KR101677288B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 Download PDF

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아쯔시 나가따
데쯔야 사다
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 평류의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 원활하게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제하는 것이다.
피처리 기판(G)을 평류 반송하는 기판 반송로(2)와, 상기 기판 반송로를 반송되는 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급 수단(9)과, 상기 기판 반송로를 반송되어, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판에 대해, 소정의 가스류를 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사하는 기체 공급 수단(21)과, 상기 기체 공급 수단에 의해 가스류가 분사되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판에 대해, 소정의 유속으로 제2 처리액을 공급하는 제1 린스액 공급 수단(22)과, 상기 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판에 대해, 상기 제1 린스액 공급 수단보다도 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 제2 린스액 공급 수단(23)을 구비한다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD}
본 발명은 피처리 기판 상에 처리액을 공급하여 소정의 처리를 행하는 기판 처리 기술에 관한 것으로, 특히 기판을 평류 방식으로 수평 방향으로 반송하면서 액처리를 행하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
최근, LCD(액정 표시 디스플레이) 제조에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는 LCD용 기판(예를 들어, 글래스 기판)의 대형화에 유리하게 대응할 수 있는 현상 방식으로서, 롤러를 수평 방향으로 부설한 반송로 상에서 기판을 반송하면서 현상, 린스, 건조 등의 일련의 현상 처리 공정을 행하도록 한, 소위 평류 방식이 보급되고 있다. 이와 같은 평류 방식은 기판을 회전 운동시키는 스피너 방식에 비해 대형 기판의 취급이 간단해, 미스트의 발생 내지 기판으로의 재부착이 적은 것 등의 이점이 있다.
그러나, 상기 평류 방식에 의한 현상 처리 공정에 있어서는, 기판 상의 현상액을 린스액[일반적으로 순수(純水)]으로 치환할 때, 현상액을 제거한 후 린스액이 공급될 때까지의 시간이 지나치게 길면, 기판 표면 내에 있어서의 외관상의 차이(현상 얼룩이라고 칭함)가 발생한다고 하는 과제가 있었다.
이와 같은 과제에 대해, 본원 출원인은 기판을 평류 반송하면서 현상 처리를 실시하여, 린스 처리를 행하는 린스부에 있어서 반송 롤러를 산 모양으로 경사 배치한 현상 유닛을 특허 문헌 1에 개시하였다.
도 6에, 특허 문헌 1에 개시된 현상 유닛에 있어서의 린스부(200)의 구성을 도시한다. 또한, 도 6의 (a)는 린스부(200)의 평면도, 도 6의 (b)는 그 측면도이다.
도시하는 린스부(200)의 구성에 있어서, 복수의 반송 롤러(201)가 부설된 산 모양의 반송로(202)가 설치되어 있다. 전단 처리에 있어서 현상액(D)이 적층된 기판(G)이 평평한 반송로(202)의 구간(M1)으로부터 점차 오르막 경사면으로 되는 구간(M2)으로 반송되면, 기판(G) 상의 현상액(D)은 후방(반송 방향 상류)으로 흘러내린다. 기판(G)이 산 모양의 반송로(202)를 내려가는 구간(M3)으로 들어가면, 상방에 배치된 기판 폭 방향으로 연장되는 린스액 공급 노즐(203)로부터 순수 등의 린스액(S)이 기판(G) 상에 공급된다. 이에 의해, 기판(G)이 구간(M3, M4)을 통과하는 동안에 현상액(D)이 린스액(S)으로 치환된다.
이와 같이 특허 문헌 1에 개시된 린스부(200)에 따르면, 반송 롤러(201)에 의해 산 모양으로 구성된 반송로(202)를 기판 반송하면서 기판 상의 현상액(D)을 흘려내려 회수하고, 그 후, 기판 상에 린스액(S)을 공급하여 현상액(D)을 린스액(S)으로 치환하게 된다.
일본특허출원공개제2007-5695호공보
상기 린스부(200)에 있어서는, 기판 상의 현상액(D)을 효율적으로 흘려내려, 현상액(D)의 회수율을 향상시키기 위해, 산 모양의 반송로(202)의 단차(고저차)가 커지도록 반송 롤러(201)를 배치하고 있었다.
그러나, 그와 같이 산 모양의 반송로(202)의 단차를 크게 하면, 도 6의 (a)의 평면도에 도시한 바와 같이, 기판(G)의 융기부(Ga)의 약간 앞(상류측)에 있어서, 흘러내리는 현상액(D)에 줄무늬 형상의 부분(L)이 발생하고, 그것이 현상 얼룩의 원인이 된다고 하는 과제가 있었다.
또한, 도 6에 도시하는 구성의 린스부(200)에 있어서는, 린스액(S)이 반송로의 상류측[구간(M1, M2)측]으로 흐르지 않도록, 린스 노즐(203)을 기판(G)의 융기부(Ga)로부터 하류측으로 어느 정도 이격하여 배치할 필요가 있었다. 그로 인해, 기판 상에 있어서 액이 끊기는 영역의 기판 반송 방향의 거리(d)가 커져, 린스액(S)이 공급될 때까지의 시간을 필요로 하므로, 그것이 현상 얼룩으로 된다고 하는 우려가 있었다.
또한, 기판 상의 현상액(D)을 린스액(S)으로 치환할 때의 얼룩의 발생을 억제하는 다른 해결 방법으로서, 도 7의 (a)의 평면도 및 도 7의 (b)의 측면도에 도시한 바와 같이, 린스부(200)에 있어서 반송로(202)를 수평으로 구성하여, 에어 나이프(204)에 의해 기판 상에 커튼 형상의 가스류를 분사하여 현상액(D)을 제거하는 방법이 생각된다.
그러나, 그와 같은 구성의 경우, 에어 나이프(204)로부터 분출되는 에어는 반송로의 상류측을 향할 필요가 있으므로, 현상액(D)의 액면에 기복이 발생하여, 그 영향에 의해 기판(G)에 미소한 현상 얼룩이 발생한다고 하는 과제가 있었다.
또한, 에어 나이프(204)로부터 분출되는 에어에 의해 기판 상의 현상액(D)은 효율적으로 제거되지만, 도 6의 구성과 마찬가지로, 도 7의 (a)에 도시한 바와 같이 기판 상에 있어서 액이 끊기는 영역의 기판 반송 방향의 거리(d)가 커져, 린스액(S)이 공급될 때까지의 시간을 필요로 하므로, 그것이 현상 얼룩으로 된다고 하는 과제가 있었다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 평류의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 원활하게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 기판 처리 장치는 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 장치이며, 상기 피처리 기판을 평류 반송하는 기판 반송로와, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급 수단과, 상기 기판 반송로를 반송되어, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사하는 기체 공급 수단과, 상기 기체 공급 수단에 의해 가스류가 분사되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 제1 린스액 공급 수단과, 상기 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 상기 제1 린스액 공급 수단보다도 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 제2 린스액 공급 수단을 구비하는 것에 특징을 갖는다.
이와 같은 구성에 따르면, 제1 처리액이 공급되어 평류 반송되는 기판에 대해, 상기 제1 처리액의 회수 시에 기체 공급 수단에 의해 소정의 가스류가 기판 반송 방향(하류측)을 향해 분사된다. 이에 의해, 기판으로부터 제거되는 제1 처리액의 전단부(상류측)가 늘려진다.
그리고, 제1 처리액이 제거된 기판면에 대해 즉시 제1 린스액 공급 수단에 의해 소정의 유속[바람직하게는 공급 시의 임팩트(충격)가 작아지는 유속]으로 제2 처리액이 공급되고, 또한 제2 린스액 공급 수단으로부터, 보다 고유속으로 제2 처리액이 공급된다. 이에 의해, 기판 상의 제1 처리액이 제2 처리액으로 치환되는 동안의 액 끊김 영역이 미소한 것으로 되어, 제1 처리액을 즉시 제2 처리액으로 치환할 수 있다.
그 결과, 종래와 같이 상기 제1 처리액으로서의 현상액이 흘러내려 얼룩 상에 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 가스류는 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사되므로, 제1 처리액에 기복이 생기지 않아, 미소한 현상 얼룩의 발생도 억제된다.
또한, 상기 기판 반송로는 수평한 반송로를 형성하는 제1 반송 구간과, 상기 제1 반송 구간에 이어지는 오르막 경사의 반송로를 형성하는 제2 반송 구간과, 상기 제2 반송 구간에 이어지는 내리막 경사의 반송로를 형성하는 제3 반송 구간을 갖고, 상기 제1 처리액 공급 수단은 상기 제1 반송 구간에 설치되고, 상기 기체 공급 수단은 상기 제2 반송 구간에 설치되고, 상기 제1 린스액 공급 수단 및 제2 린스액 공급 수단은 상기 제2 반송 구간과 제3 반송 구간에 의해 반송로에 형성되는 융기부의 상방에 배치되는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 오르막 경사인 제2 반송 구간에 의해 기판 상으로부터 제1 처리액을 효율적으로 제거할 수 있고, 또한 제1 처리액으로부터 제2 처리액으로의 치환을 즉시 행할 수 있다.
또한, 상기 기체 공급 수단에 의해 상기 피처리 기판의 기판면에 분사되는 가스류는 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 커튼 형상의 가스류인 것이 바람직하다.
이와 같이 가스류를 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 커튼 형상으로 함으로써, 기판으로부터 제거되는 제1 처리액의 선단부에 있어서의 기판 폭 방향의 편차 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 제2 린스액 공급 수단은 상기 제2 처리액을 토출하는 린스 노즐을 갖고, 상기 린스 노즐은 상기 기판 반송로를 반송되는 피처리 기판의 기판면에 대해, 그 토출 방향이 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향한 상태로 배치되는 것이 바람직하다.
이와 같이 구성함으로써, 피처리 기판에 공급된 제2 처리액의 기판 상에서의 역류를 방지할 수 있다.
또한, 상기한 과제를 해결하기 위해, 본 발명에 관한 기판 처리 방법은 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 방법이며, 기판 반송로에 있어서 상기 피처리 기판을 평류 반송하여, 기판 상에 제1 처리액을 공급하는 스텝과, 상기 기판 반송로를 반송되어, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사하는 스텝과, 상기 소정의 가스류가 분사되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 스텝과, 상기 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 보다 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 스텝을 실행하는 것에 특징을 갖는다.
이와 같은 방법에 따르면, 제1 처리액이 공급되어 평류 반송되는 기판에 대해, 상기 제1 처리액의 회수 시에 소정의 가스류가 기판 반송 방향(하류측)을 향해 분사된다. 이에 의해, 기판으로부터 제거되는 제1 처리액의 전단부(상류측)가 늘려진다.
그리고, 제1 처리액이 제거된 기판면에 대해 즉시 소정의 유속(바람직하게는 공급 시의 임펙트가 작아지는 유속)으로 제2 처리액이 공급되고, 또한 고유속으로 제2 처리액이 공급된다. 이에 의해, 기판 상의 제1 처리액이 제2 처리액으로 치환되는 동안의 액 끊김 영역이 미소한 것으로 되어, 제1 처리액을 즉시 제2 처리액으로 치환할 수 있다.
그 결과, 종래와 같이 상기 제1 처리액으로서의 현상액이 흘러내려 얼룩 상에 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 가스류는 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사되므로, 제1 처리액에 기복이 생기지 않아, 미소한 현상 얼룩의 발생도 억제된다.
또한, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사하는 스텝은, 오르막 경사로 된 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판에 대해 실행되는 것이 바람직하다.
이와 같이 함으로써, 오르막 경사인 제2 반송 구간에 의해 기판 상으로부터 제1 처리액을 효율적으로 제거할 수 있고, 또한 제1 처리액으로부터 제2 처리액으로의 치환을 즉시 행할 수 있다.
또한, 상기 소정의 유속으로 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 보다 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 스텝은 상기 오르막 경사의 기판 반송로에 이어지는 내리막 경사의 기판 반송로를 반송되는 상기 피처리 기판에 대해 실행되는 것이 바람직하다. 또한, 상기 기판 반송로를 반송되는 피처리 기판의 기판면에 대해, 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 상기 제2 처리액이 토출되는 것이 바람직하다.
이와 같이 하면, 피처리 기판에 공급된 제2 처리액의 기판 상에서의 역류를 방지할 수 있다.
본 발명에 따르면, 평류의 반송 라인 상에서 피처리 기판에 공급한 제1 처리액을 분별 회수하여 제2 처리액으로 치환하는 동작을 효율적으로 원활하게 행하여, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치를 적용 가능한 현상 유닛(DEV)의 전체 구성을 모식적으로 도시하는 도면.
도 2는 제1 융기부를 통과하는 기판의 상태를 도시하는 평면도 및 측면도.
도 3은 제1 융기부에 배치된 에어 나이프, 제1 린스 노즐, 제2 린스 노즐의 상호의 배치 관계를 보다 구체적으로 도시하는 측면도.
도 4는 제1 융기부를 반송되는 기판에 대한 처리액 치환의 상태를 도시하는 측면도.
도 5는 도 4의 처리액 치환의 상태에 대응하는 기판 상의 현상액 및 린스액의 상태를 도시하는 평면도.
도 6은 종래의 린스부의 구성을 도시하는 평면도 및 측면도.
도 7은 종래의 다른 린스부의 구성을 도시하는 평면도 및 측면도.
이하, 본 발명의 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 실시 형태에 대해, 도면에 기초하여 설명한다. 본 발명의 기판 처리 장치는, 예를 들어 LCD용 글래스 기판을 피처리 기판(이하, 기판이라고 칭함)으로 하고, LCD 제조 프로세스에 있어서 포토리소그래피 공정 중의 세정, 레지스트 도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이크 등의 각 처리를 행하는 도포 현상 처리 시스템의 일부 구성에 적용할 수 있다.
구체적으로는, 기판 상에 포토레지스트가 도포되어, 마스크 패턴을 통해 노광 처리가 실시된 기판에 현상 및 린스 처리를 실시하는 현상 유닛(DEV)에 적용할 수 있다. 이하, 도면을 참조하여 본 발명을 현상 유닛(DEV)에 적용한 일 실시 형태를 설명한다.
도 1에 본 실시 형태에 있어서의 현상 유닛(DEV)(1)의 전체 구성을 모식적으로 도시한다. 이 현상 유닛(DEV)(1)은, 도시한 바와 같이 프로세스 라인(A)을 따라서 수평 방향(X방향)으로 연장되는 평류의 반송 라인(2)(기판 반송로)을 설치하고 있고, 이 반송 라인(2)을 따라서 상류측으로부터 차례로 현상부(3), 린스부(4) 및 건조부(5)를 설치하고 있다.
반송 라인(2)은 기판(G)을, 그 피처리면을 위로 향하게 한 자세(소위, 평류 방식)로 하여 소정 속도(예를 들어, 60㎜/s)로 반송하기 위한 롤러(6)(반송체)를 반송 방향(X방향)으로 일정 간격(예를 들어, 100㎜ 간격)으로 부설하여 이루어지고, 각 롤러(6)는, 예를 들어 전기 모터를 갖는 반송 구동부(도시하지 않음)에 기어 기구 또는 벨트 기구 등의 전동 기구를 통해 접속되어 있다.
이 반송 라인(2)은 반송 방향(X방향)에 있어서 시점으로부터 종점까지 동일한 높이 위치로 이어져 있는 것이 아니라, 도중에 소정의 개소에 롤러(6)의 배치에 의해 융기 형성되는 제1 융기부(2a), 제2 융기부(2b) 및 단차부(2c)를 갖고 있다. 도 1에 도시한 바와 같이, 반송 라인(2)은 반송 방향(X방향)의 1사이드로부터 본 반송로의 형상에 따라서 9개의 반송 구간(M1, M2, M3, M4, M5, M6, M7, M8, M9)으로 구분할 수 있다.
제1 반송 구간(M1)은 전단의 처리부로부터 현상부(3) 내의 출구보다도 약간 앞(상류측)의 위치에 설정된 제1 구간 변경점(P1)까지의 구간으로, 소정의 높이 위치(제1 보텀 위치로 함)를 유지한 상태로, 거의 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖고 있다.
제2 반송 구간(M2)은 상기 제1 구간 변경점(P1)으로부터 현상부(3)와 린스부(4)의 경계 부근의 위치에 설정된 제2 구간 변경점(P2)까지의 구간으로, 반송로의 높이가 서서히 높아지도록 롤러(6)가 배치되어 있다. 이에 의해, 제2 반송 구간(M2)은 구간 변경점(P1)의 높이 위치보다도 소정량(예를 들어, 6㎜) 높아진 제1 융기부(2a)의 정상까지 소정의 경사각으로 오르는 오르막 경사의 반송로를 갖고 있다.
제3 반송 구간(M3)은 상기 제2 구간 변경점(P2)으로부터 린스부(4)의 입구 부근에 설정된 제3 구간 변경점(P3)까지의 구간으로, 반송로의 높이가 서서히 낮아지도록 롤러(6)가 배치되어 있다. 이에 의해, 상기 제1 융기부(2a)의 정상으로부터 그것보다도 소정량(예를 들어, 6㎜) 낮은 제1 보텀 위치까지 소정의 경사각으로 내려가는 내리막 경사의 반송로를 갖고 있다.
제4 반송 구간(M4)은 린스부(4) 내에서 입구 부근의 상기 제3 구간 변경점(P3)으로부터 내부 안측의 소정 위치에 설정된 제4 구간 변경점(P4)까지의 구간으로, 상기 제1 보텀 위치와 동일한 높이로 대략 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖고 있다.
제5 반송 구간(M5)은 린스부(4) 내에서 상기 제4 구간 변경점(P4)으로부터 그것보다도 소정의 거리만큼 하류측의 위치에 설정된 제5 구간 변경점(P5)까지의 구간으로, 제1 보텀 위치보다도 소정량(예를 들어, 10 내지 25㎜) 높은 제2 융기부(2b)의 정상까지 소정의 경사각으로 오르는 오르막 경사의 반송로를 갖고 있다.
제6 반송 구간(M6)은 린스부(4) 내에서 상기 제5 구간 변경점(P5)으로부터 그것보다도 소정의 거리만큼 하류측의 위치에 설정된 제6 구간 변경점(P6)까지의 구간으로, 상기 제2 융기부(2b)의 정상으로부터 그것보다도 소정량(예를 들어, 10 내지 25㎜) 낮은 위치(제2 보텀 위치로 함)까지 소정의 경사각으로 내려가 내리막 경사의 반송로를 갖고 있다.
제7 반송 구간(M7)은 린스부(4) 내에서 상기 제6 구간 변경점(P6)으로부터 그것보다도 소정의 거리만큼 하류측의 위치, 즉 린스부(4)의 출구보다 약간 앞(상류측)의 위치에 설정된 제7 구간 변경점(P7)까지의 구간으로, 상기 제2 보텀 위치와 동일한 높이로 대략 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖고 있다.
제8 반송 구간(M8)은 상기 제7 구간 변경점(P7)으로부터 린스부(4)와 건조부(5)의 경계 부근에 설정된 제8 구간 변경점(P8)까지의 구간으로, 상기 제2 보텀 위치보다도 소정량(예를 들어, 4 내지 25㎜) 높은 단차부(2c)의 상단 위치까지 소정의 경사각으로 오르는 오르막 경사의 반송로를 갖고 있다.
제9 반송 구간(M9)은 상기 제8 구간 변경점(P8)으로부터 건조부(5) 및 후단의 처리부까지 이르는 구간으로, 상기 단차부(2c)의 상단 위치의 높이를 일정하게 유지한 상태로 수평 일직선으로 연장되는 수평 반송로를 갖고 있다.
또한, 현상부(3)에 있어서는, 제1 반송 구간(M1) 내의 소정 위치에, 반송 라인(2) 상을 롤러 반송으로 이동하는 수평 자세의 기판(G)을 향해, 상방으로부터 기준 농도의 현상액(제1 처리액)을 토출하는 제1 처리액 공급 수단으로서의 현상액 공급 노즐(이하, 현상 노즐이라고 칭함)(9)이 배치되어 있다. 현상 노즐(9)은 기판 폭 방향으로 연장되는, 예를 들어 슬릿 형상의 토출구 또는 일렬로 배치된 다수의 미세 직경 토출구를 갖는 장척형 노즐로 이루어지고, 도시하지 않은 현상 공급원으로부터 배관을 통해 현상액이 급액되도록 되어 있다.
현상부(3) 내에는 반송 라인(2) 아래로 떨어진 현상액을 수용하여 모으기 위한 팬(10)이 설치되어 있다. 이 팬(10)의 액 배출구는 액 배출관(11)을 통해 현상액 재이용 기구(12)에 통하고 있다. 현상액 재이용 기구(12)는 현상액 노즐(9)에 의해 기판(G) 상에 현상액을 적층할 때에 넘쳐 흐른 현상액을 팬(10) 및 액 배출관(11)을 통해 회수하고, 회수한 현상액에 원액이나 용매를 추가하여, 기준 농도로 조정한 리사이클의 현상액을 상기 현상액 공급원으로 보내도록 되어 있다.
또한, 현상부(3)의 출구 부근의 제2 반송 구간(M2)에 있어서, 제1 융기부(2a)보다도 약간 앞(상류측)의 상방 위치에는 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 소정의 가스류, 구체적으로는 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 커튼 형상의 가스류를 분출하는 에어 노즐(21)(기체 공급 수단)이 설치되어 있다. 이 에어 커튼 형상의 가스류에 의해, 기판 경사면을 흘러내려 박막 형상으로 된 현상액을 상기 제1 융기부(2a) 부근까지 늘려, 기판(G) 상의 액 끊김 영역을 미소로 하도록 되어 있다.
또한, 현상부(3)와 린스부(4) 사이, 즉 상기 제2 반송 구간과 제3 반송 구간에 의해 형성된 상기 제1 융기부(2a)의 상방에는 현상액이 흘러내린 기판(G) 상에 즉시 순수 등의 린스액(제2 처리액)을 저유속으로, 즉 토출 시의 임펙트(충격)가 작아지는 유속으로 공급하기 위한 제1 린스 노즐(22)(제1 린스액 공급 수단)이 배치되어 있다.
또한, 이 제1 린스 노즐(22)로부터 공급된 린스액은 상기 에어 노즐(21)에 의해 형성되는 에어 커튼에 의해, 제2 반송 구간(M2)을 반송 방향 반대측으로 흘러내리지 않도록 막아진다.
또한, 제3 반송 구간(M3)에는 상기 린스 노즐(22)보다도 고유속으로, 즉 토출 시의 임펙트가 보다 커지는 유속으로, 액 치환(현상 정지)용 린스액을 공급하는 제2 린스 노즐(23)(제2 린스액 공급 수단)이 배치되어 있다.
또한, 중심부인 제5 반송 구간(M5) 내의 소정 위치에, 반송 라인(2)의 상기 제2 융기부(2b)의 오르막 경사면을 통과하는 기판(G)을 향해 상방으로부터 세정용 린스액을 토출하는 제3 린스 노즐(24)이 반송 방향을 따라서 배치되어 있다.
또한, 그 하류측 옆의 제6 반송 구간(M6) 내의 소정 위치에, 반송 라인(2)의 제2 융기부(2b)의 내리막 경사면을 통과하는 기판(G)을 향해 상방으로부터 마무리 세정용 린스액을 토출하는 제4 린스 노즐(25)이 반송 방향을 따라서 배치되어 있다.
또한, 출구 부근에서 제8 반송 구간(M8) 내의 소정 위치에, 반송 라인(2)의 오르막 단차부(2c)를 오르는 기판(G)을 향해 상방으로부터 최종 세정용 린스액을 토출하는 제5 린스 노즐(26)이 반송 방향을 따라서 배치되어 있다. 각 린스 노즐(22 내지 26)은 상기 현상액 노즐(9)과 동일한 구성을 갖는 장척형 노즐로 이루어지고, 도시하지 않은 린스액 공급원으로부터 배관을 통해 린스액이 급액되도록 되어 있다.
린스부(4) 내에는 반송 라인(2)의 아래로 떨어진 린스액을 수용되어 모으기 위한 팬(17)이 설치되어 있다. 이 팬(17)의 액 배출구는 액 배출관(18)을 통해 린스액 회수부(도시하지 않음)에 통하고 있다. 도시는 생략하지만, 반송 라인(2)의 아래로부터 기판(G)의 하면에 대해 세정용 린스액을 분출하는 하부 린스 노즐을 설치할 수도 있다.
건조부(5)에 있어서는, 제9 반송 구간(M9)의 시단부 부근의 소정 위치에, 반송 라인(2)의 상기 단차부(2c)를 올라온 직후의 기판(G)을 향해 상방으로부터 반송 방향과 역방향으로 액 끊김 내지 건조용 고압 가스류(통상은 에어류)를 분사하는 장척형 가스 노즐 또는 에어 나이프(20)가 반송 방향을 따라서 1개 또는 복수개 배치되어 있다. 반송 라인(2) 하부로부터 기판(G)의 하면을 향해 액 끊김 내지 건조용 고압 가스류를 분사하는 하부 에어 나이프(도시하지 않음)도 설치 가능하다. 또한, 건조부(5) 내에서 반송 라인(2)의 아래로 떨어진 액을 수용하여 모으기 위한 팬(도시하지 않음)을 설치해도 좋다.
또한, 현상 유닛(DEV)(1)은 일체적인 하우징(30) 내에 현상부(3), 린스부(4) 및 건조부(5)를 수용하고 있고, 다른 처리부 사이의 경계에는 반송 라인(2)을 따른 주위의 공간을 상류측과 하류측으로 이격하기 위한 연직 방향으로 연장되는 격벽(30a, 30b)을 설치하고 있다. 보다 상세하게는, 현상부(3)와 린스부(4)의 경계, 즉 제2 반송 구간(M2)과 제3 반송 구간(M3)의 경계 부근에 격벽(30a)이 설치되고, 린스부(4)와 건조부(5)의 경계, 즉 제8 반송 구간(M8)과 제9 반송 구간(M9)의 경계 부근에 격벽(30b)이 설치된다. 각 격벽(30a, 30b)에는 반송 라인(2)을 통과시키는 개구(31, 32)가 각각 형성되어 있다.
또한, 이 현상 유닛(DEV)(1)에 있어서, 각 처리부(3, 4, 5) 내의 공간은 격벽(30a, 30b)의 개구(31, 32)를 통해 서로 연통하고 있다. 현상부(3) 및 건조부(5)에서는 실외의 공기를 끌어들이기 위한 팬(33, 34)과, 이들 팬(33, 34)으로부터의 공기류를 제진하는 에어 필터(35, 36)에 의해, 천장으로부터 청정한 공기가 다운 플로우에 의해 실내로 공급되도록 되어 있다. 이 중, 현상부(3)의 천장으로부터 공급되는 청정 공기는 현상 처리 시에 발생하는 현상액의 미스트를 끌어들여 상기 격벽(30a)의 개구(31)를 통해 린스부(4)의 실내로 유입된다.
한편, 건조부(5)의 천장으로부터 공급되는 청정 공기는 건조(액 끊김) 처리에서 발생하는 린스액의 미스트를 끌어들여 상기 격벽(30b)의 개구(32)를 통해 린스부(4)의 실내로 유입되도록 되어 있다. 린스부(4)의 저부에는, 예를 들어 배기 펌프 또는 배기 팬을 갖는 배기 기구(37)에 통하는 배기구(38)가 형성되어 있다.
상기와 같이 하여 현상부(3)측으로부터 유입되어 온 미스트가 섞인 공기와, 건조부(5)측으로부터 유입되어 온 미스트가 섞인 공기는 린스부(4) 내에서 발생하는 미스트까지 끌어들여 좌우로부터 합류하여 배기구(38)로부터 배출되도록 되어 있다.
계속해서, 제2 반송 구간(M2) 및 제3 반송 구간에 있어서의 액처리의 구성에 대해, 더욱 상세하게 설명한다.
도 2의 (a)는 반송 구간(M2, M3)에 의해 형성된 제1 융기부(2a)를 통과하는 기판(G)의 상태를 도시하는 평면도이고, 도 2의 (b)는 그 측면도이다. 또한, 도 3은 상기 반송 구간(M2, M3)에 배치된 에어 나이프(21), 제1 린스 노즐(22), 제2 린스 노즐(23)의 상호의 배치 관계를 보다 구체적으로 도시하는 측면도이다.
도 2에 도시한 바와 같이, 제1 융기부(2a)에 있어서, 기판 폭 방향으로 연장되는 장척형 에어 나이프(21), 제1 린스 노즐(22), 제2 린스 노즐(23)이 기판 반송 방향을 따라서 차례로 배치되어 있다.
상기 에어 나이프(21)는 오르막 경사의 반송 구간(M2)을 반송되는 기판(G)에 대해, 소정의 고압 가스류를 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사하도록, 기판면으로부터, 예를 들어 5 내지 15㎜의 높이 위치에 배치되어 있다. 즉, 도 3에 도시한 바와 같이 에어 나이프(21)는 반송 구간(M2)의 상방에 있어서, 그 분사 방향이, 수직 하방(연직 방향)을 0°로 하여 하류측으로 소정 각도(θ1)(예를 들어, 0° 내지 10°) 경사진 상태로 설치되어 있다.
구체적으로는, 이 에어 나이프(21)에 의해, 기판(G)으로부터 흘러내리는 현상액(D)의 선단부 부분에 대해, 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 커튼 형상의 고압 가스류가, 기판 반송 방향(하류측)을 향해 소정 유량(예를 들어, 300 내지 500리터/min)으로 분사된다. 이에 의해, 기판 후방(상류측)으로 흘러내리는 현상액(D)이 줄무늬 형상으로 되지 않아, 박막의 상태가 기판 융기부(Ga) 부근까지 늘려지도록 되어 있다.
또한, 상기 가스류를, 기판 반송 방향(하류측)을 향해 분사함으로써, 현상액(D)에 기복이 생기는 것을 방지하여, 미소한 현상 얼룩의 발생을 억제하도록 되어 있다.
또한, 기판 융기부(Ga) 부근에 배치된 제1 린스 노즐(22)은 기판 후방(상류측)으로 현상액(D)이 흘러내린 기판 상에 즉시 저유속(예를 들어, 0.0247 내지 0.074m/s)으로 린스액(S)을 토출 공급하여, 기판 상에서 액이 끊기는 영역을 최대한 작게 하기 위해 설치되어 있다. 이 제1 린스 노즐(22)은 기판면으로부터, 예를 들어 2㎜의 높이에 배치되고, 그 토출 방향은 대략 수직 하방(수직 하방을 0°로 하여 ±10° 경사)을 향하게 되어 있다.
또한, 반송 구간(M3)에 배치된 제2 린스 노즐(23)은 내리막 경사면인 반송 구간(M3)을 반송되는 기판(G)에 대해, 보다 고유속(예를 들어, 1.7581m/s)으로 린스액(S)을 토출 공급하여, 현상액(D)을 완전히 린스액(S)으로 치환하기 위한 노즐이다. 이 제2 린스 노즐(23)은, 예를 들어 기판면으로부터 10 내지 30㎜의 높이에 배치되고, 그 토출 방향은 기판 반송 방향(하류측)으로 되도록 배치되어 있다. 즉, 도 3에 도시한 바와 같이 린스 노즐(23)은, 반송 구간(M3)의 상방에 있어서, 그 분사 방향이, 수직 하방(연직 방향)을 0°로 하여 하류측으로 소정 각도(θ2)(예를 들어, 0° 내지 70°) 경사진 상태로 설치되어 있다.
또한, 제2 반송 구간(M2)과 제3 반송 구간(M3)에 있어서 제1 융기부(2a)를 구성하기 위한 반송 롤러(6)는, 예를 들어 도 3에 도시한 바와 같이 배치된다. 즉, 기판의 융기부(Ga)가 형성되는 가장 높은 위치의 반송 롤러(6)는 제1 융기부(2a)에 있어서 가장 낮은 위치의 반송 롤러(6)의 높이를 0㎜로 하면, 예를 들어 0 내지 9㎜(바람직하게는 6㎜)의 높이로 된다. 이 높이는, 종래, 고저차가 크게 설정되어 있던 융기부 단차보다도 작아지도록 설정되는 것이 바람직하고, 그것에 의해 줄무늬 형상으로 흘러내리는 현상액의 발생을 억제하여, 에어 나이프(21)로부터 분사되는 가스류에 의해, 현상액(D)을 얇게 늘리기 쉽게 할 수 있다.
또한, 기판(G) 상에 있어서, 에어 나이프(21)에 의해 분출되는 가스류의 공급 위치와 제1 린스 노즐(22)에 의한 린스액의 공급 위치의 거리는, 예를 들어 20 내지 40㎜(바람직하게는 30㎜)로 설정되어 있다. 또한, 기판(G) 상에 있어서, 에어 나이프(21)에 의해 분출되는 가스류의 공급 위치와 제2 린스 노즐(23)에 의한 린스액의 공급 위치의 거리는, 예를 들어 150 내지 350㎜(바람직하게는 200㎜)로 설정되어 있다.
계속해서, 이 현상 유닛(DEV)(1)에 있어서의 전체의 동작을, 도 4, 도 5의 상태 천이도를 적절하게 사용하여 설명한다. 또한, 도 4는 반송 구간(M2, M3)을 반송되는 기판(G)에 대한 처리액 치환의 상태를 도시하는 측면도이고, 도 5는 그때의 기판(G) 상의 현상액(D) 및 린스액(S)의 상태를 도시하고 있다.
전단 처리부를 반출된 기판(G)이 일정 속도(예를 들어, 60㎜/s)의 롤러 반송으로 현상 유닛(DEV)(1)으로 반입되면, 최초에 현상부(3)에 있어서, 기판(G)이 반송 라인(2)의 제1 반송 구간(M1) 내를 수평 자세로 이동하는 동안에 정치의 현상 노즐(9)로부터 현상액(D)이 공급된다. 기판(G) 상에는 기판 전단부로부터 기판 후단부를 향해 반송 속도와 동등한 주사 속도로 현상액(D)이 적층된다. 기판(G)으로부터 흘러내린 현상액(D)은 팬(10)에 수용되어 모인다.
상기와 같이 하여 현상액(D)이 담겨진 기판(G)은, 직후에 산 모양의 제1 융기부(2a)의 오르막 경사를 형성하는 제2 반송 구간(M2)으로 반송된다.
기판(G)이 제2 반송 구간(M2)으로 반송되면, 기판 상의 현상액(D)이 하방, 즉 후방으로 중력에 의해 이동하기 시작한다. 여기서, 도 4의 (a)에 도시한 바와 같이, 에어 나이프(21)로부터는 그 하방을 통과하는 기판(G)에 대해, 소정 유량(예를 들어, 300 내지 500리터/min)의 고압 가스류가 분사된다. 에어 나이프(21)의 하방을 기판(G)이 통과하는 동안, 반송되는 기판(G)으로부터 흘러내리는 현상액(D)의 상단부 부분(선단부 부분)에는 기판 반송 방향을 향해 항상 커튼 형상의 가스류가 분사된다.
기판(G)으로부터 흘러내리는 현상액(D)의 상단부 부분(선단부 부분)은 상기 가스류에 의해 기판 반송 방향으로 늘려져, 도 5의 (a)에 도시한 바와 같이 현상액(D)의 박막부(D2)가 넓게 형성된다[또한, 기판 후방측(하류측)은 후막부(D1)로 된다]. 또한, 이 박막부(D2)의 선단부 부분은 융기부(2a) 정상[기판 융기부(Ga)] 부근까지 늘려진다.
또한, 도 4의 (b)에 도시한 바와 같이, 기판 선단부가 제3 반송 구간(M3)[제1 융기부(2a)]에 다다르면, 즉시 제1 린스 노즐(22)로부터 저유속(예를 들어, 0.0247 내지 0.074m/s)으로, 즉 토출 시의 임펙트가 작아지는 유속으로 린스액(S1)이 기판(G)에 공급된다.
이에 의해, 도 5의 (b)에 도시한 바와 같이 기판 상에는 현상액(D)[박막부(D2)]의 선단부 부분으로부터, 그다지 거리를 두지 않고 린스액(S)의 박막부(S1)가 형성된다.
즉, 현상액(D)의 박막부(D2)와 린스액(S)의 박막부(S1) 사이에 형성되는 액 끊김 영역(E)의 기판 반송 방향의 폭은 현상 얼룩의 발생에 영향을 미치지 않는 미소한 것으로 된다.
상기 제1 린스 노즐(22)로부터 린스액(S1)이 공급된 기판(G)에는 린스액(S)이 도중에 끊기지 않도록, 도 4의 (c)에 도시한 바와 같이 제2 린스 노즐(23)로부터 더 고유속(예를 들어, 1.7581m/s)으로, 즉 토출 시의 임펙트가 보다 커지는 유속으로 린스액(S2)이 공급된다. 이에 의해, 도 5의 (c)에 도시한 바와 같이 린스액(S)의 박막부(S1)에 계속해서 후막부(S2)가 형성된다.
이와 같이 하여, 기판(G)이 제2 반송 구간(M2)으로부터 제3 반송 구간(M3)으로 반송됨에 따라서, 기판 상의 현상액(D)은 린스액(S)으로 치환되어 간다. 즉, 도 4의 (d)에 도시한 바와 같이 기판(G)의 전체가 제3 반송 구간(M3)까지 반송된 시점에서는, 도 5의 (d)에 도시한 바와 같이 기판(G)의 상면은 모두 린스액(S2)으로 치환되어 현상이 정지한다.
또한, 기판(G)의 전방으로 흘러내린 현상액 및 린스액은 팬(17)에 수용되어 모인다.
이와 같이 기판(G) 상의 처리액을 현상액(D)으로부터 린스액(S)으로 치환하는 처리에 있어서는, 에어 노즐(21)로부터 분사되는 에어 커튼 형상의 가스류에 의해, 기판 경사면을 흘러내려 박막 형상으로 된 현상액(D)이 기판 융기부(Ga) 부근까지 늘려져, 즉시 제1 린스 노즐(22)에 의해 기판 융기부(Ga) 부근에 린스액(S)이 공급된다. 이로 인해, 기판(G) 상의 액 끊김 영역이 미소로 되어, 시간을 거의 두지 않고 기판 상의 현상액(D)을 린스액(S)으로 치환할 수 있다.
또한, 상기 에어 커튼 형상의 가스류에 의해, 제1 린스 노즐(22)로부터 공급된 린스액(S)이 반송 방향 반대측[제2 반송 구간(M2)]으로 흘러내리지 않도록 막아지므로, 현상액(D)과 린스액(S)이 거의 섞이지 않는 상태로 할 수 있다.
따라서, 종래와 같이 현상액(D)이 흘러내려 얼룩으로 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 에어 노즐(21)로부터 분사되는 에어 커튼 형상의 가스류가, 기판 반송 방향(하류측)을 향하게 되어 있으므로, 현상액(D)에 기복이 생기지 않아, 미소한 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
현상 처리를 종료한 기판(G)은 수평한 제4 반송 구간(M4)을 통과하여, 다음의 제5 반송 구간(M5)에서 제2 융기부(2b)의 오르막 경사로를 오른다. 이때, 기판(G) 상에 남아 있는 치환용 린스액이 기판 전단부측으로부터 후방으로 중력에 의해 이동하여 기판 후단부로부터 흘러내린다. 또한, 상방의 린스 노즐(24)로부터 기판(G) 상에 1차 세정용 린스액이 공급되어, 오래된 린스액을 몰아내면서 이 새로운 린스액도 기판 후단부로부터 흘러내린다.
기판의 후방으로 흘러내린 린스액은 팬(17)에 수용되어 모인다. 이와 같이 하여, 제2 융기부(2b)의 정점을 넘는 기판(G)은 그 상면에 1차 세정용 린스액이 얇은 액막으로 남아 있는 상태에서, 제2 융기부(2b)의 내리막 경사로[제6 반송 구간(M6)]에 다다른다.
계속해서, 제2 융기부(2b)의 내리막 경사로(M6)를 기판(G)이 내려갈 때에는, 상방의 린스 노즐(25)에 의해 기판(G) 상에 2차 세정용 새로운 린스액이 공급되어, 기판(G) 상에 얇게 남아 있던 1차 세정액을 전방으로 몰아내면서 새로운 린스액도 기판 전단부로부터 흘러내린다. 기판(G)의 전방으로 흘러내린 린스액은 팬(17)에 수용되어 모인다.
상기와 같이 하여 린스 처리를 종료한 기판(G)은 수평한 제7 반송 구간(M7)을 통과하여, 다음의 제8 반송 구간(M8)에서 올림 단차부(2c)의 경사로를 오른다. 이때, 기판(G) 상에 남아 있는 마무리용 린스액이 기판 전단부측으로부터 후방으로 중력에 의해 이동하여 기판 후단부로부터 흘러내린다. 또한, 상방의 린스 노즐(26)로부터 기판(G) 상으로 최종 세정용 린스액이 공급되어, 오래된 린스액을 몰아내면서 이 새로운 린스액도 기판 후단부로부터 흘러내린다. 기판(G)의 후방으로 흘러내린 린스액은 팬(17)에 수용되어 모인다.
그리고, 기판(G)이 단차부(2c)를 올라가, 건조부(5)측, 즉 제9 반송 구간(M9) 내의 상단 반송로로 들어가면, 에어 나이프(20)가 기판(G)에 대해 반송 방향과 역방향으로 고압 가스류를 분사함으로써, 기판(G) 상의 남아 있던 린스액이 기판 후방으로 모여 기판 후단부로부터 몰아내어진다(액이 끊김). 기판(G)의 후방으로 날려진 린스액은 팬(17)에 수용되어 모인다.
이와 같이 하여 현상 유닛(DEV)(1) 내에서 일련의 현상 처리 공정을 종료한 기판(G)은 그대로 반송 라인(2) 상을 똑바로 이동하여 후단의 처리부로 보내진다.
이상과 같이, 본 발명에 관한 실시 형태에 따르면, 현상액(D)이 공급되어 평류 반송되는 기판(G)에 대해, 상기 현상액(D)의 회수 시에 에어 나이프(21)에 의해 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 커튼 형상의 가스류가 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 분사된다. 이에 의해, 기판(G)으로부터 제거되는 현상액(D)의 전단부(상류측)가 늘려진다.
그리고, 현상액(D)이 제거된 기판면에 대해 즉시 제1 린스 노즐(22)에 의해 저유속(토출 시의 임펙트가 작은 유속)으로 린스액(S)이 공급되고, 또한 제2 린스 노즐(23)로부터, 보다 고유속(토출 시의 임펙트가 보다 큰 유속)으로 린스액(S)이 공급된다. 이에 의해, 기판(G) 상의 현상액(D)이 린스액(S)으로 치환되는 동안의 액 끊김 영역이 미소한 것으로 되어, 현상액(D)을 즉시 린스액(S)으로 치환할 수 있다.
그 결과, 종래와 같이 현상액(D)이 흘러내려 얼룩 상에 남은 상태로 방치되는 시간이 거의 없어, 현상 얼룩의 발생을 억제할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 상기 에어 나이프(21), 제1 린스 노즐(22), 제2 린스 노즐(23)을 제1 융기부(2a)의 상방에 배치하고, 제2 반송 구간(M2)의 오르막 경사에 의해 기판 상으로부터 현상액(D)을 제거하는 구성으로 하였지만, 본 발명에 있어서는, 그것으로 한정되는 것이 아니다.
예를 들어, 수평한 반송로의 상방에 상기 에어 나이프(21), 제1 린스 노즐(22), 제2 린스 노즐(23)을 모두 배열하여 배치한 구성이라도 좋다. 그 경우, 기판 상의 현상액의 제거는 에어 나이프(21)로부터 분사하는 상기 커튼 형상의 고압 가스류에 의해 행할 수 있다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 에어 나이프(21)와 제1 린스 노즐(22)을 별체로 하여 도시하였지만, 일체물로서 구성해도 좋다.
또한, 상기 실시 형태에 도시한 각 린스 노즐은 기판 폭 방향으로 연장되는 장척형 노즐로서 도시하였지만, 그것으로 한정되지 않고, 미세 직경 토출구를 각각 갖는 복수의 노즐(예를 들어, 스프레이 타입의 노즐)을 기판 폭 방향으로 배열하여 구성하도록 해도 좋다.
또한, 상기 실시 형태에 있어서는, 제1 린스 노즐(22)에 의한 토출 시의 임펙트가, 제2 린스 노즐(23)의 토출보다도 작아지도록 토출 유속을 규정하였지만, 제1 린스 노즐(22)과 제2 린스 노즐(23)의 노즐 형상이 동일하면, 토출 유량에 의해 규정할 수도 있다.
1 : 현상 유닛(기판 처리 장치)
2 : 반송 라인(기판 반송로)
9 : 현상액 공급 노즐(제1 처리액 공급 수단)
21 : 에어 나이프(기체 공급 수단)
22 : 제1 린스 노즐(제1 린스액 공급 수단)
23 : 제2 린스 노즐(제2 린스액 공급 수단)
G : 피처리 기판
D : 현상액(제1 처리액)
M1 : 제1 반송 구간
M2 : 제2 반송 구간
M3 : 제3 반송 구간
S : 린스액(제2 처리액)

Claims (8)

  1. 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 장치이며,
    상기 피처리 기판을 평류 반송하는 기판 반송로와,
    상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하는 제1 처리액 공급 수단과,
    상기 기판 반송로를 통해 반송되어, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 반송 방향 하류측을 향해 분사하는 기체 공급 수단과,
    상기 기체 공급 수단에 의해 가스류가 분사되어, 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 제1 린스액 공급 수단과,
    상기 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 상기 제1 린스액 공급 수단보다도 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 제2 린스액 공급 수단을 구비하고,
    상기 제1 린스액 공급 수단은 상기 기체 공급 수단에 의해 가스류가 분사되어, 상기 제1 처리액이 기판 반송 방향 하류측으로 늘려진 상태의 상기 피처리 기판의 기판면에 대하여 상기 제2 처리액을 공급함과 함께,
    상기 기체 공급 수단으로부터의 가스류에 의해, 제1 린스액 공급 수단으로부터 공급된 제2 처리액이 기판 반송 방향 반대측으로 흘러내리지 않도록 하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 기판 반송로는 수평한 반송로를 형성하는 제1 반송 구간과, 상기 제1 반송 구간에 이어지는 오르막 경사의 반송로를 형성하는 제2 반송 구간과, 상기 제2 반송 구간에 이어지는 내리막 경사의 반송로를 형성하는 제3 반송 구간을 갖고,
    상기 제1 처리액 공급 수단은 상기 제1 반송 구간에 설치되고, 상기 기체 공급 수단은 상기 제2 반송 구간에 설치되고, 상기 제1 린스액 공급 수단 및 제2 린스액 공급 수단은 상기 제2 반송 구간과 제3 반송 구간에 의해 반송로에 형성되는 융기부의 상방에 배치되는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 기체 공급 수단에 의해 상기 피처리 기판의 기판면에 분사되는 가스류는, 기판 폭 방향으로 직선 형상으로 연장되는 에어 커튼 형상의 가스류인 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제2 린스액 공급 수단은 상기 제2 처리액을 토출하는 린스 노즐을 갖고,
    상기 린스 노즐은 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 피처리 기판의 기판면에 대해, 그 토출 방향이 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향한 상태로 배치되는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 장치.
  5. 피처리 기판에 제1 처리액을 공급하여 소정의 액처리를 실시하고, 상기 제1 처리액을 회수하여 제2 처리액에 의해 세정하는 기판 처리 방법이며,
    기판 반송로에 있어서 상기 피처리 기판을 평류 반송하여, 기판 상에 제1 처리액을 공급하는 스텝과,
    상기 기판 반송로를 통해 반송되어, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 반송 방향 하류측을 향해 분사하는 스텝과,
    상기 소정의 가스류가 분사되어, 상기 제1 처리액이 기판 반송 방향 하류측으로 늘려진 상태의 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 유속으로 상기 제2 처리액을 공급함과 함께, 기체 공급 수단으로부터의 가스류에 의해, 공급된 제2 처리액이 기판 반송 방향 반대측으로 흘러내리지 않도록 하는 스텝과,
    상기 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 보다 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 스텝을 실행하는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제1 처리액이 공급된 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 소정의 가스류를 반송 방향 하류측을 향해 분사하는 스텝은, 오르막 경사로 된 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판에 대해 실행되는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법.
  7. 제6항에 있어서, 상기 소정의 유속으로 제2 처리액이 공급되어, 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판의 기판면에 대해, 보다 고유속으로 상기 제2 처리액을 공급하는 스텝은, 상기 오르막 경사의 기판 반송로에 이어지는 내리막 경사의 기판 반송로를 통해 반송되는 상기 피처리 기판에 대해 실행되는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법.
  8. 제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판 반송로를 통해 반송되는 피처리 기판의 기판면에 대해, 연직 방향 내지 반송 방향 하류측 중 어느 한쪽을 향해 상기 제2 처리액이 토출되는 것을 특징으로 하는, 기판 처리 방법.
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