KR101551779B1 - 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법 - Google Patents
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Abstract
화학식 (I)의 화합물 제공 단계,
여기서, R은 그 자체는 공지된 제거가능한 치환체; R1은 제거가능한 치환체이고;
화학식 (II)의 실릴화 염기 제공 단계,
여기서,
R2는 보호기, 바람직하게는 트리메틸실릴 (TMS)-잔기이고;
화학식 (I)의 화합물 및 화학식 (II)의 화합물을 적합한 무수용매에서 적합한 촉매 존재하에서 반응하는 단계, 및
수득 화합물에서 치환체 R을 제거하여 화합물 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 수득하는 단계에 의한, 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법에 있어서, 상기 촉매는 지방족 술폰산 염 또는 강 무기산 염으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법.
여기서, R은 그 자체는 공지된 제거가능한 치환체; R1은 제거가능한 치환체이고;
화학식 (II)의 실릴화 염기 제공 단계,
여기서,
R2는 보호기, 바람직하게는 트리메틸실릴 (TMS)-잔기이고;
화학식 (I)의 화합물 및 화학식 (II)의 화합물을 적합한 무수용매에서 적합한 촉매 존재하에서 반응하는 단계, 및
수득 화합물에서 치환체 R을 제거하여 화합물 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 수득하는 단계에 의한, 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법에 있어서, 상기 촉매는 지방족 술폰산 염 또는 강 무기산 염으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법.
Description
본 발명은 글리코시드 주게, 바람직하게는 블록 단당류의 1-할로겐 유도체 또는 이미데이트 바람직하게는 트리클로로메틸 유도체, 또는 티오-알킬 유도체 및 선택된 실릴화 염기를 선택된 촉매 존재에서 반응시켜 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 제조하는 방법에 관한 것이다.
데시타빈은 뉴클레오시드이며 공지된 약학적 활성 화합물이다. 미국특허 제3,817,980에서는, 해당 뉴클레오시드 염기를 실릴화하고, 실릴화 염기를 선택된 촉매 존재에서 글리코실 주게, 바람직하게는 블록 단당류의 1-할로겐 유도체와 반응시켜 뉴클레오시드를 합성하는 것이 공지되어 있다. 사용 촉매는, 예를들면 SnCl4, TiCl4, ZnCl2, BF3-에테르염, AlCl3 및 SbCl5에서 선택된다.
주요한 단점으로는 이들 촉매들은 가수분해에 취약하여 HCl과 같은 자극적 가수분해 산물을 생성하고/거나 불용성 산화물 (TiO2, SnO2)을 형성하고, 이들은 반응 생성물로부터 제거하기 어렵다는 것이다. 이들 촉매들은 특히 대량 생산 규모에서 취급하기 어렵다.
US-A-4 082 911에서 실릴화 뉴클레오시드 염기 및 보호된 당 유도체와의 유사 반응을 언급하고, 강 유기산의 트리알킬실릴 에스테르 예를들면 트리메틸실릴-트리플루오로메탄술폰산염을 촉매로 사용하는 것을 제안하고 있다. US-A-4 209 613에서는, 강 유기산의 트리알킬실릴 에스테르, 예를들면 트리메틸실릴-트리플루오로메탄술폰산염이 유리산 및 적당한 몰 함량으로 존재하는 실릴화제 예를들면 트리알킬클로로실란의 반응으로 동일 반응계 형성되는 단일-단계 공정을 이용하여 US-A-4 082 911에 개시된 방법의 개선을 제안하고 있다. 트리알킬클로로실란과 같은 실릴화제는 반응성이 매우 강하고 신속하게 반응하여 반응 혼합물에 존재하는 유리산의 트리알킬실릴 에스테르를 형성한다.
1-할로 단당류 유도체는 실릴화 또는 알킬화 5-아자시토신과 촉매로써 염 존재에서 반응할 수 있다는 것을 확인하였고, 이때 상기 촉매는 지방족 술폰산의 염, 예를 들면 트리플루오로메탄 술폰산염, 또는 강 무기산의 염, 예를 들면 과염소산염으로 이루어진 군에서 선택될 수 있다.
촉매로써 에스테르 화합물을 이용할 필요가 없다. 이러한 방법은 본 발명에서 기재된 바와 같이 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조를 매우 단순화시킬 수 있다. 또한, 본 발명의 촉매를 이용하여, 예를 들면 최소한 1:2의 선택도와 같이 베타-이성질체 (β-이성질체)에 대한 선택도를 개선시킬 수 있다. 반응 생성물의 약 4분의 3이 베타 이성질체가 되도록 본 발명의 반응이 구현될 수 있고, 특정 반응 조건에 따라서는 알파 대 베타 이성질체 비율은 12:88이 얻어졌다. 또한, 본 발명에 의하면, 반응 수율은 최종 미정제 반응혼합물에 존재하는 총 아노머 함량에 대하여 계산될 때 95% 초과이며 통상 97-99% 범위 내로 얻어진다.
본 발명에 의해 사용되는 유형의 촉매는 수성 조건에서 안정하고, 취급이 용이하고, 자극적 가수분해 산물을 생성하지 않으며, 용이하게 제거될 수 있다. 또한, 소망하는 아노머를 얻기 위한 반응 선택도, 즉 알파/베타 아노머의 비율 및 최종 수율이 상당히 개선된다.
본 발명은 청구범위에서 정의된다. 본 발명은 화학식 (I)의 화합물 (블록 단당류 유도체)을 제공하고,
여기서,
R은 그 자체는 공지된 제거가능한 치환체 (보호기), 바람직하게는 (C1-C8)알킬카보닐, 또는 선택적으로 치환된 페닐카보닐, 또는 선택적으로 치환된 벤질카보닐이고;
R1은 제거가능한 치환체, 바람직하게는 할로겐, 바람직하게는 염소, 브롬, 불소, 바람직하게는 염소, 또는 이미데이트, 바람직하게는 트리클로로메틸 이미데이트, 또는 티오-알킬 유도체, 바람직하게는 -S-메틸이고;
화학식 (II)의 실릴화 염기을 더욱 제공하고,
여기서,
R2는 보호기, 바람직하게는 트리메틸실릴 (TMS)-잔기이고;
화학식 (I)의 화합물 및 화학식 (II)의 화합물을 적합한 무수용매에서 적합한 촉매 존재하에서 반응시켜 화학식 (III)의 화합물을 수득하고,
치환체 R을 제거하여 화합물 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 수득하는, 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법에 있어서, 상기 촉매는 지방족 술폰산 염 또는 강 무기산 염으로 이루어진 군에서 선택되는 것을 특징으로 한다.
또한 본 발명은 소망하는 선택도를 얻을 수 있는, 바람직하게는 베타-이성질체 (β-이성질체)가 우월한, 바람직하게는 최소한 1:2 비율인, 및 바람직하게는 반응 수율의 약 4분의 3이 베타 이성질체로 얻어지는, 본 발명의 촉매를 사용하는 화학식 (III)의 화합물 제조방법에 관한 것이다.
상기 반응에서 사용되는 촉매가 지방족 술폰산의 염인 경우, 상기 촉매는 바람직하게는 메틸술폰산염(메실레이트) 또는 에틸술폰산염, 또는 불화 지방족 술폰산염 예를들면 트리플루오로메탄-술폰산, 펜타플루오로에틸-술폰산 또는 헵타플루오로프로필-술폰산의 염이다.
상기 반응에서 사용되는 촉매가 강 무기산의 염인 경우, 상기 촉매는 강 무기산의 염으로 본원에서 정의되는 양이온 및 비-친핵성 음이온으로 이루어진 염이다. 상기 비-친핵성 음이온은 용액에서 상기 양이온과 복합체를 형성하지 않는다. 바람직하게는 상기 강 무기산의 염은 다음으로 이루어진 군으로부터 선택된다: MBPh4, MB(Me)4, MPF6, MBF4, MClO4, MBrO4, MJO4, M2SO4, MNO3, 및 M3PO4 (M = 금속 양이온; F = 불소; Cl = 염소; Br = 브롬; B = 보론; Ph = 페닐; Me = 메틸; P = 인; J = 요오드). 바람직하게는 MBPh4, MB(Me)4, MPF6, MBF4, MClO4, MBrO4, MJO4이고, 가장 바람직하게는 과염소산염 (MClO4) 및 불화붕소산염 (MBF4)이다. 가장 바람직하게는 M =리튬인 염이다.
이들 염들 중에서 바람직한 것은 메틸술폰산염 (메실레이트), 트리플루오로메탄술폰산염 및 과염소산염이다.
바람직한 지방족 술폰산염, 불화 지방족 술폰산염 및 강 무기산 염은 알카리염 및 알칼리 토류 염이며, 바람직하게는 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 마그네슘염이다. 바람직하게는 리튬염이며, 바람직하게는 리튬 메틸술폰산 (리튬 메실레이트), 리튬-트리플루오로메탄술폰산염(LiOTf, 리튬-트리플레이트), 리튬 과염산염, 및 리튬 불화붕소산염이다. 또한 기타 염, 예를들면 Sc(OTf)3와 같은 스칸듐 염, Zn(OTf)2와 같은 아연염, Cu(OTf)2와 같은 구리염도 사용될 수 있다. 그러나, 리튬염 및 특히 LiOTf이 바람직하다.
본 발명에 의한 반응을 수행하기 위한 바람직한 용매는 유기용매이며 예를들면 벤젠, 톨루엔, 자일롤, 또는 염소화 용매 예를들면 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 클로로벤젠 또는 아세토니트릴 및/또는 프로필렌 카보네이트 및/또는 연관 용매이다. 바람직하게는 톨루엔 및 염소화 용매이다. 바람직하게는, 염소화 용매, 바람직하게는 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 클로로벤젠 및/또는 톨루엔 또는 자일렌과 같은 방향족 용매에서 리튬-트리플루오로메탄술폰산염(LiOTf)을 사용하는 것이다. 각 용매 또는 용매 혼합물은 베타-이성질체 (β-이성질체)에 대하여 상이한 선택도를 보인다. 베타-이성질체가 우월한 선택도를 달성하기 위하여 본 분야 전문가들은 촉매 및/또는 용매 또는 용매 혼합물을 최적화할 수 있다.
화학식 (I)의 화합물은 글리코시드 주게 화합물이다. 화학식 (I)의 화합물 제조는 그 자체가 공지된 것이다.
제거가능한 치환체 R은 바람직하게는 (C1-C4)알킬카보닐, 또는 선택적으로 치환된 페닐카보닐 예를들면 페닐카보닐, 톨릴카보닐, 자일릴카보닐 또는 벤질카보닐; 바람직하게는 아세틸 또는 p-클로로-페닐카보닐이다.
제거가능한 치환체 R1은 바람직하게는 할로겐, 바람직하게는 염소, 브롬, 불소, 바람직하게는 염소, 또는 이미데이트, 바람직하게는 트리클로로메틸 이미데이트 [-NH-(O)C-CCl3], 또는 티오-알킬 유도체, 바람직하게는 -S-메틸이다.
화학식 (II)의 화합물 및 제조방법은 공지된 것이다. 바람직하게는 화합물은 유리 염기 및 트리메틸클로로실란 또는 헥사메틸디실라잔과 반응하여 제조된다.
화학식 (I) 및 (II) 화합물들이 함께 반응될 때, 반응온도는 대략 0℃ 내지 약 90℃ 범위이고, 바람직하게는 거의 실온이며, 성분들은 약 동일 몰 함량 또는 화학식 (II) 화합물의 과량으로 반응된다. 촉매는 바람직하게는 두 반응 성분들의 총 몰에 대하여 계산될 때 약 10 몰-% 내지 100 몰-% 농도로 사용된다. 본 분야 전문가들은 성분들의 몰 비율을 최적화할 수 있다.
화학식 (III) 화합물로부터 치환체 R을 제거하기 위하여 유리 수산기를 함유한, 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 수득하기 위하여 공지 방법이 적용된다. 바람직하게는, 예를들면 암모니아의 알콜성 용액 또는 알콜레이트에서 처리되어 치환체 R이 제거되나; 기타 공지 방법들이 사용될 수 있다. 하기 실시예는 본 발명을 예시한다.
실시예
1
(A) 5-아자시토신 (20g, 178.4mmol), 황산암모늄 (2.4g, 18.16mmol), 및 헥사메틸디실라잔 (160g, 991.3mmol)의 혼합물은 맑은 용액이 얻어질 때까지 환류 가열되었다. 과잉 헥사메틸디실라잔은 진공중 60℃에서 제거되었다.
(B) 264g의 디클로로메탄, 이어 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염(27.84g, 178.4mmol) 및 "클로로 당" C-137 : l-클로로-3,5-디-o-p-클로로벤조일-2-데옥시-α-D-리보푸라노스 [76.67g, 178.4mmol, 화학식 (I)의 화합물에 해당]들이 단계 (A)에서 얻어진 잔류물에 첨가되었다.
(C) 혼합물은 주위 온도 (20-25℃)에서 4시간 교반되었다. 반응 결과 합쳐진 아노머는 99.2% 수득, 선택도는 알파/베타 27/73이다.
(D) 이후 용매는 진공중 40℃에서 제거되었고 수득 잔류물은 60g 초산에틸에 용해되었다. 용액은 220g의 수성 탄산수소나트륨 (2.5% 중량% 용액), 174g 초산에틸, 36g 시클로헥산 및 70g 아세토니트릴의 혼합물에 30℃에서 적가되었고, 얻어진 반응혼합물은 0℃로 냉각되고 3시간 교반되었다. 블록 (보호된) 아미노트리아진 침전물은 여과되었고, 물 및 마지막으로 아세토니트릴 및 초산에틸 (1:1) 혼합물로 세척되었다.
합쳐진 아노머들 총 79.2g (87.8%) 수득; 알파/베타 비율 31:69. 반응식 1은 화학 반응 경로를 보인다.
실시예 2: 실시예 1에서 얻어진 화학식 (III)에 해당되는 화합물은 공지된 방법으로 암모니아의 알콜성 용액으로 더욱 처리되어 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)은 실질적으로 정량적 수율로 수득된다.
반응식 1:
실시예 3: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 리튬 메실레이트가 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 95.2%, 선택도 알파/베타 60:40.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 85.2%, 알파/베타 비율 63:37.
실시예 4: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 리튬 과염소산염이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 99.4%, 선택도 알파/베타 37:63.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 85.2%, 알파/베타 비율 36:64.
실시예 5: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 리튬 불화붕소산염이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 94.5%, 선택도 알파/베타 59:41.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 47.9%, 알파/베타 비율 70:30.
실시예 6: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 나트륨 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 99.2%, 선택도 알파/베타 40:60.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 80.7%, 알파/베타 비율 40:60.
실시예 7: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 칼륨 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 99.0%, 선택도 알파/베타 44:56.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 79.9%, 알파/베타 비율 46:54.
실시예 8: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 1.0 당량의 아연 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 1이 반복되었다 [단계 (D) 제외].
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 96.0%, 선택도 알파/베타 54:46.
실시예 9: 용매로써 디클로로메탄 대신 동 부피의 톨루엔이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 99.4%, 선택도 알파/베타 27:73.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 88.7%, 알파/베타 비율 31:69.
실시예 10: 용매로써 디클로로메탄 대신 동 부피의 아세토니트릴이 사용되어 실시예 1이 반복되었다.
단계(C) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 99.2%, 선택도 알파/베타 50:50.
단계 (D) 완료 이후 총 반응 수율: 합쳐진 아노머들 82.5%, 알파/베타 비율 52:48.
실시예
11
(A) 5-아자시토신 (0.5g, 4.46mmol, 1 당량), 황산암모늄 (40mg, 0.3mmol, 0.07 당량), 및 헥사메틸디실라잔 (4g, 24.8mmol, 5.6 당량)의 혼합물은 맑은 용액이 얻어질 때까지 환류 가열되었다. 과잉 헥사메틸디실라잔은 진공중 60℃에서 제거되었다.
(B) 10ml의 디클로로메탄에 이어, 리튬 트리플루오로메탄-술폰산염(0.33g, 2.11mmol; 0.47 당량(당량)) 및 "클로로 당" C-137 : l-클로로-3,5-디-O-p-클로로벤조일-2-데옥시-알파-D-리보푸라노스 [0.73g, 1.70mmol, 0.38 당량; 화학식 (I)의 화합물에 해당]들이 단계 (A)에서 얻어진 잔류물에 첨가되었다. 혼합물은 주위 온도 (20-25℃)에서 4시간 교반되었다. 반응 결과 합쳐진 아노머는 99.1% 수득, 알파/베타 = 16/84.
실시예 12: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 0.47 당량의 구리 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 98.0%, 선택도 알파/베타 42:58.
실시예 13: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 0.47 당량의 스칸듐 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 88.0%, 선택도 알파/베타 43:57.
실시예 14: 리튬 트리플루오로메탄 술폰산염 대신 0.47 당량의 마그네슘 트리플루오로메탄 술폰산염이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 89.0%, 선택도 알파/베타 58:42.
실시예 15: 용매로써 디클로로메탄 대신 동일 부피의 아세토니트릴이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 97.6%, 선택도 알파/베타 39:61.
실시예 16: 용매로써 디클로로메탄 대신 동일 부피의 클로로벤젠이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 96.2%, 선택도 알파/베타 26:74.
실시예 17: 용매로써 디클로로메탄 대신 동일 부피의 프로필렌카보네이트가 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 96.8%, 선택도 알파/베타 42:58.
실시예 18: 용매로써 순수 디클로로메탄 10ml 대신 디클로로메탄 10ml 및 자일렌 3.5ml의 혼합물이 사용되어 실시예 11이 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 93.3%, 선택도 알파/베타 27:73.
실시예
19
(A) 5-아자시토신 (0.5g, 4.46mmol, 1 당량), 황산암모늄 (40mg, 0.3mmol, 0.07 당량), 및 헥사메틸디실라잔 (4g, 24.8mmol, 5.6 당량)의 혼합물은 맑은 용액이 얻어질 때까지 환류 가열되었다.
(B) 10ml의 1,2-디클로로벤젠에 이어, 리튬 트리플루오로메탄-술폰산염(0.33g, 2.11mmol; 0.47 당량(당량)) 및 "클로로 당" C-137 : l-클로로-3,5-디-O-p-클로로벤조일-2-데옥시-알파-D-리보푸라노스 [1.15g, 2.68mmol, 0.60 당량; 화학식 (I)의 화합물에 해당]들이 단계 (A)에서 얻어진 잔류물에 첨가되었다. 혼합물은 주위 온도 (20-25℃)에서 4시간 교반되었다.
반응 결과 합쳐진 아노머는 91.2% 수득, 알파/베타 = 27/73.
실시예 20: 용매로써 1,2-디클로로벤젠 대신 동일 부피의 1,2-디클로로에탄을 사용하여 실시예 19가 반복되었다.
단계 (B) 이후 반응 수율: 합쳐진 아노머들 93.4%, 선택도 알파/베타 27:73.
실시예
21
(A) 5-아자시토신 (0.5g, 4.46mmol, 1 당량), 황산암모늄 (40mg, 0.3mmol, 0.07 당량), 및 헥사메틸디실라잔 (4g, 24.8mmol, 5.6 당량)의 혼합물은 맑은 용액이 얻어질 때까지 환류 가열되었다. 과잉 헥사메틸디실라잔은 진공중 60℃에서 제거되었다.
(B) 10ml의 디클로로메탄에 이어, 리튬 트리플루오로메탄-술폰산염(0.33g, 2.11mmol; 0.47 당량(당량)) 및 "클로로 당" C-137 : l-클로로-3,5-디-O-p-클로로벤조일-2-데옥시-알파-D-리보푸라노스 [0.38g, 0.88mmol, 0.20 당량; 화학식 (I)의 화합물에 해당]들이 단계 (A)에서 얻어진 잔류물에 첨가되었다. 혼합물은 주위 온도 (20-25℃)에서 4시간 교반되었다.
반응 결과 합쳐진 아노머는 99.3% 수득, 알파/베타 = 12/88.
Claims (15)
- 화학식 (I)의 화합물 제공 단계,
여기서,
R은 (C1-C8)알킬카보닐, 선택적으로 치환된 페닐카보닐, 및 선택적으로 치환된 벤질카보닐로부터 선택되는 제거가능한 치환체이고;
R1은 할로겐, 이미데이트, 및 티오-알킬 유도체로부터 선택되는 제거가능한 치환체이고;
화학식 (II)의 실릴화 염기 제공 단계,
여기서,
R2는 트리메틸실릴 (TMS)-잔기인 보호기이고;
화학식 (I)의 화합물 및 화학식 (II)의 화합물을 적합한 무수용매에서 적합한 촉매 존재하에서 반응시켜 화학식 (III)의 화합물을 수득하는 단계,
; 및
치환체 R을 제거하여 화합물 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈)을 수득하는 단계에 의한 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법으로서, 상기 촉매는 지방족 술폰산 염 및 불소화 지방족 술폰산 염을 포함하는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 2'-데옥시-5-아자시티딘 (데시타빈) 제조방법. - 화학식 (I)의 화합물 제공 단계,
여기서,
R은 (C1-C8)알킬카보닐, 선택적으로 치환된 페닐카보닐, 및 선택적으로 치환된 벤질카보닐로부터 선택되는 제거가능한 치환체이고;
R1은 할로겐, 이미데이트, 및 티오-알킬 유도체로부터 선택되는 제거가능한 치환체이고;
화학식 (II)의 실릴화 염기 제공 단계,
여기서,
R2는 트리메틸실릴 (TMS)-잔기인 보호기이고;
화학식 (I)의 화합물 및 화학식 (II)의 화합물을 적합한 무수용매에서 적합한 촉매 존재하에서 반응시켜 제1항의 화학식 (III)의 화합물을 수득하는 단계에 의한, 제1항의 화학식 (III)의 화합물 제조방법으로서, 상기 촉매는 지방족 술폰산 염 및 불소화 지방족 술폰산 염을 포함하는 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 제1항의 화학식 (III)의 화합물 제조방법. - 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반응에 사용되는 촉매는 메틸술폰산 또는 에틸술폰산의 염, 또는 트리플루오로메탄-술폰산, 펜타플루오로에틸-술폰산 또는 헵타플루오로프로필-술폰산의 염인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 촉매는 메틸술폰산염 및 트리플루오로메탄술폰산염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1이상인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촉매는 리튬염, 나트륨염, 칼륨염 및 마그네슘염에서 선택되는, 알칼리의 염 또는 알칼리 토류의 염인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촉매는 리튬 메틸술폰산 및 리튬-트리플루오로메탄술폰산염으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1이상인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촉매는 스칸듐염, 아연염, 및 구리염을 포함하는 염들에서 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 할로겐이 염소, 브롬, 및 불소로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 이미데이트가 트리클로로메틸 이미데이트인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 티오-알킬 유도체가 -S-메틸인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 반응을 수행하기 위한 용매는 벤젠, 톨루엔, 및 자일렌으로부터 선택되는 유기용매; 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름, 및 클로로벤젠으로부터 선택되는 염소화 용매; 아세토니트릴; 및 프로필렌 카보네이트를 포함하는 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제11항에 있어서, 상기 반응을 수행하기 위한 용매는 톨루엔 및 자일렌으로부터 선택되는 유기용매; 및 상기 염소화 용매로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 촉매는 리튬-트리플루오로메탄술폰산염이며, 용매는 톨루엔 및 자일렌으로부터 선택되는 유기용매; 및 디클로로메탄, 디클로로에탄, 클로로포름 및 클로로벤젠으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1이상인 염소화 용매로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 제거가능한 치환체 R은 (C1-C4)알킬카보닐, 페닐카보닐, 톨릴카보닐, 자일릴카보닐, 아세틸-페닐카보닐 및 p-클로로-페닐카보닐로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 제거가능한 치환체 R1은 염소인 것을 특징으로 하는 방법.
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