KR101519222B1 - 프로브의 제조방법 - Google Patents

Abstract

기대로부터의 프로브의 탈락을 감소시키는 프로브의 제조방법을 제공하는 것이다.
프로브(16)의 제조방법은 기대(32) 위의 희생층(42) 위에 오목부(46a)를, 프로브(16) 및 고정탭(36)의 평면형상으로, 레지스트(46)에 의해 형성하는 공정과, 오목부(46a) 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 프로브(16) 및 고정탭(36)을 형성하는 공정과, 레지스트(46) 제거공정과, 에칭처리에 의해 희생층(42)의 일부를 남기고 제거하고, 잔존하는 일부에 의해 기대(32) 위에 지지된 프로브(16) 및 고정탭(36)을 형성하는 공정과, 프로브(16)를 분리하는 공정을 갖는다. 제4 공정은 프로브(16)아래의 희생층(42)을 제거하고, 고정탭(36) 아래에 희생층 부분(42a, 42b)을 남기고, 희생층 부분(42a, 42b)을 지지점으로 하여 기대(32) 위에 지지된 프로브(16) 및 고정탭(36)을 형성한다.

Description

프로브의 제조방법{METHOD FOR FABRICATING PROBE}

본 발명은 프로브의 제조방법에 관한 것이다.

반도체 집적회로(IC)는 반도체 웨이퍼 위에 다수가 형성되고, 그 후 칩마다 분리되어 사용된다. 그 IC는 그 칩마다의 분리에 앞서, 성능평가를 위한 전기적 시험을 실시하는 것이 통상이다.

상기 전기적 시험에는 상술한 IC와 같은 각 피검사체의 전극에 대해서 전기적 접속을 실시하기 위한 복수의 프로브를 구비하는 프로브 카드와 같은 프로브 조립체, 즉 전기적 접속장치가 사용되고, 피검사체는 전기적 접속장치를 거쳐 시험수단인 테스터에 접속된다.

상기 전기적 접속장치에 사용되는 종래의 프로브 중 하나로서 판 형상의 프로브 본체부와, 상기 프로브 본체부에 설치된 아암부와, 아암부의 끝에 설치되어 피검사체의 전극에 접촉되는 바늘끝부를 구비하는 것이 있다(예를 들어, 특허문헌 1 참조).

바늘 본체부를 인성(靭性)이 우수한 금속재료로 형성함으로써 바늘끝부가 피검사체의 전극에 억압될 때, 아암부의 탄성변형에 따라서 바늘끝부를 피검사체의 전극 위에서 미끄러지게 할 수 있다. 이 바늘끝의 미끄러짐에 의해 피검사체의 전극상의 산화막을 깎을 수 있다. 즉, 프로브의 프로브 본체부에 탄성 변형을 일으키는 오버드라이브를 작용시킴으로써, 바늘끝부의 선단에서 전극의 산화막을 제거하여 양자의 확실한 전기적 접촉을 얻을 수 있다.

이와 같은 프로브의 형성은 우선 실리콘 웨이퍼를 기대(基臺)로 하고, 그 기대 위에 포토리소그래피 기술을 이용하여 프로브 전체의 평면형상을 감광성 포토레지스트로 본뜬다. 이어서, 그 레지스트에 의해 본떠진 기대 위의 오목부에 원하는 금속재료를 차례로 퇴적한다. 그리고, 프로브를 형성한 후, 프로브를 그 기대로부터 분리함으로써 형성할 수 있다(예를 들어, 특허문헌 2 및 특허문헌 3 참조).

이 때, 형성된 프로브를 기대로부터 분리하기 위해, 에칭 기술이 이용되고 있다. 예를 들어 기대 표면에는 프로브의 재료와 다른, 예를 들어 동(銅) 등의 금속재료로 이루어진 희생층(犧牲層)이 형성되고, 그 희생층 위에 프로브의 재료가 퇴적된다. 그리고, 예를 들어 에칭액을 사용한 웨트 에칭에 의해 그 희생층을 제거함으로써, 형성된 프로브를 기대로부터 박리하여 분리할 수 있다.

그러나, 프로브는 다수가 기대 위에 일괄적으로 형성된다. 그 때문에, 프로브 하층의 희생층이 완전히 제거될 때까지 에칭을 실시한 경우, 미세한 다수의 프로브가 에칭액 중에 부유하게 되고, 이것의 취급에 문제가 발생하게 된다.

그 때문에, 프로브 형성시의 에칭처리는 프로브와 기대 사이에, 그 프로브를 분리하기 용이하게 지지하는 지지부로서, 필요한 최소한의 적정량 부분의 희생층을 남긴 상태에서 처리를 종료하는 것이 바람직하다. 이 경우, 기대 위에 남은 상태의 프로브를 각각 공구를 이용하여 박리하여 분리할 수 있다.

일본 공개특허공보 제2008-190885호 일본 공개특허공보 제2008-164575호 일본 공개특허공보 제2008-191027호

그러나, 그 경우 상술한 에칭처리의 시간이 부족하면 다량의 희생층이 지지부로서 프로브와 기대 사이에 남게 된다. 잔존하는 다량의 희생층(지지부)에 의해 기대에 부착된 프로브를 떼어내는 데에는 강한 힘이 필요해진다. 또한, 그러한 처리에서는 프로브를 변형시킬 우려가 있다.

그래서, 특허문헌 3에 기재된 바와 같이 기대 위에 프로브를 형성할 때, 레지스트에 의해 본떠진 기대 위의 오목부를 소정의 형상으로 하고, 거기에 프로브의 재료를 퇴적하며, 프로브와 그에 연결되는 프로브 고정용 고정탭을 일체적으로 형성하는 방법이 알려져 있다.

도 1은 종래의 프로브의 제조방법을 설명하는 도면으로, 도 1(a)는 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 평면도이고, 도 1(b)는 기대 위의 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 단면도이다.

도 1에서는 프로브(1001)의 형상을 편의상 모식적으로 도시하고 있다.

도 1(a)에 도시한 바와 같이 기대(도 1(a) 중 도시되지 않음) 위에는 프로브(1001)와, 연결부(1004)를 통하여 프로브(1001)와 연결하는 고정탭(1002)이 형성된다.

이러한 종래의 프로브(1001)의 제조방법에서는 도 1(b)에 도시한 바와 같이 상술한 에칭 처리에 의해, 프로브(1001)와 기대(1005) 사이의 희생층을 남기지 않고 제거하고, 또한 소정의 면적과 형상의 고정탭(1002)과 기대(1005) 사이에, 희생층의 일부로서 지지부(1003)를 1점 남긴다. 고정탭(1002)은 프로브(1001) 아래의 희생층 부분이 에칭처리에 의해 제거되었을 때, 그 고정탭(1002) 아래의 희생층의 일부가 잔존하기에 충분한 평면형상을 갖는다. 따라서, 종래의 프로브(1001)의 제조방법은 기대(1005) 위의 프로브(1001) 각각에 대하여, 그것에 연결되는 고정탭(1002)과 기대(1005) 사이에만 1점의 지지부(1003)를 남기는 형태로 에칭처리를 실시한다.

그 후, 종래의 프로브(1001)의 제조방법에서는 각 프로브(1001)를 기대(1005) 위에 지지부(1003)에 의해 각각 지지된 고정탭(1002)으로부터 분리한다. 프로브(1001)의 분리는 도 1(a)의 점선으로 모식적으로 도시한 바와 같이, 연결부(1004)를 소정의 위치에서 절단함으로써 실시된다. 그 결과, 상술한 바와 같은 박리처리에 의한 손상을 주지 않고 프로브(1001)를 기대(1005)로부터 분리할 수 있다.

그러나, 상술한 종래의 프로브의 제조방법에서는 프로브 제조의 공정에서 실시되는 가열처리 등에 의해 프로브나 고정탭에 발생한 응력이, 그 후의 에칭처리의 공정에서 고정탭에 집중되는 경우가 있다. 이러한 고정탭으로의 응력의 집중은 고정탭에 휨을 발생시키는 경우가 있다. 그 결과, 제조공정의 도중에서, 기대 위에 형성된 프로브가 고정탭에 연결된 채 기대로부터 박리되고 기대 위으로부터 탈락하는 경우가 있었다. 그리고, 프로브의 제조수율을 저하시키는 경우가 있었다.

그래서, 기대 위에 형성된 프로브가 그 제조 도중의 공정에서 기대로부터 탈락하는 것을 감소시킬 수 있는 프로브의 제조방법이 요구되고 있다.

본 발명은 이러한 종래의 프로브의 제조방법에 있어서 기대로부터의 프로브의 탈락 문제를 감안하여 이루어진 것이다.

즉, 본 발명의 목적은 기대로부터의 프로브의 탈락을 감소시키는 프로브의 제조방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 다른 목적 및 이점은 이하의 기재로부터 명백해질 것이다.

본 발명은 프로브의 제조방법에 있어서,

기대 위에 배치된 희생층 위에 그 희생층이 노출되는 오목부를, 프로브 및 그 프로브에 연결하는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,

레지스트의 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적시키고, 프로브 및 그 프로브에 연결되는 고정탭을 형성하는 제2 공정,

레지스트를 제거하는 제3 공정,

에칭처리에 의해 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 희생층의 일부에 의해 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및

프로브를 기대로부터 분리하는 제5 공정을 구비하고,

제4 공정은 프로브 아래의 희생층 부분을 남기지 않고 제거하는 한편, 고정탭의 아래에 희생층 부분을 남기고, 잔존하는 그 희생층 부분을 복수의 지지점으로 하여, 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하는 것을 특징으로 하는 프로브의 제조방법에 관한 것이다.

본 발명에서 고정탭을 기대 위에 지지하는 복수의 지지점은 각각이 서로 이간되고 또한 기대의 면과 평행인 단면이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 단면 형상을 갖고,

제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 복수의 지지점의 각각이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 단면 형상을 갖고 구성되도록, 오목부의 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭을 기대 위에 지지하는 복수의 지지점은 각각이 서로 이간되고 또한 기대의 면과 평행인 단면이 동등한 면적을 갖고,

제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 복수의 지지점의 각각의 단면의 면적이 동등해지도록, 레지스트의 오목부의 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭을 기대 위에 지지하는 복수의 지지점은 각각이 서로 이간되고 또한 기대의 면과 평행인 단면이 다른 면적을 갖고,

제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 복수의 지지점의 각각의 단면의 면적이 다르도록, 레지스트의 오목부의 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭은 복수의 지지판과, 그 복수의 지지판 사이를 연결하는 하나 이상의 연결부를 구비하여 구성되고,

제1 공정은 복수의 지지판과 하나 이상의 연결부를 갖는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부의 고정탭에 대응하는 부분을 형성하며,

제4 공정은 고정탭의 복수의 지지판의 각각의 아래에 희생층 부분을 남기는 것이 바람직하다.

본 발명에서 연결부는 직선, 곡선 또는 그 조합으로 이루어진 형상을 갖는 것이 바람직하다.

본 발명에서 프로브에 연결되는 고정탭은 그 프로브에 연결되는 제1 지지판과, 제1 지지판에 연결되는 제2 지지판을 구비하여 구성되고, 제1 지지판 및 제2 지지판은 각각, 제4 공정의 에칭처리에 의해 프로브 아래의 희생층 부분이 제거되었을 때, 제1 지지판 및 제2 지지판 아래의 희생층 부분이 남기에 충분한 평면형상을 갖고,

제1 공정은 프로브 및 제1 지지판 및 제2 지지판을 갖는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트의 오목부를 형성하며,

제4 공정은 프로브 아래의 희생층 부분을 남기지 않고 제거하고 또한 제1 지지판 및 제2 지지판의 각각의 아래에 희생층 부분을 남기게 되고, 제1 지지판의 아래에 잔존하는 희생층 부분과, 제2 지지판 아래에 잔존하는 희생층 부분을 2점의 지지점으로 하여 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하며,

제 5 공정은 프로브와 고정탭의 제1 지지판 사이를 분리하고, 프로브를 기대로부터 분리하도록 구성되는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭은 제1 연결부를 통하여 프로브에 연결하고 또한 제1 지지판과 제2 지지판과 연결하는 제2 연결부를 구비하며,

제2 연결부는 직선, 곡선 또는 그들의 조합으로 이루어진 형상을 갖고,

제1 공정은 제1 지지판, 제2 지지판 및 제2 연결부를 갖는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부의 고정탭에 대응하는 부분을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 제4 공정은 제1 지지판 및 제2 지지판의 각각의 아래에 희생층 부분을 남기고 또한 제1 지지판 및 제2 지지판 중 적어도 한쪽의 아래에는 서로 이간되는 복수의 희생층 부분을 남기게 되며,

제1 지지판 및 제2 지지판의 아래에 잔존하는 희생층 부분의 3점 이상에 의해 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 프로브에 연결되는 고정탭은 프로브에 연결되는 제1 지지판과, 제1 지지판에 연결되는 제2 지지판과 제2 지지판에 연결되는 제3 지지판을 구비하여 구성되고, 제1 지지판, 제2 지지판 및 제3 지지판은 각각, 제4 공정의 에칭처리에 의해 프로브 아래의 희생층 부분이 제거되었을 때, 제1 지지판, 제2 지지판 및 제3 지지판의 아래의 희생층 부분이 남기에 충분한 평면형상을 갖고,

제1 공정은 프로브 및 제1 지지판, 제2 지지판 및 제3 지지판을 갖는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부를 형성하며,

제4 공정은 프로브하의 희생층 부분을 남기지 않고 제거하고, 또한 제1 지지판, 제2 지지판 및 제3 지지판의 각각의 아래에 희생층 부분을 남기게 되어, 제1 지지판의 아래에 잔존하는 희생층 부분, 제2 지지판의 아래에 잔존하는 희생층 부분 및 제3 지지판의 아래에 잔존하는 희생층 부분을 3점의 지지점으로 하여, 기대 상에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하며,

제5 공정은 프로브와 고정탭의 제1 지지판과의 사이를 분리하고, 프로브를 기대로부터 분리하도록 구성되는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭은 제1 연결부를 통하여 프로브에 연결하고 또한 제1 지지판과 제2 지지판을 연결하는 제2 연결부와, 제2 지지판과 제3 지지판을 연결하는 제3 연결부를 구비하며,

제2 연결부 및 제3 연결부는 서로 독립적으로 직선, 곡선 또는 그 조합으로 이루어진 형상을 갖고,

제1 공정은 제1 지지판, 제2 지지판, 제3 지지판, 제2 연결부 및 제3 연결부를 갖는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부의 고정탭에 대응하는 부분을 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 프로브는 본체부와, 그 본체부로부터 가로방향으로 연장되는 아암부와, 그 아암부에 일체적으로 설치되고 아암부로부터 세로방향으로 신장되어 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판형상의 형상을 갖고,

제1 지지판 및 제2 지지판은 각각, 본체부의 면적보다 큰 면적을 갖고,

제1 공정은 레지스트의 오목부의 본체부에 대응하는 부분의 평면형상의 면적보다도, 고정탭에 대응하는 부분의 평면형상의 면적이 커지도록, 레지스트의 오목부를 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 고정탭은 프로브의 본체부의 측부에 연결하는 구조를 갖고,

제1 공정은 프로브 및 그 프로브의 본체부의 측부에 연결하는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부를 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에서 프로브의 아암부는 본체부와 바늘끝부와의 사이에서, 프로브의 두께 방향으로 관통하고, 또한 아암부의 길이 방향으로 신장되는 개구부가 설치되며,

고정탭은 프로브의 아암부의 개구부 내에 배치되고, 그 프로브와 연결되는 구조를 갖고,

제1 공정은 프로브 및 그 프로브의 아암부의 개구부 내에 배치되어 그 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트의 오목부를 형성하는 것이 바람직하다.

본 발명에 따르면 기대로부터의 프로브의 탈락을 감소시키는 프로브의 제조방법이 제공된다.

도 1은 종래의 프로브의 제조방법을 설명하는 도면으로, (a)는 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 평면도이고, (b)는 기대 위의 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시형태의 프로브 조립체를 모식적으로 도시한 측면도이다.
도 3은 본 발명의 실시형태의 프로브를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 4의 (a)~(e)는 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법을 도시한 공정도이다.
도 5는 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에 의해 제조되는 프로브와 제1 연결부와 고정탭의 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.
도 6은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭을 설명하는 도면으로, (a)는 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 평면도이고, (b)는 기대 위의 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시한 단면도이다.
도 7은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 다른 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 8은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 또 다른 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 9는 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제1 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 10은 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제2 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 11은 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제3 예를 모식적을 도시하는 평면도이다.
도 12는 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제4 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 13은 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제1 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 14는 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제2 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.
도 15는 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제3 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

본 발명의 프로브의 제조방법에 의해 제조되는, 본 발명의 실시형태의 프로브는 복수가 프로브 카드와 같은 프로브 조립체에 사용되어 전기적 접속장치를 구성하고, IC와 같은 피검사체의 전기적 접속을 위해 사용할 수 있다.

도 2는 본 발명의 실시형태의 프로브 조립체를 모식적으로 도시한 측면도이다.

도 2에 도시한 바와 같이 본 발명의 실시형태의 프로브 조립체(10)는 평면형상이 전체적으로 원형인 배선기판(12)과, 배선기판(12)의 하면(12a)의 중앙부에 부착된 직사각형 평면형상의 프로브 기판(14)과, 프로브 기판(14)의 한쪽면(14a)에 부착된 다수의 프로브(16)를 구비한다.

각 프로브(16)는 프로브 기판(14)의 한쪽 면(14a) 위에 형성된 대응하는 도전로(도시되지 않음)의 각각의 접속부(도시되지 않음)에 고정 부착되어 있다. 프로브 기판(14)은 프로브(16)가 설치된 한쪽 면(14a)과 반대측의 면을 배선기판(12)의 하면(12a)에 대향시켜 배선기판(12)에 고정되어 있다.

배선기판(12)은 내부에 도전로(도시되지 않음)가 조립된 전기절연성 재료로 이루어진다. 배선기판(12)의 상면의 둘레 가장자리부에는 테스터(도시되지 않음)로의 접속단이 되는 다수의 테스터랜드(도시되지 않음)가 설치되어 있다. 배선기판(12)에 부착된 프로브 기판(14)의 각 프로브(16)는 프로브 기판(14)의 대응하는 도전로 및 배선기판(12) 내의 대응하는 도전로를 거쳐, 상술한 배선기판(12)의 대응하는 각 테스터랜드에 전기적으로 접속된다. 이에 의해, 각 프로브(16)는 배선기판(12)의 대응하는 테스터랜드를 거쳐 상술한 테스터에 전기적으로 접속된다.

도 3은 본 발명의 실시형태의 프로브를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 3은 본 발명의 실시형태의 프로브(16)의 일례를 모식적으로 도시하고 있다. 따라서, 후에 설명하는, 제조시에 형성되는, 고정탭과의 사이의 분리 흔적은 생략하고 있다.

본 발명의 실시형태의 프로브(16)는 전체적으로 평판 형상을 갖는다. 프로브(16)는 프로브 기판(14)(도 3 중에는 도시되지 않음)에 설치된 접속부로의 부착단(22a)을 갖는 본체부(22)와, 본체부(22)의 하단으로부터 가로 방향으로 연장되는 아암부(24)와, 아암부(24)의 선단으로부터 세로 방향 즉 하방으로 연장되는 바늘끝부(26)를 구비하고, 바늘끝부(26)의 선단에 바늘끝(26a)이 형성되어 있다. 상기 본체부(22)의 측부에는 후술하는 고정탭과의 사이의 분리흔적이 남지만, 도시는 생략되어 있다.

아암부(24)에는, 도시한 예에서는 본체부(22)와 바늘끝부(26) 사이에서, 프로브(16)의 판두께 방향으로 관통하고 아암부(24)의 길이방향으로 신장되는 개구부(28)가 형성되어 있다. 상기 개구부(28)에 의해 아암부(24)는 서로 간격을 두고 병행(竝行)하는 한 쌍의 아암부분(24a, 24b)으로 구획되어 있다. 개구부(28)는 도시한 예에서는 그 일단이 본체부(22)에 도달하도록 형성되어 있다.

또한, 본체부(22)에는 프로브(16)의 판두께 방향으로 관통하는 개구부(30)가 형성되어 있다.

본 발명의 실시형태의 프로브(16)에서 아암부(24)의 개구부(28)를 설치하지 않은 구조도 가능하지만, 프로브(16)가 피검사체(도시되지 않음)에 억압되었을 때, 아암부(24)에 대해서 적정한 탄성을 부여할 수 있도록, 도시와 같이 개구부(28)를 형성하고 개구부(28)에 의해 구획되는 아암부분(24a, 24b)으로 아암부(24)를 구성하는 것이 바람직하다.

또한, 본 발명의 실시형태의 프로브(16)에서는 본체부(22)에 개구부(30)를 설치하지 않은 구조도 가능하다. 그러나, 후술하는 프로브(16)의 제조공정에서, 개구부(30)는 본체부(22) 아래의 희생층의 에칭 처리에 의한 제거의 촉진에 유효하고, 본체부(22)에 형성되는 것이 바람직하다.

본 발명의 실시형태의 프로브(16)의 바늘끝(26a)은 상술한 테스터를 사용한, 예를 들어 IC와 같은 피검사체의 전기검사를 위해, 피검사체의 전극에 억압된다. 이 때, 프로브(16)의 바늘끝(26a)은 두 아암부분(24a, 24b)의 휨 변형에 의해 적정한 탄성을 수반하여 피검사체의 전극(도시되지 않음)에 확실하게 접속된다.

이상에 예시된 구조의 본 발명의 실시형태의 프로브는 본 발명의 프로브의 제조방법에 의해 예를 들어 실리콘 결정 기판과 같은 기대 위에서 다수를 일괄적으로 제조할 수 있다.

본 발명의 프로브의 제조방법은 이하의 제1~제5 공정을 갖고 구성된다.

(제1 공정)

표면에 희생층이 배치된 기대를 사용하여, 프로브 및 그 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 레지스트로, 기대 위의 희생층 위에 그 희생층이 노출되는 오목부를 형성하는 공정.

(제2 공정)

레지스트로 형성된 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 프로브 및 그 프로브에 연결되는 고정탭을 형성하는 공정.

(제3 공정)

기대 위의 레지스트를 제거하는 공정.

(제4 공정)

에칭처리에 의해 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하여, 그 잔존하는 희생층의 일부에 의해 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성하는 공정.

(제5 공정)

프로브를 기대로부터 분리하는 공정.

본 발명의 프로브의 제조방법은 프로브를 구성하는 프로브 재료를 퇴적하는 제2 공정에서, 프로브와 함께 그 프로브에 연결하는 고정탭을 형성한다. 그리고, 제3 공정에서 레지스트를 제거한 후, 제4 공정에서 에칭처리를 실시하고, 기대 위에 희생층의 일부에 의해 지지된 프로브와 고정탭을 형성한다. 이 때, 프로브 아래의 희생층은 제4 공정의 최종단계에서 제거되어 있고, 희생층의 일부는 고정탭의 아래에만 잔존하게 된다. 따라서, 제4 공정 후의, 기대 위에서의 프로브의 지지는 그 프로브에 연결하는 고정탭이 잔존하는 희생층의 일부에 의해 고정탭이 지지되어 실현된다. 제2 공정에서 형성된 프로브는 제4 공정 후, 고정탭으로 지지되어 기대 위에 떠 있는 상태가 된다.

그 때문에, 계속되는 제5 공정에서는 프로브를 기대로부터 강한 힘으로 떼어내는 작업은 불필요해지고, 예를 들어 프로브와 고정탭의 연결부분의 취약한 부분을 꺾는 등 하여 프로브를 고정탭으로부터 분리하여 프로브를 기대로부터 분리할 수 있다.

이상의 각 공정으로 구성되는 본 발명의 프로브의 제조방법은, 제4 공정에 의해 형성되는 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭에서 종래 기술에는 없는 특징을 구비한다.

즉, 도 1에서 설명한 종래기술에서는 프로브(1001)에 연결되는 고정탭(1002)과 기대(1005) 사이에, 희생층의 일부로서 지지부(1003)를 1점만 남기고, 1점의 지지부(1003)에 의해 고정탭(1002)이 기대(1005) 위에 지지되는 구조를 형성한다. 상기 1점 지지의 구조는 상술한 바와 같이, 가열 등에 의해 발생하는 응력이 그 1점의 지지부(1003)에 집중하여 휨을 발생시키는 원인이 된다.

한편, 그와 같은 종래 기술에 대하여 본 발명의 프로브의 제조방법에서는 프로브에 연결되는 고정탭과 기대 사이에서, 이간된 2점, 3점 또는 그 이상이 되는 복수의 지지부에 의해, 복수점의 고정탭의 지지를 실현한다. 그 결과, 고정탭에 응력이 발생해도, 1점의 지지점에 그 응력이 집중되지 않는다. 고정탭에서는 복수의 지지점 사이의 연결부분으로 그 응력이 빠져나갈 수 있어, 고정탭 등에서 휨 등의 발생을 방지할 수 있다. 그 결과, 본 발명의 프로브의 제조방법은 프로브가 제조 도중에 기대로부터 탈락하는 것을 방지하여 프로브를 높은 수율로 제조할 수 있다.

본 발명의 프로브의 제조방법에서는 이러한 복수의 지지부에 의한 고정탭의 지지를 가능하게 하므로, 상술한 제2 공정에서 형성되는 고정탭의 구조를 종래에는 없는 신규의 구조가 되게 한다. 그리고, 그 때문에, 본 발명의 프로브의 제조방법은 제1 공정에서 레지스트의 오목부를 그 신규 구조의 고정탭의 평면형상에 대응하는 형상으로 한다.

이하, 본 발명의 실시형태의 프로브 제조방법에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 실시형태의 프로브 제조방법에서는 기대 위에 다수의 프로브를 일괄적으로 제조할 수 있지만, 도면 및 설명의 간소화를 위해 설명에 사용하는 도면에는 단일한 프로브에 대한 제조공정이 편의적으로 도시되어 있다.

또한, 본 발명의 실시형태의 프로브 제조방법에서는, 도중 단계에서 제조되는 기대 위에 형성된 프로브와 그 프로브에 연결부를 통하여 연결되는 고정탭의 구조가, 상술한 바와 같이 종래 기술에는 없는 특징적인 구조가 된다. 특히, 기대 위의 고정탭의 구조가 특징적인 것이 된다. 따라서, 본 발명의 실시형태의 프로브 제조방법에 의해 제조되는 프로브는, 예를 들어 상술한 도 3에 도시한 구조를 갖는 것이지만, 도면에서는 설명의 편의상 그 구조를 간략화하고 모식적으로 도시하는 경우가 있다.

실시형태 1

본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 2개의 지지부에 의한, 고정탭의 2점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 갖는다. 그리고, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은, 예를 들어 상술한 도 3에 도시한 구조의 프로브(16)를 높은 수율로 제조할 수 있다.

도 4(a)~(e)는 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법을 도시한 공정도이다.

본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는 제1 공정으로서, 도 4(a)에 도시한 바와 같이, 기대(32)로서, 표면이 에칭에 의해 경면(鏡面) 처리된 실리콘 결정 기판이 준비된다.

그리고, 실리콘 결정 기판인 기대(32) 위에는 희생층(42)이 형성된다. 희생층(42)은 예를 들어 동을 사용하고, 예를 들어 스퍼터법 등에 의해 형성할 수 있다. 그 경우, 동으로 이루어진 희생층(42)을 성장시키기에 앞서, 희생층(42)의 성장을 촉진하기 위해, 예를 들어 니켈과 같은 접착층(도시되지 않음)을, 스퍼터법 등에 의해 기대(32) 위에 균일하게 형성할 수 있다.

기대(32) 위, 또는 기대(32) 위의 접착층 위에는 상술한 바와 같이, 예를 들어 동이 스퍼터법 등에 의해 적정하게 퇴적된다. 상기 동 등의 퇴적에 의해, 질 및 두께 치수가 균일한 희생층(42)이 형성된다. 희생층(42)은 시드층 등이라고 불리고, 형성재료로서는 예를 들어 상술한 동 이외에, 동과 니켈의 합금 등, 후술하는 에칭 처리를 하는 공정에서 에칭 가능한 재료를 선택하여 사용할 수 있다.

다음에, 희생층(42) 위에 감광재료로 이루어진 포토레지스트 재료가, 예를 들어 스핀코트법에 의해 균일한 두께로 도포된다. 이에 의해, 기대(32)의 전면에 균일한 감광성 레지스트층(도시되지 않음)이 형성된다. 상기 레지스트층은 마스크(도시하지 않음)를 사용하여 선택 노광되고, 그 후 현상된다. 상기 마스크는 프로브(16) 및 후술하는 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 고정탭(36)을 포함하는 그들 전체의 평면형상에 대응하는 패턴을 갖는다.

상기 마스크 패턴의 레지스트층으로의 전사에 의해, 기대(32) 위에는 오목부(46a)를 구비한 레지스트(46)가 형성된다. 레지스트(46)의 오목부(46a)는 프로브(16), 제1 연결부(34) 및 고정탭(36)으로 이루어진 전체의 평면형상에 대응한 평면형상을 갖는다. 그리고, 레지스트(46)는 그 오목부(46a)의 저면에 희생층(42)을 노출시키는 레지스트 패턴을 형성하고 있다.

상기 레지스트(46)의 오목부(46a)는 상술한 도 3에 도시한 프로브(16)에 대응하는 부분을 갖는다. 상기 프로브(16)에 대응하는 부분은 프로브(16)의 본체부(22), 아암부(24)(한 쌍의 아암부분(24a, 24b)) 및 바늘끝부(26)의 평면형상에 대응하는 각 부분을 갖고 있다. 또한, 레지스트(46)는 본체부(22)에 대응하는 부분 및 아암부(24)에 대응하는 부분에서 개구부(30) 및 개구부(28)를 형성하기 위해 패턴을 형성하고 있다.

또한, 레지스트(46)의 오목부(46a)는 프로브(16)에 대응하는 부분과 함께, 제1 연결부(34) 및 고정탭(36)의 평면형상에 각각 대응하는 각 부분을 갖고 있다. 고정탭(36)은 계속되는 제2 공정을 설명할 때 도 5를 사용하여 설명하는 바와 같이, 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)과 그 사이를 연결하는 제2 연결부(52)를 구비하여 구성된다. 따라서, 본 공정에서는 레지스트(46)의 오목부(46a)를, 상술한 바와 같이 프로브(16)의 평면형상에 대응하도록 형성하고, 또한 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)과 그 사이를 연결하는 제2 연결부(52)를 구비하여 구성되는 고정탭(36)의 평면형상에 대응하도록 형성한다.

다음에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는, 제2 공정으로서 도 4(b)에 도시한 바와 같이, 레지스트(46)의 오목부(46a) 내에 프로브 재료를, 예를 들어 전주법(電鑄法)(전기 도금법)에 의해 퇴적한다. 그 결과, 본 공정에서는 오목부(46a) 내에 프로브(16), 및 프로브(16)에 제1 연결부(34)를 통하여 연결되는 고정탭(36)이 희생층(42) 위에 고정 부착되어 형성된다.

도 5는 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에 의해 제조되는 프로브와 제1 연결부와 고정탭의 구조를 모식적으로 도시한 도면이다.

도 5에서는 프로브(16)의 형상을 모식적으로 도시한다. 그리고, 도 5에 도시한 바와 같이, 고정탭(36)은 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 제1 지지판(51)과, 제2 연결부(52)를 통하여 제1 지지판(51)에 연결되는 제2 지지판(53)을 포함하여 구성된다. 즉, 고정탭(36)은 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)과 그 사이를 연결하는 제2 연결부(52)를 구비하여 구성된다. 제1 연결부(34)는 그 중앙부 부근에, 후술하는 제5 공정에서 프로브(16)가 고정탭(36)으로부터 분리될 때 절단되는, 다른 곳에 비하여 폭이 좁은 취약 부분(34a)을 갖는다. 그리고, 고정탭(36)은 도 3에 도시한 프로브(16)의 본체부(22)의, 아암부(24)의 형성측과는 반대측의 측부에, 제1 연결부(34)를 통하여 연결되는 구조를 갖는다.

고정탭(36)의 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)은 각각, 후술하는 본 실시형태의 프로브 제조방법의 제4 공정의 에칭처리에 의해, 프로브(16)의 본체부(22) 아래의 희생층(42) 부분이 제거되었을 때, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53) 아래의 희생층(42) 부분이 남기에 충분한 평면형상을 갖는다. 예를 들어, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)은 각각, 도 3에 도시한 프로브(16) 본체부(22)의 면적보다 큰 면적을 갖도록 구성할 수 있다. 또한, 그 경우의 본체부(22)의 면적이라는 것은, 개구부(30)를 제외한 본체부(22)의 면적이 된다. 또한, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)은 각각, 도 5에 도시한 제1 연결부(34) 및 제2 연결부(52) 중 어느 것 보다도 큰 평면형상을 갖는다.

상술한 본 실시형태의 프로브 제조방법의 제1 공정은 도 4(a)에 도시한 레지스트(46)의 오목부(46a)를, 프로브(16) 본체부(22), 아암부(24)(한 쌍의 아암 부분(24a, 24b)) 및 바늘끝부(26)의 평면형상에 대응하도록 형성한다. 그리고, 또한 프로브(16)에 연결되는, 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)과 그 사이를 연결하는 제2 연결부(52)를 갖고 구성되는 고정탭(36)의 평면형상에 대응하도록 형성한다. 그 결과, 계속되는 도 4(b)의 제2 공정에서는 상술한 형상의 고정탭(36)의 제1 지지판(51)(도 4(b) 중에는 도시되지 않음)과 제2 지지판(53)(도 4(b) 중에는 도시되지 않음)이 실현된다.

프로브 재료로서는 1종의 재료만을 사용할 수 있고, 또한 이종 재료를 조합하여 사용할 수도 있다. 예를 들어, 프로브 재료로서 금속재료를 사용하는 경우, 단체의 금속을 사용할 수 있고, 또한 합금을 사용할 수도 있다. 프로브 재료로 사용할 수 있는 금속재료로서는, 구체적으로는 니켈, 금, 은, 주석, 아연, 로듐, 텅스텐 등의 금속 단체나, 그를 포함하는, 예를 들어 니켈 인 합금 등의 합금, 또는 그들 금속 단체나 합금을 복수 종류 조합하여 형성된 것 등을 들 수 있다.

다음에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는 제2 공정에서, 희생층(42) 위에 프로브(16), 제1 연결부(34) 및 고정탭(36)을 일체적으로 형성한 후, 도 4(c)에 도시한 바와 같이 제3 공정으로서 레지스트(46)의 제거가 실시된다.

다음에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는 상기 레지스트(46)의 제거 후, 제4 공정으로서 에칭처리를 실시하는 공정을 갖는다. 상기 제4 공정에서는 프로브(16)를 기대(32) 위로부터 분리하기 위해, 희생층(42)의 프로브(16) 아래에 위치하는 부분을 제거하도록, 에칭액을 사용한 에칭 처리(웨트 에칭 처리)가 실시된다. 상기 웨트 에칭 처리에 의해, 도 4(d)에 도시되어 있는 바와 같이, 우선 희생층(42)의 프로브(16), 제1 연결부(34) 및 고정탭(36)으로부터 노출되는 부분이, 그들의 가장자리부부터 침식을 받는다.

그리고, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는, 제4 공정에서의 계속되는 에칭처리에 의해, 도 4(e)에 도시한 바와 같이 희생층(42)이 한층 더한 침식을 받는다.

본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법의 제4 공정의 에칭처리에서, 에칭액에 의한 희생층(42)의 침식은 프로브(16), 제1 연결부(34) 및 고정탭(36) 각각의 가장자리부로부터 각각의 중앙부를 향하여 진행된다. 이 때, 상술한 바와 같이 고정탭(36)의 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)은 각각, 예를 들어 도 3에 도시한 프로브(16) 본체부(22)의 면적보다 큰 면적이 되는 형상을 갖는다. 그리고, 아암부(24)(한 쌍의 아암부분(24a, 24b)) 및 바늘끝부(26) 중 어느 것보다도 폭이 넓은 형상을 갖는다. 또한, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)은 각각, 도 5에 도시하는 제1 연결부(34) 및 제2 연결부(52) 중 어느 것보다도 큰 평면형상을 갖는다.

그 결과, 도 4(e)에 도시한 바와 같이 희생층(42)은 프로브(16) 아래 및 제1 연결부(34) 아래의 부분에서 제거되어도, 고정탭(36)의 제1 지지판(51) 아래의 중앙부 아래의 희생층 부분(42a)이 잔존한다. 동일하게, 제2 지지판(53) 아래의 중앙부 아래의 희생층 부분(42b)이 잔존한다.

도 6은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭을 설명하는 도면이고, 도 6(a)는 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시하는 평면도이며, 도 6(b)는 기대 위의 프로브와 고정탭을 모식적으로 도시하는 단면도이다.

도 6(a) 및 도 6(b)에 도시한 바와 같이, 제4 공정에서는 에칭처리에 의해, 희생층(42)의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 희생층(42)의 일부에 의해 기대(32) 위에 지지된 프로브(16) 및 고정탭(36)을 형성한다.

도 4(e) 및 도 6(b)에 도시한 바와 같이 에칭처리 후의 상태에서는 기대(32)로부터 분리해야 할 프로브(16)는, 제1 연결부(34)와 함께 기대(32)로부터 떠 있는 상태에 있고, 제1 연결부(34)에 연결된 고정탭(36)의 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)이 잔존하는 희생층 부분(42a, 42b)을 통하여 기대(32)에 고정 부착된 상태에 있다.

즉, 제4 공정은 에칭처리에 의해, 프로브(16) 아래의 희생층(42) 부분을 남기지 않고 제거하고, 또한 고정탭(36)의 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)의 각각의 아래에 희생층 부분(42a, 42b)을 남기도록 실시된다. 그리고, 제4 공정에서는 제1 지지판(51)의 아래에 잔존하는 희생층 부분(42a)을 제1 지지점으로 하고, 제2 지지판(53)의 아래에 잔존하는 희생층 부분(42b)을 제2 지지점으로 하며, 제1 지지점 및 제2 지지점의 2점에 의해 기대(32) 위에 지지된 프로브(16) 및 고정탭(36)을 형성한다.

따라서, 프로브(16)는 고정탭(36)의 제1 지지판(51) 아래의 제1 지지점인 희생층 부분(42a), 및 제2 지지판(53) 아래의 제2 지지점인 희생층 부분(42b)을 사용하여 기대(32) 위에 유지되어 있고, 프로브(16)가 기대(32)로부터 이탈하지 않는다.

또한, 제1 지지점인 희생층 부분(42a)과 제2 지지점인 희생층 부분(42b)은 각각 고정탭(36)의 제1 지지판(51)의 아래와, 제1 지지판(51)에 제2 연결부(52)를 통하여 연결되는 제2 지지판(53)의 아래에 형성된다. 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)은 이간되어 설치되고, 제2 연결부(52)에 의해 서로 연결되어 있다. 따라서, 제1 지지점인 희생층 부분(42a)과 제2 지지점인 희생층 부분(42)은 고정탭(36)의 하층에서 서로 이간되어 배치되어 있다.

이와 같이, 이간되는 2점의 지지점으로서, 제1 지지판(51)의 아래에 희생층 부분(42a)을 형성하고 제2 지지판(53)의 아래에 희생층 부분(42b)을 형성함으로써, 고정탭(36)에 응력이 생겨도, 그 응력을 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)의 연결 부분이 되는 제2 연결부(52)로 빠져나가게 할 수 있다.

예를 들어, 프로브(16)의 제조 공정에서 프로브(16)의 가열처리가 실시된 경우, 프로브(16)나 고정탭(36)의 2점의 지지점인 희생층 부분(42a, 42b)에서 응력이 발생하는 경우가 있다. 그러나, 희생층 부분(42a, 42b)에서 발생한 응력은 그 부분에 집중되지 않고, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)을 통하여 그것을 연결하는 제2 연결부(52)로 빠져나가게 할 수 있다.

즉, 본 실시형태의 프로브 제조방법의 도중의 공정에서 형성되는 프로브(16)와 프로브(16)에 연결되는 고정탭(36)에서는, 고정탭(36)이 희생층 부분(42a, 42b)을 사용하여 기대(32) 위에 2점에서 지지된다. 그리고, 고정탭(36)을 지지하는 희생층 부분(42a, 42b)에 응력이 가해져도, 그것을 연결하는 부분으로 그 응력이 빠져나갈 수 있고, 휨의 발생을 억제하여 고정탭(36)과 함께 프로브(16)가 기대(32)로부터 탈락되는 것을 방지할 수 있다. 그리고, 프로브(16)의 제조 수율의 저하를 억제할 수 있다.

여기에서, 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)의 아래에 형성되고, 제1 지지점이 되는 희생층 부분(42a)과 제2 지지점이 되는 희생층 부분(42b)은 그 형상을 다양한 형상으로 할 수 있다. 그리고 특히, 희생층 부분(42a, 42b)의, 기대(32)면과 평행인 면의 단면 형상을, 각각 독립적으로 다양한 형상으로 할 수 있다.

예를 들어, 고정탭(36)을 기대(32) 위에 지지하는 희생층 부분(42a, 42b)은 각각 독립적으로, 기대(32)면과 평행인 단면이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 형상을 가질 수 있다.

희생층 부분(42a, 42b)은 상술한 바와 같이 제4 공정의 에칭처리에 의해 형성되어 있고, 그 때문에 희생층 부분(42a, 42b)의 형상, 특히 그 단면 형상은 그 위에 배치되는 제1 지지판(51) 및 제2 지지판(53)의 형상에 의해 제어된다. 따라서, 제2 공정에서 형성되는 고정탭(36)의 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53) 각각의 형상을 제어함으로써, 제1 지지점인 희생층 부분(42a)과 제2 지지점인 희생층 부분(42b)의 단면 형상을 제어할 수 있다.

그리고, 제2 공정에서 형성되는 고정탭(36)의 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53) 각각의 형상은 도 4(a)에 도시한 제1 공정의 레지스트(46)의 오목부(46a)의 형상에 의해 결정된다. 따라서, 희생층 부분(42a, 42b)의 단면 형상의 제어는, 제4 공정의 에칭처리의 조건과 함께, 제1 공정의 레지스트(46)의 오목부(46a)의 형상을 제어함으로써 실현할 수 있다.

즉, 상술한 제1 공정은, 제4 공정의 에칭처리에 의해 2점의 지지점이 되는 희생층 부분(42a, 42b)의 각각이 상술한 단면 형상을 갖고 구성되도록, 레지스트(46)의 오목부(46a)의 고정탭(36)의 평면형상에 대응하는 부분을 형성할 수 있다.

또한, 제1 지지점인 희생층 부분(42a)과 제2 지지점인 희생층 부분(42b)은 도 6에 도시한 바와 같이 기대(32)면과 평행인 단면이 동등한 면적을 갖도록 형성하는 것이 가능하다. 이렇게 함으로써, 고정탭(36)를 지지하는 희생층 부분(42a, 42b)에 응력이 가해져도 그것을 연결하는 부분, 즉 제2 연결부(52)으로, 그 응력을 효율 좋게 빠져나가게 할 수 있다.

그러나, 제1 지지점인 희생층 부분(42a)과 제2 지지점인 희생층 부분(42b)의 단면적은 반드시 동등하게 할 필요는 없고, 상술한 응력이 빠져나가는 것이 가능하면, 희생층 부분(42a, 42b)의 기대(32)의 면과 평행인 단면이 다른 면적을 갖도록 형성하는 것도 가능하다.

그 경우, 상술한 제1 공정은, 제4 공정의 에칭처리에 의해 2점의 지지점이 되는 희생층 부분(42a, 42b)의 각각이, 원하는 단면적을 갖고 구성되도록, 레지스트(46)의 오목부(46a)의 고정탭(36)의 평면형상에 대응하는 부분을 형성할 수 있다. 그 때문에, 예를 들어 제1 지지판(51)과 제2 지지판(53)은 서로 다른 면적 및/또는 다른 형상이 된다.

다음에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 기대(32)로부터의 프로브(16)의 분리를 실시한다. 즉, 실시형태의 프로브 제조방법은 제4 공정에서 희생층 부분(42a, 42b)이 잔존하는 상태에서 에칭처리를 종료한 후, 제5 공정(도 4 중, 도시되지 않음)으로서, 프로브(16)를 고정탭(36)의 제1 지지판(51)으로부터 분리하고 기대(32)로부터 분리한다.

상기 제5 공정에서는 프로브(16)에 종래와 같은 강한 박리력을 작용시키지 않고 프로브(16)를 기대(32)로부터 분리할 수 있다. 상기 프로브(16)를 고정탭(36)으로부터 분리하는 데에는, 예를 들어 핀셋, 스패츌러 또는 나이프와 같은 공구로 프로브(16)를 아래로부터 유지하고, 이를 전체적으로 들어 올림으로써, 도 6에 도시한 제1 연결부(34)의 최소폭 부분, 즉 제1 연결부(34)에 형성된 취약 부분(34a)에서 꺾을 수 있다. 또한, 프로브(16)를 형성하는 프로브 금속재료가 자성재료인 경우, 프로브(16)의 취급에 자석을 사용할 수 있다.

이상의 각 공정에 의해, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 프로브(16)의 기대(32)로부터의 탈락을 방지하고, 우수한 제조수율로 프로브(16)의 제조를 실시할 수 있지만, 또한 그 도중 단계에서 프로브(16)의 강도를 높이는 공정을 설정하는 것도 가능하다.

예를 들어, 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 제4 공정의 에칭처리의 도중에서 가열공정을 설치하는 것이 가능하다. 즉, 도 4(d)에 도시한 에칭처리의 후, 도 4(e)에 도시한, 추가적인 에칭처리 전에, 가열처리공정을 설치할 수 있다. 기대(32) 위에 지지된 프로브(16)에 대해서 열처리를 실시함으로써, 프로브(16)의 강도를 높일 수 있다.

이 때, 가열에 의해 프로브(16)에 반전력이 도입될 염려가 있다. 이러한 반전력의 도입은 프로브 제조수율 저하의 원인이 되므로, 그 대책이 요구된다.

따라서, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 이러한 열처리 등에 의해 기대(32) 위의 프로브(16)에 발생하는 휨을 방지하기 위해, 프로브(16)를 기대(32) 위에서 지지하는 보조 지지부를 설치하는 것이 가능하다. 예를 들어, 도 3의 프로브(16)의, 바늘끝부(26)가 있는 아암부(24)의 선단부분과 기대 사이에, 보조 지지부를 설치하는 것이 가능하다.

상기 보조 지지부는 제4 공정에서 프로브(16) 아래의 희생층(42)을 에칭 처리하여 제거할 때, 잔존하는 희생층(42)의 일부로서 형성할 수 있다. 이와 같은 보조 지지부를 설치함으로써 프로브(16)는 서로 떨어진 2점에서 기대(32) 위에 지지되어 가열에 의한 변형이 억제된다.

또한, 프로브(16) 아래의, 예를 들어 상술한 바늘끝부(26)의 아래에 희생층(42)의 일부로서 유지 지지부를 형성하기 위해, 도 4(d)에 도시한 에칭처리 전에, 새로운 레지스트 형성처리를 실시하고, 그 레지스트에 의한 보호에 의해 에칭의 진행을 억제하고, 희생층(42)의 일부로서 잔존하는 보조 지지부를 형성할 수 있다. 그리고, 형성된 보조 지지부는 도 4(e)에 도시한, 추가적인 에칭 처리에 의해 제거할 수 있다.

이상의 제1 내지 제5 공정에 의해, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 프로브(16)에 연결되는 고정탭(36)과 기대(32) 사이에서, 이간된 2점의 지지부에 의한 2점의 지지를 실현하고 프로브(16)의 기대(32)로부터의 탈락을 방지하여, 우수한 제조수율로 프로브(16)를 제조한다.

그리고, 그를 위해 제1 실시형태의 프로브 제조방법은 기대(32) 위에서 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 고정탭(36)이, 상술한 바와 같이 제1 연결부(34)에 연결되는 제1 지지판(51)과, 제2 지지판(53)과, 그를 연결하는 제2 연결부(52)로 구성된다. 이 경우, 고정탭(36)의 구조가 중요해진다. 고정탭(36)은 도 5 및 도 6에 예시되지만, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서는 고정탭(36)의 구조는 도 5 및 도 6에 도시된 것에 한정되는 것은 아니다.

예를 들어, 고정탭(36)에서 제2 연결부(52)의 형상은 도 6에 도시한 직선형상 뿐만 아니라 곡선, 또는 직선과 곡선의 조합으로 이루어진 구조로 할 수 있다.

도 7은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 다른 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 7에 도시한 다른 예로서는 제2 연결부(52-2)의 구조만이 도 6에 도시한 예와 다르다. 따라서, 그 밖의 공통되는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 중복되는 설명을 생략한다. 또한, 이것은 후술하는 도 8에 도시하는, 또 다른 예에 대해서도 동일하다.

도 7에 도시한 다른 예에서, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(36-2)에서는 제1 연결부(34)에 연결되는 제1 지지판(51)과, 제2 지지판(53)과, 이를 연결하는 제2 연결부(52-2)를 구비하여 구성된다. 제1 지지판(51)의 아래에는 희생층 부분(42a)이 제1 지지부로서 형성되고, 제2 지지판(53) 아래에는 희생층 부분(42b)이 제2 지지부로서 형성되어 있다.

고정탭(36-2)의 제2 연결부(52-2)는 만곡되는 곡선 형상으로 형성된다. 고정탭(36-2)의 제2 연결부(52-2)가 이와 같은 구조를 가짐으로써, 고정탭(36-2)을 지지하는 희생층 부분(42a, 42b)에 응력이 가해져도 이를 연결하는 제2 연결부(52-2)로 그 응력이 효율 좋게 빠져나갈 수 있다.

도 8은 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에서 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 또 다른 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 8에 도시한 또 다른 예에서 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(36-3)에서는 제1 연결부(34)에 연결되는 제1 지지판(51)과, 제2 지지판(53)과, 이를 연결하는 제2 연결부(52-3)을 구비하여 구성된다. 제1 지지판(51)의 아래에는 희생층 부분(42a)이 제1 지지부로서 형성되고, 제2 지지판(53)의 아래에는 희생층 부분(42b)이 제2 지지부로서 형성되어 있다.

고정탭(36-3)의 제2 연결부(52-3)는 만곡되는 곡선형상으로 형성된다. 그리고, 제2 지지판(53)의 배치 위치가, 도 6의 예 및 도 7의 다른 예와 다르다. 즉, 프로브(16)와 제1 연결부(34)의 연결부분과, 제1 지지판(51)의 중심 부분 사이를 연결하는 직선상으로부터, 제2 지지판(53)의 중심부분이 벗어나도록 제2 지지판(53)의 배치가 이루어져 있다. 도 8의 예에서는 상술한 직선상으로부터 상방으로 어긋나도록 제2 지지판(53)이 설치되고, 그 제2 지지판(53)과 제1 지지판(51) 사이를 만곡하는 제2 연결부(52-3)가 연결하는 구조를 갖는다.

고정탭(36-3)의 제2 연결부(52-3)가 이와 같은 만곡구조를 갖고, 제2 지지판(53)을 상술한 배치로 함으로써, 고정탭(36-3)을 지지하는 희생층 부분(42a, 42b)에 응력이 가해져도 이를 연결하는 제2 연결부(52-3)로 그 응력을 효율 좋게 빠져나가게 할 수 있다. 그리고 또한, 기대(32) 위에서의 고정탭(36-3)의 형성 면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

실시형태 2

본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 3개의 지지부에 의한, 고정탭의 3점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 갖는다.

그리고, 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 상술한 3점 지지의 구조인 것 이외에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일해진다. 즉, 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법은, 상술한 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제5 공정을 갖는다. 그리고, 제4 공정의 후, 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 3개의 지지부에 의한, 고정탭의 3점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착된 상태로 제조된다.

그 때문에, 제1 공정에서는 상술한 바와 동일한 방법으로 레지스트의 오목부의 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을, 고정탭의 3점 지지에 대응하는 형상으로 한다. 그 결과, 제2 공정에서는 상술한 바와 동일한 방법에 따라, 프로브 및 그 프로브에 연결되는 고정탭의 형상이, 상술한 3점 지지에 대응하는 형상이 된다. 그리고, 제4 공정에서, 상술한 바와 동일한 방법에 의해, 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 3개의 지지부에 의한, 고정탭의 3점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 실현한다.

따라서, 이하의 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법의 설명에서는. 주로 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭의 형상에 대해서 설명한다. 그 때, 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 공통되는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하도록 하고, 중복되는 설명은 생략한다.

본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법에서는 제1 실시형태와 동일하게, 예를 들어 상술한 도 3에 도시한 구조의 프로브(16)를 높은 수율로 제조할 수 있다.

도 9는 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제1 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 9에 제1 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(136)은, 상술한 바와 같이 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제3 공정 후, 제4 공정의 에칭처리에 의해 형성된다. 또한, 도 9에서는 프로브(16)의 형상을 모식적으로 도시한다.

그리고, 도 9에 도시한 바와 같이 고정탭(136)은 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 제1 지지판(151)과, 제2 연결부(152)를 통하여 제1 지지판(151)에 연결되는 제2 지지판(153)과, 제3 연결부(161)를 통하여 제2 지지판(153)과 연결되는 제3 지지판(162)을 포함하여 구성된다. 즉, 고정탭(136)은 제1 지지판(151), 제2 지지판(153), 제3 지지판(162), 제1 지지판(151)과 제2 지지판(153) 사이를 연결하는 제2 연결부(152), 및 제2 지지판(153)과 제3 지지판(162) 사이를 연결하는 제3 연결부(161)를 구비하여 구성된다. 상기 고정탭(136)은 도 3에 도시한 프로브(16)의 본체부(22)의, 아암부(24)의 형성측과는 반대측의 측부에, 제1 연결부(34)를 통하여 연결되는 구조를 갖는다.

그리고, 제1 지지판(151), 제2 지지판(153) 및 제3 지지판(162)의 아래에는 희생층(42)의 일부인 희생층 부분(42c, 42d, 42e)이 각각 형성되고, 그것이 3개의 지지부를 구성하고 있다. 즉, 제1 지지판(151)의 아래에는 희생층 부분(42c)이 제1 지지부로서 형성되고, 제2 지지판(153)의 아래에는 희생층 부분(42d)이 제2 지지부로서 형성되며, 제3 지지판(162)의 아래에는 희생층 부분(42e)이 제3 지지부로서 형성되어 있다.

그 결과, 제1 지지판(151), 제2 지지판(153) 및 제3 지지판(162)의 아래의, 이들 희생층 부분(42c, 42d, 42e)의 형성에 의해, 기대 위의 프로브(16)와 그 프로브(16)에 연결되는 고정탭(136)이, 3개의 지지부에 의한, 고정탭(136)의 3점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 실현한다.

또한, 고정탭(136)의 제2 연결부(152)는 만곡되는 곡선형상으로 형성된다. 동일하게 제3 연결부(161)도 만곡되는 곡선 형상으로 형성된다.

그리고, 프로브(16)와 제1 연결부(34)의 연결부분, 제1 지지판(151)의 중심부분 및 제2 지지판(153)의 중심부분 사이를 연결하는 직선상으로부터, 제3 지지판(162)의 중심부분이 어긋나도록 제3 지지판(162)의 배치가 이루어져 있다. 도 9의 예에서는 상술한 직선상으로부터 상방측으로 어긋나도록 제3 지지판(162)이 설치되는 구조를 갖는다.

고정탭(136)의 제2 연결부(152) 및 제3 연결부(161)가 상술한 바와 같은 만곡 구조를 갖고, 또한 제3 지지판(162)을 상술한 배치로 함으로써, 고정탭(136)을 지지하는 희생층 부분(42c, 42d, 42e)에 응력이 가해져도, 이를 연결하는 제2 연결부(152) 및 제3 연결부(161)로 그 응력이 효율 좋게 빠져나가게 할 수 있다. 그 결과, 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법은, 프로브(16)의 기대로부터의 탈락을 방지하고 우수한 제조수율로 프로브를 제조한다. 그리고 또한, 기대 위에서의 고정탭(136)의 형성면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

또한, 제2 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는 기대 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(136)에서, 제3 연결부(161)의 형상을 직선 형상으로 형성하는 것도 가능하다.

도 10은 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제2 예를 모식적으로 도시하는 평면도이다.

도 10에 제2 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(236)은, 제3 연결부(161-2)의 구조가 직선 형상으로 되어 있는 것이 다른 이외에, 상술한 도 9의 제1 예와 동일한 구조를 갖는다. 따라서, 공통되는 구성요소에 동일한 부호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략한다.

또한, 후술하는 도 11에 제3 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(336) 및, 도 12에 제4 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(436)에서도 고정탭(336, 436)의 구조가 다른 이외에, 상술한 도 9의 제1 예와 동일한 구조를 갖는다. 따라서, 공통되는 구성요소에 동일한 부호를 붙이고, 중복되는 설명은 생략한다.

고정탭(236)의 제2 연결부(152)는 만곡되는 곡선형상으로 형성된다. 한편, 제3 연결부(161-2)는 직선형상으로 형성된다.

그리고, 프로브(16)와 제1 연결부(34)의 연결부분, 제1 지지판(151)의 중심부분, 및 제2 지지판(153)의 중심부분 사이를 연결하는 직선상으로부터, 제3 지지판(162)의 중심부분이 어긋나도록 제3 지지판(162)의 배치가 이루어져 있다. 도 10의 예에서는 상술한 직선상으로부터 상방측으로 어긋나도록 제3 지지판(162)이 설치되는 구조를 갖는다.

고정탭(136)의 제2 연결부(152) 및 제3 연결부(161-2)가 상술한 바와 같은 구조를 갖고, 또한 제3 지지판(162)을 상술한 배치로 함으로써, 고정탭(136)을 지지하는 희생층 부분(42c, 42d, 42e)에 응력이 가해져도 그들을 연결하는 제2 연결부(152) 및 제3 연결부(161-2)로 그 응력이 효율 좋게 빠져나갈 수 있다. 그리고, 또한 기대 위에서의 고정탭(136)의 형성 면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

다음에, 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭에서는 고정탭의 구조를 또 다른 구성으로 하는 것이 가능하다. 즉, 제2 실시형태의 프로브 제조의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭은 고정탭을 구성하는 각 지지판의 아래에, 이간되는 복수의 희생층 부분을 잔존시켜 지지점을 복수 설치하는 것이 가능하다.

예를 들어, 고정탭을 제1 지지판과 제2 지지판의 2개의 지지판으로 구성하고, 그 중 한쪽의 아래에 이간되는 2개의 희생층 부분을 잔존시키며, 또 한쪽의 아래에 하나의 희생층 부분을 잔존시킬 수 있다. 그리고, 제1 지지판과 제2 지지판의 아래의, 합계 3개의 희생층 부분을 지지점으로 하여 3개의 지지부에 의한, 고정탭의 3점 지지에 의해 기대 위에 프로브와 고정탭이 고정 부착되는 구조를 가질 수 있다.

도 11은 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제3 예를 모식적으로 도시하는 평면도이다.

도 11에 제3 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(336)은, 상술한 바와 같이 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제3 공정 후, 제4 공정의 에칭처리에 의해 형성된다. 또한, 도 11에서는 프로브(16)의 형상을 모식적으로 도시한다.

그리고, 도 11에 도시한 바와 같이, 고정탭(336)은 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결하는 제1 지지판(351)과, 제2 연결부(352)를 통하여 제1 지지판(351)에 연결하는 제2 지지판(353)을 포함하여 구성된다. 즉, 고정탭(336)은 제1 지지판(351), 제2 지지판(353), 및 제1 지지판(351)과 제2 지지판(353) 사이를 연결하는 제2 연결부(352)를 구비하여 구성된다. 상기 고정탭(336)은 도 3에 도시한 프로브(16)의 본체부(22)의, 아암부(24)의 형성측과는 반대측의 측부에, 제1 연결부(34)를 통하여 연결하는 구조를 갖는다.

그리고, 제1 지지판(351)은 타원형 형상을 갖고, 제2 지지판(353)은 원형의 형상을 갖는다.

그리고, 제1 지지판(351)의 아래에는 희생층(42)의 일부인, 제1 지지판(351)의 길이방향으로 이간되는 2개의 희생층 부분(42c, 42d)이 형성되어 제1 지지부와 제2 지지부가 형성된다. 제2 지지판(353)의 아래에는 희생층(42)의 일부인 희생층 부분(42e)이 형성되어 제3 지지부가 형성된다. 즉, 제1 지지판(351)과 제2 지지판(353)의 아래의, 서로 이간되는 3개의 희생층 부분(42c, 42d, 42e)가 고정탭(336)을 기판 위에 지지하는 3개의 지지부를 구성하고 있다.

그 결과, 제1 지지판(351) 및 제2 지지판(353)의 아래의, 이들을 서로 이간하는 희생층 부분(42c, 42d, 42e)의 형성에 의해, 기대 위의 프로브(16)와 그 프로브(16)에 연결되는 고정탭(336)이, 3개의 지지부에 의한, 고정탭(336)의 3점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 실현한다.

또한, 고정탭(336)의 제2 연결부(352)는 직선형상으로 형성된다.

그리고, 타원형상의 제1 지지판(351)의 길이방향과 제2 연결부(352)가 직교하도록 제2 지지판(353)이 배치된다. 도 11의 예에서는 상술한 제1 지지판(351)의 상방측에 제2 지지판(353)이 설치되는 구조를 갖는다. 그 결과, 도 11에 도시한 예에서는 희생층 부분(42c)의 중심 부분과 희생층 부분(42d)의 중심 부분을 연결하는 직선이, 희생층 부분(42d)의 중심 부분과 희생층 부분(42e)의 중심 부분을 연결하는 직선과 직교하게 된다.

고정탭(336)의 제1 지지판(351), 제2 지지판(353) 및 제2 연결부(352)가 상술한 바와 같은 구조를 갖게 되고, 고정탭(336)을 지지하는 희생층 부분(42c, 42d, 42e)에 응력이 가해져도, 그것을 연결하는 제1 지지판(351)의 부분 및 제2 연결부(352)로 그 응력이 효율 좋게 빠져나가게 할 수 있다. 그 결과, 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법은 프로브(16)의 기대로부터의 탈락을 방지하고 우수한 제조수율로 프로브의 제조를 실시한다. 그리고 또한, 기대 위에서의 고정탭(336)의 형성 면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

도 12는 본 발명의 제2 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제4 예를 모식적으로 도시하는 평면도이다.

도 12에 제4 예로서 도시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(436)은, 상술한 바와 같이 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제3 공정의 후, 제4 공정의 에칭처리에 의해 형성된다. 또한, 도 12에서는 프로브(16)의 형상을 모식적으로 나타낸다.

그리고, 도 12에 도시한 바와 같이 고정탭(436)은 제1 연결부(34)를 통하여 프로브(16)에 연결하는 제1 지지판(451)과, 제2 연결부(352)를 통하여 제1 지지판(451)에 연결하는 제2 지지판(353)을 포함하여 구성된다. 즉, 고정탭(436)은 제 1 지지판(451), 제2 지지판(353), 및 제1 지지판(451)과 제2 지지판(353) 사이를 연결하는 제2 연결부(352)를 구비하여 구성된다. 상기 고정탭(436)은 도 3에 도시한 프로브(16) 본체부(22)의, 아암부(24)의 형성측과는 반대측의 측부에, 제1 연결부(34)를 통하여 연결하는 구조를 갖는다.

그리고, 제1 지지판(451)은 도 11의 제3 예의 제1 지지판(351)과 동일한 타원형 형상을 갖고, 또한 희생층 부분(42c)의 형성부분과 희생층 부분(42d)의 형성부분 사이의 중앙부분에 개구부(460)를 갖고 있다. 이와 같은 개구부(460)를 설치함으로써, 제2 실시형태의 프로브 제조방법의 제4 공정의 에칭처리에서, 희생층 부분(42c) 및 희생층 부분(42d)의 형성을 촉진할 수 있다.

이와 같은 개구부(460)를 제1 지지판(451)에 설치하는 이외에, 고정탭(436)은 도 11의 제3 예의 고정탭(336)과 동일한 구조를 갖는다.

고정탭(436)의 제1 지지판(451)이 개구부(460)를 구비한 상술한 구조를 가짐으로써, 제4 공정에서 원하는 형상의 희생층(42c, 42d)의 형성을 촉진할 수 있다. 그리고, 고정탭(436)을 지지하는 희생층 부분(42c, 42d, 42e)에 응력이 가해져도, 그것을 연결하는 제1 지지판(451)의 부분 및 제2 연결부(352)로 그 응력이 효율좋게 빠져나갈 수 있다. 그리고 또한, 기대 위에서의 고정탭(436)의 형성면적을 보다 작게 할 수 있어 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

실시형태 3

상술한 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법은, 도중의 공정에서 제조되는, 기대 위의 프로브 및 고정탭에서의 고정탭이, 프로브 본체부의 측부에 연결되는 구조를 갖는다. 그리고, 2개의 지지부에 의한, 고정탭의 2점 지지에 의해, 프로브와 그에 연결되는 고정탭이 기대 위에 고정 부착되는 구조를 갖고 있었다.

이에 대하여, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브 및 고정탭에서, 고정탭이 프로브의 아암부에 설치된 개구부 내에 배치되고, 프로브와 연결되는 구조를 갖는다. 그리고, 기대 위의 프로브 및 고정탭은 복수의 지지부에 의한, 고정탭의 복수점 지지에 의해, 프로브와 고정탭이 그 기대 위에 고정 부착되는 구조를 갖는다.

본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 도중의 공정에서 제조되는, 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 상술한 구조인 것 이외에, 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일해진다. 즉, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 상술한 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제5 공정을 갖는다. 그리고, 제4 공정의 후, 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭이, 복수의 지지부에 의한, 고정탭의 복수점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착된 상태로 제조된다.

그 때문에, 제1 공정에서는 상술한 바와 동일한 방법으로 레지스트의 오목부의 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을, 고정탭이 프로브의 아암부에 설치된 개구부 내에 배치되는 구조에 대응하는 형상으로 한다. 그 결과, 제2 공정에서는 상술한 바와 동일한 방법에 따라, 프로브 및 그 프로브에 연결되는 고정탭의 형상이, 상술한 구조에 대응하는 형상이 된다. 그리고, 제4 공정에서 상술한 바와 동일한 방법에 의해, 기대 위의 프로브와 그 프로브의 아암부에 설치된 개구부 내에 배치되고 프로브에 연결되는 고정탭이, 2개의 지지부에 의한, 고정탭의 2점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 실현한다.

따라서, 이하의 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법의 설명에서는 주로 도중의 공정에서 제조되는, 기대 위의 프로브와 그 프로브에 연결되는 고정탭의 형상에 대해서 설명한다. 그 때, 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 공통되는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하도록 하고 중복되는 설명은 생략한다.

본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법에서는 제1 실시형태와 동일하게, 예를 들어 상술한 도 3에 도시한 구조의 프로브(16)를 높은 수율로 제조할 수 있다.

도 13은 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제1 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 13은 특징이 명확해지도록 고정탭(36) 등을 모식적으로 도시하고 있고, 예를 들어 프로브(16)에 대한 고정탭(36)의 크기의 비율은 도 13에 도시한 것에 한정되는 것은 아니고 적절하게 변경할 수 있는 것이 된다.

도 13에 예시되는, 기대(도시되지 않음) 위에 형성되는 프로브(16)와 고정탭(536)은 상술한 바와 같이 제1 실시형태의 프로브 제조방법과 동일한 제1 공정~제3 공정의 후, 제4 공정의 에칭 처리에 의해 형성된다. 그리고, 제5 공정에 의해 프로브(16)와 고정탭(536)이 분리되고, 도 3에 도시한 것과 동일한 프로브(16)를 얻을 수 있다.

전체적으로 평판 형상을 나타내는 프로브(16)는 도 3에도 도시한 바와 같이, 개구부(30)를 구비한 본체부(22)와, 본체부(22)의 하단으로부터 횡방향으로 연장되는 아암부(24)와, 아암부(24)의 선단으로부터 세로방향 즉 하방으로 연장되는 바늘끝부(26)를 구비하며, 바늘끝부(26)의 선단에 바늘끝(26a)이 형성되어 있다.

아암부(24)에는 본체부(22)와 바늘끝부(26) 사이에서, 프로브(16)의 판두께 방향으로 관통하고 또한 아암부(24)의 길이방향으로 신장되는 개구부(28)가 형성되어 있다. 상기 개구부(28)에 의해 아암부(24)는 서로 간격을 두고 병행하는 한 쌍의 아암부분(24a, 24b)으로 구획되어 있다. 개구부(28)의 일단은 본체부(22)에 도달하고 있다.

도 13에 도시한 제1 예에서는 고정탭(536)은 프로브(16)의 아암부(24)의 개구부(28) 내에 배치되고, 프로브(16)의 본체부(22)의 개구부(28)를 형성하는 측부와 연결하는 구조를 갖는다.

그리고, 도 13에 도시한 바와 같이 고정탭(536)은 제1 연결부(534)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 제1 지지판(551)과, 제2 연결부(552)를 통하여 제1 지지판(551)에 연결되는 제2 지지판(553)을 포함하여 구성된다. 즉, 고정탭(536)은 제1 지지판(551), 제2 지지판(553), 및 제1 지지판(551)과 제 2 지지판(553) 사이를 연결하는 제2 연결부(552)를 구비하여 구성된다.

고정탭(536)의 제1 지지판(551) 및 제2 지지판(553)의 아래에는 희생층(42)의 일부인 희생층 부분(42f, 42g)이 각각 형성되고, 그것이 2개의 지지부를 구성하고 있다. 즉, 제1 지지판(551)의 아래에는 희생층 부분(42f)이 제1 지지부로서 형성되고, 제2 지지판(553)의 아래에는 희생층 부분(42g)이 제2 지지부로서 형성되어 있다.

이상의 기대 위의 고정탭(36)의 구조는 제1 실시형태의 프로브 제조방법의 도중의 공정에서 제조되는, 도 6의 고정탭(36)의 구조와 동일하다.

그 결과, 제1 지지판(551) 및 제2 지지판(553)의 아래의 이들 희생층 부분(42f, 42g)의 형성에 의해, 기대 위의 프로브(16)와 그 프로브(16)에 연결되는 고정탭(536)이 2개의 지지부에 의한, 고정탭(536)의 2점 지지에 의해 기대 위에 고정부착되는 구조를 실현한다.

고정탭(536)이 제1 지지판(551)과 지지판(553)으로 이루어지고, 이들이 제2 연결부(5520에 의해 연결되는 구조를 가짐으로써 고정탭(536)의 제1 지지판을 지지하는 희생층 부분(42f)과 제2 지지판을 지지하는 희생층 부분(42g)에 응력이 가해져도, 이를 연결하는 제2 연결부(152)로 그 응력이 빠져나갈 수 있다. 그 결과, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 프로브(16)의 기대로부터의 탈락을 방지하고, 우수한 제조수율로 프로브(16)의 제조를 실시할 수 있다.

또한, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 기대 위에 형성하는 고체탭(536)을, 프로브(16)의 아암부(24)의 개구부(28) 내에 배치함으로써, 기대 위에서의 프로브(16)와 고정탭(536)의 형성면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

그리고, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은 제4 공정에서 도 13에 도시한 기대 위의 프로브(16)와 고정탭(536)을 제조한 후, 상술한 제1 실시형태 및 제2 실시형태와 동일하게, 기대로부터의 프로브(16)의 분리를 실시할 수 있다. 즉, 실시형태의 프로브 제조방법은 제4 공정에서 희생층 부분(42f, 42g)이 잔존하는 상태로 에칭처리를 종료한 후, 제5 공정에서 프로브(16)를 고정탭(536)의 제1 지지판(551)로부터 분리하여 기대로부터 분리한다.

상기 제5 공정에서는 프로브(16)에 종래와 같은 강한 박리력을 작용시키지 않고 프로브(16)를 기대로부터 분리할 수 있다. 상기 프로브(16)를 고정탭(36)으로부터 분리하는 데에는 상술한 제1 실시형태 및 제2 실시형태와 동일하게, 예를 들어 핀셋, 스패츌러 또는 나이프와 같은 공구로 프로브(16)를 아래로부터 유지하고,이를 전체적으로 들어올림으로써 제1 연결부(534)의 최소폭 부분에서 꺾을 수 있다. 또한, 프로브(16)를 형성하는 프로브 금속재료가 자성재료인 경우, 프로브(16)의 취급에 자석을 사용할 수 있다.

이상과 같이 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법에서는 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브(16)와 고정탭(536)에서, 고정탭(536)이 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치되고, 프로브(16)와 연결되는 구조를 갖지만, 고정탭(536)의 구조는 도 13에 도시된 것에 한정되는 것은 아니다. 고정탭(536)은 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치되고, 희생층 부분(42f, 42g)에 의한 2점 지지의 구조를 실현하는 것이면 다양한 구조를 가질 수 있다.

이하, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법의 도중의 공정에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭의 구조의 다른 예에 대해서 구체적으로 설명한다.

도 14는 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제2 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

도 14에 도시한 제2 예에서는 고정탭(636)의 구조만이 도 13에 도시한 제1 예와 다르고, 그 밖의 공통인 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 붙여 중복되는 설명은 생략한다. 또한, 후술하는 도 15에 도시한, 제3 예에 대해서도 동일하다.

기대 위의 형성되는 고정탭(636)은 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치되고, 프로브(16) 본체부(22)의 개구부(28)를 형성하는 측부와 연결되는 구조를 갖는다.

그리고, 도 14에 도시한 바와 같이, 고정탭(636)은 제1 연결부(634)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 제1 지지판(651)을 포함하여 구성된다. 제1 지지판(651)은 타원형 형상을 갖는다.

제1 지지판(651)의 아래에는 희생층(42)의 일부인, 제1 지지판(651)의 길이방향으로 이간되는 2개의 희생층 부분(42f, 42g)이 형성되어 제1 지지부 및 제2 지지부가 형성된다. 즉, 제1 지지판(651)의 아래의 2개의 희생층 부분(42f, 42g)이 고정탭(636)을 기판 위에 지지하는 2개의 지지부를 구성하고 있다.

그 결과, 제1 지지판(651) 아래의 희생층 부분(42f, 42g)에 의해 기대 위의 프로브(16)와 그 프로브(16)에 연결되는 고정탭(636)이 고정탭(636)의 2점 지지에 의해 기대 위에 고정 부착되는 구조를 실현한다.

고정탭(636)의 제1 지지판(651)이 상술한 바와 같은 구조를 가짐으로써, 고정탭(636)을 지지하는 희생층 부분(42f, 42g)에 응력이 가해져도, 이를 연결하는 제1 지지판(651)의 부분으로 그 응력이 효율 좋게 빠져나갈 수 있다. 그 결과, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법은, 프로브(16)의 기대로부터의 탈락을 방지하고 우수한 제조 수율로 프로브(16)의 제조를 실시할 수 있다.

또한, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법에서는 기대 위에 형성하는 고정탭(636)을 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치함으로써 기대 위에서의 프로브(16)와 고정탭(636)의 형성 면적을 보다 작게 할 수 있고, 기대 위에 의해 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

그리고, 도 14의 기대 위의 프로브(16)와 고정탭(636)은 상술한 도 13의 제1 예와 동일하게, 기대로부터의 프로브(16)의 분리를 실시할 수 있다.

도 15는 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법으로 기대 위에 형성되는 프로브와 고정탭의 제3 예를 모식적으로 도시한 평면도이다.

기대 위의 형성되는 고정탭(736)은 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치되고, 프로브(16) 본체부(22)의 개구부(28)를 형성하는 측부와 연결하는 구조를 갖는다.

그리고, 도 15에 도시한 바와 같이 고정탭(736)은 제1 연결부(734)를 통하여 프로브(16)에 연결되는 제1 지지판(751)을 포함하여 구성된다. 제1 지지판(751)은 도 14의 제2 예의 제1 지지판(651)과 동일한 타원형 형상을 갖는다. 그리고, 제1 지지판(751)은 또한 희생층(42)의 잔존 부분인 희생층 부분(42f)의 형성부분과, 희생층(42)의 잔존 부분인 희생층 부분(42g)의 형성부분과의 사이의 중앙부분에 개구부(760)을 갖고 있다. 이와 같은 개구부(760)을 설치함으로써 제3 실시형태의 프로브 제조방법의 제4 공정의 에칭처리에서, 희생층 부분(42f) 및 희생층 부분(42g)의 형성을 촉진할 수 있다.

이와 같은 개구부(760)를 제1 지지판(751)에 설치하는 이외에, 고정탭(736)은 도 14의 제2 예의 고정탭(636)과 동일한 구조를 갖는다.

고정탭(736)의 제1 지지판(751)이 개구부(760)를 구비한 상술한 구조를 가짐으로써 제4 공정의 에칭처리에서 원하는 형상의 희생층(42f, 42g)의 형성을 촉진할 수 있다.

그리고, 고정탭(736)을 지지하는 희생층 부분(42f, 42g)에 응력이 가해져도 이를 연결하는 제1 지지판(751)의 부분으로 그 응력이 효율 좋게 빠져나갈 수 있다. 그 결과, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법에서는 프로브(16)의 기대로부터의 탈락을 방지하여, 우수한 제조수율로 프로브(16)를 제조할 수 있다.

또한, 본 발명의 제3 실시형태의 프로브 제조방법에서는 기대 위에 형성되는 고정탭(736)을 프로브(16)의 아암부(24)에 설치된 개구부(28) 내에 배치함으로써 기대 위에서의 프로브(16)와 고정탭(736)의 형성 면적을 보다 작게 할 수 있고 기대 위에 보다 많은 프로브(16)를 형성할 수 있다.

그리고, 도 15의 기대 위의 프로브(16)와 고정탭(736)은 상술한 도 13의 제1 예와 동일하게, 기대로부터의 프로브(16)의 분리를 실시할 수 있다.

(실시예)

이하, 실시예에 기초하여 본 발명의 실시형태를 보다 구체적으로 설명한다. 그러나, 본 발명은 이들 실시예에 의해 전혀 한정되는 것은 아니다.

본 발명의 실시예에서는 상술한 본 발명의 제1 실시형태의 프로브 제조방법에 따라서 프로브를 제조했다.

그리고, 제조공정의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭은 도 3 및 도 6에 도시한 것이 되도록 했다.

우선, 표면이 에칭에 의해 경면 처리된 실리콘 결정 기판을 기대로서 준비했다.

준비된 기대 위에, 스퍼터법에 의해 동으로 이루어진 희생층을 형성했다.

다음에, 희생층 위에, 스핀코트법에 의해, 감광성 재료로 이루어진 포토레지스트 재료를 균일한 두께로 도포하고, 감광성의 레지스트층을 형성했다. 이어서, 레지스트층에 대하여 마스크를 사용한 선택 노광을 실시하고, 그 후 현상을 실시했다. 상기 마스크는 프로브, 고정탭, 및 프로브와 고정탭을 연결하는 제1 연결부를 포함하는 그들 전체의 평면형상에 대응하는 패턴을 갖는다. 상기 마스크 패턴의 레지스트층으로의 전사에 의해 기대 위에는 프로브, 제1 연결부 및 고정탭으로 이루어진, 그들의 전체적인 평면형상에 대응한 평면형상을 갖는 오목부를 구비한 레지스트가 형성되었다.

다음에, 레지스트의 오목부 내에 니켈로 이루어진 프로브 재료를, 전주법(전기 도금법)에 의해 퇴적했다. 그리고, 오목부 내의 희생층 위에 고정 부착되도록 프로브, 제1 연결부 및 고정탭을 형성했다.

다음에 레지스트를 제거하고, 희생층의 웨트에칭 처리를 실시했다. 그리고, 상기 에칭처리에 의해, 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 희생층의 일부에 의해 기대 위에 지지된 프로브 및 고정탭을 형성했다. 기대 위의 프로브 및 고정탭은 도 6에 도시한 구조를 갖는다. 즉, 프로브는 고정탭의 제1 지지판 아래의 제1 지지점인 희생층 부분 및 제2 지지판 아래의 제2 지지점인 희생층 부분을 사용하여, 기대 위에 유지된 구조가 된다.

다음에 핀셋을 사용하여 프로브를 아래로부터 유지하고, 이를 전체적으로 들어올림으로써 제1 연결부에서 꺾어, 프로브를 고정탭으로부터 분리함으로써 기대로부터 분리하여 프로브를 제조했다.

이상의 프로브를 제조하는 실시예에서 제조 도중의 프로브의 기대로부터의 낙하율은 2.1%로 작은 값이었다.

다음에, 제조공정의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭이 도 7에 도시한 것이 되도록 한 이외에는, 상술한 예와 동일한 방법에 따라서 프로브를 제조했다. 제조 도중의 프로브의 기대로부터의 낙하율은 1.6%로 작은 값이었다.

다음에, 제조공정의 도중 단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭이 도 8에 도시한 것이 되도록 한 이외에는, 상술한 예와 동일한 방법에 따라서 프로브를 제조했다. 제조 도중의 프로브의 기대로부터의 낙하율은 2.1%로 작은 값이었다.

다음에, 비교예로서 제조공정의 도중단계에서 제조되는 기대 위의 프로브와 고정탭이 도 1에 도시한 것이 되도록 한 이외에는, 상술한 예와 동일한 방법에 따라 프로브를 제조했다. 또한, 프로브의 형상은 도 3에 도시한 것과 동일하게 했다. 그 결과, 제조 도중의 프로브의 기대로부터의 낙하율은 4.5%가 되고 상술한 본 발명의 실시예와 비교하여 큰 값이었다.

또한, 본 발명은 상기 각 실시형태에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 변형하여 실시할 수 있다.

본 발명에 따르면, 높은 생산성으로 프로브를 제조할 수 있어, 높은 생산성으로 전기적 접속장치를 제조할 수 있다. 따라서, 본 발명의 전기적 접속장치는 생산성의 향상이 강하게 요구되는 민생용 전자기기에 사용되는 반도체 장치의 검사에 특히 유효하다.

10: 프로브 조립체 12: 배선기판
12a: 하면 14: 프로브 기판
14a: 면 16, 1001: 프로브
22: 본체부 22a: 부착단
24: 아암부 24a, 24b: 아암 부분
26: 바늘끝부 26a: 바늘끝
28, 30, 460, 760: 개구부 32, 1005: 기대
34, 534, 634, 734: 제1 연결부 34a: 취약부분
36, 36-2, 36-3, 136, 236, 336, 436, 536, 636, 736, 1002: 고정탭
42: 희생층
42a, 42b, 42c, 42d, 42e, 42f, 42g: 희생층 부분
46: 레지스트 46a: 오목부
51, 151, 351, 451, 551, 651, 751: 제1 지지판
52, 52-2, 52-3, 152, 352, 552: 제2 연결부
53, 153, 353, 553: 제2 지지판
161, 161-2: 제3 연결부 162: 제3 지지판
1003: 지지부 1004: 연결부

Claims (21)

1. 프로브의 제조방법에 있어서,
   기대 위에 배치된 희생층 위에 상기 희생층이 노출되는 오목부를, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,
   상기 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결하는 상기 고정탭을 형성하는 제2 공정,
   상기 레지스트를 제거하는 제3 공정,
   에칭처리에 의해 상기 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 상기 희생층의 일부에 의해 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및
   상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하는 제5 공정
   을 구비하고,
   상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭은 상기 프로브에 연결되는 제1 지지판과, 상기 제1 지지판에 연결되는 제2 지지판을 구비하여 구성되고, 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판은 각각, 제4 공정의 상기 에칭처리에 의해 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분이 제거되었을 때, 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판 아래의 상기 희생층 부분이 남기에 충분한 평면형상을 갖고,
   제1 공정은 상기 프로브 및 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판을 갖는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록 상기 오목부를 형성하고,
   제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하고, 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기도록 이루어지며, 상기 제1 지지판의 아래에 잔존하는 상기 희생층 부분과, 상기 제2 지지판의 아래에 잔존하는 상기 희생층 부분을 2점의 지지점으로 하여, 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하며,
   제5 공정은 상기 프로브와 상기 고정탭의 상기 제1 지지판과의 사이를 분리하고, 상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하도록 구성되는 프로브의 제조방법.
2. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정탭을 상기 기대 위에 지지하는 상기 2점의 지지점은 각각이 서로 이간되고, 또한 상기 기대의 면과 평행인 단면이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 단면 형상을 갖고,
   제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 상기 2점의 지지점의 각각이 상기 단면 형상을 갖고 구성되도록, 상기 오목부의 상기 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
   상기 고정탭은 제1 연결부를 통하여 상기 프로브에 연결되고 또한 상기 제1 지지판과 상기 제2 지지판과 연결하는 제2 연결부를 구비하며,
   상기 제2 연결부는 직선, 곡선 또는 이들의 조합으로 이루어진 형상을 갖고,
   제1 공정은 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제2 연결부를 갖는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
4. 제 1 항에 있어서,
   제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하고 또한 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판의 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기도록 이루어지며, 상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판의 아래에 잔존하는 3점 이상의 복수의 상기 희생층 부분을 3점 이상의 복수의 지지점으로 하여, 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 프로브의 제조방법.
5. 제 4 항에 있어서,
   상기 고정탭을 상기 기대 위에 지지하는 상기 복수의 지지점은 각각이 서로 이간되고 또한 상기 기대의 면과 평행인 단면이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 단면 형상을 갖고,
   제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 상기 복수의 지지점의 각각이 상기 단면 형상을 갖고 구성되도록, 상기 오목부의 상기 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
6. 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,
   상기 고정탭은 제1 연결부를 통하여 상기 프로브에 연결하고 또한 상기 제1 지지판과 상기 제2 지지판을 연결하는 제2 연결부를 갖고,
   상기 제2 연결부는 직선, 곡선 또는 이들의 조합으로 이루어진 형상을 가지며,
   제1 공정은 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제2 연결부를 갖는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
7. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로방향으로 신장되어 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판형상을 이루고,
   상기 제1 지지판 및 상기 제2 지지판은 각각, 상기 본체부의 면적보다 큰 면적을 갖고,
   제1 공정은 상기 오목부의 상기 본체부에 대응하는 부분의 평면형상의 면적보다도 상기 고정탭에 대응하는 부분의 평면형상의 면적이 커지도록, 상기 오목부를 형성하는 프로브의 제조방법.
8. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로 방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로방향으로 신장되어 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판형상을 이루고,
   상기 고정탭은 상기 프로브의 상기 본체부의 측부에 연결되는 구조를 갖고,
   제1 공정은 상기 프로브 및 상기 프로브의 상기 본체부의 측부에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부를 형성하는 프로브의 제조방법.
9. 제 1 항에 있어서,
   상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로방향으로 신장되고 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판형상을 이루고,
   상기 프로브의 상기 아암부는 상기 본체부와 상기 바늘끝부 사이에서, 상기 프로브의 두께 방향으로 관통하고, 또한 상기 아암부의 길이방향으로 신장되는 개구부가 설치되며,
   상기 고정탭은 상기 프로브의 상기 아암부의 상기 개구부 내에 배치되어, 상기 프로브와 연결되는 구조를 갖고,
   제1 공정은 상기 프로브 및 상기 프로브의 상기 아암부의 상기 개구부 내에 배치되어 상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부를 형성하는 프로브의 제조방법.
10. 프로브의 제조방법에 있어서,
    기대 위에 배치된 희생층 위에 상기 희생층이 노출되는 오목부를, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,
    상기 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결하는 상기 고정탭을 형성하는 제2 공정,
    상기 레지스트를 제거하는 제3 공정,
    에칭처리에 의해 상기 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 상기 희생층의 일부에 의해 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및
    상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하는 제5 공정
    을 구비하고,
    상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭은 상기 프로브에 연결되는 제1 지지판과, 상기 제1 지지판에 연결되는 제2 지지판과 상기 제2 지지판에 연결되는 제3 지지판을 구비하여 구성되고, 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제3 지지판은 각각, 제4 공정의 상기 에칭처리에 의해 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분이 제거되었을 때, 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제3 지지판 아래의 상기 희생층 부분이 남기에 충분한 평면형상을 갖고,
    상기 제1 공정은 상기 프로브 및 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제3 지지판을 갖는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부를 형성하며,
    제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하고 또한 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판 및 상기 제3 지지판의 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기게 되며, 상기 제1 지지판의 아래에 잔존하는 상기 희생층 부분, 상기 제2 지지판의 아래에 잔존하는 상기 희생층 부분 및 상기 제3 지지판의 아래에 잔존하는 상기 희생층 부분을 3점의 지지점으로 하여, 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하고,
    제5 공정은 상기 프로브와 상기 고정탭의 상기 제1 지지판과의 사이를 분리하고, 상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하도록 구성되는 프로브의 제조방법.
11. 제 10 항에 있어서,
    상기 고정탭을 상기 기대 위에 지지하는 상기 3점의 지지점은 각각이 서로 이간되고, 또한 상기 기대의 면과 평행인 단면이 원, 타원, 다각형 및 별모양으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 단면 형상을 갖고,
    제1 공정은 제4 공정의 에칭처리에 의해 상기 3점의 지지점 각각이 상기 단면 형상을 갖고 구성되도록, 상기 오목부의 상기 고정탭의 평면형상에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서,
    상기 고정탭은 제1 연결부를 통하여 상기 프로브에 연결하고, 또한 상기 제1 지지판과 상기 제2 지지판을 연결하는 제2 연결부와, 상기 제2 지지판과 상기 제3 지지판을 연결하는 제3 연결부를 구비하고,
    상기 제2 연결부 및 상기 제3 연결부는 서로 독립적으로 직선, 곡선 또는 그 조합으로 이루어진 형상을 갖고,
    제1 공정은 상기 제1 지지판, 상기 제2 지지판, 상기 제3 지지판, 상기 제2 연결부 및 상기 제3 연결부를 갖는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하는 프로브의 제조방법.
13. 프로브의 제조방법에 있어서,
    기대 위에 배치된 희생층 위에 상기 희생층이 노출되는 오목부를, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,
    상기 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결하는 상기 고정탭을 형성하는 제2 공정,
    상기 레지스트를 제거하는 제3 공정,
    에칭처리에 의해 상기 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 상기 희생층의 일부에 의해 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및
    상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하는 제5 공정
    을 구비하고,
    상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로 방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로 방향으로 신장되어 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하고, 전체적으로 판 형상의 형상을 이루며,
    상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭은 복수의 지지판과, 상기 복수의 지지판 사이를 연결하는 하나 이상의 연결부를 구비하여 구성되고, 상기 복수의 지지판은 각각, 상기 프로브의 상기 본체부의 면적보다 큰 면적을 갖고,
    제1 공정은 상기 고정탭의 평면형상에 대응하여 상기 오목부의 상기 프로브의 상기 본체부에 대응하는 부분의 평면형상의 면적보다 상기 고정탭에 대응하는 부분의 평면형상의 면적이 커지도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하여 상기 오목부를 형성하고,
    제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하는 한편, 상기 고정탭의 상기 복수의 지지판 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기고, 잔존하는 상기 희생층 부분을 복수의 지지점으로 하여, 상기 기대 위에 지지되는 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는, 프로브의 제조방법.
14. 프로브의 제조방법에 있어서,
    기대 위에 배치된 희생층 위에 상기 희생층이 노출되는 오목부를, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,
    상기 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결하는 상기 고정탭을 형성하는 제2 공정,
    상기 레지스트를 제거하는 제3 공정,
    에칭처리에 의해 상기 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 상기 희생층의 일부에 의해 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및
    상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하는 제5 공정
    을 구비하고,
    상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로방향으로 신장되고 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판형상을 이루고,
    상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭은 복수의 지지판과, 상기 복수의 지지판 사이를 연결하는 하나 이상의 연결부를 구비하여 구성되고, 상기 고정탭은 상기 프로브의 상기 본체부의 측부에 연결되는 구조를 갖고,
    제1 공정은 상기 프로브 및 상기 프로브의 상기 본체부의 측부에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하여 상기 오목부를 형성하고,
    제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하는 한편, 상기 고정탭의 상기 복수의 지지판 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기고, 잔존하는 상기 희생층 부분을 복수의 지지점으로 하여 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는, 프로브의 제조방법.
15. 프로브의 제조방법에 있어서,
    기대 위에 배치된 희생층 위에 상기 희생층이 노출되는 오목부를, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결되는 고정탭의 평면형상에 대응하도록 레지스트로 형성하는 제1 공정,
    상기 오목부 내에 프로브 재료를 퇴적하고, 상기 프로브 및 상기 프로브에 연결하는 상기 고정탭을 형성하는 제2 공정,
    상기 레지스트를 제거하는 제3 공정,
    에칭처리에 의해 상기 희생층의 일부를 남기고 그 잔부를 제거하고, 그 잔존하는 상기 희생층의 일부에 의해 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는 제4 공정, 및
    상기 프로브를 상기 기대로부터 분리하는 제5 공정
    을 구비하고,
    상기 고정탭이 연결하는 상기 프로브는 본체부와, 상기 본체부로부터 가로 방향으로 연장되는 아암부와, 상기 아암부에 일체적으로 설치되고, 상기 아암부로부터 세로방향으로 신장되고 그 선단에 바늘이 설치되는 바늘끝부를 구비하며, 전체적으로 판 형상을 이루고,
    상기 프로브의 상기 아암부는 상기 본체부와 상기 바늘끝부 사이에서, 상기 프로브의 두께방향으로 관통하고, 또한 상기 아암부의 길이방향으로 신장되는 개구부가 설치되며,
    상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭은 복수의 지지판과, 상기 복수의 지지판 사이를 연결하는 하나 이상의 연결부를 구비하여 구성되고, 상기 고정탭은 상기 프로브의 상기 아암부의 상기 개구부 내에 배치되어 상기 프로브와 연결되는 구조를 갖고,
    제1 공정은 상기 프로브 및 상기 프로브의 상기 아암부의 상기 개구부 내에 배치되어 상기 프로브에 연결되는 상기 고정탭의 평면형상에 대응하도록, 상기 오목부의 상기 고정탭에 대응하는 부분을 형성하여 상기 오목부를 형성하고,
    제4 공정은 상기 프로브 아래의 상기 희생층 부분을 남기지 않고 제거하는 한편, 상기 고정탭의 상기 복수의 지지판 각각의 아래에 상기 희생층 부분을 남기고, 잔존하는 상기 희생층 부분을 복수의 지지점으로 하여 상기 기대 위에 지지된 상기 프로브 및 상기 고정탭을 형성하는, 프로브의 제조방법.
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