KR101374631B1 - 보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자 - Google Patents

보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자 Download PDF

Info

Publication number
KR101374631B1
KR101374631B1 KR1020070057297A KR20070057297A KR101374631B1 KR 101374631 B1 KR101374631 B1 KR 101374631B1 KR 1020070057297 A KR1020070057297 A KR 1020070057297A KR 20070057297 A KR20070057297 A KR 20070057297A KR 101374631 B1 KR101374631 B1 KR 101374631B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
composition
polyamic acid
protective film
polyester
phenyl
Prior art date
Application number
KR1020070057297A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080001616A (ko
Inventor
히로유키 사토
다카히로 모리
Original Assignee
제이엔씨 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 제이엔씨 주식회사 filed Critical 제이엔씨 주식회사
Publication of KR20080001616A publication Critical patent/KR20080001616A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101374631B1 publication Critical patent/KR101374631B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/16—Polyester-imides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
    • C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
    • C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
    • C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
    • G02F1/133723—Polyimide, polyamide-imide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/02—Alignment layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/025—Polyamide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/02—Alignment layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/027—Polyimide
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
    • C09K2323/055—Epoxy
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
    • C09K2323/05—Bonding or intermediate layer characterised by chemical composition, e.g. sealant or spacer
    • C09K2323/057—Ester polymer, e.g. polycarbonate, polyacrylate or polyester
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133519—Overcoatings
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31721—Of polyimide
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31725—Of polyamide

Abstract

고투명성, 평탄성이라고 하는 보호막의 기능을 가지며, 나아가, 액정 배향성이라고 하는 배향막의 기능도 가지는 보호막용 조성물이 요구되고 있으며, 또한, 액정 표시 소자의 제조 비용의 절감이 요구되고 있다. 본 발명은, 적어도 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 이용하여 얻어지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1) 및 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물을 제공한다.
보호막, 컬러 필터, 액정, 배향, 폴리아미드, 폴리이미드

Description

보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자{OVERCOAT FILM COMPOSITION, COLOR FILTER SUBSTRATE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY ELEMENT}
기술 분야
본 발명은 보호막용 조성물에 관한 것으로서, 예를 들면 액정 표시 소자용 컬러 필터를 평탄화하기 위한 보호막용 조성물, 상기 조성물을 이용하여 형성되는 컬러 필터 기판, 상기 컬러 필터를 가지는 액정 표시 소자에 관한 것이다.
배경 기술
액정 표시 소자용 컬러 필터를 평탄화하기 위한 보호막용 조성물로서는, 아크릴계 조성물, 폴리이미드계 조성물 등이 실용화되고 있으며, 이들 조성물을 컬러 필터에 도포한 후, 건조·소성함으로써 보호막으로서의 기능이 발현된다. [특개 평 09-291150호 공보(특허 문헌 1), 특개 2001-158816호 공보(특허 문헌 2), 특개 2005-105264호 공보(특허 문헌 3)]. 그러나, 이들 보호막에는 액정을 배향시키는 능력이 없으므로, 보호막 위에 배향막용 조성물을 추가로 도포한 후에, 건조·소성시켜서 배향막을 형성한 후, 러빙 처리에 의해 배향막으로서의 특성을 발현시켜야 할 필요가 있었다.
한편, 컬러 필터에 보호막용 조성물을 도포하지 않고 배향막용 조성물을 도포하여 배향막을 형성시켰을 경우, 배향막은 보통 0.1μm 전후의 박막이기 때문에, 컬러 필터의 요철을 평탄화할 수 없다. 여기에서, 평탄화 기능을 발현시키기 위하여 배향막용 조성물을 1μm 이상의 두꺼운 막으로 형성시키면, 투과율이 극단적으로 저하되므로, 실용적이지 않다.
고투명성, 평탄성이라고 하는 보호막의 기능을 가지고, 나아가, 액정 배향성이라고 하는 배향막의 기능도 가지는 보호막용 조성물이 요구되어 왔다. 또한, 액정 표시 소자의 제조 비용의 절감이 요구되어 왔다.
폴리에스테르-폴리아미드산(A1) 및 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 조성물이, 투명성과 평탄성을 가지면서, 나아가 액정 배향성도 가지며, 보호막으로 이용할 수 있음을 발견하였다.
본 발명은 다음과 같은 보호막용 조성물 등을 제공한다.
[1] 하기 일반식(1) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00001
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1); 및 하기 일반식(3) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00002
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
[2] 적어도, 다가(多價) 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 이용하여 얻어지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1), 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
[3] 적어도, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 이용하여 얻어지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1) 및 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
[4] 다가 히드록시 화합물(a1)이 디올이며, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)이 테트라카르복시산 2무수물인 것을 특징으로 하는 [2] 또는 [3]에 따른 보호막용 조성물.
[5] 다가 히드록시 화합물(a1)이 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올 및 1,6-헥산디올로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며, 디아민(a2)이 3,3'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰 및 하기 식(b)
Figure 112007042473124-pat00003
(식에서, R3 및 R4는 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬 또는 페닐이며, R5는 독립적으로 메틸렌, 페닐렌 또는 알킬 치환된 페닐렌이며, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼100의 정수임)
으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)이 스티렌-무수 말레산 공중합체, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무 수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 [2] 또는 [3]에 따른 보호막용 조성물.
[6] 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이, 다가 히드록시 화합물(a1)의 히드록시 1몰에 대하여, 디아민(a2)의 아미노를 0.1∼10몰, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 무수물을 1∼10몰 반응시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 [2]∼[5] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[7] 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이, 하기 일반식(1) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00004
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 것을 특징으로 하는 [2]∼[6] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[8] 폴리에스테르-폴리이미드(A2)가, 하기 일반식(3) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00005
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 것을 특징으로 하는 [2]∼[7] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[9] 하기 일반식(1) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00006
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1); 및 하기 일반식(3) 및 (2)
Figure 112007042473124-pat00007
(식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
[10] 폴리아미드산(B)이, 적어도, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오르프로판, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 2,2'-디아미노디페닐프로판, 벤지딘, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-메틸시클로헥산, 비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-메틸시클로헥산 및 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 디아민과, 피로메리트산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2 무수물 및 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 테트라카르복시산 2무수물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 [1]∼[9] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[11] 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이 2∼40중량% 및 상기 폴리아미드산(B)이 0.1∼20중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 [1]∼[10] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[12] 보호막용 조성물이, 에폭시 수지(C)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 [1]∼[11] 중 어느 하나에 따른 보호막용 조성물.
[13] 에폭시 수지(C)가, 하기 식
Figure 112007042473124-pat00008
Figure 112007042473124-pat00009
(식에서, n은 0∼10의 정수임)
으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 [12]에 따른 보호막용 조성물.
[14] 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이 2∼40중량%, 상기 폴리아미드산(B)이 0.1∼20중량% 및 상기 에폭시 수지(C)가 0.5∼20중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 [12] 또는 [13]에 따른 보호막용 조성물.
[15] 1,4-부탄디올과 3,3'-디아미노디페닐술폰과 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물을 반응시켜서 얻어진 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 5∼30중량%,
4,4'-디아미노디페닐에테르와 피로메리트산 2무수물과 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복시산 2무수물을 반응시켜서 얻어진 폴리아미드산(B)을 0.2∼10중량%, 및
하기 식(220)∼(223)
Figure 112007042473124-pat00010
Figure 112007042473124-pat00011
(식에서, n은 0∼10의 정수임)
으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 에폭시 수지(C)를 2∼15중량% 포함하는 보호막용 조성물.
[16] [1]∼[15] 중 어느 하나에 따른 보호막용 수지 조성물로 얻어지는 보호막.
[17] [16]에 따른 보호막과, 상기 보호막 위에 형성된 중합성 액정 조성물로부터 얻어지는 광학막을 포함하는 표시 소자용 기판.
[18] [16]에 따른 보호막이 형성된 컬러 필터 기판.
[19] [17]에 따른 표시 소자용 기판 또는 [18]에 따른 컬러 필터 기판을 가지는 액정 표시 소자.
본 명세서에서, 「기판」은 본 발명의 보호막용 조성물 등이 도포되는 대상이 될 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으며, 그 형상은 평판형에 한정되지 않고, 곡면형이라도 되며, 또한 가요성(可撓性)이 있는지의 여부도 상관없다.
본 발명의 바람직한 태양에 따른 보호막용 조성물 및 상기 조성물로부터 이루어지는 보호막은, 예를 들면, 투명성이 높고, 러빙 처리에 의해 양호한 액정 배향성을 가진다. 또한, 본 발명의 바람직한 태양에 따른 보호막용 조성물로 이루어지는 보호막이 형성된 컬러 필터 기판은, 배향막의 형성이 불필요하다. 따라서, 본 발명의 액정 표시 소자의 제조 공정이 간략화되어, 제조 비용을 절감할 수 있다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
본 발명은, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1), 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물을 제공한다.
또한, 본 발명은, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1) 및 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물을 제공한다.
1. 폴리에스테르- 폴리아미드산 (A1)
폴리에스테르-폴리아미드산(A1)은, 일반식(1) 및 일반식(2)으로 표시되는 구성 단위를 가지는 화합물이다. 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 말단은, 예를 들면, 산 무수물기, 아미노 또는 히드록시 등으로 구성된다.
식(1) 및 식(2)의 R1, R2, R3는 각각 탄소수 2∼100의 유기기라면, 특별히 한정되지 않는다.
본 발명의 보호막용 조성물로부터 얻어지는 막의 내약품성은, 일반적으로 폴 리에스테르-폴리아미드산(A1)이 고분자량인 것이 적당하고, 용제에 대한 용해성은, 일반적으로 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이 저분자량인 것이 적당하다. 여기에서, 본 발명의 보호막용 조성물에 포함되는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 중량 평균 분자량은 1,000∼200,000인 것이 바람직하고, 2,000∼150,000인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에 있어서 보호막용 조성물 중의 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 농도는 특별히 한정되지 않지만 2∼40중량%가 바람직하고, 5∼30중량%가 더욱 바람직하다. 이러한 농도 범위이면, 보호막용 조성물의 점도가 최적이 되고, 각종 도포 방법에 의하여 균일한 막 두께의 도막을 형성할 수 있으므로 바람직하다.
본 발명에서 이용할 수 있는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)은, 예를 들면, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)로부터 얻어지지만, 상기 제조법에 한정되지 않는다.
이렇게 얻어진 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에 있어서, 상기 식(1)과 식(2) 중의 R1은 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 잔기이며, 상기 식(1) 중의 R2는 디아민(a2)의 잔기이며, 상기 식(2) 중의 R3는 다가 히드록시 화합물(a1)의 잔기이다.
다음에, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 얻기 위하여 이용할 수 있는, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 설명한다.
1.1 다가 히드록시 화합물( a1 )
본 발명에서 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 합성에 이용할 수 있는 다가 히드록시 화합물(a1)의 구체예로서는, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 분자량 1,000 이하의 폴리에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리프로필렌글리콜, 테트라프로필렌글리콜, 분자량 1,000 이하의 폴리프로필렌글리콜, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 1,2-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,2,5-펜탄트리올, 1,2-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,5-헥산디올, 1,2,6-헥산트리올, 1,2-헵탄디올, 1,7-헵탄디올, 1,2,7-헵탄트리올, 1,2-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 3,6-옥탄디올, 1,2,8-옥탄트리올, 1,2-노난디올, 1,9-노난디올, 1,2,9-노난트리올, 1,2-데칸디올, 1,10-데칸디올, 1,2,10-데칸트리올, 1,2-도데칸디올, 1,12-도데칸디올, 글리세린, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 디펜타에리스리톨, 비스페놀 A(상품명), 비스페놀 S(상품명), 비스페놀 F(상품명), 디에탄올아민, 트리에탄올아민, 상품명 「SEO-2」(日華化學(株) 제품), 상품명 「SKY CHDM」(新日本理化(株) 제품), 상품명 「리카비놀 HB」(新日本理化(株) 제품), 및, 하기 식(A)의 화합물 등을 들 수 있다.
Figure 112007042473124-pat00012
(식에서, R1, R3는 각각 독립적으로 -(CH2)x-O-(CH2)y-이며, x, y는 각각 독립 적으로 1∼15의 정수이며, R2는 탄소수 1∼5의 알킬이며, m은 2∼50의 정수임)
예를 들면, 얻어지는 보호막의 투명성의 향상시키기 위하여, 상기 다가 히드록시 화합물(a1)의 구체예 중에서도, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올, 1,6-헥산디올, 1,7-헵탄디올, 1,8-옥탄디올, 및 상품명 「SKY CHDM」(新日本理化(株) 제품)이 바람직하고, 이들 중에서도, 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올 및 1,6-헥산디올이 더욱 바람직하다.
1.2 디아민( a2 )
본 발명에서 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 합성에 이용할 수 있는 디아민(a2)의 구체예로서는, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(4-아미노페녹시)페닐][3- (4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(3-아미노페녹시)페닐][3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오르프로판, 식(b)으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.
Figure 112007042473124-pat00013
(식에서, R3 및 R4는 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬 또는 페닐이며, R5는 독립적으로 메틸렌, 페닐렌 또는 알킬 치환된 페닐렌이며, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼100의 정수임)
예를 들면, 얻어지는 보호막의 투명성을 향상시키기 위해서는, 상기 디아민(a2)의 구체예 중에서도, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰 및 상기 식(b)의 화합물이 바람직하고, 이들 중에서도 3,3'-디아미노디페닐술폰이 더욱 바람직하다.
본 명세서 중에서, 「알킬 치환된 페닐렌」에 있어서의, 「알킬」은, 탄소수 2∼10의 알킬인 것이 바람직하고, 탄소수 2∼6의 알킬인 것이 더욱 바람직하다. 알킬의 예로서는, 제한되는 것은 아니지만, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, s-부틸, t-부틸, 펜틸, 헥실, 도데카닐 등을 들 수 있다.
1.3 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물( a3 )
본 발명에서 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)의 합성에 이용할 수 있는 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 구체예로서는,
스티렌-무수 말레산 공중합체, 메타크릴산메틸-무수 말레산 공중합체 등의 무수물기를 가지는 라디칼 중합성 모노머와 다른 라디칼 중합성 모노머와의 공중합체; 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-벤조페논테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2',3,3'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,3,3',4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2-[비스(3,4―디카르복시페닐)]헥사플루오르프로판 2무수물, 및 에틸렌글리콜비스(안히드로트리메리테이트)(상품명 「 TMEG-100」, 新日本理化(株) 제품) 등의 방향족 테트라카르복시산 2무수물; 시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 메틸시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 시클로펜탄테트라카르복시산 2무수물, 및 시클로헥산테트라카르복시산 2무수물 등의 지환식 테트라카르복시산 2무수물; 및, 에탄테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물 등의 지방족 테트라카르복시산 2무수물을 들 수 있다.
예를 들면, 얻어지는 보호막의 투명성을 향상시키기 위해서는, 상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 구체예 중에서도, 투명성이 양호한 수지를 제조할 수 있는, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 2,2-[비스(3,4-디카르복시페닐)]헥사플루오르프로판 2무수물, 에틸렌글리콜비스(안히드로트리메리테이트)(상품명; TMEG-100, 新日本理化(株) 제품), 시클로부탄테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물 등이 바람직하고, 이들 중에서도, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물 등이 더욱 바람직하다.
1.4 폴리에스테르- 폴리아미드산(A1)에 첨가되는 첨가제
본 발명에서 이용할 수 있는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이, 분자 말단에 산 무수물기를 가지고 있을 경우에는, 필요에 의해, 1가 알코올을 첨가해서 반응시킬 수 있다. 1가 알코올이 첨가된 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)은, 예를 들면 평탄성이 양호해지므로 바람직하다.
첨가되는 1가 알코올로서는, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 이소프로필알코올, 알릴알코올, 벤질알코올, 히드록시에틸메타크릴레이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 페놀, 보르네올, 마터(martor), 리날로올, 테르피네올, 디메틸벤질카르비톨, 락트산에틸, 글리시돌, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄 등을 들 수 있다.
예를 들면, 얻어지는 보호막용 조성물의 평탄성을 향상시키기 위해서는, 상기 1가 알코올의 구체예 중에서도, 이소프로필알코올, 알릴알코올, 벤질알코올, 히드록시에틸메타크릴레이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 3-에틸-3-히드록시메틸옥세탄이 바람직하고, 이들 중에서도 벤질알코올이 더욱 바람직하다.
또한, 분자 말단에 산 무수물기를 가지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-아미노프로필메틸디에톡시실란, 4-아미노부틸트리메톡시실란, 4-아미노부틸트리에톡시실란, 4-아미노부틸메틸디에톡시실란, p-아미노페닐트리메톡시실란, p-아미노페닐트리에톡시실란, p-아미노페닐메틸디메톡시실란, p-아미노페닐메틸디에톡시실란, m-아미노페닐트리메톡시실란, 및 m-아미노페닐메틸디에톡시실란 등의 실리콘 함유 모노아민을 반응시키면, 예를 들면, 얻어진 도막의 내약품성이 개선되므로 바람직하다.
또한, 1가 알코올과 실리콘 함유 모노아민을 동시에 폴리에스테르-폴리아미 드산(A1)에 첨가해서 반응시킬 수도 있다.
1.5 반응 조건
폴리에스테르-폴리아미드산(A1)은, 다가 히드록시 화합물(a1)의 히드록시 1몰에 대하여, 디아민(a2)의 아미노를 0.1∼10몰, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 무수물을 1∼10몰 반응시켜서 얻어지는 것이 바람직하다. 또한, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)은, 다가 히드록시 화합물(a1)의 히드록시 1몰에 대하여, 디아민(a2)의 아미노를 0.2∼5몰, 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 산 무수물을 1.1∼5몰 반응시켜서 얻어지는 것이 더욱 바람직하다.
폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 얻기 위해서 이용할 수 있는 용제는, 해당화합물을 합성할 수 있으면 특별히 한정되지는 않지만, 예를 들면, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시피로피온산메틸, 3-에톡시피로피온산에틸, 시클로헥사논, N-메틸-2-피롤리돈, 및 N,N-디메틸아세트아미드, 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시피로피온산메틸, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 및 N-메틸-2-피롤리돈을 이용하는 것이 바람직하다.
이들 용제는 단독으로 또는 2종 이상의 혼합 용제로서도 사용할 수 있다. 또한, 상기 용제 이외에도 다른 용제를 혼합해서 이용할 수도 있지만, 다른 용제는 30중량% 이하의 비율로 이용하는 것이 바람직하다.
용제는, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)과의 합계 100중량부에 대하여, 100중량부 이상 사용하면, 반응이 원활하게 진행되므로 바람직하다. 반응은 40℃∼200℃에서, 0.2∼20시간 반응시키는 것이 바람직하다.
폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에 실리콘 함유 모노아민을 첨가해서 반응시킬 경우에는, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)과의 반응이 종료된 후에, 반응액을 40℃ 이하까지 냉각한 후, 실리콘 함유 모노아민을 첨가하고, 10∼40℃에서 0.1∼6시간 반응시키는 것이 바람직하다.
한편, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에 1가 알코올을 첨가해서 반응시킬 수도 있다.
또한, 반응 원료를 반응계에 첨가하는 순서는 특별히 한정되지 않는다. 즉, 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 동시에 용제에 첨가하거나, 디아민(a2)과 다가 히드록시 화합물(a1)을 반응 용제 중에 용해시킨 후에 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 첨가하거나, 다가 히드록시 화합물(a1)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 미리 반응시켜서 공중합체를 합성한 후에, 그 공중합체에 디아민(a2)을 첨가하거나, 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 미리 반응시켜서 공중합체를 합성한 후에, 그 공중합체에 다가 히드록시 화합물(a1)을 첨가하는 등 어떠한 방법을 이용해도 상관없다.
1.6 폴리에스테르-폴리이미드(A2)
폴리에스테르-폴리이미드(A2)는, 일반식(3) 및 일반식(2)으로 표시되는 구성 단위를 가지는 화합물이다. 폴리에스테르-폴리이미드(A2)의 말단은, 예를 들면, 산 무수물기, 아미노 또는 히드록시 등으로 구성된다. 식(3) 및 식(2) 중의 R1과 R2와 R3는 전술한 바와 같다.
본 발명의 보호막용 조성물로부터 얻어지는 막의 내약품성은, 일반적으로 폴리에스테르-폴리이미드(A2)가 고분자량인 것이 적당하고, 용제에 대한 용해성은, 일반적으로 폴리에스테르-폴리이미드(A2)가 저분자량인 것이 적당하다. 여기에서, 본 발명의 보호막용 조성물에 포함되는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)의 중량 평균 분자량은 1,000∼200,000인 것이 바람직하고, 2,000∼150,000인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에 있어서 보호막용 조성물 중의 폴리에스테르-폴리이미드(A2)의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 2∼40중량%가 바람직하고, 5∼30중량%가 더욱 바람직하다. 이러한 농도 범위라면, 보호막용 조성물의 점도가 최적이 되며, 각종 도포 방법에 의하여 균일한 막 두께의 도막을 형성할 수 있으므로 바람직하다.
본 발명에서 이용할 수 있는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)는, 예를 들면, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 이미드화함으로써 얻어진다. 이렇게 얻어진 폴리에스테르-폴리이미드(A2)에 있어서, 상기 식(2)과 식(3) 중의 R1은 산 무수물기를 2 개 이상 가지는 화합물(a3)의 잔기이며, 상기 식(3) 중의 R2는 디아민(a2)의 잔기이며, 상기 식(2) 중의 R3는 다가 히드록시 화합물(a1)의 잔기이다.
2, 폴리아미드산 (B)
본 발명에서 이용할 수 있는 폴리아미드산(B)은, 이러한 작용기를 가지고 있으면 특별히 한정되지 않는다. 또한, 보호막용 조성물은, 1개의 폴리아미드산에 한정되지 않고, 복수의 폴리아미드산을 포함해도 좋다.
본 발명에 있어서 보호막용 조성물 중의 폴리아미드산(B)의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0.1∼20중량%가 바람직하고, 0.2∼10중량%가 더욱 바람직하다. 이러한 농도 범위라면, 보호막의 배향성과 투명성이 높아지므로 바람직하다.
본 발명에 있어서 폴리아미드산은, 가열 또는 탈수 처리에 의해 부분적 또는 모두 이미드화된 폴리이미드로 한 후에 첨가해도 좋다.
폴리아미드산(B)은, 예를 들면, 디아민과 산 무수물기를 가지는 화합물을 반응시킴으로써 얻어진다.
2.1 폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 디아민
본 발명에 있어서, 폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 디아민은 특별히 한정되지는 않지만, 구체예로서는, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰, 비스[3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(4-아미노페녹시)페닐][3-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, [4-(3-아미노페녹시)페닐][3-(4-아미노페 녹시)페닐]술폰, 상기 식(b)으로 표시되는 화합물, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오르프로판, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 2,2'-디아미노디페닐프로판, 벤지딘, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-메틸시클로헥산, 비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]4-메틸시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-메틸시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄 및 하기 식 1∼172으로 표시되는 화합물 등이다.
Figure 112007042473124-pat00014
Figure 112007042473124-pat00015
Figure 112007042473124-pat00016
Figure 112007042473124-pat00017
Figure 112007042473124-pat00018
Figure 112007042473124-pat00019
Figure 112007042473124-pat00020
Figure 112007042473124-pat00021
Figure 112007042473124-pat00022
Figure 112007042473124-pat00023
Figure 112007042473124-pat00024
Figure 112007042473124-pat00025
Figure 112007042473124-pat00026
Figure 112007042473124-pat00027
Figure 112007042473124-pat00028
Figure 112007042473124-pat00029
Figure 112007042473124-pat00030
예를 들면, 얻어지는 보호막용 조성물의 배향성을 향상시키기 위해서는, 폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 상기 디아민의 구체예 중에서도, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오르프로판, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 2,2'-디아미노디페닐프로판, 벤지딘, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-메틸시클로헥산, 비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]4-메틸시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄이 바람직하다.
이들 디아민은 1종 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
2.2 폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 산 무수물기를 가지는 화합물
본 발명에 있어서, 폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 산 무수물기를 가지는 화합물은 특별히 한정되지는 않지만, 구체예로서는, 스티렌-무수 말레산 공중합체, 4-(2,5-디옥소테트라하이드로푸란-3-일)-1,2,3,4-테트라하이드로나프탈렌-1,2-디카르복시산 무수물, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복시산 무수물, 하기 식(173)∼(219)으로 표시되는 화합물 등이다.
Figure 112007042473124-pat00031
Figure 112007042473124-pat00032
Figure 112007042473124-pat00033
Figure 112007042473124-pat00034
Figure 112007042473124-pat00035
폴리아미드산(B)의 합성에 이용할 수 있는 상기 식(173)∼(219)으로 표시되는 산 무수물기를 가지는 화합물의 구체예 중에서도, 식(173), 식(177), 식(178), 식(179), 식(180), 식(181), 식(185), 식(189) 및 식(191)으로 표시되는 화합물이 바람직하다.
또한, 상기 산 무수물기를 가지는 화합물은 1종 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.
2.3 폴리아미드산(B)에 첨가되는 첨가제
본 발명에서 이용할 수 있는 폴리아미드산(B)이, 분자 말단에 산 무수물기를 가지고 있을 경우에는, 필요에 따라, 1가 알코올을 첨가해서 반응시킬 수 있다. 1가 알코올이 첨가된 폴리아미드산(B)은, 예를 들면, 평탄성이 양호해지므로 바람직하다. 첨가되는 1가 알코올의 예는, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에 첨가되는 1가 알코올의 예와 동일하다.
또한, 폴리아미드산(B)에 실리콘 함유 모노아민을 첨가해서 반응시키면, 예를 들면, 얻어진 도막의 내약품성이 개선되므로 바람직하다. 첨가되는 실리콘 함유 모노아민의 예는, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)에 첨가되는 실리콘 함유 모노아민의 예와 동일하다.
또한, 1가 알코올과 실리콘 함유 모노아민을 동시에 폴리아미드산(B)에 첨가하여 반응시킬 수도 있다.
2.4 반응 조건
폴리아미드산(B)은, 디아민(a2)의 아미노 1몰에 대하여, 산 무수물기를 가지는 화합물의 산 무수물을 0.8∼1.2몰 반응시켜서 얻어지는 것이 바람직하고, 산 무수물기를 가지는 화합물의 무수물을 0.9∼1.1몰 반응시켜서 얻어지는 것이 더욱 바람직하다.
폴리아미드산(B)을 얻기 위하여 이용할 수 있는 용제는, 해당 화합물을 합성 할 수 있으면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 얻기 위하여 이용할 수 있는 용제와 동일한 용제를 이용할 수 있다.
용제는, 디아민과 산 무수물기를 가지는 화합물의 합계 100중량부에 대하여 100중량부 이상 사용하면, 반응이 원활하게 진행되므로 바람직하다. 반응은 40℃∼200℃에서, 0.2∼20시간 반응시키는 것이 바람직하다.
폴리아미드산(B)에 실리콘 함유 모노아민을 첨가하여 반응시킬 경우에는, 디아민과 산 무수물기를 가지는 화합물의 반응이 종료한 후에, 반응액을 40℃ 이하까지 냉각한 후, 실리콘 함유 모노아민을 첨가하고, 10∼40℃에서 0.1∼6시간 반응시키면 바람직하다.
또한, 반응 원료를 반응계에 첨가하는 순서는 특별히 한정되지 않는다. 즉, 디아민과 산 무수물기를 가지는 화합물을 동시에 용제에 첨가하거나, 디아민을 용제에 첨가한 후에 산 무수물기를 가지는 화합물을 첨가하는 등, 어느 쪽의 방법도 이용할 수 있다.
3. 에폭시 수지(C)
본 발명의 보호막용 조성물은, 필요에 따라 에폭시 수지(C)를 포함해도 좋다. 본 발명에서 이용할 수 있는 에폭시 수지(C)는, 옥실란을 가지면 특별히 한정되지 않지만, 옥실란을 2개 이상 가지는 화합물이 바람직하다.
본 발명에 있어서 보호막용 조성물 중의 에폭시 수지의 농도는 특별히 한정되지 않지만, 0.5∼20중량%가 바람직하고, 2∼15중량%가 더욱 바람직하다. 이러한 농도 범위라면, 보호막용 조성물로부터 형성된 도막의 내열성, 내약품성이 양호해 진다.
에폭시 수지(C)의 구체예로서는, 비스페놀 A형 에폭시 수지, 글리시딜에스테르형 에폭시 수지, 지환식 에폭시 수지, 옥실란을 가지는 모노머의 중합체, 및 옥실란을 가지는 모노머와 다른 모노머와의 공중합체 등을 들 수 있다.
에폭시 수지의 구체예로서는, 상품명 「에피코트 807」, 「에피코트 815」, 「에피코트 825」, 「에피코트 827」, 상기 식(223)으로 표시되는 화합물인 「에피코트 828」, 「에피코트 190P」, 「에피코트 191P」(이상, 油化셀에폭시(株) 제품), 상품명 「에피코트 1004」, 「에피코트 1256」(이상, 저팬에폭시레진(株) 제품), 상품명 「아랄다이트 CY177」, 상기 식(220)으로 표시되는 화합물인 「아랄다이트 CY184」(日本치바가이기(株) 제품), 상기 식(221)으로 표시되는 화합물인 상품명 「셀록사이드 2021P」, 「EHPE-3150」(다이셀化學工業(株) 제품), 상기 식(222)으로 표시되는 화합물인 상품명 「텍모어 VG3101L」(三井化學(株) 제품) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 상기 식(223)으로 표시되는 n=0∼4의 화합물의 혼합물인 「에피코트 828」, 상기 식(220)으로 표시되는 화합물인 「아랄다이트 CY184」(日本치바가이기(株) 제품), 상기 식(221)으로 표시되는 화합물인 상품명 「셀록사이드 2021P」(다이셀化學工業(株) 제품), 상기 식(222)으로 표시되는 화합물인 상품명 「텍모어 VG3101L」(三井化學(株) 제품)이 투명성과 평탄성이 양호해지기 때문에 바람직하다.
또한, 옥실란을 가지는 모노머의 구체예로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실(메타)아크릴레이트, 및 메틸글리시딜(메타)아크릴레이트 를 들 수 있다.
옥실란을 가지는 모노머와 공중합을 행하는 다른 모노머의 구체예로서는, (메타)아크릴산, 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 이소프로필(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, iso-부틸(메타)아크릴레이트, t-부틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 스티렌, 메틸스티렌, 크롤메틸스티렌, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸(메타)아크릴레이트, N-시클로헥실말레이미드 및 N-페닐말레이미드 등을 들 수 있다.
옥실란을 가지는 모노머의 중합체의 바람직한 구체예로서는, 폴리글리시딜메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 옥실란을 가지는 모노머와 다른 모노머와의 공중합체의 바람직한 구체예로서는, 메틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, 벤질메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, 부틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, 2-히드록시에틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체, (3-에틸-3-옥세타닐)메틸메타크릴레이트-글리시딜메타크릴레이트 공중합체 및 스티렌-글리시딜메타크릴레이트 공중합체를 들 수 있다.
4. 본 발명의 보호막용 조성물에 첨가되는 첨가제
본 발명의 보호막용 조성물은, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)과 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 혼합시켜서 얻어지지만, 필요에 따라서, 에폭시 수지(C)를 추가로 포함한다. 게다가, 목적으로 하는 특성에 따라서는, 본 발명의 보호막용 조성 물은, 계면 활성제, 대전 방지제, 커플링제, 트리메리트산 등의 에폭시 경화제, 아미노실리콘 화합물, 용제, 그 밖의 첨가제를 필요에 따라서 선택하여 첨가하고, 이들을 균일하게 혼합 용해함으로써 얻을 수 있다.
(1) 계면 활성제
예를 들면, 도포성을 향상시키기 위해서는, 이러한 목적을 만족시키기 위한 계면 활성제를 첨가할 수 있다. 본 발명의 보호막용 조성물에 첨가되는 계면 활성제의 구체예로서는, 상품명 「Byk-300」, 「Byk-306」, 「Byk-335」, 「Byk-310」, 「Byk-341」, 「Byk-344」, 「Byk-370」(비크·케미(株) 제품) 등의 실리콘계 계면 활성제, 상품명 「Byk-354」, 「ByK-358」, 「Byk-361」(비크·케미(株) 제품) 등의 아크릴계 계면 활성제, 상품명 「DFX-18」, 「후타젠트 250」, 「후타젠트 251」(네오스(株) 제품) 등의 플루오르계 계면 활성제를 들 수 있다.
이들 계면 활성제는, 1종만을 이용해도 되며, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된다.
계면 활성제는, 하지(下地) 기판에 대한 습윤성, 평탄성, 또는 도포성을 향상시키기 위해서 사용되며, 보호막용 조성물 중 0.01∼1중량% 첨가해서 이용되는 것이 바람직하다.
(2) 대전 방지제
본 발명의 보호막용 조성물에 첨가되는 대전 방지제는, 특별히 한정되지 않으며, 통상의 대전 방지제를 이용할 수 있다. 구체적으로는, 산화주석, 산화주석·산화안티몬 복합 산화물, 산화주석·산화인듐 복합 산화물 등의 금속 산화물이나 4급 암모늄염 등을 들 수 있다.
이들 대전 방지제는, 1종만을 이용해도 되며, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된다.
대전 방지제는, 대전을 방지하기 위해서 사용되며, 보호막용 조성물 중 0.01∼1중량% 첨가하여 이용되는 것이 바람직하다.
(3) 커플링제
본 발명의 보호막용 조성물에 첨가되는 커플링제는, 특별히 한정되지 않으며, 통상의 커플링제를 이용할 수 있다. 첨가되는 커플링제는 실란 커플링제가 바람직하고, 구체적으로는, 트리알콕시실란 화합물 또는 디알콕시실란 화합물 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 예를 들면, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-비닐프로필트리에톡시실란, γ-아크릴로일프로필메틸디메톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일프로필메틸디에톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴로일프로필메틸디메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필메틸디에톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리에톡시실란, γ-글리드옥시프로필메틸디메톡시실란, γ-글리시드옥시프로필트리메톡시실란, γ-글리드옥시프로필메틸디에톡시실란, γ-글리시드옥시프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-아미노에틸-γ-이미노프로필메틸디메톡시실란, N-아미노에틸-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-아미노에틸-γ-아미노프로필디에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-페닐-γ-아미노프로필메틸디에톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디메톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-메르캅토프로필메틸디에톡시실란, γ-메르캅토프로필트리에톡시실란, γ-이소시아네이트프로필메틸디에톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등을 예시할 수 있다. 이 중에서도, γ-비닐프로필트리메톡시실란, γ-아크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴로일프로필트리메톡시실란, γ-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등이 바람직하다.
이들 커플링제는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된다.
커플링제는, 보호막용 조성물 중 0.01∼3중량% 첨가해서 이용하는 것이 바람직하다.
(4) 에폭시 경화제
본 발명의 보호막용 조성물에 첨가되는 에폭시 경화제는, 특별히 한정되지 않으며, 통상의 에폭시 경화제를 이용할 수 있다. 구체적으로는, 유기산 디하이드라지드 화합물, 이미다졸 및 그 유도체, 디시안디아미드, 방향족 아민, 다가 카르복시산, 다가 카르복시산 무수물 등을 들 수 있다. 더욱 구체적으로는, 디시안디아미드 등의 디시안디아미드류, 아디프산디하이드라지드, 1,3-비스(하이드라지노카르보에틸)-5-이소프로필히단토인 등의 유기산 디하이드라지드, 2,4-디아미노-6-[2'-에틸이미다졸릴-(1')]-에틸트리아진, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸 등의 이미다졸 유도체, 무수 프탈산, 무수 트리메리트산, 1,2,4-시클로헥산트리카르복시산-1,2-무수물 등의 산 무수물 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 투명성이 양호한 트리메리트산, 1,2,4-시클로헥산트리카르복시산-1,2-무수물이 바람직하다.
이들 에폭시 경화제는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된다.
에폭시 경화제는, 보호막용 조성물 중 0.2∼5중량% 첨가하여 이용하는 것이 바람직하다.
(5) 아미노실리콘 화합물
본 발명의 보호막용 조성물에 있어서 아미노실리콘 화합물을 첨가할 수 있다. 아미노실리콘 화합물로서는, 파라아미노페닐트리메톡시실란, 파라아미노페닐트리에톡시실란, 메타아미노페닐트리메톡시실란, 메타아미노페닐트리에톡시실란, 아미노프로필트리메톡시실란, 아미노프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.
이들 아미노실리콘 화합물은, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된다.
아미노실리콘 화합물은, 기판에 대한 밀착성을 향상시키기 위한 것이며, 보호막용 조성물 중 0.05∼2중량% 첨가하여 이용하는 것이 바람직하다.
(6) 용제
본 발명의 보호막용 조성물에 포함될 수 있는 용제는, 폴리에스테르-폴리아미드산(A1), 폴리에스테르-폴리이미드(A2), 폴리아미드산(B), 에폭시 수지(C)를 용해할 수 있는 용제라면 특별히 제한되지 않는다. 용제는, 폴리아미드산, 가용성 폴리이미드 등의 고분자 성분의 제조 공정이나 용도로서 보통 사용되고 있는 용제를 넓게 포함하며, 사용 목적에 따라서, 적절하게 선택할 수 있다.
이들 용제를 예시하면 아래와 같다. 폴리아미드산이나 가용성 폴리이미드에 대하여 친용제인 비프로톤성 극성 유기 용제의 예는, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸리디논, N-메틸카프로락탐, N-메틸프로피온아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 디메틸술폭시드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, 디에틸아세트아미드, γ-부티로락톤 등이다.
또한, 도포성 개선 등을 목적으로 한 기타 용제의 예로서는, 락트산알킬, 3-메틸-3-메톡시부탄올, 테트랄린, 이소프론, 에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에틸렌글리콜모노알킬에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 디에틸렌글리콜모노알킬에테르, 에틸렌글리콜모노알킬 또는 페닐아세테이트, 트리에틸렌글리콜모노알킬에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르 등의 프로필렌글리콜모노알킬에테르, 말론산디에틸 등의 말론산디알킬, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 디프로필렌글리콜모노알킬에테르, 이들 아세테이트류 등의 에스테르 화합물을 들 수 있다. 이들 용제 중에서도, N-메틸-2-피롤리돈, 디메틸이미다졸리디논, γ-부티로락톤, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 3-메톡시프로피온산메틸 등을 이용하는 것이 특히 바람직하다.
이들의 용제는, 1종만을 이용해도 되고, 2종 이상을 혼합해서 이용해도 된 다. 또한, 용제는, 보호막용 조성물 중의 고형분 농도가 5∼60중량%가 되도록 첨가하여 이용하는 것이 바람직하다.
(7) 기타의 첨가제
본 발명의 보호막용 조성물은, 본 발명의 특성을 손상하지 않는 범위(바람직하게는 보호막용 조성물의 20중량% 이내)에서, 가용성 폴리이미드, 폴리에스테르, 아크릴산 폴리머, 아크릴레이트 폴리머 등의 폴리머 성분과 혼합해서 사용할 수도 있다.
또한, 본 발명의 보호막용 조성물에는, 디카르복시산 또는 그 유도체와 디아민과의 반응 생성물인 폴리아미드나 테트라카르복시산 2무수물, 디카르복시산 또는 그 유도체와 디아민과의 반응 생성물인 폴리아미드이미드 등의 폴리머 성분을 본 발명의 목적을 손상하지 않는 범위에서 첨가할 수 있다.
5. 보호막의 형성
본 발명의 보호막용 조성물을, 기판 표면에 도포하고, 핫 플레이트 또는 오븐 등에서 가열하여 용제를 제거함으로써 도막을 형성할 수 있다. 가열 조건은 각 성분의 종류 및 배합 비율에 따라 상이하지만, 보통 70∼120℃에서, 오븐을 이용할 경우 5∼15분 사이, 핫 플레이트를 이용할 경우 1∼5분 사이에 도막이 형성된다.
기판 표면에 대한 보호막용 조성물의 도포는, 스핀코팅법, 롤코팅법, 디핑법, 및 슬릿코트법 등과 같은 통상의 방법에 의해 도막을 형성할 수 있다.
도막을 형성한 후, 도막을 경화시키기 위해서 180∼250℃, 바람직하게는 200∼240℃에서, 오븐을 이용할 경우 30∼90분간, 핫 플레이트를 이용할 경우 5∼30분 간 가열 처리함으로써 경화막을 얻을 수 있다.
이렇게 얻어진 경화막은, 가열시에 있어서, 폴리에스테르-폴리아미드산의 폴리아미드산 부분 및 폴리아미드산이 탈수 환화되어 이미드 결합을 형성하고 있으며, 추가적인 러빙 처리에 의해 액정 배향막으로서의 특성이 발현된다. 이 경화 막은 알칼리 용액에 의해 용이하게 제거가 가능하고, 리워크(rework)성이 우수한 보호막이다.
또한, 에폭시 수지(C)를 첨가했을 경우에는, 상기 이미드 결합의 형성과 동시에 폴리에스테르-폴리아미드산의 프리 카르복시산과 에폭시 수지가 반응하여, 대단히 강하고, 투명성, 내열성, 내약품성, 평탄성, 밀착성 및 내(耐)스패터(spatter)성이 우수하며, 또한 액정 배향성을 가진 보호막이 된다.
6. 표시 소자용 기판
본 발명의 표시 소자용 기판은, 배향 처리가 행해진 보호막과, 해당 보호막 위에 형성된 중합성 액정 조성물을 중합시켜서 얻어진 광학막을 가진다.
본 발명의 표시 소자용 기판은, 유리 기판 등의 기판에 본 발명의 보호막용 조성물을 도포한 후, 해당 조성물을 건조·가열 처리하고, 탈수·폐환 반응시킴으로써, 기판 위에 보호막을 형성한다. 보호막을 배향 처리한 후에, 해당 배향막 위에 중합성 조성물을 도포하여 중합시킴으로써, 액정 조성물을 구성하는 분자의 배향 상태가 고정화된 광학막이 형성된다.
이와 같이, 본 발명의 표시 소자용 기판은 광학 보상 기능을 가질 수 있다. 이러한 표시 소자용 기판은, 소정의 화소마다 또는 화소의 소정의 영역에, 특정한 광학 이방성을 가지는 광학 보상층을 독립적으로 형성할 수 있다.
본 발명의 표시 소자용 기판에 이용할 수 있는 중합성 액정 조성물은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 시판되는 중합성 액정 조성물을 사용할 수 있다. 또한, 본 발명의 표시 소자용 기판에 이용할 수 있는 중합성 액정 조성물에 포함되는 중합성 액정 모노머는, 예를 들면, 특개 평 9-316032호 공보, 특개 평 7-17910호 공보, WO98/00428호 팜플렛, Macromolecules, 26, 6132-6134(1993), DE19504224A1 공보, Makromol. Chem., 190, 3201-3215(1998), 특개 2003-48903호 공보, WO97/00600호 팜플렛, EP1205467A1 공보, 또는 특개 2006-307150호 공보 등에 기재되어 있는 모노머를 이용할 수 있다.
7. 컬러 필터 기판
본 발명의 컬러 필터 기판은, 예를 들면, 블랙 매트릭스가 형성된 유리 기판 위에, R, G, B(적, 녹, 청)의 3색의 컬러 필터가 형성되고, 추가로 본 발명의 보호막용 조성물로 이루어지는 보호막 등이 형성된 구성을 가진다.
본 발명의 컬러 필터 기판은, 유리 기판 등의 투명 기판 위에, 크롬 등의 메탈로 이루어지는 블랙 매트릭스를 포토리소그래피, 에칭에 의해 형성한 후, 소정의 색에 대해서 소정의 형상의 레지스트 패턴을 마스크로 에칭하여, 컬러 필터 패턴을 얻는 공정, 이어서, 본 발명의 보호막용 조성물을 도포하는 공정, 이어서 계속되는 건조 공정 및 탈수·폐환 반응에 필요한 가열 처리하는 공정을 거쳐서 제조된다. 그리고, 필요에 따라서, 컬러 필터 기판을 구성하는 보호막을 배향 처리하는 공정이 행해진다.
배향 처리 공정에서의 배향 처리 방법으로서는 러빙법, 광 배향법, 전사법 등의 일반적으로 알려져 있는 방법을 이용할 수 있다.
본 발명에서 특별히 바람직하게 이용 가능한 배향 처리 방법은, 러빙법이며, 본 발명의 목적이 달성되는 범위라면 어떠한 러빙 처리 조건이라도 상관없다. 특히 바람직한 조건은, 모족(毛足) 만입(灣入; indentation) 0.2∼0.8mm, 스테이지 이동 속도 5∼250mm/s, 롤러 회전 속도 500∼2,000rpm이다.
종래의 컬러 필터 기판에서는 오버코트와 배향막이 형성되어 있었지만, 본 발명의 보호막용 조성물로 이루어지는 보호막은 오버코트가 가지는 기능인 평탄성과, 배향막이 가지는 기능인 배향성을 가지기 때문에, 본 발명의 보호막용 조성물의 보호막을 형성하면, 컬러 필터 기판의 제조 공정을 간략화할 수 있는 동시에, 제조 비용을 절감할 수 있다.
8. 액정 표시 소자
본 발명의 액정 표시 소자는, 본 발명의 보호막용 조성물을 이용하여 얻어진 보호막을 가지는 표시 소자용 기판 또는 컬러 필터 기판을 가진다. 예를 들면, 본 발명의 컬러 필터 기판을 가지는 액정 표시 소자는, 화소 전극 및 공통 전극을 가지며 컬러 필터 기판에 대향 배치되는 제2 투명 기판(예를 들면, TFT 기판), 및 양쪽 기판에 협지된 액정을 포함하는 구성을 가진다.
본 발명의 컬러 필터 기판은 ITO 전극을 포함하지 않을 수도 있으므로, 횡전계 방식(in plane switching 방식)의 액정 표시 소자에 이용되는 것이 바람직하다.
본 발명의 액정 표시 소자는, 배향 처리된 본 발명의 컬러 필터 기판과 배향 처리된 상기 제2 투명 기판을 스페이서를 개재하여 대향시켜서 조립하는 공정, 액정 재료를 넣어 밀봉하는 공정, 및 편광 필름을 부착하는 공정을 수행함으로써 제조된다.
한편, 기판에 설치된 전극은, 유리 등의 투명 기판 위에 크롬 등의 금속을 스퍼터링법 등을 이용해서 퇴적시킨 후, 소정 형상의 레지스트 패턴을 마스크로 에칭하여 형성된다.
본 발명의 액정 표시 소자는, 배향 처리 전후에 세정액에 의한 세정 처리가 행해진 후 제조될 수도 있다. 세정 방법으로서는, 브러싱, 제트 스프레이, 증기 세정 또는 초음파 세정 등을 들 수 있다. 이들 방법은 단독 또는 병용될 수 있다. 세정액으로서는 순수 또는, 메틸알코올, 에탄올, 이소프로필알코올 등의 각종 알코올류, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류, 염화메틸렌 등의 할로겐계 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤 등의 케톤류를 이용할 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다. 물론, 이들 세정액은 충분히 정제하여, 불순물이 적은 것이 이용된다.
본 발명의 액정 표시 소자에 있어서 이용할 수 있는 액정 조성물은, 특별히 제한되지는 않지만, 예를 들면 유전율 이방성이 플러스인 각종 액정 조성물을 이용할 수 있다. 바람직한 액정 조성물의 예는, 특허 제3086228호 공보, 특허 제2635435호 공보, 특표 평 5-501735호 공보, 특개 평 8-157826호 공보, 특개 평 8-231960호 공보, 특개 평 9-241644호 공보(EP885272A1 명세서), 특개 평 9-302346호 공보(EP806466A1 명세서), 특개 평 8-199168호 공보(EP722998A1 명세서), 특개 평 9-235552호 공보, 특개 평 9-255956호 공보, 특개 평 9-241643호 공보(EP885271A1 명세서), 특개 평 10-204016호 공보(EP844229A1 명세서), 특개 평 10-204436호 공보, 특개 평 10-231482호 공보, 특개 2000-087040호 공보, 특개 2001-48822 공보 등에 개시되어 있다.
또한, 본 발명의 액정 표시 소자에 있어서 이용할 수 있는 액정 조성물은, 예를 들면 유전율 이방성이 마이너스인 각종 액정 조성물을 이용할 수도 있다. 바람직한 액정 조성물의 예는, 특개 소 57-114532호 공보, 특개 평 2-4725호 공보, 특개 평 4-224885호 공보, 특개 평 8-40953호 공보, 특개 평 8-104869호 공보, 특개 평 10-168076호 공보, 특개 평 10-168453호 공보, 특개 평 10-236989호 공보, 특개 평 10-236990호 공보, 특개 평 10-236992호 공보, 특개 평 10-236993호 공보, 특개 평 10-236994호 공보, 특개 평 10-237000호 공보, 특개 평 10-237004호 공보, 특개 평 10-237024호 공보, 특개 평 10-237035호 공보, 특개 평 10-237075호 공보, 특개 평 10-237076호 공보, 특개 평 10-237448호 공보(EP967261A1 명세서), 특개 평 10-287874호 공보, 특개 평 10-287875호 공보, 특개 평 10-291945호 공보, 특개 평 11-029581호 공보, 특개 평 11-080049호 공보, 특개 2000-256307 공보, 특개 2001-019965 공보, 특개 2001-072626 공보, 특개 2001-192657 공보 등에 개시되어 있다.
또한, 상기 유전율 이방성이 플러스 또는 마이너스인 액정 조성물에 1종 이상의 광학 활성 화합물을 첨가해서 사용해도 된다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예 및 비교예에 의해 설명하지만, 본 발명이 이들 실시 예에 한정되는 것은 아니다.
실시예 및 비교예에서 이용하는, 디아민, 테트라카르복시산 2무수물 및 용제의 명칭을 약호로 나타낸다. 이후에는 하기 약호를 사용한다.
디아민
4,4'-디아미노디페닐에테르: APE
3,3'-디아미노디페닐술폰: DDS
테트라카르복시산 2무수물
1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복시산 2무수물: CBDA
피로메리트산 2무수물: PMDA
3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물: ODPA
용제 성분
N-메틸-2-피롤리돈: NMP
γ-부티로락톤: GBL
부틸셀루솔브: BC
[합성예 1] 폴리에스테르-폴리아미드산의 합성
온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플라스크에, ODPA를 65.00g, 1,4-부탄디올을 9.44g, 탈수 정제한 NMP를 111.66g 넣고, 건조 질소 기류하에서 130℃에서 1시간 동안 교반하였다. 이 반응액을 40℃까지 냉각하고, DDS를 26.01g, 탈수 정제한 NMP를 122.72g 넣고, 건조 질소 기류하에서 40℃에서 2시간 동안 교반했다. 마지막으로, 탈수 정제한 NMP를 167.42g 첨가 하여 교반하여, 담황색 투명한 폴리에스테르-폴리아미드산의 20% 용액을 얻었다. 이 용액의 점도는 311mPa·s였다. GPC로 측정한 중량 평균 분자량은 14,000이었다.
[합성예 2] 폴리아미드산의 합성
온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 200ml의 4구 플라스크에 CBDA를 1.96g, PMDA를 2.18g, APE를 4.00g, 탈수 NMP를 77.32g 넣고, 건조 질소 기류하에서 25℃에서 30시간 동안 교반하였다. 이 반응액에 BC를 38.67g, GBL을 38.67g 첨가하고, 50℃로 승온하여 6시간 교반한 후, 냉각하여, 고형분의 농도가 5중량%인 폴리아미드산 용액을 얻었다. 반응액의 점도는 34.2mPa·s(E형 점도계, 25℃)였다. 얻어진 폴리아미드산의 중량 평균 분자량은 38,000이었다.
[실시예 1] 보호막용 조성물의 조제
다음에 나타내는 각 성분을 건조 질소 기류하 실온에서 혼합 용해하였다.
합성예 1의 폴리에스테르-폴리아미드산 용액 5.00g
합성예 2의 폴리아미드산 용액 2.00g
NMP 1.00g
GBL 2.00g
BC 2.00g
이렇게 얻어진 용액을, 0.2μm의 플루오르 수지 재질의 멤브레인 필터로 여과하여, 보호막용 조성물을 얻었다.
[실시예 2] 보호막의 제조
실시예 1에서 얻어진 보호막용 조성물을 전극 부착 유리 기판 위에 스피너에 의해 도포하여 도막을 형성했다. 도포 조건은 800rpm, 10초였다. 도막 후 80℃에서 약 5분간 예비 소성한 후, 210℃에서 30분 동안 가열 처리하여 막 두께 1.22μm인 보호막을 형성하였다. 이 보호막의 400nm에서의 투과율은 97.7%였다. 얻어진 보호막을 株式會社飯沼게이지製作所 제품인 러빙 처리 장치를 이용하여, 러빙 천(모족 길이 1.8mm: 레이욘)의 모족 만입 0.40mm, 스테이지 이동 속도 60mm/s, 롤러 회전 속도 1500rpm의 조건으로, 러빙 처리하였다. 러빙 처리 후의 액정 배향막 표면을 100 및 400배의 광학 현미경으로 관찰한 결과, 러빙에 의하여 깎인 흔적, 깍인 흠집은 관찰되지 않았다.
얻어진 보호막을 초순수 중에서 5분간 초음파 세정 후, 오븐에서 120℃에서 30분 동안 건조했다. 이 보호막을 형성한 전극 부착 유리 기판에 4μm의 갭 재료를 살포하고, 보호막을 형성한 면을 내측으로 하여 접합, 에폭시 경화제로 밀봉하여, 갭 4μm의 패러렐 셀을 제조하였다. 상기 셀에 액정 재료를 주입하고, 주입구를 광경화제로 밀봉하였다. 이어서, 110℃에서 30분 동안 가열 처리한 후, 실온으로 되돌렸다. 액정 재료로서 사용한 액정 조성물의 조성은 하기와 같다. 이 조성물의 NI점은 100.0℃이며, 복굴절은 0.093이었다.
액정 조성물
Figure 112007042473124-pat00036
배향성의 확인
실온에서, 편광 현미경 관찰에 의해 배향성을 확인하였다. 전압을 인가하지 않은 상태에서 배향 상태를 확인하였다. 셀을 회전시키면, 명(明) 상태와 암(暗) 상태가 교대로 관측되었다. 또한, 암 상태에서의 배향 불량에 의한 광 누출은 관찰되지 않았다.
[실시예 3]
다음에 나타내는 각 성분을 건조 질소 기류하에서 실온에서 혼합 용해한 후, 0.2μm의 플루오르 수지 재질의 멤브레인 필터에 의해 여과하여, 보호막용 조성물 을 얻었다.
합성예 1의 폴리에스테르-폴리아미드산 용액 5.00g
합성예 2의 폴리아미드산 용액 2.00g
셀록사이드 2021P(지환식 에폭시 수지) 0.50g
NMP 1.00g
GBL 2.00g
BC 2.00g
스피너에 의한 도포 조건이 1800rpm, 10초인 것 이외에는, 실시예 2와 동일한 조건으로, 막 두께 1.35μm인 보호막을 형성하였다. 이 보호막의 400nm에서의 투과율은 97.9%였다.
얻어진 보호막에 대하여 실시예 1과 동일한 조건으로 러빙 처리하고, 러빙 처리 후의 액정 배향막 표면을 100배 및 400배 광학 현미경으로 관찰한 결과, 러빙에 의한 깎인 흔적, 깎인 흠집은 관찰되지 않았다. 또한, 셀 제조 후의 편광 현미경에 의한 배향성 확인에 있어서도, 전압을 인가하지 않은 상태에서 배향 불량에 의한 광 누출은 확인되지 않았다.
[실시예 4]
실시예 3에서 조제한 보호막용 조성물을 사용하고, 실시예 3과 동일한 조건으로 유리 기판에 보호막을 형성한 후, 해당 보호막을 러빙 처리했다. 이 보호막 위에, 중합성 액정 조성물(PLC-1)을 스피너에 의해 도포했다. 도포 조건은 800rpm, 10초였다. PLC-1을 도포한 후, 기판을 80℃에서 3분 동안, 핫 플레이트 상에 위치시키고, 이어서, 실온의 알루미늄 베드 위에 위치시켜서 냉각하였다. 또한, 질소 분위기하에서 365nm의 자외선을 300mJ/cm2 조사하고, 220℃의 오븐에서 30분 동안 소성하여, 중합성 액정 조성물(PLC-1)로 이루어진 광학막을 얻었다. 이와 같이, 보호막과 상기 보호막 위에 형성된 광학막을 가지는 표시 소자용 기판을 얻었다. 편광 현미경에 의해 배향성을 확인한 결과, 배향성은 양호하였다.
중합성 액정 조성물(PLC-1)
LC11 19.5중량%
LC12 10.5중량%
시클로펜타논 69.0중량%
IRGACURE 651 1.0중량%
Figure 112007042473124-pat00037
화합물(LC11) 및 (LC12)은 특개 2006-307150호 공보에 개시된 방법으로 합성되었다. 또, IRGACURE 651은 치바·스페셜리티·케미컬(株) 제품인 광중합 개시제이다.
[비교예 1]
온도계, 교반기, 원료 투입구 및 질소 가스 도입구를 구비한 500ml의 4구 플 라스크에 2,2'-아조비스(이소부틸니트릴)을 6g, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(이하, PGMEA라 약칭함)를 200g, 스티렌을 20g, 메타크릴산글리시딜을 65g, N-페닐말레이미드를 15g 넣고, 건조 질소 기류하에서 95℃에서 4시간 반응시켜서 공중합체 용액을 얻었다.
이 공중합체 용액에 다음 성분을 첨가하여 건조 질소 기류하에서 실온에서 혼합 용해한 후, 0.2μm의 플루오르 수지 재질의 멤브레인 필터에 의해 여과하여, 보호막용 조성물을 얻었다.
프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 100g
디에틸렌글리콜메틸에틸에테르 60g
에피코트 1032H60
(지환식 에폭시 수지, 油化셀에폭시(株) 제품) 20g
무수 트리메리트산 20g
γ-글리시드옥시프로필디에톡시실란 5g
메가팩 172
(계면 활성제, 大日本잉크化學工業(株) 제품) 0.02g
스피너에 의한 도포 조건이 1250rpm, 10초인 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 조건으로, 막 두께 1.41μm의 보호막을 형성하였다. 이 보호막의 400nm에서의 투과율은 98.7%였다.
얻어진 보호막에 대하여, 실시예 1과 동일한 조건으로 러빙 처리하고, 러빙 처리 후의 액정 배향막 표면을 100배 및 400배의 광학 현미경으로 관찰한 결과, 러 빙에 의한 깎인 흔적, 깎인 흠집은 관찰되지 않았다. 또한, 셀 제조 후의 편광 현미경에 의한 배향성을 확인한 결과, 전압을 인가하지 않은 상태에서 배향 불량에 의한 광 누출이 확인되었다.
본 발명의 보호막용 조성물 및 상기 조성물로부터 이루어지는 보호막은, 투명성이 높고, 러빙 처리에 의해 양호한 액정 배향성을 가진다. 또한, 본 발명의 보호막용 조성물로 이루어지는 보호막이 형성된 컬러 필터 기판은, 배향막의 형성이 불필요하다. 따라서, 본 발명의 액정 표시 소자의 제조 공정이 간략화되어, 제조 비용을 절감할 수 있다. 본 발명의 활용법으로서, 예를 들면, 액정 표시 소자 및 액정 표시 소자를 구성하는 컬러 필터 기판을 들 수 있다.

Claims (20)

  1. 하기 일반식(1) 및 (2)
    Figure 112007042473124-pat00038
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1); 및 하기 일반식(3) 및 (2)
    Figure 112007042473124-pat00039
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
  2. 다가(多價) 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 이용하여 얻어지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1), 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
  3. 다가 히드록시 화합물(a1)과 디아민(a2)과 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)을 이용하여 얻어지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1) 및 그 이미드화물인 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 다가 히드록시 화합물(a1)이 디올이며, 상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)이 테트라카르복시산 2무수물인 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  5. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 다가 히드록시 화합물(a1)이 1,4-부탄디올, 1,5-펜탄디올 및 1,6-헥산디올로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며, 상기 디아민(a2)이 3,3'-디아미노디페닐술폰, 비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]술폰 및 하기 식(b)
    Figure 112013094727816-pat00040
    (식에서, R3 및 R4는 독립적으로 탄소수 1∼3의 알킬 또는 페닐이며, R5는 독립적으로 메틸렌, 페닐렌 또는 알킬 치환된 페닐렌이며, x는 독립적으로 1∼6의 정수이며, y는 1∼100의 정수임)
    으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이며, 상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)이 스티렌-무수 말레산 공중합체, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물 및 부탄테트라카르복시산 2무수물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  6. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이, 상기 다가 히드록시 화합물(a1)의 히드록시 1몰에 대하여, 상기 디아민(a2)의 아미노를 0.1∼10몰, 상기 산 무수물기를 2개 이상 가지는 화합물(a3)의 무수물을 1∼10몰 반응시켜서 얻어지는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  7. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이, 하기 일반식(1) 및 (2)
    Figure 112013094727816-pat00041
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  8. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 폴리에스테르-폴리이미드(A2)가, 하기 일반식(3) 및 (2)
    Figure 112013094727816-pat00042
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  9. 하기 일반식(1) 및 (2)
    Figure 112007042473124-pat00043
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리아미드산(A1); 및 하기 일반식(3) 및 (2)
    Figure 112007042473124-pat00044
    (식에서, R1, R2 및 R3는 각각 독립적으로 탄소수 2∼100의 유기기임)
    으로 표시되는 구성 단위를 가지는 폴리에스테르-폴리이미드(A2)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상, 및, 폴리아미드산(B)을 포함하는 보호막용 조성물.
  10. 제1항 내지 제3항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리아미드산(B)이, 적어도, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디아미노디페닐메탄, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오르프로판, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, m-크실렌디아민, p-크실렌디아민, 2,2'-디아미노디페닐프로판, 벤지딘, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]-4-메틸시클로헥산, 비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]시클로헥산, 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]-4-메틸시클로헥산 및 1,1-비스[4-(4-아미노벤질)페닐]메탄으로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 디아민과, 피로메리트산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,3,4-부탄테트라카르복시산 2무수물, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복시산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물 및 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르복시산 2무수물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상의 테트라카르복시산 2무수물을 이용하여 얻어지는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  11. 제1항 내지 제3항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이 2∼40중량% 및 상기 폴리아미드산(B)이 0.1∼20중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  12. 제1항 내지 제3항 및 제9항 중 어느 한 항에 있어서,
    보호막용 조성물이, 에폭시 수지(C)를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 에폭시 수지(C)가, 하기 식
    Figure 112007042473124-pat00045
    Figure 112007042473124-pat00046
    (식에서, n은 0∼10의 정수임)
    으로 표시되는 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)이 2∼40중량%, 상기 폴리아미드산(B)이 0.1∼20중량% 및 상기 에폭시 수지(C)가 0.5∼20중량% 포함되는 것을 특징으로 하는 보호막용 조성물.
  15. 1,4-부탄디올과 3,3'-디아미노디페닐술폰과 3,3',4,4'-디페닐에테르테트라카르복시산 2무수물을 반응시켜서 얻어진 폴리에스테르-폴리아미드산(A1)을 5∼30중량%,
    4,4'-디아미노디페닐에테르와 피로메리트산 2무수물과 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복시산 2무수물을 반응시켜서 얻어진 폴리아미드산(B)을 0.2∼10중량%, 및
    하기 식(220)∼(223)
    Figure 112007042473124-pat00047
    Figure 112007042473124-pat00048
    (식에서, n은 0∼10의 정수임)
    으로 표시되는 화합물로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상의 에폭시 수지(C)를 2∼15중량% 포함하는 보호막용 조성물.
  16. 제1항 내지 제3항, 제9항 및 제15항 중 어느 한 항에 따른 보호막용 수지 조성물로 얻어지는 보호막.
  17. 제16항에 따른 보호막과, 상기 보호막 위에 형성된 중합성 액정 조성물로부터 얻어지는 광학막을 포함하는 표시 소자용 기판.
  18. 제16항에 따른 보호막이 형성된 컬러 필터 기판.
  19. 제17항에 따른 표시 소자용 기판을 가지는 액정 표시 소자.
  20. 제18항에 따른 컬러 필터 기판을 가지는 액정 표시 소자.
KR1020070057297A 2006-06-29 2007-06-12 보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자 KR101374631B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2006-00179291 2006-06-29
JP2006179291 2006-06-29
JP2007084528A JP4930143B2 (ja) 2006-06-29 2007-03-28 保護膜用組成物、カラーフィルター基板および液晶表示素子
JPJP-P-2007-00084528 2007-03-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080001616A KR20080001616A (ko) 2008-01-03
KR101374631B1 true KR101374631B1 (ko) 2014-03-14

Family

ID=38876994

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070057297A KR101374631B1 (ko) 2006-06-29 2007-06-12 보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8053041B2 (ko)
JP (1) JP4930143B2 (ko)
KR (1) KR101374631B1 (ko)
TW (1) TWI446021B (ko)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200909521A (en) * 2007-07-27 2009-03-01 Chisso Corp Composition comprising polyester amide acid and ink-jet composition using the composition
US20090130468A1 (en) * 2007-11-16 2009-05-21 Li-Hua Wang Polyamic acid composition, method for preparing the same, method for preparing polyimide and polyimide flexible metal-clad laminates
KR20100034874A (ko) * 2008-09-25 2010-04-02 삼성전자주식회사 평탄화된 기판을 포함하는 표시장치 및 이의 제조방법
KR101474319B1 (ko) * 2008-12-12 2014-12-26 제이엔씨 주식회사 잉크젯용 잉크
WO2010110221A1 (ja) * 2009-03-23 2010-09-30 日産化学工業株式会社 熱硬化膜形成用ポリエステル組成物
KR101660827B1 (ko) 2009-04-14 2016-09-28 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 열경화막 형성용 감광성 폴리에스테르 조성물
JP2013177561A (ja) * 2012-02-03 2013-09-09 Jnc Corp 光配向性基を有する高分子組成物、該高分子組成物から形成される液晶配向膜及び該液晶配向膜から形成される位相差板を備えた液晶表示素子
JP6160610B2 (ja) * 2012-03-21 2017-07-12 日産化学工業株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
JP5928129B2 (ja) * 2012-04-25 2016-06-01 Jnc株式会社 インクジェットインク
CN105086316B (zh) * 2014-05-15 2018-01-30 捷恩智株式会社 热硬化性组合物、硬化膜、彩色滤光片、液晶显示元件、固体摄像元件及发光二极管发光体
KR102052150B1 (ko) * 2015-03-31 2019-12-05 아사히 가세이 가부시키가이샤 폴리이미드 필름, 폴리이미드 바니시, 폴리이미드 필름을 이용한 제품 및 적층체
TWI710601B (zh) * 2017-04-10 2020-11-21 奇美實業股份有限公司 軟性基板用組成物以及軟性基板
CN110494469B (zh) * 2017-04-13 2022-07-26 捷恩智株式会社 热硬化性树脂组合物、硬化膜、带硬化膜基板、电子零件及喷墨用墨水
CN109422987B (zh) * 2017-08-30 2021-03-09 京东方科技集团股份有限公司 平坦层用组合物、其制备方法、平坦层材料及显示装置
KR102354529B1 (ko) * 2017-09-18 2022-01-24 삼성디스플레이 주식회사 색 변환소자 및 그 제조 방법
JP2019211719A (ja) * 2018-06-08 2019-12-12 Jnc株式会社 絶縁膜を含む液晶素子、調光窓および製造方法
KR20200023198A (ko) * 2018-08-23 2020-03-04 제이엔씨 주식회사 고배리어성 저온 경화 조성물

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09291150A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Chisso Corp 熱硬化性樹脂組成物
JP2001158816A (ja) * 1999-12-01 2001-06-12 Jsr Corp 硬化性組成物およびカラーフィルタ保護膜
JP2005105264A (ja) * 2003-09-09 2005-04-21 Chisso Corp 熱硬化性樹脂組成物及び硬化膜

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2357297C3 (de) * 1973-11-16 1978-09-21 Akzo Gmbh, 5600 Wuppertal Verfahren zur Herstellung von Polyamidcarbonsäuren
US4208464A (en) * 1974-09-26 1980-06-17 Nitto Electric Industrial Co., Ltd. Article coated with baked layer of water-soluble heat-resistant insulating varnish
JPS5137297B2 (ko) * 1974-09-26 1976-10-14
DE3060913D1 (en) * 1979-05-12 1982-11-11 Fujitsu Ltd Improvement in method of manufacturing electronic device having multilayer wiring structure
JPH0618896A (ja) * 1992-07-01 1994-01-28 Fuji Photo Film Co Ltd 液晶表示素子
US5554684A (en) * 1993-10-12 1996-09-10 Occidental Chemical Corporation Forming polyimide coating by screen printing
JPH10110061A (ja) * 1996-10-04 1998-04-28 Daiwa Kagaku Kogyo Kk 害虫防除成型品
JPH10338804A (ja) * 1997-06-06 1998-12-22 Sumitomo Bakelite Co Ltd 液晶配向剤
JP4341092B2 (ja) * 1998-12-25 2009-10-07 チッソ株式会社 ジアミノ化合物およびその製造方法
US6645632B2 (en) * 2000-03-15 2003-11-11 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Film-type adhesive for electronic components, and electronic components bonded therewith
JP3773845B2 (ja) * 2000-12-29 2006-05-10 三星電子株式会社 ポジティブ型感光性ポリイミド前駆体およびこれを含む組成物
US7078078B2 (en) * 2001-01-23 2006-07-18 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical compensatory sheet comprising transparent support and optically anisotropic layer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09291150A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Chisso Corp 熱硬化性樹脂組成物
JP2001158816A (ja) * 1999-12-01 2001-06-12 Jsr Corp 硬化性組成物およびカラーフィルタ保護膜
JP2005105264A (ja) * 2003-09-09 2005-04-21 Chisso Corp 熱硬化性樹脂組成物及び硬化膜

Also Published As

Publication number Publication date
US8053041B2 (en) 2011-11-08
TW200801593A (en) 2008-01-01
KR20080001616A (ko) 2008-01-03
TWI446021B (zh) 2014-07-21
JP2008033244A (ja) 2008-02-14
JP4930143B2 (ja) 2012-05-16
US20080003381A1 (en) 2008-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101374631B1 (ko) 보호막용 조성물, 컬러 필터 기판 및 액정 표시 소자
JP5061709B2 (ja) 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜および液晶表示素子
JP4569233B2 (ja) 熱硬化性樹脂組成物及び硬化膜
KR101128489B1 (ko) 열경화성 중합체 조성물
KR101877826B1 (ko) 액정 배향제의 제조 방법
JP5130907B2 (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
US8730437B2 (en) Method for making a treated polymer for a liquid crystal alignment agent, the treated polymer made thereby, and liquid crystal alignment agent, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element containing the treated polymer
JP2010156953A (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子
JP2023014150A (ja) 液晶配向剤
JP5633667B2 (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子
US20080167429A1 (en) Nanoimprinting composition
JP5099350B2 (ja) 液晶配向剤および液晶表示素子
JP2009015038A (ja) 液晶配向膜用組成物およびそれを用いた表示素子
KR101144758B1 (ko) 열경화성 수지 조성물 및 경화막
WO2020208884A1 (ja) 膜形成用組成物、硬化膜及び位相差フィルム
JP2012150503A (ja) 液晶配向膜用組成物、液晶配向膜および液晶表示素子
TW200936618A (en) Thermoset coating forming polyester resin solution
WO2019097902A1 (ja) 液晶素子の製造方法
WO2019116702A1 (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子
CN112194793B (zh) 聚酰胺酸组合物
JP2023084214A (ja) ポリアミド酸およびそれを用いた熱硬化性組成物、硬化膜および液晶表示素子
JP2022113632A (ja) ポリアミド酸およびそれを用いた熱硬化性組成物、硬化膜および液晶表示素子
JP2021011571A (ja) ポリアミド酸組成物
JPWO2019230091A1 (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子
JP2010282105A (ja) 液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子

Legal Events

Date Code Title Description
N231 Notification of change of applicant
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee