KR101557522B1 - 가스 감압 공급 장치, 이것을 구비하는 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버로 가스를 공급하는 가스 감압 공급 장치가 제공된다. 이 가스 감압 공급 장치는 1차압을 감압하고, 대기압보다도 낮고 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 2차압을 조정하는 압력 조정기; 압력 조정기의 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 압력 측정기; 2차측 배관에 설치되는 제1 개폐 밸브; 제1 개폐 밸브를 개폐하는 개폐 밸브 제어기; 압력 측정기에 의해 측정되는 2차측 배관 내의 압력을 제1 설정 압력과 비교하는 압력 비교기; 및 2차측 배관 내의 압력이 제1 설정 압력 이하라고 압력 비교기에 의해 판정된 경우에, 제1 개폐 밸브를 폐지하는 폐지 신호를 개폐 밸브 제어기로 출력하는 제어부를 구비한다.

Description

가스 감압 공급 장치, 이것을 구비하는 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치 {FEEDER FOR REDUCING GAS PRESSURE AND CYLINDER CABINET, VALVE BOX, AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS WITH THE SAME}
본 출원은 2011년 3월 3일에 일본 특허청에 출원된 일본 특허 출원 2011-046490호에 기초하는 우선권을 주장하는 것으로, 그 전체 내용을 여기에 원용한다.
본 발명은 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버로 가스를 공급하는 가스 감압 공급 장치, 이것을 구비하는 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치에 관한 것이다.
반도체 디바이스의 제조에 사용되는 반도체 제조 장치 중에는, 예를 들어 화학 퇴적(CVD) 장치나 에칭 장치 등과 같이 가스를 이용하는 반도체 제조 장치가 있다. 이와 같은 반도체 제조 장치는 가스 공급 배관을 통해, 실린더 캐비닛 등의 가스 공급원과 접속되어 있다. 여기서, 가스 공급 배관 내의 압력은 대기압보다도, 예를 들어 0.1㎫ 정도 높은 압력으로 유지되는 경우가 많다. 이와 같이 배관 내의 압력이 대기압보다도 높은 경우에는, 원료 가스 공급 배관 중의 조인트로부터 원료 가스가 리크될 우려가 있다. 이로 인해, 밸브 박스라고 불리는 용기 내에 조인트를 집약적으로 배치하고, 밸브 박스 내에 가스 누설 검지기를 설치하여 가스 누설을 감시하는 동시에, 밸브 박스를 배기 설비에 접속하여, 밸브 박스 내를 정상적으로 배기하고 있다. 가스 누설 검지기에 의해 가스 누설이 검지된 경우에는, 배기 설비에 의해 실린더 캐비닛 내가 강제적으로 배기되어, 실내로의 가스 누설이 방지된다.
또한, 가스 공급 배관 중의 용접 개소로부터도 가스 누설이 일어날 가능성이 있으므로, 예를 들어 클린룸의 천장에 배관을 따라서 복수의 가스 누설 검지기가 배치되는 경우도 많다.
또한, 액체 원료를 사용하는 경우에는, 증기압을 대기압보다도 높게 하기 위해, 원료를 가열할 필요가 있지만, 그렇게 하면, 배관 내에서 원료가 액화되어 버릴 가능성이 있다. 이 경우, 원하는 공급량으로 원료를 공급할 수 없는 사태로 되거나, 또한 액화된 원료에 의해 배관 내가 부식되어, 콘터미네이션의 원인으로 되는 경우가 있다. 이로 인해, 테이프 히터 등을 사용하여 배관을 가열함으로써, 액화를 방지하고 있다.
일본 특허 출원 공개 제2006-61824호 공보 일본 특허 출원 공고 평7-50418호 공보
상술한 바와 같이, 가스 누설 검지나, 밸브 박스 내의 정상적인 배기 또는 누설 시의 강제 배기, 배관의 가열 등을 행하면, 반도체 제조 장치 그 자체를 가동하는 전력 이외의 전력이 필요해져, 반도체 장치의 제조 비용의 상승으로 이어진다. 이로 인해, 그와 같은 전력을 절약하는 것이 기대되고 있다.
따라서, 본 발명은 반도체 제조 장치의 가동에 필요로 하는 전력 이외에 필요해지는 용역 전력을 저감시킬 수 있는 가스 감압 공급 장치, 이것을 구비하는 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치를 제공한다.
본 발명의 제1 형태에 따르면, 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버로 가스를 공급하는 가스 감압 공급 장치가 제공된다. 이 가스 감압 공급 장치는 1차압을 감압하고, 대기압보다도 낮고 상기 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 2차압을 조정하는 압력 조정기와, 상기 압력 조정기의 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 압력 측정기와, 상기 2차측 배관에 설치되는 제1 개폐 밸브와, 상기 제1 개폐 밸브를 개폐하는 개폐 밸브 제어기와, 상기 압력 측정기에 의해 측정되는 2차측 배관 내의 압력을, 상기 프로세스 압력보다도 소정의 압력만큼 높은 제1 설정 압력과 비교하는 압력 비교기와, 상기 2차측 배관 내의 압력이 상기 제1 설정 압력 이하이면 상기 압력 비교기에 의해 판정된 경우에, 상기 제1 개폐 밸브를 폐지하는 폐지 신호를 상기 개폐 밸브 제어기로 출력하는 제어부를 구비한다.
본 발명의 제2 형태에 따르면, 하우징 내에 배치되는 제1 형태의 가스 감압 공급 장치와 상기 하우징 내에 있어서 상기 압력 조정기의 1차측에 접속되는 적어도 하나의 가스 실린더를 구비하는 실린더 캐비닛이 제공된다.
본 발명의 제3 형태에 따르면, 하우징 내에 배치되는 제1 형태의 가스 감압 공급 장치와 상기 하우징 내에 배치되어, 소정의 가스 공급원으로부터의 가스 공급 라인과 접속되는 1 또는 2 이상의 개폐 밸브와, 상기 1 또는 2 이상의 개폐 밸브에 대응하여 접속되고, 소정의 기판 처리 장치에 접속되는 배관을 구비하는 밸브 박스가 제공된다.
본 발명의 제4 형태에 따르면, 하우징 내에 배치되는 제1 형태의 가스 감압 공급 장치와 상기 가스 감압 공급 장치로부터 프로세스 가스가 공급되고, 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버를 구비하는 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 제5 형태에 따르면, 가스 공급원으로부터의 프로세스 가스를 압력 조정기에 의해 감압하고, 대기압보다도 낮고, 기판 처리가 행해지는 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 상기 프로세스 가스를 상기 압력 조정기의 2차측 배관에 제공하는 스텝과, 상기 2차측 배관에 설치된 압력 측정기에 의해, 상기 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 스텝과, 측정된 상기 2차측 배관 내의 압력과, 상기 프로세스 압력보다도 소정의 압력만큼 높은 제1 설정 압력을 비교하는 스텝과, 비교의 결과, 상기 2차측 배관 내의 압력이 상기 제1 설정 압력보다도 낮다고 판정된 경우에, 상기 2차측 배관에 설치된 제1 개폐 밸브를 폐쇄하는 스텝을 포함하는, 가스 감압 공급 방법이 제공된다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 의한 가스 감압 공급 장치를 구비하는 실린더 캐비닛을 도시하는 모식도.
도 2는 본 발명의 제2 실시 형태에 의한 가스 감압 공급 장치를 구비하는 실린더 캐비닛을 도시하는 모식도.
도 3은 본 발명의 제3 실시 형태에 의한 가스 감압 공급 장치를 구비하는 밸브 박스를 도시하는 모식도.
도 4는 본 발명의 제4 실시 형태에 의한 가스 감압 공급 장치를 구비하는 기판 처리 장치를 도시하는 모식도.
도 5는 도 2의 실린더 캐비닛의 변형예를 도시하는 모식도.
본 발명의 실시 형태에 따르면, 반도체 제조 장치의 가동에 필요로 하는 전력 이외에 필요해지는 용역 전력을 저감시킬 수 있는 가스 감압 공급 장치, 이것을 구비하는 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치가 제공된다.
이하, 첨부의 도면을 참조하면서, 본 발명의 한정적이 아닌 예시의 실시 형태에 대해 설명한다. 첨부한 전체 도면 중, 동일 또는 대응하는 부재 또는 부품에 대해서는, 동일 또는 대응하는 참조 번호를 부여하여, 중복되는 설명을 생략한다.
(제1 실시 형태)
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 의한 가스 감압 공급 장치를 포함하는 실린더 캐비닛과, 이 실린더 캐비닛으로부터 가스가 공급되는 기판 처리 장치를 도시하는 개략도이다. 도시한 바와 같이, 실린더 캐비닛(10)은 외부 환경과의 격리가 가능한 하우징으로 구성되고, 내부에는 기판 처리 장치(20)의 챔버(22)로 공급되는 프로세스 가스가 충전된 가스 실린더(12)가 배치되어 있다. 또한, 가스 실린더(12)는 메인 밸브(13)를 통해, 레귤레이터(31)의 1차측에 접속되어 있다. 본 실시 형태에 있어서는, 레귤레이터(31)로서, 2차측의 압력이 부압이라도 안정적으로 압력을 조정할 수 있는 것이 사용된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서의 레귤레이터(31)에 있어서는, 레귤레이터(31)에 구비되는 핸들을 수동으로 회전하여 2차압이 조정되지만, 후술하는 바와 같이, 다른 실시 형태에 있어서는 전공 레귤레이터를 레귤레이터(31)로서 이용해도 좋다.
레귤레이터(31)의 2차측에는 배관(32)이 접속되고, 배관(32)에는 개폐 밸브(33)가 설치되어 있다. 개폐 밸브(33)는, 예를 들어 에어 오퍼레이션 밸브이고, 전자기 밸브를 통해 도시하지 않은 에어 배관(모두 도시하지 않음)이 접속되어 있다. 전자기 밸브의 온/오프를 밸브 제어기(36)에 의해 전기적으로 제어함으로써, 에어 오퍼레이션 밸브가 개폐된다. 또한, 개폐 밸브(33)로서, 소위 노멀리 클로즈형의 에어 오퍼레이션 밸브가 사용되면 바람직하다.
또한, 배관(32)에는 개폐 밸브(33)의 하류측[개폐 밸브(33)에 대해 가스 실린더(12)보다도 먼 측]에 있어서, 압력 센서(34)가 설치되어 있다. 압력 센서(34)는 배관(32) 내의 압력, 즉 레귤레이터(31)의 2차압을 측정하는 동시에, 측정한 압력을 나타내는 신호를 압력 모니터(35)로 출력한다. 압력 센서(34)로서는, 예를 들어 격막식 진공계나 피라니 센서 등의 진공계를 사용할 수 있다.
또한, 배관(32)은 실린더 캐비닛(10)의 천장판에 있어서 배관(14)과 접속되고, 배관(14)은 후술하는 기판 처리 장치(20) 내의 배관(23)에 접속되어 있다. 즉, 실린더 캐비닛(10) 내의 가스 실린더(12)에 충전되는 프로세스 가스는 실린더 캐비닛(10)으로부터 기판 처리 장치(20)로 배관(14)을 통해 공급된다.
기판 처리 장치(20) 내의 배관(23)은 개폐 밸브(25)를 통해, 예를 들어 매스 플로우 컨트롤러 등의 유량 제어기(24)에 접속되어 있다. 유량 제어기(24)는 개폐 밸브(27)가 설치된 메인 배관(26)에 의해 챔버(22)에 접속되어 있다. 챔버(22)는 배기 배관(22b)을 갖고, 배기 배관(22b)은 도시하지 않은 배기 장치에 접속되어 있다. 또한, 배기 배관(22b)에는 메인 밸브(22c)가 설치되어 있다. 이상의 구성에 따르면, 배기 장치에 의해 챔버(22) 내의 압력이 소정의 프로세스 압력으로 감압 조정되고, 개폐 밸브(25 및 27)가 개방되면, 실린더 캐비닛(10)으로부터 공급되는 프로세스 가스가, 유량 제어기(24)에 의해 유량 제어되어 챔버(22)로 공급된다. 이에 의해, 가스의 종류에 따라서, 챔버(22) 내의 서셉터(22a) 상에 적재되는 웨이퍼(W)에 대해 소정의 처리(성막, 에칭 등)가 행해진다.
도 1 중의 실린더 캐비닛(10)에 다시 착안하면, 실린더 캐비닛(10) 내에는 이젝터(16)가 설치되어 있다. 이젝터(16)는 유입구, 고압 가스 유입구 및 유출구를 갖고 있다. 유입구에는 개폐 밸브(15)가 설치된 배관(16a)의 일단부가 접속되고, 배관(16a)의 타단부는 배관(32)에 접속되어 있다. 고압 가스 유입구에는 도시하지 않은 고압 가스원에 접속되고, 개폐 밸브(16V)가 설치된 배관(16b)이 접속되어 있다. 유출구에는 배관(16c)의 일단부가 접속되고, 배관(16c)의 타단부는, 예를 들어 제해 설비(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 배관(16b)의 개폐 밸브(16V)를 개방하여 고압 가스원으로부터의 고압 가스를 이젝터에 공급하면, 이젝터 내에서는 고압 가스가 유입구를 향해 고속으로 흐르고, 이에 수반하여 유입구측이 감압된다. 이에 의해, 배관(16a) 내의 가스가 이젝터(16) 내에 흡인되고, 고압 가스와 함께 유출구로부터 유출된다.
또한, 개폐 밸브(15 및 16V)는 이젝터 제어기(17)에 의해 제어되어 개폐된다. 이젝터 제어기(17)에 의해 개폐 밸브(15 및 16V)가 개방되면, 상술한 바와 같이 이젝터(16)가 기능한다. 또한, 이젝터 제어기(17)는 압력 모니터(35)와 전기적으로 접속되어 있고, 후술하는 바와 같이 압력 모니터(35)로부터의 신호에 기초하여, 개폐 밸브(15 및 16V)를 개폐한다.
상술한 압력 센서(34)로부터의 신호를 입력하는 압력 모니터(35)는 입력한 신호에 기초하는 배관(32) 내의 압력과, 미리 기억된 제1 설정 압력을 비교한다. 여기서, 제1 설정 압력은 기판 처리 장치(20)에 있어서의 챔버(22)의 프로세스 압력에 기초하여 결정하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 유량 제어기(24)(매스 플로우 컨트롤러)의 안정 동작을 위해, 가스 유입구와 가스 유출구에 있어서의 압력차가, 사양상, 소정의 범위로 정해져 있다. 여기서, 예를 들어 사양상의 압력차가 100Torr(13.3㎪)이면, 압력 모니터(35)에 기억되는 제1 설정 압력은, 프로세스 압력에 대해 100Torr(13.3㎪)보다 큰 압력인 것이 바람직하다. 한편, 레귤레이터(31)의 2차압은, 본 발명의 실시 형태에 있어서는 760Torr(101.3㎪)보다 낮으므로, 압력 모니터(35)에 있어서의 제1 설정 압력은, 「프로세스 압력＋유량 제어기(24)의 사양에 의해 결정되는 압력차」보다도 높고, 760Torr(101.3㎪)보다도 낮은 범위로 설정된다. 보다 구체적으로는, 제1 설정 압력은, 「프로세스 압력＋ 유량 제어기(24)의 사양에 의해 결정되는 압력차」보다도 수십Torr 높은 압력, 예를 들어 50Torr(6.67㎪)로부터 60Torr(8.00㎪)로 설정하면 바람직하다.
압력 모니터(35)는 레귤레이터(31)의 2차측의 배관(32) 내의 압력과 제1 설정 압력을 비교한 결과, 배관(32) 내의 압력이 제1 설정 압력 이하라고 판정된 경우, 밸브 제어기(36)에 대해, 개폐 밸브(33)를 폐쇄하도록 지시하는 지시 신호를 출력한다. 밸브 제어기(36)는 이 지시 신호를 입력하면 개폐 밸브(33)를 폐쇄한다. 이에 의해, 실린더 캐비닛(10)으로부터의 가스의 공급이 정지된다. 또한, 압력 모니터(35)에 의해, 레귤레이터(31)의 2차측의 배관(32) 내의 압력이, 제1 설정 압력에는 도달하고 있지 않아도, 제1 설정 압력보다도 약간 높은 압력[예를 들어, 약 10Torr(1.33㎪)]을 하회하였다고 판정된 시점에서, 경보를 발하는 동시에, 기판 처리 장치(20)의 조작 패널 등(도시하지 않음)에, 그 취지를 표시해도 좋다.
또한, 압력 모니터(35)는 상기한 지시 신호를 출력할 때에, 예를 들어 기판 처리 장치(20)의 제어부(도시하지 않음)로 동일한 지시 신호를 출력해도 좋다. 이에 의해, 기판 처리 장치(20)에 있어서 경보가 발해지는 동시에, 기판 처리 장치(20)에 있어서의 처리가 정지된다.
또한, 밸브 제어기(36)는, 예를 들어 기판 처리 장치(20)의 제어부(도시하지 않음)와 접속되어, 기판 처리 장치(20)에 설치되는 조작 패널 등(도시하지 않음)을 사용한 조작에 의해 신호를 입력하고, 그 신호에 기초하여 개폐 밸브(33)를 개폐할 수 있다.
또한, 밸브 제어기(36)는 압력 모니터(35)로부터의 지시 신호 또는 기판 처리 장치(20)로부터의 신호에 의해 개폐 밸브(33)를 폐쇄하는 동시에, 후술하는 기판 처리 장치(20)에 있어서의 밸브 제어기(28)에 대해 신호를 출력해도 좋다. 이 신호를 입력한 밸브 제어기(28)는 기판 처리 장치(20)의 챔버(22)의 메인 배관(26)에 설치된 개폐 밸브(27)[또한/또는 개폐 밸브(25), 이하 동일함]를 폐쇄한다. 이에 의해, 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27) 사이의 배관이 밀봉된다.
또한, 밸브 제어기(36)는 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27) 사이가 밀봉된 경우, 그 취지를 압력 모니터(35)에 통지하는 것이 바람직하다. 이 통지에 의해, 압력 모니터(35)는 압력 센서(34)에 의해 측정되는 개폐 밸브(33과 27) 사이의 배관 내의 압력을 감시하여, 압력 상승 레이트를 산출할 수 있다. 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27)가 폐쇄되어 있으므로, 압력 상승이 인정된 경우에는, 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27) 사이의 배관에 있어서 리크가 발생한 것이 의심된다. 따라서, 압력 모니터(35)는 압력 상승 레이트가 소정의 값을 초과하고 있는지 여부를 판정하여, 초과하고 있다고 판정한 경우에는, 예를 들어 기판 처리 장치(20)에 대해 경보 신호를 출력하면 바람직하다. 이 경보 신호를 입력한 기판 처리 장치(20)는 조작 패널 등(도시하지 않음)에 압력 상승 레이트 이상의 표시를 함으로써, 기판 처리 장치(20)의 조작자에게 알릴 수 있다. 이 후, 조작자는 당해 배관의 리크 체크 등을 행하여 리크 개소를 특정하고, 보수할 수 있다.
또한, 밀봉된 배관 내의 압력의 감시 및 압력 상승 레이트의 산출은, 예를 들어 기판 처리 장치(20)가 소정의 기간, 대기 상태에 있을 때에 자동적으로 행해도 좋고, 기판 처리 장치(20)의 조작자가 조작 패널 등을 통해 수동으로 행해도 좋다. 또한, 대기 상태 시가 아니라, 기판 처리 장치(20)의 메인터넌스 중에 행해도 좋다. 또한, 개폐 밸브(33)를 폐쇄한 시점에서 배관 내의 압력의 감시를 개시하고, 개폐 밸브(33)를 개방할 때에 압력 상승 레이트를 산출해도 좋다. 이 경우, 압력 상승 레이트가 소정의 값을 상회한 경우에, 개폐 밸브(33)가 개방되지 않도록 제어해도 좋다.
또한, 압력 모니터(35)는 상술한 제1 설정 압력보다도 높은 제2 설정 압력을 기억시킬 수 있고, 압력 센서(34)에 의해 측정되는 배관(32) 내의 압력[레귤레이터(31)의 2차압]과, 기억한 제2 설정 압력을 비교하여, 압력 센서(34)에 의해 측정되는 압력이 제2 설정 압력 이상이라고 판정한 경우에, 이젝터 제어기(17)에 대해, 이젝터(16)를 기동하는 신호를 출력한다. 이 신호를 입력한 이젝터 제어기(17)는 개폐 밸브(15 및 16V)를 개방하여, 이젝터(16)를 기능시킨다. 또한, 압력 센서(34)에 의해 측정되는 압력이 제2 설정 압력에 도달하고 있지 않은 경우라도, 예를 들어 제2 설정 압력보다도 약간 낮은 압력(예를 들어, 약 10Torr)을 상회한 시점에서, 경보를 발하는 동시에, 개폐 밸브(33)가 개방되지 않도록 제어해도 좋다.
이상의 구성에 따르면, 가스 실린더(12)에 충전되는 프로세스 가스를 가스 실린더(12)로부터 레귤레이터(31)에 대해 충전 압력으로 제공하면, 레귤레이터(31)에 의해 감압되고, 대기압보다도 낮고 프로세스 압력보다도 높은 압력이 2차압으로서 2차측에 출력된다. 따라서, 대기압보다 낮은 압력으로 프로세스 가스가 기판 처리 장치(20)로 공급된다. 한편, 레귤레이터(31)의 2차측의 배관(32) 내의 압력이 압력 센서(34)에 의해 측정되고, 그 압력은 압력 모니터(35)에 있어서 제1 설정 압력과 비교되어, 제1 설정 압력보다도 낮은 경우에, 배관(32)의 개폐 밸브(33)가 폐쇄되어 프로세스 가스의 공급이 정지된다. 또한, 압력 모니터(35)에 있어서, 배관(32) 내의 압력은 제2 설정 압력과도 비교되어, 제2 설정 압력보다도 높은 경우에, 이젝터(16)가 기동하여 배관(32) 내의 압력이 강제적으로 저하된다.
본 발명의 제1 실시 형태에 따르면, 가스 실린더(12) 내의 프로세스 가스의 압력이 레귤레이터(31)에 의해 감압되고, 2차압으로서, 대기압보다도 낮고 프로세스 압력보다도 높은 압력이 레귤레이터(31)의 2차측에 출력된다. 이 압력은 배관(32)에 설치된 압력 센서(34)에 의해 측정되고, 압력 모니터(35)에 있어서, 미리 기억된 제1 설정 압력과 비교된다. 측정된 압력이 제1 설정 압력보다도 낮다고 판정된 경우에는, 밸브 제어기(36)에 의해, 레귤레이터(31)의 2차측의 배관(32)에 설치되는 개폐 밸브(33)가 폐지된다. 배관(32) 내의 압력이 제1 설정 압력보다도 낮아지면, 기판 처리 장치(20) 내의 유량 제어기(24)에 의한 유량 제어가 불안정으로 되어 기판 처리 장치(20)에 있어서의 적절한 처리를 행할 수 없게 될 가능성이 있지만, 상기한 구성에 따르면, 그와 같은 경우에, 프로세스 가스의 공급이 정지되므로, 부적절한 처리를 피할 수 있다.
따라서, 레귤레이터(31)의 2차측의 배관(32, 14 및 23) 내의 압력을 대기압보다도 낮게 유지하면서, 또한 프로세스 가스를 챔버(22)로 안정적으로 공급하는 것이 가능해진다. 또한, 레귤레이터(31)의 2차측으로부터 기판 처리 장치(20)까지의 사이의 배관이 대기압보다도 낮은 압력으로 유지되므로, 배관 도중의 조인트를 밸브 박스 내에 집약하거나, 가스 누설 검지기에 의해 가스 누설을 감시할 필요가 없어진다. 따라서, 가스 누설 검지기의 설치 비용, 가스 누설 검지기의 동작에 필요한 전력 및 가스 누설 검지기의 정기 점검 비용 등을 저감시킬 수 있다.
또한, 실린더 캐비닛(10) 내의 레귤레이터(31)의 2차측으로부터 기판 처리 장치(20)의 배기 배관(22b)까지의 사이에, 양압 가스가 흐르는 부분이 없으므로, 기판 처리 장치(20) 내의 배기(하우징 배기)를 할 필요가 없다. 따라서, 하우징 배기에 필요로 하는 설비 비용 및 전력을 절약할 수 있다.
또한, 액체가 충전된 실린더를 가스 실린더(12)로서 사용하고, 액체를 가열함으로써 증기압을 높게 하여 증기(또는 가스)를 공급하는 경우라도, 프로세스 압력보다도 높고 제1 설정 압력보다도 낮은 압력까지 증기압을 높게 하면 충분하므로, 배관 내에서의 증기(또는 가스)의 응결 또는 액화를 억제할 수 있다. 따라서, 배관을 가열하지 않아도 되므로, 또는, 가열하는 경우라도 온도를 더 낮게 할 수 있으므로, 배관의 가열에 필요로 하는 전력을 절약하는 것이 가능해진다.
또한, 실린더 캐비닛(10)에는 이젝터(16)가 설치되어 있고, 배관(32)[및 배관(14, 23)] 내의 압력이 매우 상승하여, 제2 설정 압력보다도 높아진 경우에, 이젝터(16)가 동작함으로써, 배관(32) 내의 압력을 저하시킬 수 있다. 제2 설정 압력을 대기압보다도 낮은, 예를 들어 600Torr(80.0㎪)로부터 750Torr(100㎪) 정도로 설정해 두면, 배관(32), 나아가서는 배관(14 및 23) 내의 압력을 대기압 이하로 유지하는 것이 가능해진다. 또한, 이젝터(16)에는 구동부가 없으므로, 보수 점검이 비교적 용이하다고 하는 이점이 있다.
또한, 실린더 캐비닛(10) 내의 개폐 밸브(33)와 기판 처리 장치(20) 내의 개폐 밸브(27)를 폐쇄했을 때에, 이들 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27) 사이의 배관(32, 14 및 23) 내의 압력의 상승 레이트를 감시할 수 있으므로, 이들 배관에 있어서의 리크를 검출하는 것이 가능해진다. 배관 내가 감압되는 경우에, 만일 누설이 일어났을 때에는, 실내의 공기가 배관 내로 흡인되게 된다. 이 경우, 가스 누설 검지기로 검지할 수 없을 뿐만 아니라, 흡인된 공기 중의 산소에 의해 프로세스 가스가 산화되어, 기판 처리 장치(20) 내에서 처리되는 웨이퍼(W)에 결함이 발생하는 등의 문제가 생길 수 있다. 그러나, 상기의 구성에 따르면, 감압 배관에 있어서의 리크의 검출이 가능해지므로, 그와 같은 문제를 피하는 것이 가능해진다.
(제2 실시 형태)
다음에, 도 2를 참조하면서, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해 설명한다. 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 제1 실시 형태에 있어서의 레귤레이터(31)(2차압을 수동으로 설정하는 타입) 대신에, 전공 레귤레이터(310)가 사용된다. 이하에서는, 이 차이점을 중심으로 설명한다.
전공 레귤레이터(310)는 2차압을 측정하는 압력 센서(도시하지 않음)와, 이 압력 센서에 의해 측정된 압력값과 설정 압력값의 비교 결과에 따라서 제어되는 전자기 밸브(도시하지 않음)를 포함하고 있다. 이와 같은 구성에 의해, 2차압을 보다 안정적으로 유지하는 것이 가능해진다. 또한, 예를 들어 프로세스 가스의 공급량이 많은 경우에는, 제1 실시 형태에 있어서의 레귤레이터(31)에서는 2차압이 저하되어 버려, 원하는 공급량을 실현할 수 없게 될 가능성이 있지만, 전공 레귤레이터에 따르면, 전공 레귤레이터 그 자체가 갖는 압력 센서에 기초하여, 2차압을 조정할 수 있으므로, 가스의 대량 공급에 수반하는 압력의 저하를 저감시켜, 원하는 공급량을 실현하는 것이 가능해진다.
또한, 제2 실시 형태에 있어서는, 제1 실시 형태에 있어서의 압력 센서(34)는 없고, 전공 레귤레이터(310) 내의 압력 센서를 사용하여 배관(32) 내의 압력이 측정된다. 즉, 전공 레귤레이터(310) 내의 압력 센서에 의해 측정된 압력을 나타내는 신호가 압력 모니터(35)로 출력되고, 압력 모니터(35)에 있어서, 그 신호에 기초하는 2차압과, 제1 설정 압력 및 제2 설정 압력이 비교된다.
이상의 구성에 의해서도, 제1 실시 형태와 마찬가지로, 전공 레귤레이터(310)의 2차측의 배관(32, 14 및 23) 내의 압력을 대기압보다도 낮게 유지하면서, 또한 프로세스 가스를 챔버(22)로 안정적으로 공급하는 것이 가능해진다. 따라서, 가스 누설 검지기에 드는 비용의 저감, 하우징 배기에 필요로 하는 설비 비용 및 전력의 절약, 배관 가열에 드는 비용의 저감 및 감압 배관의 누설 검지 등의 효과가 발휘된다. 또한, 제2 실시 형태는, 전공 레귤레이터(310)의 이용에 의해, 2차압의 가일층의 안정화와, 대유량 공급이 가능해진다고 하는 이점을 갖고 있다.
또한, 제1 실시 형태와 마찬가지로 압력 센서(34)를 설치하고, 이에 의해 배관(32) 내의 압력을 측정해도 좋다. 또한, 이 경우, 압력 모니터(35)에 있어서, 압력 센서(34)의 측정값이, 제1 설정 압력 및 제2 설정 압력과 비교되는 것은 물론이다. 또한, 압력 센서(34)를 설치하면, 실린더 캐비닛(10)의 개폐 밸브(33)와 기판 처리 장치(20)의 개폐 밸브(27)를 폐쇄했을 때에, 이들 사이에 있어서의 배관 내의 압력 상승 레이트를 산출할 수 있다. 압력 상승 레이트가 소정의 값을 초과했을 때에, 감압 배관에 있어서의 가스 누설을 파악하는 것이 가능해진다.
(제3 실시 형태)
다음에, 도 3을 참조하면서, 본 발명의 제3 실시 형태에 대해 설명한다. 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 실린더 캐비닛(10)과 기판 처리 장치(20) 사이에, 외부 환경과의 이격이 가능한 하우징으로 구성되는 밸브 박스(40)가 설치되어 있다. 구체적으로는, 실린더 캐비닛(10)과 밸브 박스(40)는 배관(14A)에 의해 접속되고, 밸브 박스(40)와 기판 처리 장치(20)는 배관(14B)에 의해 접속되어 있다.
밸브 박스(40) 내에 있어서, 배관(14A) 및 배관(14B)을 접속하는 배관에, 전공 레귤레이터(310)와 개폐 밸브(33)가 설치되어 있다. 전공 레귤레이터(310)는 배관(14A) 내의 압력을 감압하여, 대기압보다도 낮고, 기판 처리 장치(20)의 챔버(22)에 있어서의 프로세스 압력보다도 높은 압력을 2차압으로서 출력한다. 이에 의해, 배관(14B) 내에서는, 대기압보다도 낮고 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 프로세스 가스가 흐른다. 또한, 본 실시 형태에 있어서도, 제2 실시 형태와 마찬가지로, 전공 레귤레이터(310)의 압력 센서에 의해 측정되는 압력을 나타내는 신호가 압력 모니터(35)에 입력되어, 압력 모니터(35)에 있어서, 측정되는 압력과, 제1 설정 압력 및 제2 설정 압력과 비교된다.
또한, 밸브 박스(40)에는 다른 배관(41)이 접속되어 있다. 배관(41)은 실린더 캐비닛(10) 내의 도시하지 않은 다른 가스 실린더, 도시하지 않은 다른 실린더 캐비닛, 또는 예를 들어 클린룸의 용역 설비로서의 가스 공급원과 접속되어 있고, 이에 의해, 밸브 박스(40)에 대해 프로세스 가스가 양압으로 공급된다. 또한, 배관(41)은 밸브 박스(40) 내에서 복수개로 분기되어 있고, 각 분기관에 대응하여 개폐 밸브(43a 내지 43d)가 설치되어 있다. 또한, 각 분기관은 대응하는 다른 기판 처리 장치(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 또한, 용역 설비로서의 질소 가스 공급원에 배관(41)이 접속되어 있는 경우, 분기관 중 적어도 하나가 기판 처리 장치(20)에 접속되어, 퍼지 가스 공급관으로서 이용되어도 좋다.
한편, 실린더 캐비닛(10)에는 고압 프로세스 가스가 충전되는 가스 실린더(12)가 배치되고, 가스 실린더(12) 내의 프로세스 가스의 압력이, 레귤레이터(18)에 의해 대기압에 대해, 예를 들어 0.1㎫ 정도 높은 2차압으로 조정되고, 이 2차압으로 프로세스 가스가 배관(14A)으로 공급된다.
본 실시 형태에 있어서는, 실린더 캐비닛(10) 및 밸브 박스(40) 내에 양압 가스가 흐르는 배관이 있다. 이로 인해, 실린더 캐비닛(10) 내에는 가스 누설 검지기(19)가 설치되고, 실린더 캐비닛(10)의 내부를 배기하기 위한 배기 포트(10a)가 설치되고, 도시하지 않은 배기 설비에 의해 배기되어 있다. 마찬가지로, 밸브 박스(40) 내에도 가스 누설 검지기(44)가 설치되고, 밸브 박스(40)의 내부를 배기하기 위한 배기 포트(40a)가 설치되고, 도시하지 않은 배기 설비에 의해 배기되어 있다.
그러나, 기판 처리 장치(20)에 대해서는, 밸브 박스(40) 내의 전공 레귤레이터(310)에 의해 감압화된 프로세스 가스가 흐르는 배관(14B)과, 감압 하에서 프로세스가 행해지는 기판 처리 장치(20)에 있어서는, 프로세스 가스가 양압으로 흐르는 부분이 없다. 따라서, 기판 처리 장치(20)에 있어서는 가스 누설 검지기를 설치할 필요는 없고, 기판 처리 장치(20) 내를 배기할 필요도 없다. 따라서, 기판 처리 장치(20)의 가동에 필요한 전력 이외의 전력을 저감시키는 것이 가능해진다. 즉, 본 실시 형태에 있어서도, 가스 누설 검지기에 드는 비용의 저감 및 배관 가열에 드는 비용의 저감 등의 효과가 발휘된다.
또한, 본 실시 형태에 있어서도, 밸브 박스(40) 내의 개폐 밸브(33)와 기판 처리 장치(20) 내의 개폐 밸브(27) 사이의 배관에 압력 센서를 설치해도 좋다. 이것에 따르면, 개폐 밸브(33)와 개폐 밸브(27)를 폐쇄했을 때에, 이들 개폐 밸브 사이의 배관 내의 압력을 압력 센서에 의해 감시하고, 압력 모니터(35)에 있어서 압력 상승 레이트를 산출할 수 있다. 압력 상승 레이트가 소정의 값을 초과했을 때에, 감압 배관에 있어서의 가스 누설을 파악하는 것이 가능해진다.
또한, 밸브 박스(40)에 복수의 배관(14B)을 접속하고, 밸브 박스(40) 내에 있어서, 실린더 캐비닛(10)으로부터의 배관(14A)과, 복수의 배관(14B)을 접속하는 분기관을 설치해도 좋다. 이와 같이 하면, 실린더 캐비닛(10)으로부터의 하나의 배관(14A)을 사용하여 복수의 기판 처리 장치에 프로세스 가스를 공급하는 것이 가능해진다. 이 경우, 복수의 배관(14B)에 접속되는 복수의 기판 처리 장치 중, 감압 분위기 하에서 프로세스가 행해지는 기판 처리 장치에 대해서는, 밸브 박스(40) 내에 있어서 대응하는 지관에 상술한 바와 같이 전공 레귤레이터(310) 및 개폐 밸브(33)를 설치하는 것이 바람직하고, 대기압(또는 상압) 분위기 하에서 프로세스가 행해지는 기판 처리 장치에 대해서는, 레귤레이터는 설치하지 않고, 예를 들어 개폐 밸브만을 설치하면 된다.
(제4 실시 형태)
다음에, 도 4를 참조하면서, 본 발명의 제4 실시 형태에 대해 설명한다. 도시한 바와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 전공 레귤레이터(310)가 기판 처리 장치(20) 내에 설치되어 있다. 이에 의해, 실린더 캐비닛(10)으로부터 배관(14)을 통해 기판 처리 장치(20)로 공급되는 양압의 프로세스 가스가, 전공 레귤레이터(310)에 의해 감압되어, 대기압보다도 낮고, 챔버(22) 내의 프로세스 압력보다도 높은 2차압으로 프로세스 가스가 출력된다.
이 경우, 기판 처리 장치(20) 내에 있어서는, 전공 레귤레이터(310)의 1차측의 배관에만 양압의 프로세스 가스가 흐른다. 따라서, 도 4에 도시한 바와 같이 전공 레귤레이터(310)의 주위를 둘러싸는 격벽(20a)을 설치하여 격벽(20a) 내를 배기 설비에 의해 배기하고, 격벽(20a) 내에 가스 누설 검지기(도시하지 않음)를 설치하는 것이 바람직하다. 기판 처리 장치(20) 내를 국소적으로 배기하면 되므로, 배기에 드는 비용이나 배관 가열에 드는 비용을 저감시킬 수 있다.
(변형예)
도 5를 참조하면서, 도 1에 도시하는 실린더 캐비닛(10)의 변형예를 설명한다. 도 5에 도시한 바와 같이, 변형예의 실린더 캐비닛(10)에 있어서는, 가스 실린더(12A 및 12B)가 배치되어 있다. 이들 가스 실린더(12A 및 12B)에는 동일한 프로세스 가스가 충전되어 있다.
또한, 변형예의 실린더 캐비닛(10)에서는, 2개의 레귤레이터(31A, 31B)가 병렬로 배치되어 있고, 이들 레귤레이터(31)는 개폐 밸브(13A)를 통해 가스 실린더(12A)에 접속되고, 개폐 밸브(13B)를 통해 가스 실린더(12B)에 접속되어 있다. 또한, 레귤레이터(31A)와 개폐 밸브(13A 및 13B) 사이에는 개폐 밸브(37A)가 설치되어 있고, 레귤레이터(31B)와 개폐 밸브(13A 및 13B) 사이에는 개폐 밸브(37B)가 설치되어 있다.
이와 같은 구성에 따르면, 가스 실린더(12A 및 12B)를 전환하여 사용할 수 있다. 즉, 가스 실린더(12A)로부터 사용하기 시작하여, 가스 실린더(12A)가 빈 것으로 되기 전에, 개폐 밸브(13A)를 폐쇄하고 개폐 밸브(13B)를 개방함으로써, 가스 실린더(12B)를 사용할 수 있다. 그리고, 가스 실린더(12B)를 사용하고 있는 동안에, 가스 실린더(12A)를 교환하면, 실린더 캐비닛(10)으로부터의 프로세스 가스 공급을 중단할 필요가 없어진다.
또한, 개폐 밸브(37A 및 37B)를 선택적으로 개방하면, 레귤레이터(31A 및 31B)를 선택적으로 사용할 수 있다. 예를 들어, 레귤레이터(31A)만을 사용하고 있는 경우에, 레귤레이터(31A)가 고장났을 때에는, 개폐 밸브(37A)를 폐쇄하고 개폐 밸브(37B)를 개방함으로써, 레귤레이터(31B)를 사용하면, 프로세스 가스 공급의 중단 기간을 단축하는 것이 가능해진다. 또한, 개폐 밸브(37A 및 37B)의 양쪽을 개방해 두면, 큰 유량으로 프로세스 가스를 공급하는 것이 가능해진다.
또한, 이상의 설명 이외의 부분은 제1 실시 형태에 있어서의 실린더 캐비닛(10)과 마찬가지로 구성되므로, 상술한 이점에 추가하여, 제1 실시 형태와 동일한 효과가 발휘된다.
다음에, 본 발명의 실시 형태에 의한 에너지 절약 효과에 대해 산출한 결과를 설명한다. 예를 들어 실린더 캐비닛, 밸브 박스 및 기판 처리 장치 내의 하우징 배기를 행하는 경우에는, 통상, 매분 3㎥의 유량으로 하우징 내가 배기된다. 매분 1㎥의 배기에 필요로 하는 전력을 0.0037㎾로 하면, 매분 0.67㎾h의 전력이 소비되므로, 1년 동안에는 5834㎾h의 전력이 소비된다. 따라서, 하우징 배기를 1개소에서 폐지할 수 있으면, 1년간 이만큼의 전력을 절약할 수 있다. 이 전력을 CO2 방출량으로 환산하면, 2.3톤의 CO2를 삭감하는 것이 가능해진다. 또한, 예를 들어 테이프 히터를 사용하여 배관을 가열하는 경우에는, 배관 7.4m당 소비 전력은 0.296㎾h이다(가동 시의 소비 전력을 0.315㎾로 하고, 대기 시의 소비 전력을 0.305㎾로 하여 1시간 중 70％에 있어서 가동하고, 25％에 있어서 대기 상태로 되고, 5％에 있어서 정지하고 있다고 가정). 일년간의 소비 전력은 2595㎾h로 되고, 방출 CO2량으로 환산하면, 1.04톤으로 된다. 이상으로부터, 본 발명의 실시 형태에 의한 효과가 이해된다. 특히, 클린룸의 전체 및 모든 클린룸에 있어서 하우징 배기나 배관 가열이 불필요해진 경우에는, 소비 전력의 절약 및 CO2 방출량 삭감의 효과는 막대한 것으로 된다.
이상, 몇 개의 실시 형태 및 실시예를 참조하면서 본 발명을 설명하였지만, 본 발명은 상술한 실시 형태 및 실시예로 한정되는 것은 아니고, 첨부의 특허청구의 범위에 비추어, 다양하게 변형 또는 변경이 가능하다.
예를 들어, 실린더 캐비닛(10) 내의 가스 실린더(12)에 고압 가스가 충전되어 있는 경우에는, 실린더 캐비닛(10) 내를 상시 배기하기 위한 배기 포트와, 배기 포트와 접속되는 배기관과, 가스 실린더(12) 내의 가스를 검지 가능한 가스 누설 검지기를 실린더 캐비닛(10) 내에 설치하는 것이 바람직하다. 단, 액체가 충전되는 실린더만이 사용되는 경우에는, 실린더 캐비닛(10) 내에 대기압보다도 높은 부분이 없으므로, 배기 포트도 배기관도 불필요해진다. 또한, 실린더 캐비닛(10) 내에 고압 가스 실린더와 액체 실린더가 배치되는 경우에는, 고압 가스 실린더를 밀폐하여, 밀폐 공간을 배기하도록 해도 좋다. 이에 따르면, 실린더 캐비닛(10) 내의 전체를 배기할 필요가 없어져, 배기를 위해 필요로 하는 전력을 저감시킬 수 있다.
또한, 제3 실시 형태의 밸브 박스(40)에 있어서, 제1 실시 형태에 있어서의 레귤레이터(31)를 사용하고, 이에 수반하여 압력 센서(34)를 설치해도 좋다. 또한, 제4 실시 형태의 기판 처리 장치(20)에 있어서, 제1 실시 형태에 있어서의 레귤레이터(31)를 사용하고, 이에 수반하여 압력 센서(34)를 설치해도 좋다. 또한, 도 5에 도시하는 실린더 캐비닛(10)의 변형예에 있어서, 레귤레이터(31) 대신에, 전공 레귤레이터(310)를 사용해도 된다.
또한, 제3 및 제4 실시 형태에 있어서도, 제1 및 제2 실시 형태에 있어서의 이젝터(16)를 설치해도 되는 것은 물론이다.
또한, 상기한 실시 형태에 있어서, 배관 내의 압력 상승 레이트를 감시 및 산출하는 경우에, 개폐 밸브(33) 대신에, 레귤레이터(31)[또는 전공 레귤레이터(310)]와 가스 실린더(12) 사이에 설치되는 개폐 밸브(13)를 폐쇄해도 좋다. 이 경우, 이젝터(16)나, 감압 분위기 하에서 프로세스가 행해지는 기판 처리 장치의 배기 장치를 이용하여, 레귤레이터(31)[또는 전공 레귤레이터(310)]와 개폐 밸브(13) 사이의 배관 내를 감압한 후에, 압력 상승 레이트의 감시 대상 구간을 밀봉하도록 하는 것이 바람직하다.
도 5에 있어서, 레귤레이터(31)가 병렬로 설치되는 예를 설명하였지만, 예를 들어, 도 3에 있어서의 밸브 박스(40)나 도 4에 있어서의 기판 처리 장치(20)에 있어서도 레귤레이터(31)를 병렬로 설치해도 좋다.
프로세스 가스에는, 예를 들어 CVD 장치에 있어서의 원료 가스나, 에칭 장치에 있어서의 에칭 가스뿐만 아니라, 질소 가스나 희가스 등의 불활성 가스나 수소 가스도 포함된다.

Claims (10)

  1. 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버에 가스를 공급하는 가스 감압 공급 장치이며,
    1차압을 감압하고, 대기압보다도 낮고 상기 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 2차압을 조정하는 압력 조정기와,
    상기 압력 조정기의 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 압력 측정기와,
    상기 2차측 배관에 설치되는 제1 개폐 밸브와,
    상기 제1 개폐 밸브를 개폐하는 개폐 밸브 제어기와,
    상기 압력 측정기에 의해 측정되는 2차측 배관 내의 압력을, 상기 프로세스 압력보다도 미리 설정한 압력만큼 높은 제1 설정 압력과 비교하는 압력 비교기와,
    상기 2차측 배관 내의 압력이 상기 제1 설정 압력 이하라고 상기 압력 비교기에 의해 판정된 경우에, 상기 제1 개폐 밸브를 폐지하는 폐지 신호를 상기 개폐 밸브 제어기로 출력하는 제어부와,
    2차측 배관에 연결된 유량 제어기를 구비하고,
    상기 제1 설정 압력은 상기 프로세스 압력과, 상기 유량 제어기의 사양에 의해 결정되는 압력차의 합보다 크고,
    제1 설정 압력은 대기압보다도 낮은, 가스 감압 공급 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 2차측 배관에 있어서 상기 제1 개폐 밸브 및 상기 압력 측정기의 하류측에 설치되는 제2 개폐 밸브와,
    상기 제1 개폐 밸브 및 상기 제2 개폐 밸브를 폐쇄했을 때에, 상기 압력 측정기에 의해 측정되는 압력이 미리 설정한 레이트 이상의 레이트로 상승하는 경우에 경보 신호를 출력하는 경보 신호 발생부를 더 구비하는, 가스 감압 공급 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 2차측 배관에 대해, 개폐 가능한 제3 개폐 밸브를 통해 접속되는 가스 이젝터를 더 구비하고,
    측정된 상기 2차측 배관 내의 압력이, 상기 제1 설정 압력보다도 높은 제2 설정 압력 이상이라고 상기 압력 비교기에 의해 판정된 경우에, 상기 가스 이젝터가 기동되는, 가스 감압 공급 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 압력 조정기가 전공 레귤레이터인, 가스 감압 공급 장치.
  5. 하우징 내에 배치되고, 제1항에 기재된 가스 감압 공급 장치와,
    상기 하우징 내에 있어서 상기 압력 조정기의 1차측에 접속되는 적어도 하나의 가스 실린더를 구비하는, 실린더 캐비닛.
  6. 하우징 내에 배치되고, 제1항에 기재된 가스 감압 공급 장치와,
    상기 하우징 내에 배치되고, 소정의 가스 공급원으로부터의 가스 공급 라인과 접속되는 1 또는 2 이상의 개폐 밸브와,
    상기 1 또는 2 이상의 개폐 밸브에 대응하여 접속되고, 소정의 기판 처리 장치에 접속되는 배관을 구비하는, 밸브 박스.
  7. 하우징 내에 배치되고, 제1항에 기재된 가스 감압 공급 장치와,
    상기 가스 감압 공급 장치로부터 프로세스 가스가 공급되고, 대기압보다도 낮은 프로세스 압력으로 프로세스가 행해지는 챔버를 구비하는, 기판 처리 장치.
  8. 가스 공급원으로부터의 프로세스 가스를 압력 조정기에 의해 감압하고, 대기압보다도 낮고, 기판 처리가 행해지는 프로세스 압력보다도 높은 압력으로 상기 프로세스 가스를 상기 압력 조정기의 2차측 배관에 제공하는 스텝과,
    상기 2차측 배관에 설치된 압력 측정기에 의해, 상기 2차측 배관 내의 압력을 측정하는 스텝과,
    측정된 상기 2차측 배관 내의 압력과, 상기 프로세스 압력보다도 미리 설정한 압력만큼 높은 제1 설정 압력을 비교하는 스텝과,
    비교의 결과, 상기 2차측 배관 내의 압력이 상기 제1 설정 압력보다도 낮다고 판정된 경우에, 상기 2차측 배관에 설치된 제1 개폐 밸브를 폐쇄하는 스텝을 포함하고,
    상기 제1 설정 압력은 상기 프로세스 압력과, 2차측 배관에 연결된 유량 제어기의 사양에 의해 결정되는 압력차의 합보다 크고,
    상기 제1 설정 압력은 대기압보다도 낮은, 가스 감압 공급 방법.
  9. 제8항에 있어서, 상기 제1 개폐 밸브와, 상기 2차측 배관에 있어서 상기 제1 개폐 밸브 및 상기 압력 측정기의 하류측에 설치되는 제2 개폐 밸브를 폐쇄하는 스텝과,
    상기 제1 개폐 밸브 및 상기 제2 개폐 밸브를 폐쇄했을 때에, 상기 압력 측정기에 의해 측정되는 압력을 감시하는 스텝과,
    감시되는 상기 압력이, 미리 설정한 레이트 이상의 레이트로 상승하는 경우에 경보 신호를 출력하는 스텝을 더 포함하는, 가스 감압 공급 방법.
  10. 제8항에 있어서, 측정된 상기 2차측 배관 내의 압력이, 상기 제1 설정 압력보다도 높은 제2 설정 압력 이상이라고 판정된 경우에, 상기 2차측 배관에 접속되는 가스 이젝터를 기동하는, 가스 감압 공급 방법.
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