KR101575918B1 - 무극성 유기 용매에서의 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물 - Google Patents
무극성 유기 용매에서의 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101575918B1 KR101575918B1 KR1020107026362A KR20107026362A KR101575918B1 KR 101575918 B1 KR101575918 B1 KR 101575918B1 KR 1020107026362 A KR1020107026362 A KR 1020107026362A KR 20107026362 A KR20107026362 A KR 20107026362A KR 101575918 B1 KR101575918 B1 KR 101575918B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substituted
- unsubstituted
- radical
- iii
- polyanion
- Prior art date
Links
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 30
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 title claims description 45
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 title abstract description 9
- -1 C 1 -C 4 -hydroxyalkyl radical Chemical class 0.000 claims description 53
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 23
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims description 19
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 17
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 16
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 13
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 claims description 13
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 11
- 239000012454 non-polar solvent Substances 0.000 claims description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 5
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 5
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000003799 water insoluble solvent Substances 0.000 claims description 3
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 claims description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 24
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 21
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 21
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 18
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical class [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 10
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 8
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- FYMCOOOLDFPFPN-UHFFFAOYSA-K iron(3+);4-methylbenzenesulfonate Chemical compound [Fe+3].CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1.CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FYMCOOOLDFPFPN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 5
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 5
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 238000006277 sulfonation reaction Methods 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical group [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical group CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMWWHLYDEIGCHS-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-propylundecan-1-one Chemical compound CCCCCCCCC(CCC)CC(=O)C1=CC=CC=C1 KMWWHLYDEIGCHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002853 C1-C4 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N bromo(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)Br IYYIVELXUANFED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- YAUZJFRMTBUCGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 YAUZJFRMTBUCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004494 ethyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical class CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N oxidanium;4-methylbenzenesulfonate Chemical compound O.CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 KJIFKLIQANRMOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010414 supernatant solution Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N tetradec-1-enylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=CC1=CC=CC=C1 ZPKUAUXTKVANIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N (S)-camphorsulfonic acid Chemical compound C1C[C@@]2(CS(O)(=O)=O)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C MIOPJNTWMNEORI-GMSGAONNSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMMGRPLNZPTZBS-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[2,3-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=C1C=CS2 YMMGRPLNZPTZBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVYZGRGZMIMKW-UHFFFAOYSA-N 2-(4-dodecylphenyl)ethanol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(CCO)C=C1 LDVYZGRGZMIMKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbenzenesulfonic acid Chemical class CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O WBIQQQGBSDOWNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCLMZMISZCYBBG-UHFFFAOYSA-N 3-ethylheptanoic acid Chemical class CCCCC(CC)CC(O)=O MCLMZMISZCYBBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 MAGFQRLKWCCTQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Natural products CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVXNLJHNNUAEMR-UHFFFAOYSA-N CCC(C)c(cc1)ccc1S(O)(=O)=O Chemical compound CCC(C)c(cc1)ccc1S(O)(=O)=O OVXNLJHNNUAEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFJKARLOUQFLNQ-UHFFFAOYSA-N Cc1c2OCCSc2c(C)[s]1 Chemical compound Cc1c2OCCSc2c(C)[s]1 KFJKARLOUQFLNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical group SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000611421 Elia Species 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229930194542 Keto Chemical group 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical class [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical class [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SRSXLGNVWSONIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940092714 benzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005392 carboxamide group Chemical group NC(=O)* 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- ITZXULOAYIAYNU-UHFFFAOYSA-N cerium(4+) Chemical class [Ce+4] ITZXULOAYIAYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004440 column chromatography Methods 0.000 description 1
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006547 cyclononyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- OTGHAWZHYZWKHU-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,12-disulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O OTGHAWZHYZWKHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N dodecylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1 KWKXNDCHNDYVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940060296 dodecylbenzenesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 238000010931 ester hydrolysis Methods 0.000 description 1
- LEDCJBCTEYLBJO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-phenylethenesulfonate Chemical compound CCOS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 LEDCJBCTEYLBJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N methyl Chemical compound [CH3] WCYWZMWISLQXQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004682 monohydrates Chemical class 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Chemical class 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001650 pulsed electrochemical detection Methods 0.000 description 1
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- FHGWPYOZXJCPRJ-UHFFFAOYSA-M silver;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 FHGWPYOZXJCPRJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M sodium;4-ethenylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC=C(C=C)C=C1 XFTALRAZSCGSKN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 150000003457 sulfones Chemical group 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N sulfonic acid Chemical compound OS(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical group 0.000 description 1
- 238000010189 synthetic method Methods 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical group 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000013638 trimer Substances 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
- C08L25/16—Homopolymers or copolymers of alkyl-substituted styrenes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/18—Homopolymers or copolymers of aromatic monomers containing elements other than carbon and hydrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L41/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a bond to sulfur or by a heterocyclic ring containing sulfur; Compositions of derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G11/00—Hybrid capacitors, i.e. capacitors having different positive and negative electrodes; Electric double-layer [EDL] capacitors; Processes for the manufacture thereof or of parts thereof
- H01G11/22—Electrodes
- H01G11/30—Electrodes characterised by their material
- H01G11/48—Conductive polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K85/00—Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
- H10K85/10—Organic polymers or oligomers
- H10K85/111—Organic polymers or oligomers comprising aromatic, heteroaromatic, or aryl chains, e.g. polyaniline, polyphenylene or polyphenylene vinylene
- H10K85/113—Heteroaromatic compounds comprising sulfur or selene, e.g. polythiophene
- H10K85/1135—Polyethylene dioxythiophene [PEDOT]; Derivatives thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L65/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/13—Energy storage using capacitors
Abstract
본 발명은 무극성 유기 용매에서 가용성 또는 분산성이 있는 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물, 및 이의 용도에 관한 것이다.
Description
본 발명은 무극성 유기 용매에서 가용성(soluble) 또는 분산성(dispersible)이 있는 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물, 및 이의 용도에 관한 것이다.
전도성 고분자의 경제적 중요성이 증가하고 있는 바, 그 이유는 고분자(polymer)가 가공성, 중량 및 화학적 개질에 의한 특성의 조절과 관련하여 금속에 비하여 유리하기 때문이다. 공지의 p-공액(p-conjugated) 고분자의 예로서 폴리피롤, 폴리티오펜, 폴리아닐린, 폴리아세틸렌, 폴리페닐렌, 그리고 폴리(p-페닐렌-비닐렌)이 있다. 전도성 고분자 층은 다양한 산업적 용도를 가지고 있는데, 예를 들면 캐패시터에 있어서 고분자 카운터 전극(counterelectrode) 또는 전자회로기판의 관통-접속(through-connection)을 위한 용도가 그것이다. 전도성 고분자는 단량체 전구체(예를 들면, 선택적으로 치환된 티오펜, 피롤 및 아닐린, 그리고 올리고머일 수 있는 이들 각각의 유도체)로부터 화학적 또는 전기화학적, 산화 수단에 의하여 제조된다. 특히, 화학적 산화 중합 반응이 널리 이용되는데, 이는 액상 매질 내에서, 그리고 다양한 기재 상에서 달성하는데 기술적으로 간편하기 때문이다.
특히 중요하고 산업적으로 이용되고 있는 폴리티오펜은 폴리(에틸렌-3,4-디옥시티오펜) (PEDOT 또는 PEDT)로서, 예를 들어 EP 339 340 A2에서, 에틸렌-3,4-디옥시티오펜 (EDOT 또는 EDT)을 화학적으로 중합함으로써 제조되고, 산화된 형태에서 매우 높은 전도도를 갖는 것으로 알려져 있다. 많은 폴리(알킬렌-3,4-디옥시티오펜) 유도체(특히, 폴리(에틸렌-3,4-디옥시티오펜) 유도체 및 단량체 유닛), 그리고 이들의 합성 및 응용에 관한 개략적인 내용은 참고문헌 [L. Groenendaal, F. Jonas, D. Freitag, H. Pielartzik & J. R. Reynolds, Adv. Mater. 12, (2000) p. 481~494.]에 기재되어 있다.
폴리스티렌설폰산(PSS)을 이용한 PEDOT의 분산물(dispersion)에 대하여는 특히 산업적 중요성이 크며, 예를 들어 EP 0440 957 B1에 기재되어 있다. 이와 같은 분산물로부터, 예를 들어 대전방지용 코팅 또는 유기 LED에서의 정공주입층(hole injection layer)과 같은 많은 응용성을 갖는 투명한 전도성 필름을 얻을 수 있다.
EDT는 PEDT/PSS 착물을 형성하기 위하여 PSS 수용액에서 중합된다. 전하 보상을 위해 카운터이온(counterion)으로 고분자 음이온을 포함하는 양이온 폴리티오펜은 폴리티오펜/다중음이온 착물과 같은 기술분야에서 빈번하게 또한 언급된다. 다중양이온(polycation)으로서의 PEDT 및 다중음이온(polyanion)으로서의 PSS의 고분자 전해질 특성으로 인하여, 이러한 착물은 진용액(true solution)이 아닌 분산물(dispersion)이다. 고분자 또는 고분자의 부분이 용해되거나 또는 분산되는 정도는, 다중양이온의 질량비 및 다중음이온의 질량비, 고분자의 전하밀도, 환경의 염농도(salt concentration) 및 매질 특성에 의존한다(V. Kabanov, Russian Chemical Reviews 74, 2005, 3~20). 상기 전이(transition)는 유동적일 수 있다. 그러므로, 이하에서는 용어 '분산되다(dispersed)' 및 '용해되다(dissolved)'는 구별하지 않는다. 마찬가지로, "분산물(dispersion)" 및 "용액(solution)" 또는 "분산제(dispersant)" 및 "용매(solvent)"도 구별하지 않는다. 대신에, 이들 용어들은 이하에서는 동등한 의미로 사용되어진다.
선행기술에서는, 현재까지는 극성 용매에서의 폴리티오펜-다중음이온 착물의 제조만이 가능하다. EP 0440957 A2는 폴리티오펜-다중음이온 착물의 제조방법을 기재하고, 이는 매우 극성인 용매에서만 수행되는데, 왜냐하면 실시예로 기재된 다중음이온인 폴리스티렌설폰산 및 폴리(메트)아크릴계 산은 물 또는 저급알콜(lower alcohol)과 같은 극성 용매에서만 가용성이 있기 때문이다. 오직 물에서의 PEDT의 중합 반응만이 구체적으로 기재되었다. 이러한 방법의 단점은 용매의 선택이 극성 용매로 제한되는 것이고, 즉, 비극성 용매는 폴리티오펜-다중음이온 착물을 위한 이러한 제조방법에서 이용될 수 없다.
EP 1373356 B1 및 WO 2003/048228은 무수(anhydrous) 또는 저수(low-water) 용매에서의 폴리티오펜-다중음이온 착물의 제조방법을 기재하고 있다. 이 경우, 물 용매는 다른 수-혼화성 유기 용매(water-miscible organic solvent)와 교환된다. 이를 위하여, 두번째 용매가 첨가되고 나서 물은, 예를 들면 증류(distillation)에 의해 제거된다. 이러한 과정은 단점을 가지는데, 상기 증류 과정에 의하여 두 단계의 방법이 이용되어야 한다는 것이다. 더구나, 첨가된 용매는 수-혼화성을 가져야만 하므로, 마찬가지로 극성 용매로 제한되는 것으로 여겨진다.
Otani 등은 JP 2005-068166에서 PEDOT와 같은 전도성 고분자가 처음 건조되고 유기 용매에서 분산되는 방법을 기재하고 있다. 상기 언급된 유기 용매는 특히 5 또는 그 이상의 유전 상수(dielectric constant)를 갖는다. 상기 예는 이소프로필 알콜 및 감마-부티로락톤(gamma-butyrolactone)으로 명시된다. 이 방법 또한 단점을 가지는데, 재분리(redissolution)를 위해 극성 용매가 요구된다는 것이다. 상기 방법에서 또 다른 단점은 전도성 고분자가 처음에 합성되어야 하고, 후속적으로 재분산되어야 한다는 것이다. Otani 등은 어떠한 폴리티오펜-다중음이온 착물도 개시하지 않았다.
2002년에, H. Okamura 등은(Polymer 2002, 43, 3155~3162) 스티렌 및 스티렌설폰산의 블록 공중합체의 합성을 기재하였다. 상기 두 개의 공단량체(comonomer)의 비율은 다양했고, 상기 공중합체는 테트라히드로퓨란, 클로로포름, 아세톤, 디메틸포름아마이드, 메탄올 및 물에 용해됨이 밝혀졌다. 그러나, 상기 공중합체의 용해도가 헥산, 톨루엔 또는 벤젠과 같은 지방족/방향족 탄화수소에서 밝혀졌다는 기재는 전혀 없다. 뿐만 아니라, 폴리티오펜/다중음이온 착물과 같은 전도성 고분자를 갖는 착물이 제조된다는 기재도 전혀 없고, 막(film)의 전도성 또는 저항성 연구에 관한 기재도 없다. Okamura 등에 의해 기재된 고분자는 따라서 톨루엔과 같은 매우 비극성인 용매에서의 고분자 착물의 용해도를 보장하기에는 부적합하다.
일련의 연구는 또한, 어떻게 폴리티오펜의 용해도가 티오펜 단량체 상의 측면기(side groups)의 부착물들에 의해 달성되고 후속적으로 중합 반응을 하는지, 또는 티오펜 단위 및 용해도를 증가시키는 단위의 블록 공중합체의 제조방법을 기재하고 있다.
예를 들어, Luebben 등은 Polymeric Materials: Science & Engineering 2004, 91, 979에서 PEDOT 및 폴리에틸렌 글리콜의 블록 공중합체 제조방법을 기재한다. 여기에서 이용되는 카운터이온들은 퍼클로레이트 및 p-톨루엔설폰산이다. 상기 고분자들은 프로필렌 카보네이트 및 니트로메탄과 같은 극성 유기 용매에서 가용성이다. 10-4 내지 1 S/cm의 전도도가 측정되었다. 그러나, 상기 블록 공중합체는 단점을 가지는데, 이들은 매우 극성인 용매에서만 가용성이라는 것이다. 더욱이, 선택된 카운터이온들은 막 형성(film formation)에 기여하지 않으므로, 전도성 필름은 이러한 블록 공중합체로는 형성될 수 없다.
추가적인 문헌들은 용해도에 기여하는 티오펜 상의 측면기들의 도입에 의한 유기 폴리티오펜 용액의 제조방법을 기재한다. 예를 들면, Tamamoto 등은 Polymer 43, 2002, 711~719에서 유기 용매에서 가용성을 갖는 비하전 분자(uncharged molecule)로서 PEDOT의 헥실 유도체의 제조방법을 기재한다. 요오드(iodine) 도핑 또는 산화 또한 기재되었다. 그러나, 전도성 필름이 도핑되거나 산화된 티오펜의 유기 용매로부터 제조될 수 있는지 여부는 나타나지 않는다. 이러한 접근의 추가적 단점은 고분자의 분자량이 작으므로, 막 형성 특성이 약하다는 것이다. 상기 언급된 문헌에서는, 2400 g/mol 및 8500 g/mol의 분자량(Mw)이 달성된다. 왜냐하면 폴리티오펜은 막 형성 고분자 및 전도성 고분자로서 동시에 기능하고, 상기 두 가지 특성은 서로 독립적으로 성립할 수 없기 때문이다. 이론적으로, 상기 방법은 단점을 숨기고 있는데, 이는 티오펜 상의 측쇄(side chain)들의 도입이 용해 특성뿐만 아니라, 분자의 전기적 특성에도 영향을 미친다는 것이다.
그러므로 비극성 용매에서의 전기 전도성 폴리티오펜의 분산물 및 전도성 필름이 제조될 수 있는 분산물에 대한 요청이 있다. 이러한 요청은 그와 같은 분산물이 현재까지 매우 극성인 용매에서만 이용가능하다는 사실에 기반한다. 특히, 좋은 막 형성 특성을 갖고 전기 전도도를 보이는 비극성 용매에서의 분산물에 대한 요청이 있다. 많은 코팅 시스템은 비극성 용매에 기반하기 때문에, 비극성 용매에서 용해되거나 분산되는 전도성 폴리티오펜에 대한 큰 요청이 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 비극성 용매에서 가용성이 있고 그로부터 전도성 필름이 제조될 수 있는 폴리티오펜의 분산물을 제조하는 것이다. 본 발명의 추가적인 목적은 용매 교환을 필요로 하지 않고, 합성에 이용되는 용매가 동시에 최종 분산물의 용매가 되는 분산물을 제조하는 것이다.
놀랍게도, 선택적으로 치환된 폴리티오펜 및 다중음이온의 착물(상기 다중음이온은 공중합체를 포함한다)이 상기 문제를 해결할 수 있음이 밝혀졌다.
그러므로 본 발명은 선택적으로 치환된 폴리티오펜 및 다중음이온을 포함하는 착물을 제공하는데, 상기 다중음이온은 일반식 (Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 반복단위, 또는 일반식 (Ⅰ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위, 또는 일반식 (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위, 또는 일반식 (Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 갖는 공중합체를 포함한다.
여기에서,
R1, R2 ,R3,R4,R5는 각각 독립적으로 수소, 선택적으로 치환된 C1-C18-알킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C1-C18-알콕시 라디컬, 선택적으로 치환된 C5-C12-사이클로알킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C6-C14-아릴 라디컬, 선택적으로 치환된 C7-C18-아랄킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C1-C4-히드록시알킬 라디컬 또는 히드록실 라디컬, 바람직하게는 수소이고,
R6은 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C30-알킬 라디컬, 바람직하게는 C2-C18-알킬 라디컬이고,
D는 직접 공유 결합 또는 선택적으로 치환된 C1-C5-알킬렌 라디컬이고,
R은 선형 또는 분지형으로, 선택적으로 치환된 C1-C18 알킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C5-C12-사이클로알킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C6-C14-아릴 라디컬, 선택적으로 치환된 C7-C18-아랄킬 라디컬, 선택적으로 치환된 C1-C4-히드록시알킬 라디컬 또는 히드록실 라디컬, 바람직하게는 수소이고,
x는 0 내지 4, 바람직하게는 0,1 또는 2, 더욱 바람직하게는 0 또는 1의 정수이고, 그리고
M은 수소(H) 또는 Li+, Na+, K+, Rb+, Cs+, NH4 +, Na+, K+ 또는 다른 양이온, 바람직하게는 수소이다.
일반식 (Ⅱ)는 상기 치환된 R이 방향족 고리 상에 x회 결합될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
본 발명의 바람직한 구체예에 있어서, 착물의 다중음이온은 일반식 (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 갖는 공중합체이다.
본 발명의 더욱 바람직한 구체예에 있어서, 다중음이온은 일반식(Ⅱa) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 갖는 공중합체이다.
여기에서,
R5는 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C18-알킬 라디컬, 바람직하게는 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C6-알킬 라디컬, 더욱 바람직하게는 메틸 라디컬 또는 수소, 가장 바람직하게는 수소이고, 그리고
R6은 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C30-알킬 라디컬, 바람직하게는 선택적으로 치환된 C1-C20-알킬 라디컬, 더욱 바람직하게는 선택적으로 치환된 C1-C12-알킬 라디컬이다.
전체 고분자에서 일반식 (Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위의 비율은, 각각 a, b 및 c이다. a, b 및 c는 질량%이고, 0 내지 100% 사이에 해당한다. a 및 b는 0 내지 50%가 바람직하고, 여기에서 a 및 b는 둘다 0%이어서는 안된다. c의 비율은 20 내지 100%임이 바람직하다.
본 발명과 관련하여, C1-C18-알킬은 선형 또는 분지형 C1-C18-알킬 라디컬을 나타내고, 예를 들면, 메틸, 에틸, n- 또는 이소프로필, n-, iso-, sec- 또는 tert-부틸, n-펜틸, 1-메틸부틸, 2-메틸부틸, 3-메틸부틸, 1-에틸프로필, 1,1-디메틸프로필, 1,2-디메틸프로필, 2,2-디메틸프로필, n-헥실, n-헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, n-노닐, n-데실, n-언데실, n-도데실, n-트리데실, n-테트라데실, n-헥사데실, n-헵타데실 또는 n-옥타데실이고; C1-C30-알킬은 상기 언급한 C1-C18-알킬 라디컬과 마찬가지로, 선형 또는 분지형 C1-C30-알킬 라디컬을 나타내고, 알킬 라디컬은 예를 들어 n-노나데실, n-에이코사닐, n-헤니코사닐, n-도코사닐, n-트리코사닐, n-테트라코사닐, n-펜타코사닐, n-헥사코사닐, n-헵타코사닐, n-옥타코사닐, n-노나코사닐, 또는 n-트리아콘타닐이다. 본 발명과 관련하여, C1-C18-알콕시 라디컬은 상기 나열된 C1-C18-알킬 라디컬과 대응하는 알콕시 라디컬을 나타낸다. 본 발명과 관련하여, C5-C12-사이클로알킬은 사이클로펜틸, 사이클로헥실, 사이클로헵틸, 사이클로옥틸, 사이클로노닐 또는 사이클로데실과 같은 C5-C12-사이클로알킬 라디컬을 나타내고; C6-C14-아릴은 페닐 또는 나프틸과 같은C6-C14-아릴 라디컬을 나타내고; 그리고C7-C18-아랄킬은 벤질, o-(오르소), m-(메타), p-(파라) 톨릴, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4-, 3,5-자일릴 또는 메시틸과 같은C7-C18-아랄킬 라디컬을 나타낸다. 본 발명과 관련하여, C1-C4-히드록시알킬은 치환기로 히드록실기를 가지는 C1-C4-알킬 라디컬을 의미하는 것으로 이해되고, 여기에서 C1-C4-알킬 라디컬은 예를 들면, 메틸, 에틸, n- 또는 이소프로필, n-, iso-, sec- 또는 tert-butyl일 수 있다; C1-C5-알킬렌 라디컬은 메틸렌, 에틸렌, n-프로필렌, n-부틸렌 또는 n-펜틸렌을 의미하는 것으로 이해된다. 상기 열거된 것들은 예로서 본 발명을 설명하기 위함이고, 본 발명이 상기 열거된 것으로 한정되는 것은 아니다.
본 발명과 관련하여, 다중음이온은 2,000 내지 5,000,000 g/mol, 바람직하게는 10,000 내지 1,000,000 g/mol, 가장 바람직하게는 40,000 g/mol 내지 600,000 g/mol의 중량평균분자량(Mw)을 가진다.
다중음이온의 분자량은 겔 투과 크로마토그래피(gel permeation chromatography, GPC)를 이용하여 측정될 수 있다. 이를 위해 고분자는 용매(예를 들면, 클로로포름 또는 테트라히드로퓨란)에 용해되고, GPC 컬럼에 통과될 수 있다. 사용되는 표준시료는 동일한 용매에서 폴리스티렌일 수 있다. 사용되는 디텍터는 UV 디텍터 또는 굴절률 디텍터(refractive index detectors)일 수 있다.
다중음이온은 대응되는 단량체로부터 제조될 수 있다. 고분자에서 반복 단위의 비는 사용되는 단량체의 비를 통해 측정될 수 있고, 여기에서 언급되는 비(ratio)는 다른 반응 속도 때문에 동일할 것을 요구하지는 않는다. 중합반응은 자유 라디컬, 음이온성 또는 양이온성 개시제로 시작될 수 있다. 게다가, 전이 금속 착물이 개시를 위해 공급될 수 있다. 고분자의 제조를 위한 합성 방법은 handbook "Makromolekule" [Macromolecules] by H.-G. Elias, Volume 1. 에 기재되어 있다.
상기에서 정의된 다중음이온에 더하여, 본 발명의 착물은 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는 선택적으로 치환된 폴리티오펜을 포함하고
여기에서,
R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소, 선택적으로 치환된 C1-C18-알킬 라디컬 또는 선택적으로 치환된 C1-C18-알콕시 라디컬이거나,
R7 및 R8은 모두 선택적으로 치환된 C1-C8-알킬렌 라디컬, 1 또는 그 이상의 탄소원자가 O 또는 S로부터 선택되는 1 또는 그 이상의 동일하거나 다른 헤테로원자로 치환될 수 있는 선택적으로 치환된 C1-C8-알킬렌 라디컬, 바람직하게는 C1-C8-디옥시알킬렌 라디컬, 선택적으로 치환된 C1-C8-옥시티아알킬렌 라디컬 또는 선택적으로 치환된 C1-C8-디티아알킬렌 라디컬, 또는 선택적으로 치환된 C1-C8-알킬리덴 라디컬(적어도 하나의 탄소원자가 O 또는 S로부터 선택된 헤테로 원자로 선택적으로 치환될 수 있음)이다.
바람직한 구체예에서, 상기 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는 폴리티오펜은 하기 일반식 (Ⅳ-a) 및/또는 일반식 (Ⅳ-b)의 반복 단위를 포함한 것이다:
식 중,
A는 선택적으로 치환된 C1-C5-알킬렌 라디컬, 바람직하게는 선택적으로 치환된 C2-C3-알킬렌 라디컬이고,
Y는 O 또는 S이고,
R은 선형 또는 분지형의, 선택적으로 치환된 C1-C18-알킬 라디컬(바람직하게는 선형 또는 분지형의, 선택적으로 치환된 C1-C14-알킬 라디컬); 선택적으로 치환된 C5-C12-사이클로알킬 라디컬; 선택적으로 치환된 C6-C14-아릴 라디컬; 선택적으로 치환된 C7-C18-아랄킬 라디컬; 선택적으로 치환된 C1-C4-히드록시알킬 라디컬; 또는 히드록실 라디컬이고,
Y는 0내지 8의 정수, 바람직하게는 0, 1 또는 2, 더욱 바람직하게는 0 또는 1이며, 그리고,
복수의 R 라디컬이 A에 결합되는 경우, 상기 복수의 R 라디컬은 같거나 다를 수 있다.
일반식 (Ⅳ-a)는 상기 치환된 R이 알킬렌 라디컬 A에 y회 결합될 수 있는 것으로 이해되어야 한다.
더욱 바람직한 구체예에 있어서, 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는 폴리티오펜은 일반식 (Ⅳ-aa) 및/또는 일반식 (Ⅳ-ab)의 반복 단위를 포함하는 폴리티오펜이다:
여기에서, R 및 y는 상기에서 정의된 바와 같다.
보다 바람직한 구체예에 있어서, 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는 폴리티오펜은 일반식(Ⅳ-aaa) 및/또는 일반식 (Ⅳ-aba)의 폴리티오펜을 포함하는 폴리티오펜이다:
본 발명과 관련하여, 접두사 '폴리(poly)'는 1 이상의 같거나 다른 반복 단위가 폴리티오펜 내에 존재하는 것을 의미한다. 상기 폴리티오펜은 총 n개의 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는데, 여기에서 n은 2내지 2,000, 바람직하게는 2 내지 100의 정수이다. 상기 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위는 폴리티오펜 내에서 각각 같거나 다를 수 있다. 각각의 경우에 일반식 (Ⅳ)의 반복단위와 동일한 반복 단위를 포함하는 폴리티오펜이 바람직하다.
각각의 경우에, 상기 폴리티오펜은 말단 기에 H를 갖는 것이 바람직하다.
특히 바람직한 구체예에 있어서, 상기 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 갖는 폴리티오펜은 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜), 폴리(3,4-에틸렌옥시티아티오펜) 또는 폴리(티에노[3,4-b]티오펜), 즉, 상기 일반식 (Ⅳ-aaa), (Ⅳ-aba) 또는 (Ⅳ-b)의 반복 단위를 포함하는 호모폴리티오펜이다.
더욱 바람직한 구체예에 있어서, 일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 갖는 폴리티오펜은 일반식 (Ⅳ-aaa)와 (Ⅳ-aba); 일반식 (Ⅳ-aaa)와 (Ⅳ-b); 일반식 (Ⅳ-aba)와 (Ⅳ-b); 또는 일반식 (Ⅳ-aaa), (Ⅳ-aba) 및 (Ⅳ-b)의 반복 단위로부터 구성된 공중합체이다. 바람직하게는, 일반식 (Ⅳ-aaa)와 (Ⅳ-aba), 그리고 또한 일반식 (Ⅳ-aaa)와 (Ⅳ-b)의 반복 단위로부터 형성된 공중합체이다.
본 발명과 관련하여, C1-C5-알킬렌 라디컬 A는 메틸렌, 에틸렌, n-프로필렌, n-부틸렌 또는 n-펜틸렌이고, 그리고 C1-C8-알킬렌 라디컬은 추가적으로 n-헥실렌, n-헵틸렌 및 n-옥틸렌이다. 본 발명과 관련하여, C1-C8-알킬리덴 라디컬은 적어도 하나의 이중 결합을 포함하는 상술한 C1-C8-알킬렌 라디컬이다. 본 발명과 관련하여, C1-C8-디옥시알킬렌 라디컬, C1-C8-옥시티아알킬렌 라디컬 및 C1-C8-디티아알킬렌 라디컬은 상술한 C1-C8-알킬렌 라디컬에 대응하는C1-C8-디옥시알킬렌 라디컬, C1-C8-옥시티아알킬렌 라디컬 및 C1-C8-디티아알킬렌 라디컬이다. C1-C18-알킬, C5-C12-사이클로알킬, C6-C14-아릴, C7-C18-아랄킬, C1-C18-알콕시 및 C1-C4-히드록시알킬은 각각 위에서 언급한 바와 같다. 상기 열거된 것들은 예로서 본 발명을 설명하기 위함이고, 본 발명이 상기 열거된 것으로 한정되는 것은 아니다.
상기 라디컬의 가능한 추가 치환기들은 많은 유기 기(group), 예를 들면 알킬, 사이클로알킬, 아릴, 할로겐, 에테르, 티오에테르, 디설파이드, 설폭시드, 설폰, 설포네이트, 아미노, 알데히드, 케토, 카르복시산 에스테르, 카르복시산, 카보네이트, 카르복실레이트, 시아노, 알킬실란 및 알콕시실란 기들, 그리고 또한 카르복사마이드 기들을 포함한다.
상기 일반식 (Ⅳ)의 폴리티오펜 제조용 단량체 전구체(precursor) 및 이의 유도체를 제조하는 방법은 당업자에게 알려져 있고, 예를 들면, L. Groenendaal, F. Jonas, D. Freitag, H. Pielartzik & J. R. Reynolds, Adv. Mater. 12 (2000) 481~494 및 여기에서 인용된 문헌들에 기재되어 있다.
본 발명과 관련하여, 상술한 티오펜의 유도체는, 예컨대 이러한 티오펜의 이량체(dimer) 또는 삼량체(trimer)를 의미하는 것으로 이해된다. 보다 큰 분자량의 유도체, 예를 들면 상기 단량체 전구체의 4량체(tetramers), 5량체(pentamers) 등도 또한 유도체로서 가능하다. 상기 유도체는 동일하거나 다른 단량체 단위로부터 형성될 수 있으며, 순수한 형태, 또는 상호 간 및/또는 상술한 티오펜과의 혼합물 형태로 사용될 수 있다. 본 발명과 관련하여, 중합에 의하여 상기 나열된 티오펜 및 티오펜 유도체의 경우에서와 같은 전도성 폴리머를 형성한다면, 이러한 티오펜 및 티오펜 유도체의 산화 또는 환원 형태 역시 '티오펜 및 티오펜 유도체'라는 용어에 포함된다.
분산물 또는 용액은 추가적으로 적어도 하나의 고분자 바인더를 포함할 수 있다. 적합한 바인더는 고분자 유기 결합제들, 예를 들면, 폴리비닐알코올, 폴리비닐피롤리돈, 폴리염화비닐, 폴리비닐아세테이트, 폴리비닐부틸레이트, 폴리아크릴산 에스테르, 폴리아크릴아마이드, 폴리메타크릴산 에스테르, 폴리메타크릴아마이드, 폴리아크릴로니트릴, 스티렌/아크릴산 에스테르, 비닐 아세테이트/아크릴산 에스테르, 그리고 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체, 폴리부타디엔, 폴리이소프렌, 폴리스티렌, 폴리에테르, 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리우레탄, 폴리아마이드, 폴리이미드, 폴리설폰, 멜라민-포름알데히드 수지, 에폭시 수지, 실리콘 수지 또는 셀룰로오스이다.
선택적으로 치환된 폴리티오펜은 양이온성이고, '양이온'은 폴리티오펜 주쇄 상에 존재하는 전하에만 관련있다. R라디컬 상의 치환기에 따라, 폴리티오펜은 구조적 단위(structure unit) 내에 양전하 및 음전하를 가질 수 있고, 이 경우 양전하는 폴리티오펜의 주쇄 상에 존재하고, 음전하는 설포네이트 또는 카르복실레이트 기로 치환된 R라디컬 상에 존재할 수 있다. 이 경우에, 폴리티오펜 주쇄의 양전하는 R라디컬 상에 존재하는 임의의 음이온성 기에 의해 부분적으로 또는 완전히 포화될 수 있다. 전체적으로 고려하면, 이 경우에 폴리티오펜은 양이온성, 비하전(uncharged), 심지어는 음이온성일 수 있다. 그럼에도 불구하고, 본 발명과 관련해서, 이들은 모두 양이온성 폴리티오펜으로 고려되는데, 왜냐하면 폴리티오펜 주쇄 상의 양전하가 결정적이기 때문이다. 상기 양전하는 일반식에서는 나타나지 않는데, 이는 상기 양전하의 정확한 개수 및 위치가 명확하게 기술될 수 없기 때문이다. 그러나, 양전하의 개수는 적어도 1 이고 기껏해야 n인 바, 여기에서 n은 폴리티오펜 내에 모든 반복 단위(같거나 다름)의 총 개수이다.
본 발명의 폴리티오펜/다중음이온 착물은 수-불용(water-immiscible) 용매에서 가용성 또는 분산성이 있다. 적합한 용매는 특히 반응 조건 하에서 비활성인 하기의 유기 용매를 포함한다: 톨루엔 및 자일렌과 같은 방향족 탄화수소; 헥산, 헵탄 및 사이클로 헥산과 같은 지방족 탄화수소; 에틸아세테이트와 같은 지방족 카르복시산 에스테르; 디클로로메탄 및 디클로로에탄과 같은 염화탄화수소; 디에틸에테르 또는 테트라히드로퓨란과 같은 지방족 및 방향성 지방족 에테르이다. 특히 지방족 및 방향족 탄화수소가 바람직하다.
일반식 (Ⅳ)의 선택적으로 치환된 폴리티오펜은 일반식(Ⅴ)의 선택적으로 치환된 티오펜들의 산화 중합 반응에 의해 제조될 수 있다:
여기에서 R7 및 R8은 상기에서 정의된 바와 같다.
일반식 (Ⅴ)의 선택적으로 치환된 티오펜들을 위하여, 선호하는 동일 영역들(the same areas of preference)을 일반식 (Ⅳ)의 선택적으로 치환된 폴리티오펜에 대해 적용한다.
이러한 산화 중합 반응을 위하여, 티오펜의 산화 중합 및 당업자에게 알려진 적합한 산화제를 사용하는 것이 가능하다; 상기 산화제는 예를 들어, J. Am. Chem. Soc., 85, 454 (1963)에 기재되어 있다. 본 발명과 관련하여, 사용되는 산화제는 H2O2, K2Cr2O7, 알칼리 금속 및 암모늄 퍼옥소디설페이트(예를 들면, 소듐 또는 칼륨 퍼옥소디설페이트), 알칼리금속과붕산염, 과망간산칼륨, 구리염(예를 들면, 구리 테트라플루오로보레이트), 또는 세륨(Ⅳ)염 또는 CeO2일 수 있다. 무기 산의 iron(Ⅲ) 염(예를 들어, FeCl3, Fe(ClO4)3 및 유기 라디컬을 가지는 유기 산/무기 산의 iron(Ⅲ) 염)과 같이 비싸지 않고 다루기 쉬운 산화제가 바람직하다.
유기 라디컬을 가지는 무기 산의 iron(III)염의 예로서, C1-C20-알칸올의 황산 모노에스테르(sulphuric monoesters)의 iron(III)염, 예를 들면, 라우릴설페이트(laurylsulphate)의 Fe(Ⅲ)염을 들 수 있다. 유기 산의 iron(III)염은 하기의 성분을 예시할 수 있다: C1-C20-알칸설폰산의 Fe(III)염(예를 들면, 메탄-, 및 도데칸설폰산의 Fe(III)염); 지방족 C1-C20-카르복시산의 Fe(III)염((예를 들면, 2-에틸헥실카르복시산의 Fe(III)염); 지방족 퍼플루오로카르복시산의 Fe(III)염(예를 들면, 트리플루오로아세트산 또는 퍼플루오로옥탄산의 Fe(III)염); 지방족 디카르복시산의 Fe(III)염(예를 들면, 옥산산의 Fe(III)염); 그리고 특히 C1-C20-알킬기에 의하여 선택적으로 치환된 방향족 설폰산의 Fe(III)염(예를 들면, 벤젠설폰산, p-톨루엔설폰산, 도데실벤젠설폰산의 Fe(III)염); 및 사이클로알칸설폰산의 Fe(III)염(예를 들면, 캄포설폰산의 Fe(III)염)이다.
본 발명과 관련하여, C1-C20-알칸올은 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬 라디컬을 갖는 단수소알콜(monohydric alcohols)을 나타내고; C1-C20-알칸설폰산은 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬 라디컬을 갖는 일염기 설폰산(monobasic sulphonic acid)을 나타내고; 그리고 C1-C20-카르복시산은 1 내지 20개의 탄소원자의 알킬 라디컬을 갖는 일염기 카르복시산을 나타낸다.
놀랍게도, 일반식 (Ⅴ)의 선택적으로 치환된 티오펜의 중합반응을 위해, 단지 반응 매질(예를 들면, 비극성 용매)에서 사용되는 산화제의 낮은 용해성이 요구된다는 것이 밝혀졌다. 예를 들면, iron(III) 토실레이트는 톨루엔에서 상당히 불용성을 갖는다. 그럼에도 불구하고, EDT는 PEDT에 주어지는 톨루엔 내의 iron(III) 토실레이트에 의하여 중합된다.
그러므로 본 발명은 다중음이온의 존재하에서 일반식 (Ⅳ)의 선택적으로 치환된 폴리티오펜을 제조하는 방법으로서, 일반식 (Ⅴ)의 선택적으로 치환된 티오펜의 산화 중합 반응이 상술한, iron(III) 염(0.5 내지 10 mol/mole, 바람직하게는 1 내지 3mol/mole)의 기들로부터 선택되는 산화제를 사용하는 비극성 용매에서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법을 추가적으로 제공한다.
R7 및 R8은 상기에서 정의된 바와 같다.
바람직한 산화제는 지방족 및 방향족 설폰산의 iron(III) 염이고, 더욱 바람직하게는iron(III) p-톨루엔설포네이트이다. 티오펜 몰당 iron(III) p-톨루엔설포네이트 1 내지 3 mol의 몰비가 바람직하다. 사용되는 용매는 상기 나열된 수-불용성 용매일 수 있다.
본 발명과 관련하여, 상술한 유기 산의 Fe(Ⅲ)염들의 혼합물을 사용하는 것도 가능하다. 상술한 Fe(Ⅲ)염들은 다른 산화제들과 결합되어 촉매로서 선택적으로 이용될 수 있다. 일반식 (Ⅴ)의 선택적으로 치환된 티오펜의 산화 중합 반응을 위하여, 이론적으로 티오펜 몰 당 산화제 2.25 당량이 요구된다(예를 들어, J. Polym. Sc. Part A Polymer Chemistry Vol. 26, p. 1287 (1988) 참조). 그러나, 산화제의 당량을 보다 높이거나 보다 낮추어 사용하는 것도 가능하다.
본 발명은 일반식 (Ⅱa) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 적어도 하나 포함하는 공중합체를 추가적으로 제공할 수 있다:
여기에서,
R5 는 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C18-알킬 라디컬, 바람직하게는 수소이고,
R6은 수소 또는 선택적으로 치환된 C1-C30-알킬 라디컬, 바람직하게는 선택적으로 치환된 C1-C20-알킬 라디컬, 더욱 바람직하게는 선택적으로 치환된 C1-C12-알킬 라디컬이고, 그리고,
일반식 (Ⅱa)의 반복 단위의 질량비는 2% 내지 80%, 바람직하게는 2% 내지 50%이고, 그리고
일반식 (Ⅲ)의 반복 단위의 질량비는 5% 내지 98%, 바람직하게는 50% 및 98%이다.
여기에서 나열된 C1-C18-알킬 라디컬의 및 C1-C30-알킬 라디컬의 정의는 이들 알킬 라디컬의 상술한 정의와 대응한다.
일반식 (Ⅱa) 및 (Ⅲ)의 반복 단위는 공중합체 내에서 각각 같거나 다를 수 있다. 일반식 (Ⅱa) 및 (Ⅲ)의 반복 단위가 동일한 경우에서의 공중합체가 바람직하다.
본 발명과 관련하여, 본 발명의 공중합체는 2,000 내지 5,000,000 g/mol, 바람직하게는 10,000 내지 1,000,000 g/mol, 더욱 바람직하게는 40,000 g/mol 내지 600,000g/mol의 분자량을 갖는다.
일반식 (Ⅱa) 및 (Ⅲ)의 반복 단위의 질량비는 성분 분석 및 HNMR을 사용하여 비교된다. 성분 분석에서, 계산되고 밝혀진 퍼센테이지가 비교된다. HNMR 스펙트럼에서, 특정 반복 단위의 특성 신호들이 서로에 관하여 고려되어진다.
본 발명의 공중합체는 수-불용성 용매에서 가용성 또는 분산성이 있다. 적합한 용매는 상기 나열된 용매이고, 용매가 방향족 또는 지방족 탄화수소임이 바람직하다.
본 발명은 전도성 필름 또는 코팅 시스템의 생산을 위하여, 또는 유기 LED(OLED)의 정공 주입층으로서의 본 발명 착물의 이용을 추가적으로 제공한다.
하기의 실시예는 단지 본 발명을 예시하기 위하여 제공되는 것이고, 본 발명이 이에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.
실시예
실시예
1 : 4-
도데실아세토페논의
합성
염화알루미늄 (227.114g=1.7mol)이 염화메틸렌(800ml)에서 아르곤 하에 부유되었고, 0℃로 식혔다. 염화메틸렌 100ml내에 용해된 아세트산무수물(89.972g=0.88mol)이 30분 안에 드롭와이즈(dropwise)법으로 천천히 첨가되었다. 혼합물은 약 15분동안 교반되었다. 다음으로CH2Cl2(0℃)에 용해된 도데실벤젠(99.267g=0.4mol)이 30분 안에 냉각되어 드롭와이즈법으로 첨가되었다. 반응물들은 냉각 없이 밤새도록 추가적으로 교반되었다. 결과로서 얻어지는 orange-yellow 반응 용액이 분쇄된 얼음 1.5리터에 천천히 부어졌고, 폐기되었던 수상(aqueous phase)으로부터 분리되었다. 유기 상(organic phase)은 ~10% 염산, 포화된 탄산나트륨 용액 및 포화된 염화나트륨 용액 500ml을 각각 두번 쉐이킹함으로써 추출되었다. 유기 상은 무수 마그네슘 설페이트에서 건조되었고, 용매는 회전증발기(rotary evaporator)에서 빼내졌다. 결과로서 얻어지는 갈색 고체는 메탄올로부터 재결정되었다. 상기 재결정은 밤새도록 4℃에서 달성되었다.
산출량(Yield) : 106.669g=0.37mol=92.4%(이론상)
분석값(Analyses) : 250 MHz, CDCl3;δ=0.90(dd, 3H, J=5.7, 6.9Hz), 1.28(m, 18H), 1.56~1.60(m, 2H), 2.61(s, 3H), 2.65(t, 2H, J=7.3Hz), 7.27(d, 2H, J=8.2Hz), 7.89(d, 2H, J=8.2Hz).
실시예
2 : (p-
도데실페닐
)
메틸카비놀의
합성
4-도데실아세토페논(106.669g=0.37mol)이 메탄올(1.11)에 채워졌고 아르곤 하에서 0℃로 식혔다. NaBH4 (20.39 g = 0.54 mol)의 총 10 부분(portion)이 5분 간격으로 이에 첨가되었다. 기체의 활발한 발생이 약해진 후에, 얼음 통이 제거되었고, 그리고 반응 용액은 상온에서 밤새도록 추가적으로 교반되었다. 용액은 건조시키기 위해 농축되었고, 흰색 결정 잔류물이 헥산 1리터에 흡수되었다. 결과로서 얻어지는 부유물들은 10%이하 염산 500ml와 매번 두 차례 쉐이크함으로써 추출되었고, 이들은 남아있는 고체에 완전히 용해하였다. 유기 상은 포화 염화나트륨 용액 500ml와 두 차례 쉐이크함으로써 추출되었고, 마그네슘 설페이트에서 건조되었고, 여과되었고, 회전증발기에서 농축되었으며 -20℃에서 결정화되었다. 상기 결정은 여과되었고 건조되었다.
산출량(Yield) : 100.032g=0.35mol=93.4%(이론상)
분석값(Analyses) : 250 MHz, CDCl3;δ=0.90(dd, 3H, J=5.4, 6.9Hz), 1.20~1.35(m, 18H), 1.51(d, 3H, J=6.3Hz), 1.54~1.65(m, 2H), 1.81(d, 1H, J=1.9Hz), 2.60(t, 2H, J=7.9Hz), 4.86(m, 1H), 7.20(d, 2H, J=7.9Hz), 7.31(d, 2H, J=7.9Hz).
실시예
3 : p-
도데실스티렌의
합성
수분 분리기(water separator) 및 환류 응축기(reflux condenser)가 제공되어 있는 2리터 크기의 둥근바닥 플라스크가 톨루엔 1.2리터로 채워졌고, 다음으로 (p-도데실페닐)메틸카비놀 (50.082g=0.173mol) 및 p-톨루엔설폰산 일수화물(monohydrate, 0.679g=3.6mmol)이 채워졌다. 혼합물은 환류(reflux)를 위해 연속적으로 교반되면서 가열되었고, 더 이상 물이 분리되지 않을 때까지 비등(boiling)하여 유지되었다. 일단 반응 혼합물이 상온으로 냉각 되어지면, 유기 상은 물 500ml와 매번 두 차례, 그리고 포화 염화나트륨 용액 250ml와 1회 두 차례 쉐이크함으로써 추출되었다. 마그네슘 설페이트 상에서 건조한 후에, 용매는 회전증발기 상에서 빼내졌다. 노란 기름이 얻어졌다. 후속적으로, 두 집단이 결합되었다. 대강의 결과물은 용리액(eluent)으로서 헥산을 갖는 실리카 겔60의 400g에서 컬럼 크로마토그래피에 의해 정제되었고, 100ml의 부분 사이즈로 선택되어졌다.
Rf(carbinol) = 0 (hexane)
Rf(by-product) = 0.70 (hexane)
Rf(n-dodecylstyrene) = 0.50 (hexane)
산출량(Yield) : 97.934g=0.36 mol
분석값(Analyses) : 250 MHz, CDCl3;δ=0.90(t, 3H, J=6.6Hz), 1.20~1.4(m, 18H), 1.60(m, 2H), 2.60(t, 2H, J=7.55Hz), 5.22(d, 1H, J=7.85Hz), 5.73(d, 1H, J=17.6Hz), 6.71(q, 1H), 7.15(d, 2H, J=8.0Hz), 7.35(d, 2H, J=7.9Hz).
실시예
4 : p-
스티렌설폰산
은 염(
silver
salt
)의 합성
500ml 크기의 둥근바닥 플라스크에 물 400ml가 채워졌고, 그리고 소듐 p-스티렌설포네이트(45.046g=0.200mol) 45.046g이 상온에서 교반하면서 여기에 용해되었다. 빛의 차단을 확보하기 위하여, 알루미늄 포일이 플라스크 둘레에 덮혀졌다. 용액은 0℃로 식혀졌고 질산은(34.225g=0.200mol) 34.225g 부분과 혼합되었고, 이는 간단히 핑크색 침전물을 생기게 하였다. 최선의 빛 차단과 함께 모든 순차적 실험이 수행되어졌다. 혼합물은 추가적으로 30분동안 0℃에서 교반되었다. 그리고 고체는 D2 글래스 프릿(glass frit)으로 여과되었다. 결과로서 얻어진 필터케이크(filtercake)는 얼음물 150ml 3 부분에서 세척되었고, 건조를 위해 디에틸에테르 소량과 반복적으로 슬러리 되었다. 크림색 고체는 아세토니트릴 500ml에 흡수되었고, 불용물(insolubles)은 D4 글래스 프릿으로 여과되었다. 용액은 건조를 위해 농축되었고, 결과로서 얻어진 고체는 저온 냉동고(freezer cabinet)에서 밤새도록 저장되었다.
산출량(Yield) : 47.890g=0.165 mol=82.5%(이론상)
실시예
5 : 에틸 p-
스티렌설포네이트의
합성
알루미늄 포일로 덮여진 250ml 크기의 둥근 바닥 플라스크에 아세토니트릴 390ml내의 스티렌-4-설폰산 은 염(47.890g=0.165mol) 47.890g이 채워졌고, 큰 교반막대로 교반되는 동안 브로민화에틸(35.77g=0.33mol) 35.77g과 혼합되었다. 마찬가지로 알루미늄 포일로 덮여진 환류응축기가 상기 플라스크에 부착되었는데, 여기에는 아르곤으로 채워진 벌룬이 구비되었다. 반응 혼합물은 5시간동안 70℃에서 교반되었고, 그 후에 상온으로 식힌 후에, 형성된 브롬화 은이 D4 프릿을 거쳐 여과되었고, 여과액은 회전증발기에서 농축되었다. 남아있는 기름은 디클로로메탄(DCM) 400ml에 흡수되었고, 5cm 높이의 실리카 겔 층을 가진 D4 프릿을 통해 여과되었다. 필터 물질은 매번 DCM 50ml로 반복적으로 추출되었고, 용매는 빼내졌다. 노랗고, 높은 점성을 갖는 기름이 얻어졌다.
산출량(Yield) : 29.457g=0.139 mol=84.2%(이론상)
분석값(Analyses) : 250 MHz, CDCl3;δ=1.30(t, 3H, J=7.3Hz), 4.12(q, 2H, J=7.3Hz), 5.46(d, 1H, J=11.1Hz), 5.96(d, 1H, J=17.7Hz), 6.77(dd, 1H, J=11.1, 17.4Hz), 7.65(d, 2H, J=8.2Hz), 7.86(d, 2H, J=8.2Hz).
실시예
6 : 폴리(에틸 p-
스티렌설포네이트
-
co
-p-
도데실스티렌
)의 합성
아르곤 분위기 하에서, 500ml 크기의 플라스크에 용매로서 디클로로에탄(250g)이 채워졌다. 파라-도데실스티렌(35.0g=128.45mmol; 실시예 3에 기재된 제조방법) 35.0g 및 에틸 파라-스티렌설포네이트(7.28g=34.30mmol; 실시예 5에 기재된 제조방법) 7.28g이 첨가된 후에, 혼합물은 기체 주입 튜브에 의하여 아르곤으로 포화되었다. 이를 위하여, 아르곤이 15분동안 혼합물을 통과하였다. 이 시간 동안, 혼합물은 60℃로 가열되었다. 사용된 자유-라디컬 개시제는 아조비스이소부티로니트릴(AIBN)으로, 아르곤으로 포화된 후에 소량의 디클로로에탄에서 용해되었는데, 셉툼(septum)을 통해 첨가되었다. 중합 용액은 추가적으로 5분 동안 아르곤으로 정화되었다. 그 다음 완성을 위해 60℃에서 밤새도록 중합되었다. 약간 점성이 있는 고분자 용액이 식혀진 후에, 상기 고분자는 메탄올에서 교반되는 동안 침전된다. 상기 침전 후에 얻어진 고분자는 테트라히드로퓨란(THF)에서 재용해 되었고 메탄올에서 다시 침전되었다. 분립된 흰색 고분자는 고진공하에서 건조되었다.
산출량(Yield) : 18g=42.6%(이론상)
분석값(Analyses, GPC) : 분자량(vs. THF에서의 PS): 120,000g/mol, 다분산지수(polydispersity) D(Mw/Mn):1.5
분석값(NMR) : 250 MHz, CDCl3;δ=0.88(3H), 1.20~1.30(-CH2-, -CH-), 1.40~1.45(3H, -CH3 ester), 1.45~1.55(2H), 2.50~2.60(2H), 4.0~4.1(2H, -CH2-ester), 6.0~7.0(4H), 7.3~7.6(4H, -CH-ester).
NMR 분광 분석(NMR spectroscopy analyses)은 설폰화도(the degree of sulphonation)을 측정하기 위하여 이용될 수 있다; 이를 위하여, 0.88ppm (도데실 기의 CH3 말단) 및 4.0~4.1ppm(에틸에스테르의 CH2)에서의 피크가 서로에 관하여 고려되어진다. 이는 21.09% 고분자의 설폰화도에 대응되는 비율인1:5.6의 에틸 스티렌설포네이트에 도데실스티렌의 주요-보정된 비율을 생기게 한다.
분석-성분 분석(
elemental
analysis
,
EA
):
성분(Element) | Value 1 [%] | Value 2 [%] | φ[%] | m/M [mol] |
C | 75.67 | 75.32 | 75.50 | 6.29 |
H | 9.38 | 9.20 | 9.29 | 9.29 |
S | 2.48 | 2.12 | 2.30 | 0.072 |
이는 18.77%의 설폰화도를 생기게 한다.
설폰화도는 하기 표에 따른다:
설폰화도 (Degree of sulphonation) [%] | ||
theoretical | EA | NMR |
21.07 | 18.77 | 21.09 |
실시예
7(본 발명) :
폴리(p-스티렌설폰산-co-p-도데실스티렌)의
합성
폴리(에틸 p-스티렌설포네이트-co-p-도데실스티렌) (실시예 6에 기재된 대로 제조) 15.0g이 디클로로에탄 50ml 및 톨루엔 100ml에 용해되었고, 100℃로 가열되었다. 가열하는 동안, 용액은 아르곤으로 진공화 되었다. 트리메틸실릴 브로마이드(trimethylsilyl bromide, TMSBr) (60g=16.33mmol) 60g이 5분에 걸쳐 셉툼(septum)을 통해 첨가되었다. 노란 용액이 60시간동안 100℃에서 환류 하에 교반되었고, 다음으로 농축되었으며, 그리고 고분자는 메탄올/물에서 침전되었다. 상기 침전 후에 얻어진 고분자는 순차적으로 테트라히드로퓨란(THF)에서 재용해되었고, 메탄올에서 재침전되었다. 분립된 누르스름한(yellowish) 고진공하에서 건조되었다.
산출량(Yield) : 10g
분석(EA)
성분(Element) | Value 1 [%] | Value 2 [%] | φ [%] | m/M [mol] |
C | 76.38 | 76.72 | 76.55 | 6.38 |
H | 10.03 | 10.07 | 10.05 | 10.05 |
S | 2.62 | 2.63 | 2.63 | 0.082 |
이는 20.8%의 설폰화도를 생기게 한다(완전한 가수분해에서 계산됨).
분석값(NMR) : 250 MHz, CDCl3;δ=0.88(3H), 1.20~1.40(-CH2-, -CH-), 1.45~1.55(2H), 2.50~2.60(2H), 6.0~7.0(4H), 7.3~7.6(-CH-aromatic of the ester).
NMR 분광 분석은 에스테르의 가수분해도(the degree of hydrolysis)를 측정하기 위해 이용될 수 있다: 이를 위하여, 지금 간신히 구별할 수 있는0.88ppm(도데실 기의 CH3 말단)에서의 피크 및 4.11ppm(에틸에스테르의 CH2)에서의 피크가 서로(1:53.3)에 관하여 고려되어진다. 이는 대략 86.7%의 에스테르 가수분해도를 생기게 한다.
분석(GPC)
샘플은 테트라히드로퓨란에 용해되었다. 사용되는 교정 표준기준(calibration standard)은 폴리스티렌이다. 이용되는 디텍터는 UV 디텍터 및 굴절률 디텍터(RI)였다.
디텍터(Detector) | Mn [g/mol] | Mw [g/mol] | D (Mw/Mn) |
UV 254 nm | 72000 | 120000 | 1.7 |
RI | 74000 | 118000 | 1.6 |
실시예
8(본 발명) :
폴리
(3,4-
에틸렌디옥시티오펜
)/폴리(p-
스티렌설폰산
-co-p-도
데실스
티렌)
착물의
합성
50ml 크기의 둥근바닥 플라스크가 톨루엔 12.5g 및 실시예 7의 폴리(p-스티렌설폰산-co-p-도데실스티렌) 1g으로 채워졌고, 10분동안 교반되었다. 후속적으로, 에틸렌디옥시티오펜(Clevios M V2, H.C. Starck GmbH) 0.3g(2.1mmol)이 첨가되었다. 후속적으로, iron(III) 토실레이트 1.33g(2.3mmol)이 첨가되고 혼합물은 상온에서 24시간동안 교반되었다. 그 후에, 교반기가 꺼졌고, 결과로서 얻어지는 분산물은 10분 후에 옮겨졌다. 추가 48시간 후에, 혼합물은 0.45㎛ 포어 사이즈를 갖는 필터를 통해 여과되었다.
분석 : 고형분 함량(Solids content)
고형분 함량(solids content)을 측정하기 위하여, 샘플 2g이 16시간동안 100℃에서 건조되었다.
시작 중량 및 건조 함량(dry content)이 8.11% 고형분 함유량을 측정하기 위하여 사용되었다.
실시예
9(본 발명) : 비저항 측정 및
OLED
에서
착물의
이용
실시예8로부터 폴리(3,4-에틸렌디옥시티오펜)/폴리(p-스티렌설폰산-co-p-도데실스티렌) 착물의 본 발명 배합은 OLED(organic light-emitting diode)를 제조하는데에 이용된다. OLED 제조에서 절차는 하기와 같다:
ITO-코팅된 기판의 제조(ITO=indium tin oxide)
ITO-코팅된 유리(Merck Balzers AG, FL, Part. No. 253 674 XO)이 50mm ×50mm 조각으로 잘려졌다(기판들). 기판들은 후속적으로 15분동안 초음파통에서 3% 수계 무카솔(Mucasol) 용액에서 세척되었다. 그 후에, 기판들은 증류수로 씻어냈고 원심분리기(centrifuge)에서 스핀 건조되었다. 상기 씻음 및 건조 공정은 10회 반복되었다. 코팅 전에 즉시, ITO 코팅된 측면이 UV/오존 리액터(PR-100, UVP Inc., Cambridge, GB)에서 10분동안 세척되었다.
정공주입층(hole-injecting layer)의 도포
실시예 8의 본발명 분산물 약 5ml가 여과되었다(Millipore HV, 0.45㎛). 세척된 ITO-코팅 기판은 스핀-코터에 놓여졌고, 상기 여과된 용액이 ITO-코팅된 기판 측면에 뿌려졌다. 후속적으로, 30초 시간 이상 1500rpm의 속도로 플레이트를 회전시킴으로써 상청물 용액(the supernatant solution)이 분리되었다. 그 후에, 그렇게 코팅된 기판이 15분동안 130℃의 열판 상에서 건조되었다. 층 두께는 500nm이었다(Tencor, Alphastep 500).
모든 추가 공정 단계는 순수 질소 분위기에서 수행되었고(inert gas glovebox system, M. Braun, Garching), 코팅된 기판으로 옮겨졌다. 처음에는, 실시예 8의 분산물을 갖는 코팅된 기판이 5분동안 180℃의 열판 상에서 후-건조되었다.
실시예 8의 분산물의 전도도는 쉐도우마스크를 사용하여, 0.5mm 거리에서 2.5cm 길이를 갖는 은 전극을 도포함으로써 분리층들 상에서 측정되었다(공정 단계4와 유사함). 전기계(electrometer)로 측정된 표면저항에 층 두께를 곱하였다. 이들 층의 비저항은 대략 100,000,000 ohm·cm이었다.
에미터층(emitter layer)의 도포
하얀 고분자 에미터의 1 중량% 자일렌 용액 5ml가 여과되었고(Millipore HV, 0.45㎛), 건조된 정공주입층 상에 뿌려졌다. 후속적으로, 30초동안 폐쇄된 리드(lid)를 갖는 플레이트를 2500rpm 속도로 회전시킴으로써 에미터의 상청물 용액이 분리되었다. 그 후에, 층은 10분동안 180℃의 열판 상에서 건조되었다. 모든 층의 두께는 585nm이었다.
금속캐소드의 도포
금속전극이 에미터층에 캐소드로써 도포되었다. 이를 위해, 기판은 에미터층 아래쪽으로, 직경 2.5mm 구멍을 포함하는 쉐도우마스크 상에 놓여진다. P=10-3 Pa의 압력에서 2개의 증착 보트(boats)로부터, 5nm 두께의 Ba층과 다음으로 200nm 두께의 Ag 층이 증착에 의해 성공적으로 도포되었다. 상기 증착 속도는 Ba에서 10Å/s, Ag에서 20Å/s 이었다. 분립된 금속전극은 4,9mm2의 면적을 가졌다.
OLED의 특성
OLED의 두 전극은 전기 리드를 거쳐 전압원(voltage source)에 (관통-)접속된다. 양극은 ITO 전극에 접속되고; 음극은 얇고 플렉서블한 Au 와이어를 거쳐 금속 전극에 접속된다. 전압상에서 OLED 전류 및 전기루미네선스 세기(이는 포토다이오드로 검출된다(EG&G C30809E))의 상관성이 기록된다. 후속적으로, 수명(lifetime)은 상기 배치를 통과하는 I = 60㎂의 정전류(constant current) 흐름에 의해 측정되고, 전압 및 빛의 세기는 시간의 함수로써 모니터링된다.
결과
이렇게 제조된 OLED는 OLED(도1 참조)의 전형적인 다이오드 행동을 보여준다. 12V의 인가된 전압 U에서, 순방향 전류(forward current) I는 0.57A/cm2이고, 휘도(luminance) L은 9.2cd/㎡ 루미네선스(luminescence)가 처음의 반으로 감소하는 것에 의해 정의되는 수명은, 정전 다이오드 전류 60㎂에서 60시간이다.
그러므로 실시예 8의 본 발명 분산물에 기반한 무수 PEDOT-포함 용액의 획기적인 적합성은 증명되어졌다.
Claims (11)
- 선택적으로 치환된 폴리티오펜 및 다중음이온을 포함하는 착물로서, 상기 다중음이온은 일반식 (Ⅰ) 및 (Ⅱ)의 반복단위, 또는 일반식 (Ⅰ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위, 또는 일반식 (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위, 또는 일반식 (Ⅰ), (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 갖는 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는 착물.
여기에서,
R1, R2 ,R3,R4,R5는 각각 독립적으로 수소, 치환된 또는 비치환된 C1-C18-알킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C1-C18-알콕시 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C5-C12-사이클로알킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C6-C14-아릴 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C7-C18-아랄킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C1-C4-히드록시알킬 라디컬 또는 히드록실 라디컬이고,
R6은 수소 또는 치환된 또는 비치환된 C1-C30-알킬 라디컬이고,
D는 직접 공유 결합 또는 치환된 또는 비치환된 C1-C5-알킬렌 라디컬이고,
R은 선형 또는 분지형으로, 치환된 또는 비치환된 C1-C18 알킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C5-C12-사이클로알킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C6-C14-아릴 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C7-C18-아랄킬 라디컬, 치환된 또는 비치환된 C1-C4-히드록시알킬 라디컬 또는 히드록실 라디컬이고,
x는 0 내지 4의 정수이고,
M은 수소(H) 또는 Li+, Na+, K+, Rb+, Cs+, NH4 +, Na+, K+ 또는 다른 양이온임. - 청구항 1에 있어서,
상기 다중음이온은 일반식 (Ⅱ) 및 (Ⅲ)의 반복 단위를 갖는 공중합체인 것을 특징으로 하는 착물. - 청구항 1 내지 3 중 어느 한 항에 있어서,
상기 다중음이온의 분자량은 2,000 내지 5,000,000g/mol인 것을 특징으로 하는 착물. - 청구항 1에 있어서,
일반식 (Ⅳ)의 반복 단위를 포함하는 치환된 또는 비치환된 폴리티오펜을 특징으로 하는 착물.
여기에서,
R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소, 치환된 또는 비치환된 C1-C18-알킬 라디컬 또는 치환된 또는 비치환된 C1-C18-알콕시 라디컬이거나,
R7 및 R8은 모두 1 또는 그 이상의 탄소원자가 O 또는 S로부터 선택되는 1 또는 그 이상의 동일하거나 다른 헤테로원자로 치환될 수 있는, 치환된 또는 비치환된 C1-C8-알킬렌 라디컬, 또는 적어도 하나의 탄소원자가 O 또는 S로부터 선택되는 헤테로원자로 치환될 수 있는, 치환된 또는 비치환된 C1-C8-알킬리덴 라디컬임. - 청구항 1에 있어서,
상기 착물은 방향족 또는 지방족 탄화수소들, 지방족 카르복시산 에스테르, 염화탄화수소들, 지방족 에테르 또는 방향성 지방족 에테르로 구성된 기로부터 선택되는 수-불용성 용매에서 가용성 또는 분산성이 있는 것을 특징으로 하는 착물. - 전도성 필름 또는 코팅 시스템의 생산을 위하여, 또는 유기 LED(OLED)의 정공주입층으로서 청구항 1에 따른 착물을 사용하는 방법.
- 청구항 5에 있어서,
상기 R7 및 R8은 모두 C1-C8-디옥시알킬렌 라디컬, C1-C8-옥시티아알킬렌 라디컬 또는 C1-C8-디티아알킬렌 라디컬인 것을 특징으로 하는 착물.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102008023008A DE102008023008A1 (de) | 2008-05-09 | 2008-05-09 | Neuartige Polythiophene-Polyanion-Komplexe in unpolaren organischen Lösungsmitteln |
DEDE102008023008.1 | 2008-05-09 | ||
PCT/EP2009/054650 WO2009135752A1 (de) | 2008-05-09 | 2009-04-20 | Neuartige polythiophene-polyanion-komplexe in unpolaren organischen lösungsmitteln |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20110015574A KR20110015574A (ko) | 2011-02-16 |
KR101575918B1 true KR101575918B1 (ko) | 2015-12-08 |
Family
ID=40874914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020107026362A KR101575918B1 (ko) | 2008-05-09 | 2009-04-20 | 무극성 유기 용매에서의 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8721929B2 (ko) |
EP (1) | EP2286416B1 (ko) |
JP (1) | JP5815401B2 (ko) |
KR (1) | KR101575918B1 (ko) |
CN (1) | CN102089831B (ko) |
DE (1) | DE102008023008A1 (ko) |
TW (1) | TWI447163B (ko) |
WO (1) | WO2009135752A1 (ko) |
Families Citing this family (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2537874B1 (en) | 2006-07-21 | 2021-05-19 | Nissan Chemical Corporation | Sulfonation of conducting polymers and oled, photovoltaic, and esd devices |
US8094434B2 (en) | 2008-04-01 | 2012-01-10 | Avx Corporation | Hermetically sealed capacitor assembly |
JP5359132B2 (ja) * | 2008-09-05 | 2013-12-04 | コニカミノルタ株式会社 | 透明電極及び該透明電極を有する有機エレクトロルミネッセンス素子 |
US8194395B2 (en) | 2009-10-08 | 2012-06-05 | Avx Corporation | Hermetically sealed capacitor assembly |
US8279584B2 (en) | 2010-08-12 | 2012-10-02 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor assembly |
US8824122B2 (en) | 2010-11-01 | 2014-09-02 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for use in high voltage and high temperature applications |
US9087994B2 (en) | 2010-11-03 | 2015-07-21 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | PEDOT dispersions in organic solvents |
US8848342B2 (en) | 2010-11-29 | 2014-09-30 | Avx Corporation | Multi-layered conductive polymer coatings for use in high voltage solid electrolytic capacitors |
US8576543B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-11-05 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a poly(3,4-ethylenedioxythiophene) quaternary onium salt |
US8493713B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-07-23 | Avx Corporation | Conductive coating for use in electrolytic capacitors |
US8451588B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-05-28 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a conductive coating formed from a colloidal dispersion |
US8300387B1 (en) | 2011-04-07 | 2012-10-30 | Avx Corporation | Hermetically sealed electrolytic capacitor with enhanced mechanical stability |
US8947857B2 (en) | 2011-04-07 | 2015-02-03 | Avx Corporation | Manganese oxide capacitor for use in extreme environments |
US8379372B2 (en) | 2011-04-07 | 2013-02-19 | Avx Corporation | Housing configuration for a solid electrolytic capacitor |
US9767964B2 (en) | 2011-04-07 | 2017-09-19 | Avx Corporation | Multi-anode solid electrolytic capacitor assembly |
JP5763960B2 (ja) * | 2011-04-08 | 2015-08-12 | Necトーキン株式会社 | 導電性高分子懸濁水溶液およびその製造方法、導電性有機材料、ならびに固体電解コンデンサおよびその製造方法 |
DE102013101443A1 (de) | 2012-03-01 | 2013-09-05 | Avx Corporation | Ultrahigh voltage solid electrolytic capacitor |
US8971019B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-03-03 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing an alkyl-substituted poly(3,4-ethylenedioxythiophene) |
JP2013219362A (ja) | 2012-04-11 | 2013-10-24 | Avx Corp | 過酷な条件下で強化された機械的安定性を有する固体電解コンデンサ |
US9548163B2 (en) | 2012-07-19 | 2017-01-17 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor with improved performance at high voltages |
DE102013213720A1 (de) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Avx Corporation | Temperaturstabiler Festelektrolytkondensator |
DE102013213728A1 (de) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Avx Corporation | Nichtionisches Tensid zur Verwendung in einem festen Elektrolyten eines Elektrolytkondensators |
DE102013213723A1 (de) | 2012-07-19 | 2014-01-23 | Avx Corporation | Festelektrolytkondensator mit erhöhter Feucht-zu-Trocken-Kapazität |
JP5933397B2 (ja) | 2012-08-30 | 2016-06-08 | エイヴィーエックス コーポレイション | 固体電解コンデンサの製造方法および固体電解コンデンサ |
GB2512480B (en) | 2013-03-13 | 2018-05-30 | Avx Corp | Solid electrolytic capacitor for use in extreme conditions |
US9324503B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-04-26 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor |
US9824826B2 (en) | 2013-05-13 | 2017-11-21 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing conductive polymer particles |
US9892862B2 (en) | 2013-05-13 | 2018-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat layer |
US9472350B2 (en) | 2013-05-13 | 2016-10-18 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a multi-layered adhesion coating |
JP6250340B2 (ja) * | 2013-09-18 | 2017-12-20 | テイカ株式会社 | 正孔輸送材料、エレクトロルミネッセンス素子および薄膜太陽電池 |
EP2940079B1 (en) * | 2014-04-30 | 2017-08-23 | Agfa-Gevaert | Non-aqueous dispersions of a conductive polymer |
EP3024042B1 (en) | 2014-11-21 | 2017-07-19 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | PEDOT in perovskite solar cells |
EP3067948B1 (en) | 2015-03-09 | 2018-08-08 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Conductive polymer in organic solvent with fluorinated non-ionic compound |
US10014108B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-07-03 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly |
US9928963B2 (en) | 2015-03-13 | 2018-03-27 | Avx Corporation | Thermally conductive encapsulant material for a capacitor assembly |
US10297393B2 (en) | 2015-03-13 | 2019-05-21 | Avx Corporation | Ultrahigh voltage capacitor assembly |
US9754730B2 (en) | 2015-03-13 | 2017-09-05 | Avx Corporation | Low profile multi-anode assembly in cylindrical housing |
US20210210691A1 (en) * | 2015-12-24 | 2021-07-08 | Dow Global Technologies Llc | Polymeric layer and organic electronic device comprising same. |
WO2017200936A1 (en) * | 2016-05-19 | 2017-11-23 | Kemet Electronics Corporation | Polyanion copolymers for use with conducting polymers in solid electrolytic capacitors |
US11396594B2 (en) * | 2016-05-19 | 2022-07-26 | Kemet Electronics Corporation | Formulation for use with conducting polymers in solid electrolytic capacitors |
US10431389B2 (en) | 2016-11-14 | 2019-10-01 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor for high voltage environments |
CN109119180A (zh) * | 2017-06-22 | 2019-01-01 | 宁德时代新能源科技股份有限公司 | 导电材料、电极片及电化学储能装置 |
US10943742B2 (en) * | 2017-10-18 | 2021-03-09 | Kemet Electronics Corporation | Conductive polymer dispersion for improved reliability |
WO2020033817A1 (en) | 2018-08-10 | 2020-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing polyaniline |
WO2020033819A1 (en) | 2018-08-10 | 2020-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an intrinsically conductive polymer |
US11081288B1 (en) | 2018-08-10 | 2021-08-03 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor having a reduced anomalous charging characteristic |
WO2020033820A1 (en) | 2018-08-10 | 2020-02-13 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor formed from conductive polymer particles |
US11380492B1 (en) | 2018-12-11 | 2022-07-05 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor |
WO2020123577A1 (en) | 2018-12-11 | 2020-06-18 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing an intrinsically conductive polymer |
CN113853662B (zh) | 2019-05-17 | 2023-08-04 | 京瓷Avx元器件公司 | 固体电解电容器 |
DE112020004416T5 (de) | 2019-09-18 | 2022-06-15 | KYOCERA AVX Components Corporation | Festelektrolytkondensator zur Verwendung bei hohen Spannungen |
CN110818863B (zh) * | 2019-11-01 | 2021-08-17 | 中国科学院长春应用化学研究所 | 一种基于聚噻吩的两亲嵌段聚合物、其制备方法和电活性胶束 |
DE112020006024T5 (de) | 2019-12-10 | 2022-10-06 | KYOCERA AVX Components Corporation | Tantalkondensator mit erhöhter Stabilität |
US11756742B1 (en) | 2019-12-10 | 2023-09-12 | KYOCERA AVX Components Corporation | Tantalum capacitor with improved leakage current stability at high temperatures |
WO2021119065A1 (en) | 2019-12-10 | 2021-06-17 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a pre-coat and intrinsically conductive polymer |
US11763998B1 (en) | 2020-06-03 | 2023-09-19 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor |
US11631548B2 (en) | 2020-06-08 | 2023-04-18 | KYOCERA AVX Components Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a moisture barrier |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002080627A2 (en) | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Agfa-Gevaert | Stable electroluminescent devices |
EP1564251B1 (de) | 2004-02-10 | 2008-06-11 | H.C. Starck GmbH | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3843412A1 (de) * | 1988-04-22 | 1990-06-28 | Bayer Ag | Neue polythiophene, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
EP0440957B1 (de) | 1990-02-08 | 1996-03-27 | Bayer Ag | Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
EP1801143B1 (en) * | 2000-06-26 | 2009-03-11 | Agfa-Gevaert | Redispersible latex comprising a polythiophene |
DE10111790A1 (de) * | 2001-03-12 | 2002-09-26 | Bayer Ag | Neue Polythiophen-Dispersionen |
EP1390422B1 (en) * | 2001-03-29 | 2004-11-03 | Agfa-Gevaert | Thiophenes and polymers derived therefrom |
KR100875219B1 (ko) * | 2001-06-22 | 2008-12-19 | 아그파-게바에르트 | 전기전도성 패턴 형성용 물질 및 전기전도성 패턴 형성 방법 |
KR100936426B1 (ko) | 2001-12-04 | 2010-01-12 | 아그파-게바에르트 | 폴리티오펜 또는 티오펜 공중합체의 수성 또는 비수성의용액 또는 분산액을 제조하는 방법 |
MXPA05010361A (es) * | 2003-04-02 | 2005-11-17 | Starck H C Gmbh | Agentes de oxidacion especificos para producir polimeros conductores. |
DE10324534A1 (de) * | 2003-04-02 | 2004-10-14 | H.C. Starck Gmbh | Retardierende Oxidationsmittel zur Herstellung leitfähiger Polymere |
JP4387131B2 (ja) | 2003-06-30 | 2009-12-16 | 富山薬品工業株式会社 | 導電性高分子物質の有機溶剤分散液及びその製造方法 |
DE102004022110A1 (de) * | 2004-05-05 | 2005-12-01 | H.C. Starck Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Elektrolytkondensatoren |
US7985490B2 (en) * | 2005-02-14 | 2011-07-26 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Composition of conducting polymer and organic opto-electronic device employing the same |
CN101309949B (zh) * | 2005-11-17 | 2012-05-09 | 长濑化成株式会社 | 聚(3,4-二烷氧基噻吩)和聚阴离子的复合体的水分散体的制造方法 |
DE102005060159A1 (de) * | 2005-12-14 | 2007-06-21 | H. C. Starck Gmbh & Co. Kg | Transparente polymere Elektrode für elektro-optische Aufbauten |
DE102006002798A1 (de) * | 2006-01-20 | 2007-08-09 | H. C. Starck Gmbh & Co. Kg | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
JP5374841B2 (ja) | 2006-07-18 | 2013-12-25 | 荒川化学工業株式会社 | 導電性高分子/ドーパント錯体有機溶媒分散体、その製造方法および当該導電性高分子/ドーパント錯体有機溶媒分散体を含有する組成物 |
JP4975403B2 (ja) * | 2006-09-08 | 2012-07-11 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性高分子溶液及び導電性塗膜 |
-
2008
- 2008-05-09 DE DE102008023008A patent/DE102008023008A1/de not_active Ceased
-
2009
- 2009-04-20 US US12/991,050 patent/US8721929B2/en active Active
- 2009-04-20 EP EP09741970.9A patent/EP2286416B1/de active Active
- 2009-04-20 KR KR1020107026362A patent/KR101575918B1/ko active IP Right Grant
- 2009-04-20 WO PCT/EP2009/054650 patent/WO2009135752A1/de active Application Filing
- 2009-04-20 JP JP2011507861A patent/JP5815401B2/ja active Active
- 2009-04-20 CN CN200980126271.9A patent/CN102089831B/zh active Active
- 2009-05-08 TW TW098115216A patent/TWI447163B/zh active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002080627A2 (en) | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Agfa-Gevaert | Stable electroluminescent devices |
EP1564251B1 (de) | 2004-02-10 | 2008-06-11 | H.C. Starck GmbH | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102089831A (zh) | 2011-06-08 |
DE102008023008A1 (de) | 2009-11-12 |
EP2286416B1 (de) | 2017-09-13 |
CN102089831B (zh) | 2014-01-15 |
TW201006881A (en) | 2010-02-16 |
EP2286416A1 (de) | 2011-02-23 |
US20110168946A1 (en) | 2011-07-14 |
JP2011523427A (ja) | 2011-08-11 |
TWI447163B (zh) | 2014-08-01 |
WO2009135752A1 (de) | 2009-11-12 |
JP5815401B2 (ja) | 2015-11-17 |
KR20110015574A (ko) | 2011-02-16 |
US8721929B2 (en) | 2014-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101575918B1 (ko) | 무극성 유기 용매에서의 신규한 폴리티오펜-다중음이온 착물 | |
EP1862487B1 (en) | Electrically conductive polymers and method of making electrically conductive polymers | |
US7071289B2 (en) | Polymers comprising thieno [3,4-b]thiophene and methods of making and using the same | |
JP4587274B2 (ja) | 3,4−アルキレンジオキシチオフェン、その使用、ポリチオフェン、これらの製造方法およびこれらの使用 | |
KR100817701B1 (ko) | 치환된 티에노티오펜 단량체 및 전도성 중합체 | |
KR101059320B1 (ko) | 2,2'-디(3,4-에틸렌디옥시티오펜)의 제조방법 | |
KR20100116576A (ko) | 전도성 폴리머의 제조 방법 | |
JP2008538223A (ja) | 改善された電子性能を有する可溶性ポリ(チオフェン)のコポリマー | |
KR20080027469A (ko) | 플루오르화 알킬 치환된-티에노[3,4-b]티오펜 단량체 및이로부터의 중합체 | |
WO2009094361A2 (en) | Conjugated polymers from substituted 3,4-propylenedioxythiophene, compositions, method of making, and use thereof | |
WO2008143838A1 (en) | Aryl-substituted conjugated polymers | |
WO2011113612A1 (en) | Sulphonated polyketones as a counter-ion of conductive polymers | |
KR100589587B1 (ko) | 방향족 아민유도체, 가용성 도전성 화합물 및 전계발광소자 | |
EP0551938B1 (en) | Electrically conductive alternating copolymer and method of preparing such a copolymer | |
US7094365B2 (en) | Pentafluorosulfanyl-substituted thienothiophene monomers and conducting polymers | |
US20030216540A1 (en) | Alkylenedioxythiophenes and poly(alkylenedioxythiophene)s having urethane-containing side groups | |
KR101107489B1 (ko) | 페노티아진계 중합체 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자 | |
US20120226015A1 (en) | Selenium-based monomers and conjugated polymers, methods of making, and use thereof | |
KR20120045004A (ko) | 신규한 고분자 전해질 착물 및 이의 용도 | |
Son et al. | Synthesis, characterization, and electrical properties of regioregular alkyl-substituted PEDOTt | |
KR100655656B1 (ko) | 전기적 특성이 개선된 폴리티오펜 유도체 및 이의 제조방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181126 Year of fee payment: 4 |