KR101693875B1 - 에멀전 중합화 고무용 기본 안정화 시스템 - Google Patents

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Abstract

본 발명은
a) 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스,
b) 하기 화학식 I의 화합물,
Figure 112014042193749-pct00010

식 중, R1 은 C8-C12 알킬이고,
R2 은 수소, C1-C12알킬, 사이클로헥실, 1-메틸사이클로헥실, 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 -CH2-S-R1이며,
R3 은 C1-C12알킬, 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 -CH2-S-R1이고,
R4 은 수소 또는 메틸이며, 그리고,
c) 하기 화학식 II의 스티렌 디페닐아민을 포함하는 조성물을 기술한다:

Description

에멀전 중합화 고무용 기본 안정화 시스템{BASIC STABILISATION SYSTEMS FOR EMULSION POLYMERISED RUBBERS}
본 발명은 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스와, 안정화제로서, 알킬티오메틸페놀 타입 화합물 및 스티렌화 디페틸아민의 특정 군으로부터 선택되는 혼합물을 포함하는 조성물에 관한 것이며, 또한 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해에 대하여 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 안정화하는 색 안정화 및 비-변색 안정성으로서의 용도에 관한 것이며, 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 안정화하는 방법에 관한 것으로, 상기 방법에서 적어도 알킬티오메틸페놀 유형 화합물과 스티렌화 디페닐아민의 특정 군에서 선택되는 혼합물은 상기 물질에 혼입되거나 첨가된다.
원료 고무 등 모든 중합체는 산화, 열, 동적 또는 광 유도 분해에 민감하다. 다양한 등급의 원료 고무의 경우, 예, 부착제 등급은 해당 식품 접촉 허가가 의무적이다. 예컨대, Irganox 1520 (RTM, Ciba Inc.)와 같은 알킬티오메틸페놀 유형 화합물은 이런 요건을 만족시키나 예를 들어, 할로겐 함유 응고 시스템의 경우와 같은 기술적인 한계를 가질 수 있다.
U.S. 6,383,992는 식품 접촉 허가를 받은 Wingstay 29 (RTM, Goodyear)와 같은 스티렌화 디페닐아민을 포함하는 생체분해가능한 식물성 기름 조성물을 개시한다.
알킬티오메틸-페놀 유형 화합물 및 스티렌화 디페닐아민의 특정 군에서 선택되는 혼합물이 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해에 민감한 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스용 안정화제로서 특히 적절하다고 밝혀져 있다.
따라서 본 발명은 하기를 포함하는 조성물에 관한 것이다:
a) 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스, 및
b) 하기 화학식 I의 화합물
Figure 112010080259414-pct00001
식 중, R1 은 C8-C12 알킬이고,
R2 은 수소, C1-C12알킬, 사이클로헥실, 1-메틸사이클로헥실, 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 -CH2-S-R1이고,
R3 은 C1-C12알킬, 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 -CH2-S-R1이며,
R4 은 수소 또는 메틸이고, 및
c) 하기 화학식 II의 스티렌화 디페닐아민:
Figure 112010080259414-pct00002
.
에멀전 고무는 에멀전 중합화에 의해 제조된다. 낮은 온도(저온 고무)에서 환원 재시제로 개시되거나 상대적으로 높은 온도 (고온 고무)에서 유기 과산화물 또는 과황화물로 개시되는, 수 중 에멀전 중합화는 이러한 바와 같이 사용되는 라텍스를 수득하거나 고체 고무를 수득하기 위해 처리된다. 에멀전 SBR 중 몰 중량은 약 250 000 내지 800 000 g/mol 범위이며; 고온 및 저온 고무는 분지도가 다르다. 고무는 카본 블랙으로 로딩되거나 오일과 혼합되거나 이러한 것과 같이 시판되며, 주로 중요 합성 고무를 구성한다.
천연 고무 라텍스 및 매우 다양한 유형의 합성 라텍스는 상업적으로 입수가능하다. 중합체 라텍스는 수 매질 중 플라스틱 물질 또는 고무의 콜로이드성 분산액이다. 중합체성 물질은 소 에틸렌성(올레핀성) 단량체 또는 디엔 단량체의 중합체 또는 대안적으로는 2 이상의 이러한 단량체의 공중합체일 수 있다. 이러한 라텍스의 기계적 안정성은 중합체 입자와 수성상 사이의 계면에서 표면 활성 물질의 존재에 따라 주로 달라진다.
대다수의 합성 라텍스는 스티렌-부타디엔, 스티렌-아크릴산, 아크릴산 에스테르, 비닐 아세테이트-아크릴레이트 또는 부타디엔-아크롤니트릴로 구성된다. 예컨대 카르복실화 SBR와 같은 카르복실화 라텍스는 예를 들어, 카르복실기를 함유하는 단량체 단위 또는 대응되는 카르복실산 에스테르를 5%까지 추가적으로 포함한다. 유리하게는, 아크릴산, 메타크릴산 및 예를 들어, 메틸렌숙신산(이타콘산)과 같은 유기산 불포화 모노- 및 디카르복실산이 사용된다. 사용되는 카르복실산 에스테르는, 예를 들어, 비닐 아세테이트용 공단량체로서, 주로 푸마르산 디에틸 에스테르, 말레산 디에틸 에스테르, 메틸 아크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트 또는 2-에틸헥실 아크릴레이트가 사용된다.
사용되는 유기산은 약 60℃ 내지 약 100℃의 반응 온도에서 수득되는 카르복실화 SBR의 특성, 상당한 등급을 결정한다. 수 용해도 또는 최종 수행 특성의 예로 언급될 수 있으며, 이는 실질적으로 라텍스의 표면의 카르복실기 수에 영향을 받는다. 성분의 일반적인 혼합물 및 이의 특성은 문헌[Polymer Latices and their Application (Applied Science Publishers Ltd., London 1982; Editor K. O. Calvert), pages 29 to 31]에 기술된다. 이러한 X-SBR의 주된 사용은 제지 산업, 접착제 산업 및 텍스타일 산업이며, 텍스타일 산업의 경우, 특히 카페트 분야이다. 제지 산업에서, 카르복실화 라텍스는 예를 들어, 제지용 표면 코팅에 사용되고; 이들이 사용되는 접착제 산업에서, 예를 들어, 분산제 접착제 및 염료 물건 산업에서, 이들은 예를 들어, 분산 염료로서 사용된다.
라텍스로부터 제조되는 제품은 항산화제에 의해 열의 작용 및 산소에 대해 안정해야만 한다.
당해 조성물에서, 식 중, R1 은 C8알킬 또는 C12알킬이다.
특히 당해 조성물에서, 식 중, R2 은 C1-C8알킬, 벤질 또는 α-메틸벤질이고,
R3 은 C1-C9알킬 또는 -CH2-S-R1이고,
R4 은 수소 또는 메틸이다.
특정 당해 조성물에서, 식 중, R2 은 C1-C4알킬 또는 벤질이고,
R3 은 C1-C4알킬 또는 -CH2-S-R2이며,
R4 은 수소 또는 메틸이다.
바람직하게는 R1 은 C8알킬 또는 C12알킬이고,
R2 은 메틸이며,
R3 은 -CH2-S-R2이며, R2 은 C8알킬 또는 C12알킬이고,
R4 은 수소인 조성물이다.
화학식 I 및 II의 성분 (b) 및 (c)의 조합은 안정화시키려는 기재에 대하여 상승 작용을 나타내며, 즉, 에멀전 고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스 및 이로 제조되는 제품에 대하여 상승 작용을 나타낸다.
20개 이하의 탄소 원자를 갖는 알킬은 분지 또는 비분지 라디칼, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, 이소부틸, tert-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실 또는 에이코실을 말한다.
본 발명에 따른 조성물 중 화학식 I의 화합물 및 이의 제조는 문헌, 예를 들어, U.S. 4,857,572에 개시되어 있다.
화학식 II의 스티렌성 디페닐아민은 문헌, 예를 들어, U.S. 6,383,992에 개시되어 있으며, Wingstay 29 (RTM) (Goodyear)로서 상업적으로 입수가능하다.
화학식 II의 화합물과 조합되는 화학식 I의 화합물은 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해에 대하여 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스, 특히 또한 담색(pale) 에멀전 생고무, 담색 합성 라텍스 또는 담색 천연 고무 라텍스를 안정화하는 데 우수하게 적절하다.
통상적인 공정(예를 들어, 과산화물 또는 황으로의 가황) 중 하나에 따라 에멀전 생고무로부터 제조되는 엘라스토머는 낮은 스트레스하에서 상당한 변형 후, 실온에서 실질적으로 이들의 원 형태로 재빨리 회복될 수 있는 거대분자 물질로 이해된다. 문헌[Hans-Georg Elias, An Introduction to Polymer Science, chapter 12, Elastomers, pages 388 - 393, 1997, VCH Verlagsgesellschaft mbH, Weinheim, Germany; 또는 Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Fifth, Completely Revised Edition, Volume A 23, pages 221 - 440 (1993)] 참고.
본 발명에 따른 조성물은 예를 들어, 하기 물질과 같은 에멀전 생고무를 포함할 수 있다:
1. 디올레핀의 중합체, 예, 폴리부타디엔 또는 폴리이소프렌.
2. 모노- 및 디올레핀과 서로 다른 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예, 프로필렌-이소부틸렌 공중합체, 프로필렌-부타디엔 공중합체, 이소부틸렌-이소프렌 공중합체, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체, 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체 및 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴노르보르넨과 같은 디엔 및 프로필렌과 에틸렌의 테르중합체.
3. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴 유도체와의 공중합체, 예, 스티렌-부타디엔, 스티렌-부타디엔-알킬 아크릴레이트 및 메타크릴레이트; 및 스티렌의 블럭 공중합체, 예, 스티렌-부타디엔-스티렌 또는 스티렌-이소프렌-스티렌.
4. 할로겐 함유 중합체, 예, 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 이소부틸렌-이소프렌의 염소화 및 브롬화 공중합체(할로부틸 고무).
5. 천연 고무.
6. 천연 또는 합성 고무의 수 에멀전, 예, 카르복실화 스티렌-부타디엔 공중합체의 라텍스 또는 천연 고무 라텍스.
보호하려는 에멀전 생고무는 바람직하게는 폴리디엔 에멀전 생고무 또는 할로겐 함유 폴리디엔 에멀전 생고무, 특히 스티렌-부타디엔 공중합체 에멀전 생고무이다.
본 발명에 따른 조성물은 라텍스로서, 예를 들어, 하기 물질을 포함할 수 있다:
1. 모노- 및 디올레핀과 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예, 에틸렌-알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 및 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체.
2. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체, 예, 스티렌-부타디엔, 스티렌-부타디엔-알킬 아크릴레이트 및 메타크릴레이트.
3. 천연 고무.
4. 천연 또는 합성 고무의 수 에멀전, 예, 천연 고무 라텍스, 스티렌-부타디엔 또는 카르복실화 스티렌-부타디엔 공중합체의 라텍스.
보호하려는 라텍스는 바람직하게는 카르복실화 스티렌-부타디엔, 스티렌-아크릴산, 비닐 아세테이트-아크릴레이트 또는 카르복실화 부타디엔-아크릴로니트릴이다. 특히 바람직하게는 카르복실화 스티렌-부타디엔 라텍스(X-SBR)이다.
해당 에멀전 생고무는 할로겐 함유 시스템과 응고된다. 할로겐 함유 응고 시스템은 할로겐의 알칼리 및 알칼리 토금속 염, 예를 들어, 염화 나트륨 및 염화칼슘을 포함한다.
매우 특히 바람직하게는 에멀전 스티렌-부타디엔 고무(ESBR) 또는 니트릴 부타디엔 고무(NBR)이다.
화학식 I의 성분 (b)는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 안정화하게 하기 위해 안정화하려는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스의 건조 고체 함량을 기준으로 유리하게는 0.01 내지 10%, 예를 들어, 0.02 내지 5%, 바람직하게는 0.05 내지 1.0%의 양으로 첨가된다.
화학식 II의 성분 (c)는 화학식 I의 성분 (b)와 조합되어 안정화하려는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스에 안정화하려는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스의 건조 고체 함량을 기준으로 유리하게는 0.01 내지 10%, 예를 들어, 0.02 내지 5%, 바람직하게는 0.05 내지 1.0%의 양으로 각각 첨가된다.
성분 (a), (b) 및 (c) 외에, 본 발명에 따른 조성물은 추가 첨가제, 예를 들어, 하기 첨가제를 포함할 수 있다:
1. 항산화제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예, 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디사이클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸사이클로헥실)-4,6-디-메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리사이클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시-메틸페놀, 측쇄가 분지되거나 선형인 노닐페놀, 예를 들어, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데스-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데스-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데스-1'-일)-페놀 및 이의 혼합물.
1.2. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페놀 스테아레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페놀)아디페이트.
1.3. 토코페롤, 예, α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이의 혼합물(비타민 E).
1.4. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예, 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디설피드.
1.5. 알킬리덴 비스페놀, 예, 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸사이클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-사이클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌-비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-히드록시페닐)부틸레이트], 비스(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸-페닐)디사이클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐] 테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.6. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예, 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'-디히드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질, 메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질 메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-아민, 비스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메닐벤질) 디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)설피드, 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질 메르캅토아세테이트.
1.7. 히드록시벤질화 말로네이트, 예, 디옥타데실 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실 2-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디도데실메르캅토에틸 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 디[4-(1,1,3,3-테트라-메틸부틸)페닐] 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.8. 히드록시벤질 방향족 화합물, 예, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시-벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.9. 트리아진 화합물, 예, 2,4-비스옥틸메르캅토-6-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐린)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시-페닐프로피오닐)헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디사이클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.10. 벤질 포스포네이트, 예, 디메틸 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시 벤질 포스포네이트, 디에틸 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 디옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실 5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질-포스포네이트, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질 포스폰산 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.11. 아실아미노페놀, 예, 4-히드록시라우릴산 아닐라이드, 4-히드록시스테아르산 아닐라이드, N-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)카르밤산 옥틸 에스테르.
1.12. β-(3,5-디- tert -부틸-4- 히드록시페닐 )프로피온산과 1가 또는 다가 알콜의 에스테르, 예를 들어, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, 이소옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로[2.2.2]옥탄.
1.13. β-(3,5- 디사이클로헥실 -4- 히드록시페닐 )프로피온산과 1가 또는 다가 알콜의 에스테르, 예, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트릴톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥살산 디아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸롤프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로-[2.2.2]옥탄.
1.14. 3,5-디- tert -부틸-4- 히드록시페틸아세트산과 1가 또는 다가 알콜의 에스테르, 예, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노나네디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리롤, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)-옥살산 디아미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비사이클로-[2.2.2]옥탄.
1.15. β-(3,5-디- tert -부틸-4- 히드록시페닐 )프로피온산의 아미드, 예, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사미드(Naugard®XL-1 (Uniroyal)).
1.16. 아스코르브산(비타민 C).
1.17. 아미닉 항산화제, 예, N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디사이클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-디(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-사이클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔설폰아미도)-디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-tert-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들어, p,p'-디-tert-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노닐아미노-페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 디(4-메톡시페닐)-아민, 2,6-디-tert-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-디[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-디(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)-비구아나이드, 디[4-(1',3'-디메틸부틸)-페닐]-아민, tert-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노- 및 디알킬화 tert-부틸-/tert-옥틸-디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 이소프로필/이소헥실 디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 tert-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디-알킬화 tert-부틸-/tert-옥틸-페노티아진의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화 tert-옥틸페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'- 히드록시페닐 ) 벤조트리아졸, 예, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스(α,α-디메닐벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐-벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일-페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 트랜스에스테르화 생성물;
Figure 112010080259414-pct00003
식 중, R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일-페닐; 2-[2'-히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-벤조트리아졸; 2-[2'-히드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸벤질)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]-벤조트리아졸.
2.2. 2- 히드록시벤조페논, 예, 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시, 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 비치환 또는 치환 벤조산의 에스테르, 예, 4-tert-부틸페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일레조시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)-레조시놀, 벤조일레조시놀, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조산 2,4-디-tert-부틸페닐 에스테르, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조산 헥사데실 에스테르, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조산 옥타데실 에스테르, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조산 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 에스테르.
2.4. 아크릴레이트, 예, α-시아노-β,β-디페닐아크릴산 에틸 에스테르 또는 이소옥틸 에스테르, α-메톡시카르보닐신남산 메틸 에스테르, α-시아노-β-메틸-p-메톡시신남산 메틸 에스테르 또는 부틸 에스테르, α-메톡시카르보닐-p-메톡시신남산 메틸 에스테르, N-(β-메톡시카르보닐-β-시아노비닐)-2-메틸 인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예, 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸-부틸)페놀]와 니켈 복합체, 예컨대, 1:1 또는 1:2 복합체, n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-사이클로헥실디에탄올아민과 같은 부가 리간드와의 임의 복합체, 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질포스폰산 모노알킬 에스테르의 니켈 염, 예컨대, 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈 염, 케톡심의 니켈 복합체, 예컨대, 2-히드록시-4-메틸페닐운데실 케톡심의 니켈 복합체, 부가 리간드와의 임의 니켈 복합체, 1-페닐-4-라우로릴-5-히드록시피라졸의 니켈 복합체.
2.6. 입체 장애 아민, 예, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딘-4-일)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)세바케이트, n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질말론산, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)에스테르, 1-히드록시에틸-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 환형 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로프리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜) 1,2,3,4-부탄테트라오에이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트타메틸-1,3,8-트리아자스피로-[4.5]-데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 환형 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아민)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(2-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]-데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라-메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌아민과 4-사이클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘(CAS Reg. No.[136504-96-6])의 축합 생성물; 1,6-디아미노헥산과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물 뿐만 아니라 N,N-디부틸아민과 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸 피페리딘의 축합 생성물(CAS Reg. No. [192268-64-7]; N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4.5]-데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-사이클로-운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로-[4.5]데칸 및 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시메틸렌 말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물 α-올레핀 공중합체 및 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물.
2.7. 옥살산 디아미드, 예, 4,4'-디옥틸옥시 옥사닐라이드, 2,2'-디에톡시 옥사닐라이드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부틸 옥사닐라이드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부틸 옥사닐라이드, 2-에톡시-2'-에틸 옥사닐라이드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필) 옥살아미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에틸 옥사닐라이드 및 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부틸 옥사닐라이드와의 이의 혼합물, o- 및 p-메톡시의 혼합물, 및 또한 o- 및 p-에톡시-디-치환 옥사닐라이드의 혼합물.
2.8. 2-(2- 히드록시페닐 )-1,3,5- 트리아진, 예, 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시-/트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시)-페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예, N,N'-디페닐옥살산 디아미드, N-살리실랄-N'-살리실로일-히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살산 디히드라지드, 옥사닐라이드, 이소프탈산 디히드라지드, 세박산 비스-페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디프산 디히드라지드, N,N'-비스-살리실로일옥살산 디히드라지드, N,N'-비스-살리실로일티오프로피온산 디히드라지드.
4. 포스파이트 포스포나이트, 예, 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)-펜타에리트리톨 디포스페이트, 비스-이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이드, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스페이트, 비스(2,4,6-트리-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 메틸포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐) 에틸포스파이트, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 2,2',2''-니트릴로[트리에틸-트리스(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)-포스파이트], 2-에틸헥실-(3,3'-5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트, 5-부틸-5-에틸-2-(2,4,6-트리-tert-부틸페녹시)-1,3,2-디옥사포스피란.
5. 히드록시아민, 예, N,N-디벤질히드록시아민, N,N-디에틸히드록시아민, N,N-디옥틸히드록시아민, N,N-디라우릴히드록시아민, N,N-디테트라데실히드록시아민, N,N-디-헥사데실히드록실아민, N,N-디옥타데실히드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실-히드록시아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록실아민, 수소화 탈로우 지방 아민 유래 N,N-디알킬히드록실아민.
6. 니트론, 예, N-벤질-알파-페닐니트론, N-에틸-알파-메틸니트론, N-옥틸-알파-헵틸니트론, N-라우릴-알파-운데실니트론, N-테트라데실-알파-트리데실니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실니트론, 수소화 탈로우 지방 아민으로부터 제조되는 N,N-디알킬히드록시아민 유래 니트론.
7. 티오상승 화합물, 예, 화학식 I'의 화합물 또는 티오디프로피온산 디라우릴 에스테르 또는 티오디프로피온산 디스테아릴 에스테르:
Figure 112010080259414-pct00004
식 중,
R1 은 수소, C1-C12알킬, 사이클로헥실, 페닐 또는 벤질이며,
R2 은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
n 은 0, 1 또는 2임.
8. 과산화물 파괴 화합물, 예, β-티오-디프로피온산의 에스테르, 예를 들어, 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실디설피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
9. 기본 공동안정화제, 예, 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시아노디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아민, 폴리우레탄, 고차 지방산의 알칼리 금속 및 알칼리 토금속 염, 예를 들어, 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 나트륨 리시놀레이트, 칼륨 팔미테이트, 안티모니 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
10. 조핵제 ( nucleating agent ), 예, 무기 물질, 예를 들어, 탈크, 금속 산화물, 예컨대, 이산화티타늄 또는 산화마그네슘, 바람직하게는 알칼리 토금속의 포스페이트, 카르보네이트 또는 설페이트; 유기 화합물, 예컨대, 모노- 또는 폴리-카르복실산 및 이의 염, 예를 들어, 4-tert-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 소디움 숙시네이트 또는 소디움 벤조에이트; 중합체성 화합물, 예를 들어, 이온성 공중합체화("이오노머"). 특히 바람직하게는 1,3:2,4-비스(3',4'-디메틸벤질리덴)소르비톨, 1,3:2,4-디(파라메틸디벤질리덴)소르비톨 및 1,3:2,4-디(벤질리덴)소르비톨이다.
11. 충전제 및 강화제, 예, 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 유리 비드, 탈크, 카올린, 운모, 황산 바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 그라파이트, 나무 분말 및 기타 천연 생성물의 분말 또는 섬유, 합성 섬유.
12. 기타 첨가제, 예, 가화소제, 윤활제, 에멀전화제, 안료, 레올로지 첨가제, 촉매, 유동 보조제, 광학 증백제, 내화제(flame retardant), 정균제, 발포제.
13. 벤조푸라논 인돌리논 (락톤), 예, U.S. 4,325,863; U.S. 4,338,244; U.S. 5,175,312; U.S. 5,216,052; U.S. 5,252,643; DE-A-4316611, DE-A-4316622; DE-A-4316876; EP-A-0589839, EP-A-0591102; EP-A-1291384에 기술된 것 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-[4-(2-스테아로일-옥시에톡시)페닐]벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-tert-부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)-벤조푸란-2-온], 5,7-디-tert-부틸-3-(4-메톡시페닐)벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸-벤조푸란-2-온, 3-(2-아세틸-5-이소옥틸페닐)-5-이소옥틸벤조푸란-2-온.
특히 바람직한 벤조푸란-2-온 안정화제(락톤)은 예를 들어, 5,7-디-tert-부틸-3-페닐-벤조푸란-2-온; 5,7-디-tert-부틸-3-(3,4-디메틸페닐)-벤조푸란-2-온; 5,7-디-tert-부틸-3-(2,3-디메틸페닐)-벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-(4-메톡시페닐)-벤조푸란-2-온, 5-tert-옥틸-3-(2-아세틸-5-tert-옥틸페닐)-벤조푸란-2-온 또는 화학식 B-1 또는 B-2의 화합물 또는 이의 혼합물이다.
Figure 112010080259414-pct00005
Figure 112010080259414-pct00006
벤조푸란-2-온 안정화제(락톤)은 문헌 및 US 5,516,920의 실시예에 개시되어 있다.
본 발명에 따른 바람직한 조성물은 추가 첨가제로서 안료, 염료, 충전제, 유동 보조제, 분산제, 가소화제, 가황 활성화제, 가황 촉진제, 가황제, 전하 조절제, 접착 촉진제, 광 안정화제 또는 항산화제, 예, 페놀성 항산화제 (상기 목록 중 1.1 내지 1.15) 또는 아민성 항산화제(상기 목록 중 1.17), 유기 포스파이트 또는 포스포네이트(상기 목록 중 4), 락톤 및/또는 티오상승화 화합물(상기 목록 중 7)의 군으로부터 선택되는 하나 이상의 성분을 추가적으로 포함한다.
추가 첨가제는 예를 들어, 안정화되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스의 건조 고체 함량에 대하여 0.01 내지 10%의 농도로 첨가된다.
성분 (b) 및 (c) 및 임의 추가 첨가제의 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스 내로의 혼입은 공지된 방법, 바람직하게는 중합화 이후에 또는 혼합물의 제조 동안에 또는 임의적으로는 증발에 의한 용매의 연속 제거과 함께 성형 이전 또는 성형 도중에 수행된다. 성분 (b) 및 (c) 및 임의 추가 첨가제는 또한 예를 들어, 각각 2.5 내지 25 중량%의 농도로 이들 성분을 포함하는 마스터 배치의 형태로 안정화하려는 에멀전 생고무에 첨가될 수 있다.
성분 (b) 및 (c) 및 임의 추가 첨가제는 특히 바람직하게는 합성 에멀전 생고무의 중합화 이전 또는 동안에 첨가되며, 또는 고무 라텍스의 중합화가 정지된 이후에 가해진다.
성분 (b) 및 (c) 및 임의 추가 첨가제는 라텍스의 중합체 이전 또는 도중에 또는 가교 전에 첨가될 수 있다.
성분 (b) 및 (c) 및 임의 추가 첨가제는 안정화시키려는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스 내로 왁스, 오일 또는 중합체의 내포된 형태 또는 순수한 형태로 혼입될 수 있다.
생성된 안정화된 에멀전 생고무는 통상의 공정 중 하나에 따라 일반적인 제제화 구성을 이용하여 이들을 혼합하고, 이들을 가황화하여(예, 황 또는 과산물을 이용) 다양한 형태, 예를 들어, 스트립 형태, 몰딩 물질, 프로파일, 컨베이어 벨트 또는 트레이로 추가적으로 사용될 수 있다.
생성된 안정화된 라텍스는 매우 다양한 형태, 예, 필름, 스트립, 몰딩 물질로, 제지 산업에서, 예를 들어, 종이 코팅; 접착제 산업에서, 예, 분산 접착제; 염료를 분산시키기 위한 염료 물질 산업 및 또한 텍스타일 산업에서 추가적으로 사용될 수 있으며, 후자의 경우, 특히, 카페트 분야에서, 라텍스를 통상의 방법 중 하나에 따른 일반 제제화 요소와 혼합하고, 이를 가하여, 예를 들어, 카페트의 반대쪽에 가하고, 이를 건조함으로써, 추가적으로 사용될 수 있다.
본 발명은 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 안정화하는 방법에 관한 것으로, 본 방법에서 적어도 성분 (b) 및 (c)는 이 물질과 혼합되거나 이 물질에 적용되어진다.
본 발명의 추가 구체예에서, 산화, 열, 동적 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 안정화하기 위한 성분 (b) 및 (c)의 용도에 관한 것이다.
바람직하게는 상기 기술한 방법 및 용도를 위한 성분 (b) 및 (c)는 에멀전 생고무, 합성 라텍스 또는 천연 고무 라텍스를 포함하는 조성물을 위해 기술된 것과 동일하다.
하기 실시예는 본 발명을 추가적으로 기술한다. 다른 지시가 없는 한, 퍼센트는 중량에 관한 것이다.
실시예 1: 에멀전 생고무의 안정화.
상업적으로 생산되는 핫 NBR 라텍스를 테스트용으로 사용하였다. 첨가 시스템을 에멀전의 형태로 라텍스 내로 혼입하였다. 그 후 고무를 하기 절차를 이용하여 응고하였다:
NBR 라텍스를 함유하는 안정화제 1400g를 교반 중인, 2800g의 탈미네랄수 및 14g의 염화 칼슘으로 구성되는 2800g의 응고 세럼에 천천히 가하였다. 응고 온도는 50℃였다. 응고 후 수용되는 고무 크럼브(crumb)를 65℃의 탈미네랄 중성수로 세척하였다. 젖은 크럼브를 고무 커버 롤 분쇄기를 통과시킨 후 진공 오븐에서 50℃에서 밤새 건조시켜 탈수시켰다. 젖은 고무를 10 mm 시트로 압축 몰드하고, 이 시트를 80℃에서 오븐 노화시켰다. 색을 0 (무색 ) 내지 10 (깊은 갈색)의 컬러 표를 이용하여 시각적으로 1주일에 1회 측정하였다. 결과를 표 1에 요약하였다.
실시예
첨가 시스템
80℃ 노화 1주일 후 색
0 2 4 6
1a 0.20% Irganox 1520a)
0.20% Wingstay 29b)
5 5.5 6 6.5
a) Irganox 1520 (RTM) (Ciba Inc.)는 4,6-비스(옥틸티오메틸)-o-크레졸임.
b) Wingstay 29 (RTM) (Goodyear)는 화학식 II의 스티렌화 디페닐아민임:
Figure 112010080259414-pct00007

Claims (16)

  1. (a) 산화 분해, 열 분해, 동적 분해 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무(crude rubber), 및
    (b) 화학식 I의 화합물:
    Figure 712016005410681-pct00008

    (식 중,
    R1은 C8알킬 또는 C12알킬이며,
    R2는 메틸이고,
    R3는 -CH2-S-R1이며,
    R4는 수소임), 및
    (c) 화학식 II의 스티렌화 디페닐아민:
    Figure 712016005410681-pct00009

    을 포함하는 조성물로서, 성분 (a)의 건조 고체 함량을 기준으로, 상기 성분 (b)는 0.05 내지 1.0 중량%의 양으로 존재하고, 성분 (c)는 0.05 내지 1.0 중량%의 양으로 존재하며,
    상기 에멀전 생고무는 염화 칼슘을 포함하는 할로겐 함유 시스템과 응고되는 것인 조성물.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 성분 (a)는 폴리디엔 에멀전 생고무 또는 스티렌-부타디엔 공중합체 에멀전 생고무인 것인 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 성분 (a)는 카르복실화 스티렌-부타디엔 공중합체, 스티렌-아크릴산 공중합체, 비닐 아세테이트-아크릴레이트 공중합체 또는 카르복실화 부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체인 것인 조성물.
  9. 삭제
  10. 제1항에 있어서, 성분 (a)는 에멀전-스티렌 부타디엔 고무(ESBR) 또는 니트릴 부타디엔 고무(NBR)인 것인 조성물.
  11. 제1항에 있어서, 성분 (a), (b) 및 (c) 외에 추가 첨가제를 더 포함하는 것인 조성물.
  12. 제1항에 있어서, 추가 첨가제로서, 염료, 안료, 충전제, 유동화 보조제, 분산제, 가소화제, 전하 조절제, 부착 촉진제, 추가 항산화제 및/또는 광 안정화제의 군에서 선택되는 하나 이상의 성분을 더 포함하는 것인 조성물.
  13. 제1항에 있어서, 추가 첨가제로서, 페놀성 항산화제, 아민성 항산화제, 유기 포스파이트 또는 포스포나이트, 락톤 및/또는 티오상승 화합물(thiosynergistic compound)을 포함하며, 상기 티오상승 화합물은 티오디프로피온산 디라우릴 에스테르, 티오디프로피온산 디스테아릴 에스테르 및 화학식 I'의 화합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 조성물:
    Figure 712016005410681-pct00012

    (식 중, R1은 수소, C1-C12알킬, 사이클로헥실, 페닐 또는 벤질이며,
    R2은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
    n은 0, 1 또는 2임).
  14. 산화 분해, 열 분해, 동적 분해 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무를 안정화하는 방법으로서, 상기 방법은 적어도 제1항의 성분 (b) 및 (c)를 에멀전 생고무와 혼합하거나, 이에 첨가하는 것이며,
    성분 (a)의 건조 고체 함량을 기준으로, 상기 성분 (b)는 0.05 내지 1.0%의 양으로 존재하고, 성분 (c)는 0.05 내지 1.0%의 양으로 존재하고,
    상기 에멀전 생고무는 염화 칼슘을 포함하는 할로겐 함유 시스템과 응고되는 것인 방법.
  15. 산화 분해, 열 분해, 동적 분해 및/또는 광 유도 분해 처리되는 에멀전 생고무를 안정화하기 위한 제1항에 따른 성분 (b) 및 (c)의 조성물로서,
    상기 에멀전 생고무는 염화 칼슘을 포함하는 할로겐 함유 시스템과 응고되는 것인 조성물.
  16. 제1항에 있어서, 성분 (a)는 할로겐 함유 폴리디엔 에멀전 생고무인 것인 조성물.
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