KR101636390B1 - 실리콘 용매 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 A) 하나 이상의 테트라알킬암모늄 플루오라이드, B) 수소 이온과 결합할 수 있는 하나 이상의 무기 염기, 및 C) 테트라알킬암모늄 플루오라이드 A) 뿐만 아니라 0.001 중량% 이상의 무기 염기 B)를 용해하는데 적합한 하나 이상의 용매를 포함하는 실리콘 용매에 관한 것이다.

Description

실리콘 용매{SILICONE SOLVENT}
본 발명은 실리콘 잔기의 해중합(depolymerization) 및 제거를 위한 조성물 에 관한 것이다. 실리콘 용해제(dissolver)로 지칭되는, 이 조성물은 알킬-암모늄 플루오라이드, 무기 염기성 염 및 용매를 포함한다. 본 발명의 상기 조성물은 민감한 표면 또는 기판(substrate)으로부터, 가교결합되거나 또는 가교결합되지 않은, 포화되거나 또는 포화되지 않은 실리콘 잔기를 제거하는 데 특히 유용하다. 실리콘 용해제는, 용도에 따라 다양한 어플리케이션에서 액체형, 페이스트형 또는 겔형일 수 있다.
가교결합되거나 또는 가교결합되지 않은 실리콘을 제거 또는 해중합하기 위한 다양한 방법 및 조성물은 당해 기술분야에 잘 알려져 있다.
● 유기 용매 또는 할로겐화 유기 용매에 의한 팽윤 및 제거.
● 예를 들면 디이소프로필아민과 같은 아민에 의한 팽윤 및 제거.
● US 2,710,843 에서 예로 기술된 것과 같이, 수산화나트늄 또는 수산화칼륨과 같은 강 염기의 알칼리 용액에 의한 폴리디메틸실록산의 해중합.
● DE 69122740 T2 에서 예로 기술된 것과 같이, 단쇄 또는 사이클릭 올리고디오르가노실록산에 의한 해중합.
● JP 8250400 A 에서 예로 기술된 것과 같이, 예를 들면 알킬벤젠술폰산, 황산, 불산과 같은 강산의 수용액에 의한 해중합.
● EP 0 884 368 A1 에서 예로 기술된 것과 같이, 포스포니트릴 할라이드 화합물 및 7개 이하의 Si-사슬로 구성된 단쇄 올리고디메틸실록산을 포함하는 조성물에 의한 해중합. 이와는 반대되는 용도로서 사이클릭 또는 선형 포스포니트릴 할라이드 화합물의, 장쇄 폴리디메틸실록산을 제조하기 위한 사슬 신장 부가 또는 축합 중합 촉매로서의 용도는, DE 196 070 264 A1 에서 폴리디메틸실록산의 평형을 유지하기 위한 촉매로서 사용되는 것으로 기재되어 있는 바와 같이 오랫동안 알려져 온 종래 기술이다.
● US 5,008,229 는 유기 용매 중 포스포니트릴 클로라이드 조성물, 및 축합 및/또는 하이드록시-말단을 갖는 디오르가노실록산의 평형을 촉진하는데 이용되는 그와 같은 조성물의 용도에 관한 것이다. 비록 개선된 결과를 달성하였으나, 포스포니트릴 클로라이드의 용해를 촉진시키기 위해서 에틸 아세테이트와 같은 유기 용매가 사용된다. DE 37 25 377 은 촉매로서 포스포러스-나이트로젠 클로라이드 및, 옥타메틸사이클로테트라실록산과 같은 사이클릭 디오르가노실록산의 반응 생성물을 사용함으로써 유기 용매의 사용을 배제하였다. 그러나, 경험에 의하면, 그러한 포스포러스-나이트로젠 클로라이드 및 옥타메틸사이클로테트라실록산의 반응 생성물은 수천 mPa·s (센티푸아즈)를 초과하는 점도를 가지는 경우가 흔하며, 이로 인해, 이 물질은 폴리디메틸실록산 잔기의 제거를 위한 촉매로서는 그 유용성이 떨어지게 된다.
● US 7,232,770 B1 은 반도체 분야에서 실리콘 잔기의 제거용으로서 다양한 용매 중에서 아민과 결합된 암모늄 플루오라이드를 개시하고 있다.
종래 공지된 실리콘 용해용 조성물의 단점은, 예를 들면 유기 산 또는 알칼리와 같은 부식성 물질을 함유하기 때문에, 다양한 기판으로부터 실리콘을 제거하기 위해서 사용되는 경우, 금속의 표면 부식을 야기한다는 것이다.
따라서 본 발명에서 해결하고자 하는 과제는, 다양한 기판으로부터 또는 기판들 간에 가교결합되거나 또는 가교결합되지 않은 폴리실록산 잔기를 제거하는 데 유용하면서 동시에 실리콘 불순물을 제거하는 처리 시간 동안 기판에 대해서는 비활성이고, 얇은 층인 경우에도 기판을 손상 또는 부식시키지 않는 조성물을 제공하는 것이다.
이러한 과제는 놀랍게도 하기 성분을 포함하는 실리콘 용해제에 의해서 해결되었다.
A) 하나 이상의 테트라알킬암모늄 플루오라이드,
B) 수소 이온과 결합할 수 있는 하나 이상의 무기 염기, 및
C) 테트라알킬암모늄 플루오라이드 A) 뿐만 아니라 0.001 중량% 이상의 무기 염기 B)를 용해하는데 적합한 하나 이상의 용매.
놀랍게도, 무기 염은 유기 테트라알킬암모늄 플루오라이드 및 용매로 구성된 실리콘 용해제 조성물의 부식 효과의 억제에 특히 유용한 것으로 밝혀졌다.
본 발명의 상기 실리콘 용해제는 기판 상에 또는 기판들 간에 존재하는 폴리실록산 잔기 또는 층을 제거하는 데 특히 유용하다.
본 발명의 상기 실리콘 용해제는 실리콘 중합체 및/또는 폴리디메틸실록산 기에 선택적으로 작용한다는 이점이 있다. 이러한 반응의 메커니즘 때문에 다른 플라스틱은 손상을 입지 않는다. 본 발명의 상기 실리콘 용해제에 대하여 불활성인 플라스틱의 예는 다음과 같다: 폴리올레핀, 폴리스티렌, 폴리비닐 클로라이드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리니트릴, 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 코폴리머, 폴리이미드, 또는 폴리아크릴레이트.
본 발명의 상기 실리콘 용해제는 예를 들면 RTV-1, RTV-2, LSR 및 HTV와 같은 부가-가교결합된, 축합-가교결합된 및 과산화적으로 가교결합된 실리콘 고무를 용해시킬 뿐이다. 본 발명의 상기 실리콘 용해제는 또한 실리콘 고무에 대하여 효과적이며, 그 용도에 따라, 예를 들면 친수성 또는 소수성 실리카, 침전 실리카, 실리콘 레진, 알루미늄 옥사이드, 티타늄 옥사이드, 카본 블랙(carbon black), 흑연, 금속, 금속 카보네이트, 규조토, 금속 분진 등의 충전재(filler), 유리 섬유 또는 폴리머릭 섬유와 같은 섬유, 및 살균제, 향기, 부식 억제제, 산화 억제제, 광 안정화제, 난연제, 분산제, 접착 촉진제, 안료, 가소제, 유기 중합체 또는 열 안정화제와 같은 여러 가지 종류의 첨가제 등의 부가적인 성분을 포함한다. 본 발명의 상기 실리콘 용해제는 또한 폴리디오르가노실록산 단위를 포함하는 공중합체 또는 실리콘 수지를 분해한다.
바람직한 실시예에서, 성분 A)는 일반식 (1)로 표시된다:
(CnH2n +1)4N+ F- (1)
여기서
n은 1 내지 30이고, 바람직하게는 n은 1 내지 18이고, 더욱 바람직하게는 n은 1 내지 10이다.
화합물 A)는 오랫동안 당업계에 알려져 있고, 상업적으로 입수가능하다. 바람직한 화합물 A)의 예는 다음과 같다: 테트라메틸암모늄 플루오라이드, 테트라에틸암모늄 플루오라이드, 테트라부틸암모늄 플루오라이드, 테트라펜틸암모늄 플루오라이드, 테트라헥실암모늄 플루오라이드, 테트라헵틸암모늄 플루오라이드, 테트라옥틸암모늄 플루오라이드, 테트라노닐암모늄 플루오라이드, 테트라데실암모늄 플루오라이드, 테트라이소프로필암모늄 플루오라이드, 테트라이소부틸암모늄 플루오라이드, 테트라(t-부틸)암모늄 플루오라이드, 테트라(t-펜틸)암모늄 플루오라이드.
바람직한 실시예에서, 성분 B)는, 다음과 같은 무기 염의 그룹으로부터 선택되고, 여기서 M은 알칼리 및 알칼리 토금속 및 예를 들면, 암모늄 이온과 같은 1가 양이온의 그룹으로부터 선택된다:
MoHpPO3 및 MoHpPO4로 표시되는 인산 및 인산염, 여기서 o는 1 내지 3 (1가 금속 양이온을 기반으로 한 예시적인 실험식) 및 p는 0 내지 2이고,
MqHrSO3, MqHrSO4로 표시되는 유황 및 황산염, 여기서 q는 1 내지 2, r은 0 내지 1이고,
MNO2 및 MNO3로 표시되는 아질산 및 질산염 (1가 금속 양이온을 기반으로 한 예시적인 실험식). 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘 및 암모늄이 M으로 선호된다. 특히 바람직한 화합물 B)는 오르소인산나트륨(Na3PO4), 인산수소이나트륨(Na2HPO4), 인산이수소나트륨(NaH2PO4), 인산수소마그네슘(MgHPO4), 인산마그네슘(Mg3(PO4)2), 인산일암모늄((NH4)H2PO4), 인산이암모늄((NH4)2HPO4), 인산삼암모늄((NH4)3PO4)이다.
성분 C)는 성분 A) 및 0.001 중량% 이상의 성분 B)를 용해시킬 수 있는 용매이다. 성분 C)의 예로는 질소, 인 또는 할로겐 원자와 같은 헤테로 원자를 또한 추가로 포함할 수 있는, 직쇄, 분지쇄 및 고리형 에테르이다. 그러나, 용매로서 유용한 에테르의 예는 디알킬 에테르: 디에틸 에테르, 디-n-프로필 에테르, 디이소프로필 에테르, 디부틸 에테르, 디펜틸 에테르, 디헥실 에테르, 디옥틸 에테르, 2-에틸헥실 비닐 에테르, 4-클로로부틸 에테르, 디클로로메틸 메틸 에테르, 1,2-디메톡시프로판, t-아밀 메틸 에테르, t-부틸 에틸 에테르, 디-s-부틸 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 디메틸 에테르; 환상 에테르: 옥사사이클로펜판 (테트라하이드로퓨란), 옥사사이클로헵탄 (테트라하이드로피란), 1,4-디옥산; 방향족 기를 포함하는 에테르: 메틸 페닐 에테르, 2-니트로페닐 페닐 에테르, 4-디메톡시벤젠, 1,3,5-트리 메톡시벤젠, 부틸 페닐 에테르, 1,4-디에톡시벤젠을 포함하나 이에 한정되지는 않는다.
성분 C)로 매우 유용한 물질의 또 다른 부류는 케톤으로서, 질소, 인 또는 할로겐 원자와 같은 추가의 헤테로 원자를 부가적으로 포함할 수 있는, 직쇄, 분지쇄 및 고리형 화합물을 포함한다. 선형 및 분지형 지방족 분자가 특히 바람직하다.
성분 C)로서 유용한 케톤의 예는 다음의 열거된 케톤 화합물을 포함하나 이에 한정되지는 않는다:
2-프로파논, 2-부타논, 2-펜타논, 2-헥사논, 2-헵타논, 2-옥타논, 2-노나논, 2-데카논, 3-헥사논, 3-헵타논, 3-옥타논, 3-노나논, 3-데카논, 2-메틸-3-부타논, 3,3-디메틸-2-부타논, 2-메틸-3-펜타논, 2-메틸-3-헥사논, 2-메틸-3-헵타논, 4-헵 타논, 4-옥타논, 4-노나논, 4-데카논, 2,2-디메틸-3-펜타논, 2,4-디메틸-3-펜타논, 5-메틸-3-헵타논, 4,4-디메틸-2-펜타논, 2,2,4,4-테트라메틸-3-펜타논, 3-메틸-2-펜타논, 4-메틸-2-펜타논, 3,3-디메톡시-2-부타논, 4,4-디메톡시-2-부타논, 3-메틸-2-사이클로하논, 3-메틸-2-사이클로헥세논, 1,3-사이클로헵탄디온, 2-메틸-1,3-사이클로헥산디온, 3-에톡시-2-사이클로펜텐-1-온, 5-메틸-1,3-사이클로헥산디온, 트리아세틸메탄, 2,2-디메틸사이클로펜타논, 2-메틸사이클로-헥사논, 3-메틸사이클로헥사논, 4-메틸사이클로헥사논, 사이클로헵타논, 디에틸아미노아세톤.
성분 C)로서 매우 유용한 물질의 또 다른 부류는 에스테르로서, 질소, 인 또는 할로겐 원자와 같은 추가의 헤테로 원자를 부가적으로 포함할 수 있는, 직쇄, 분지쇄 및 고리형 화합물을 포함한다.
특히 바람직한 것은 쌍극성 비양성자성 용매로 여겨지는 에스테르이다. 성분 C)로서 유용한 에스테르의 예는 다음의 열거된 에스테르 화합물을 포함하나 이에 한정되지는 않는다:
알킬 카르복시산 에스테르, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 펜틸 아세테이트, 헥실 아세테이트, 헵틸 아세테이트, 옥틸 아세테이트, 노닐 아세테이트, 메틸 프로피오네이트, 에틸 프로피오네이트, 프로필 프로피오네이트, 부틸 프로피오네이트, 펜틸 프로피오네이트, 헥실 프로피오네이트, 헵틸 프로피오네이트, 옥틸 프로피오네이트.
성분 C)는 바람직하게는 다음의 용매 그룹으로부터 선택된다: 알킬 카르복실산 에스테르, 디알킬 에테르, 알킬 아릴 에테르, 케톤. 성분 C)는 더 바람직하게는 다음의 그룹으로부터 선택된다: 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 이소프로필 아세테이트, 2-부타논, 2-옥타논, 이소프로필 메틸 케톤, t-부틸 메틸 케톤.
추가의 선택적인 구성성분으로서, 본 발명의 실리콘 용해제는 점도를 조절하고, 예를 들면 페이스트형 조성물을 생성하기 위해서 증점제(thickener) D)를 포함할 수 있다. 증점제 D)의 예는 다음과 같다: 침전 실리카, 친수성 또는 소수성 콜로이드 실리카, 산화 알루미늄, 이산화 티탄, 카르복실산의 칼슘염, 카본 블랙 또는 카르복시메틸셀룰로오스. 수분 함량이 5000 ppm 미만인 한, 당업자에게 알려져 있는 어떠한 증점제 D)라도 사용될 수 있다. 수분 함량은 바람직하게는 2500 ppm 미만, 더욱 바람직하게는 1000 ppm 미만이어야 한다. 유기 지방족 알코올 기는, 물과 유사하게, 성분 A)의 가수분해를 야기하고 상기 실리콘 용해제는 그 평형성(equilibration property)을 소실하게 되기 때문에, 유기 지방족 알코올 기는 피해야 한다. 성분 D)는 발열성(pyrogenous) 실리카 그룹으로부터 선택되는 것이 바람직하다.
본 발명의 상기 실리콘 용해제는, 이상적으로는 투명한 용액을 얻을 때까지, A)를 B)와 C) 및 경우에 따라 D)와 함께 혼합함으로써 제조된다.
A)는 실리콘 용해제 100 중량% 당 0.1-10 중량%를 사용하는 것이 바람직하고, 0.1-5 중량% 사용하는 것이 보다 바람직하다. B)는 실리콘 용해제 100 중량% 당 0.001-1 중량%를 사용하는 것이 바람직하고, 0.01-0.5 중량% 사용하는 것이 보다 바람직하다. C)는 그 나머지 량으로 사용되어 실리콘 용해제 100 중량%을 맞춘다.
혼합은 일반적으로, 상온 또는 상승된 온도(140 ℃까지)에서 0.5 내지 10 시간 동안 성분들의 격렬한 교반에 의해 이루어진다.
증점제 D)가 사용되는 경우, 이것은 본 발명의 상기 실리콘 용해제의 점도를 정의된 범위로 조정하기 위해서 사용된다. 여기서 증점제 D)는, 실리콘 용해제 100 중량% 당 0.1 내지 30 중량%로 사용된다. D)는 0.5 내지 10 중량%를 첨가하는 것이 바람직하고, 1 내지 5 중량%를 첨가하는 것이 더욱 바람직하다 .
본 발명은 나아가, 해중합 및 표면 또는 기판으로부터 가교결합되거나 또는 가교결합되지 않은 실리콘 잔기를 제거하기 위한, 본 발명의 상기 실리콘 용해제의 용도를 제공한다.
본 발명에 따른 상기 실리콘 용해제의 점도 - 액체형, 페이스트형 또는 겔형 - 에 따라, 본 발명의 상기 실리콘 용해제는 다양한 방법으로 적용되며, 예를 들면 본 발명의 상기 실리콘 용해제를 세정될 물품/표면/기판에 분무 또는 전달하거나, 아니면 세정될 물품을 본 발명의 상기 실리콘 용해제에 담금으로써 적용된다. 제거될 층 두께 및 실리콘 잔기의 조성에 따라, 처리 시간이 10 초 내지 수 시간일 수 있다. 바람직한 일 실시예에서, 처리 시간은 30 초 내지 10 분이다. 처리 시간 동안의 온도 상승은 용해 과정을 촉진한다. 용매 C)에 따라, 20℃ 내지 150℃의 온도가 사용될 수 있지만, 20℃ 내지 100℃의 온도가 바람직하다. 본 발명에 따른 상기 실리콘 용해제의, 예를 들면 펌핑, 쉐이킹 또는 초음파 처리 등을 이용한 순환도, 유사하게 촉진 효과를 갖는다. 바람직한 일 실시예에서, 초음파 처리 하에 상온에서의 처리 시간은 10 초 내지 5 분이다. 더욱 바람직한 실시예에서, 초음파 처리 하에 50 ℃ 내지 120 ℃에서의 처리 시간은 10 초 내지 3 분이다.
처리 시간이 경과한 후에, 절단된 생성물은 무첨가제 용매로 세척되는데, 첨가제는 용해 반응에서 사용되는 용매 C)와 동일할 수도 있고 동일하지 않을 수도 있다.
이하의 실시예들은 본 발명을 설명하지만, 본 발명을 이하의 실시예들로만 한정하는 것은 아니다. 부(part)는, 달리 언급하지 않으면 중량을 기준으로 한 것이다. 이하의 실시예들은, 주위 대기 압력, 즉, 대략 1000 hPa에서 수행하였고, 달리 언급되지 않은 한 상온, 즉, 약 20 ℃에서 수행하였다. 가교결합된 실리콘 탄성중합체의 용해의 구현예에서, 초음파 처리는, 초음파 배스(bath)(Bandelin RM 40)에 유리 플라스크를 도입하거나, 초음파 프로브(probe) 등을 도입함으로써 수행하였다.
실시예 1: 실리콘-용해 조성물 1
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 인산 3나트륨 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 2-옥타논 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 2: 실리콘-용해 조성물 2
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 인산 수소 2나트륨 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 2-옥타논 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 3: 실리콘-용해 조성물 3
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 수산화 칼슘 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 n-프로필 아세테이트 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 4: 실리콘-용해 조성물 4
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 인산 3나트륨 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 n-프로필 아세테이트 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 5: 실리콘-용해 조성물 5
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 인산 수소 2나트륨 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 n-프로필 아세테이트 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 6: 실리콘-용해 조성물 6
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g과 수산화 칼슘 0.05 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 2-옥타논 97.45 g에 용해시켰다.
실시예 7: 실리콘-용해 조성물 7 (본 발명에 따르지 않은 것)
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 2-옥타논 97.5 g 에 용해시켰다.
실시예 8: 실리콘-용해 조성물 8 (본 발명에 따르지 않은 것)
테트라부틸암모늄 플루오라이드 2.5 g을 상온에서 30 분 동안 교반하여 n-프로필 아세테이트 97.5 g 에 용해시켰다.
실시예 9: 폴리디메틸실록산 조성물의 용해
가교결합된 실리콘 조성물(ELASTOSIL® LR 3003/40, Wacker Chemie AG, Munich)로 형성된 두께 100 ㎛의 얇은 필름 1 cm2를 상온에서 실시예 1 내지 8의 각각의 용액 5 ml로 코팅하였다. 상기 필름을 완전히 용해하는 데 걸린 시간은 각각 10-20 초였다.
실시예 10: 알루미늄 부식
부식성을 평가하기 위해, 상업적으로 입수가능한 알루미늄 박 1 cm2를 각각의 용액에 넣고, 하기 표에 표시된 시간에, 용액으로부터 제거하였다. 부식성은 전자 현미경 사진을 관찰하여 평가하였는데, 하기 표 1에서 "마이너스" = "-" (SEM에서 보이지 않는 부식) 및 "플러스" = "+" (SEM에서 보이는 부식, 즉 피팅(pitting), 알루미늄의 국지적 용해를 나타냄)로 구별하여 표시하였다.
제거 시간
실시예 2 분 4 분 6 분 8 분 10 분 20 분 30 분 60 분
1 - - - - - - - +
2 - - - - - - + +
3 - - - - - - - +
4 - - - - - - + +
5 - - - - - - + +
6 - - - - - - - +
7 - - + + + + + +
8 - - + + + + + +
표 1로부터 명백히 알 수 있는 바와 같이, 본 발명에 따른 실리콘 용해제가 알루미늄 부식의 뚜렷한 감소와 함께 실리콘 잔기를 제거하는데 특히 유용하다는 점은 매우 놀라웠다. 상온에서 수 분의 처리로도 충분했다.

Claims (7)

  1. 표면 또는 기판(substrate)으로부터, 가교결합되거나 또는 가교결합되지 않은 실리콘 잔기의 해중합(depolymerization) 및 제거를 위한 실리콘 용해제로서, 상기 실리콘 용해제는
    A) 하나 이상의 테트라알킬암모늄 플루오라이드,
    B) 수소 이온과 결합할 수 있는 하나 이상의 무기 염, 및
    C) 테트라알킬암모늄 플루오라이드 A) 및 0.001 중량% 이상의 무기 염 B)를 용해하기 위한 하나 이상의 용매
    를 포함하고,
    상기 성분 B)는 하기 무기 염의 그룹으로부터 선택되고:
    MoHpPO3 및 MoHpPO4로 표시되는 인산 및 인산염, MqHrSO3, MqHrSO4로 표시되는 유황 및 황산염, MNO2, MNO3로 표시되는 아질산 및 질산염으로서, 여기서 M은 알칼리 및 알칼리 토금속으로부터 선택되고, o는 1 내지 3이고, p는 0 내지 2이고, q는 1 또는 2이고, r은 0 또는 1이고,
    상기 성분 C)는 하기 용매의 그룹으로부터 선택되고:
    알킬 카르복실산 에스테르, 디알킬 에테르, 알킬 아릴 에테르, 및 케톤,
    상기 실리콘 용해제는, 실리콘 용해제 100 중량% 당 0.1-10 중량%의 성분 A), 0.001-1 중량%의 성분 B) 및, 그 나머지 량의 성분 C)를 포함하는, 실리콘 용해제.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    성분 A)는 하기 테트라알킬암모늄 화합물의 그룹으로부터 선택되는, 실리콘 용해제:
    테트라메틸암모늄 플루오라이드, 테트라에틸암모늄 플루오라이드, 테트라부틸암모늄 플루오라이드, 테트라펜틸암모늄 플루오라이드, 테트라헥실암모늄 플루오라이드, 테트라헵틸암모늄 플루오라이드, 테트라옥틸암모늄 플루오라이드, 테트라노닐암모늄 플루오라이드, 테트라데실암모늄 플루오라이드, 테트라이소프로필암모늄 플루오라이드, 테트라이소부틸암모늄 플루오라이드, 테트라(t-부틸)암모늄 플루오라이드, 테트라(t-펜틸)암모늄 플루오라이드.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
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