KR101491523B1 - 화상 형성 방법, 화상 형성 장치, 표면성 개질 시트, 및열전사 시트 - Google Patents

화상 형성 방법, 화상 형성 장치, 표면성 개질 시트, 및열전사 시트 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화상 형성 방법, 화상 형성 장치, 표면성 개질 시트, 및 열전사 시트에 관한 것으로서, 기록지의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하여 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하는 것을 과제로 한다.
본 발명은 기록지(1)를 소정 방향으로 반송하는 반송 수단(2, 3, 4)과, 기록지(1)의 표면에 화상을 형성하기 위한 염료층과 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트(5)를 소정 방향으로 주행시키는 열전사 시트 주행 수단(6, 7)과, 열전사 시트(5)가 기록지(1)의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부와 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트(8)를 이동시키는 개질 시트 이동 수단(9, 10)과, 기록지(1)의 표면에 열전사 시트(5) 또는 표면성 개질 시트(8)를 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 염료층, 보호재층을 차례로 기록지(1) 상으로 열전사하고, 보호층의 표면 상태를 개질하는 서멀 헤드(11)를 구비하여 이루어진다.

Description

화상 형성 방법, 화상 형성 장치, 표면성 개질 시트, 및 열전사 시트{METHOD AND APPARATUS FOR FORMING IMAGE, SURFACE-PROPERTY-MODIFYING SHEET, AND THERMAL TRANSFER SHEET}
본 발명은, 열전사(熱轉寫) 시트를 사용하여 피기록 매체에 화상을 형성하고, 또한 이 화상의 표면을 보호하는 보호층을 형성하는 화상 형성 방법 및 화상 형성 장치에 관한 것으로서, 상세하게는, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하여 광택성, 매트조(調) 또는 엠보스조(調) 등을 부여하는 화상 형성 방법 및 화상 형성 장치 및 거기에 사용하는 표면성 개질 시트, 열전사 시트에 관한 것이다.
종래의 화상 형성 장치로서, 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체에 전사시켜서 화상을 형성하는 승화형(昇華型, dye sublimation type)의 장치가 있다. 이 장치에서는, 상기 피기록 매체에 형성된 화상의 표면을 보호하기 위해 투명한 보호층이 화상 상에 더 형성된다. 이 보호층은, 구체적으로는, 화상 열화의 요인이 되는 가스로부터 화상을 차단하는 기능, 자외선을 흡수하여 화상의 변색 및 퇴색을 방지하는 기능, 화상을 형성하고 있는 염료 등이 지우개 등의 각종 가소성(可塑性) 을 포함하는 물품으로 이행하는 것을 방지하는 기능, 화상의 마모를 방지하는 기능, 피지(皮脂)로부터 보호하는 기능 등을 가지고 있다.
전술한 보호층은, 예를 들면, 리본형의 베이스재 시트에 적층하여 형성되어 있고, 서멀 헤드(thermal head)에 의해 화상 상으로 열전사된다. 이 화상 상으로 열전사되는 것에 의해, 화상의 보호 외에, 피기록 매체의 컬(curl) 등을 방지할 수 있다. 또한, 상기 보호층은, 서멀 헤드를 사용하여 열전사될 때, 이 서멀 헤드로부터의 열에너지를 임의로 변화시킴으로써 미소한 요철 패턴을 형성하고, 그 표면을 임의로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등으로 표면 가공 처리되는 것도 있다.
그리고, 종래의 화상 형성 장치는, 열가소성의 베이스재 상에 염료를 수용하는 수용층이 형성된 피기록 매체를 반송하고, 시트 상에 염료층과 보호층이 주행 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를 주행시키고, 상기 피기록 매체의 수용층과 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 상기 피기록 매체의 수용층으로 열전사하여 화상을 형성하고, 이 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호층을 상기 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하도록 되어 있었다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).
[특허 문헌 1] 일본국 특개 2007-76332호 공보
그러나, 전술한 종래의 화상 형성 장치에서의 보호층 일체형의 열전사 시트에서는, 화상을 형성하기 위한 염료층은, 베이스재 시트 상에 직접 형성되거나, 또는 베이스재 시트 사이에 이접착층(易接着層)으로 불리우는, 접착을 안정화시키기 위한 층을 끼워서 형성되어 있다. 또한, 베이스재 시트의 배면(염료층이 형성되는 면과는 반대측의 면)에는, 인화 시의 서멀 헤드와 열전사 시트와의 마찰을 저감시키고, 열전사 시트의 안정된 주행을 시키는 것 등을 주목적으로 한 내열활성층(耐熱滑性層)이 형성되어 있는 것이 일반적이다.
한편, 화상을 보호하기 위한 보호층은, 피기록 매체로 열전사할 때의 전사성을 고려하여, 베이스재 시트 상의 이접착층 상에 박리층이 설치되고, 이 박리층을 통하여 베이스재 시트 상에 형성되어 있다. 그리고, 피기록 매체로의 보호층의 전사 시에는 상기 박리층과 보호층의 계면에서 박리가 생기고, 박리층은 열전사 시트 측에 남고, 보호층 만이 피기록 매체에 열전사되어 인화물을 보호한다. 이 보호층과 박리층에 대해서는, 이들 계면에서 박리되기 용이한 재료의 조합을 사용하고 있으며, 보호층이 열전사 시트로부터 피기록 매체에 전사될 때는, 이 보호층과 상기 박리층과의 계면에서 계면 박리가 된다. 이와 같이 하여 피기록 매체 상에 형성된 화상에서는, 그 최상층에 보호층이 형성된 구성으로 되어 있고, 그 표면이 어느 정도 평활하기 때문에, 광택성을 가진 인화물을 얻을 수 있도록 되어 있었다.
그러나, 전술한 보호층의 박리를 위한 박리층은, 베이스재 시트 상의 이접착 층 상에 수지를 도포 및 건조하여 형성한 것이므로, 평활성은 충분하지 않다. 그리고, 보호층이 열전사 시트로부터 전사되었을 때의 박리면은, 상기 박리층 표면의 평활성이 영향을 주므로, 인화물 최상층의 보호층 표면의 평활성도 충분하지 않게 된다. 따라서, 종래의 화상 형성 장치에서 얻어진 인화물에서는, 그 광택성은 충분한 것이 아니라, 일반적인 은염 사진의 광택성과 비교하여 뒤떨어지는 레벨이었다. 그리고, 컬러 사진과 같은 자연 화상의 인화물의 경우에는, 이 인화물의 표면 마무리로서는, 광택성의 요구에 더하여, 매트조 또는 엠보스조 등의 요구도 있다.
그래서, 본 발명은, 이와 같은 문제점에 대처하고, 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하여 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하고자 하는 화상 형성 방법 및 화상 형성 장치 및 거기에 사용하는 표면성 개질 시트, 및 열전사 시트를 제공하는 것을 목적으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에 의한 화상 형성 방법은, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 단계와, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면에 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 단계와, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하는 단계와, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하는 단계와, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키는 단계와, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 표면성 개질 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 단계를 행한다.
이와 같은 구성에 의해, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면에 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를 소정 방향으로 주행시키고, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가한다. 또한, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키 고, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 표면성 개질 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질한다.
또한, 다른 수단에 의한 화상 형성 방법은, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 단계와, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 단계와, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하는 단계와, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상에 열전사하는 단계와, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 열전사 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 열전사 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 단계를 행한다.
이와 같은 구성에 의해, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보 호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 열전사 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 열전사 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질한다.
그리고, 본 발명에 의한 화상 형성 장치는, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 반송 수단과, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면에 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 열전사 시트 주행 수단과, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부와 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키는 개질 시트 이동 수단 과, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하는 서멀 헤드를 구비하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질한다.
이와 같은 구성에 의해, 반송 수단에 의해 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 열전사 시트 주행 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 개질 시트 이동 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부와 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키고, 서멀 헤드에 의해, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질한다.
또한, 다른 수단에 의한 화상 형성 장치는, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 반송 수단과, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 열전사 시트 주행 수단과, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하는 서멀 헤드를 구비하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질한다.
이와 같은 구성에 의해, 반송 수단에 의해 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 열전사 시트 주행 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기 록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 서멀 헤드에 의해, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질한다.
또한, 본 발명에 의한 표면성 개질 시트는, 리본형의 베이스재 시트에, 화상 형성 장치의 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호재층의 표면 상태를 개질하기 위한 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가, 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된다.
이와 같은 구성에 의해, 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 사용하여, 화상 형성 장치의 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에 상기 표면성 개질부를 가열 및 가압하여 표면 상태를 개질한다.
그리고, 본 발명에 의한 열전사 시트는, 리본형의 베이스재 시트에, 화상 형성 장치의 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가, 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 것이다.
이와 같은 구성에 의해, 염료층 및 보호재층 및 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를 사용하여, 화상 형성 장치의 피기록 매체의 표면에 상기 염료층을 열전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면에 상기 보호재층을 전사하여 그 화상을 보호하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에 상기 표면성 개질부를 가열 및 가압하여 표면 상태를 개질한다.
청구항 1에 따른 화상 형성 방법에 의하면, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키고, 상기 피기록 매체의 화상 위에 형성된 보호층과 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 표면성 개질 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부의 종류에 따라, 상기 보호층의 표면 상태에 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 2에 따른 발명에 의하면, 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 인화용 개구부가 설치된 표면성 개질 시트에 의해, 이 인화용 개구부를 서멀 헤드의 위치로 이동시켜서, 이 인화용 개구부를 이용하여 열전사 시트와 피기록 매체를 직접 접촉시켜 화상을 형성할 수 있다.
또한, 청구항 3에 따른 발명에 의하면, 서멀 헤드에 의해 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 가열하는 것은, 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도 근방의 온도로 가열함으로써, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층은, 약간 연화된 상태에서 표면성 개질부와 밀착된 상태가 되므로, 보호층의 표면 상태를 표면성 개질부의 접촉면의 표면 상태에 근접한 표면성으로 개질할 수 있다.
또한, 청구항 4에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 이 보호층의 표면 상태에 광택성을 부여하는 것에 의해, 표면 광택성이 양호한 인화물을 얻을 수 있다.
또한, 청구항 5에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 이 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것에 의해, 매트조 또는 엠보스조 등의 표면 상태로 마무리된 인화물을 얻을 수 있다.
또한, 청구항 6에 따른 화상 형성 방법에 의하면, 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 열전사 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 열전사 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 열전사 시트의 표면성 개질부의 종류에 따라 상기 보호층의 표면 상태로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 7에 따른 발명에 의하면, 서멀 헤드에 의해 열전사 시트의 표면성 개질부를 가열하는 것은, 상기 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도 근방의 온도로 가열함으로써, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층이, 약간 연화한 상태로 표면성 개질부와 밀착된 상태가 되므로, 보호층의 표면 상태를 표면성 개질부의 접촉면의 표면 상태에 근접한 표면성으로 개질할 수 있다.
또한, 청구항 8에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 그 보호층의 표면 상태에 광택성을 부여하는 것에 의해, 표면 광택성이 양호한 인화물을 얻을 수 있다.
또한, 청구항 9에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 그 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것에 의해, 매트조 또는 엠보스조 등의 표면 상태로 마무리된 인화물을 얻을 수 있다.
또한, 청구항 10에 관한 화상 형성 장치에 의하면, 반송 수단에 의해 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 열전사 시트 주행 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층이 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 개질 시트 이동 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부와 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질 하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 표면성 개질 시트를 이동시키고, 서멀 헤드에 의해, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부의 종류에 따라 상기 보호층의 표면 상태로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 11에 따른 발명에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 표면에 하나의 색 또는 복수 색의 염료층과, 보호재층이 차례로 형성되고, 각 염료층 및 보호재층의 근방에는 각각 위치 검출 마크가 설치된 열전사 시트에 대하여, 그 위치 검출 마크를, 열전사 시트의 주행 경로의 도중에 구비된 검출 수단에 의해 검출할 수 있다. 따라서, 열전사 시트에 형성된 염료층과 보호재층의 위치를 검출하여, 원하는 염료층 또는 보호재층을 서멀 헤드의 위치에 맞출 수 있다.
또한, 청구항 12에 따른 발명에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 표면에 피기록 매체에 형성된 보호층에 대하여 하나 또는 상이한 표면 상태로 개질하기 위한 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가 차례로 형성되고, 인화용 개구부 및 각 표면성 개질부의 근방에는 각각 위치 검출 마크가 설치된 표면성 개질 시트에 대하 여, 그 위치 검출 마크를, 표면성 개질 시트의 이동 경로의 도중에 구비된 검출 수단에 의해 검출할 수 있다. 따라서, 표면성 개질 시트에 형성된 인화용 개구부와 표면성 개질부의 위치를 검출하여, 인화용 개구부 또는 원하는 표면성 개질부를 서멀 헤드의 위치에 맞출 수가 있다.
또한, 청구항 13에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하는 표면성 개질 시트의 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하여 인화물의 표면 상태를 광택 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 14에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 표면성 개질 시트의 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하여 인화물의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 15에 관한 화상 형성 장치에 의하면, 반송 수단에 의해 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하고, 열전사 시트 주행 수단에 의해, 리본형의 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층 및 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층 및 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키고, 서멀 헤드에 의해, 상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하고, 상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 그 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 열전사 시트의 표면성 개질부의 종류에 따라 상기 보호층의 표면 상태로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 16에 따른 발명에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 표면에 하나의 색 또는 복수 색의 염료층과, 보호재층과, 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가 차례로 형성되고, 각 염료층 및 보호재층 및 각 표면성 개질부의 근방에는 각각 위치 검출 마크가 설치된 열전사 시트에 대하여, 그 위치 검출 마크를, 열전사 시트의 주행 경로의 도중에 구비된 검출 수단에 의해 검출할 수 있다. 따라서, 열전사 시트에 형성된 염료층 및 보호재층 및 표면성 개질부의 위치를 검출하여, 원하는 염료층 또는 보호재층 또는 표면성 개질부를 서멀 헤드의 위치에 맞출 수 있다.
또한, 청구항 17에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하는 열전사 시트의 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하여 인화물의 표면 상태를 광택 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 18에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호 하는 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 열전사 시트의 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하여 인화물의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 19에 따른 표면성 개질 시트에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부를, 화상 형성 장치의 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에, 화상 형성 장치의 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 표면성 개질부의 종류에 따라 상기 보호층의 표면 상태로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 20에 따른 발명에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 차례로 형성된 인화용 개구부 및 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부의 근방에 각각 설치된 위치 검출 마크를 이용하여, 표면성 개질 시트에 형성된 인화용 개구부 및 각 표면성 개질부의 위치를 검출할 수 있다.
또한, 청구항 21 또는 청구항 22에 따른 발명에 의하면, 화상 형성 장치의 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도 근방에 의해 내열성을 가지는 수지 필름으로 이루어지는 표면성 개질부를, 서멀 헤드에 의해 가열해도, 그 가열에 의해 표면성 개질부가 열화되지 않고 상기 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다.
또한, 청구항 23에 따른 발명에 의하면, 화상 형성 장치의 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도 근방에 의해 상기 보호재층의 표면과 비접착이 되도록 이형 처리가 행해진 표면성 개질부를, 서멀 헤드에 의해 가열하더라도, 표면성 개질 부를 상기 보호층의 표면으로부터 박리할 수 있다.
또한, 청구항 24에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하는 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하여 인화물의 표면 상태를 광택 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 25에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하여 인화물의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 26에 따른 열전사 시트에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 염료층 및 보호재층 및 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부를, 화상 형성 장치의 서멀 헤드를 사용하여, 피기록 매체의 표면에 상기 염료층을 열전사하여 화상을 형성하고, 상기 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면에 상기 보호재층을 열전사하여 그 화상을 보호하고, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에 상기 표면성 개질부를 가열 및 가압하여 표면 상태를 개질할 수 있다. 그리고, 상기 표면성 개질부의 종류에 따라 상기 보호층의 표면 상태로 광택성, 매트조 또는 엠보스조 등을 부여하여 인화물의 표면 상태를 개질할 수 있다.
그리고, 청구항 27에 따른 발명에 의하면, 리본형의 베이스재 시트의 표면에 차례로 형성된 하나의 색 또는 복수 색의 염료층과 보호재층과 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부의 근방에 각각 설치된 위치 검출 마크를 이용하여, 열전사 시 트에 형성된 각 염료층 및 보호재층 및 각 표면성 개질부의 위치를 검출할 수 있다.
또한, 청구항 28에 따른 발명에 의하면, 표면성 개질부를 베이스재 시트 자체의 노출 부분으로 함으로써, 표면성 개질부의 재료를 절감할 수 있고, 또한 열전사 시트의 제조를 용이하게 할 수 있다.
또한, 청구항 29에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하는 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태로 광택성을 부여하여 인화물의 표면 상태를 광택 마무리할 수 있다.
또한, 청구항 30에 따른 발명에 의하면, 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 표면성 개질부에 의해, 상기 보호층의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리하여 인화물의 표면 상태를 매트조 또는 엠보스조로 마무리할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부 도면을 참조하여 상세하게 설명한다.
도 1은, 본 발명에 따른 화상 형성 방법에 사용하는 화상 형성 장치의 제1 실시예를 나타내는 개요도이다. 이 화상 형성 장치(예를 들면, 서멀 프린터)는, 열전사 시트를 사용하여 피기록 매체에 화상을 형성하고, 또한 그 화상의 표면을 보호하는 보호층을 형성하는 것이며, 기록지(1)를 유지하는 플라텐 롤러(2)와 핀치 롤러(3)와, 캡스턴 롤러(4)와, 열전사 시트(5)의 공급릴(6)과 권취릴(7)과, 표면성 개질 시트(8)의 공급릴(9)과 권취릴(10)과 서멀 헤드(11)를 구비하고 있다.
그리고, 이하의 설명에 있어서는, 롤형으로 감겨진 기록지(1)에 화상을 형성(이하 “인화”라고 할 경우가 있다)하는 경우에 대하여 설명한다.
상기 기록지(1)는, 상기 화상 형성 장치에서 화상을 형성하는 피기록 매체가 되는 것이며, 예를 들면, 승화 전사용 인화지 등으로 이루어진다. 여기서, 플라텐 롤러(2)는, 인화 시에 기록지(1)를 유지하는 것이다. 또한, 핀치 롤러(3)와 캡스턴 롤러(4)는, 기록지(1)를 협지하여 서로 반대 방향으로 동기 회전하여 기록지(1)를 소정 방향으로 급송(給送)하거나, 또는 그것과 반대 방향으로 되감는 것이다. 그리고, 플라텐 롤러(2)와 핀치 롤러(3)와 캡스턴 롤러(4)와 도시하지 않은 롤러 구동 기구로, 기록지(1)를 소정 방향으로 반송하는 반송 수단을 구성하고 있다.
그리고, 나중의 설명의 편의를 위하여, 기록지(1)의 반송 방향을 다음과 같이 정의한다. 즉, 화상이 형성된 기록지(1)가 화상 형성 장치로부터 밖으로 출력되기 위해 반송되는 순 방향 A를 “하류측”, 그 역방향 B를 “상류측”으로 정의한다.
열전사 시트(5)는, 상기 화상 형성 장치에서 기록지(1)의 표면에 염료를 열전사하여 화상을 형성하는 것이며, 도 2에 나타낸 바와 같이, 리본형의 베이스재 시트(12)에, 기록지(1)의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 하나의 색 또는 복수 색의 염료층(13)과, 기록지(1)의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층(14)이, 베이스재 시트(12)의 길이 방향으로 나란히 형성되어 있고, 통상, 잉크 리본으로 불리우는 것이다. 그리고, 보호재층(14)은, 기록지(1)의 표면에 형성된 화상의 내마모성, 내약품성 등을 향상시킨 다. 또한, 이 보호재층(14)에 자외선 흡수제를 첨가함으로써, 화상의 내광성을 향상시킬 수도 있다. 또한, 보호재층(14)으로서는, 폴리스틸렌 수지 등의 종래 공지된 열가소성 수지를 사용할 수 있으며, 또한 보호재층(14)을 구성하는 층의 하나로서 기록지(1) 및 그 표면에 형성된 화상 표면으로의 보호재층(14)의 접착성을 양호하게 하기 위한 접착층을, 그 상부층(보호재층으로서의 최상층)에 설치한 복수 층으로 이루어지는 구성으로 할 수도 있다. 그리고, 본 실시예에서는, 폴리스틸렌 수지 및 그 상층의 아크릴 변성 수지로 이루어지는 2층 구조의 보호재층(14)을 사용하고 있다.
즉, 도 2의 (b)에서, 리본형의 베이스재 시트(12)의 배면 측에는 내열활성층(15)이 형성되고, 베이스재 시트(12)의 표면 측에는 이접착층(16)이 형성되어 있고, 이 이접착층(16)의 위에, 기록지(1)의 표면에 승화 전사 또는 용융 전사 등에 의해 화상을 형성하는, 예를 들면, 옐로우(Y), 마젠타(M), 시안(C)의 각 색의 염료층(13y, 13m, 13c)과, 기록지(1)의 표면에 형성된 화상을 보호하는 보호재층(14)이 소정의 두께로 나란히 형성되어 있다. 그리고, 보호재층(14)의 하면과 이접착층(16) 사이에는, 박리층(17)이 개재되어 있다. 그리고, 도 2의 (a)에 나타낸 바와 같이, 이들 염료층(13y, 13m, 13c)과 보호재층(14)의 4개의 영역을 하나의 구성 단위로 하여, 이들 구성 단위를 사용하여 하나의 컬러 화상 또는 흑백 화상을 형성하게 되어, 복수개의 인화가 가능하도록, 열전사 시트(5)의 길이 방향(감는 방향)을 따라 이들 구성 단위가 반복적으로 형성되어 있다. 그리고, 염료층(13)으로서는, 옐로우(Y), 마젠타(M), 시안(C) 이외에 블랙(Bk)을 추가하여 구비해도 되고, 또는 블랙(Bk)만이라도 된다.
그리고, 도 2에서, 인용 부호 18y는 옐로우(Y)의 염료층(13y)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 19y는 이 염료층(13y)의 후미 위치를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 18m은 마젠타(M)의 염료층(13m)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 19m은 이 염료층(13m)의 후미 위치를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 18c는 시안(C)의 염료층(13c)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 19c는 이 염료층(13c)의 후미 위치를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 18L은 보호재층(14)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 19L은 이 보호재층(14)의 후미 위치를 나타내고 있다.
또한, 도 2에서, 인용 부호 21y는 염료층(13y, 13m, 13c)과 보호재층(14)의 4개의 영역을 조합하서 하나의 구성 단위로 한 영역 전체의 선두인 염료층(13y)의 위치를 검출하기 위해 염료층(13y)의 근방에 설치된 잉크 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 21m은 염료층(13m)의 위치를 검출하기 위해 염료층(13m)의 근방에 설치된 잉크 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 21c는 염료층(13c)의 위치를 검출하기 위해 염료층(13c)의 근방에 설치된 잉크 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 21L은 보호재층(14)의 위치를 검출하기 위해 보호재층(14)의 근방에 설치된 보호재층 위치 검출 마크를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 21y’는 복수개의 염료층(13)과 보호재층(14)으로 이루어지는 하나의 구성 단위에 계속되는 다음 구성 단위의 선두인 염료층(13y)의 위치를 검출하기 위해 염료층(13y)의 근방에 설치된 다른 잉크 위치 검출 마크를 나타내고 있다.
그리고, 전술한 각각의 위치 검출 마크는, 리본형의 베이스재 시트(12)를 횡 단하여 형성된 선형의 마킹이며, 예를 들면, 구성 단위의 선두인 염료층(13y)의 위치를 나타내는 잉크 위치 검출 마크(21y, 21y’)는 2개의 선으로 이루어지고, 각 염료층(13m, 13c)의 위치를 나타내는 잉크 위치 검출 마크(21m, 21c) 및 보호재층(14)의 위치를 나타내는 보호재층 위치 검출 마크(21L)는 하나의 선으로 되어 있다.
이와 같이 구성된 열전사 시트(5)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 공급릴(6)과 권취릴(7) 사이에 걸쳐져서 도시하지 않은 리본 카세트에 수납되어 있고, 상기 리본 카세트가 장치 본체 내에 장착 및 분리 가능하게 되어 있다. 그리고, 상기 리본 카세트가 장치 본체 내에 장착되면, 열전사 시트(5)는, 플라텐 롤러(2)와 서멀 헤드(11)에 끼워져 기록지(1)의 반송에 동기하여 화살표 C 방향으로 주행되도록 되어 있다. 여기서, 공급릴(6)과 권취릴(7)에 의해, 열전사 시트(5)를 소정 방향으로 주행시키는 열전사 시트 주행 수단을 구성하고 있다. 그리고, 열전사 시트(5), 공급릴(6) 및 권취릴(7)은, 반드시 리본 카세트에 수납되어 있지 않아도 되고, 각각을 장치 본체의 소정 위치에 세트하여 동작시키는 구성이라도 상관없다.
그리고, 열전사 시트 주행 수단에 의한 열전사 시트(5)의 주행 경로의 도중에는, 광센서(22)가 설치되어 있다. 이 광센서(22)는, 열전사 시트(5)의 각종 위치 검출 마크(21y, 21y’； 21m, 21c, 21L)를 검출하는 검출 수단이 되는 것이며, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기록지(1)로의 인화 시의 서멀 헤드(11)의 위치로부터 화살표 C로 나타내는 주행 방향으로 미리 정해진 거리만큼 이격된 위치에 설치되어 있다. 이에 따라, 각종의 위치 검출 마크(21y, 21y’； 21m, 21c, 21L)가 검출되 었을 때, 도 2에 나타낸 각 염료층(13y, 13m, 13c) 및 보호재층(14)의 위치가 서멀 헤드(11)의 기록 부위와 일치하게 된다.
표면성 개질 시트(8)는, 상기 화상 형성 장치에서 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하는 것으로, 도 3에 나타낸 바와 같이, 리본형의 베이스재 시트(23)에, 열전사 시트(5)가 기록지(1)의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부(24)와, 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부(25a, 25b, 25c)가, 베이스재 시트(23)의 길이 방향으로 나란히 형성되어 있다.
베이스재 시트(23)는, 그 자체가 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질 부재가 되는 것이며, 소정 길이의 리본형으로 형성되어 있다. 그리고, 이 베이스재 시트(23)는, 상기 화상 형성 장치의 열전사 시트(5)의 보호재층(14)의 유리 전이 온도 Tg 근방에서 내열성을 가지는 수지 필름으로 이루어지고, 예를 들면, 폴리이미드 필름으로 이루어진다. 구체적으로는, 두께 25㎛정도의 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제)라는 폴리이미드 필름을 이용하면 된다. 이 폴리이미드 필름의 표면성은 극히 평활하기 때문에, 기록지(1)에 형성된 화상의 보호층의 표면 상태는 이 폴리이미드 필름의 표면 상태에 근접하여 평활한 상태가 된다.
또한, 베이스재 시트(23)의 표면성 개질부(25a, 25b, 25c)는, 화상 형성 장치의 열전사 시트(5)의 보호재층(14)의 유리 전이 온도 Tg 근방에서, 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면과 비접착이 되도록 이형(離型) 처리가 행해 져 있는 것이 바람직하다. 이에 따라, 기록지(1)에 형성된 화상의 보호층의 표면 개질 처리 후에 표면성 개질 시트(8)를 박리할 때, 상기 보호층 내부에서의 응집 파괴에 의한 박리 불량이 일어나지 않고, 기록지(1)의 보호층과 표면성 개질부(25a, 25b, 25c)의 계면에서의 양호한 계면 박리가 가능하게 된다. 따라서, 표면 개질 처리 후의 기록지(1)에 형성된 화상의 보호층 표면은 극히 양호한 마무리 상태가 된다.
그리고, 베이스재 시트(23)는, 전술한 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제)에 한정되지 않고, 예를 들면, 카프톤(상표명: 듀퐁사 제) 등의 다른 폴리이미드나, 폴리술폰, 폴리에테르이미드 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 표면 개질 처리 시의 온도에서 충분한 내열성을 가지는 슈퍼 엔지니어링 플라스틱 재료나, 고성능 플라스틱 재료 등을 사용해도 된다.
인화용 개구부(24)는, 기록지(1)에 화상을 형성할 때 열전사 시트(5)가 기록지(1)의 표면에 직접 접촉하도록 하는 것이며, 예를 들면, 평면 형상이 직사각형으로 형성되고, 베이스재 시트(23)의 폭 방향으로 연장되는 폭 W(도 3의 (a) 참조)는 서멀 헤드(11)의 주 주사 방향(도 1의 지면과 수직인 방향)의 길이보다 약간 크게 되어 있고, 베이스재 시트(23)의 길이 방향으로 연장되는 길이 L(도 3의 (a) 참조)은 서멀 헤드(11)의 부 주사 방향(도 1의 지면과 평행한 방향)의 폭보다 약간 크게 되어 있다. 이에 따라, 기록지(1)의 통상의 인화 시 및 보호층 형성 시에는, 인화지(1)에 대하여 열전사 시트(5)를 통하여 서멀 헤드(11)가 가압되어, 인화지(1) 및 열전사 시트(5)를 이동시키면서 서멀 헤드(11)를 사용하여 화상을 형성하고, 다시 그 위에 보호층을 형성하는 인화 동작을 행할 수 있다.
그리고, 인화용 개구부(24)의 폭 W나 길이 L은, 반드시 서멀 헤드(11)의 주 주사 방향의 길이나 부 주사 방향의 폭보다 크지않아도 되고, 예를 들면, 적어도 서멀 헤드(11)에서 인화용 히터(도시하지 않음)의 형성부 및 그 주위의 볼록형의 글레이즈(26)가 형성된 영역보다 폭 및 길이가 각각 크게 되어 있으면 된다.
표면성 개질부(25a, 25b, 25c)는, 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하는 것이며, 예를 들면, 각 보호층에 대하여 상이한 표면 상태로 개질하기 위해 복수 종류가, 인화용 개구부(24)에 인접하여 차례로 형성되어 있다. 예를 들면, 제1 표면성 개질부(25a)는 광택성을 부여하는 광택 마무리용이며, 제2 표면성 개질부(25b)는 매트조 마무리용이며, 제3 표면성 개질부(25c)는 질감이 상이한 매트조 마무리용(또는 엠보스조 마무리용)이다. 그리고, 개질하는 표면 상태의 종류나 배열순 등은 전술한 것으로 한정되지 않고, 예를 들면, 어느 하나 만의 표면성 개질부를 설치해도 되고, 기록지(1)에 형성된 화상의 보호층의 표면 개질 처리에 사용되는 빈도의 예상에 따라, 예를 들면, 광택 마무리용 만을 복수 개소 배치해도 된다.
그리고, 도 3에서, 인용 부호 27a는 제1 표면성 개질부(25a)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 28a는 표면성 개질부(25a)의 후미 위치를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 27b는 제2 표면성 개질부(25b)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 28b는 표면성 개질부(25b)의 후미 위치를 나타내고 있다. 또한, 인용 부호 27c는 제3 표면성 개질부(25c)의 선두 위치를 나타내고, 인용 부호 28c는 표면성 개질 부(25c)의 후미 위치를 나타내고 있다.
또한, 도 3에서, 인용 부호 29는 인화용 개구부(24)의 선두 위치를 검출하기 위해 인화용 개구부(24)의 근방에 설치된 개구부 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 30a는 제1 표면성 개질부(25a)의 선두 위치를 검출하기 위해 표면성 개질부(25a)의 근방에 설치된 개질부 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 30b는 제2 표면성 개질부(25b)의 선두 위치를 검출하기 위해 표면성 개질부(25b)의 근방에 설치된 개질부 위치 검출 마크를 나타내고, 인용 부호 30c는 제3 표면성 개질부(25c)의 선두 위치를 검출하기 위해 표면성 개질부(25c)의 근방에 설치된 개질부 위치 검출 마크를 나타내고 있다.
그리고, 각각의 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)는, 베이스재 시트(23)에 소정 크기의 관통 구멍을 형성한 마킹 구멍으로 이루어진다. 여기서, 개구부 위치 검출 마크(29)는 2개의 마킹 구멍으로 이루어지고, 각 개질부 위치 검출 마크(30a, 30b, 30c)는 하나의 마킹 구멍의 위치를 바꾸어서 구별하고 있다.
이와 같이 구성된 표면성 개질 시트(8)는, 도 1에 나타낸 바와 같이, 공급릴(9)과 권취릴(10) 사이에 걸쳐져 있고, 장치 본체 내에 장착 및 분리 가능하게 되어 있다. 그리고, 공급릴(9) 및 권취릴(10) 사이에 걸쳐진 표면성 개질 시트(8)가 장치 본체 내에 장착되면, 표면성 개질 시트(8)는, 열전사 시트(5)와 함께 플라텐 롤러(2)와 서멀 헤드(11)에 끼워져 기록지(1)의 반송에 동기하여 화살표 D 및 화살표 E 방향으로 이동되도록 되어 있다. 여기서, 공급릴(9)과 권취릴(10)에 의해, 표면성 개질 시트(8)를 이동시키는 개질 시트 이동 수단을 구성하고 있다.
그리고, 상기 개질 시트 이동 수단에 의한 표면성 개질 시트(8)의 이동 경로의 도중에는, 메커니컬 센서(31)가 설치되어 있다. 이 메커니컬 센서(31)는, 표면성 개질 시트(8)의 각종 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)를 검출하는 검출 수단이 되는 것이며, 도 1에 나타낸 바와 같이, 기록지(1)로의 인화 시의 서멀 헤드(11)의 위치로부터 화살표 D로 나타내는 이동 방향으로 미리 정해진 거리만큼 이격된 위치에 설치되어 있다. 이에 따라, 각종 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)가 검출되었을 때, 도 3에 나타내는 인화용 개구부(24) 및 제1 표면성 개질부 내지 제3 표면성 개질부(25a, 25b, 25c)의 위치가 서멀 헤드(11)의 기록 부위와 일치하게 된다.
여기서, 메커니컬 센서(31)의 구체적인 구조 및 동작에 대하여, 도 4∼도 6을 참조하여 설명한다. 도 4는, 도 1에 나타낸 화상 형성 장치에 대응하는 구체적인 기구를 나타내는 구조도이며, 동일 개소에는 동일한 인용 부호를 부여하고 있다. 메커니컬 센서(31)는, 예를 들면, 서멀 프린터의 하우징(도시하지 않음)에 장착된 센서 기판(35)에 조립 장착되어 있다. 그리고, 메커니컬 센서(31)가 표면성 개질 시트(8)의 표면에 접촉하는 선단부에는, 지지축(36)으로 지지된 롤러(37)가 회전 가능하게 설치되어 있다.
도 5는, 센서 기판(35)에 조립된 메커니컬 센서(31)의 내부 구조를 나타낸 상면도 (a) 및 정면도 (b)이다. 센서 기판(35)에는, 예를 들면, 가늘고 긴 판형의 액츄에이터(38)가 일측에 치우친 지점축(39)에 의해 요동 가능하게 지지되어 있다. 이 액츄에이터(38)의 일측단, 예를 들면, 좌측단에는, 지지축(36)으로 지지되어 롤 러(37)가 표면성 개질 시트(8)의 이동에 종동하여, 회전 가능하게 설치되어 있다. 이 경우, 도 5의 (a)에 나타내는 바와 같이, 액츄에이터(38) 및 롤러(37)는, 표면성 개질 시트(8)에 설치된 각각의 개질부 위치 검출 마크(30a, 30b, 30c)가 표면성 개질 시트(8)의 이동에 따라 통과하는 경로 상에 위치하도록 설치되어 있다. 또한, 도 5의 (b)에 나타낸 바와 같이, 지점축(39)은 액츄에이터(38)의 우측방에 치우친 상태로 지지하고 있으므로, 액츄에이터(38)는, 자기 중량 및 롤러(37)의 중량에 의한 밸런스에 의해 좌측단이 힘 F로 아래쪽으로 가압되어 있다. 이 가압력은, 표면성 개질 시트(8)가 변형되지 않는 정도의 크기로 되어 있다. 그리고, 필요에 따라 적합한 강도의 스프링을 부가하여 가압시켜도 된다.
액츄에이터(38)의 타측단부, 예를 들면, 우측단부의 양 사이드에는, 도 5의 (a)에 나타낸 바와 같이, 발광 다이오드 등의 발광부(40a)와, 포토 센서 등의 수광부(40b)가 설치되어 있다. 그리고, 발광부(40a)와 수광부(40b)를 연결하는 광축의 도중에, 액츄에이터(38)의, 예를 들면, 우측 단부가 요동하여 차단하게 되어 있다. 이 상태에서, 액츄에이터(38)와 롤러(37)와 발광부(40a) 및 수광부(40b)에 의해, 메커니컬 센서(31)를 구성하고 있다.
다음에, 이와 같이 구성된 메커니컬 센서(31)의 동작에 대하여, 도 5 및 도 6을 참조하여 설명한다. 도 5는, 도 3에 나타낸 표 면성 개질 시트(8)의 제1 표면성 개질부(25a)의 선두 위치를 검출하기 위한 개질부 위치 검출 마크(30a)를 검출하기 전의 상태를 나타내고, 메커니컬 센서(31)의 롤러(37)는, 표면성 개질 시트(8)의 화살표 E 방향의 이동에 따라, 그 표면에 접촉하여 종동 회전하고 있다. 이 때는, 도 5의 (b)에 나타낸 바와 같이, 액츄에이터(38)의, 예를 들면, 우측 단부는 요동하지 않고, 발광부(40a)와 수광부(40b)를 연결하는 광축을 차단하고 있지는 않다.
표면성 개질 시트(8)의 화살표 E 방향의 이동에 따라, 도 6의 (b)에 나타낸 바와 같이, 메커니컬 센서(31)의 롤러(37)의 위치에 개질부 위치 검출 마크(30a)가 진행되어 오면, 도 5의 (b)에 나타내는 가압력 F에 의해 롤러(37)가, 개질부 위치 검출 마크(30a)로서의 마킹 구멍 내에 떨어진다. 이에 따라, 액츄에이터(38)의 우측단부가 화살표 U와 같이 윗방향으로 요동하여, 도 6의 (a)에 나타내는 발광부(40a)와 수광부(40b)를 연결하는 광축을 차단한다. 이에 따라, 메커니컬 센서(31)의 위치에 개질부 위치 검출 마크(30a)가 진행되어 온 것을 검출하고, 표면성 개질 시트(8)의 제1 표면성 개질부(25a)의 선두 위치를 검출할 수 있다.
그리고, 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)와 메커니컬 센서(31)의 조합은, 각각의 위치를 검출하는 기능이 있으면 되고, 그 외의 수단의 조합이라도 된다. 예를 들면, 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)는, 관통구멍이 아니라 베이스재 시트(23)의 표면에 인쇄된 차광 마크로 하고, 메커니컬 센서(31)를 광투과 센서로 바꾸어서 이들을 조합시켜도 된다. 혹은, 차광 마크와 반사 센서 또는 반사판과의 조합이라도 된다. 또한, 베이스재 시트(23)가 차광성이 높을 경우에는, 관통구멍과 광투과 센서와의 조합이라도 된다.
도 7은, 표면성 개질 시트(8)의 다른 실시예를 나타내는 설명도이다. 본 실시예는, 복수개의 표면성 개질부(25a, 25b, 25c) 사이에, 복수개의 인화용 개구 부(24a, 24b)를 설치한 것이다. 도 7에서는, 표면성 개질부와 인화용 개구부가 교대로 배치되고, 제1 인화용 개구부(24a)가 표면성 개질부(25a 또는 25b)에 인접하고, 제2 인화용 개구부(24b)가 표면성 개질부(25b 또는 25c)에 인접하고 있다. 그리고, 도 7에서, 인용 부호 29a는 제1 인화용 개구부(24a)의 선두 위치를 검출하기 위해 인화용 개구부(24a)의 근방에 설치된 개구부 위치 검출 마크(2개의 마킹 구멍)를 나타내고, 인용 부호 29b는 제2 인화용 개구부(24b)의 선두 위치를 검출하기 위해 인화용 개구부(24b)의 근방에 설치된 개구부 위치 검출 마크(3개의 마킹 구멍)를 나타내고 있다.
본 실시예의 경우는, 기록지(1)의 인화 시에는 이들 인화용 개구부(24a, 24b) 중에서, 기록지(1)에 형성된 화상의 표면 상태의 개질 종류에 따라 적절하게 그 때 사정에 따라 더 좋은 쪽을 선택할 수 있다. 예를 들면, 복수개의 화상의 인화를 행하는 경우에, 표면 상태의 개질이 질감이 상이한 매트조 마무리(25c)의 것을 연속하여 처리하고자 하는 경우에는, 제3 표면성 개질부(25c)를 사용하여 질감이 상이한 매트조 마무리의 1매 째의 표면성 개질 처리를 행한 후에, 다음 인화를 행할 때는, 제3 표면성 개질부(25c)에 인접한 제2 인화용 개구부(24b)를 선택하여 인화하도록 하면, 표면성 개질 시트(8)의 이동량이 적어도 되며, 시간적으로 효율적이다.
그리고, 본 실시예의 경우도, 개질 시트 이동 수단에 의한 표면성 개질 시트(8)의 이동 경로의 도중에는, 메커니컬 센서(31)가 설치되어 있다. 이 메커니컬 센서(31)의 구체적인 구조 및 동작은, 도 4∼도 6을 참조하여 설명한 바와 같다.
도 3 및 도 7의 실시예에서는, 표면성 개질 시트(8)는, 베이스재 시트(23) 유닛으로 이루어지는 것으로서 설명하였으나, 이에 한정되지 않고, 베이스재 시트(23)에 대하여 적절한 보강 부재를 사용하여 보강해도 된다. 예를 들면, 인화용 개구부(24)가 형성된 부분 및 인화 시에 서멀 헤드(11)의 히터부가 열전사 시트(5)를 통하여 닿는 표면성 개질부(25a, 25b, 25c) 이외의 부분에, 금속제의 보강층을 설치하거나, 그 부분의 베이스재 시트(23)를 부분적으로 두껍게 해도 된다.
도 8은, 예를 들면, 도 3에 나타낸 표면성 개질 시트(8)를 제조할 때의 단계를 나타낸 설명도이다. 먼저, 도 8의 (a)는, 도 3에서 광택 마무리용의 제1 표면성 개질부(25a)가 되는 베이스재 시트(23a)를 나타낸 평면도며, 도 8의 (b)은, 도 8의 (a)의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다. 본 실시예는, 베이스재 시트(23a) 유닛으로 이루어지는 것이며, 이 베이스재 시트(23a) 유닛으로서는, 예를 들면, 전술한 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제) 등의 폴리이미드를 사용하여 제1 표면성 개질부(25a)를 형성하는 부재를 준비한다.
다음에, 도 8의 (c)는, 도 3에서 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부(25b)가 되는 베이스재 시트(23b)를 나타낸 평면도며, 도 8의 (d)는, 도 8의 (c)의 G-G선을 따라 절단한 단면도이다. 본 실시예는, 베이스재 시트(23b) 유닛으로 이루어지는 것이며, 이 베이스재 시트(23b) 유닛으로서는, 예를 들면, 전술한 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제) 등의 폴리이미드를 사용하여, 샌드블라스트에 의한 표면 가공을 행하여 소정의 요철 표면을 형성한 상태로, 제2 표면성 개질부(25b)를 형성하는 부재를 준비한다. 그리고, 전술한 샌드블라스트에 의한 표면 가공 시의 처리 조건(예를 들면, 샌드블라스트에 사용하는 입자의 재질이나 입경, 내뿜는 압력, 그 외의 조건)을 적절하게 선택함으로써, 상이한 질감을 가지는 매트조 마무리용(25c)에 대응한 제3 표면성 개질부(25c)를 형성하는 부재를 준비할 수도 있다.
또한, 제2 표면성 개질부(25b) 또는 제3 표면성 개질부(25c)를 형성하는 부재의 다른 제조예로서는, 베이스재 시트(23b)의 표면에 의도적으로 요철을 형성한, 예를 들면, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET)로 이루어지는 시트 부재를 사용할 수도 있다. 이것은, 예를 들면, 시트 부재를 형성하기 위한 펠릿에 대하여 필러를 반죽한 것을 사용하여 시트 부재를 형성함으로써 제조 가능하며, 반죽하는 필러의 사이즈나 첨가량 등을 적절하게 조정함으로써, 매트조 마무리용(25b)이나 질감이 상이한 매트조 마무리용(25c)에 대응한 표면성 개질부를 형성할 수 있다.
또한, 제2 표면성 개질부(25b) 또는 제3 표면성 개질부(25c)를 형성하는 부재의 다른 제조예로서는, 도 9에 나타낸 바와 같이, 마무리 상태의 사양에 따라, 예를 들면, 기계 가공이나 에칭이나 방전 가공 등의 종래 공지의 방법에 의해 소정의 요철 패턴이 형성된 엠보싱 롤러 등의 형부재(32)를 사용하고, 그 소정의 요철 패턴을, 예를 들면, PET 등의 열가소성 수지로 이루어지는 베이스재 시트(23b)에 그 표면 형상을 전사해도 된다.
여기서, 도 9의 (a)는, 도 3에서 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부(25b)가 되는 베이스재 시트(23b)를 나타낸 평면도며, 도 9의 (b)는, 도 9(a)의 G-G선을 따라 절단한 단면도이다. 도 9의 (c)는, 도 9의 (b)에 나타내는 베이스재 시트(23b)의 표면에 엠보싱 롤러 등의 형부재(32)를 가압하여 요철 패턴을 전사하는 상태를 나타낸, 도 9의 (a)의 G-G선을 절단면으로 하는 단면도이다. 도 9의 (d)는, 상기 요철 패턴이 전사된 상태의 베이스재 시트(23b)를 나타낸 평면도이며, 도 9의 (e)는 도 9의 (d)의 G-G선을 따라 절단한 단면도이다.
다음에, 도 8의 (e)은, 도 8의 (a)에 나타낸 제1 표면성 개질부(25a)를 형성하는 부재가 되는 베이스재 시트(23a)의 일부에 인화용 개구부(24)를 형성한 상태를 나타낸 평면도이며, 도 8의 (f)는 도 8의 (e)의 F-F선을 따라 절단한 단면도이다. 본 실시예는, 베이스재 시트(23a)의 일부에, 인화용 개구부(24)와 같은 크기의 펀칭 부재를 가압하여 베이스재 시트(23a)를 천공한 것이다.
그리고, 도 8의 (g)는, 도 8의 (e)에 나타내는 제1 표면성 개질부(25a)를 형성하는 부재가 되는 베이스재 시트(23a)의 일부에 인화용 개구부(24)를 형성한 부재에, 도 8의 (c)에 나타내는 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부(25b)가 되는 베이스재 시트(23b)를 이어 맞춘 상태를 나타낸 평면도이며, 도 8의 (h)는, 도 8의 (g)의 H-H선을 따라 절단한 단면도이다. 본 실시예는, 베이스재 시트(23a)의 일단 테두리와 베이스재 시트(23b)의 대향하는 테두리를 접착제 등으로 이어 맞춘 것이며, 이에 따라, 1개의 시트 부재에서, 예를 들면, 인화용 개구부(24)와 제1 표면성 개질부(25a)와 제2 표면성 개질부(25b)를 일체적으로 가지는 표면성 개질 시트(8)가 제조된다.
그리고, 도 8의 실시예에서는, 하나의 베이스재 시트(23a)에 인화용 개구부(24)에 대응하는 천공부를 형성한 후에 복수개의 베이스재 시트(23a, 23b)를 이어 맞추고 있지만, 이와 반대로 복수개의 베이스재 시트(23a, 23b)를 이어 맞추어 일체화한 후에, 하나의 베이스재 시트(23a)에 인화용 개구부(24)를 형성해도 된다. 또한, 도 3에 나타내는 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)(마킹 구멍)는, 개별 베이스재 시트(23a, 23b)의 상태로 형성해도 되지만, 전술한 바와 같이 복수개의 베이스재 시트(23a, 23b)를 이어 맞추어 일체화한 후에 인화용 개구부(24)를 형성하는 경우에는, 이 인화용 개구부(24)를 형성할 때 펀칭 등에 의해 동시에 형성해도 된다.
이상의 설명은, 예를 들면, 도 3에 나타낸 표면성 개질 시트(8)를 제조할 때의 단계를 나타낸 것이지만, 도 3에서 제1 표면성 개질부(25a), 제2 표면성 개질부(25b) 및 제3 표면성 개질부(25c)의 3개를 함께 가지는 표면성 개질 시트(8)도 마찬가지로 하여 제조할 수 있다. 또한, 도 7에 나타낸 복수개의 인화용 개구부(24a, 24b)를 가지는 표면성 개질 시트(8)도, 마찬가지의 방법으로 복수개의 베이스재 시트를 이어 맞추어 제조할 수 있다.
서멀 헤드(11)는, 기록지(1)의 표면에 열전사 시트(5)의 염료층(13) 또는 보호재층(14)을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 염료층(13)과 보호재층(14)을 차례로 기록지(1) 상으로 열전사하는 것이며, 다수의 발열 소자를 열전사 시트(5)의 주행 방향(화살표 C 방향)과 거의 직교하는 방향으로 일직선 상으로 배열하고, 입력되는 화상 데이터에 기초하여 상기 발열 소자를 개별적으로 구동하여 열에너지를 발생시키고, 상기 열에너지에 의해 열전사 시트(5)의 각 염료층(13y, 13m, 13c) 및 보호재층(14)을 가열하도록 되어 있다.
그리고, 서멀 헤드(11)는, 도시하지 않은 헤드 구동 기구에 의해 구동되어, 도 1에 나타낸 화살표 J 및 K 방향으로 이동하도록 되어 있다. 이 경우, 인화 시에는, 서멀 헤드(11)는, 화살표 J 방향으로 전진하여 열전사 시트(5)를 배면으로부터 밀어올리고, 열전사 시트(5)를 플라텐 롤러(2)의 외주면을 따라 반송되는 기록지(1)와 함께 플라텐 롤러(2)에 가압한다. 또한, 대기중이거나 기록지(1)를 반대 방향 B의 상류 측으로 되감을 때는, 서멀 헤드(11)는 화살표 K 방향으로 후퇴한다.
여기서, 본 발명에서는, 기록지(1)에 열전사 시트(5)를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 이 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 표면성 개질 시트(8)의 표면성 개질부(25a, 25b 또는 25c)를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 서멀 헤드(11)에 의해 가열 및 가압하여, 기록지(1)에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하도록 되어 있다. 예를 들면, 기록지(1)에 형성된 보호층의 표면 상태에 광택성을 부여하거나 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것이다.
다음에, 이상과 같이 구성된 화상 형성 장치를 사용하여 행하는 화상 형성 방법에 대하여 설명한다. 먼저, 도 1에서, 도시하지 않은 롤러 구동 기구에 의해, 플라텐 롤러(2)와 핀치 롤러(3)로 캡스턴 롤러(4)를 구동하여, 기록지(1)를 소정 방향으로 반송하는 단계를 행한다. 이에 따라, 기록지(1)에 화상을 형성하는 위치의 선두를 찾는다. 이 때, 초기 상태에서는, 공급릴(9)과 권취릴(10)로 구성되는 개질 시트 주행 수단의 동작에 의해 표면성 개질 시트(8)을 소정 방향으로 주행시키고, 서멀 헤드(11)에서 인화용 히터 및 그 주위의 글레이즈(26)가 형성된 기록 부위에, 도 3 또는 도 7에 나타낸 인화용 개구부(24)가 위치하도록 설정된다.
다음에, 공급릴(6)과 권취릴(7)로 구성되는 열전사 시트 주행 수단의 동작에 의해 열전사 시트(5)를 화살표 C 방향으로 주행시키는 단계를 행한다. 이에 따라, 기록지(1)에 대하여 화상을 형성하는 위치에, 도 2에 나타낸 열전사 시트(5)의 각 염료층(13y, 13m, 13c) 중 어느 하나의 영역이 일치한다. 이 때, 도 1에 나타낸 광센서(22)에 의해, 열전사 시트(5)의 잉크 위치 검출 마크(21y, 21m, 21c)를 검출하여 위치맞춤을 행한다.
다음에, 기록지(1)와 열전사 시트(5) 중의 어느 하나의 염료층(13y, 13m, 13c)을 대향시킨 상태로 서멀 헤드(11)를 화살표 J 방향으로 전진시키고, 열전사 시트(5)를 배면으로부터 밀어올려 플라텐 롤러(2)에 가압하면서 서멀 헤드(11)에 의해 열에너지를 인가하고, 열전사 시트(5)의 염료층(13y, 13m, 13c)을 기록지(1)의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하는 단계를 행한다. 이에 따라, 기록지(1)에 대하여 원하는 염료층(13y, 13m, 13c)에 의해 화상이 형성된다.
다음에, 기록지(1)에 형성된 화상과 열전사 시트(5)의 보호재층(14)을 대향시킨 상태로 서멀 헤드(11)에 의해 열에너지를 인가하고, 열전사 시트(5)의 보호재층(14)을 기록지(1)에 형성된 화상 상으로 열전사하는 단계를 행한다. 이 때, 전술한 바와 마찬가지로 하여, 열전사 시트 주행 수단의 동작에 의해 열전사 시트(5)를 화살표 C 방향으로 주행시키고, 또한 광센서(22)에 의해 열전사 시트(5)의 잉크 위치 검출 마크(21y, 21m, 21c) 및 보호재층 위치 검출 마크(21L)를 검출하여 보호재층(14)의 위치를 기록지(1)에 형성된 화상에 위치맞춤시키는 단계를 동시에 행할 필요가 있다. 이 보호재층(14)의 열전사에 의해, 도 10의 (a)에 나타낸 바와 같이, 기록지(1)의 표면에 형성된 화상(33)의 표면에 보호층(34)이 형성된다. 이 상 태에서는, 보호층(34)의 표면 상태는 아직 개질되어 있지 않고, 광택성은 충분하지 않다.
기록지(1)의 화상(33)의 표면에 보호층(34)이 형성된 직후는, 도 1에 나타낸 서멀 헤드(11)의 기록 부위에는, 도 2에 나타낸 열전사 시트(5)의 보호재층(14)이 전사된 후의 후미 위치(19L)가 위치하고 있다. 그래서, 열전사 시트 주행 수단의 동작에 의해, 열전사 시트(5)를 보호재층(14)이 전사되기 전의 위치, 즉 선두 위치(18L)까지 되감는다. 이 때, 도 3에 나타낸 표면성 개질 시트(8)는, 서멀 헤드(11)의 기록 부위에는, 인화용 개구부(24)가 위치하고 있다.
다음에, 공급릴(9)과 권취릴(10)로 구성되는 개질 시트 이동 수단의 동작에 의해 표면성 개질 시트(8)를 화살표 D 또는 E 방향으로 이동시키는 단계를 행한다.
그 후, 기록지(1)의 화상(33) 상에 형성된 보호층(34)과 표면성 개질 시트(8)의 표면성 개질부(25a, 25b, 25c) 중 어느 하나를 위치맞춤하여 서멀 헤드(11)에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 표면성 개질 시트(8)를 박리하여 보호층(34)의 표면 상태를 개질하는 단계를 행한다. 즉, 도 10의 (b)에 나타낸 바와 같이, 기록지(1)의 화상(33)의 표면에 형성된 보호층(34)의 위치에, 도 3에 나타낸 표면성 개질 시트(8) 중, 예를 들면, 광택 마무리용의 제1 표면성 개질부(25a)를 선택하여 위치맞춤시킨다. 이 때, 도 1에 나타낸 메커니컬 센서(31)에 의해, 표면성 개질 시트(8)의 각종 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)를 검출하여 위치맞춤을 행한다.
이 상태에서는, 열전사 시트(5)에서의 전사된 보호재층(14)(도시하지 않음) 의 위치와, 표면성 개질 시트(8)의 제1 표면성 개질부(25a)와, 기록지(1)의 화상(33) 상에 보호층(34)이 형성된 위치가 중첩되어 있다. 이에 대해 도 1에 나타낸 서멀 헤드(11)를 화살표 J 방향으로 전진시키고, 도 10의 (c)에 나타낸 바와 같이, 통상의 인화 시와 마찬가지로 서멀 헤드(11)와 플라텐 롤러(2)에 의해 가압하고, 약 70℃∼120℃정도로 가열한 상태로, 열전사 시트(5) 및 표면성 개질 시트(8) 및 기록지(1)를 이동시키면서 표면 개질 처리를 행한다.
상기 표면 개질 처리가 행해진 후, 플라텐 롤러(2)의 회전과 함께 열전사 시트(5) 및 표면성 개질 시트(8) 및 기록지(1)가 하류측으로 이동하여 서멀 헤드(11)로부터 멀어지고, 온도가 저하되어 냉각된 상태로 표면성 개질 시트(8)가 기록지(1)로부터 박리된다. 이에 따라, 도 10의 (d)에 나타낸 바와 같이, 도 10의 (a)에 나타낸 보호층(34)의 표면 상태가 개질되어, 예를 들면, 광택성이 부여된 보호층(34’)이 형성된 인화물을 얻을 수 있다.
그리고, 도 10의 설명에서는, 표면 개질 처리 시에 사용하는 열전사 시트(5) 상의 영역은 전사가 완료된 보호재층(14)의 영역으로 하였지만, 이에 한정되지 않고, 옐로우(Y), 마젠타(M), 시안(C)의 각 색의 염료층(13y, 13m, 13c)의 전사된 영역 또는 전사되지 않은 영역을 사용해도 된다. 이들 전사가 완료 또는 전사되지 않은 각 염료층(13y, 13m, 13c)의 영역을 사용하는 경우도, 전술한 바와 마찬가지로 열전사 시트 주행 수단의 동작에 의해, 열전사 시트(5)를 각각의 염료층(13y, 13m, 13c)이 전사되기 전의 위치, 즉 각 염료층의 선두 위치(18y, 18m, 18c)까지 되감으면 된다. 이 경우, 각 염료층(13y, 13m, 13c)에 잉크가 남아 있어도, 그 잉 크는 표면성 개질 시트(8)의 배면에 전사되지만, 표면성 개질 시트(8)의 존재에 의해 기록지(1)에는 전사되지 않는다.
도 11은, 기록지(1)의 화상(33) 상에 형성된 보호층(34)에 표면성 개질 시트(8)의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 보호층(34)의 표면 상태를 개질하는 다른 실시예를 나타내는 설명도이다. 본 실시예는, 보호층(34)의 표면 상태를 매트조로 마무리하는 것이다. 도 11의 (a)의 처리는 도 10의 (a)의 처리와 동일하다. 도 11의 (b)에서는, 기록지(1)의 화상(33)의 표면에 형성된 보호층(34)의 위치에, 도 3에 나타낸 표면성 개질 시트(8) 중, 예를 들면, 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부(25b)를 선택하여 위치맞춤시킨다. 이 때, 도 1에 나타낸 메커니컬 센서(31)에 의해, 표면성 개질 시트(8)의 각종 위치 검출 마크(29, 30a, 30b, 30c)를 검출하여 위치맞춤을 행한다.
다음에, 도 11의 (c)에서는, 열전사 시트(5)에서의 전사가 완료된 보호재층(14)(도시하지 않음)의 위치와, 표면성 개질 시트(8)의 제2 표면성 개질부(25b)와, 기록지(1)의 화상(33) 상에 보호층(34)이 형성된 위치가 중첩된 상태에 대하여, 도 1에 나타낸 서멀 헤드(11)를 화살표 J 방향으로 전진시키고, 통상의 인화 시와 마찬가지로 서멀 헤드(11)와 플라텐 롤러(2)에 의해 가압하고, 약 70℃∼120℃정도로 가열한 상태로, 열전사 시트(5) 및 표면성 개질 시트(8) 및 기록지(1)를 이동시키면서 표면 개질 처리를 행한다.
그리고, 도 11의 (d)에서는, 상기 표면 개질 처리가 행해진 후, 플라텐 롤러(2)의 회전과 함께 열전사 시트(5) 및 표면성 개질 시트(8) 및 기록지(1)가 하류 측으로 이동하여 서멀 헤드(11)로부터 멀어지고, 온도가 저하되어 냉각된 상태로, 표면성 개질 시트(8)가 기록지(1)로부터 박리된다. 이에 따라, 도 11의 (a)에 나타낸 보호층(34)의 표면 상태가 개질되어, 예를 들면, 매트조로 마무리된 보호층(34”)이 형성된 인화물을 얻을 수 있다.
도 10 및 도 11의 실시예에서는, 하나의 화상(33)을 인화하고, 이 화상(33)에 대하여 보호층(34)의 표면 상태를 개질하는 경우에 대하여 설명하였으나, 본 발명은, 복수개의 화상(33)을 연속적으로 인화하고, 각 인화물마다의 표면 개질 상태가 혼재하는 경우라 하더라도, 연속 처리에 의해 보호층(34)의 표면 상태를 개질할 수 있다. 여기서는, 설명의 단순화를 위해, 1매째의 인화물은 광택 마무리를 하고, 2매째의 인화물은 매트조 마무리를 행하여 표면 상태를 개질하는 경우에 대하여 설명한다.
먼저, 도 10에 나타낸 바와 마찬가지의 동작에 의해, 1매째의 화상(33) 및 보호층(34)을 형성한 후에, 연속 동작에 의해 표면성 개질 시트(8) 중 광택 마무리용의 제1 표면성 개질부(25a)를 사용하여 표면 개질 처리를 행하고, 광택성이 향상된 1매째의 인화물을 얻는다.
이어서, 통상의 연속 인화 시의 동작과 마찬가지로, 도 2에 나타낸 열전사 시트(5)에서 2매째의 화상에 대응하는 구성 단위 내의 염료층(13)의 선두 위치(18y)가 서멀 헤드(11)의 기록 부위와 위치하도록 열전사 시트(5)를 송출한다. 그리고, 표면성 개질 시트(8)는, 인화용 개구부(24)가 서멀 헤드(11)의 기록 부위에 위치하도록 이동시킨다. 이 상태에서, 2매째의 화상(33)의 형성 및 보호층(34) 의 형성을 행한다.
이 때, 도 1에 나타낸 서멀 헤드(11)의 기록 부위에는, 도 2에 나타낸 열전사 시트(5)의 보호재층(14)이 전사된 후의 후미 위치(19L)가 위치하고 있으므로, 열전사 시트 주행 수단의 동작에 의해, 열전사 시트(5)를 보호재층(14)이 전사되기 전의 위치, 즉 선두 위치(18L)까지 되감는다. 그리고, 표면성 개질 시트(8)는, 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부(25b)의 선두 위치(27b)가 서멀 헤드(11)의 기록 부위에 위치하도록 이동시킨다. 다음에, 1매째와 마찬가지로 하여, 연속 동작에 의해 표면성 개질 시트(8) 중 제2 표면성 개질부(25b)를 사용하여 표면 개질 처리를 행하고, 매트조로 마무리된 2매째의 인화물을 얻는다.
이와 같이, 본 발명의 화상 형성 장치 및 화상 형성 방법에 의하면, 기록지(1)에 대한 화상(33)의 형성 및 보호층(34)의 형성 및 그 표면 상태의 개질 처리를 모두 일련의 연속 처리에 의해 행할 수 있다. 따라서, 복수개의 화상(33)을 연속적으로 인화하는 경우에, 각 인화물마다의 표면 개질 상태가 혼재하는 경우라 하더라고, 일련의 연속 처리에 의해 보호층(34)의 표면 상태의 개질 처리를 행할 수 있다.
그리고, 도 10 및 도 11의 실시예에서, 복수개의 화상(33)을 연속적으로 인화하고, 연속 처리에 의해 보호층(34)의 표면 상태를 개질하는 경우, 먼저, 복수개의 인화물에 대하여 화상(33)의 형성 및 보호층(34)의 형성만을 행하고, 그 후에, 복수개의 인화물의 보호층(34)에 대하여, 각각의 인화물마다 요구된 표면 상태에 따라 연속적으로 표면 개질 처리를 행하도록 해도 된다.
도 12는, 본 발명에 의한 화상 형성 장치의 제2 실시예를 나타내는 개요도이다. 본 실시예에 의한 화상 형성 장치는, 도 1에 나타낸 제1 실시예에 의한 화상 형성 장치에 대하여, 공급릴(9)과 권취릴(10) 사이에 걸쳐진 표면성 개질 시트(8)를 구비하고 있지 않은 점이 상이하다. 그 외에는, 도 1에 나타낸 제1 실시예와 기본적으로 마찬가지이므로, 동일한 인용 부호를 부여하여 그 설명을 생략한다.
이 제2 실시예에 의한 화상 형성 장치는, 표면성 개질 시트(8)를 구비하고 있지 않은 대신, 공급릴(6)과 권취릴(7) 사이에 걸쳐진 열전사 시트(5’)의 구성이 도 1에 나타낸 제1 실시예의 열전사 시트(5)와 상이하다. 예를 들면, 도 13에 나타낸 바와 같이, 리본형의 베이스재 시트(12)에, 기록지(1)의 표면에 열전사되어 화상을 형성하기 위한 하나의 색 또는 복수 색의 염료층(13)과, 기록지(1)의 표면에 형성된 화상의 표면에 열전사되어 그 화상을 보호하기 위한 보호재층(14)과, 기록지(1)에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부(25)가, 베이스재 시트(12)의 길이 방향으로 나란히 형성되어 있다. 즉, 열전사 시트(5’) 상에 하나의 색 또는 복수 색의 염료층(13) 및 보호재층(14)과 나란히 표면성 개질부(25)가 형성되어 있는 점이, 도 2에 나타낸 열전사 시트(5)와 상이하며, 그 외에는 마찬가지이다.
본 실시예에서의 열전사 시트(5’)는, 열전사 시트 자체에 도 1에 나타낸 표 면성 개질 시트(8)를 일체적으로 구비한 것이며, 도 1에 나타낸 공급릴(9)과 권취릴(10)로 구성되고, 표면성 개질 시트(8)를 이동시키는 개질 시트 이동 수단을 생략할 수 있으므로, 구조가 간단해져서, 장치 전체를 소형화할 수 있다.
도 13에 나타낸 열전사 시트(5’)는, 인화물 1매를 형성할 때 사용하는 하나의 구성 단위이며, 실제로는, 복수개의 인화물의 화상 형성에 대응하여, 이들 구성 단위가 열전사 시트(5’)의 장척 방향을 따라 반복적으로 형성되어 있다. 본 실시예에서는, 표면성 개질부(25)로서는, 전술한 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제) 등의 폴리이미드를 사용하고 있고, 리본형의 베이스재 시트(12)의 위에 이접착층(16) 및 접착층(도시하지 않음)을 통하여 폴리이미드 필름을 부착하여 형성한 것이다. 그리고, 도 13에서, 인용 부호 21T는, 표면성 개질부(25)의 위치를 검출하기 위해 표면성 개질부(25)의 근방에 설치된 표면성 개질부 위치 검출 마크를 나타내고 있다. 또한, 이접착층(16)은, 반드시 형성할 필요가 있는 것은 아니다.
그리고, 표면성 개질부(25)는, 폴리이미드 필름을 부착하여 형성한 것에 한정되지 않고, 예를 들면, 스퍼터링이나 이온 플레이팅, 증착법 등의 PVD(Physical Vapor Deposition)법 등에 의해 형성한 내열성이 우수한 재질로 이루어지는 각종 막이나, 실록산 변성 폴리이미드막(예를 들면, 우베고산사 제의 내열성 접착 재료 “UPA 시리즈”) 등의 도포 및 열처리에 의해 형성한 것이라도 된다. 실록산 변성 폴리이미드막을 사용한 경우에는, 실록산 변성된 것에 의해 양호한 이형성을 나타내므로, 표면 개질 처리 후의 표면성 개질부(25)와 인화물의 보호층 사이의 박리가 보다 안정되게 된다.
또한, 이 실록산 변성 폴리이미드막은, 폴리이미드 필름과 양호하게 접착될 수 있으므로, 표면성 개질부(25)로서 폴리이미드 필름을 사용한 경우에, 그 표면에 이 실록산 변성 폴리이미드막의 박막층을 형성함으로써, 전술한 바와 마찬가지로 이형성을 보다 향상시킬 수 있다. 그리고, 이에 대해서는, 본 실시예의 경우에 한정되지 않고, 다른 실시예에 사용한 표면성 개질부(25)에 대해서도 마찬가지로 사용할 수 있다.
그리고, 도 13에서는, 설명의 간략화를 위하여, 표면성 개질부(25)는 한 종류만을 나타내고 있지만, 도 3 또는 도 7에 나타냉 실시예의 경우와 마찬가지로, 상이한 표면 상태의 개질의 종류에 따라, 광택 마무리용의 표면성 개질부(25a)나, 매트조 마무리용의 표면성 개질부(25b)나, 질감이 상이한 매트조 마무리용(또는 엠보스조 마무리용)의 표면성 개질부(25c) 등을 형성해도 된다. 그리고, 광택 마무리용의 경우에는, 기록지(1)와 접촉하는 표면은 유피렉스 S(상표명: 우베고산사 제)의 필름 자체의 면을 사용하고, 또한, 매트조 마무리용이나 엠보스조 마무리용의 경우에는, 기록지(1)와의 접촉 표면에는, 필름 내에 필러를 혼입시킴으로써 표면에 의도적으로 요철을 형성시킨 PET 필름이나, 도 9에 나타낸 엠보싱 롤러 등의 형부재(32) 등에 의해 소정의 요철면에 표면 처리된 필름 등을 접착한 것을 사용하여 형성할 수 있다.
다음에, 이상과 같이 구성된 제2 실시예에 의한 화상 형성 장치를 사용하여 행하는 화상 형성 방법에 대하여 설명한다. 본 실시예에서의 화상 형성 방법은, 도 1에 나타낸 제1 실시예에 의한 화상 형성 장치를 사용하여 행하는 화상 형성 방법에 비해, 표면성 개질 시트(8)를 이동시키는 단계가 존재하지 않는 점이 상이하다.
즉, 기록지(1)를 소정 방향으로 반송하는 단계와, 염료층(13) 및 보호재 층(14) 및 표면성 개질부(25)가 베이스재 시트(12)의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트(5’)를 소정 방향으로 주행시키는 단계와, 서멀 헤드(11)에 의해 열에너지를 인가하고, 열전사 시트(5’)의 염료층(13)을 기록지(1)의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하는 단계와, 열전사 시트(5’)의 보호재층(14)을 기록지(1)에 형성된 화상 상으로 열전사하는 단계와, 기록지(1)의 화상 상에 형성된 보호층과 열전사 시트(5’)의 표면성 개질부(25)를 위치맞춤하여 서멀 헤드(11)에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 열전사 시트(5’)를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 단계를 행한다.
이 때, 도 12에서, 통상의 인화 시와 마찬가지로, 기록지(1)와 열전사 시트(5’)를 중첩시킨 상태로 서멀 헤드(11)를 화살표 J 방향으로 전진시키고, 열전사 시트(5’)를 배면으로부터 밀어올려서 플라텐 롤러(2)에 가압하면서 서멀 헤드(11)에 의해 열에너지를 인가하고, 열전사 시트(5’)를 사용하여 기록지(1)의 표면에 화상을 형성하며, 보호층을 형성하고, 나아가서는 그 보호층의 표면 상태를 개질할 수 있다.
도 14는 열전사 시트(5’)의 다른 실시예를 나타내는 설명도이다. 본 실시예는, 표면성 개질부(25’)를 베이스재 시트(12) 자체의 노출 부분으로 한 것이며, 그 외에는 도 13에 나타내는 것과 마찬가지이다. 즉, 본 실시예에서는, 베이스재 시트(12)가 직접 노출된 상태로 되어 있다. 이와 같이, 베이스재 시트(12) 자체의 노출 부분을 표면성 개질부(25’)로 한 것에 의해, 베이스재 시트(12)의 PET 필름면과 마찬가지의 면이 기록지(1)의 화상의 보호층 표면에 반전 전사되어 표면 상태 가 개질된 인화물을 얻을 수 있다. 본 실시예에 따르면, 표면성 개질부(25’)의 형성을 위해 특별한 부재를 추가할 필요가 없기 때문에, 제조 시에 비용적으로 유리하게 된다.
그리고, 표면성 개질부(25’)는, 광택 마무리용으로서는 통상의 베이스재 시트(12) 자체를 사용하고, 매트조 또는 엠보스조 마무리용으로서는, 노출된 베이스재 시트(12)에 소정의 요철 패턴을, 그 요철 패턴에 대응한 형부재를 사용한 가열 전사 등에 의해 형성한 것을 이용하면 된다.
또한, 표면성 개질부(25’)에 대하여, 그 표면에 이형성의 층을 형성하는 등의 이형성 처리를 행함으로써, 표면 개질 처리 후의 열전사 시트(5’)와 기록지(1)와의 박리성을 보다 양호하게 안정시킬 수 있다. 이 이형성 처리에 사용하는 재료로서는, 예를 들면, 전술한 실록산 변성 폴리이미드층의 박막층을 형성한 것을 사용할 수 있다. 또한, 예를 들면, “KP-801M”(상품명: 신에쓰가가쿠사 제) 등으로 대표되는 각종 플루오로알킬실란이나, “사이톱”(상품명: 아사히가라스사 제) 등의 불소계 코팅제를 사용하여 형성할 수도 있다. 이들 플루오로알킬실란이나 “사이톱” 등의 불소계 코팅제를 사용하여 이형층을 형성한 경우에는, 그 박막층은 극히 얇게 형성할 수 있으며, 또한 가시광선 영역에서 투명하기 때문에, 표면성 개질 시트(8)를 일체적으로 구비한 열전사 시트(5’)의 제조 시의 검사나, 화상 형성 장치에서의 인화 시나 표면 개질 처리를 위한 표면성 개질부(25’)의 위치 검출 시에, 문제없이 스무드하게 사용할 수 있다.
도 15는, 열전사 시트(5’)의 또다른 실시예를 나타내는 설명도이다. 본 실 시예는, 도 14에 나타낸 열전사 시트(5’)에서 베이스재 시트(12)의 배면 측에 의해 표면성 개질부(25’)에 대응하는 부분의 내열활성층(15)을 생략한 것이며, 그 외의 구성은 도 14에 나타낸 열전사 시트(5’)와 마찬가지이다. 내열활성층(15)을 생략한 이유는, 내열활성층(15)은 베이스재 시트(12)에 비해 표면 평활성이 뒤떨어지기 때문이다. 이에 따라, 특히 광택성을 부여하는 표면 개질 처리를 행할 때, 보다 양호한 광택 마무리의 인화물을 얻을 수 있다.
그리고, 이상의 설명에 있어서는, 화상 형성 장치로서 이른바 승화 전사 방식의 서멀 프린터의 예를 나타냈으나, 본 발명은 이에 한정되지 않고, 용융 전사 방식의 서멀 프린터에도 적용할 수 있다. 또한, 열전사 시트를 필요로 하지 않고, 감열 타입의 기록지에 기록하는 감열 방식의 서멀 프린터에서, 그 인화물의 표면 상태의 개질에도 적용할 수 있다.
도 1은 본 발명에 의한 화상 형성 방법에 사용하는 화상 형성 장치의 제1 실시예를 나타내는 개요도이다.
도 2는 제1 실시예의 화상 형성 장치에 사용하는 열전사 시트의 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
도 3은 상기 화상 형성 장치에 사용하는 표면성 개질 시트의 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
도 4는 도 1에 나타낸 화상 형성 장치에 대응하는 구체적인 기구(機構)를 나타내는 구조도이다.
도 5는 도 4에 나타낸 센서 기판에 조립된 메커니컬 센서의 내부 구조를 나타낸 도면으로서, (a)는 상면도이며, (b)는 정면도이다.
도 6은 도 5와 같이 구성된 메커니컬 센서의 동작을 나타낸 도면으로서, (a)는 상면도이며, (b)는 정면도이다.
도 7은 상기 표면성 개질 시트의 다른 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
도 8은 도 3에 나타낸 표 면성 개질 시트를 제조할 때의 단계를 나타낸 설명도이다.
도 9는 도 3에 나타낸 표 면성 개질 시트에서 매트조 마무리용의 제2 표면성 개질부를 형성하는 부재의 다른 제조예를 나타내는 설명도이다.
도 10은 상기 화상 형성 장치를 사용하여 행하는 화상 형성 방법에서 기록지 의 화상 상에 형성된 보호층에 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 실시예를 나타내는 설명도이다.
도 11은 상기 기록지의 화상 상에 형성된 보호층에 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 다른 실시예를 나타내는 설명도이다.
도 12는 본 발명에 의한 화상 형성 장치의 제2 실시예를 나타내는 개요도이다.
도 13은 제2 실시예의 화상 형성 장치에 사용하는 열전사 시트의 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
도 14는 상기 열전사 시트의 다른 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
도 15는 상기 열전사 시트의 또 다른 실시예를 나타낸 도면으로서, (a)는 평면도이며, (b)는 (a)의 중앙 종단면도이다.
[부호의 설명]
1: 기록지(피기록 매체)
2: 플라텐 롤러
3: 핀치 롤러
4: 캡스턴 롤러
5, 5’: 열전사 시트
6: 열전사 시트의 공급릴
7: 열전사 시트의 권취릴
8: 표면성 개질 시트
9: 표면성 개질 시트의 공급릴
10: 표면성 개질 시트의 권취릴
11: 서멀 헤드
12: 열전사 시트의 베이스재 시트
13, 13y, 13m, 13c: 염료층
14: 보호재층
15: 내열활성층
16: 이접착층
21y, 21m, 21c: 잉크 위치 검출 마크
21L: 보호재층 위치 검출 마크
21T: 표면성 개질부 위치 검출 마크
22: 광센서(검출 수단)
23: 표면성 개질 시트의 베이스재 시트
24, 24a, 24b: 인화용 개구부
25, 25’, 25a, 25b, 25c: 표면성 개질부
29, 29a, 29b: 개구부 위치 검출 마크
30a, 30b, 30c: 개질부 위치 검출 마크
31: 메커니컬 센서(검출 수단)
33: 기록지의 화상
34: 화상의 표면에 형성된 보호층
34’: 광택성이 부여된 보호층
34”: 매트조로 마무리된 보호층
37: 롤러
38: 액츄에이터
39: 지점축
40a: 발광부
40b: 수광부

Claims (30)

  1. 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 단계와,
    열전사 시트에 포함된 리본형의 베이스재 시트인 제1 리본형 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 상기 화상을 보호하기 위한 보호층을 형성하는 보호재층이 상기 제1 리본형 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 상기 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 단계와,
    상기 피기록 매체와 상기 열전사 시트의 염료층을 대향시킨 상태로 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 염료층을 피기록 매체의 표면으로 열전사하여 화상을 형성하는 단계와,
    상기 피기록 매체에 형성된 화상과 상기 열전사 시트의 보호재층을 대향시킨 상태로 상기 서멀 헤드에 의해 열에너지를 인가하고, 상기 열전사 시트의 보호재층을 피기록 매체에 형성된 화상 상으로 열전사하는 단계와,
    표면성 개질(改質) 시트에 포함된 리본형의 베이스재 시트인 제2 리본형 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 상기 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가 상기 제2 리본형 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 상기 표면성 개질 시트를, 이동시키는 단계, 및
    상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층과 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하고, 냉각 후에 상기 표면성 개질 시트를 박리하여 상기 보호층의 표면 상태를 개질하는 단계
    를 행하는 화상 형성 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 표면성 개질 시트에는, 상기 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 인화용 개구부가 형성되어 있고, 상기 인화용 개구부를 서멀 헤드의 위치로 이동시켜서, 상기 인화용 개구부를 이용하여 열전사 시트와 피기록 매체를 직접 접촉시켜서 화상을 형성하는, 화상 형성 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 서멀 헤드에 의해 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 가열하는 것은, 상기 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도로 가열하는 것인, 화상 형성 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 상기 보호층의 표면에 광택성을 부여하는 것인, 화상 형성 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 피기록 매체의 화상 상에 형성된 보호층의 표면 상태의 개질은, 상기 보호층의 표면을 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것인, 화상 형성 방법.
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 피기록 매체를 소정 방향으로 반송하는 반송 수단과,
    열전사 시트에 포함된 리본형의 베이스재 시트인 제1 리본형 베이스재 시트에, 상기 피기록 매체의 표면으로 열전사되어 화상을 형성하기 위한 염료층과 피기록 매체의 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사되어 상기 화상을 보호하기 위한 보호층을 형성하는 보호재층이 상기 제1 리본형 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 열전사 시트를, 소정 방향으로 주행시키는 상기 열전사 시트 주행 수단과,
    표면성 개질(改質) 시트에 포함된 리본형의 베이스재 시트인 제2 리본형 베이스재 시트에, 상기 열전사 시트가 피기록 매체의 표면에 직접 접촉하도록 설치된 인화용 개구부와 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 상기 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 표면성 개질부가, 상기 제2 리본형 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성된 상기 표면성 개질 시트를 이동시키는 개질 시트 이동 수단과,
    상기 피기록 매체의 표면에 상기 열전사 시트의 염료층 또는 보호재층을 대향시킨 상태로 열에너지를 인가하여 상기 염료층과 보호재층을 차례로 피기록 매체 상으로 열전사하는 서멀 헤드를 포함하고,
    상기 피기록 매체에 열전사 시트를 사용하여 화상을 형성하고, 또한 상기 화상을 보호하는 보호층을 형성한 후에, 상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부를 상기 보호층이 형성된 면에 위치맞춤하여 상기 서멀 헤드에 의해 가열 및 가압하여, 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하는, 화상 형성 장치.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 열전사 시트는, 상기 제1 리본형 베이스재 시트의 표면에 하나의 색 또는 복수 색의 염료층과 보호재층이 차례로 형성되고, 각 염료층 및 보호재층으로부터 소정의 거리 내에 각각 위치 검출 마크가 형성되어 있고, 상기 열전사 시트의 주행 경로의 도중에는, 상기 위치 검출 마크를 검출하는 검출 수단을 포함하는, 화상 형성 장치.
  12. 제10항에 있어서,
    상기 표면성 개질 시트는, 상기 제2 리본형 베이스재 시트의 표면에 상기 피기록 매체에 형성된 보호층의 표면 상태를 개질하기 위한 적어도 한 종류의 표면성 개질부가 차례로 형성되고, 상기 인화용 개구부 및 각 표면성 개질부로부터 소정의 거리 내에 각각 위치 검출 마크가 형성되어 있고, 상기 표면성 개질 시트의 이동 경로의 도중에는, 상기 위치 검출 마크를 검출하는 검출 수단을 포함하는, 화상 형성 장치.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부는, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에 광택성을 부여하는 것인, 화상 형성 장치.
  14. 제10항에 있어서,
    상기 표면성 개질 시트의 표면성 개질부는, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면을 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것인, 화상 형성 장치.
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
  19. 리본형의 베이스재 시트를 포함하고,
    상기 리본형의 베이스재 시트에, 화상 형성 장치의 열전사 시트가 피기록 매체 표면에 직접 접촉하도록 되어 있는 인화용 개구부와, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면 상태를 개질(改質)하기 위한 하나 또는 복수 종류의 표면성 개질부가, 상기 리본형의 베이스재 시트의 길이 방향으로 나란히 형성되고,
    상기 열전사 시트는, 상기 피기록 매체 표면으로 열전사된 화상을 형성하기 위한 염료층과 상기 피기록 매체 표면에 형성된 화상의 표면으로 열전사된 상기 화상을 보호하기 위한 보호층을 형성하는 보호재층을 포함하는,
    표면성 개질 시트.
  20. 제19항에 있어서,
    상기 인화용 개구부 및 각 표면성 개질부로부터 소정의 거리 내에 각각 위치 검출 마크가 설치된, 표면성 개질 시트.
  21. 제19항에 있어서,
    상기 표면성 개질부는, 상기 화상 형성 장치의 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도에서 내열성을 가지는 수지 필름으로 이루어지는, 표면성 개질 시트.
  22. 제21항에 있어서,
    상기 수지 필름은, 폴리이미드로 이루어지는, 표면성 개질 시트.
  23. 제19항에 있어서,
    상기 표면성 개질부는, 화상 형성 장치의 열전사 시트의 보호재층의 유리 전이 온도에서 상기 보호재층의 표면과 비접착이 되도록 이형 처리가 행해져 있는, 표면성 개질 시트.
  24. 제19항에 있어서,
    상기 표면성 개질부는, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면에 광택성을 부여하는 것인, 표면성 개질 시트.
  25. 제19항에 있어서,
    상기 표면성 개질부는, 상기 피기록 매체에 형성된 화상을 보호하는 보호층의 표면을 매트조 또는 엠보스조로 마무리하는 것인, 표면성 개질 시트.
  26. 삭제
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