KR101824017B1 - 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 - Google Patents
건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101824017B1 KR101824017B1 KR1020080075295A KR20080075295A KR101824017B1 KR 101824017 B1 KR101824017 B1 KR 101824017B1 KR 1020080075295 A KR1020080075295 A KR 1020080075295A KR 20080075295 A KR20080075295 A KR 20080075295A KR 101824017 B1 KR101824017 B1 KR 101824017B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- group
- delete delete
- deposition
- layer
- deposition layer
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 42
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 42
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 77
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 58
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 52
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 38
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 36
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 16
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 14
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 7
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 7
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 7
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 7
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical group OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 6
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 4
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 3
- 229910001512 metal fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 33
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 28
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003796 beauty Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 6
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 4
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 4
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 4
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 4
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- VKJLWXGJGDEGSO-UHFFFAOYSA-N barium(2+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ba+2] VKJLWXGJGDEGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- BDVZHDCXCXJPSO-UHFFFAOYSA-N indium(3+) oxygen(2-) titanium(4+) Chemical compound [O-2].[Ti+4].[In+3] BDVZHDCXCXJPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOLOEFUIPKGVPE-UHFFFAOYSA-N pentane-2,4-dione;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.CC(=O)CC(C)=O ZOLOEFUIPKGVPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/32—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
- C23C28/322—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer only coatings of metal elements only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/30—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
- C23C28/34—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
- C23C28/345—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
- C23C28/3455—Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer with a refractory ceramic layer, e.g. refractory metal oxide, ZrO2, rare earth oxides or a thermal barrier system comprising at least one refractory oxide layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
- C23C28/40—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition
- C23C28/42—Coatings including alternating layers following a pattern, a periodic or defined repetition characterized by the composition of the alternating layers
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
본 발명은 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 네비게이션, 노트북 등의 휴대용 전자제품 디스플레이 제품 등의 케이스, 윈도우, 키패드, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등에 광학적 미려함과 고급스러운 느낌을 부여할 수 있는, 안정되고 간단한 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법에 관한 것이다.
건식공정, 진공증착, 밀착력, 코팅, 윈도우, 케이스, 키패드, 신뢰성
Description
본 발명은 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 네비게이션, 노트북 등의 휴대용 전자제품 디스플레이 제품 등의 케이스, 윈도우, 키패드, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등에 광학적 미려함과 고급스러운 느낌을 부여할 수 있는, 안정되고 간단한 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법에 관한 것이다.
휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 네비게이션, 노트북 등의 휴대용 전자제품 및 모니터, 터치스크린 등의 디스플레이 제품 등은 금속, 유리 및 아크릴, 폴리카보네이트(Poly Carbonate ; PC), PMMA(Poly Methyl Methacrylate), PET(Polyethylene Terephthalate), ABS 수지(Acrylonitrile butadiene styrene copolymer) 및 이의 혼합된 수지로 된 시트(sheet)상의 패널(panel)형태와 각종 사출물로 이루어진 케이스, 윈도우, 키패드, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등의 부품을 사용하게 되 는데, 이러한 부품의 광학적 미려함과 고급스러운 느낌을 위하여 금속 및/또는 금속산화물을 이용하여 진공증착 코팅을 수행하게 된다.
특히, 휴대폰의 경우 휴대폰 사용시 통화품질의 안정성을 위하여 케이스, 윈도우, 키패드 및 윈도우 일체형 케이스 등의 전면 및 배면에 금속 대신 금속산화물을 이용한 비전도성 유전체 박막코팅을 진공증착 공정으로 코팅층을 형성한다.
그러나, 진공증착 방법으로 코팅된 금속 및/또는 금속산화물의 코팅 박막은 모재(substrate)와 증착층과의 밀착력이 낮아 내마모성, 내스크래치성 및 연필경도가 취약하고, 고온고습 및 염수에 의한 진공증착 박막층의 탈막으로 인한 신뢰성을 확보하기가 어려웠다.
따라서 이러한 신뢰성 등의 문제를 해결하기 위하여 증착공정 전 및 후에 침지, 스프레이, 스핀, 잉크젯 프린팅 등의 습식공정으로 UV 코팅 및 하드코팅을 수행하게 되었다.
특히 전자제품의 케이스, 윈도우, 키패드 등으로 사용되는 아크릴, 폴리카보네이트(Poly Carbonate ; PC), PMMA(Poly Methyl Methacrylate), PET(Polyethylene Terephthalate), ABS 수지(Acrylonitrile butadiene styrene copolymer) 및 이의 혼합된 수지로 된 시트(sheet)상의 패널(panel)형태와 각종 사출물에 광학적 디자인을 위하여 진공증착 공정을 도입하면 증착막의 밀착력 및 안정성을 위하여 디핑법, 스프레이법, 스핀코팅법, 잉크프린팅법 등 별도의 습식공정을 이용하여 하도코팅 및 상도코팅을 수행하여야 하는데, 이 경우 습식공정과 진공증착공정을 교대로 이용하여 코팅을 하는 경우 서로 다른 공정이용으로 인한 비용 발생은 물론 서로 다른 공정 도입을 위한 이송과정에서 많은 불량이 발생하게되는 문제를 야기하게 된다.
즉, 이러한 습식공정의 도입은 습식공정 및 진공증착공정(건식공정)의 서로 다른 공정을 교차 이용하게 됨으로써 서로 다른 공정간의 이송 및 각각의 공정간 코팅 피도물의 장착 및 탈착을 반복하여 수행함으로써 부품코팅의 공정시간이 길어진다.
또한 복잡하게 교차하는 서로 다른 공정의 수행과정에서 발생되는 공정 불량과 각 공정간의 이송시 발생되는 높은 불량률 및 많은 공정수에 의한 길어진 제조시간에 의하여 생산성이 저하되어 결국 제품의 제조비용이 높아질 수밖에 없는 구조적인 문제점을 가져왔다.
특히 이러한 공정은 습식코팅을 수행하는 업체와 진공증착을 수행하는 업체가 상이한 경우 더욱 심화되는 경향이 있다.
또한 도 4에 나타낸 바와 같이 제품(10)의 표면에 습식공정을 통하여 제조된 코팅막(60)은 진공증착공정(건식공정)으로 제조된 코팅막(70)에 비하여 수백 내지 수천배 두껍기 때문에 광학적인 특성의 저하 및 모재의 표면질감의 저하로 인하여 제품모재의 특성을 잘 살릴 수 없는 단점이 있다.
본 발명의 진공증착 박막의 제조방법은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 본 발명은 전자제품의 케이스, 윈도우, 키패드, 기능키 부품, 윈도우일체형 케이스, 다양한 악세서리 모재의 전면 및 배면에 진공증착기 내에서 최소한의 건식 진공증착 박막제조공정만으로도 안정된 진공증착 박막을 형성하여 휴대용 전자제품 및 디스플레이 제품에 미려하고 고급스러운 광학적 디자인을 제공하면서 신뢰성을 확보할 수 있게 하는 다층박막의 제조방법을 제공하는 것을 기술적 과제로 한다.
또한, 최소한의 진공증착 공정으로 코팅층의 신뢰성을 확보함으로써 공정을 단축시켜 제조시간의 단축 및 불량률 저하로 인한 비용절감 효과는 물론 환경적으로 문제발생의 여지가 많은 습식공정을 제거 또는 최소화함으로써 환경오염발생의 여지를 제거하거나 저하시키는 효과를 얻고자 하는 것을 또 다른 기술적 과제로 한다.
상기 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 모재와 광학 코팅층 간의 밀착력 부여를 위한 하도증착층을 모재 상에 형성하는 단계; 및 상기 하도증착층 상에 광학 코팅층을 형성하는 단계를 포함하고, 다층박막의 형성이 건식 진공증착을 이용하여 수행되는 것을 특징으로 하는 다층박막의 제조방법을 제공한다.
본 발명의 다층박막의 제조방법은 바람직하게는, 상기 광학 코팅층 형성 단계 이후에 중도증착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명의 다층박막의 제조방법은 바람직하게는, 상기 중도증착층 형성 단계 이후에 또는 상기 광학 코팅층 형성 단계 이후에 상도증착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 측면에 따르면, 본 발명의 다층박막의 제조방법에 의해 형성되며, 모재 상에 형성된 하도증착층; 및 상기 하도증착층 상에 형성된 광학 코팅층을 포함하는 다층박막코팅이 제공된다.
본 발명의 다층박막코팅은 바람직하게는, 상기 광학 코팅층 상에 형성된 중도증착층을 더 포함한다.
또한 본 발명의 다층박막코팅은 바람직하게는, 상기 중도증착층 상에 형성된 상도증착층을 더 포함한다.
본 발명의 다층박막코팅은 바람직하게는, 상기 광학 코팅층 상에 형성된 상도증착층을 더 포함한다.
본 발명의 또 다른 측면에 따르면, 본 발명의 다층박막의 제조방법에 의해 형성된 다층박막코팅을 포함하는 전자제품이 제공된다.
본 발명의 건식 진공증착 박막의 제조방법을 이용하여 휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 차량용 네비게이션 시스템, 노트북 등의 휴대용 전자제품, 모니터, 터치스크린 등의 디스플레이 제품, 냉장고, 에어컨, TV등 일반 가전제품 등의 케이스, 윈도우, 윈도우 일체형 케이스, 키패드, 키패드일체형 윈도우, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등을 코팅하면 미려하고 고급스러운 광학적 디자인을 제공하면서 신뢰성을 확보할 수 있다.
또한, 최소한의 진공증착 공정으로 코팅층의 신뢰성을 확보함으로써 공정을 단축시켜 제조시간의 단축 및 불량률 저하로 인한 비용절감 효과는 물론 환경적으로 문제발생의 여지가 많은 습식공정을 제거하거나 최소화 함으로써 환경오염발생의 여지를 제거하거나 저하시키는 효과를 얻을 수 있다.
본 발명의 진공증착 박막의 제조방법은 종래 습식공정을 이용하여 제공되었던 코팅막을 진공증착기 내에서 건식공정으로 형성하는 것을 특징으로 한다. 종래 습식공정을 이용하여 제공되었던 코팅막으로는 예컨대 UV(자외선)경화형 코팅막, 모재와 광학 코팅층간의 밀착력을 강화 시키는 하도코팅막, 및 광학 단일 내지 멀티코팅층의 보호를 위한 상도코팅막을 들 수 있다.
본 발명의 진공증착공정(건식공정)에서는 바람직하게는 한국특허출원 10-2007-0075000호에 개시된 바와 같은 기구물을 이용하여 각각의 박막층을 형성하기 위한 약품을 진공증착기 내에서 각각 초박막으로 코팅하여 안정된 단일 내지 멀티코팅막을 제공한다.
본 발명의 박막 제조방법이 적용가능한 모재로는 휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 차량용 네비게이션 시스템, 노트북 등의 휴대용 전자제품, 디스플레이 제품 등의 케이스, 윈도우, 윈도우일체형 케이스, 키패드, 키패드일체형 윈도우, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 부품을 들 수 있으나 이에 제한되는 것은 결코 아니다. 이들 모재의 형태는 시트(sheet)상의 패널(panel)형태일 수도 있고, 각종 사출물 형태일 수도 있으나, 이에 제한되는 것은 결코 아니다.
상기 모재의 재질로는 금속, 유리, 아크릴, 폴리카보네이트(Poly Carbonate; PC), PMMA(Poly Methyl Methacrylate), PET(Polyethylene Terephthalate), ABS 수지(Acrylonitrile butadiene styrene copolymer) 및 이의 혼합물을 들 수 있으나 이에 제한되는 것은 결코 아니다.
본 발명의 박막 제조방법에 있어서 모재 상에 형성되는 하도증착층은 모재와 이후에 형성될 광학 코팅층 간의 밀착력 부여를 위한 층이다. 바람직하게는 하도증착층은 10Å내지 1000Å(1nm 내지 100nm)의 나노수준의 얇은 두께로 형성되며, 모재 표면과 다음 단계에서 형성될 광학 단일 내지 멀티코팅층과의 밀착력을 강화시키는 소위 나노 프라이머의 역할을 수행하게 된다.
또한, 상기 하도증착층은 모재의 표면특성 및 광학 코팅층의 멀티층 설계에 따라 진공증착 공정 중에 플라즈마 보조 증착방식(이온어시스트)으로 10Å 내지 1000Å의 두께로 증착하여 경질막 특성을 발현시켜 박막증착층의 밀착특성을 강화할 수 있다.
바람직하게는, 상기 하도증착층을 형성하게 되는 코팅제로는 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지는 탄소계 화합물이 사용되며, 그 분자량은 100 내지 10,000일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 박막 제조방법에 있어서 하도증착층 상에 형성되는 광학 코팅층은 단일층 또는 멀티층일 수 있으며, 모재, 즉 제품외관에 미려하고 고급스러운 광학적 디자인을 제공하고, 다양한 컬러를 나타낼 수도 있으며, 거울상 또는 반거울상의 효과를 나타낼 수도 있는 층이다.
상기 광학 코팅층을 형성하기 위한 재료로는 SUS, 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 주석(Sn), 인듐(In)-주석(Sn) 등의 금속; 산화규소(SiO2), 산화티탄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화지르코늄(ZrO2), 산화인듐티탄(InxTiyO2,ITO), 산화바륨티탄(BaTiO3), 산화마그네슘(MgO) 등의 금속 산화물; SiN, TiN 등의 금속 질화물; 및 MgF2 등의 금속 불화물을 사용할 수 있으며, 진공증착기 내에서 전자빔 내지 저항가열 장치를 이용하여 이들 재료를 단일층으로 또는 서로 교대로 증착하여 멀티층으로 형성한다. 광학 코팅층의 두께에는 특별한 제한이 없으며, 예컨대 10Å내지 1000Å(1nm 내지 100nm)의 나노수준의 두께에서부터 수 마이크로미터 수준의 두께에까지 이르는 다양한 두께의 층을 단층 또는 다층으로 형성할 수 있다.
본 발명의 바람직한 일 측면에 따르면, 상기 광학 코팅층 형성 단계 이후에 그 표면 상에 중도증착층이 더 형성될 수 있다. 이 중도증착층은 내염수성, 내마모성, 내스크래치성 등을 보강하고, 추가로 형성가능한 상도증착층의 기능을 보조하는 역할을 한다.
중도증착층은 광학 코팅층의 표면특성 및 멀티층 설계에 따라 진공증착 공정 중에 플라즈마 보조 증착방식(이온어시스트)으로 10Å 내지 1000Å의 두께로 증착 하여 박막증착층의 취약한 내스크래치성, 내염수성 등을 강화할 수 있다.
바람직하게는, 상기 중도증착층을 형성하게 되는 코팅제로는 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지는 탄소계 화합물이 사용되며, 그 분자량은 100 내지 10,000일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 일 측면에 따르면, 상기 중도증착층 형성 단계 이후에 그 표면 상에 상도증착층이 더 형성될 수 있다. 이 상도증착층은 내염수, 내마모성, 내스크래치성 등의 신뢰성 보강은 물론 내오염성(내지문성) 및 오염제거용이성(easy cleaning)을 부여하여 광학 코팅층을 보호하는 역할을 한다.
상도증착층은 중도증착층의 표면특성 및 멀티층 설계에 따라 진공증착 공정 중에 플라즈마 보조 증착방식(이온어시스트)으로 10Å 내지 1000Å의 두께로 증착할 수 있다.
바람직하게는, 상기 상도증착층을 형성하게 되는 코팅제로는 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지는 불화탄소계 화합물이 사용되며, 그 분자량은 100 내지 10,000일 수 있으나 이에 제한되는 것은 아니다.
본 발명에 있어서, 바람직하게는 한국특허출원 10-2007-0075000호에 개시된 바와 같은 기구물을 이용하여 전자빔, 저항가열 장치, 스퍼터링 장치 또는 이온플레이팅 장치에 의하여 각 층을 형성하기 위한 코팅제를 증착시킨다.
또한 본 발명에 있어서 바람직하게는, 다층 구조의 형성이 진공증착기 내에 서 연속적으로 진행된다.
각 층을 형성하기 위한 코팅제는 보관성 및 안정성을 위하여 바람직하게는 물, 메탄올, 에탄올, 아세톤 아세틸아세톤, 글리콜, 케톤 등의 용제를 포함한다.
이하 구체적인 예를 중심으로 본 발명의 진공증착 다층박막의 제조방법을 단계별로 상세히 설명한다.
본 발명의 진공증착 다층박막의 제조방법의 일 구체예는 도 1에 나타낸 바와 같다. 도 1에 나타낸 공정도에 따르면 모재, 즉 제품을 진공증착기 내에 장착하고 탈착하는 사이에 일어나는 모든 코팅 작업은 진공증착기 내에서 건식공정을 통해 이루어지는 것을 특징으로 한다.
1. 장착단계
휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 네비게이션, 노트북 등의 휴대용 전자제품 디스플레이 제품 등의 케이스, 윈도우, 윈도우일체형 케이스, 키패드, 키패드일체형 윈도우, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등의 모재(substrate)(또는 제품)(10)를 진공증착기에 장착한다. 이 때 다양한 형태의 모재에 맞도록 설계된 치구에 결착하여 진공증착 공정 도중 모재가 탈락되는 것을 방지한다.
2. 진공단계
진공증착기 내에 모재의 장착이 이루어지면 금속 및 금속산화물을 이용하여 진공증착 코팅을 수행하기 위해서 진공증착기의 내부를 1.0×10-6 ~ 1.0×10-3 torr 의 고진공 상태, 바람직하게는 5.0×10-5 torr 이하의 고진공 상태를 유지한다. 장착된 모재(10)의 재질에 따라 20~300℃로 증착기의 내부온도를 설정한다.
3.
하도증착단계
적당한 고진공 상태에 이른 후, 이온빔 장치를 이용하여 아르곤(Ar), 질소(N2) 및 산소(O2)가스를 흘려주면서 고전압 방전을 시키면 해당 가스의 플라즈마가 발생하게 된다. 고에너지를 갖는 이 플라즈마 가스를 장착된 모재의 표면상태에 따라서 10초 내지 1,000초 동안 인가하여 장착된 모재(10) 표면을 활성화(플라즈마 에칭)시킨다.
활성화된 모재(10) 표면에 하도증착층(20)을 형성한다. 하도증착층을 형성하기 위하여 한국특허출원 10-2007-0075000호에 개시된 바와 같은 기구물을 이용할 수 있다. 이 기구물 내에 하도코팅제를 장입하고, 이를 다시 진공증착기 내의 전자빔을 이용한 증발 포트 내지 저항가열식 증발포트에 장입하고, 증발포트에 장입된 기구물을 전자빔 내지 저항가열보트를 이용하여 가열시켜 기구물 내부에 장입된 코팅제를 증발시켜 하도 증착층을 형성시킨다.
전자빔 가열방식인 경우 진공증착기의 제어장치 중 하나인 IC-5(INFICON)를 이용하여 코팅의 전과정을 자동화할 수 있으며, 전자빔의 파워 값은 1.5% 내지 8.0% 사이의 값에서 제어하며, 바람직하게는 2.0% 내지 4.0%가 적절하다.
이렇게 형성되는 하도증착층은 10Å 내지 1,000Å(0.001㎛ 내지 0.1㎛)의 두께를 가지며, 바람직하게는 100Å(0.01㎛, 10nm)전후로 형성되는 것이 가장 적절하 다. 여기에 앞서 설명한 플라즈마 에칭을 0 내지 300초 동안 인가하면 하도증착층을 안정화시킬 수 있다.
모재의 표면에 형성되는 코팅은 표면에너지와 관련이 있으며, 그 밀착력의 크기는 도 3에서 보는 바와 같이 모재 표면에 물방울을 떨어뜨려 모재와 물방울 사이에 생성된 접촉각을 측정하는 것에 의해 가늠할 수 있다. 접촉각이 작을수록 밀착력이 강하다.
플라스틱 인몰드 사출 제품의 경우 코팅전 상태(도 5)의 제품 표면의 접촉각은 74.3°였으나, 진공증착기 내에서 이 제품 표면에 하도증착층(20)을 형성시킨 후의 접촉각은 32.2°로 낮아졌고(도 6), 표면에너지는 하도증착 전후에 33.02mN/m에서 47.98mN/m로 높아졌다. 즉, 하도증착에 의하여 밀착력이 강화된 것이다.
표 1과 표 2는 각각 다양한 재질의 제품표면에 대한 하도증착층 형성전후의 표면접촉각 및 표면에너지 변화를 나타낸 것이다.
4.
멀티증착단계
(광학 코팅층 형성단계)
모재에 미려하고 고급스러운 광학적 디자인을 제공하고, 다양한 컬러를 나타내면서 거울상 또는 반거울상의 효과 및 반사방지 효과를 나타내고자 하도증착층 상에 광학 코팅층(30)을 형성한다.
광학 코팅층(30)은 진공증착기 내에서 전자빔 내지 저항가열 장치를 이용하여 SUS, 니켈(Ni), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 주석(Sn), 인듐(In)-주석(Sn) 등의 금속; 산화규소(SiO2), 산화티탄(TiO2), 산화알루미늄(Al2O3), 산화지르코늄(ZrO2), 산화인듐티탄(InxTiyO2,ITO), 산화바륨티탄(BaTiO3), 산화마그네슘(MgO) 등의 금속 산화물; SiN, TiN 등의 금속 질화물; 및/또는 MgF2 등의 금속 불화물을 단일층으로 또는 서로 교대로 증착하여 멀티층으로 하는 것에 의해 형성된다.
5.
중도증착단계
상기 광학 코팅층(30)은 금속, 금속 산화물, 금속 질화물 또는 금속 불화물로부터 형성되기 때문에 다양한 표면특성을 갖게 되며 무기물의 특성상 특히 수분 및 오염 등에 취약하다.
따라서 다양한 환경에 대해 안정적인 표면을 제공하고 상이한 표면상태에 따라 진공증착 박막의 내마모성 및 환경신뢰성에 대한 내성을 강화하기 위하여 100Å 전후 두께의 중도증착층(40)을 광학 코팅층(30) 상에 제공하는 것이 바람직하다.
또한, 중도증착층(40)은 광학 코팅층의 멀티층 설계에 따라 진공증착 공정 중 플라즈마 보조 증착방식(이온어시스트)으로 증착하여 경질막 특성을 발현시켜 박막 증착층의 취약한 내스크래치성, 내염수성 등을 강화할 수도 있다.
하도증착층과 마찬가지로, 중도증착층을 형성하기 위하여 한국특허출원 10-2007-0075000호에 개시된 바와 같은 기구물을 이용할 수 있다. 이 기구물 내에 중도코팅제를 장입하고, 이를 다시 진공증착기 내의 전자빔을 이용한 증발 포트 내지 저항가열식 증발포트에 장입하고, 증발포트에 장입된 기구물을 전자빔 내지 저항가열보트를 이용하여 가열시켜 기구물 내부에 장입된 코팅제를 증발시켜 중도증착층을 형성시킨다.
이렇게 형성되는 중도증착층은 10Å 내지 1,000Å(0.001㎛ 내지 0.1㎛)의 두께를 가지며, 바람직하게는 100Å(0.01㎛, 10nm)전후로 형성되는 것이 가장 적절하다. 여기에 앞서 설명한 플라즈마 에칭을 0 내지 300초 동안 인가하면 중도증착층을 안정화시킬 수 있다.
6.
상도증착단계
상기한 바와 같이 광학 코팅층(30)은 다양한 표면특성을 갖게 되며 무기물의 특성상 특히 수분 및 오염 등에 취약하기 때문에 상도증착층(50)을, 중도증착층(40)을 개재하여 또는 직접적으로 광학 코팅층(30) 상에 제공하는 것이 바람직하다.
상도 증착층(50)은 하도 및 중도증착층과 유사한 방법으로 형성될 수 있으며, 코팅두께를 제어하지 않고 100Å 내지 1000Å의 두께를 갖도록 한다.
상도증착단계를 이용하여 형성된 코팅박막은 표면에너지가 매우 낮고, 낮은 마찰계수의 특성을 지니며, 이로 인해 표면이 매우 미끄러운 특성을 얻을 수 있어 지문 및 오염물질 등에 의한 오염원의 부착을 현저히 줄일 수 있으며, 지문 및 오염물질이 부착되더라도 쉽게 제거가 가능한 뛰어난 이지클리닝(easy cleaning) 기능을 가질 수 있다. 또한 이와 동시에 발수 및 발유성, 내긁힘성, 내구성 등의 특성을 얻을 수 있어 제품의 내측은 물론 외측코팅제품의 신뢰성시험 등에도 안정된 진공증착 코팅막을 형성시킬 수 있다.
도 3에서 보는 바와 같이 표면의 접촉각이 높을수록 밀착 및 부착력이 나빠지나, 이는 오염물의 부착의 관점에서는 오염에 대한 내성이 강해짐을 의미한다. 상기와 같이 처리된 상도증착층을 갖는 코팅표면을 도 7에 나타내었다. 표 3과 4에 상도증착층을 형성시켰을 때의 접촉각 및 표면에너지를 나타내었다.
7. 배기(진공파기)
건식공정을 이용한 상기 진공증착 다층박막의 제조가 완료되면 진공증착기 내부의 진공상태를 파기한다.
8.
탈착단계
진공증착기의 진공상태가 파기된 후에 진공증착기로부터 다층박막코팅이 완료된 제품을 꺼낸다.
이상 본 발명의 일 구체예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하였으나, 상기의 구체예에 의하여 본 발명의 범위가 한정되는 것은 결코 아니다.
본 발명은 휴대폰, MP3플레이어, 휴대형 멀티미디어플레이어(PMP), 디지털 멀티미디어 방송(DMB) 수신기, 차량용 네비게이션 시스템, 노트북 등의 휴대용 전자제품 및 디스플레이제품은 물론 냉장고, 에어컨, TV등 일반 가전제품에 사용되는 디스플레이 및 각종 액세서리부품의 케이스, 윈도우, 윈도우일체형 케이스, 키패드, 키패드일체형 윈도우, 기능키 부품 및 다양한 액세서리 등에 적용할 수 있다.
도 1은 본 발명의 진공증착 다층박막 제조방법의 일 구체예의 공정도이고,
도 2는 본 발명의 일 구체예에 따라 제조된 진공증착 다층박막의 구성 개략도이고,
도 3은 밀착력과 표면 접촉각과의 관계를 나타낸 도면이고,
도 4는 종래의 습식코팅 공정으로 형성된 하도 및 상도코팅막 두께와 본 발명의 진공증착공정으로 형성된 하도 및 상도코팅막 두께를 비교한 도면이고,
도 5는 플라스틱 인몰드 사출 제품 표면의 접촉각을 나타낸 사진이고,
도 6은 본 발명의 일 구체예에 따른 진공증착박막 제조시 하도증착코팅 후 표면의 접촉각을 나타낸 사진이고,
도 7은 본 발명의 일 구체예에 따른 진공증착박막 제조시 상도증착 코팅완료 후 표면의 접촉각을 나타낸 사진이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10 : 모재
20 : 하도증착층
30 : 광학 코팅층
40 : 중도증착층
50 : 상도증착층
60 : 종래의 습식공정에 의한 코팅층
70 : 본 발명의 건식공정에 의한 진공증착 박막코팅층
Claims (20)
- 모재와 광학 코팅층 간의 밀착력 부여를 위한 하도증착층을 모재 상에 형성하는 단계;상기 하도증착층 상에 광학 코팅층을 형성하는 단계; 및상기 광학 코팅층 상에 중도증착층, 또는 상도증착층, 또는 중도증착층 및 상도증착층을 형성하는 단계;를 포함하고,다층박막의 형성이 단일 진공증착실 내에서 건식 진공증착을 이용하여 연속적으로 수행되며,상기 하도증착층의 두께가 10Å 내지 1000Å이고,상기 광학 코팅층의 두께가 10Å 내지 1000Å이며,상기 중도증착층의 두께가 10Å 내지 1000Å이고,상기 상도증착층의 두께가 10Å 내지 1000Å이며,상기 하도증착층은, 건식 진공증착의 수행 이전에 미리, 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지며 분자량이 100 내지 10,000인 탄소계 화합물을 하도증착층 형성용 기구물 내에 장입하고, 이를 다시 상기 진공증착실 내의 전자빔을 이용한 증발포트 내지 저항가열식 증발포트에 장입한 후, 건식 진공증착을 수행하는 동안 증발포트에 장입된 기구물을 전자빔 내지 저항가열보트를 이용하여 가열시켜 기구물 내부에 장입된 화합물을 증발시킴으로써 형성되고,상기 광학 코팅층은, 건식 진공증착의 수행 이전에 미리, 금속; 금속 산화물; 금속 질화물; 및 금속 불화물 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 물질을 상기 진공증착실 내에 장입한 후, 건식 진공증착을 수행하는 동안 전자빔 내지 저항가열 장치를 이용하여 증발시킴으로써 형성되며,상기 중도증착층은, 건식 진공증착의 수행 이전에 미리, 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지며 분자량이 100 내지 10,000인 탄소계 화합물을 중도증착층 형성용 기구물 내에 장입하고, 이를 다시 상기 진공증착실 내의 전자빔을 이용한 증발포트 내지 저항가열식 증발포트에 장입한 후, 건식 진공증착을 수행하는 동안 증발포트에 장입된 기구물을 전자빔 내지 저항가열보트를 이용하여 가열시켜 기구물 내부에 장입된 화합물을 증발시킴으로써 형성되고,상기 상도증착층은, 건식 진공증착의 수행 이전에 미리, 카르복시기, 인산기, 실란기, 아민기 수산기, 알데히드기, 케톤기, 에테르기 및 케탈기로부터 선택되는 작용기를 하나 이상 가지며 분자량이 100 내지 10,000인 불화탄소계 화합물을 상도증착층 형성용 기구물 내에 장입하고, 이를 다시 상기 진공증착실 내의 전자빔을 이용한 증발포트 내지 저항가열식 증발포트에 장입한 후, 건식 진공증착을 수행하는 동안 증발포트에 장입된 기구물을 전자빔 내지 저항가열보트를 이용하여 가열시켜 기구물 내부에 장입된 화합물을 증발시킴으로써 형성되는,다층박막의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 모재는 휴대용 전자제품, 디스플레이 제품 또는 일반 가전제품의 케이스, 윈도우, 윈도우일체형 케이스, 키패드, 키패드일체형 윈도우, 기능키 부품 또는 액세서리 부품인 것을 특징으로 하는 다층박막의 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 모재의 재질이 금속, 유리, 아크릴, 폴리카보네이트, PMMA, PET, ABS 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 다층박막의 제조방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR20070077906 | 2007-08-02 | ||
| KR1020070077906 | 2007-08-02 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160059998A Division KR20160064051A (ko) | 2007-08-02 | 2016-05-17 | 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20090013719A KR20090013719A (ko) | 2009-02-05 |
| KR101824017B1 true KR101824017B1 (ko) | 2018-02-01 |
Family
ID=40305064
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020080075295A KR101824017B1 (ko) | 2007-08-02 | 2008-07-31 | 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 |
| KR1020160059998A KR20160064051A (ko) | 2007-08-02 | 2016-05-17 | 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020160059998A KR20160064051A (ko) | 2007-08-02 | 2016-05-17 | 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2010535286A (ko) |
| KR (2) | KR101824017B1 (ko) |
| CN (1) | CN101784692B (ko) |
| HK (1) | HK1145192A1 (ko) |
| WO (1) | WO2009017376A2 (ko) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220008623A (ko) | 2020-07-14 | 2022-01-21 | 주식회사 동남티에스 | 금속증착층에 의한 장식패턴의 형성 방법 및 그 방법에 의한 장식패턴을 포함한 플라스틱 장식부재 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101246022B1 (ko) * | 2010-08-19 | 2013-04-02 | (주)에스아이티 | 반사 방지용 윈도우 패널의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 반사 방지용 윈도우 패널 |
| EP2616404B1 (en) | 2010-09-14 | 2019-07-10 | Corning Incorporated | Appliance fascia and mounting therefore |
| KR101690091B1 (ko) * | 2015-04-16 | 2016-12-27 | 주식회사 쎄코 | 진공증착용 항균성 프라이머 코팅제 및 이를 이용한 다중코팅 방법 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100514953B1 (ko) * | 2003-03-05 | 2005-09-14 | 주식회사 피앤아이 | 전자기기용 플라스틱 하우징 제조방법 |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03273201A (ja) * | 1990-03-23 | 1991-12-04 | Asahi Optical Co Ltd | 表面高反射鏡 |
| JP2748066B2 (ja) * | 1992-04-23 | 1998-05-06 | 富士写真光機株式会社 | 反射鏡 |
| JP3352172B2 (ja) * | 1993-08-30 | 2002-12-03 | キヤノン株式会社 | プラスチック製光学部品の光学薄膜およびその成膜方法 |
| JP2000108262A (ja) * | 1998-10-09 | 2000-04-18 | Toray Ind Inc | 金属蒸着用ポリプロピレンフィルム及び金属蒸着ポリプロピレンフィルム |
| US6958748B1 (en) * | 1999-04-20 | 2005-10-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Transparent board with conductive multi-layer antireflection films, transparent touch panel using this transparent board with multi-layer antireflection films, and electronic equipment with this transparent touch panel |
| JP2000328231A (ja) * | 1999-05-20 | 2000-11-28 | Toray Ind Inc | 有機系蒸着物質による成膜方法 |
| JP4482971B2 (ja) * | 1999-09-08 | 2010-06-16 | 株式会社ニコン | 反射鏡 |
| JP3415801B2 (ja) * | 2000-02-21 | 2003-06-09 | 三容真空工業株式会社 | 有機系被膜の蒸着方法とその装置 |
| JP4023065B2 (ja) * | 2000-03-23 | 2007-12-19 | 凸版印刷株式会社 | 反射防止部材 |
| JP2003201596A (ja) * | 2002-01-10 | 2003-07-18 | Nitto Denko Corp | 金属層の形成方法および金属箔積層体 |
| JP2003255133A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Yazaki Corp | コンバイナおよびその製造方法並びに車両用表示装置 |
| KR20030073733A (ko) * | 2002-03-13 | 2003-09-19 | 주식회사 뮤렉스테크놀로지 | 플라스틱 모재의 금속박막 형성 장치 및 방법 |
| JP2005169995A (ja) * | 2003-12-15 | 2005-06-30 | Dainippon Printing Co Ltd | ガスバリア性シートおよび接着性改善シート |
| JP4888990B2 (ja) * | 2004-10-26 | 2012-02-29 | 尾池工業株式会社 | バックライト装置用反射体 |
| JP3756171B1 (ja) * | 2004-10-28 | 2006-03-15 | 尾池工業株式会社 | 酸化防止層を備えた金属蒸着フィルムの製造方法及び酸化防止層を備えた金属蒸着フィルム |
-
2008
- 2008-07-31 JP JP2010519154A patent/JP2010535286A/ja active Pending
- 2008-07-31 WO PCT/KR2008/004470 patent/WO2009017376A2/en active Application Filing
- 2008-07-31 CN CN2008801016616A patent/CN101784692B/zh active Active
- 2008-07-31 KR KR1020080075295A patent/KR101824017B1/ko active IP Right Grant
-
2010
- 2010-12-15 HK HK10111725.7A patent/HK1145192A1/xx unknown
-
2016
- 2016-05-17 KR KR1020160059998A patent/KR20160064051A/ko not_active Application Discontinuation
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100514953B1 (ko) * | 2003-03-05 | 2005-09-14 | 주식회사 피앤아이 | 전자기기용 플라스틱 하우징 제조방법 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220008623A (ko) | 2020-07-14 | 2022-01-21 | 주식회사 동남티에스 | 금속증착층에 의한 장식패턴의 형성 방법 및 그 방법에 의한 장식패턴을 포함한 플라스틱 장식부재 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2009017376A2 (en) | 2009-02-05 |
| KR20160064051A (ko) | 2016-06-07 |
| WO2009017376A3 (en) | 2009-04-16 |
| JP2010535286A (ja) | 2010-11-18 |
| HK1145192A1 (en) | 2011-04-08 |
| CN101784692B (zh) | 2013-03-20 |
| KR20090013719A (ko) | 2009-02-05 |
| CN101784692A (zh) | 2010-07-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR20160064051A (ko) | 건식 진공증착을 이용한 다층박막의 제조방법 | |
| US8802236B2 (en) | Durable transparent intelligent coatings for polymeric transparencies | |
| US8673429B2 (en) | Transparent conductive film, transparent conductive laminate, touch panel, and method for producing transparent conductive film | |
| US8530041B2 (en) | Transparent conductive film and touch panel | |
| CN107209600B (zh) | 触摸面板用导电性层叠体及触摸面板用导电性层叠体的制造方法 | |
| JP2002192646A (ja) | ガスバリアフィルム | |
| CN1836878A (zh) | 模内装饰射出方法 | |
| KR102212028B1 (ko) | 내장된 pvd 층으로 코팅된 플라스틱 소재 부품 | |
| JP2003340971A (ja) | ガスバリア性プラスチックフィルム | |
| Lin et al. | Characterization of the silicon oxide thin films deposited on polyethylene terephthalate substrates by radio frequency reactive magnetron sputtering | |
| JP2004082598A (ja) | ガスバリア性積層材及びその製造方法 | |
| TW201018738A (en) | Multilayer composite plating film, manufacturing method and substrate having the same | |
| CN104419896A (zh) | 用于制造金属膜的方法 | |
| KR20100105913A (ko) | 램프 반사판의 표면 코팅방법 | |
| TW201947053A (zh) | 提高抗汙膜之附著力的方法 | |
| JP7319078B2 (ja) | 電磁波透過性金属光沢物品 | |
| KR20180019916A (ko) | 패턴 마스크를 이용한 진공증착 코팅방법 | |
| JP5693875B2 (ja) | 車両用ドアハンドル | |
| JP6736104B1 (ja) | 絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法及びスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品 | |
| JP5459908B2 (ja) | 車両用ドアハンドルにおける樹脂製ドアハンドル外観部品の製造方法、及び樹脂製ドアハンドル外観部品 | |
| JP6736105B1 (ja) | 絶縁性クロムスパッタリングによる電波透過性成膜方法及びスマートエントリー解錠・施錠構造用樹脂成形品 | |
| US20170167009A1 (en) | Bilayer chromium nitride coated articles and related methods | |
| KR20180098512A (ko) | 패턴 마스크를 이용한 진공증착 코팅방법 | |
| Liu et al. | Gas permeation properties of silicon oxynitride thin films deposited on polyether sulfone by radio frequency magnetron reactive sputtering in various N2 contents in atmosphere | |
| JPH11258407A (ja) | 反射防止フイルム |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A201 | Request for examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E90F | Notification of reason for final refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| A107 | Divisional application of patent | ||
| AMND | Amendment | ||
| B601 | Maintenance of original decision after re-examination before a trial | ||
| J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2016101002252; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20160418 Effective date: 20171228 |
|
| S901 | Examination by remand of revocation | ||
| GRNO | Decision to grant (after opposition) | ||
| GRNT | Written decision to grant |