KR101836589B1 - 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 Download PDF

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Abstract

구동 장치의 동작 속도를 빠르게 하지 않고, 스루풋을 향상시키는 것이 가능한 기판 처리 장치를 제공한다. 웨이퍼(W)를 수용해서 플라즈마 처리를 실시하는 진공 처리실(12A, 12C) 각각에, 웨이퍼 반출입구를 개폐하는 게이트 밸브(25A, 25C), 웨이퍼 반출입구를 진퇴하는 웨이퍼(W)를 검출하는 웨이퍼 검출 센서(35α, 35γ)를 설치하고, 신축 동작과 회전 동작을 행하는 스카라 로봇(15)에 의해 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12A)에서 진공 처리실(12C)로 웨이퍼(W)를 반송한다. 이때, 웨이퍼(W)가 진공 처리실(12A)의 웨이퍼 반출입구를 통과해서 게이트 밸브(25A) 및 웨이퍼 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 웨이퍼 검출 센서(35α)가 발신한 것을 트리거로 해서, 스카라 로봇(15)은 진공 처리실(12A)로부터 취출한 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12C)에 반송하는 회전 동작을 개시한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 반송 방법{SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE TRANSFER METHOD}
본 발명은, 기판 처리 장치 및 상기 기판 처리 장치 내에서의 기판 반송 방법에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼 등의 기판에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치로서, 예를 들어 복수매의 반도체 웨이퍼가 수용된 용기인 후프(FOUP)를 적재하는 로드 포트와 반도체 웨이퍼에 플라즈마 처리를 실시하는 프로세스 모듈(진공 처리실)의 사이에, 대기압 분위기로 유지되어 후프에 대해 반도체 웨이퍼의 반출입을 행하는 로더 모듈과, 진공압 분위기로 유지되어 프로세스 모듈에 대해 반도체 웨이퍼의 반출입을 행하는 트랜스퍼 모듈과, 로더 모듈과 트랜스퍼 모듈의 사이에 배치되어 대기압 분위기와 진공 분위기를 선택적으로 전환 가능한 로드 로크 모듈을 설치한 것이 알려져 있다. 이러한 플라즈마 처리 장치에서는, 로더 모듈에 제1 웨이퍼 반송 장치를 배치하고, 트랜스퍼 모듈에 제2 웨이퍼 반송 장치를 배치하고, 이 웨이퍼 반송 장치에 의해 반도체 웨이퍼를 로드 포트와 프로세스 모듈의 사이에서 반송하고 있다.
웨이퍼 반송 장치로서 신축 아암을 구비하고, 장치 전체가 회전 가능하게 구성된 것이 알려져 있다. 이러한 웨이퍼 반송 장치에서는, 회전 동작, 신축 아암의 신축 동작이나 신축 아암 상의 반도체 웨이퍼의 유무에 관한 정보, 각 모듈간에서의 게이트 밸브의 개폐 동작의 정보 등을 센서로 개별로 검출하여, 얻어진 검출 정보에 기초해서 웨이퍼 반송 장치의 동작을 제어하고 있다.
구체적으로는, 웨이퍼 반송 장치는, 진공 반송실로부터 취출한 반도체 웨이퍼를 보유 지지한 신축 아암의 압축 동작이 완료된 후에, 보유 지지한 반도체 웨이퍼를 로드 로크 모듈을 향해 반송하는 동작을 개시한다. 또한, 진공 반송실을 트랜스퍼 모듈로부터 격리/연통시키는 게이트 밸브의 폐쇄 동작은, 신축 아암의 압축 동작 및 반도체 웨이퍼의 유무 정보를 확인한 후에 개시된다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).
일본 특허 공개 소 64-48443호 공보
상술한 플라즈마 처리 장치에서 웨이퍼 반송계의 기계적 스루풋을 향상시키기 위해서는, 게이트 밸브의 개폐 동작 시간이나 웨이퍼 반송 장치의 동작 시간을 단축할 필요가 있다. 이와 같은 과제를 해결하기 위해서, 게이트 밸브나 웨이퍼 반송 장치의 동작 속도를 빠르게 한다는 대응을 생각할 수 있는데, 각종 구동 장치의 동작 속도를 빠르게 하는 것에는, 진동의 발생이나 정밀도의 저하, 발진의 증가 등의 문제의 발생이 수반되기 때문에, 실현은 용이하지 않다.
본 발명의 목적은, 구동 장치의 동작 속도를 빠르게 하지 않고, 스루풋을 향상시킬 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따르면, 기판을 수용하는 챔버와, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 개폐 부재와, 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 기판 검출 센서를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 복수의 기판 처리부와, 상기 복수의 기판 처리부에 대하여 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 액세스처의 상기 기판 처리부의 챔버에 대하여 기판의 반출입을 행하기 위한 신축 동작을 행하는 반송 장치와, 상기 기판 처리부 및 상기 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 복수의 기판 처리부 중 1개의 챔버로부터 취출한 기판이 상기 1개의 챔버의 기판 반출입구를 통과해서 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 복수의 기판 처리부 중 다른 챔버에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 상기 반송 장치에 개시시키는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 다른 챔버에 반송하기 위해서 상기 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는 동시에, 상기 1개의 챔버의 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 다른 챔버에 반송하기 위해서 상기 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는 동시에, 상기 다른 챔버의 기판 반출입구를 개방하도록 상기 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 슬라이드 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 기판을 수용하는 챔버와, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 개폐 부재와, 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 기판 검출 센서를 포함하고, 상기 챔버 내에서 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 적어도 1개의 기판 처리부와, 상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하고, 상기 챔버에 대한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 반송 장치와, 상기 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암이 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 아암이 보유 지지한 기판을 상기 챔버에 반입하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 상기 반송 장치에 개시시키는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 승강 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 기판을 수용하는 챔버를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 기판 처리부와, 상기 기판 처리부에서 처리되는 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 수용하는 기판 수용실과, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 챔버 개폐 부재와, 상기 기판 수용실의 제1 기판 반출입구를 개폐하는 제1 개폐 부재와, 상기 기판 처리부 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 제1 반송 장치와, 상기 제1 반송 장치에 보유 지지되어 상기 제1 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제1 기판 검출 센서와, 상기 제1 반송 장치에 보유 지지되어 상기 챔버의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제2 기판 검출 센서와, 상기 챔버 개폐 부재 및 상기 제1 개폐 부재의 개폐 동작과 상기 제1 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 제1 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제1 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 1의 개폐 부재 및 상기 제1 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 하여 상기 제1 반송 장치에 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키고, 상기 제1 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 챔버 개폐 부재 및 상기 챔버의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제2 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제1 반송 장치에 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 기판 수용실의 상기 제1 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 제1 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키고, 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 챔버 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 개방하도록 상기 챔버 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키고, 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 제1 기판 반출입구를 개방하도록 상기 제1 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 기판 검출 센서 및 상기 제2 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 제1 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 제1 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 슬라이드 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 기판을 수용하는 챔버를 포함하고, 상기 챔버 내에서 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 기판 처리부와, 상기 기판 처리부에서 처리되는 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 수용하는 기판 수용실과, 상기 기판 수용실의 제1 기판 반출입구를 개폐하는 제1 개폐 부재와, 상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하고, 상기 챔버 및 상기 기판 수용실에 대한 상기 아암에 의한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 행하는 제1 반송 장치와, 상기 제1 반송 장치에 의해 상기 제1 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제1 기판 검출 센서와, 상기 제1 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 아암이 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제1 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제1 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 상기 아암이 보유 지지한 기판을 상기 기판 수용실에 반입하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 상기 제1 반송 장치에 개시시키는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명에 있어서, 상기 제어부는, 상기 제1 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 제1 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 제1 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 승강 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 상기 기판 수용실은 제2 기판 반출입구를 포함하고, 상기 기판 처리부에서 처리되는 기판 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 복수 수용하는 용기를 적재하는 용기 적재부와, 상기 용기 적재부에 적재된 용기 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 제2 반송 장치와, 상기 기판 수용실의 상기 제2 기판 반출입구를 개폐하는 제2 개폐 부재와, 상기 용기 적재부에 적재된 용기의 기판 반출입구를 개폐하는 제3 개폐 부재와, 상기 제2 반송 장치에 보유 지지되어 상기 제2 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제3 기판 검출 센서와, 상기 제2 반송 장치에 보유 지지되어 상기 용기 적재부에 적재된 용기의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제4 기판 검출 센서를 포함하고, 상기 제어부는, 상기 제2 개폐 부재 및 상기 제3 개폐 부재의 개폐 동작과 상기 제2 반송 장치의 동작을 제어하고, 상기 제2 반송 장치에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제2 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제2 개폐 부재 및 상기 제2 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제3 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제2 반송 장치에 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 용기 적재부에 적재된 용기에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키고, 상기 제2 반송 장치가 상기 용기 적재부에 적재된 용기로부터 취출한 기판이 상기 용기의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제3 개폐 부재 및 상기 용기의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제4 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제2 반송 장치에 상기 용기로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는 것이 바람직하다.
본 발명에 따르면, 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서, 복수의 기판 처리부의 각각에 있어서의 챔버에 기판을 수용하고, 개폐 부재에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와, 기판 검출 센서에 의해, 상기 기판 반출입구를 통하여 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와, 상기 복수의 기판 처리부의 각각에 의해 상기 챔버 내의 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와, 반송 장치에 의해, 상기 복수의 기판 처리부에 대하여 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과, 액세스처의 상기 기판 처리부의 상기 챔버에 대하여 기판의 반출입을 행하기 위한 신축 동작을 행하는 단계와, 상기 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 복수의 기판 처리부 중 1개의 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서가 발신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치가 상기 1개의 챔버로부터 취출한 상기 기판을 상기 복수의 기판 처리부 중 다른 챔버에 반송하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법이 제공된다.
본 발명에 따르면, 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서, 적어도 1개의 기판 처리부에 있어서의 챔버에 기판을 수용하고, 개폐 부재에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와, 기판 검출 센서에 의해, 상기 기판 반출입구를 통하여 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와, 상기 복수의 기판 처리부의 각각에 의해, 상기 챔버 내의 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와, 상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하는 반송 장치에 의해, 상기 챔버에 대한 상기 아암에 의한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 단계와, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암이 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치가 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 아암이 보유 지지한 기판을 상기 챔버에 반입하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 승강 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법이 제공된다.
본 발명에 따르면, 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서, 기판 처리부에 의해, 기판을 수용한 챔버 내에 있어서 해당 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와, 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 기판 수용실에 수용하는 단계와, 반송 장치에 의해, 상기 기판 처리부 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 단계와, 기판 수용실 개폐 부재에 의해, 상기 기판 수용실의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와, 챔버 개폐 부재에 의해, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와, 제1 기판 검출 센서에 의해 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와, 제2 기판 검출 센서에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와, 상기 반송 장치가 상기 신축 동작에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 기판 수용실 개폐 부재 및 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치가 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하고, 상기 반송 장치가 상기 신축 동작에 의해 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 챔버 개폐 부재 및 상기 챔버의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제2 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치가 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하는 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법이 제공된다.
본 발명에 따르면, 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서, 기판 처리부에 있어서 챔버에 기판을 수용하고, 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와, 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 기판 수용실에 수용하는 단계와, 개폐 부재에 의해 상기 기판 수용실의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와, 상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하는 반송 장치에 의해 상기 챔버 및 상기 기판 수용실에 대한 상기 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 단계와, 검출 센서에 의해 상기 반송 장치에 의해 상기 기판 수용실의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 아암이 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치가 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 상기 아암이 보유 지지한 기판을 상기 기판 수용실에 반입하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 승강 동작을 개시하는 기판 반송 방법이 제공된다.
본 발명에 따르면, 기판 검출 센서에 의한 기판의 검출 신호를 트리거로 해서, 기판 처리 장치에 설치된 반송 장치나 개폐 부재 등의 구동 장치에 요구되는 회전 동작이나 슬라이드 동작, 승강 동작 등의 다음 동작이 개시된다. 이 때문에, 구동 장치의 동작 속도를 빠르게 하지 않고, 기판 처리의 스루풋을 향상시킬 수 있다. 또한, 구동 장치의 동작 속도를 빠르게 하지 않기 때문에, 진동의 발생이나 정밀도의 저하, 발진의 증가 등의 문제의 발생을 피할 수 있다.
도 1은 본 발명의 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도이다.
도 2a는, 도 1의 플라즈마 처리 장치가 구비하는 웨이퍼 검출 센서의 구성과 웨이퍼 검출 센서로부터 출력되는 검출 신호에 기초하는 처리의 흐름을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 2b는, 도 1의 플라즈마 처리 장치가 구비하는 웨이퍼 검출 센서에 의한 웨이퍼의 위치 어긋남 검지 방법을 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 3은 도 1의 플라즈마 처리 장치에서의 웨이퍼 검출 센서에 의한 웨이퍼의 검출과 스카라 로봇의 반송 동작의 관계를 나타내는 일례를 모식적으로 도시하는 도면이다.
도 4는 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 다른 플라즈마 처리 장치의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도이다.
도 5는 도 4의 플라즈마 처리 장치에서의 웨이퍼 검출 센서에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇의 반송 동작의 관계를 나타내는 제1 예를 모식적으로 도시하는 도면이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 여기에서는, 본 발명에 관한 기판 처리 장치로서, 반도체 웨이퍼(이하, 「웨이퍼」라고 함)에 플라즈마 처리를 실시하는 플라즈마 처리 장치를 다루는 것으로 한다.
도 1은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치(10)의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도이다. 플라즈마 처리 장치(10)의 동작 제어는 제어 장치(50; '제어부'에 해당)에 의해 행하여진다.
플라즈마 처리 장치(10)는, 직경이 φ450mm인 웨이퍼(W; '기판'에 해당)를 소정 매수 수용한 도시하지 않은 캐리어인 후프(FOUP)를 적재하기 위해서 설치된 3개의 로드 포트(16; '용기 적재부'에 해당)를 구비한다. 로드 포트(16)에 인접하여, 후프에 대해 웨이퍼(W)의 반출입을 행하기 위한 로더 모듈(14)이 배치되어 있고, 로더 모듈(14)에는, 웨이퍼(W)의 위치 맞춤을 행하는 위치 맞춤 기구(17)가 인접 배치되어 있다. 로더 모듈(14)을 사이에 두고 로드 포트(16)의 반대측에는, 2개의 로드 로크실(로드 로크 모듈)(13)이 배치되어 있다.
로더 모듈(14)의 내부는 항상 대기압 분위기에 있으며, 로더 모듈(14) 내에는 웨이퍼 반송 장치(18; '제2 반송 장치'에 해당)가 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 장치(18)는, 로드 포트(16)에 적재된 후프, 위치 맞춤 기구(17) 및 로드 로크실(13)의 사이에 웨이퍼(W)를 반송한다.
로드 로크실(13; '기판 수용실'에 해당)은, 그 내부를 진공 분위기와 대기압 분위기로 전환 가능하게 구성되어 있다. 로드 로크실(13)의 내부는, 로더 모듈(14)과 연통할 때에는 대기압 분위기로 되고, 후술하는 트랜스퍼 모듈(11)과 연통할 때에는 진공 분위기로 된다. 로드 로크실(13)은, 웨이퍼(W)를 적재하는 적재대와, 웨이퍼(W)를 지지해서 승강하는 승강 핀을 구비하고 있고, 승강 핀은, 웨이퍼 반송 장치(18)와 후술하는 스카라 로봇(15; '반송 장치' 및 '제1 반송 장치'에 해당)의 사이에서 웨이퍼(W)의 수수를 행하고, 또한, 적재대에 대해서도 웨이퍼(W)의 수수를 행한다.
로드 로크실(13)을 사이에 두고, 로더 모듈(14)의 반대측에는, 평면에서 보아 팔각형을 나타내는 트랜스퍼 모듈(11)이 배치되어 있고, 트랜스퍼 모듈(11)의 주위에는, 방사상으로 배치되어서 트랜스퍼 모듈(11)에 접속되는 5개의 진공 처리실(프로세스 모듈)(12)이 배치되어 있다.
트랜스퍼 모듈(11)의 내부는 항상 소정의 진공도(감압 상태)로 유지되어 있으며, 웨이퍼(W)를 반송하는 스카라 로봇(15)이 배치되어 있다. 스카라 로봇(15)은, 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 신축 가능한 아암을 구비하고, 스카라 로봇(15) 전체가 회전 가능하게 구성되어 있다. 이와 같은 구성에 의해, 스카라 로봇(15)의 아암은, 2개의 로드 로크실(13)과 5개의 진공 처리실(12; '챔버'에 해당)에 대하여 선택적으로 액세스할 수 있다. 진공 처리실(12)을 구성하는 챔버의 내부는 소정의 진공도로 유지되어 있으며, 웨이퍼(W)를 챔버 내부에 수용하여, 웨이퍼(W)에 소정의 플라즈마 처리, 예를 들어, 에칭 처리나 애싱 처리 등을 실시한다.
로드 포트(16)의 로더 모듈(14)측에는, 로드 포트(16)에 적재된 후프의 내부와 로더 모듈(14)을 연통/격리하기 위한 개폐 부재인 게이트 밸브(21; '제3 개폐 부재'에 해당)가 배치되어 있다. 또한, 로드 포트(16)의 로더 모듈(14)측에는, 게이트 밸브(21)에 인접하여, 후프의 웨이퍼 반출입구('용기의 기판 반출입구'에 해당)에서의 웨이퍼(W)의 진퇴를 검출하는(즉, 웨이퍼 반송 장치(18)에 의해 반송되는 웨이퍼(W)의 유무와 위치를 검출하는) 웨이퍼 검출 센서(31; '제4 기판 검출 센서'에 해당)가 배치되어 있다. 마찬가지로, 위치 맞춤 기구(17)의 로더 모듈(14)측에는, 위치 맞춤 기구(17)의 웨이퍼 반출입구에서의 웨이퍼(W)의 진퇴를 검출하는 웨이퍼 검출 센서(32)가 배치되어 있다.
또한, 로드 로크실(13)의 로더 모듈(14)측에는, 로드 로크실(13)의 로더 모듈(14)측의 웨이퍼 반출입구('제2 기판 반출입구'에 해당)를 개폐하는 게이트 밸브(23; '제2 개폐 부재'에 해당)와, 로드 로크실(13)의 웨이퍼 반출입구에서의 웨이퍼(W)의 진퇴를 검출하는 웨이퍼 검출 센서(33; '제3 기판 검출 센서'에 해당)가 배치되어 있다. 또한, 로드 로크실(13)의 트랜스퍼 모듈(11)측에는, 로드 로크실(13)의 트랜스퍼 모듈(11)측의 웨이퍼 반출입구('제1 기판 반출입구'에 해당)를 개폐하는 게이트 밸브(24; '제1 개폐 부재'에 해당)와, 로드 로크실(13)의 트랜스퍼 모듈(11)측의 웨이퍼 반출입구에서의 웨이퍼(W)의 진퇴를 검출하는 웨이퍼 검출 센서(34; '제1 기판 검출 센서'에 해당)가 배치되어 있다. 또한, 진공 처리실(12)의 트랜스퍼 모듈(11)측에는, 진공 처리실(12)의 웨이퍼 반출입구('기판 반출입구'에 해당)를 개폐하는 게이트 밸브(25; '챔버 개폐 부재' 및 '개폐 부재'에 해당)와, 진공 처리실(12)의 웨이퍼 반출입구에서의 웨이퍼(W)의 진퇴를 검출하는 웨이퍼 검출 센서(35; '제2 기판 검출 센서' 및 '기판 검출 센서'에 해당)가 배치되어 있다.
게이트 밸브(21, 23, 24, 25)는, 웨이퍼(W)의 반송 시에 필요에 따라 개폐 동작을 행한다. 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)의 구성과 기능의 상세에 대해서는, 도 2a 및 도 2b를 참조하여 후술한다.
플라즈마 처리 장치(10)에서는, 이하의 순서로, 웨이퍼(W)에 플라즈마 처리가 실시된다. 플라즈마 처리 장치(10)에서의 웨이퍼(W)의 반송 제어나 진공 처리실(12)에서의 플라즈마 처리 제어는, 제어 장치(50)에 의해 실행된다. 제어 장치(50)가 구비하는 마이크로컴퓨터(CPU)는, 소정의 프로그램을 실행하여, 플라즈마 처리 장치(10)를 구성하는 각종 구동 장치의 동작을 제어한다.
또한, 여기에서는, 5개의 진공 처리실(12) 중 3실은 플라즈마 에칭 처리를 행하는 에칭 처리실이며, 남는 2실은 웨이퍼(W) 위에 형성된 에칭 마스크를 애싱에 의해 제거하는 애싱 처리실인 것으로 한다. 또한, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)의 기능과 웨이퍼(W)의 반송 제어의 관계에 대해서는, 도 3을 참조하여 후술하는 것으로 하고, 이하의 웨이퍼(W)의 처리에 관한 설명에서는 생략한다.
플라즈마 처리 장치(10)에서는, 복수의 웨이퍼(W)가 동시에 처리되지만, 여기에서는 1매의 웨이퍼(W)의 처리에 대해서, 시계열을 따라 설명한다. 우선, 후프가 로드 포트(16)에 적재되면, 로드 포트(16)에 설치된 게이트 밸브(21)가 후프의 덮개를 보유 지지하고 개방되어, 웨이퍼 반송 장치(18)가 후프로부터 웨이퍼(W)를 취출하고, 보유 지지한 웨이퍼(W)를 위치 맞춤 기구(17)에 반입한다. 위치 맞춤 기구(17)에서 위치 맞춤된 웨이퍼(W)는, 웨이퍼 반송 장치(18)에 의해 대기압 분위기로 유지된 로드 로크실(13)에 반입된다. 이때, 게이트 밸브(24)는 폐쇄되어 있다. 로드 로크실(13)의 로더 모듈(14)측의 게이트 밸브(23)를 폐쇄한 후, 로드 로크실(13)은 소정의 진공도로 감압된다.
로드 로크실(13)의 내부가 소정의 진공도에 도달하면, 게이트 밸브(24)가 개방되어, 스카라 로봇(15)이 로드 로크실(13)로부터 웨이퍼(W)를 반출하고, 보유 지지한 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12) 중 1개의 에칭 처리실에 반입하여, 에칭 처리실에서 웨이퍼(W)에 에칭 처리가 실시된다. 에칭 처리실에서의 처리가 종료된 웨이퍼(W)는, 에칭 처리실로부터 스카라 로봇(15)에 의해 취출되어, 진공 처리실(12) 중 1개의 애싱 처리실에 반입되고, 애싱 처리실에서 웨이퍼(W)에 애싱 처리가 실시된다.
애싱 처리가 종료된 웨이퍼(W)는, 스카라 로봇(15)에 의해 애싱 처리실로부터 반출되어, 로드 로크실(13)에 반입된다. 이때, 게이트 밸브(23)는 폐쇄되어 있다. 게이트 밸브(24)를 폐쇄하고, 로드 로크실(13)을 대기압 분위기로 하기 위해서, 로드 로크실(13)에 질소 가스 등의 퍼지 가스가 도입된다. 이때, 로드 로크실(13)에 설치된 적재대에 적재된 웨이퍼(W)는, 적재대와의 열교환에 의해 소정 온도까지 냉각된다.
로드 로크실(13) 내가 대기압 분위기로 되고, 또한, 웨이퍼(W)가 소정 온도까지 내려가면, 게이트 밸브(23)가 개방되고, 웨이퍼 반송 장치(18)가 로드 로크실(13)로부터 웨이퍼(W)를 취출하여, 후프의 소정 위치에 반입한다. 이렇게 해서, 플라즈마 처리 장치(10)에서의 웨이퍼(W)에 대한 처리가 종료된다.
이어서, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)의 구성과 기능에 대해서 도 2a 및 도 2b를 참조하여 설명하고, 그 후에, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)의 기능과 플라즈마 처리 장치(10)에서의 웨이퍼(W)의 반송 제어의 관계에 대해서 도 3을 참조하여 설명한다. 또한, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)는, 각각 동일한 구성 및 기능을 갖기 때문에, 도 2a 및 도 2b에서는, 진공 처리실(12)의 게이트 밸브(25)의 근방에 설치되는 웨이퍼 검출 센서(35)를 채용하는 것으로 한다.
도 2a는, 도 1의 플라즈마 처리 장치(10)가 구비하는 웨이퍼 검출 센서(35)의 구성과 웨이퍼 검출 센서(35)로부터 출력되는 검출 신호에 기초하는 처리의 흐름을 모식적으로 도시하는 도면이다. 또한, 도 2a에는, 부기적으로, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 34)로부터 출력되는 검출 신호와, 그 검출 신호에 기초하는 처리의 흐름을 나타내고 있다.
웨이퍼 검출 센서(35)는, 한 쌍의 발광 소자(35a)와 수광 소자(35b)로 구성된다. 발광 소자(35a)는, 예를 들어, 레이저 다이오드이며, 수광 소자(35b)는, 예를 들어, 포토 다이오드 등이다. 발광 소자(35a)로부터는, 항상 수광 소자(35b)를 향해서 레이저광(레이저 빔)이 조사되고 있다. 이 때문에, 발광 소자(35a)와 수광 소자(35b)의 사이에 실선으로 나타낸 바와 같이 웨이퍼(W)가 존재하면, 발광 소자(35a)로부터의 레이저광(F)은 수광 소자(35b)에 도착하지 않아, 이 상태에서는 수광 소자(35b)로부터는 OFF 신호가 제어 장치(50)에 송신된다. 한편, 발광 소자(35a)와 수광 소자(35b)의 사이에 파선으로 나타내는 바와 같이 웨이퍼(W)가 존재하지 않는 경우에는, 발광 소자(35a)로부터의 레이저광(G)을 수광 소자(35b)가 수광하여, 이 상태에서는, 수광 소자(35b)로부터는 ON 신호가 제어 장치(50)에 송신된다. 또한, ON 신호/OFF 신호는 반대로 설정되어 있어도 된다.
따라서, 웨이퍼(W)가 발광 소자(35a)와 수광 소자(35b)의 사이를 통과할 때에, 수광 소자(35b)로부터 출력되는 ON 신호/OFF 신호가 전환된다. 따라서, 제어 장치(50)는, 수광 소자(35b)로부터 수신하는 ON 신호/OFF 신호를 트리거로 해서, 스카라 로봇(15)의 동작(아암의 신축 동작이나 로봇 전체의 회전 동작)과 게이트 밸브(24, 25)의 개폐 동작을 제어한다. 마찬가지로, 제어 장치(50)는, 웨이퍼 검출 센서(34)의 검출 신호에 기초해서 스카라 로봇(15)의 동작과 게이트 밸브(24, 25)의 개폐 동작을 제어하고, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 33)의 검출 신호에 기초해서, 웨이퍼 반송 장치(18)의 동작과 게이트 밸브(21, 23)의 개폐 동작을 제어한다.
도 2b는, 도 1의 플라즈마 처리 장치(10)가 구비하는 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 위치 어긋남 검지 방법을 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 2b에서는, 웨이퍼(W)는, 스카라 로봇(15)의 아암(도시하지 않음)에 보유 지지되어, 파선 위치에서 실선 위치로 이동하고 있는 것으로 한다. 이때, 웨이퍼(W)에 위치 어긋남이 없을 경우에는, 도 2a의 좌측 도면에 도시된 바와 같이, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35)가 웨이퍼(W)의 진입(존재)을 검출하면, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35)로부터의 출력 신호가 동시에 OFF 신호에서 ON 신호로 바뀐다. 그 후, 웨이퍼(W)가 2개의 웨이퍼 검출 센서(35)를 통과하면, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35)로부터의 출력 신호가 동시에 ON 신호에서 OFF 신호로 바뀐다. 제어 장치(50)는, 이러한 출력 신호의 변화에 의해, 웨이퍼(W)에 위치 어긋남이 발생하지 않았다고 판단할 수 있다.
한편, 도 2b의 가운데 도면 및 우측 도면에 도시된 바와 같이, 웨이퍼(W)에 위치 어긋남이 발생한 경우, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35) 중 한쪽이 웨이퍼(W)의 진입(존재)을 검출한 후에 다른 쪽이 웨이퍼(W)의 진입을 검출하기 때문에, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35) 중 한쪽으로부터의 출력 신호가 OFF 신호에서 ON 신호로 바뀐 후에, 다른 쪽으로부터 출력 신호가 OFF 신호에서 ON 신호로 바뀐다. 마찬가지로, 웨이퍼(W)가 2개의 웨이퍼 검출 센서(35)를 통과했을 때에는, 2개의 웨이퍼 검출 센서(35) 중 한쪽으로부터의 출력 신호가 OFF 신호에서 ON 신호로 바뀐 후에, 다른 쪽으로부터 출력 신호가 ON 신호에서 OFF 신호로 바뀐다.
제어 장치(50)는, 웨이퍼 검출 센서(35)로부터 출력되는 OFF 신호와 ON 신호가 전환될 때의 스카라 로봇(15)의 로봇 인코더 값에 기초하여, 웨이퍼(W)의 위치 어긋남을 검출한다. 로드 로크실(13)에 대하여 웨이퍼(W)를 반출입할 때의 웨이퍼(W)의 위치 어긋남의 검출도 이와 마찬가지로 행하여진다. 또한, 제어 장치(50)는, 웨이퍼 반송 장치(18)에 대해서도 이와 마찬가지로 하여, 웨이퍼(W)의 반송 위치를 조정한다.
도 3은, 도 1의 플라즈마 처리 장치(10)에서의 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇(15)의 반송 동작의 관계를 나타내는 일례를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 3에서는, 5개의 진공 처리실(12) 중 3개만을 진공 처리실(12A, 12B, 12C)로서 나타내고 있다. 여기서, 진공 처리실(12A, 12B)는 에칭 처리 장치이며, 진공 처리실(12C)는 애싱 처리 장치로 한다. 도 3에는, 진공 처리실(12A)에서 진공 처리실(12C)로 반송되는 웨이퍼(W)의 움직임(스카라 로봇(15)의 움직임)을, 웨이퍼(W)의 중심 위치인 위치(P1 내지 P4)와 그 궤적(실선)으로 나타내고 있다. 또한, 진공 처리실(12A)에 대하여 설치되어 있는 게이트 밸브(25)를 게이트 밸브(25A)로 하고, 웨이퍼 검출 센서(35)를 웨이퍼 검출 센서(35α)로 하고, 진공 처리실(12C)에 대하여 설치되어 있는 게이트 밸브(25)를 게이트 밸브(25C)로 하고, 웨이퍼 검출 센서(35)를 웨이퍼 검출 센서(35γ)로 한다.
진공 처리실(12A, 12C)의 게이트 밸브(25A, 25C)는 각각 폐쇄되어 있다. 제어 장치(50)는, 진공 처리실(12A)로부터 에칭 처리의 종료를 나타내는 신호를 수신하면, 진공 처리실(12A)의 게이트 밸브(25A)를 개방하고, 스카라 로봇(15)의 아암을 펴서 진공 처리실(12A)의 내부로 진입시켜, 위치(P1)에 있는 에칭 처리가 종료된 웨이퍼(W)를 보유 지지시킨다. 계속해서, 제어 장치(50)는, 스카라 로봇(15)의 아암을 줄어들게 해서, 보유 지지한 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12A)로부터 취출한다.
이때, 웨이퍼 검출 센서(35α)가 웨이퍼(W)의 이동을 검출한다. 웨이퍼 검출 센서(35α)로부터의 출력 신호는, 웨이퍼(W)의 통과에 따라서 OFF 신호에서 ON 신호로 바뀐 후에, ON 신호에서 OFF 신호로 바뀐다. 제어 장치(50)는, 웨이퍼(W)가 게이트 밸브(25A)를 통과해서 위치(P2)에 도달한 것을 나타내는 ON 신호에서 OFF 신호로의 변화를 트리거로 해서(OFF 신호의 수신을 트리거로 해서), 스카라 로봇(15)의 회전 중심(O)을 중심으로 한 회전 동작을 개시함과 동시에, 게이트 밸브(25A)의 폐쇄 동작을 개시한다. 이때, 게이트 밸브(25C)의 개방 동작도 개시함으로써, 트랜스퍼 모듈(11)과 진공 처리실(12A)의 사이에서의 파티클의 이동(확산) 등을 억제할 수 있다. 또한, 웨이퍼(W)의 위치(P2)는, 웨이퍼(W) 및 스카라 로봇(15)의 아암이 게이트 밸브(25A)와 간섭하지 않는 위치다.
여기에서는, 웨이퍼(W)가 위치(P2)에 도달한 시점에서 스카라 로봇(15)의 아암의 압축 동작을 정지시키지 않고, 웨이퍼(W)를 위치(P2)에서 위치(P3)로 이동시키기 위한 스카라 로봇(15)의 회전 동작 중에 아암을 신축시키고 있다. 이렇게 아암의 압축 동작을 급정지시키지 않음으로써, 보유 지지하고 있는 웨이퍼(W)에 충격을 부여하지 않도록 할 수 있어, 예를 들어, 웨이퍼(W)에 어긋남이 발생하는 것 등을 피할 수 있다. 또한, 스카라 로봇(15)의 아암의 압축 동작을 정지시켜서 웨이퍼(W)를 위치(P2)에서 위치(P3)로 원호를 그리도록 반송시켜도 아무런 문제가 발생하지 않을 경우에는, 스카라 로봇(15)의 회전 동작 중의 아암의 신축 동작은 반드시 필요한 것은 아니다.
웨이퍼(W)가 위치(P3)에 도달한 시점에서, 이미, 진공 처리실(12C)의 게이트 밸브(25C)는 개방되어 있다. 이 때문에, 제어 장치(50)는, 스카라 로봇(15)의 아암을 펴서, 웨이퍼(W)를 위치(P3)에서 위치(P4)로 반송하여, 진공 처리실(12C)의 내부에 주고 받는다. 이러한 일련의 웨이퍼(W)의 반송에 있어서, 웨이퍼 검출 센서(35α, 35γ)에 의해 웨이퍼(W)의 위치 어긋남이 검출된 경우, 제어 장치(50)는, 웨이퍼(W)가 정확하게 위치(P4)로 반송되도록 스카라 로봇(15)의 움직임을 미세 조정한다. 이에 의해, 웨이퍼(W)의 처리를 원활하게 진행시킬 수 있다. 또한, 웨이퍼(W)의 반송의 미세 조정을 할 수 없는 경우에는, 제어 장치(50)가 경보를 울리는 구성으로 할 수 있다.
제1 실시 형태에 관한 상술한 웨이퍼(W)의 반송 제어를 종래의 반송 제어와 비교한다. 종래의 반송 제어에서는, 도 3에 파선으로 나타낸 바와 같이, 미리 설정된 시퀀스에 따라, 위치(P1)에 있는 웨이퍼(W)를 보유 지지한 아암의 압축 동작이 종료되고 웨이퍼(W)가 위치(P2a)에 도달한 후에, 스카라 로봇(15)의 회전 동작이 개시되어, 웨이퍼(W)가 위치(P3a)에 도달한 후에, 스카라 로봇(15)의 아암을 신장시켜서, 웨이퍼(W)를 위치(P4)에 반송하고 있었다.
여기서, 스카라 로봇(15)의 회전 동작의 각도는 일정하기 때문에, 제1 실시 형태에 관한 웨이퍼(W)의 반송 제어에 의해 웨이퍼(W)가 위치 P2에서 P3 사이를 이동하기 위해 필요로 하는 시간은, 종래의 반송 제어에 의해 웨이퍼(W)가 위치 P2a에서 P3a 사이를 이동하기 위해 필요로 하는 시간과 동등하다. 따라서, 제1 실시 형태에 관한 웨이퍼(W)의 반송 제어에 의해 웨이퍼(W)를 위치 P1에서 P2에서 P3에서 P4로 반송했을 경우에는, 종래의 반송 제어에 의해 웨이퍼(W)를 위치 P1에서 P2a에서 P3a에서 P4로 반송했을 경우보다, 위치 P2에서 P2a 사이 및 위치 P3에서 P3a 사이의 반송에 필요한 시간이 불필요하게 되는 분만큼, 웨이퍼(W)의 반송 시간을 단축할 수 있다.
또한, 종래의 반송 제어에서는, 예를 들어, 웨이퍼(W)가 위치(P3a)에 도달한 시점에서, 게이트 밸브(25C)의 개방 동작을 개시하고 있었기 때문에, 웨이퍼(W)가 위치(P3a)에 도달해도 바로 스카라 로봇(15)의 아암을 늘릴 수 없어, 약간의 대기 시간이 필요했다. 그러나, 제1 실시 형태에 관한 웨이퍼(W)의 반송 제어에서는, 이러한 대기 시간이 불필요해지기 때문에, 웨이퍼(W)의 반송 시간을 단축하여, 스루풋을 향상시킬 수 있다.
또한, 종래의 반송 제어와 비교하여, 제1 실시 형태에 관한 웨이퍼(W)의 반송 제어는, 스카라 로봇(15)의 동작 속도를 빠르게 한 것은 아니어서, 진동의 발생이나 반송 정밀도의 저하, 발진의 발생 등의 문제도 발생하지 않는다. 또한, 웨이퍼 검출 센서(31 내지 35)는, 종래부터 장비되어 있는 웨이퍼(W)의 반송 중심 위치 보정용 센서를 겸하기 때문에, 비용 상승도 발생하지 않는다.
상기 설명에서는, 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12) 사이에서 반송(이동)시킨 예를 다루었지만, 제1 실시 형태에 관한 상술한 웨이퍼(W)의 반송 제어는, 로드 로크실(13)과 진공 처리실(12)의 사이에서의 웨이퍼(W) 반송에도 마찬가지로 적용할 수 있음은 물론이며, 로드 포트(16), 위치 맞춤 기구(17) 및 로드 로크실(13)의 사이에서의 웨이퍼 반송 장치(18)에 의한 웨이퍼(W)의 반송에도 마찬가지로 적용할 수 있다. 또한, 제1 실시 형태에 관한 상술한 웨이퍼(W)의 반송 제어에서는, 웨이퍼 검출 센서(35α, 35γ)의 센서 신호를 트리거로 해서, 스카라 로봇(15)과 게이트 밸브(25A, 25C)의 동작을 제어한다고 했지만, 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 웨이퍼 검출 센서(34)의 센서 신호를 트리거로 해서, 진공 처리실(12)에서의 플라즈마 처리의 준비 동작 등을 행하도록 해도 된다.
또한, 상기 설명에서는, 진공 처리실(12)의 웨이퍼 반출입구에 대하여 트랜스퍼 모듈(11)측에 게이트 밸브(25)를 설치했지만, 게이트 밸브(25)는, 진공 처리실(12) 내에 설치해도 된다. 이 경우에도, 웨이퍼 검출 센서(35)는, 웨이퍼 반출입구에 대하여 로더 모듈측에 배치한다. 이에 의해, 제1 실시 형태에 관한 상술한 웨이퍼(W)의 반송 제어를 실행했을 때라도, 웨이퍼(W)가 진공 처리실(12)의 웨이퍼 반출입구와 간섭되어버리는 반송이 실행되지는 않는다.
이어서, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치에 대해서 설명한다. 도 4는, 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 다른 플라즈마 처리 장치(10A)의 구성을 개략적으로 도시하는 평면도이다. 또한, 플라즈마 처리 장치(10A)는, 제1 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치(10)와 마찬가지의 로더 모듈(14), 로드 포트(16) 및 위치 맞춤 기구(17)를 갖지만, 도 4에서는 그 도시를 생략하고 있다.
제2 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치(10A)가, 제1 실시 형태에 관한 플라즈마 처리 장치(10)와 상이한 점은, 트랜스퍼 모듈(11) 내에 배치된 스카라 로봇(40)이 도 4에 도시하는 Y 방향으로 슬라이드 자유롭고, 또한 화살표 R 방향(우회전/좌회전)으로 회전 가능하게 되어 있는 것이다. 또한, 상이한 점은, 스카라 로봇(40)이 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 2개의 다관절 아암(40a, 40b)을 구비하고 있고, 또한 2군데에서 2개의 진공 처리실(12)이 Y 방향으로 배열되어 배치되어 있는 것이다. 그 밖의 점에서는 플라즈마 처리 장치(10, 10A)에 실질적인 상이는 없다. 또한, 아암(40a, 40b)은 각각, 독립적으로 동작 가능하게 되어 있다.
플라즈마 처리 장치(10A)에서의 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇(40)의 반송 동작의 관계에 대해서 이하에 설명한다. 도 5는, 도 4의 플라즈마 처리 장치(10A)에서의 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇(40)의 반송 동작의 관계를 나타내는 제1 예를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 5에서는, 6개의 진공 처리실(12) 중, Y 방향으로 배열되어 배치된 2개만을 진공 처리실(12A, 12B)로서 나타내고 있다. 여기서, 진공 처리실(12A)은 에칭 처리 장치이며, 진공 처리실(12B)은 애싱 처리 장치인 것으로 한다.
도 5에는, 도 3과 마찬가지로, 제어 장치(50)에 의한 제어에 의해 진공 처리실(12A)에서 진공 처리실(12B)로 반송되는 웨이퍼(W)의 움직임(스카라 로봇(40)의 움직임)을, 웨이퍼(W)의 중심 위치인 위치 P1에서 P2에서 P3에서 P4로 그 궤적(실선)으로 나타내고 있으며, 종래의 반송 제어에 의한 웨이퍼(W)의 움직임을 파선(위치 P1에서 P2a에서 P3a에서 P4)으로 나타내고 있다. 또한, 진공 처리실(12A)에 대하여 설치되어 있는 게이트 밸브(25)를 게이트 밸브(25A)로 하고, 웨이퍼 검출 센서(35)를 웨이퍼 검출 센서(35α)로 하고, 진공 처리실(12B)에 대하여 설치되어 있는 게이트 밸브(25)를 게이트 밸브(25B)로 하고, 웨이퍼 검출 센서(35)를 웨이퍼 검출 센서(35β)로 한다.
도 3을 참조한 설명과 마찬가지로, 도 5에 도시하는 웨이퍼(W)의 반송 처리에서는, 진공 처리실(12A)의 게이트 밸브(25A)가 개방되고, 스카라 로봇(40)의 한쪽의 아암(40a)(40b이어도 됨)이 위치(P1)에 있는 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12A)로부터 취출한다. 웨이퍼(W)가 게이트 밸브(25A)를 통과해서 위치(P2)에 도달한 것을 나타내는 웨이퍼 검출 센서(35α)로부터의 신호를 트리거로 해서, 스카라 로봇(40)이 진공 처리실(12B)측으로의 Y 방향 슬라이드 이동을 개시함과 동시에 게이트 밸브(25A)의 폐쇄 동작이 개시되고, 또한, 게이트 밸브(25B)의 개방 동작도 개시된다. 웨이퍼(W)가 위치(P3)에 도달한 시점에서, 진공 처리실(12B)의 게이트 밸브(25B)는 이미 개방되어 있기 때문에, 스카라 로봇(40)의 아암(40a)은, 웨이퍼(W)를 위치(P3)에서 위치(P4)로 반송하여, 진공 처리실(12B)의 내부에 반입한다. 이때, 또한, 웨이퍼 검출 센서(35β)로부터의 신호로부터 웨이퍼(W)에 위치 어긋남이 발생한 것이 밝혀졌을 경우에는, 스카라 로봇(40)은 이 위치 어긋남을 보정하는 동작을 행한다. 이러한 웨이퍼(W)의 반송 방법을 사용함으로써, 종래의 반송 방법보다 단시간의 반송이 가능하게 된다.
플라즈마 처리 장치(10A)에서의 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇(40)의 반송 동작의 관계의 제2 예에서는, 1개의 진공 처리실(12)에 대한 웨이퍼(W)의 반출과 반입을 2개의 아암(40a, 40b)에 의해 연속해서 행한다. 스카라 로봇(40)의 아암(40b)은, 플라즈마 처리 전의 웨이퍼(W)를 보유 지지하고 있는 것으로 한다. 이 상태에서, 진공 처리실(12)의 게이트 밸브(25)가 개방되고, 스카라 로봇(40)의 한쪽의 아암(40a)이 진공 처리실(12A)로부터 플라즈마 처리 완료된 웨이퍼(W)를 취출한다. 플라즈마 처리 완료된 웨이퍼(W)가 게이트 밸브(25)를 통과한 것을 나타내는 웨이퍼 검출 센서(35)로부터의 신호를 트리거로 해서, 스카라 로봇(40)은, 플라즈마 처리 완료된 웨이퍼(W)를 취출한 진공 처리실(12)과 동일한 진공 처리실(12)에 아암(40b)이 보유 지지한 웨이퍼(W)를 반입하기 위해 필요한 R 방향 회전 동작을 개시하고, 소정 각도의 회전 동작이 종료된 후에, 아암(40b)은 보유 지지한 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12)에 반입한다. 이 때, 취출한 웨이퍼(W)를 보유 지지한 아암(40a)은 진공 처리실(12)에 웨이퍼(W)를 반입하는 아암(40b)와 상호 충돌하지 않도록 제어된다.
이러한 웨이퍼(W)의 반송 방법(반출입 방법)을 사용함으로써, 시퀀스에 따라서 아암(40a)의 웨이퍼 반출 동작이 완전히 종료된 후에 아암(40b)에 의한 웨이퍼 반입 동작을 행한다고 하는 종래의 반송 방법보다, 단시간의 반송이 가능하게 된다. 또한, 로드 로크실(13)에 대하여도, 마찬가지의 반송 방법을 사용할 수 있다.
상술한 웨이퍼 검출 센서(35)에 의한 웨이퍼(W)의 검출과 스카라 로봇(40)의 반송 동작의 관계의 제2 예에서는, 1개의 진공 처리실(12)에 대한 웨이퍼(W)의 반출과 반입을 2개의 아암(40a, 40b)에 의해 연속해서 행할 때에, 진공 처리실(12)로부터 웨이퍼(W)가 반출된 것을 나타내는 웨이퍼 검출 센서(35)의 신호를 트리거로 해서, 스카라 로봇(40)이 회전 동작을 행한다고 했다. 이에 반해, 스카라 로봇(40)을, 아암(40b)이 플라즈마 처리 전의 웨이퍼(W)를 보유 지지한 상태에서 아암(40a)의 하방 또는 상방(도 4의 평면에서 보아 겹치는 위치)에 있는 구성으로 할 수 있다.
이 경우, 진공 처리실(12)로부터 웨이퍼(W)가 반출된 것을 나타내는 웨이퍼 검출 센서(35)의 신호를 트리거로 해서, 아암(40b)이 보유 지지하고 있는 플라즈마 처리 전의 웨이퍼(W)를 진공 처리실(12)에 반입하기 위해, 아암(40b)의 상승 동작 또는 하강 동작을 개시하는 구성으로 할 수 있다. 이에 의해서도, 종래의 반송 방법보다 웨이퍼(W)를 단시간에 반송하는 것이 가능해진다. 또한, 로드 로크실(13)에 대해서도 마찬가지의 반송 방법을 사용할 수 있다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명했지만, 본 발명은 상기의 실시 형태에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 상기 설명에서는, 웨이퍼 검출 센서(35)에 의해 웨이퍼(W)를 검출함으로써 스카라 로봇(15, 40) 및 웨이퍼 반송 장치(18)의 동작을 제어한다고 했지만, 스카라 로봇(15, 40) 및 웨이퍼 반송 장치(18)에 있어서 웨이퍼(W)를 보유 지지하는 아암 부분의 움직임을 센서로 검출하고, 그 검출 신호에 기초하여, 스카라 로봇(15, 40) 및 웨이퍼 반송 장치(18)의 동작을 제어하도록 해도 된다.
또한, 기판 처리 장치로서 플라즈마 처리 장치를 다루었지만, 이것에 한정되는 것이 아니며, 성막 장치, 세정 장치 등이어도 된다. 또한, 기판으로서 반도체 웨이퍼를 다루었지만, 기판은 이것에 한정되지 않고, 예를 들어, 액정 디스플레이 등의 플랫 패널 디스플레이(FPD)에 사용되는 유리 기판이어도 되고, 따라서, 본 발명은, FPD용 유리 기판의 처리 장치에도 적용된다.
본 출원은, 2012년 11월 14일에 출원된 일본 출원 제2012-250325호에 기초하는 우선권을 주장하는 것이며, 당해 일본 출원에 기재된 전체 내용을 본 출원에 원용한다.
10 : 플라즈마 처리 장치 11 : 트랜스퍼 모듈
12 : 진공 처리실 13 : 로드 로크실
14 : 로더 모듈 15 : 스카라 로봇
16 : 로드 포트 17 : 위치 맞춤 기구
18 : 웨이퍼 반송 장치 21, 23 내지 25 : 게이트 밸브
31 내지 35 : 웨이퍼 검출 센서 50 : 제어 장치

Claims (17)

  1. 기판을 수용하는 챔버, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 기판 검출 센서를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 복수의 기판 처리부와,
    상기 복수의 기판 처리부에 대하여 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 액세스처의 상기 기판 처리부의 챔버에 대하여 기판의 반출입을 행하기 위한 신축 동작을 행하는 반송 장치와,
    상기 기판 처리부 및 상기 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 복수의 기판 처리부 중 1개의 챔버로부터 취출한 기판이 상기 1개의 챔버의 기판 반출입구를 통과해서 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 복수의 기판 처리부 중 다른 챔버에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 상기 반송 장치에 개시시키는, 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 다른 챔버에 반송하기 위해서 상기 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에, 상기 1개의 챔버의 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키는, 기판 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 1개의 챔버로부터 취출한 기판을 상기 다른 챔버에 반송하기 위해서 상기 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에, 상기 다른 챔버의 기판 반출입구를 개방하도록 상기 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키는, 기판 처리 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,,
    상기 제어부는, 상기 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 슬라이드 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는, 기판 처리 장치.
  5. 기판을 수용하는 챔버, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 기판 검출 센서를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 적어도 1개의 기판 처리부와,
    상기 기판을 보유 지지 가능하고, 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하고, 상기 챔버에 대한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 반송 장치와,
    상기 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암이 신축 동작 함으로써 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 아암이 보유 지지한 기판을 상기 챔버에 반입하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 상기 반송 장치에 개시시키는, 기판 처리 장치.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 승강 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는, 기판 처리 장치.
  7. 기판을 수용하는 챔버를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 기판 처리부와,
    상기 기판 처리부에서 처리되는 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 수용하는 기판 수용실과,
    상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 챔버 개폐 부재와,
    상기 기판 수용실의 제1 기판 반출입구를 개폐하는 제1 개폐 부재와,
    상기 기판 처리부 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 제1 반송 장치와,
    상기 제1 반송 장치에 보유 지지되어 상기 제1 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제1 기판 검출 센서와,
    상기 제1 반송 장치에 보유 지지되어 상기 챔버의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제2 기판 검출 센서와,
    상기 챔버 개폐 부재 및 상기 제1 개폐 부재의 개폐 동작과 상기 제1 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 제1 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제1 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제1 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제1 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 제1 반송 장치에 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키고, 상기 제1 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 챔버 개폐 부재 및 상기 챔버의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제2 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제1 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 제1 반송 장치에 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는, 기판 처리 장치.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 기판 수용실의 상기 제1 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 제1 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키고, 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 폐쇄하도록 상기 챔버 개폐 부재의 폐쇄 동작을 개시시키는, 기판 처리 장치.
  9. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 개방하도록 상기 챔버 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키고, 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위해서 상기 제1 반송 장치에 상기 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시킴과 동시에 상기 제1 기판 반출입구를 개방하도록 상기 제1 개폐 부재의 개방 동작을 개시시키는, 기판 처리 장치.
  10. 제7항 또는 제8항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제1 기판 검출 센서 및 상기 제2 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 제1 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 제1 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 슬라이드 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는, 기판 처리 장치.
  11. 기판을 수용하는 챔버를 포함하고, 상기 챔버 내에서 기판에 소정의 처리를 실시하는 기판 처리부와,
    상기 기판 처리부에서 처리되는 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 수용하는 기판 수용실과,
    상기 기판 수용실의 제1 기판 반출입구를 개폐하는 제1 개폐 부재와,
    상기 기판을 보유 지지 가능하고, 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하고, 상기 챔버 및 상기 기판 수용실에 대한 상기 아암에 의한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 행하는 제1 반송 장치와,
    상기 제1 반송 장치에 의해 상기 제1 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제1 기판 검출 센서와,
    상기 제1 반송 장치의 동작을 제어하는 제어부를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 아암이 신축 동작 함으로써 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제1 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제1 개폐 부재 및 상기 제1 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 상기 아암이 보유 지지한 기판을 상기 기판 수용실에 반입하기 위한 회전 동작 또는 승강 동작을 상기 제1 반송 장치에 개시시키는, 기판 처리 장치.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제1 기판 검출 센서로부터의 신호에 기초해서 상기 제1 반송 장치에 의해 반송되는 기판의 위치 어긋남을 검출하여, 상기 기판에 위치 어긋남이 발생한 경우에, 상기 위치 어긋남을 보정하도록 상기 제1 반송 장치의 신축 동작, 회전 동작 및 승강 동작 중 적어도 1개의 동작을 제어하는, 기판 처리 장치.
  13. 제7항, 제8항, 제11항 및 제12항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판 수용실은 제2 기판 반출입구를 포함하고,
    상기 기판 수용실에 반입할 기판 및 상기 기판 처리부로부터 반출된 후, 상기 기판 수용실로 반송된 기판을 복수 수용하는 용기를 적재하는 용기 적재부와,
    상기 용기 적재부에 적재된 용기 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 제2 반송 장치와,
    상기 기판 수용실의 상기 제2 기판 반출입구를 개폐하는 제2 개폐 부재와,
    상기 용기 적재부에 적재된 용기의 기판 반출입구를 개폐하는 제3 개폐 부재와,
    상기 제2 반송 장치에 보유 지지되어 상기 제2 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제3 기판 검출 센서와,
    상기 제2 반송 장치에 보유 지지되어 상기 용기 적재부에 적재된 용기의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 제4 기판 검출 센서를 포함하고,
    상기 제어부는, 상기 제2 개폐 부재 및 상기 제3 개폐 부재의 개폐 동작과 상기 제2 반송 장치의 동작을 제어하고, 상기 제2 반송 장치에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 제2 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제2 개폐 부재 및 상기 제2 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제3 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제2 반송 장치에 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 용기 적재부에 적재된 용기에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키고, 상기 제2 반송 장치가 상기 용기 적재부에 적재된 용기로부터 취출한 기판이 상기 용기의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 제3 개폐 부재 및 상기 용기의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제4 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 제2 반송 장치에 상기 용기로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하기 위한 회전 동작 또는 슬라이드 동작을 개시시키는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
  14. 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서,
    복수의 기판 처리부의 각각에 있어서의 챔버에 기판을 수용하고, 개폐 부재에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와,
    기판 검출 센서에 의해, 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와,
    상기 복수의 기판 처리부의 각각에 의해, 상기 챔버 내의 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와,
    반송 장치에 의해, 상기 복수의 기판 처리부에 대하여 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과, 액세스처의 상기 기판 처리부의 상기 챔버에 대하여 기판의 반출입을 행하기 위한 신축 동작을 행하는 단계와, 상기 반송 장치가 신축 동작에 의해 상기 복수의 기판 처리부 중 1개의 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서가 발신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 반송 장치가 상기 1개의 챔버로부터 취출한 상기 기판을 상기 복수의 기판 처리부 중 다른 챔버에 반송하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법.
  15. 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서,
    적어도 1개의 기판 처리부에 있어서의 챔버에 기판을 수용하고, 개폐 부재에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와,
    기판 검출 센서에 의해, 상기 기판 반출입구를 통하여 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와,
    상기 적어도 1개의 기판 처리부의 각각에 의해, 상기 챔버 내의 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와,
    상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하는 반송 장치에 의해, 상기 챔버에 대한 상기 아암에 의한 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 단계와,
    상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암이 신축 동작 함으로써 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 반송 장치가 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 아암이 보유 지지한 기판을 상기 챔버에 반입하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 승강 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는, 기판 반송 방법.
  16. 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서,
    기판 처리부에 의해, 기판을 수용한 챔버 내에 있어서 해당 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와,
    상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 기판 수용실에 수용하는 단계와,
    반송 장치에 의해, 상기 기판 처리부 및 상기 기판 수용실에 선택적으로 액세스하기 위한 회전 동작 및/또는 슬라이드 동작과 신축 동작을 행하는 단계와,
    기판 수용실 개폐 부재에 의해, 상기 기판 수용실의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와,
    챔버 개폐 부재에 의해, 상기 챔버의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와,
    제1 기판 검출 센서에 의해 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와,
    제2 기판 검출 센서에 의해 상기 챔버의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와,
    상기 반송 장치가 상기 신축 동작에 의해 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 기판 수용실 개폐 부재 및 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제1 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 반송 장치가 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판을 상기 챔버에 반송하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하고, 상기 반송 장치가 상기 신축 동작에 의해 상기 챔버로부터 취출한 기판이 상기 챔버의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 챔버 개폐 부재 및 상기 챔버의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 제2 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 반송 장치의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 반송 장치가 상기 챔버로부터 취출한 기판을 상기 기판 수용실에 반송하는 상기 회전 동작 또는 상기 슬라이드 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법.
  17. 기판 처리 장치에서의 기판 반송 방법으로서,
    기판 처리부에 있어서 챔버에 기판을 수용하고, 상기 기판에 소정의 처리를 실시하는 단계와,
    상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로부터 반입하기 위해서 및 상기 기판 처리부에서 처리된 기판을 외부로 반출하기 위해서 상기 기판을 기판 수용실에 수용하는 단계와,
    개폐 부재에 의해 상기 기판 수용실의 기판 반출입구를 개폐하는 단계와,
    상기 기판을 보유 지지 가능하고 또한 독립적으로 신축 동작 가능하게 구성된 적어도 2개의 아암을 포함하는 반송 장치에 의해 상기 챔버 및 상기 기판 수용실에 대한 상기 기판의 반출입을 행하기 위한 회전 동작 및/또는 승강 동작을 행하는 단계와,
    기판 검출 센서에 의해 상기 반송 장치에 의해 상기 기판 수용실의 기판 반출입구에 있어서 진퇴하는 기판을 검출하는 단계와,
    상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 아암이 신축 동작 함으로써 상기 기판 수용실로부터 취출한 기판이 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구를 통과함으로써 상기 개폐 부재 및 상기 기판 수용실의 상기 기판 반출입구와 간섭하지 않는 위치에 도달한 것을 나타내는 신호를 상기 기판 검출 센서로부터 수신한 것을 트리거로 해서, 상기 적어도 2개의 아암 중 1개의 상기 아암의 신축 동작의 종료 여부와 무관하게, 상기 반송 장치가 상기 적어도 2개의 아암 중 다른 상기 아암이 보유 지지한 기판을 상기 기판 수용실에 반입하기 위한 상기 회전 동작 또는 상기 승강 동작을 개시하도록 제어하는 단계를 포함하는 기판 반송 방법.





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