송 속도로 반송하는 측정 공정을 구비하며,
    상기 반응 용기의 내부에서 상기 시료와 상기 시약을 면역 반응시키는 반응 모드로서, 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 통상 모드와, 이 통상 모드보다 짧은 소정 반응 시간에 반응을 행하게 하는 시간 단축 모드가 설정되어 있고,
    제1 반응 공정은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 일부와, 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부를 행하는 공정이고,
    제2 반응 공정은 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 나머지의 전부를 행하는 공정이고,
    상기 측정 공정은 상기 제1 반응 공정 및 상기 제2 반응 공정에 있어서 상기 통상 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료와, 상기 제1 반응 공정에 있어서 상기 시간 단축 모드에 있어서의 면역 반응의 전부가 행해진 상기 시료를 대상으로 측정을 행하는 공정인 측정 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 공배수의 반송 속도로 한 측정 방법.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도를 서로 동일한 반송 속도로 하고,
    상기 제3 반송 속도를 상기 제1 반송 속도와 상기 제2 반송 속도의 정수배의 반송 속도로 한 측정 방법.
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