KR101486001B1

KR101486001B1 - 전기 전도성 ｕｖ 경화성 잉크

Info

Publication number: KR101486001B1
Application number: KR20080032476A
Authority: KR
Inventors: 루디에 올덴지즐; 코리나 프렌트
Original assignee: 헨켈 아게 운트 코. 카게아아
Priority date: 2007-04-10
Filing date: 2008-04-08
Publication date: 2015-01-26
Also published as: ATE547489T1; JP5666768B2; JP2008260938A; EP1980597A1; CN101284928B; TWI437051B; US20080250972A1; CN101284928A; PT1980597E; KR20080092265A; TW200909530A; EP1980597B1; US7569160B2

Abstract

본 발명은, 전자 산업에 사용되는 자외선 또는 전자 빔 경화성 도전성 재료에 관한 것이다. 본 발명의 도전성 재료는 낮은 점도를 가지고, 플렉소그래피 및 로토그라비어와 같은 고속 인쇄 기법에 의해 기판에 도포될 수 있으며, 경화된 후에는 높은 전기 전도성을 제공한다. 상기 도전성 재료는 하나 이상의 올리고머, 하나 이상의 아크릴레이트 캐리어, 비닐 에테르와 같은 하나 이상의 반응성 모노머, 도전성 충전재 및 하나 이상의 광개시제를 포함한다. 바람직한 경우라면, 희석제, 분산제 등과 같은 추가적 성분들이 선택적으로 추가될 수 있다.

자외선, 전자 빔, 경화성, 도전성 재료, 플렉소그래피, 로토그라비어

Description

전기 전도성 ＵＶ 경화성 잉크 {ELECTRICALLY CONDUCTIVE UV-CURABLE INK}

본 발명은, 자외선 경화성 전기 전도성 잉크에 관한 것이다.

전자 산업 분야에서는 인쇄된 도전성 재료를 필요로 하는 신규한 용도의 개발이 계속되고 있다. 새로 개발된 용도 중 몇 가지로서는, RFID(radio frequency identification) 태그용의 인쇄된 안테나, 인쇄된 트랜지스터 및 태양 전지를 들 수 있다. 전자 산업 시장의 대다수의 용도를 비롯하여, 이러한 용도는 어셈블리에 소요되는 비용 및 속도의 영향을 받는다. 따라서, 도전성 재료는 고수율을 얻을 수 있는 것이어야 한다. 고수율은, 저속의 스크린 인쇄 공정을 대신하여 이용이 증가된 플렉소그래피(flexography) 및 로토그라비어(rotogravure)와 같은 고속 인쇄 기법에 의해 구현된다. 예를 들면, 회전식 스크린 인쇄에 의해서는 약 60 m/분의 속도가 얻어지는 반면, 고속 인쇄 기법을 이용하면, 약 400 m/분 이하의 제조 속도가 얻어질 수 있다. 이러한 고속 기법의 이용은 패키징, 소비재 및 출판 산업에서 공통적으로 증가하는 추세이기 때문에, 도전성 재료는 이러한 고속 이용에 적절한 레올로지 특성(rheological property)을 가지도록 되어야 한다.

시판되고 있는 전기 전도성 재료는 통상적으로 폴리머 후막(PTF: polymer thick film) 형태이다. 일반적으로 PTF는 스크린 인쇄에 의해 기재에 도포되어, 멤브레인 키보드(membrane keyboard), 인쇄 회로 기판 및 발열체(heating element)와 같은 부품에 전자 회로를 형성하는 고점도 재료이다. 대부분의 PTF는 도전성 충전재와 함께 물 또는 용매에 분산/용해된 수지로 이루어지며, 상기 충전재로서는 가장 높은 도전성을 감안할 때, 은이 바람직하다. 상기 재료를 도포한 후에는 건조 또는 경화에 의해 상기 물 또는 용매가 증발되고, 상기 도전성 충전재에 의해 입자간 접촉이 이루어져, 도전성 네트워크가 형성된다. 전술한 용매 및 수계 시스템 외에도, 자외선(UV) 경화성 PTF가 시판되고 있다. 이러한 UV 경화성 PTF의 경우에는 상기 필름을 도포한 다음에, UV 또는 전자 빔(EB: electron beam) 방사선을 이용하여 상기 필름을 경화시킴으로써, 도전성이 얻어진다. 통상적으로 UV 경화성 재료는 열에 의해 경화된 재료보다 빠른 속도로, 주위 온도에서 경화된다. 이러한 UV 경화성 재료는 경화되는 동안, 환경에 유해한 성분들의 방출을 최소화한다는 점에서도 바람직하다.

따라서, 플렉소그래피 및 로토그라비어와 같은 고속 인쇄 기법의 적용이 용이한 레올로지 특성을 가지며, UV 경화가 가능한 도전성 재료를 제공하는 것이 바람직할 것이다.

본 발명은, 전자 산업에 사용되는 UV/EB 경화성 도전성 재료를 제공하는 것을 목적으로 한다. 본 발명의 도전성 재료는 낮은 점도를 가지고, 플렉소그래피 및 로토그라비어와 같은 고속 인쇄 기법에 의해 도포가 가능하며, 경화된 후에는 높은 전기 전도성을 제공한다. 본 발명의 도전성 재료는, 하나 이상의 올리고머, 하나 이상의 아크릴레이트 캐리어(carrier), 비닐 에테르와 같은 하나 이상의 반응성 모노머, 도전성 충전재 및 하나 이상의 광개시제(photoinitiator)를 포함한다. 바람직한 경우라면, 레벨링제(leveling agent), 희석제, 분산제 등과 같은 추가적 성분들을 선택적으로 추가할 수 있다.

본 발명에 따르면, 낮은 점도를 가지고, 플렉소그래피 및 로토그라비어와 같은 고속 인쇄 기법에 의해 기판에 도포될 수 있으며, 경화된 후에는 높은 전기 전도성을 부여하는 도전성 재료를 제공할 수 있다.

도전성 재료는 각종 전자 분야에서 다양한 용도로서 사용된다. RFID 태그와 같은 고부피 용도에서는 고속 제조가 요구되며, 이러한 고속 제조를 위해서상기 도전성 재료는 몇 가지 요건을 충족시켜야 한다. 이러한 용도로 사용하기 위해서, 상기 도전성 재료는 저점도를 가져야 하며, 상당히 짧은 시간 내에 경화될 수 있어야 한다. 본 발명은 고속, 고부피의 전자 산업 용도로서 사용 가능한, 저점도의 UV 경화성 도전성 잉크를 제공한다. 본 발명의 잉크는, 아크릴레이트 캐리어 중에 용해된, 불포화 염화 폴리에스테르 폴리머와 같은 하나 이상의 올리고머, 비닐 에테르와 같은 하나 이상의 반응성 모노머, 도전성 충전재 및 하나 이상의 광개시제를 포함한다. 바람직한 경우라면, 상기 잉크는 선택적 성분들을 더 포함할 수 있다. 고속 인쇄 공정에서의 상기 잉크의 사용을 최적화하기 위해서, 상기 잉크의 점도는 약 1,000 m㎩ㆍs 내지 약 3,000 m㎩ㆍs이다.

본 발명의 도전성 조성물에는 하나 이상의 올리고머가 사용될 수 있다. 본 발명에 사용 가능한 올리고머를 예시하면, 불포화 염화 폴리에스테르, 에폭시 아크릴레이트, 폴리에스테르 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에테르 아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 본 발명에 바람직한 올리고머는 염화 폴리에스테르 폴리머이다. 상기 하나 이상의 올리고머는 본 발명의 조성물 중에 약 5 중량% 내지 약 20 중량%의 양으로 포함되며, 바람직하게는 본 발명의 조성물 중에 약 5 중량% 내지 약 15 중량%의 양으로 포함된다.

상기 올리고머는 아크릴레이트 캐리어에 용해되어 있다. 본 발명에 사용 가능한 아크릴레이트 캐리어를 예시하면, 트리아크릴레이트, 예컨대, 트리메틸올프로 판 트리아크릴레이트, 디아크릴레이트 및 테트라아크릴레이트 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 아크릴레이트에 용해된 염화 폴리에스테르 올리고머 시판품으로서 적절한 것을 예시하면, CN736, CN738, CN750 (이상, Sartomer에서 시판)을 들 수 있고; 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트에 용해된 염화 폴리에스테르 수지 시판품을 예시하면, Genomer 6050 TM(Rahn에서 시판), Ebecryl 436 및 Ebecryl 586 (이상, Cytec에서 시판), 및 EC6314C-60 (IGM resins에서 시판)을 들 수 있고; 프로폭시화 글리세롤 트리아크릴레이트에 용해된 염화 폴리에스테르 시판품을 예시하면, Cytec에서 시판하는 Ebecryl 436을 들 수 있고; 헥산디올디아크릴레이트에 용해된 염화 폴리에스테르 시판품을 예시하면, Ebecryl 584(Cytec에서 시판)를 들 수 있으며; 이들의 혼합물 역시 사용 가능하다. 상기 아크릴레이트 캐리어는 본 발명의 조성물 중에 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%의 양으로 포함되며, 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 아크릴레이트 캐리어는 본 발명의 조성물 중에 약 2.5 중량% 내지 약 3.5 중량%의 양으로 포함된다.

본 발명에 사용되는 반응성 모노머는 상기 올리고머와 반응하는 것이어야 하며, 경화된 후에는 본 발명의 조성물에 저점도를 제공한다. 본 발명에 사용 가능한 반응성 모노머를 예시하면, 비닐에테르, 예컨대, 하이드록시부틸비닐에테르, 트리에틸렌글리콜 디비닐에테르, 사이클로헥산디메탄올디비닐에테르, 도데실비닐에테르, 사이클로헥실비닐에테르, 디에틸렌글리콜디비닐에테르, 2-에틸헥실 비닐에테르, 디프로필렌글리콜 디비닐에테르, 헥산디올 디비닐에테르, 부탄디올 디비닐에테르, 1-비닐-2-피롤리돈, ISP-International에서 시판하는 n-비닐-2-카프로락탐, Rahn에서 시판하는 아크릴로일모르폴린, 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 바람직한 희석제는 하이드록시부틸비닐에테르이다. 상기 반응성 모노머는 본 발명의 조성물 중에 약 5 중량% 내지 약 20 중량%의 양으로 포함되며, 바람직하게는 본 발명의 조성물 중에 약 5 중량% 내지 약 15 중량%의 양으로 포함된다.

본 발명의 조성물에는 하나 이상의 도전성 충전재가 사용된다. 본 발명에 사용 가능한 도전성 충전재를 예시하면, 은, 구리, 금, 팔라듐, 백금, 니켈, 금 코팅 또는 은 코팅된 니켈, 카본 블랙(carbon black), 탄소 섬유, 그래파이트, 알루미늄, 인듐 틴 옥사이드, 은 코팅된 구리, 은 코팅된 알루미늄, 금속 코팅된 글래스 스피어(metallic coated glass sphere), 금속 코팅된 충전재, 금속 코팅된 폴리머, 은 코팅된 섬유, 은 코팅된 스피어, 안티몬 도핑된 틴 옥사이드, 도전성 나노스피어, 나노 은, 나노 알루미늄, 나노 구리, 나노 니켈, 탄소 나노튜브 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 본 발명의 일 구현예에 따르면, 상기 도전성 충전재는 크기가 상이한 은 플레이크의 혼합물, 예컨대, SF-80(Ferro에서 시판)과 SF-AA0101(Metalor에서 시판)의 혼합물이다. 상기 하나 이상의 도전성 충전재는 상기 조성물 중에 약 40 중량% 내지 약 80 중량%의 양으로 포함되며, 바람직하게는 상기 조성물 중에 약 30 중량% 내지 약 50 중량%의 양으로 포함된다.

본 발명의 조성물 중에는 본 발명의 잉크 재료의 가교를 개시하는 하나 이상의 광개시제가 포함된다. 상기 광개시제는 자유 라디칼 광개시제 또는 양이온성 광개시제이거나, 또는 이들 둘의 조합일 수 있다. 본 발명에 사용 가능한 광개시제를 예시하면, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐케톤; 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온; 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로판온; α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논; 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4(4-모르폴리닐)-1-부탄온; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온; 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드; 포스핀 옥사이드, 페닐 비스(2,4,6-트리메틸 벤조일; 포스핀 옥사이드; 아이오도늄(Iodonium); 4-메틸페닐[4-(2-메틸프로필)페닐]-헥사플루오로포스페이트, 그 시판품을 예시하면, 상표명 IRGACURE 또는 DAROCUR(Ciba Specialty Chemicals에서 시판); 혼합 아릴설포늄 헥사플루오로안티모네이트염; 혼합 아릴설포늄 헥소플루오로포스페이트염, 그 시판품을 예시하면, 상표명 CYRACURE(Dow Chemical에서 시판); 벤조페논; 4-페닐 벤조페논; 4-메틸 벤조페논; 2-이소프로필 티옥산톤(2-isopropyl thioxanthone); 2-클로로티옥산톤; 2,4-디에틸티옥산톤, 그 시판품을 예시하면, 상표명 OMNIRAD(IGM resins에서 시판), 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 아민과의 병용이 보다 효과적인 소정의 광개시제를 예시하면, 2-디메틸아미노-에틸벤조에이트; 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트; 2-에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트; 이소아밀 4-(N,N-디메틸아미노)벤조에이트; 상표명 OMNIRAD(IGM resins에서 시판) 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 상기 하나 이상의 광개시제는 본 발명의 조성물 중에 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%의 양으로 포함되며, 바람직하게는 본 발명의 조성물 중에 약 0.1 중량% 내지 약 1.5 중량%의 양으로 포함된다.

본 발명의 일 구현예에 따르면, 본 발명의 조성물은 하나 이상의 레벨링제 또는 분산제를 포함한다. 본 발명에 사용 가능한 레벨링제 및 분산제를 예시하면, 아크릴레이트 코폴리머, 예컨대, Byk-359 및 Byk-361 (이상, Byk Chemie에서 시판); 폴리에테르 개질된 폴리디메틸실록산, 시판품 Byk-UV 3510; 폴리에테르 개질된 디메틸실록산, 시판품 Byk-UV 3530; 폴리우레탄 유도체 또는 개질된 폴리우레탄, 시판품 Texaphor P60 또는 Texaphor P63(이상, Cognis에서 시판); 용매 비(非)함유 음이온성 지방족 에스테르, 시판품 Texaphor UV 20; 개질된 폴리우레탄 분산제, 시판품 Texaphor SF73; 일관능성 올레오 알킬렌 옥사이드 블록 코폴리머, 시판품 Hydropalat 1080; 폴리머 분산제, 시판품 Hydropalat 3275 (모두 Cognis에서 시판); 폴리머 분산제, 시판품 Solsperse 39000; 폴리에테르 아미도산 폴리아민 유도체, 시판품 Solsperse 71000(Noveon에서 시판); 폴리아크릴레이트 및 폴리우레탄, Ciba Specialty Chemicals에서 시판하는 시판품 및 이들의 혼합물을 들 수 있으나, 전술한 것으로 제한되지는 않는다. 상기 레벨링제는 상기 조성물의 점도를 감소시키는 작용을 하며, 이로써, 고속 도포시의 상기 조성물의 유용성을 증대시킬 수 있다. 상기 하나 이상의 레벨링제는 본 발명의 조성물 중에 약 0.1 중량% 내지 약 5 중량%의 양으로 포함되며, 바람직하게는 본 발명의 조성물 중에 약 0.1 중량% 내지 약 1.5 중량%의 양으로 포함된다.

바람직한 경우라면, 본 발명의 조성물은, 표면 활성제(surface active agent), 계면활성제(surfactant), 습윤화제(wetting agent), 항산화제, 틱소트로프 제(thixotropes), 강화재(reinforcement material), 실란 작용기를 가지는 퍼플루오로에테르(perfluoroether), 포스페이트 작용기를 가지는 퍼플루오로에테르, 실란, 티타네이트, 왁스, 페놀 포름알데히드, 공기 방출제(air release agent), 흐름 첨가제(flow additive), 접착 촉진제(adhesion promoter), 레올로지 개질제(rheology modifier), 계면활성제, 스페이서 비드(spacer bead) 및 이들의 혼합물과 같은 각종 선택적 첨가제를 포함할 수 있다. 특히 상기 성분들은, 소정의 조성물 중에 사용되는 수지들의 물성이 적절한 균형을 이루도록 하는 것을 감안하여 선택된다.

이하, 본 발명의 비제한적 실시예를 들어, 본 발명에 대해 보다 상세하게 설명한다.

(실시예 1)

프로펠러 믹서를 사용하여, 균일한 혼합물이 얻어질 때까지 염화 폴리에스테르 올리고머와 비닐에테르를 2.6 m/s의 속도로 혼합하는 공정에 의해, 도전성 잉크 재료를 제조하였다. 그런 다음, 광개시제 및 레벨링제를 첨가하고, 균일한 혼합물이 얻어질 때까지 혼합하였다. 전량의 은을 조심스럽게 첨가한 다음, 얻어진 조성물을 9.9 m/s에서 5분간 혼합하였다. 표 1은, 본 실시예에서 제조된 잉크 조성물의 성분 및 함량을 나타낸다.

표 1: 잉크 조성물

전술한 바와 같이 제조된 도전성 잉크 재료를, 로토그라비어 공정에 의해 폴리에스테르(Melinex ST506) 기재에 인쇄한 다음, 경화량(curing dose) 약 1700 mJ/㎠의 UV 방사선(수은 벌브에 의해 제공됨)에 노광하였다. 54 l/㎝ 애닐록스(anilox)를 사용한 경우에 가장 양호한 결과가 얻어졌고, 셀 부피는 18.05 ml/㎡이었다. 상기 도전성 잉크를 UV 경화시킨 결과, 6.25E-05 Ωㆍ㎝의 저항과 동등한, 5 ㎛ 두께에서 0.13 Ω/square의 저항, 또는 두께가 5 ㎛인 5×1 ㎝의 트랙에서 약 0.63 Ω의 저항이 얻어졌다. 약 150℃의 온도로 30초간 추가 가열하여 더 경화시킨 결과, 두께가 5 ㎛인 5×1 ㎝의 트랙에서 약 0.40 Ω의 저항, 또는 4E-05 Ωㆍ㎝의 저항으로 낮아졌다.

(실시예 2)

실시예 1의 공정에 의해 도전성 잉크 재료를 제조하였다.

표 2: 잉크 조성물

이렇게 하여 얻어진 도전성 잉크 재료를 플렉소그래피 공정(애닐록스: 100 l/㎝, 15.8 ml/㎡)에 의해 폴리에스테르 GAG 기재에 인쇄한 다음, 수은 UV 벌브에 의해 제공되는 경화량의 UV 방사선에 노광하였다. 상기 도전성 잉크를 UV 경화시킨 결과, 약 1.25E-04 Ωㆍ㎝의 저항이 제공되었다. 상기 도전성 잉크를 약 150℃의 온도로 30초간 추가 가열하여 더 경화시킨 결과, 약 6.75E-05 Ωㆍ㎝으로 낮아진 저항이 얻어졌다. 산업적 플렉소 프레스 상에서 인쇄하는 동안, 몇 종류의 안테나 디자인을 인쇄하였다. 상기 각각의 안테나에 칩을 실장하고, 신호에서의 판독 거리를 측정하였다. 사용된 애닐록스의 종류, 기재의 종류 및 사후 가열 시간(post heating)에 따라서, 2 내지 4 m의 판독 거리가 얻어졌다.

당업자에게 명백한 바와 같이, 본 발명의 사상과 범위를 벗어나지 않고 본 발명에 대한 많은 변형 및 변경이 이루어질 수 있다. 본 명세서에 기재된 특정 실시예들은 단지 예로서 제시되는 것으로, 본 발명은 첨부되는 청구의 범위 및 동 청구범위에 귀속되는 모든 등가물에 의해서만 한정되어야 한다.

Claims

하나 이상의 불포화 염화 폴리에스테르 올리고머, 하나 이상의 아크릴레이트 캐리어(carrier), 하이드록시부틸비닐에테르, 하나 이상의 도전성 충전재, 및 하나 이상의 광개시제를 포함하는 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

하나 이상의 레벨링제(leveling agent)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
삭제
제1항에 있어서,

상기 하나 이상의 아크릴레이트 캐리어가 트리아크릴레이트인 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제4항에 있어서,

상기 트리아크릴레이트는 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트인 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 하나 이상의 아크릴레이트 캐리어가, 디아크릴레이트, 테트라아크릴레이트, 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
삭제
제1항에 있어서,

상기 도전성 충전재가 은, 구리, 금, 팔라듐, 백금, 니켈, 금 코팅 또는 은 코팅된 니켈, 카본 블랙(carbon black), 탄소 섬유, 그래파이트, 알루미늄, 인듐 틴 옥사이드, 은 코팅된 구리, 은 코팅된 알루미늄, 금속 코팅된 글래스 스피어(metallic coated glass sphere), 금속 코팅된 충전재, 금속 코팅된 폴리머, 안티몬 도핑된 틴 옥사이드, 도전성 나노스피어, 탄소 나노튜브 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 도전성 충전재가 은 플레이크(silver flake), 은 코팅된 섬유, 은 코팅된 스피어, 또는 이들의 혼합물인 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 광개시제가, 1-하이드록시-사이클로헥실-페닐케톤; 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로판온; 2-하이드록시-1-[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]-2-메틸-1-프로판온; α,α-디메톡시-α-페닐아세토페논; 2-벤질-2-(디메틸아미노)-1-[4-(4-모르폴리닐)-1-부탄온; 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-(4-모르폴리닐)-1-프로판온; 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥사이드; 포스핀 옥사이드, 페닐 비스(2,4,6-트리메틸 벤조일; 포스핀 옥사이드; 아이오도늄(Iodonium); 4-메틸페닐[4-(2-메틸프로필)페닐]-헥사플루오로포스페이트; 혼합 아릴설포늄 헥사플루오로안티모네이트염; 혼합 아릴설포늄 헥사플루오로포스페이트염, 벤조페논; 4-페닐 벤조페논; 4-메틸 벤조페논; 2-이소프로필 티옥산톤(2-isopropyl thioxanthone); 2-클로로티옥산톤; 2,4-디에틸티옥산톤; 2-디메틸아미노-에틸벤조에이트; 에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트; 2-에틸-4-(디메틸아미노)벤조에이트; 이소아밀 4-(N,N-디메틸아미노)벤조에이트 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제2항에 있어서,

상기 하나 이상의 레벨링제가, 아크릴레이트 코폴리머; 폴리에테르 개질된 폴리디메틸실록산; 폴리에테르 개질된 디메틸실록산; 용매 비(非)함유 음이온성 지방족 에스테르; 개질된 폴리우레탄 분산제; 일관능성 올레오 알킬렌 옥사이드 블록 코폴리머; 폴리머 분산제; 폴리에테르 아미도산 폴리아민 유도체; 폴리아크릴레이트; 폴리우레탄; 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 불포화 염화 폴리에스테르 올리고머는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 5 내지 20 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제12항에 있어서,

상기 불포화 염화 폴리에스테르 올리고머는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 5 내지 15 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 아크릴레이트 캐리어는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제14항에 있어서,

상기 아크릴레이트 캐리어는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 1.5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 하이드록시부틸비닐에테르는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 5 내지 20 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제16항에 있어서,

상기 하이드록시부틸비닐에테르는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 5 내지 15 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 도전성 충전재는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 40 내지 82.5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
삭제
제1항에 있어서,

상기 광개시제는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제20항에 있어서,

상기 광개시제는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 1.5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제2항에 있어서,

상기 레벨링제는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제22항에 있어서,

상기 레벨링제는 상기 도전성 잉크 조성물 중에 0.1 내지 1.5 중량%의 양으로 포함되는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 도전성 잉크 조성물은 고속 공정에 의한 인쇄에 도전성 잉크 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 도전성 잉크 조성물은 로토그라비어(rotogravure) 또는 플렉소그래피(flexography) 방법에 의한 인쇄에 도전성 잉크 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제1항에 있어서,

상기 도전성 잉크 조성물은 자외광 또는 전자 빔에 노광되는 것에 의해 경화 가능한 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.
제2항에 있어서,

하나 이상의 레벨링제는 개질된 폴리우레탄 또는 개질된 폴리우레탄 분산제인 것을 특징으로 하는, 도전성 잉크 조성물.