JP2001507053A - 光安定化された防炎性スチレンホモポリマーおよびコポリマー - Google Patents
光安定化された防炎性スチレンホモポリマーおよびコポリマーInfo
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、a)スチレン、α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマー、b)臭素含有難燃剤、c)紫外線吸収剤、d)立体障害性アミンおよびe)エポキシ化された脂肪酸からなる組成物に関する。また本発明は、臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化するために成分c)、d)およびe)からなる光安定剤混合物を使用すること、ならびにそれらを光安定化する方法にも関する。臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマーにおいて紫外線吸収剤および立体障害性アミンにエポキシ化された脂肪酸を添加することは、光安定において予想外の相乗効果をもたらす。特に、照射により生じる製品ポリマーの変色を大幅に減少することが可能である。
Description
【発明の詳細な説明】
光安定化された防炎性スチレンホモポリマーおよびコポリマー
本発明は、a)スチレン、α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ
−またはコポリマー、b)臭素含有難燃剤、c)紫外線吸収剤、d)立体障害性
アミンおよびe)エポキシ化された脂肪酸からなる組成物に関する。また本発明
は、臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレンまたはp−メ
チルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化するために成分c)、d)およ
びe)からなる光安定剤混合物を使用すること、ならびにそれらを光安定化する
方法にも関する。
スチレンホモ−およびコポリマーはしばしば、例えばコンピューターまたはテ
レビ受像機のような電気または電子機器のハウジングとして、パッキング材料と
して、あるいはまた自動車の製造において使用されている。
静電荷、電気的接触不良または離れた電気接続が火災を引き起こす可能性があ
るので、電気または電子機器のハウジングには特に防炎性が要求されている。こ
の場合、臭素含有難燃剤は特に適当であることが発見されている。
ハウジングを防炎化する場合、美的理由から難燃剤が引き起こす変色が可能な
限り少ないこと、そして使用の間に光および熱の影響を受けてもこの変色が増加
しないことがしばしば重要である。このことから、しばしば紫外線/光安定剤ま
たは紫外線吸収剤の使用が必要とされる。
立体障害性アミンおよび紫外線吸収剤を使用してスチレン含有ポリマーを光安
定化することは長年公知であり、そして中でもエヌ.ディー.セアール(N.D.S
earle)等によりJ.Polym.Sci.:Part A:Polym.Chem.,Vol.27,1341-1357(19
89)に記載されている。防炎性スチレンポリマー/コポリマーの光安定化に関し
ては、中でもエス.ディー.ランドリー(S.D.Landry)等によりAnnual Technic
al Meeting of the Society of Plastic Engineers,New Orleans May 9-13,19
93に、ならびに同著者等によりエチルコーポレイション(Ethyl Corporation),8
000 GSRI AVE Baton Rouge,LA 70820の会社出版物に記載されている。
驚くべきことに、今や、臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチル
スチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマーにおいて紫外線吸収
剤および立体障害性アミンにエポキシ化された脂肪酸を添加することは、光安定
において予想外の相乗効果をもたらすことが発見された。特に、照射により生じ
る製品ポリマーの変色を大幅に減少することが可能である。
一つの態様において本発明は、a)スチレン、α−メチルスチレンまたはp−
メチルスチレンホモ−またはコポリマー、b)臭素含有難燃剤、c)紫外線吸収
剤、d)立体障害性アミンおよびe)エポキシ化された脂肪酸からなる組成物に
関する。
ホモポリマーの代表例はポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)およびポ
リ(α−メチルスチレン)である。
好ましいコポリマーはスチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアク
リル誘導体のコポリマーであって、例えばスチレン/ブタジエン、スチレン/ア
クリロニトリル、スチレン/アルキルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/
アルキルアクリレートおよびスチレン/ブタジエン/メタクリレート、スチレン
/無水マレイン酸、スチレン/アクリロニトリル/メチルアクリレート;スチレ
ンコポリマーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーま
たはエチレン/プロピレン/ジエンターポリマーの高衝撃強度性の混合物;およ
びスチレン/ブタジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、スチレ
ン/エチレン/ブタジエン/スチレンまたはスチレン/エチレン/プロピレン/
スチレンのようなスチレンのブロックコポリマーである。
また、スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマーも重要であり
、例えばポリブタジエンにスチレン、ポリブタジエン/スチレンまたはポリブタ
ジエン/アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエンにスチレンお
よびアクリロニトリル(またはメタクリロニトリル);ポリブタジエンにスチレ
ン、アクリロニトリルおよびメチルメタクリレート;ポリブタジエンにスチレン
および無水マレイン酸;ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無
水マレイン酸またはマレイン酸イミド;ポリブタジエンにスチレンおよびマレイ
ン酸イミド;ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはアル
キル
メタクリレート、エチレン/プロピレン/ジエンターポリマーにスチレンおよび
アクリロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキルメタクリレー
トにスチレンおよびアクリロニトリル、アクリレート/ブタジエンコポリマーに
スチレンおよびアクリロニトリル、ならびに上述されたコポリマーとそれらの混
合物、例えば、ABS、MBS、ASAまたはAESポリマーとして公知である
コポリマー混合物である。
コポリマーをランダムコポリマーとして、またはブロックコポリマーとして得
ることが可能である。ランダムコポリマーおよびブロックコポリマーの混合物と
して得ることも可能である。
ポリブタジエン−変性ポリスチレンもしばしば電気または電子機器のハウジン
グに使用される。これらのタイプのポリスチレンは耐衝撃改良ポリスチレンとし
て公知である。これらは特に好ましく本発明の領域内にある。特に好ましい変性
はアクリル/ブタジエン/スチレンコポリマー(ABS)である。
ive,カールハンサー出版(Carl Hanser Verlag),1983,561-564ページに記載さ
れている。
例として特記すべきは;デカブロモジフェニルオキシド、オクタブロモジフェ
ニルオキシド、テトラブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノール
A、ヘキサブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、トリ
ブロモフェノール、エチレン−ビス−テトラブロモフタルイミド、テトラブロモ
ビスフェノールA ポリカルボネートオリゴマー、ポリスチレンブロミド、テト
ラブロモビスフェノールA エポキシオリゴマー、エチレン−ビス−ペンタブロ
モジフェニル、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジンである。
好ましい難燃剤はエチレン−ビス−ペンタブロモジフェニルおよびエチレン−
ビス−テトラブロモフタルイミドである。
難燃剤を慣用な公知の量で添加することが可能であり、例えばポリマーを基準
として1ないし30重量%、好ましくは5ないし20重量%の量で添加すること
ができる。
Taschenbuch der Kunststoffadditive,カールハンサー出版(Carl Hanser Verl
ag),1983,564-565ページ)。これらは好ましくはSb2O3またはSb2O5であ
る。通常、ポリマーを基準として0.5ないし10重量%、好ましくは1ないし
5重量%の量で、該重金属酸化物を使用することができる。
難燃剤は公知であり、様々な製造元から市販で入手可能である。
紫外線吸収剤c)の例は以下の通りである。1.)2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
、例えば、
2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(
3’,5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール
、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、
2−(2’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−第三ブチル−2’−ヒドロ
キシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール
、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベン
ジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブ
チル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェ
ニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−[
2−(2−エチルヘキシルオキシ)−カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフ
ェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−
ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ
−ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(
2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル
)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−5’−[2−(2
−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニル)ベ
ン
ゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’
−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール
、2,2’−メチレン−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
6−ベンゾトリアゾル−2−イルフェノール]、2−[3’−第三ブチル−5’
−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’−ヒドロキシフェニル]−2H−ベ
ンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300とのエステル交換生成物、次
式[R−CH2CH2−COOCH2CH2−]2−[式中、Rは3’−第三ブチル
−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベンゾトリアゾル−2−イルフェニル基を表
す。]で表されるもの、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(α,α−ジメチルベ
ンジル)−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]ベンゾト
リアゾール、2−[2’−ヒドロキシ−3’−(1,1,3,3−テトラメチル
ブチル)−5’−(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール
。
2.)2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキシ、4−デシルオキシ、4−ドデ
シルオキシ、4−ベンジルオキシ、4,2’,4’−トリヒドロキシ、2’−ヒ
ドロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。
3.)置換または未置換安息香酸のエステル、例えば、
4−第三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェ
ニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾ
イル)レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2−メチル−4,6−ジ−
第三ブチルフェニル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート。
4.)アクリレート、例えば、
エチル−α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−α−シ
アノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチル−α−カルボメトキシシンナメ
ート、メチル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、ブチル−
α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメート、メチル−α−カルボメト
キシ−p−メトキシシンナメートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノ
ビニル)−2−メチルインドリン。
5.)オキサミド、例えば、
4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニリド
、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニリド、2,
2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−第三ブチルオキサニリド、2−エトキ
シ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルアミノプロピル
)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブチル−2’−エチルオキサニリド、お
よびその2−エトキシ−2’−エチル−5,4’−ジ−第三ブチルオキサニリド
との混合物、o−およびp−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物、およびo
−およびp−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
6.)2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば、
2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3
,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4
,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
,4−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシ
フェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2
−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシル
オキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6
−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒ
ドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロピルオキシ)フェニ
ル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、
2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロピル
オキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5
−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキ
シプロポキシ)−2−ヒドロキシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒド
ロキシ−3−ドデシルオキシ−プロポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4
−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2
−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,
5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−
2−ヒドロキシ−プロポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,
3,5−トリアジン。
好ましい紫外線吸収剤は、2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ
ール類および2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン類の群
からのものである。
特に好ましくは、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾト
リアゾール、2−(3’,5’−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)
ベンゾトリアゾールおよび2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル
)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールである。
好ましい立体障害性アミンd)はピペリジン化合物である。これらの化合物は
、次式(I)
で表される基を1個または1個より多く含む。
これらの化合物は比較的低い分子量(<700)または高い分子量を有する化
合物であってよく、後者の場合、それらはオリゴマーまたはポリマー生成物であ
ってもよい。
好ましい立体障害性アミンd)は以下の通りである。
ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート、ビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)スクシネート、ビス(
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)セバケート、ビス(
1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)セ
バケート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−n−ブチル
−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルマロネート、1−ヒドロキ
シエチル−2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリジンおよびコ
ハク酸の縮合生成物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジル)ヘキサメチレンジアミンおよび4−第三オクチルアミノ−2,6−ジ
クロロ−1,3,5−s−トリアジンの縮合生成物、トリス(2,2,6,6−
テトラメチル−4−ピペリジル)ニトリロトリアセテート、テトラキス(2,2
,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)−1,2,3,4−ブタンテトラオ
エート、1,1’−(1,2−エタンジイル)ビス(3,3,5,5−テトラメ
チルピペラジノン)、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン、4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−2−n−ブチル−2−(2−
ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジル)マロネート、3−n−オクチル
−7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカ
ン−2,4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジル)セバケート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジル)スクシネート、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラ
メチル−4−ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンおよび4−モルホリノ−2,
6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ
(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3
,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮
合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,
6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(
3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合生成物、8−アセチル−3−ドデシル
−
7,7,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ[4.5]デカン
−2,4−ジオン、3−ドデシル−1−(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,
6,6−ペンタメチル−4−ピペリジル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘ
キサデシルオキシ−および4−ステアリルオキシ−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジンの混合物、N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−
ピペリジル)ヘキサメチレンジアミンおよび4−シクロヘキシルアミノ−2,6
−ジクロロ−1,3,5−トリアジンの縮合生成物、1,2−ビス(3−アミノ
プロピルアミノ)エタンおよび2,4,6−トリクロロ−1,3,5−トリアジ
ン並びに4−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンの縮合生
成物(CAS reg.No.[136504-96-6])、N−(2,2,6,6−テトラメチル−4
−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−ペ
ンタメチル−4−ピペリジル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウンデシル
−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソス
ピロ[4.5]デカン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウンデシル
−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ[4.5]デカンおよびエピ
クロロヒドリンのエステル化反応生成物。
特に好ましくは、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル
)セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ス
クシネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)
セバケート、2−クロロ−4,6−ジー(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(
3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物および2−クロロ−4,6−ジ−(
4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,
3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの
縮合物である。
特に非常に好ましくは、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンおよび1
,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物および2−クロロ−4
,
6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ル)−1,3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ
)エタンの縮合物である。
好ましいエポキシ化された脂肪酸は、エポキシ化大豆油、エポキシ化ヒマシ油
、エポキシ化ヒマワリ油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化魚油、エポキシ化牛
脂である。
エポキシ化大豆油、エポキシ化ヒマシ油、エポキシ化ヒマワリ油またはエポキ
シ化アマニ油が特に好ましい。
成分c)、d)およびe)は全て公知であり、そしてそれらの殆どは市販で入
手可能であるか、または類似の方法により製造することができる。
ポリマーを基準として好ましくは0.1ないし5重量%の量で、特に好ましく
は0.2ないし2重量%の量で紫外線吸収剤c)を添加する。
ポリマーを基準として好ましくは0.05ないし3重量%の量で、特に好まし
くは0.1ないし1重量%の量で立体障害性アミンd)を添加する。
紫外線吸収剤c)と立体障害性アミンd)の比率は好ましくは1:10ないし
10:1、特に好ましくは1:1ないし4:1である。
ポリマーを基準として好ましくは0.01ないし5重量%の量で、特に好まし
くは0.1ないし2重量%の量でエポキシ化された脂肪酸e)を添加する。
例えば化合物を混合することにより、成分c)、d)およびe)をスチレン、
α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマー中に混入
することが可能であり、そして所望により当該技術で慣用の方法により更なる添
加剤をそれらに混入することができる。成形の前または間に、混入を行うことが
できる。上記成分を一緒に、またはいずれかの順序で連続して添加することがで
きる。
上記成分をプラスチック材料に添加し、例えば2.5ないし25重量%の濃度
でそれらを含むマスターバッチの形状で安定化することも可能である。
以下の方法により、成分c)、d)およびe)を都合良く混入することが可能
である。
−付加的な成分またはポリマー混合物の混合間の乾式混合物として。
−加工装置(例えば押出機、密閉式ミキサー、ニーダー、三本ロール練り機、
カレンダーなど)中への直接的な添加により。
−溶液または溶融物として。
上記成分は好ましくは加工装置に直接的に添加され、この方法ではマスターバ
ッチまたは最終ポリマー組成物のどちらも製造することができる。
本発明のポリマー組成物を種々の用途で使用することが可能であり、またはフ
ィルム、繊維、フィラメント、成形材料もしくは異形材のような種々の製品に加
工することが可能である。
新規組成物は、成分c)、d)およびe)に加えて付加的な成分として例えば
以下のような慣用の添加剤を1種または1種より多く含むことができる。
1 酸化防止剤 1.1.アルキル化モノフェノール、例えば、
2,6−ジ−第三ブチル−4−メチルフェノール、2−第三ブチル−4,6−ジ
メチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−エチルフェノール、2,6−
ジ−第三ブチル−4−n−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−イ
ソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−メチルフェノール、2−
(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオク
タデシル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール
、2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシメチルフェノール、直鎖または側鎖に
おいて枝分れ鎖であるノニルフェノール、例えば、2,6−ジ−ノニル−4−メ
チルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルウンデシ−1’−イル
)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルヘプタデシ−1’−イル
)フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデシ−1’−イル)
フェノールおよびそれらの混合物。
1.2.アルキルチオメチルフェノール、例えば、
2,4−ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、2,4−ジオクチ
ルチオメチル−6−メチルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エ
チルフェノール、2,6−ジ−ドデシルチオメチル−4−ノニルフェノール。
1.3.ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば、
2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキシフェノール、2,5−ジ−第三ブチルヒ
ドロキノン、2,5−ジ−第三アミルヒドロキノン、2,6−ジ−フェニル−4
−オクタデシルオキシフェノール、2,6−ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルス
テアレート、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペ
ート。
1.4.トコフェロール、例えば、
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェ
ロールおよびそれらの混合物(ビタミンE)。
1.5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば、
2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チ
オビス(4−オクチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3
−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−2−メチルフェ
ノール)、4,4’−チオビス(3,6−ジ−第二アミルフェノール)、4,4
’−ビス(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド。
1.6.アルキリデンビスフェノール、例えば、
2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’
−メチレンビス(6−第三ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレ
ンビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)フェノール]、2,2
’−メチレンビス(4−メチル−6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−
メチレンビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス
(4,6−ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(4,6−
ジ−第三ブチルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第三ブチル−4
−イソブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス[6−(α−メチルベンジ
ル)−4−ノニルフェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α−ジメ
チルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,4’−メチレンビス(2,6−
ジ−第三ブチルフェノール)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−
メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒ
ドロキシベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリス(5−第三ブ
チル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三
ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメルカプト
ブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビス(3’−第三ブチル−4’−ヒ
ドロキシフェニル)ブチレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2−(3’−第三ブチル−2
’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニ
ル]テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニ
ル)ブタン、2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
)プロパン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)−4−n−ドデシルメルカプトブタン、1,1,5,5−テトラ(5−第
三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
1.7.O−、N−およびS−ベンジル化合物、例えば、
3,5,3’,5’−テトラ−第三ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジル
エーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプ
トアセテート、トリデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−第三ブチルベンジル
メルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベン
ジル)ジチオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルメルカプトアセテート。
1.8.ヒドロキシベンジル化マロネート、例えば、
ジオクタデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−2−ヒドロキシベン
ジル)マロネート、ジオクタデシル−2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルベンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−2,2−ビス
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート、ビス[4−
(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネート。1.9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば、
1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2
,4,6−トリメチルベンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベンゼン、2,4,6−
トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。
1.10.トリアジン化合物、例えば、
2,4−ビス−オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6
−ビス(3,5−ジ一第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−ト
リアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,2,3−トリアジ
ン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒドロキシ−2
,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジン、1
,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル)ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−
ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレート。
1.11.ベンジルホスホネート、例えば、
ジメチル−2,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ
エチル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオ
クタデシル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルベンジルホスホ
ネート、3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエ
チルエステルのカルシウム塩。
1.12.アシルアミノフェノール、例えば、
4−ヒドロキシラウラニリド、4−ヒドロキシステアラニリド、N−(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバミン酸オクチル。1.13.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ オン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル
、
アルコール例、メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール
、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エ
チレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−
ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペン
タデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒ
ドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2
]オクタン。
1.14.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プ ロピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル
、
アルコール例、メタノール、エタノール、n−オクタノール、i−オクタノール
、オクタデカノール、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エ
チレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオ
ジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−
ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペン
タデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒ
ドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2
]オクタン。
1.15.β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシフェニル)プロ ピオン酸の以下の一価または多価アルコールとのエステル
、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1
,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,
2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリ
ス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル
)
オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチル
ヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホス
ファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
1.16.3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル酢酸の以下の一 価または多価アルコールとのエステル
、
アルコール例、メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、1
,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,
2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリ
ス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル
)オキサミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリメチ
ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホ
スファ−2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
1.17.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピ オン酸のアミド
、例えば、
N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル)ヘキサメチレンジアミド、N,N’−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミド、N,N’−ビス(3
,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
1.18.アスコルビン酸(ビタミンC)。
1.19.アミン酸化防止剤、例えば、
N,N’−ジ−イソプロピル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジ−第二ブ
チル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)
−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル
)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フ
ェニレンジアミン、N,N’−ジシクロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N
,N’−ジフェニル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ビス(2−ナフチル
)−p−フェニレンジアミン、N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニ
レンジアミン、N−(1,3−ジメチルブチル)−N’−フェニル−p−フェ
ニレンジアミン、N−(1−メチルヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレ
ンジアミン、N−シクロヘキシル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、
4−(p−トルエンスルファモイル)ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−
N,N’−ジ−第二ブチル−p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−
アリルジフェニルアミン、4−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル
−1−ナフチルアミン、N−(4−第三オクチルフェニル)−1−ナフチルアミ
ン、N−フェニル−2−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えば
p,p’−ジ−第三オクチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノー
ル、4−ブチリルアミノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ド
デカノイルアミノフェノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス(
4−メトキシフェニル)アミン、2,6−ジ−第三ブチル−4−ジメチルアミノ
メチルフェノール、2,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルメタン、N,N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジアミノジ
フェニルメタン、1,2−ビス[(2−メチルフェニル)アミノ]エタン、1,
2−ビス(フェニルアミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス[4−
(1’,3’−ジメチルブチル)フェニル]アミン、第三オクチル化N−フェニ
ル−1−ナフチルアミン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オクチル
ジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化ノニルジフェニルアミン
の混合物、モノ−およびジアルキル化ドデシルジフェニルアミンの混合物、モノ
−およびジアルキル化イソプロピル/イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、
モノ−およびジアルキル化第三ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒ
ドロ−3,3−ジメチル−4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モ
ノ−およびジアルキル化第三ブチル/第三オクチルフェノチアジンの混合物、モ
ノ−およびジアルキル化第三オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェ
ノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブテ−2
−エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジ−4−イル)
ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ−4−
イル)セバケート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オン、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジノ−4−オール。2.金属奪活剤、例えば、
N,N’−ジフェニルオキサミド、N−サリチラル−N’−サリチロイルヒドラ
ジン、N,N’−ビス(サリチロイル)ヒドラジン、N,N’−ビス(3,5−
ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、3−サリ
チロイルアミノ−1,2,4−トリアゾール、ビス(ベンジリデン)オキサリル
ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフ
ェニルヒドラジド、N,N’−ジアセチルアジポイルジヒドラジド、N,N’−
ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラジド、N,N’−ビス(サリチロイル
)チオプロピオニルジヒドラジド。
3.ホスフィットおよびホスホナイト、例えば、
トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジアル
キルホスフィット、トリス(ノニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホス
フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトール
ジホスフィット、トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィット、ジ
イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,6−ジ−第三ブ
チル−4−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ジイソデシ
ルオキシペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチル
−6−メチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、ビス(2,4,
6−トリス(第三ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジホスフィット、トリ
ステアリルソルビトールトリホスフィット、テトラキス(2,4−ジ−第三ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト、6−イソオクチルオキ
シ−2,4,8,10−テトラ−第三ブチル−12H−ジベンズ[d,g]−1
,3,2−ジオキサホスホシン、6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−第
三ブチル−12−メチル−ジベンズ[d,g]−1,3,2−ジオキサホスホシ
ン、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)メチルホスフィット
、ビス(2,4−ジ−第三ブチル−6−メチルフェニル)エチルホスフィット。
4.ヒドロキシルアミン、例えば、
N,N−ジベンジルヒドロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミン
、
N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−ジラウリルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒド
ロキシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘキサデシ
ル−N−オクタデシルヒドロキシルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシ
ルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,N−ジアルキルヒ
ドロキシルアミン。
5.ニトロン、例えば、
N−ベンジル−α−フェニル−ニトロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン、
N−オクチル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウンデシル−ニト
ロン、N−テトラデシル−α−トリデシル−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−
ペンタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N
−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オクタデシル−α−ペンタ
デシル−ニトロン、N−ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オク
タデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,
N−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されたニトロン。
6.チオ相乗剤、例えば、
ジラウリルチオジプロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネート。
7.過酸化物捕捉剤、例えば、
β−チオジプロピオン酸のエステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチ
ルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまたは2−メルカ
プトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタ
デシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデシルメルカプ
ト)プロピオネート。
8.ポリアミド安定剤、例えば、
ヨウ化物および/またはリン化合物と組み合せた銅塩および二価のマンガンの塩
。
9.塩基性補助安定剤、例えば、
メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート
、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂
肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステアレー
ト、
亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウムステアレート、ナト
リウムリシノレートおよびカリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレート
または亜鉛ピロカテコレート。
10.核剤、例えば、
タルクのような無機材料、二酸化チタン、酸化マグネシウムのような金属酸化物
、ホスフェート、カーボネートまたはサルフェートであって、好ましくはアルカ
リ土類金属のもの、モノ−またはポリカルボン酸のような有機化合物およびそれ
らの塩、例えば、4−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、ナト
リウムスクシネートまたはナトリウムベンゾエート、イオン性コポリマー(アイ
オノマー)のようなポリマー性化合物。
11.充填剤および強化剤、例えば、
炭酸カルシウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベスト、タルク、カ
オリン、雲母、バリウムサルフェート、金属オキシドおよびヒドロキシド、カー
ボンブラック、グラファイト、木粉および他の天然生成物の粉末または繊維、合
成繊維。
12.その他の添加剤、例えば、
可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、
難燃剤、帯電防止剤および発泡剤。
13.ベンゾフラノンおよびインドリノン、例えば、
米国特許第4325863号、米国特許第4338244号、米国特許第517
5312号、米国特許第5216052号、米国特許第5252643号、ドイ
ツ国特許第4316611号、ドイツ国特許第4316622号、ドイツ国特許
第4316876号、欧州特許第0589839号もしくは欧州特許第0591
102号に記載されているものや、あるいは3−[4−(2−アセトキシエトキ
シ)フェニル]−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、5,7−
ジ−第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイルオキシエトキシ)フェニル]ベ
ンゾフラン−2−オン、3,3’−ビス[5,7−ジ−第三ブチル−3−(4−
[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフラン−2−オン]、5,7−ジ
−第三ブチル−3−(4−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−
(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベ
ンゾフラン−2−オン、3−(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニ
ル)−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。
安定化させるポリマーまたはコポリマーを基準として0.1ないし10重量%
、典型的には0.2ないし5重量%の量で、これらの付加的な添加剤を都合良く
添加する。
別の態様において本発明は、臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メ
チルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化する
ために、紫外線吸収剤c)、立体障害性アミンd)およびエポキシ化された脂肪
酸e)からなる光安定剤混合物を使用することに関する。
また本発明は、臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレン
またはp−メチルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化する方法であって
、紫外線吸収剤c)、立体障害性アミンd)およびエポキシ化された脂肪酸e)
と該ポリマーまたはコポリマーおよび難燃剤を混合することからなる方法にも関
する。
上述の意味および好ましい意味は、ホモ−またはコポリマー、難燃剤、紫外線
吸収材、立体障害性アミンおよびエポキシ化された脂肪酸に当てはまる。個々に
いずれかの順序で連続して、または既成の混合物として一緒に、ポリマーまたは
コポリマー中に難燃剤、紫外線吸収材、立体障害性アミンおよびエポキシ化され
た脂肪酸を添加することができる。
混合装置は公知であり、好ましいものを含めて上記されている。
混合は好ましくは高温、例えば50℃ないし300℃の範囲で行われる。
以下の実施例で本発明を説明する。
実施例A:試料の作成 実施例A1
第一段階において、ミシュテニク インドゥシュトリー ゲー.エム.ベー.
ヘー(Mischtechnik Industrie GmbH)製の乾式混合機MTI−20中、室温で2
分間、15部の難燃剤FI−1を4部のSb2O3と混合する。次いでこの混合
物を、二軸スクリュー押出機中でジェネラルエレクトリック(General Electric)
製のABS登録商標サイコラック(Cycolac)TCA100部と混合する。押出機
中では以下の温度分配に設定する:ゾーン4ないしゾーン9(ダイ)=215℃
,ゾーン1=50℃,ゾーン2=200℃,およびゾーン3=210℃。ポリマ
ーはゾーン1に添加され、難燃剤はゾーン4に添加される。次いで押出ポリマー
を粒子化する。
成分c)紫外線吸収材、d)立体障害性アミンおよびe)エポキシ化された脂
肪酸からなる光安定剤混合物を4mlのエタノールに溶解し、上述の粒子100
gに適用する。15時間以上、40℃および100ミリバールで、エタノールを
揮発させる。次いで二本ロール練り機において、160℃ないし170℃および
14ないし16rpmで粒子を均一化させ、厚さ約2mmのフィルムを得る。
成分c)ないしe)およびその量については、表1および2に示す。
このようにして得られたフィルムの67gを、185℃、3分15秒、約25
0バールの圧力で、210×210×2mmの板に成形する。これらの板から4
5×40×2mmの曝露のための試料を切り取る。
曝露の結果を表1に示す。
実施例A2
実施例A1の手順を繰り返すが、ポリマーとしてダウ(Dow)製のIPS登録商
標スチロン(Styron)5192 100部を使用し、そして4部のSb2O3ととも
に12部の難燃剤FL−1を混入する。
曝露の結果を表2に示す。
実施例B:曝露試験
ASTM D 4459−85に従って、6500ワットキセノンバーナーを
取り付けたウェザー−オー−メータ−Ci65で試料を試験する。340nmに
おいて照射強度=0.3ワット/m2,ブラックパネル温度=55℃,湿度=5
5%。
色差値ΔEはDIN 6174に従って、未曝露の試料に対して決定する。
試験B1ないしB4は実施例A1のポリマーを使用して行われる。
表1 試験B5ないしB9は実施例A2のポリマーを使用して行われる。
表2
難燃剤FL−1:エチレン−ビス−ペンタブロモジフェニル(登録商標サイテ
ックス(Saytex)8010,アルベマール(Albemarle)製);
UV−1:登録商標チヌビン(Tinuvin)P(2−(2’−ヒドロキシ−5’−メ
チルフェニル)ベンゾトリアゾール),チバスペシャルティーケミカルス(Ciba
Specialty Chemicals)製);
HALS−1:立体障害性アミン,登録商標チマソルブ(Chimasorb)119(2−
クロロ−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジル)−1,3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3−アミノプ
ロピルアミノ)エタンの縮合生成物,チバスペシャルティーケミカルス(Ciba Sp
ecialty Chemicals)製);
EPOXI−1:登録商標レオプラスト(Reoplast)39(エポキシ化大豆油),
チバスペシャルティーケミカルス(Ciba Specialty Chemicals)製);
─────────────────────────────────────────────────────
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,RU,SD,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,
TM,TR,TT,UA,UG,US,UZ,VN,Y
U,ZW
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.a)スチレン、α−メチルスチレンまたはp−メチルスチレンホモ−または コポリマー、b)臭素含有難燃剤、c)紫外線吸収剤、d)立体障害性アミンお よびe)エポキシ化された脂肪酸からなる組成物。 2.成分a)がポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)またはポリ(α−メ チルスチレン)である請求項1記載の組成物。 3.成分a)がスチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたはアクリル誘導 体のコポリマーである請求項1記載の組成物。 4.成分a)がアクリル/ブタジエン/スチレン(ABS)コポリマーまたは耐 衝撃性が改良されたポリスチレンである請求項1記載の組成物。 5.難燃剤b)がデカブロモジフェニルオキシド、オクタブロモジフェニルオキ シド、テトラブロモジフェニルオキシド、テトラブロモビスフェノールA、ヘキ サブロモシクロドデカン、ビス(トリブロモフェノキシ)エタン、トリブロモフ ェノール、エチレン−ビス−テトラブロモフタルイミド、テトラブロモビスフェ ノールA ポリカルボネートオリゴマー、ポリスチレンブロミド、テトラブロモ ビスフェノールA エポキシオリゴマー、エチレン−ビス−ペンタブロモジフェ ニルまたはトリス(トリブロモフェノキシ)トリアジンである請求項1記載の組 成物。 6.難燃剤b)がエチレン−ビス−ペンタブロモジフェニルまたはエチレン−ビ ス−テトラブロモフタルイミドである請求項5記載の組成物。 7.更にSb2O3またはSb2O5を含む請求項1記載の組成物。 8.成分c)が2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール類または 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン類の群からの紫外線 吸収剤である請求項1記載の組成物。 9.成分c)が2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリア ゾール、2−(3’,5’−ジ−第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベン ゾトリアゾールまたは2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)− 2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾールである請求項8記載の組成物。 10.立体障害性アミンd)が、次式 で表される基を1個または1個より多く含む化合物である請求項1記載の組成物 。 11.成分d)がビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル) セバケート、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)スク シネート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)セ バケート、2−クロロ−4,6−ジ−(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6 −テトラメチルピペリジル)−1,3,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3 −アミノプロピルアミノ)エタンの縮合物または2−クロロ−4,6−ジ−(4 −n−ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3 ,5−トリアジンおよび1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンの縮 合物である請求項1記載の組成物。 12.成分e)がエポキシ化大豆油、エポキシ化ヒマシ油、エポキシ化ヒマワリ 油、エポキシ化アマニ油、エポキシ化魚油またはエポキシ化牛脂である請求項1 記載の組成物。 13.ポリマーを基準として0.1ないし5重量%の量で紫外線吸収剤c)を含 む請求項1記載の組成物。 14.ポリマーを基準として0.05ないし3重量%の量で立体障害性アミンd )を含む請求項1記載の組成物。 15.ポリマーを基準として0.01ないし5重量%の量でエポキシ化された脂 肪酸e)を含む請求項1記載の組成物。 16.臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレンまたはp− メチルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化する方法であって、紫外線吸 収剤c)、立体障害性アミンd)およびエポキシ化された脂肪酸e)と該ポリマ ーまたはコポリマーおよび難燃剤を混合することからなる方法。 17.臭素含有難燃剤で仕上げられたスチレン、α−メチルスチレンまたはp− メチルスチレンホモ−またはコポリマーを光安定化するために、c)紫外線吸収 剤、d)立体障害性アミンおよびe)エポキシ化された脂肪酸からなる光安定剤 混合物を使用する方法。
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