KR101689900B1 - 위상차 소자 - Google Patents

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주이치 후카타니
이즈미 오모토
세이코 이치카와
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마유 가메다
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세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
닛뽄 가야쿠 가부시키가이샤
가부시키가이샤 폴라테크노
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Abstract

본 발명은, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있는 위상차 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명은, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 하기 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 하기 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물과 액정성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 위상차 소자이다. 식 (1) 중, n 은 3 ∼ 10 의 정수를 나타내고, R2 는 -CH2-CH2- 기, -CH2-CH(CH3)- 기 또는 -CH2-CH2-CH2- 기를 나타낸다. 식 (2) 중, R3 은 -(CH2)p- 기 또는 페닐렌기를 나타내고, p 는 4 ∼ 8 의 정수를 나타낸다. 식 (3) 중, R4 는 치환 페닐렌기를 나타낸다. 식 (1) ∼ 식 (3) 중 R1 -1, R1 -2, R1 -3 은, 탄소수 5 이상의 분기 구조를 갖는 알킬기를 나타낸다. R1 -1, R1 -2, R1 -3 은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.
[화학식 1]

Description

위상차 소자{RETARDATION ELEMENT}
본 발명은, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있는 위상차 소자에 관한 것이다.
위상차 소자는, 어떠한 방향으로 진동하고 있는 직선 편광을 다른 방향으로 변환하거나, 원 편광이나 타원 편광을 직선 편광으로 변환하거나 하는 기능을 가지고 있고, 이들 기능을 이용하여, 예를 들어, 액정 표시 장치 (LCD) 의 시야각이나 콘트라스트 등을 개선할 수 있다. 이 위상차 소자의 편광 변환 기능을 이용한 구체예로서, 예를 들어, 특허문헌 1 에 개시되어 있는 액정 프로젝터의 편광 빔 스플리터의 편광 회전자로서 1/2 파장판으로 불리는 위상차 소자를 사용한 예나, 특허문헌 2 에 개시되어 있는 콜레스테릭 액정으로부터 얻어지는 원 편광을 직선 편광으로 변환하기 위해서 1/4 파장판으로 불리는 위상차 소자를 사용한 예 등이 알려져 있다. 이 1/4 파장판은, 편광판과 조합한 원 편광판으로서, 반사 방지 필터 등에도 사용되는 것이 알려져 있다.
이 위상차 소자로서, 종래 공지된 폴리카보네이트, 폴리알릴레이트, 폴리에테르술폰, 시클로올레핀폴리머 등의 플라스틱 필름을 1 축 또는 2 축 연신한 위상차 소자 등을 들 수 있다. 일반적으로 이들은 위상차판 또는 위상차 필름으로 불리고 있다.
위상차 소자의 성능은, 예를 들어, 지상축 방향 (면내에서 굴절률이 최대가 되는 방향) 의 굴절률과 진상축 방향 (면내에서 지상축 방향과 직교하는 방향) 의 굴절률의 차를 나타내는 복굴절과 그 소자의 두께의 곱에 의해 구해지는 위상차값 (리터데이션) 에 의해 결정할 수 있다. 또, 최근에는, 특허문헌 3 ∼ 7 에 개시되어 있는 액정성 화합물을 특정한 방향으로 배향시켜 그 배향 상태를 고정화시킴으로써 위상차 소자를 제조하는 것도 실시되고 있다.
이 액정성 화합물을 사용한 위상차 소자는, 플라스틱 필름에서는 실현될 수 없는 박막으로 할 수 있고, 또 플라스틱 필름에서 실시되는 연신에서는 실현될 수 없는 복잡한 배향 상태를 실현할 수 있는 특징이 있는 점에서 주목받고 있다.
이와 같은 액정성 화합물을 사용한 위상차 소자를 사용함으로 인해, 각종 액정 표시 장치의 시야각 특성이나 색이나 콘트라스트를 개선할 수 있는 것이 알려져 있다. 예를 들어, 특허문헌 3 에는, 하이브리드 배향한 디스코틱 액정층을 갖는 위상차 소자를 사용한 TN (twisted nematic) 형 액정 표시 장치의 시야각 특성의 개선에 대해 개시되어 있다. 또, 특허문헌 4 에는, STN (super twisted nematic) 형 액정 표시 장치의 색 보상에 대해 개시되어 있다. 또, 특허문헌 5 에는, 하이브리드 배향한 액정성 폴리에스테르를 갖는 위상차 소자를 사용한 ECB (electrically controlled birefringence) 형 액정 표시 장치의 시야각 개선에 대해 개시되어 있다. 또, 특허문헌 6 에는, 자외역에 선택 반사 파장역을 갖는 비틀림 배향한 액정층을 사용한 VA (vertically alignment) 형 액정 표시 장치나 OCB (optically compensated bend) 형 액정 표시 장치의 시야각 특성의 개선에 대해 개시되어 있다. 또, 특허문헌 7 에는, 상기 각 액정 표시 장치를 보상하기 위한 액정성 화합물을 사용한 위상차 소자에 사용되는 화합물이나 제조 방법 등에 대해 개시되어 있다.
위상차 소자가 목적하는 파장에서 적절한 편광 변환을 실시하기 위해서는, 상기 서술한 위상차값이 중요하다.
그러나, 이 위상차값은 여러 가지의 환경 조건, 예를 들어 고온 분위기 하, 고온 고습도 분위기 하 등에서 변화하는 경우가 있어, 그 해결이 절망되고 있다. 예를 들어, 자동차의 인스트루먼트 패널 부분이나 액정 프로젝터에 사용하는 액정 표시 장치의 경우, 고온 분위기 하에 노출됨으로 인해 위상차값이 변화하면 그 액정 표시 장치의 시야각 특성이나 콘트라스트가 저하되는 경우가 있었다.
일본 공개특허공보 평6-43453호 일본 공개특허공보 평3-45906호 일본 공개특허공보 평8-50206호 일본 공개특허공보 평3-291622호 일본 공개특허공보 2004-125830호 일본 공개특허공보 2003-315556호 일본 공개특허공보 2004-29824호
본 발명은, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있는 위상차 소자를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 하기 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 하기 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물과 액정성 화합물을 함유하는 위상차 소자이다.
[화학식 1]
Figure 112011045317017-pct00001
식 (1) 중, n 은 3 ∼ 10 의 정수를 나타내고, R2 는 -CH2-CH2- 기, -CH2-CH(CH3)- 기 또는 -CH2-CH2-CH2- 기를 나타낸다.
식 (2) 중, R3 은 -(CH2)p- 기 또는 페닐렌기를 나타내고, p 는 4 ∼ 8 의 정수를 나타낸다.
식 (3) 중, R4 는 치환 페닐렌기를 나타낸다.
식 (1) ∼ 식 (3) 중 R1 -1, R1 -2, R1 -3 은, 탄소수 5 이상의 분기 구조를 갖는 알킬기를 나타낸다. R1 -1, R1 -2, R1 -3 은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.
이하에 본 발명을 상세하게 서술한다.
본 발명자들은, 적어도 액정성 화합물과 특정한 화합물을 함유한 위상차 소자가, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있다는 것을 알아내고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
본 발명의 위상차 소자는, 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물 (이하, 간단히 「화합물」이라고도 한다) 과 액정성 화합물을 함유한다. 본 발명의 위상차 소자는, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있다.
상기 식 (1) ∼ 식 (3) 중, R1 -1, R1 -2, R1 -3 은, 탄소수 5 이상의 분기 구조를 갖는 알킬기를 나타낸다. R1 -1, R1 -2, R1 -3 이 분기 구조를 갖는 알킬기일 때, 고온 분위기 하에 있어서의 위상차값의 변화가 특히 작아진다. 상기 탄소수의 하한은 6, 상한은 18 인 것이 바람직하다. 그 중에서도, R1 -1, R1 -2, R1 -3 은 CH3-(CH2)m-CH(C2H5)- 기인 것이 바람직하고, 2-에틸헥실기 또는 2-에틸부틸기인 것이 보다 바람직하다. 여기서 m 은 1 ∼ 3 의 범위 내의 정수를 나타낸다.
상기 식 (2) 중, R3 이 페닐렌기인 경우, o 위치, m 위치, p 위치의 어느 것에 치환기를 가져도 되는데, o 위치에 치환기를 갖는 것이 바람직하다.
상기 식 (3) 중, R4 가 치환 페닐렌기인 경우, o 위치, m 위치, p 위치의 어느 것에 치환기를 가져도 되는데, o 위치 및 p 위치에 치환기를 갖는 것이 바람직하다.
식 (1) 중, R2 는 -CH2-CH2- 기, -CH2-CH(CH3)- 기 또는 -CH2-CH2-CH2- 기를 나타낸다. 그 중에서도, -CH2-CH2- 기가 바람직한 것이다.
상기 식 (1) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO), 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (4GO), 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트 (3GH), 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트, 펜타에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 옥타에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 노나에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 데카에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 등을 들 수 있다.
상기 식 (2) 로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 아디프산비스(2-에틸헥실), 아디프산비스(2-에틸부틸), 아젤라인산비스(2-에틸헥실), 아젤라인산비스(2-에틸부틸), 세바스산-디-2-에틸헥실, 세바스산-디-2-에틸부틸, 프탈산-디-2-에틸헥실, 프탈산-디-2-에틸부틸 등을 들 수 있다.
상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물은, 예를 들어, 트리멜리트산-트리-2-에틸헥실, 트리멜리트산-트리-2-에틸부틸 등을 들 수 있다.
상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (2) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물은 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상이 병용되어도 된다. 그 중에서도, 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물은, 본 발명에서 사용하는 액정성 화합물과의 상용성이 우수하고, 안정적인 위상차 소자를 얻을 수 있기 때문에 바람직하다. 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물 중에서도, 본 발명에서 사용하는 액정성 화합물과의 상용성이 우수하고, 고온 분위기 하에 있어서의 위상차값의 변화의 억제 효과에 특히 우수한 점에서, 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO), 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (4GO), 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트 (3GH) 가 보다 바람직하고, 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 가 더욱 바람직하다.
상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 액정성 화합물 100 중량부에 대해 바람직한 하한이 0.1 중량부, 바람직한 상한이 300 중량부이다. 상기 화합물의 함유량이 0.1 중량부 미만이면, 고온 분위기 하에서의 위상차값의 변화의 억제 효과가 얻어지지 않는 경우가 있다. 상기 화합물의 함유량이 300 중량부를 초과하여도 본 발명의 고온 분위기 하에서의 위상차값의 변화의 억제 효과는 변하지 않는다. 상기 화합물의 함유량의 보다 바람직한 하한은 0.5 중량부, 보다 바람직한 상한은 50 중량부이며, 더욱 바람직한 하한은 0.8 중량부, 더욱 바람직한 상한은 30 중량부, 특히 바람직한 하한은 1 중량부, 특히 바람직한 상한은 15 중량부이다.
상기 액정성 화합물은, 특정한 방향으로 배향 (예를 들어, 수평 배향, 수직 배향, 스프레이 배향, 트위스트 배향, 틸트 배향 등) 할 때, 액정성을 나타내는 화합물이면 특별히 한정되지 않는다. 상기 액정성 화합물로서, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리에스테르이미드 등의 주사슬형 액정 폴리머나, 폴리아크릴레이트, 폴리메타크릴레이트, 폴리마로트, 폴리에테르 등의 측사슬형 액정 폴리머나, 중합성 액정 등을 들 수 있다. 중합성 액정이란, 분자 내에 중합성기를 갖는 액정성 화합물이다. 그 중에서도, 중합에 의해 배향 상태를 고정화시킬 수 있기 때문에, 상기 액정성 화합물은 중합성 액정인 것이 바람직하다.
상기 중합성기는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, (메타)아크릴로일기, 비닐기, 카르코닐기, 신나모일기, 에폭시기 등의 반응성기를 들 수 있다. 중합성 액정은 통상, 중합하기 전 상태에서 액정성을 나타내고 있고, 특정한 방향으로 배향한 후에 중합시켜 배향 상태를 고정화시킨다. 고정화 후에는 반드시 액정성을 나타낼 필요는 없고, 이와 같은 중합에 의한 배향 상태를 고정화시킨 화합물도 본 발명에 있어서의 액정성 화합물에 포함된다. 또, 상기 중합성 액정을 단독 혹은 복수를 사용하여 중합함으로써 얻어지는 화합물, 또는 상기 중합성 액정과 다른 중합성 화합물을 공중합함으로써 얻어지는 화합물이, 배향할 때에 액정성을 나타내는 것이면, 중합 전의 중합성 액정이나 중합 후의 화합물이 액정성을 나타내지 않아도, 모두 본 발명에 있어서의 액정성 화합물에 포함된다.
또, 상기 중합성 액정은, 액정성을 나타내기 때문에, 분자 내에 메소겐기를 갖는 것이 바람직하다.
여기서, 상기 메소겐기로서, 예를 들어, 비페닐기, 터페닐기, (폴리)벤조산 페닐에스테르기, (폴리)에테르기, 벤질리덴아닐린기, 아세나프토퀴녹살린기 등의 로드 형상의 치환기, 판 형상의 치환기, 또는 트리페닐렌기, 프탈로시아닌기, 아자크라운기 등의 원반 형상의 치환기 등을 들 수 있다. 즉, 상기 메소겐기는 액정상 거동을 유도하는 능력을 갖는다. 또한, 로드 형상 또는 판 형상의 치환기를 갖는 액정성 화합물은, 칼라미틱 액정으로서 알려져 있다. 또, 원반 형상의 치환기를 갖는 액정성 화합물은, 디스코틱 액정으로서 알려져 있다.
상기 메소겐기를 갖는 중합성 액정은, 반드시 그 자신이 액정상을 나타내지 않아도 다른 화합물과의 혼합, 다른 메소겐기를 갖는 화합물과의 혼합, 다른 액정성 화합물과의 혼합, 또는 이들의 혼합물의 폴리머화에 의해 액정상을 나타내는 중합성 액정이어도 된다.
상기 중합성 액정은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 일본 공개특허공보 평8-50206호, 일본 공개특허공보 2003-315556호, 일본 공개특허공보 2004-29824호에 기재되어 있는 중합성 액정이나, BASF 사 제조 「PALIOCOLOR 시리즈」, Merck 사 제조 「RMM 시리즈」등을 들 수 있다. 그 중에서도 하기 식 (4) 로 나타내는 중합성 액정은 복수의 중합성기를 가짐으로 인해, 내열성이 우수하기 때문에 보다 바람직하다.
[화학식 2]
Figure 112011045317017-pct00002
식 (4) 중, q, r 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, X 는 -COO- 또는 -O- 를 나타내고, Y 는 -OC(O)O- 또는 -O- 를 나타내고, Z 는 -COO 또는 -OCO- 를 나타내고, R5 는 페닐렌기를 나타내고, R6 은 치환 페닐렌기, 치환 비페닐렌기 또는 플루오레닐기를 나타내고, R7 은 -H, -(CH2)w-CH3 또는 -COO-(CH2)w-CH3 을 나타내고, W 는 0 ∼ 11 의 정수를 나타낸다.
상기 식 (4) 로 나타내는 중합성 액정은, 보다 구체적으로는 하기 식 (4-1) 로 나타내는 중합성 액정이나, 하기 식 (4-2) 로 나타내는 중합성 액정이 더욱 바람직하다. 이들의 중합성 액정은 단독으로 사용해도 되고, 2 종 이상을 병용해도 된다.
[화학식 3]
Figure 112011045317017-pct00003
식 (4-1) 중, s, t 는 2 ∼ 10 의 정수를 나타내고, R8 은 -(CH2)w-CH3 을 나타낸다.
식 (4-2) 중, u, v 는 2 ∼ 10 의 정수를 나타내고, R9 는 -COO-(CH2)w-CH3 또는 -(CH2)w-CH3 을 나타낸다.
W 는 0 ∼ 11 의 정수를 나타낸다.
상기 중합성 액정으로서, 상기 식 (4) 로 나타내는 중합성 액정을 사용하는 경우에는, 추가로 하기 식 (5) ∼ (7) 로 나타내는 중합성 액정을 상전이 온도나 위상차 소자의 기계적 강도를 조정하기 위해서 병용해도 된다.
[화학식 4]
Figure 112011045317017-pct00004
식 (5) ∼ (7) 중, w 는 0 ∼ 11 의 정수를 나타내고, R10 은 -O-(CH2)y-CH3, -(CH2)y-CH3 또는 -CN 을 나타내고, y 는 0 ∼ 12 의 정수를 나타낸다.
상기 액정성 화합물은, 추가로 상기 중합성 액정과 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물을 중합 성분으로서 함유해도 된다. 즉, 상기 중합성 액정과 상기 중합성 화합물을 함유하는 액정성 조성물을 중합시킴으로써, 상기 액정성 화합물을 합성해도 된다. 또한, 상기 액정성 조성물은, 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (2) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물을 함유해도 된다.
상기 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물은 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 자외선 경화형 수지 등을 들 수 있다.
상기 자외선 경화형 수지는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 디펜타에리트리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트와 1,6-헥사메틸렌-디-이소시아네이트의 반응 생성물, 이소시아눌 고리를 갖는 트리이소시아네이트와 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트의 반응 생성물, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트와 이소포론-디-이소시아네이트의 반응 생성물, 디펜타에리트리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메타)아크릴레이트, 트리스(아크릴록시에틸)이소시아누레이트, 트리스(메타아크릴록시에틸)이소시아누레이트, 글리세롤트리글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 카프로락톤 변성 트리스(아크릴록시에틸)이소시아누레이트, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 트리글리세롤-디-(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜-디-글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 폴리프로필렌글리콜-디-(메타)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜-디-(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜-디-(메타)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜-디-(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜-디-(메타)아크릴레이트, 펜타에리트리톨-디-(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올-디-글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 1,6-헥산디올-디-(메타)아크릴레이트, 글리세롤-디-(메타)아크릴레이트, 에틸렌글리콜-디-글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 디에틸렌글리콜-디-글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 비스(아크릴록시에틸)하이드록시에틸이소시아누레이트, 비스(메타아크릴록시에틸)하이드록시에틸이소시아누레이트, 비스페놀 A-디-글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라하이드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 아크릴로일모르폴린, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시테트라에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 글리세롤(메타)아크릴레이트, 에틸카르비톨(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 2-시아노에틸(메타)아크릴레이트, 부틸글리시딜에테르와 (메타)아크릴산의 반응 생성물, 부톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 부탄디올모노(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물은 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상이 병용되어도 된다.
상기 액정성 조성물 중의 상기 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 액정성 조성물의 액정성을 잃지 않을 정도로 첨가 해야만 하고, 바람직한 하한은 0.1 중량％, 바람직한 상한은 20 중량％ 이며, 보다 바람직한 하한은 1.0 중량％, 보다 바람직한 상한은 10 중량％ 이다.
상기 액정성 화합물이 자외선 경화형의 중합성 액정인 경우, 혹은, 상기 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물이 자외선 경화형인 경우, 이들의 성분을 자외선에 의해 경화시키기 위해서, 상기 액정성 조성물에는 광 중합 개시제가 첨가된다.
상기 광 중합 개시제는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 907」), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 369」), 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 184」), 4-(2-하이드록시에톡시)-페닐(2-하이드록시-2-프로필)케톤 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 2959」), 1-(4-도데실페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온 (머크사 제조 「다로큐어 953」), 1-(4-이소프로필페닐)-2-하이드록시-2-메틸프로판-1-온 (머크사 제조 「다로큐어 1116」), 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 1173」), 디에톡시아세토페논 등의 아세토페논 화합물, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 651」) 등의 벤조인 화합물, 벤조일벤조산, 벤조일벤조산메틸, 4-페닐벤조페논, 하이드록시벤조페논, 4-벤조일-4＇-메틸디페닐술파이드, 3,3＇-디메틸-4-메톡시벤조페논 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-MBP」) 등의 벤조페논 화합물, 티옥산톤, 2-클로르티옥산톤 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-CTX」), 2-메틸티옥산톤, 2,4-디메틸티옥산톤 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-RTX」), 이소프로필티옥산톤, 2,4-디크로오티옥산톤 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-CTX」), 2,4-디에틸티옥산톤 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-DETX」), 2,4-디이소프로필티옥산톤 (닛폰 화약사 제조 「카야큐어-DITX」) 등의 티옥산톤 화합물 등을 들 수 있다. 이들 광 중합 개시제는, 단독으로 사용되어도 되고, 2 종 이상이 병용되어도 된다.
상기 액정성 조성물 중의 상기 광 중합 개시제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 자외선 경화형의 중합성 액정과 상기 자외선 경화형의 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물의 합계 100 중량부에 대해, 바람직한 하한은 0.5 중량부, 바람직한 상한은 10 중량부이며, 보다 바람직한 하한은 2 중량부, 보다 바람직한 상한은 8 중량부이다.
상기 광 중합 개시제로서, 상기 벤조페논 화합물이나 상기 티옥산톤 화합물을 사용하는 경우에는, 광 중합 반응을 촉진시키기 위해서, 반응 보조제를 병용하는 것이 바람직하다.
상기 반응 보조제는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민, 트리이소프로판올아민, n-부틸아민, N-메틸디에탄올아민, 디에틸아미노에틸메타아크릴레이트, 미힐러케톤, 4,4＇-디에틸아미노페논, 4-디메틸아미노벤조산에틸, 4-디메틸아미노벤조산(n-부톡시)에틸, 4-디메틸아미노벤조산이소아밀 등의 아민 화합물을 들 수 있다.
상기 액정성 조성물 중의 상기 반응 보조제의 함유량은 특별히 한정되지 않지만, 상기 액정성 조성물의 액정성에 영향을 미치지 않는 범위에서 사용하는 것이 바람직하고, 상기 자외선 경화형의 중합성 액정과 상기 자외선 경화형의 액정성을 갖지 않는 중합성 화합물의 합계 100 중량부에 대해, 바람직한 하한은 0.5 중량부, 바람직한 상한은 10 중량부이며, 보다 바람직한 하한은 2 중량부, 보다 바람직한 상한은 8 중량부이다.
또, 상기 반응 보조제의 함유량은, 상기 광 중합 개시제의 함유량에 대해, 0.5 ∼ 2 배량인 것이 바람직하다.
본 발명의 위상차 소자는, 예를 들어, 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물과 액정성 화합물을 함유하는 액정성 조성물을 조제하는 공정과, 배향 처리에 의해 상기 액정성 조성물을 일정 방향으로 배향시키는 공정과, 그 배향을 고정화시키는 공정에 의해 제조할 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들어, 상기 액정성 조성물을 소정 농도가 되도록 용제에 용해시키고, 이 용액을 러빙 처리한 필름 위에 도포한다. 이어서, 용제를 가열 등에 의해 제거하는데, 이 가열 과정에서, 또는 그 후 액정상을 나타내는 온도에서 방치함으로써, 상기 액정성 화합물이 일정 방향으로 배향한다. 배향을 고정화시키기 위해서, 이 상태에서 방랭해도 되고, 배향 상태를 유지한 채로, 자외선을 조사하여 중합 등에 의해 경화시켜도 된다. 또 본 발명의 위상차 소자는, 상기 중합성 액정을 중합시킴으로써 얻어진 필름을, 상기 식 (1) 로 나타내는 화합물, 상기 식 (2) 로 나타내는 화합물 및 상기 식 (3) 으로 나타내는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물에 의해 팽윤시켜 제조해도 된다.
상기 배향 처리하는 방법으로서, 예를 들어, 폴리에스테르 필름이나 셀룰로오스 필름 등의 플라스틱 필름을 러빙 처리하는 방법이나, 유리판이나 플라스틱 필름 위에 배향막을 형성하고, 상기 배향막을 러빙 처리 또는 광 배향 처리하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 러빙 처리는, 강이나 알루미늄 등의 금속 롤에, 나일론, 레이온, 코튼 등의 벨벳 형상의 러빙천을, 양면 테이프 등을 사용하여 첩합 (貼合) 하여 제조한 러빙 롤을 사용하고, 이것을 고속 회전시켜, 유리판이나 플라스틱 필름을 접촉시키면서 이동시킴으로써 달성된다. 상기 러빙 처리의 조건은, 사용하는 액정성 화합물의 배향의 용이함, 사용하는 러빙 천의 종류, 러빙 롤 직경, 러빙 롤의 회전수, 기판의 진행 방향에 대한 회전 방향, 기판과 러빙 롤의 접촉 길이, 기판 에 대한 러빙 롤의 압입 강도, 기판의 반송 속도, 기판이 플라스틱 필름인 경우에는, 그 필름과 러빙 롤 접촉 부분의 랩 각, 그 플라스틱 필름의 반송 장력 등의 모든 조건에 따라 적절하게 조정하면 된다.
상기 배향을 고정화시키는 방법으로서, 예를 들어, 자외선 경화형의 (액정성) 화합물을 광 중합 개시제의 존재 하, 자외선 조사하여 중합 반응에 의해 경화시켜 고정화시키는 방법이나, 수산기나 카르복실기나 아미노기 등의 관능기를 갖는 (액정성) 화합물을 함유하는 액정성 조성물을, 그 관능기와 가교 반응하는 것이 가능한 다가 이소시아네이트나 다가 에폭시 화합물과 같은 가교제의 존재 하에서, 가열에 의해 가교시켜 고정화시키는 방법이나, 액정상을 나타내는 온도가 고온 영역에 있는 액정성 화합물을 사용하여, 고온 분위기 하에서 배향 후에 급랭시킴으로써, 배향 상태를 고정화시키는 방법 등을 들 수 있다.
상기 액정성 조성물을 도포하는 방법으로서, 예를 들어, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 그라비아 코트법, 캘린더 코트법, 스프레이 코트법, 메니스커스 코트법, 슬롯다이 코트법 등을 들 수 있고, 원하는 두께, 위상차값을 얻기 위해서 적절하게 선택된다.
상기 자외선의 조사량은, 액정성 화합물이나 다른 중합성 화합물의 종류나 반응성, 광 중합 개시제의 종류와 첨가량, 막 두께에 따라 상이한데, 통상, 100 ∼ 1000 mJ/㎠ 정도가 좋다. 또, 자외선 조사시의 분위기는 공기 중, 질소 등의 불활성 가스 중 등, 중합의 용이함에 따라 적절하게 선택할 수 있다.
본 발명의 위상차 소자는, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있다.
상기 위상차값은, 위상차 소자의 면내의 최대 굴절률 방향 (지상축) 을 nx, 그것과 면내에서 직교하는 방향을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz, 두께를 d 로 하면, 정면 방향의 위상차값 Re, 및, 두께 방향의 위상차값 Rth 는, 각각 하기 식 (8) 및 하기 식 (9) 에 의해 구할 수 있다.
Re = (nx - ny)·d (8)
Rth = [｛(nx ＋ ny)/2｝- nz]·d (9)
nx, ny, nz 의 값은 사용하는 액정성 조성물의 종류나 배향의 방법에 따라 제어할 수 있다. 그러한 방법으로서, 예를 들어, 배향 처리되는 기판의 표면 장력, 러빙 강도, 배향막의 종류 등을 조정하는 방법을 들 수 있다.
본 발명의 위상차 소자와, 그 위상차 소자의 적어도 일방의 면에 형성된 점착제층을 갖는 점착제층이 형성된 위상차 소자도 또한, 본 발명의 하나이다.
본 발명의 점착제층이 형성된 위상차 소자는, 점착제층을 가짐으로써, 기판 등에 대한 적층이 용이해진다.
상기 점착제층을 구성하는 점착제는 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 점착제, 고무 점착제, 실리콘 점착제, 우레탄 점착제, 폴리에테르 점착제, 폴리에스테르 점착제 등의 감압 접착제가 바람직하고, 아크릴 점착제가 특히 바람직하다.
상기 아크릴 점착제로서, 복수의 (메타)아크릴산에스테르를 모노머 성분의 주성분으로 하여 공중합시켜 얻어지는 폴리머를 포함하는 아크릴 점착제를 들 수 있다.
상기 폴리머의 모노머 성분으로서, 예를 들어, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 이소아밀(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소(메타)노닐아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등의 에스테르 부분의 탄소수가 1 ∼ 18 인 (메타)아크릴산알킬에스테르, 벤질(메타)아크릴레이트, 나프틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시부틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시 부틸(메타)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메타)아크릴레이트, (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트, 2-메틸-3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시-시클로헥실메틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트, 메톡시에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시메틸(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 또, 상기 아크릴산에스테르 이외의 폴리머의 모노머 성분으로서, 디메틸아미노메틸아크릴아미드, N,N-디메틸아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린, 비닐에테르모노머, 아세트산비닐, (메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로니트릴 등의 공중합할 수 있는 모노머를 사용할 수 있다.
상기 모노머를 사용하여 공중합시킴으로써, 아크릴 점착제의 주성분이 되는 폴리머를 얻을 수 있다. 그 중에서도, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 펜틸(메타)아크릴레이트, 헥실(메타)아크릴레이트, 헵틸(메타)아크릴레이트, 이소아밀(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 이소옥틸(메타)아크릴레이트, 이소(메타)노닐아크릴레이트, 이소미리스틸(메타)아크릴레이트, 이소스테아릴(메타)아크릴레이트 등의 에스테르 부분의 탄소수가 1 ∼ 18 인 (메타)아크릴산알킬에스테르 중의 적어도 1 종 이상의 모노머와, 메틸(메타)아크릴레이트, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트, 4-하이드록시부틸(메타)아크릴레이트, 6-하이드록시헥실(메타)아크릴레이트, 8-하이드록시옥틸(메타)아크릴레이트, 10-하이드록시데실(메타)아크릴레이트, 12-하이드록시라우릴(메타)아크릴레이트, (4-하이드록시메틸시클로헥실)-메틸아크릴레이트, 2-메틸-3-하이드록시프로필(메타)아크릴레이트, N,N-디메틸아크릴아미드, 아크릴산, 메타크릴산, 이타콘산, 말레산 중의 적어도 1 종 이상의 모노머를 사용하여 공중합시킨 폴리머를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 부틸(메타)아크릴레이트와, 아크릴산을 공중합시킨 폴리머나, 부틸(메타)아크릴레이트와, 메틸(메타)아크릴레이트와, 아크릴산을 공중합시킨 폴리머나, 부틸(메타)아크릴레이트와, 아크릴산과, 2-하이드록시에틸(메타)아크릴레이트를 공중합시킨 폴리머를 사용하는 것이 바람직하다.
본 발명에 사용하는 점착제는, 점착제의 내구성이나, 위상차 소자 또는 유리에 대한 접착력을 조정하기 위해서, 가교제를 함유해도 된다. 상기 가교제로서, 상기 점착제를 구성하는 모노머 성분으로서, 수산기나 카르복실기를 함유하는 모노머를 사용한 경우에, 수산기나 카르복실기와 반응함으로써 가교시키는 가교제를 들 수 있다. 상기 가교제로서, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 멜라민 화합물, 아지리딘 화합물, 금속염 등을 들 수 있다. 이소시아네이트 화합물로서, 예를 들어, 톨루엔디이소시아네이트, 수소화 톨루엔디이소시아네이트, 트리메틸올프로판의 톨루엔디이소시아네이트 어덕트, 트리메틸올프로판의 자일릴렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 메틸렌비스(4-페닐메탄)트리이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이들의 케토옥심블록물, 페놀블록물 등을 들 수 있다. 또, 이소시아네이트 화합물로서, 이소시아누레이트 고리, 뷰렛체, 아로파네이트체 등을 형성시킨 폴리이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다.
상기 에폭시 화합물은, 예를 들어, 비스페놀 A, 에피클로로하이드린형의 에폭시 수지, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 슬리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
상기 금속 킬레이트 화합물은, 예를 들어, 알루미늄, 철, 구리, 아연, 주석, 티탄, 니켈, 마그네슘 등의 다가 금속의 아세틸아세톤이나 아세토아세트산에스테르 배위 화합물 등을 들 수 있다.
상기 가교제는 단독으로 사용해도 되고, 복수를 혼합하여 사용해도 되는데, 고온 환경 하에서의 변색을 저감시키기 위해서, 이소포론디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이들의 케토옥심블록물이나 페놀블록물, 에폭시 화합물을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 가교제의 첨가량은, 소망하는 점착제로서의 물성과 반응성에 따라 상이한데, 상기 모노머 성분 100 중량부에 대해 0.001 ∼ 10 중량부의 범위 내인 것이 바람직하고, 0.01 ∼ 5 중량부의 범위 내인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 위상차 소자의 양측에 점착제층이 형성되어 있는 경우, 양측의 점착제층은 동일한 점착제여도 되는데, 상이한 점착제여도 된다. 상이한 점착제란 분자량, 점착제층을 구성하는 폴리머의 조성, 유리 전이 온도 등이 상이한 것을 의미한다. 예를 들어, 양측의 점착제층에 첩합하는 기재가 상이한 경우, 폴리머 조성을 변경함으로써, 각각의 기재에 대한 접착력을 조정할 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 점착제층에 있어서, 적어도 일방에 아크릴산을 함유하는 복수의 모노머의 공중합을 함유하는 점착제를 사용함으로써, 위상차 소자의 내열성이 더욱 향상된다. 점착제층은 위상차 소자의 편측에만 형성되고 있어도 되고, 양측에 형성되어 있어도 된다. 또, 점착제층은 1 층으로만 형성되어도 되고, 상이한 점착제층이 적층되어 있어도 된다.
상기 점착제층은, 편광판이나 유리판의 접착력을 높이고, 나아가서는 내열성 평가 후의 외관 변화를 억제하기 위해서 실란 커플링제를 함유해도 된다. 상기 실란 커플링제로서, 예를 들어, 비닐트리클로르실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KA-1003」), 비닐트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-1003」), 비닐트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-1003」), 비닐트리스 (β-메톡시에톡시)실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBC-1003」), β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-303」), γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-403」), γ-글리시독시프로필메틸디에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-402」), γ-글리시독시프로필트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-403」), γ-메타크릴록시프로필메틸디메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-502」), γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-503」), γ-메타크릴록시프로필메틸디에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-502」), γ-메타크릴록시프로필트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-503」), γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「SZ-6030」), N-β(N-비닐벤질아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란염산염 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「SZ-6032」), γ-아미노프로필트리메톡시실란 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「SZ-6083」), γ-디알릴아미노프로필트리메톡시실란 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「AX43-065」), N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필메틸디메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-602」), N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-603」), N-β(아미노에틸)γ-아미노프로필트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBE-603」), γ-아미노프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-903」), γ-아미노프로필트리에톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-903」), N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-573」), γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「SH6020」), γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란 (토오레·다우코팅·실리콘사 제조 「SH6023」), γ-클로로프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-703」), γ-메르캅토프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조 「KBM-803」) 등을 들 수 있다.
상기 점착제층은, 점착제층이나 위상차 소자의 내광성을 향상시키기 위해서 자외선 흡수제를 함유해도 된다. 상기 자외선 흡수제로서, 예를 들어, 말론산에스테르 화합물, 옥살산아닐리드 화합물, 벤조트리아졸 화합물, 벤조페논 화합물, 트리아진 화합물, 벤조에이트 화합물, 힌더드아민 화합물 등을 들 수 있다.
상기 점착제층은, 상기 폴리머와, 상기 가교제와, 필요에 따라 첨가되는 실란 커플링제나 자외선 흡수제등과 용제를 혼합하여 용해시킨 용액을 이형 필름 위에 원하는 두께가 되도록 도포한다. 이어서, 가열 건조시킴으로써, 용제를 제거시켜, 상기 폴리머가 가교된 점착제층이 형성된다. 또한 이 점착제층과 본 발명의 위상차 소자를 첩합하고, 이어서 이형 필름을 박리하여, 유리판, 편광판 등의 기재에 첩합할 수 있다. 또, 박리력이 상이한 2 장의 이형 필름 사이에, 점착제층이 사이에 끼워진 상태로 하여 보관해도 된다. 일방의 이형 필름을 박리한 후, 위상차 소자에 점착제층을 첩합하고, 또 다른 일방의 이형 필름을 박리한 후, 유리판, 편광판 등의 기재에 첩합하면 된다.
본 발명의 위상차 소자는, 배향 처리된 기판 상에 형성되어도 되고, 그 상태에서 기판과 함께 사용해도 되고, 점착제층을 갖는 다른 기판을 사용하여, 배향 처리된 기판으로부터 위상차 소자를 박리하여, 다른 기판과 적층시킬 수도 있다. 상기 기판은, 예를 들어, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 필름, 시클로올레핀폴리머 필름, 폴리카보네이트 필름, 폴리에스테르 필름 등을 들 수 있다. 이들 필름은 연신 등에 의해 복굴절을 갖게 함으로써, 위상차 필름으로서 기능한다. 예를 들어, 본 발명의 위상차 소자를 복수, 또는 상기 위상차 필름과 본 발명의 위상차 소자를 직접 또는 점착제 혹은 접착제를 개재하여 적층시킴으로써 복합 위상차 소자를 얻을 수 있다.
복수의 층이 적층되어 있는 복합 위상차 소자로서, 적어도 일 층이 본 발명의 위상차 소자인 복합 위상차 소자도 또한, 본 발명의 하나이다.
본 발명의 위상차 소자, 본 발명의 점착제층이 형성된 위상차 소자 또는 본 발명의 복합 위상차 소자는, 위상차값을 파장의 1/4 (예를 들어 파장 560 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 140 ㎚) 로 함으로써, 1/4 파장판으로서 사용할 수 있어, 직선 편광을 원 편광으로 변환하거나, 원 편광을 직선 편광으로 변환하거나 할 수 있다. 또, 위상차값을 파장의 1/2 (예를 들어 파장 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚) 로 함으로써, 1/2 파장판으로서 사용할 수 있어, 직선 편광의 광축을 변경할 수 있다.
또, 본 발명의 위상차 소자, 본 발명의 점착제층이 형성된 위상차 소자 또는 본 발명의 복합 위상차 소자와 편광판을 직접, 또는 점착제층을 개재하여 적층시킴으로써, 광학 소자를 얻을 수 있다.
본 발명의 위상차 소자, 본 발명의 점착제층이 형성된 위상차 소자 또는 본 발명의 복합 위상차 소자와, 편광판의 적층체인 광학 소자도 또한, 본 발명의 하나이다.
상기 편광판으로서, 광원으로부터의 광을 편광광화하는 기능을 갖는 편광판이면 특별히 한정되지 않고, 특정한 방향의 광을 흡수하여 편광광화하는 흡수형 편광판과 특정한 방향의 광을 반사하여 편광광화하는 반사형 편광판을 사용할 수 있다.
상기 흡수형 편광판으로서, 예를 들어, 염료나 다 (多) 요오드 이온 등의 2 색성 색소를 함유한 폴리비닐알코올 필름 등의 친수성 고분자 필름을 1 축 연신하여 얻어지는 편광 소자나, 폴리비닐알코올 필름의 1 축 연신 전 또는 1 축 연신 후에 산에 의해 탈수하여 폴리엔 구조를 형성하여 얻어지는 편광 소자나, 일정 방향으로 배향하도록 처리된 배향막 상에 리오트로픽 액정 상태를 발현하는 2 색성 색소의 용액을 도포하여 용제를 제거하여 얻어지는 편광 소자나, 폴리에스테르 필름에 2 색성 색소를 함유시켜 1 축 연신하여 얻어지는 편광 소자 등을 그 상태에서, 또는 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 필름이나 시클로올레핀폴리머 필름 등의 보호 필름과 적층시킨 편광판을 들 수 있다.
상기 반사형 편광판으로서, 예를 들어, 복굴절이 상이한 층이 다수 적층된 편광 소자나, 선택 반사역을 갖는 콜레스테릭 액정과 1/4 파장판을 조합한 편광 소자나, 기판 상에 미세한 와이어 그리드를 형성한 편광 소자 등을 그 상태에서, 혹은, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스 필름이나 시클로올레핀폴리머 필름 등의 보호 필름, 또는 유리, 수정, 사파이어 등의 무기 기판과 적층시킨 편광판을 들 수 있다. 적층에 사용하는 접착제 또는 점착제는 특별히 한정되지 않지만, 아크릴 점착제, 고무 점착제, 실리콘 점착제, 우레탄 점착제, 폴리에테르 점착제, 폴리에스테르 점착제 등이 특히 바람직하다.
또, 본 발명의 위상차 소자, 본 발명의 점착제층이 형성된 위상차 소자 또는 본 발명의 복합 위상차 소자로 제조한 1/4 파장판의 지상축과 편광판의 흡수축이 이루는 각이 45 °가 되도록 적층시킴으로써, 본 발명의 광학 소자의 일 형태인 원 편광판을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 위상차 소자 또는 본 발명의 복합 위상차 소자로 제조한 1/2 파장판의 지상축과 편광판의 흡수축이 이루는 각이 45 °가 되도록 적층시킴으로써, 본 발명의 광학 소자의 일 형태인 선광판을 얻을 수 있다.
또, 본 발명의 위상차 소자가, 하이브리드 배향한 디스코틱 액정층을 갖는 위상차 소자인 경우에는, 위상차 소자의 지상축 방향과 편광판의 흡수축이 동일 방향이 되도록 적층시킴으로써, 본 발명의 광학 소자의 일 형태인 TN 형 또는 OCB 형 액정 표시 장치용의 시야각 개량 광학 소자를 얻을 수 있다.
또, 본 발명의 위상차 소자의 지상축 방향을 nx, 그것과 직교하는 방향을 ny, 두께 방향의 굴절률을 nz 로 할때, nx = ny ＞ nz 인 위상차 소자와 편광판을 적층시킴으로써, 본 발명의 광학 소자의 일 형태인 VA 형 액정 표시 장치용의 시야각 개량 광학 소자를 얻을 수 있다. 또, 적어도 1 종의 nx ＞ nz ＞ ny 인 위상차 소자의 진상축과 편광판의 흡수축이 동일 방향이 되도록 적층시킴으로써, 본 발명의 광학 소자의 일 형태인 IPS (in-plane switching) 형 액정 표시 장치의 시야각 개량 광학 소자를 얻을 수 있다.
이와 같이 하여 얻어진 본 발명의 위상차 소자, 점착제층이 형성된 위상차 소자, 복합 위상차 소자, 광학 소자를 화상 표시 장치에 삽입함으로써, 화상 표시 장치를 얻을 수 있다. 본 발명의 위상차 소자, 점착제층이 형성된 위상차 소자, 복합 위상차 소자, 또는 광학 소자를 갖는 화상 표시 장치도 또한, 본 발명의 하나이다. 화상 표시 장치는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 액정 표시 장치, 플라즈마 디스플레이 장치, 전계 발광형 표시 장치 등을 들 수 있고, 특히 액정 표시 장치에 바람직하게 사용된다. 본 발명의 위상차 소자, 복합 위상차 소자, 또는 광학 소자를 갖는 액정 표시 장치도 또한, 본 발명의 하나이다. 액정 표시 장치는 사용하는 액정 셀의 종류에 따라 상이한데, TN, OCB, STN, VA, IPS 형 등을 들 수 있고, 또한, 표시 장치는 카내비게이션, 리어엔터테인먼트용 모니터, 인스트루먼트 패널이나 카오디오부의 차재 모니터, PC 의 모니터, 액정 텔레비젼, 액정 프로젝터 등 여러 가지의 형태로 사용할 수 있다.
본 발명에 의하면, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있는 위상차 소자를 제공할 수 있다.
이하에 실시예를 들어 본 발명의 양태를 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에만 한정되는 것은 아니다.
(실시예 1)
(1) 위상차 소자의 제조
자외선 경화형 중합성 액정 (BASF 사 제조 「PARIOCOLORLC242」, 상기 식 (4-1) 에 있어서 s 가 4, t 가 4 인 중합성 액정) 100 중량부와, 2,4,6-트리메틸 벤조일디페닐포스핀옥사이드 (BASF 사 제조 「루시린 TPO」) 4 중량부와, 레벨링제 (빅케미사 제조 「BYK361」) 0.1 중량부를 시클로펜타논 243 중량부에 용해시켜 고형분 30 중량％ 의 용액을 조제하였다. 다음으로 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 를 10 중량부 첨가하여 균일해질 때까지 교반하여, 액정성 조성물의 용액을 얻었다. 다음으로 폴리에스테르 필름 (토요 방적사 제조 「A4100」) 을 러빙 머신 (EHC 사 제조, 러빙 롤 직경 45 ㎜, 러빙 롤 회전수 1500 rpm, 반송 속도 1 m/min) 을 사용하여 러빙 처리하였다. 러빙 처리면 상에 스핀 코터로 상기 액정성 조성물의 용액을 도포하고, 80 ℃ 에서 1 분간 건조 후, 질소 치환한 분위기 하에서 고압 수은등 (630 mJ/㎠) 을 조사하여 경화시켜, 본 발명의 위상차 소자를 갖는 필름을 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛ 이고, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚ 였다.
(2) 구성체의 제조
(1) 에서 얻어진 위상차 소자와, 유리판 사이에, 아크릴 점착제층을 배치하여, 위상차 소자/아크릴 점착제층/유리판의 순서대로 적층된 구성체를 제조하였다. 또한, 아크릴 점착제층은, 부틸아크릴레이트와, 메틸아크릴레이트와, N,N-디메틸아크릴아미드와, 2-하이드록시에틸아크릴레이트를 공중합시켜 얻어진 폴리머를 이소시아네이트 가교제로 가교시킨 점착제층이다.
(실시예 2)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 의 첨가량을 1 중량부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차 소자를 제조하였다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 2 ㎛, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 3)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 의 첨가량을 5 중량부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차 소자를 제조하였다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 3 ㎛, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 4)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 의 첨가량을 12 중량부로 변경한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차 소자를 제조하였다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 5)
아크릴 점착제층으로서, 부틸아크릴레이트와, 메틸아크릴레이트와, 아크릴산을 공중합시켜 얻어진 폴리머를 에폭시 가교제로 가교시킨 점착제층을 사용한 것 이외에는, 실시예 2 와 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 6)
상기 식 (4-2) 에 있어서 u 가 6, v 가 6, R9 가 -C(=O)OC5H11 인 자외선 경화형 중합성 액정 98 중량부와, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 (치바스페셜티 케미컬즈사 제조 「이르가큐어 369」) 2 중량부를 시클로펜타논 100 중량부에 용해시켜 고형분 50 중량％ 의 용액을 조제하였다. 다음으로 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 를 10 중량부 첨가하여 균일해질 때까지 교반하여, 액정성 조성물의 용액을 얻었다. 이 용액을 사용하여, 실시예 1 과 동일한 조작에 의해, 본 발명의 위상차 소자를 갖는 필름을 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 5 ㎛ 이고, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 340 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 7)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (4GO) 10 중량부를 사용한 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 279 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 8)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트 (3GH) 10 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 278 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(실시예 9)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 프탈산-디-2-에틸헥실 10 중량부를 사용하는 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 5 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 307 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 1)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 를 첨가하지 않았던 것 이외는, 실시예 1 과 동일하게 하여 위상차 소자를 제조하였다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 3 ㎛, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 270 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 2)
폴리카보네이트 필름을 1 축 연신하여 제조한 위상차 필름을 실시예 1 에서 사용한 아크릴 점착제층을 사용하여 유리판에 첩부하여, 구성체를 제조하였다.
(비교예 3)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 를 첨가하지 않았던 것 이외는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 3 ㎛, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 275 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 4)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 디부틸말레이트를 10 중량부를 사용한 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 3 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 226 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 5)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 디트리데실프탈레이트를 10 중량부를 사용한 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 244 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 6)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 시트르산트리에틸을 10 중량부를 사용한 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 4 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 245 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
(비교예 7)
트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 (3GO) 대신에 트리에틸렌글리콜디헵타노에이트 (3G7) 를 10 중량부를 사용한 것 이외에는 실시예 6 과 동일하게 하여 위상차 소자를 얻었다. 얻어진 위상차 소자는 두께가 3 ㎛ 이며, 폴리에스테르 필름을 제거한 위상차 소자의 위상차값을 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 위상차값이 226 ㎚ 였다. 이하, 실시예 1 과 동일하게 하여 구성체를 제조하였다.
＜평가＞
(내열성 평가 1)
실시예 1 ∼ 9 및 비교예 1 ∼ 7 에서 얻어진 구성체에 대해 이하의 평가를 실시하였다. 결과를 표 1 에 나타내었다.
구성체를 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 초기 위상차값은 표 1 에 나타내는 바와 같았다.
다음으로, 이 구성체를 140 ℃ 의 고온 분위기 하에 30 분간 방치하고, 방치 전후의 위상차값 변화율을 측정하였다. 또한, 표 1 에 있어서의 변화율은 이하에 의해 구한 값이다.
변화율 (％) = [｛(140 ℃, 30 분 후의 위상차값) - (초기 위상차값)｝/(초기 위상차값)]×100
(내열성 평가 2)
실시예, 비교예 중에서 실시예 1, 2, 5, 6, 9 및 비교예 1, 3 ∼ 7 에서 얻어진 구성체에 대해 이하의 평가를 실시하였다. 결과를 표 2 에 나타내었다.
구성체를 자동 복굴절계 (오지 계측사 제조 「KOBRA-21ADH」) 로 측정한 결과, 540 ㎚ 에 있어서의 초기 위상차값은 표 2 에 나타내는 바와 같았다.
다음으로, 이 구성체를 100 ℃ 의 고온 분위기 하에 2 주간 방치하고, 방치 전후의 위상차값 변화율을 측정하였다. 또한, 표 2 에 있어서의 변화율은 이하에 의해 구한 값이다.
변화율 (％) = [｛(100 ℃, 2 주일 후의 위상차값) - (초기 위상차값)｝/(초기 위상차값)]× 100
Figure 112011045317017-pct00005
Figure 112011045317017-pct00006
표 1 로부터, 실시예 1 ∼ 5 에서 제조한 위상차 소자는, 비교예 1 에 비해, 고온 분위기 하에서의 위상차값 변화가 대폭 억제되어 있는 것을 알 수 있었다. 또, 실시예 6 이나 실시예 8 에 사용한 화합물과, 비교예 7 에 사용한 화합물은 구조가 유사함에도 불구하고, 실시예 6, 8 의 위상차 소자는 고온 분위기 하에서의 위상차값 변화가 적고, 한편, 비교예 7 의 위상차 소자는, 화합물을 배합하지 않는 비교예 3 의 위상차 소자와 대략 동등한 변화로서 실질적으로 위상차값 변화 억제 효과가 없는 것을 알 수 있었다. 또한, 표 2 에 있어서, 본 발명의 위상차 소자는 비교예와 비교하여 고온 분위기 하에 있어서의 위상차값 변화를 장시간 억제할 수 있었다. 또, 실시예 2 와 실시예 5 의 결과로부터, 위상차 소자의 표면에 형성하는 점착제층을, 아크릴산을 중합 성분으로서 함유하는 점착제로 함으로써, 고온 분위기 하에서의 장기간의 위상차값 변화를 더욱 억제할 수 있는 것을 알 수 있었다.
산업상 이용가능성
본 발명에 의하면, 내열성이 우수하고, 고온 분위기 하에서 위상차값의 변화가 적어, 안정적인 광학 성능을 유지할 수 있는 위상차 소자를 제공할 수 있다.
본 발명의 위상차 소자는, 고온 분위기 하에서 사용되는 경우가 많은 카내비게이션, 리어엔터테인먼트용 모니터, 인스트루먼트패널이나 카오디오부의 차재 모니터, 액정 프로젝터나, 가혹한 환경 하에서 사용되는 표시 기기 등에 사용해도, 안정적인 화상 표시가 가능하다.

Claims (17)

  1. 하기 식 (1) 로 나타내는 화합물에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물과 액정성 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 위상차 소자.
    [화학식 1]
    Figure 112016042281671-pct00010

    식 (1) 중, n 은 3 ∼ 10 의 정수를 나타내고, R2 는 -CH2-CH2- 기, -CH2-CH(CH3)- 기 또는 -CH2-CH2-CH2- 기를 나타낸다.
    식 (1) 중 R1-1, R1-2 은, 탄소수 5 이상, 18 이하의 분기 구조를 갖는 알킬기를 나타낸다. R1-1, R1-2 은, 동일해도 되고, 상이해도 된다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    식 (1) 로 나타내는 디에스테르 화합물은, 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 트리에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트, 테트라에틸렌글리콜-디-2-에틸부틸레이트, 펜타에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 옥타에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트, 노나에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트 또는 데카에틸렌글리콜-디-2-에틸헥사노에이트인 것을 특징으로 하는 위상차 소자.
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    식 (1) 로 나타내는 화합물에서 선택되는 적어도 1 종의 화합물의 함유량이, 액정성 화합물 100 중량부에 대해 0.1 ∼ 300 중량부인 것을 특징으로 하는 위상차 소자.
  6. 제 1 항에 있어서,
    액정성 화합물이 중합성 액정이고, 또한, 상기 중합성 액정이 중합되어 있는 것을 특징으로 하는 위상차 소자.
  7. 제 6 항에 있어서,
    중합성 액정은, 하기 식 (4) 로 나타내는 중합성 액정인 것을 특징으로 하는 위상차 소자.
    [화학식 2]
    Figure 112011045317017-pct00008

    식 (4) 중, q, r 은 1 ∼ 10 의 정수를 나타내고, X 는 -COO- 또는 -O- 를 나타내고, Y 는 -OC(O)O- 또는 -O- 를 나타내고, Z 는 -COO 또는 -OCO- 를 나타내고, R5 는 페닐렌기를 나타내고, R6 은 치환 페닐렌기, 치환 비페닐렌기 또는 플루오레닐기를 나타내고, R7 은 -H, -(CH2)w-CH3 또는 -COO-(CH2)w-CH3 을 나타내고, W 는 0 ∼ 11 의 정수를 나타낸다.
  8. 제 1 항에 기재된 위상차 소자와, 그 위상차 소자의 적어도 일방의 면에 형성된, 아크릴산을 함유하는 복수의 모노머의 공중합체를 함유하는 점착제층을 갖는 것을 특징으로 하는 점착제층이 형성된 위상차 소자.
  9. 복수의 층이 적층되어 있는 복합 위상차 소자로서, 적어도 일 층이 제 1 항에 기재된 위상차 소자 또는 제 8 항에 기재된 점착제층이 형성된 위상차 소자인 것을 특징으로 하는 복합 위상차 소자.
  10. 제 1 항에 기재된 위상차 소자, 또는 제 8 항에 기재된 점착제층이 형성된 위상차 소자와, 편광판의 적층체인 것을 특징으로 하는 광학 소자.
  11. 제 9 항에 기재된 복합 위상차 소자와, 편광판의 적층체인 것을 특징으로 하는 광학 소자.
  12. 제 1 항에 기재된 위상차 소자, 또는 제 8 항에 기재된 점착제층이 형성된 위상차 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
  13. 제 10 항에 기재된 광학 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
  14. 제 11 항에 기재된 광학 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
  15. 제 1 항에 기재된 위상차 소자, 또는 제 8 항에 기재된 점착제층이 형성된 위상차 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
  16. 제 10 항에 기재된 광학 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
  17. 제 11 항에 기재된 광학 소자를 갖는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
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