KR101812759B1 - 지멘스 반응기용 가스 분배 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 서로 기밀하게 연결되는 두 개 이상의 세그먼트, 하나 이상의 가스 유입구 및 하나 이상의 가스 유출구를 포함하는, 가스가 수송될 수 있는 가스 분배 장치에 관한 것으로, 상기 가스 분배 장치는 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기의 베이스 플레이트 상에 장착될 수 있고, 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유출구는 상기 반응기의 가스 유입구와 소통하도록 연결되고, 및/또는 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유입구는 상기 반응기의 가스 유출구와 소통하도록 연결된다.
Description
본 발명은 다결정질 실리콘 증착을 위한 지멘스(Siemens) 반응기용 가스 분배 장치, 특히 공급 가스 분배 장치 및 오프 가스 수집 장치에 관한 것이다.
고순도 다결정질 실리콘(폴리실리콘)은 초크랄스키법(CZ) 또는 대역 용융법에 의하여 반도체용 단결정 실리콘을 제조하기 위한 출발 물질로서, 및 다양한 인발 및 주조법에 의하여 광전변환소자용 태양 전지 제조를 위한 단결정 또는 다결정질 실리콘을 제조하기 위한 출발 물질로서 사용된다.
폴리실리콘은 대개 지멘스(Siemmens) 공정에 의하여 생산된다. 이러한 공정에서, 하나 이상의 실리콘-함유 성분 및 임의로 수소를 포함하는 반응 가스가 전류의 직접 통과에 의하여 가열된 기판을 포함하는 반응기 내로 도입되고, 여기서 실리콘은 상기 기판 상에 고체 형태로 증착된다. 바람직하게는 사용되는 실리콘-함유 성분은 실란(SiH4), 모노클로로실란 (SiH3Cl), 디클로로실란 (SiH2Cl2), 트리클로로시Ftrichloro란 (SiHCl3), 테트라클로로실란 (SiCl4), 또는 이들 물질들의 혼합물이다.
상기 지멘스 공정은 대개 증착 반응기 ("지멘스 반응기"로도 명명됨) 내에서 수행된다. 가장 통상적인 예에서, 상기 반응기는 금속 베이스 플레이트, 벨 내부에 반응 공간이 형성되도록 상기 베이스 플레이트 상에 위치한 냉각가능한 벨을 포함한다. 상기 베이스 플레이트는 하나 이상의 가스 유입구 및 떠나는 반응 가스를 위한 하나 이상의 오프 가스 오프닝, 및 기판이 상기 반응 공간 내에 수용되도록 하는 홀더를 구비하고, 전력이 공급된다.
각각의 기판은 대개 두 개의 얇은 필라멘트 로드, 및 인접한 로드를 그들의 자유 말단에서 일반적으로 결합하는 브릿지로 구성된다. 가장 흔하게, 상기 필라멘트 로드는 단결정 또는 다결정질 실리콘으로 이루어지고; 더 드물게, 금속 또는 합금 또는 탄소가 사용된다. 상기 필라멘트 로드는 반응기 베이스 상에 위치하는 전극 내로 수직으로 플러그되고, 상기 전극을 통하여 전력 공급에 대한 연결이 이루어진다. 가열된 필라멘트 로드 및 수평 브릿지 상에, 고순도 폴리실리콘이 증착되고, 그 결과 그 직경이 시간 경과에 따라 증가한다. 원하는 직경들 달성한 후, 상기 공정이 종결된다.
폴리실리콘을 생산하기 위하여, 베이스 플레이트라 명명되는 그 하부에 반응 가스가 노즐을 통하여 주입되는 통상적인 증착 반응기가 사용된다. 그러나, 노즐에 의한 반응기 상부에 반응 가스의 도입 또한 가능하다.
마찬가지로, 형성되는 오프 가스는 반응기 베이스 내 하나 이상의 오프닝을 통하여 반응기로부터 통상적으로 제거되나, 반응기 후드를 통하여도 제거된다.
공급 가스의 균일한 분배가 로드 상의 균일한 증착을 위하여 중요하므로, 가스는 대개 복수의 노즐을 통하여 공급된다.
이러한 공급 가스의 분배는 각각의 공급 가스 노즐에 대한 직접적인 연결부를 각각 가지는 복수의 공급 가스 라인에 의하여, 또는 가스 분배 장치, 예를 들어, 각각의 공급 가스 노즐에 대한 복수의 연결부를 가지는, 반응기 근처의, 주로 반응기 베이스 플레이트 아래의 고리형 또는 다른 형태의 가스 분배 장치를 통하여 실행될 수 있다.
종래 기술에, 몇몇 상응하는 해결책이 공지되어 있다.
US 2011/0058988 A1은 반응기 내부로의 실리콘-함유 가스 공급을 형성하는, 각각 하나의 노즐 유입구를 가지고 각각 노즐 유출구를 가지는, 복수의 노즐을 가지는 반응기 베이스를 가지고, 반응기 베이스의 외부 표면과 함께, 그것이 소통하는 노즐의 적어도 일부 상으로 실리콘-함유 가스의 분배를 형성하는 공동을 정의하도록 하나의 벽이 형성되고, 상기 벽은 반응기 베이스의 외부 표면과 공동의 하나 이상의 접촉 표면이 반응기 베이스의 외부 표면의 소구역으로 한정되는 것을 특징으로 하는, 다결정질 실리콘 제조를 위한 반응기를 기재하고 있다.
US 2011/0058988 A1은 다결정질 실리콘 제조를 위한 반응기를 제공함을 목적으로 하며, 상기 반응기의 반응기 베이스는 반응기 베이스 내 노즐 상으로 실리콘-함유 가스의 분배가 공간-절약적이고, 신뢰할 수 있고, 저비용이며, 상기 반응기 베이스 외부의 추가적인 장치, 예를 들어 전극 또는 냉각제 연결부에 대한 용이한 접근성이 허용되는 방식으로 구성된다.
US 2011/0305604 A1은 실리콘-함유 가스가 유입되는 복수의 노즐이 형성된 반응기 베이스, 반응기 베이스 상에 장착된 복수의 필라멘트 로드, 및 사용된 모노실란을 강화 및/또는 재처리를 위하여 공급하기 위한 노즐로부터 떨어진 가스 유출구를 가지는, 모노실란 공정에 의한 다결정질 실리콘의 제조를 위한 반응기를 기재하고 있으며, 상기 가스 유출구는 내부 튜브의 자유 말단 상에 형성되고, 상기 내부 튜브는 상기 반응기 베이스를 통하여 가이드되고, 상기 내부 튜브는 외벽 및 내벽을 가져 하나 이상의 냉각수 회로가 가이드되는 매개 공간을 형성하는 것을 특징으로 한다. US 2011/0305604 A1은 다결정질 실리콘의 신뢰할 수 있는 제조가 보증되도록 사용된 실리콘-함유 가스 (모노실란: SiH4)의 제거가 고안되는 방식으로, 다결정질 실리콘을 제조하기 위한 반응기를 고안하는 것을 목적으로 한다.
바람직한 구현예에서, 상기 반응기 및 반응기 베이스는 내벽 및 외벽을 포함하는 자켓으로서 구성되며, 냉각수가 상기 자켓 내에 위치한다.
이러한 경우, 상기 반응기 베이스는 노즐을 가지는 중간 플레이트의 반응기 내부를 향하는 플레이트에 의하여 형성되는 제1 영역, 및 상기 중간 플레이트 및 필라멘트에 대한 공급 연결부를 가지는 베이스 플레이트에 의하여 형성되는 제2 영역을 포함한다.
상기 반응기는 반응 가수 공급을 위한 복수의 노즐을 가진다. 중간 플레이트를 통하여, 상기 반응기 베이스는 두 개의 영역으로 구분된다. 상기 노즐은 중간 플레이트와 반응기 내부 사이의 원통형 연결부로서 구성된다. 따라서, 상기 중간 플레이트 아래 영역은 가스 분배 장치로서 작용한다.
US 4805556 A는 반응기로부터 오프 가스를 재처리하고 적어도 부분적으로 이를 반응기로 되돌리는, 실란의 열분해에 한 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기를 기재한다. 이를 위하여, 분배 장치 단편의 고리형 분배 장치 그리드 및 그 수가 필라멘트에 상응하는 복수의 분배 장치 고리가 제공된다.
바람직한 구현예에서, 상기 분배 장치 그리드는 두 개의 분배 장치 단편을 포함하고, 제1 분배 장치 단편은 재처리된 오프 가스에 대한 튜브에 연결되고, 제2 분배 장치 단편은 분배 장치 고리에 연결되며, 상기 두 개의 분배 장치 단편들은 하나 이상의 공급 라인에 의하여 연결된다. 각각의 분배 장치 고리는 대칭 배열되는 복수의 노즐 오프닝을 포함한다. 상기 분배 장치 고리들은 각각의 경우 재처리된 오프 가스가 필라멘트-운반 전극을 향하도록 배치된다.
공급 가스 및 오프 가스는 수분에 민감하고, 공기 또는 산소와 혼합시 폭발성 가스 혼합물의 형성이 일어날 수 있으므로, 공급 가스 라인 및 오프 가스 라인 또는 분배 장치는 반응기 베이스에 단단히 용접되어야 한다, US 2011/0058988 A1 참조. 이는 반응 가스의 유출을 방지하고 일부 유지 작업을 단순화한다 (예를 들어, 실의 모니터링 또는 교환이 불필요함).
증착 공정을 통하여, 성장하는 실리콘 로드 내에 크랙이 형성될 수 있다. 그 결과, 다양한 크기의 실리콘 단편들이 공급 가스 오프닝 및 오프 가스 오프닝 내로 떨어져 가스 라인 또는 가스 분배 장치를 블록킹할 수 있다
최악의 경우, 매우 큰 실리콘 조각이 유입구 및 유출구 내로 떨어져 모든 로드가 붕괴될 수 있다.
공급 가스의 경우, 그러한 폐색은 공급 가스의 불균일한 분배 또는 부정확한 주입을 초래하며, 오프 가스의 경우 폐색은 바람직하지 않은 반응기 압력 상승을 야기할 수 있다.
이러한 이유로, 실리콘 단편들은 아무리 늦어도 다음 배치 전에 제거되어야 한다.
반응기 베이스에 단단히 연결된, 즉 예를 들어 커팅을 통해서만 반응기 베이스로부터 분리될 수 있는 가스 분배 장치의 경우, 사실상 반응기 내 가스 오프닝을 통한 배치 교환에서 실리콘 단편을 제거할 한가지 가능성만이 있다.
실리콘 단편은 대개 상당한 노력 (예를 들어, 수동으로 또는 파지 공구, 진공 클리너를 이용하여)에 의해서만 제거될 수 있다. 이러한 절차는 노력을 요하며 시간 소모가 크고 (즉, 상대적으로 긴 셋업 시간), 매우 큰 단편은 때때로 파지 도구에 비하여 지나치게 크고 진공 클리너를 이용한 흡입에 의하여 제거될 수 없으므로 항상 성공적이지는 않다.
공급 가스 또는 오프 가스 유출 라인을 통하여 탈착가능한 연결부 (예를 들어, 플랜지)의 보조하에 반응기에 고정된 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치에서, 공급 가스 또는 오프 가스 라인은 사실상 분리될 수 있으나, 대부분의 실리콘 단편이 발견되는 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치 자체는 개방될 수 없다. 나아가, 반응기 베이스 아래 부가적인 파이핑 및 전기적 연결은 가스 분배 장치 및/또는 오프 가스 수집 장치에의 단순한 접근을 방지한다.
본 발명의 목적은 이러한 문제들을 극복하기 위한 것이다.
본 발명의 목적은 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 서로 기밀하게 연결되는 두 개 이상의 세그먼트, 하나 이상의 가스 유입구 및 하나 이상의 가스 유출구를 포함하는, 가스가 수송될 수 있는 가스 분배 장치로서, 상기 가스 분배 장치는 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기에 장착될 수 있고, 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유출구는 상기 반응기의 하나의 가스 유입구에 소통가능하게(communicatingly) 연결되고, 및/또는 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유입구는 상기 반응기의 하나의 가스 유출구에 소통가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 분배 장치에 의하여 달성된다.
바람직하게는, 상기 가스 분배 장치는 반응물 가스 (실란)을 반응기 내로 도입시키기에 적합한 공급 가스 분배 장치이다. 이 경우, 상기 하나 이상의 가스 유입구는 반응물 가스의 가스 분배 장치 내로 공급을 위하여 제공되며, 이를 위하여 반응물 가스 공급 라인에 연결된다. 상기 하나 이상의 가스 출구는 이 경우 반응물 가스를 반응기 노즐로 공급하는 작용을 하며, 이를 위하여 반응기의 가스 유입구에 소통가능하게 연결된다. 반응기가 예를 들어 세 개의 가스 유입구를 가지는 경우, 공급 가스 분배 장치 또한 세 개의 가스 유출구를 가지며, 그 각각은 반응기의 가스 유입구들 중 하나에 소통가능하게 연결된다.
그러나, 복수의 가스 유입구에 대하여 복수의 공급 가스 분배 장치들이 사용될 가능성 또한 있다. 또한, 가스 유입구를 임의의 원하는 적합한 수의 공급 가스 분배 장치 및 임의의 원하는 적합한 공급 가스 공급 라인과 조합시킬 수 있다.
상기 목적은 또한 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 서로 기밀하게 연결되는 두 개 이상의 세그먼트, 하나 이상의 가스 유입구 및 하나 이상의 가스 유출구를 포함하는, 가스가 수송될 수 있는 가스 분배 장치로서, 상기 가스 분배 장치는 용이하게 탈착가능한 고정 수단에 의하여 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기에 장착될 수 있고, 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유입구는 상기 반응기로부터 오프 가스의 공급을 위하여 제공되고 상기 반응기의 하나 이상의 오프 가스 오프닝에 연결되고, 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유출구는 상기 가스 분배 장치로부터 상기 오프 가스를 제거하는 작용을 하는 것을 특징으로 하는 가스 분배 장치에 의하여 달성된다.
이 경우, 상기 가스 분배 장치의 하나 이상의 가스 유입구는 반응기로부터 오프 가스를 공급하기 위하여 제공되며, 이를 위하여 반응기의 가스 유출구 (오프 가스 오프닝)에 소통가능하게 연결된다. 반응기가 예를 들어 세 개의 오프 가스 오프닝을 가질 경우, 오프 가스 수집 장치 또한 세 개의 가스 유입구를 가지며, 그들 각각은 반응기의 오프 가스 오프닝들 중 하나에 소통가능하게 연결된다. 상기 오프 가스 수집 장치의 하나 이상의 가스 유출구는 오프 가스 수집 장치로부터 오프 가스를 제거하는 작용을 한다. 그러나, 복수의 오프 가스 오프닝에 대하여 복수의 오프 가스 수집 장치가 사용될 가능성 또한 있다. 또한, 가스 유출구를 임의의 원하는 적절한 수의 오프 가스 수집 장치 및 각각의 오프 가스 라인과 조합시킬 수 있다.
본 발명은 또한 상기 하나 이상의 공급 가스 분배 장치 및/또는 하나 이상의 오프 가스 수집 장치를 포함하는, 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기에 관한 것이다 (도 1-4 참조).
하나의 증착 반응기 내에 복수의 오프 가스 수집 장치 및 공급 가스 분배 장치를 제공하는 것이 바람직하다 (예를 들어, 도 3/4 참조).
바람직하게는, 상기 공급 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치는 고리형이다. 고리형 공급 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치는 특히, 반응기 상에 공간 절약 배치를 나타내며, 균일한 가스 흐름을 발생시켜 반응기 공간 내에 균일한 가스 분배를 발생시킨다.
가스 분배 장치로부터 노즐로의 공급 라인이 모든 노즐에 대하여 동일한 형상 및 길이를 가지고, 이상적인 경우 - 공급 라인이 바닥으로부터 베이스 플레이트를 통하여 반응기로 진행되는 경우 - 심지어 수직 상향 연결될 있도록 공급 가스 분배 장치가 배열되는 것이 특히 바람직하다.
상기 공급 라인은 가스 분배 장치로부터 각각의 반응기 노즐로의 연결부를 의미한다.
반응기로부터 오프 가스의 균일한 제거는 반응기 공간 내 균일한 가스 분배를 위하여 마찬가지로 중요하다. 이러한 제거는 오프 가스 수집 장치를 통하여 공급 가스 분배 장치와 동일한 방식으로 실행될 수 있다.
반응기 오프 가스 오프닝으로부터 오프 가스 수집 장치로의 오프 가스 제거 라인이 동일한 형상 및 길이를 가지도록 오프 가스 수집 장치들이 배열되는 것이 특히 바람직하다.
상기 오프 가스 제거 라인은 반응기 오프 가스 오프닝과 오프 가스 수집 장치 사이의 연결부를 의미한다.
가스 분배 장치 및 오프 가스 수집 장치가 두 개 이상의 부분 단편들로 구성되는 것이 본 발명의 성공을 위하여 필수적이다.
모든 부분 단편들은 탈착가능한 수단(예를 들어, 플랜지)을 이용하여서만 서로 기밀하게 연결된다.
상기 구분가능한 세그먼트들은 탈착가능한 고정 수단(예를 들어, 볼트를 구비한 플랜지, 클램프를 구비한 플랜지, 쓰레드된 고정 장치, 압축 피팅 등)을 이용하여서만 서로 기밀하게 연결된다.
또한, 상기 공급 라인 또는 오프 가스 제거 라인 또한 탈착가능한 수단(플랜지)을 이용하여 반응기에 기밀하게 연결되어야 한다.
본 발명에 따른 장치는 안으로 떨어진 Si 단편들이 단순화된 제거 또는 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치의 세정을 통하여 제거될 수 있게 한다.
상기 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치는 복수의 세그먼트로 구성되므로, 필요하다면 분배 장치/수집 장치의 오염된 부분만을 떼어내고 이를 세정하거나 (셋업 시간 절약) 또는 임의로 이를 대체하는 것 또한 가능하다.
많은 경우에 있어서 상기 단편들을 고압에서 빼내는 것이 불필요할 수 있다.
나아가, 상기 장치의 사용 기간은 보조 수단 (파지 암, 진공 클리너 등)을 이용한 노력을 요하는 작업 단계들에 의하여 증가되지 않는다.
상기 장치 아래 유지 작업을 위한 베이스 플레이트를 전체적으로 떼어낼 필요가 없을 경우 (예를 들어, 상기 설비 아래 반응기 피트를 이용하여), 상기 가스 분배 장치/오프 가스 수집 장치의 단일 세그먼트를 비교적 신속히 제거하고 세정할 수 있다.
공급 라인/오프 가스 제거 라인이 기하학적으로 동일하고, 이상적으로 그들의 파이핑이 심지어 수직 상향/하향 (즉, 공급 라인/오프 가스 제거 라인 내 벤드 없이) 연결될 수 있도록 배열되는 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치의 경우, 균일한 가스 흐름이 반응기 내에 형성되어 증착 공정을 개선시킨다.
본 발명은 다결정질 실리콘 증착을 위한 지멘스(Siemens) 반응기용 가스 분배 장치, 특히 공급 가스 분배 장치 및 오프 가스 수집 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 장치는 안으로 떨어진 Si 단편들이 단순화된 제거 또는 가스 분배 장치 또는 오프 가스 수집 장치의 세정을 통하여 제거될 수 있게 한다.
이하, 본 발명을 도 1, 2, 3, 및 4를 참조로 하여 부가적으로 설명할 것이다.
도 1은 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 2는 오프 가스 수집 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 도시한다.
도 3은 오프 가스 수집 장치 및 두 개의 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 4는 반응기 리드 상에 오프 가스 수집 장치 및 반응기 베이스 상에 두 개의 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 1은 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 2는 오프 가스 수집 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 도시한다.
도 3은 오프 가스 수집 장치 및 두 개의 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 4는 반응기 리드 상에 오프 가스 수집 장치 및 반응기 베이스 상에 두 개의 공급 가스 분배 장치를 구비하는 지멘스 반응기를 개략적으로 도시한다.
도 1은 반응기 후드(1), U형 기판(7) (실리콘이 증착됨) 및 공급 가스 분배 장치(21)를 가지는 반응기를 도시한다. (31)은 공급 가스 라인을 도시한다. 반응물 가스가 반응물 가스 공급(41)을 통하여 공급 가스 분배 장치(21) 내로 가이드된다. 반응물 가스에 대한 세 개의 오프닝이 도시된다. 상응하는 오프닝들이 베이스 플레이트(5) 내에 존재한다. 공급 가스 분배 장치의 각각의 요소들이 플랜지 연결부(6)에 의하여 고정되고 분리될 수 있다. 오프 가스가 베이스 플레이트(5) 내 오프닝을 통하여 제거된다.
도 2는 반응기 후드(1), U형 기판(7) (실리콘이 증착됨) 및 오프 가스 수집 장치(22)를 가지는 반응기를 도시한다. (32)는 오프 가스 라인을 도시한다. 반응기로부터 오프 가스가 베이스 플레이트(5) 내 세 개의 오프닝을 통하여 오프 가스 라인(32) 내로 안내되고 (오프 가스 수집 장치는 상응하는 오프닝들을 가짐) 오프 가스 제거(42)에 의하여 오프 가스 수집 장치(22)로부터 제거된다. 오프 가스 수집 장치(22)의 각각의 요소들은 플랜지 연결부(6)에 의하여 고정되고 분리될 수 있다. 물 냉각(8)이 물 분무(9)와 함께 제공된다.
도 3은 반응기 후드(1), U형 기판(7) (실리콘이 증착됨) 및 두 개의 공급 가스 분배 장치들(21)을 가지는 반응기를 도시한다. (31)은 공급 가스 라인을 도시한다. 반응물 가스가 반응물 가스 공급(41)을 통하여 공급 가스 분배 장치(21) 내로 안내된다. 공급 가스 분배 장치(21) 당 반응물 가스에 대한 세 개의 오프닝이 도시된다. 상응하는 오프닝들이 베이스 플레이트(5) 내에 존재한다. 공급 가스 분배 장치의 각각의 요소들은 플랜지 연결부(6)에 의하여 고정되고 분리될 수 있다. 또한, 오프 가스 수집 장치(22)가 제공된다. (32)는 오프 가스 라인을 도시한다. 반응기로부터 오프 가스가 베이스 플레이트(5) 내 세 개의 오프닝을 통하여 오프 가스 라인(32) 내로 안내되고 (오프 가스 수집 장치는 상응하는 오프닝들을 가짐) 오프 가스 제거(42)에 의하여 오프 가스 수집 장치(22)로부터 제거된다. 오프 가스 수집 장치(22)의 각각의 요소들은 플랜지 연결부(6)에 의하여 고정되고 분리될 수 있다. 물 냉각(8)이 물 분무(9)와 함께 제공된다.
도 4는 두 개의 공급 가스 분배 장치(21) 및 오프 가스 수집 장치(22)를 가지는 구현예를 도시하나, 도 3과 달리, 오프 가스 수집 장치가 베이스 플레이트에 플랜지되지 않고 반응기 리드에 플랜지된다.
1 반응기 후드
21 공급 가스 분배 장치
22 오프 가스 수집 장치
31 공급 가스 라인
32 오프 가스 라인
41 반응물 가스 공급
42 오프 가스 제거
5 베이스 플레이트
6 플랜지 연결부
7 U형 기판 (필라멘트)
8 물 냉각 (이중 벽)
9 물 분무
21 공급 가스 분배 장치
22 오프 가스 수집 장치
31 공급 가스 라인
32 오프 가스 라인
41 반응물 가스 공급
42 오프 가스 제거
5 베이스 플레이트
6 플랜지 연결부
7 U형 기판 (필라멘트)
8 물 냉각 (이중 벽)
9 물 분무
Claims (12)
- 탈착가능한 고정 수단에 의하여 서로 기밀하게 연결되는 두 개 이상의 세그먼트, 하나 이상의 가스 유입구 및 하나 이상의 가스 유출구를 포함하는, 가스가 수송될 수 있는 가스 분배 장치로서,
상기 가스 분배 장치는 탈착가능한 고정 수단에 의하여 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기에 장착될 수 있고, 상기 가스 분배 장치의 상기 하나 이상의 가스 유출구 각각은 상기 반응기의 가스 유입구 하나에 소통가능하게 연결되고, 및/또는 상기 가스 분배 장치의 상기 하나 이상의 가스 유입구 각각은 상기 반응기의 매체 공급의 가스 공급 라인 하나에 소통가능하게 연결되는, 가스 분배 장치. - 제1항에 있어서,
상기 가스 분배 장치는 상기 반응기 내로 가스를 도입하기에 적합하고, 상기 하나 이상의 가스 유입구는 가스의 공급을 위하여 제공되면서, 가스 공급 라인에 연결되고, 상기 하나 이상의 가스 유출구는 가스를 반응기 노즐에 공급하는 작용을 하는, 가스 분배 장치. - 제1항에 있어서,
상기 탈착가능한 고정 수단은 플랜지 연결부인, 가스 분배 장치. - 제2항에 있어서,
상기 가스 분배 장치로부터 상기 반응기 노즐로의, 공급 라인들은 동일한 형상을 가지는, 가스 분배 장치. - 제1항에 있어서,
상기 가스 분배 장치는 고리형인, 가스 분배 장치. - 탈착가능한 고정 수단에 의하여 서로 기밀하게 연결되는 두 개 이상의 세그먼트, 하나 이상의 가스 유입구 및 하나 이상의 가스 유출구를 포함하는, 가스가 수송될 수 있는 가스 분배 장치로서,
상기 가스 분배 장치는 탈착가능한 고정 수단에 의하여 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기에 장착될 수 있고, 상기 가스 분배 장치의 상기 하나 이상의 가스 유입구는 상기 반응기로부터 오프 가스의 공급을 위하여 제공되면서, 상기 하나 이상의 가스 유입구 각각은 상기 반응기의 오프 가스 오프닝 하나에 연결되고, 상기 가스 분배 장치의 상기 하나 이상의 가스 유출구는 상기 가스 분배 장치로부터 상기 오프 가스를 제거하는 작용을 하는, 가스 분배 장치. - 제6항에 있어서,
상기 탈착가능한 고정 수단은 플랜지 연결부인, 가스 분배 장치. - 제6항에 있어서,
상기 반응기의 오프 가스 오프닝으로부터 상기 가스 분배 장치로의, 연결 라인들은 동일한 형상을 가지는, 가스 분배 장치. - 제6항에 있어서,
상기 가스 분배 장치는 고리형인, 가스 분배 장치. - 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 가스 분배 장치를 포함하는, 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기.
- 제6항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 하나 이상의 가스 분배 장치를 포함하는, 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기.
- 제1항에 따른 하나 이상의 가스 분배 장치, 및 제6항에 따른 하나 이상의 가스 분배 장치를 포함하는, 다결정질 실리콘 증착을 위한 반응기.
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