KR101367291B1 - 가스 와이핑 장치 - Google Patents

가스 와이핑 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101367291B1
KR101367291B1 KR1020137013106A KR20137013106A KR101367291B1 KR 101367291 B1 KR101367291 B1 KR 101367291B1 KR 1020137013106 A KR1020137013106 A KR 1020137013106A KR 20137013106 A KR20137013106 A KR 20137013106A KR 101367291 B1 KR101367291 B1 KR 101367291B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
gas wiping
wiping nozzle
nozzle
gas
steel band
Prior art date
Application number
KR1020137013106A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20130069863A (ko
Inventor
신이치 고가
도모히로 후쿠야마
Original Assignee
닛신 세이코 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 닛신 세이코 가부시키가이샤 filed Critical 닛신 세이코 가부시키가이샤
Publication of KR20130069863A publication Critical patent/KR20130069863A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101367291B1 publication Critical patent/KR101367291B1/ko

Links

Images

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F26—DRYING
    • F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
    • F26B15/00—Machines or apparatus for drying objects with progressive movement; Machines or apparatus with progressive movement for drying batches of material in compact form
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C11/00—Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
    • B05C11/02—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface
    • B05C11/06—Apparatus for spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to a surface ; Controlling means therefor; Control of the thickness of a coating by spreading or distributing liquids or other fluent materials already applied to the coated surface with a blast of gas or vapour
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/12—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
    • B05C3/02—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material
    • B05C3/12—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length
    • B05C3/125—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material the work being immersed in the liquid or other fluent material for treating work of indefinite length the work being a web, band, strip or the like
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/003—Apparatus
    • C23C2/0034—Details related to elements immersed in bath
    • C23C2/00342—Moving elements, e.g. pumps or mixers
    • C23C2/00344—Means for moving substrates, e.g. immersed rollers or immersed bearings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/04—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor characterised by the coating material
    • C23C2/06—Zinc or cadmium or alloys based thereon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C2/00—Hot-dipping or immersion processes for applying the coating material in the molten state without affecting the shape; Apparatus therefor
    • C23C2/14—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness
    • C23C2/16—Removing excess of molten coatings; Controlling or regulating the coating thickness using fluids under pressure, e.g. air knives
    • C23C2/18—Removing excess of molten coatings from elongated material
    • C23C2/20—Strips; Plates

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

스틸 밴드 및 가스 와이핑 노즐을 포위하는 상자 형상체를 구비한 가스 와이핑 장치에 있어서, 스틸 밴드에 대한 스플래시 부착을 억제하는 것이 가능한 가스 와이핑 장치를 제공한다.
가스 와이핑 장치(100)는, 용융 금속(11)이 저류되어 있는 도금 욕조(10)와, 도금 욕조(10) 상부에 재치된 상자 형상체(20)를 구비하고 있다. 상자 형상체(20)는, 내부에, 밴드 형상체(30)의 폭 방향을 따라 설치된 관 형상 부재(25a, 25b)와, 관 형상 부재(25a, 25b)의 각각에 밴드 형상체(30)를 사이에 두도록 대향하여 설치된 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)과, 가스 와이핑 노즐(26a)의 양단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26b) 방향을 향하여 연장 설치된 연장 설치 부재(28a, 28b)와, 가스 와이핑 노즐(26b)의 양단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26a) 방향을 향하여 연장 설치된 연장 설치 부재(29a, 29b)를 가진다.

Description

가스 와이핑 장치{GAS WIPING DEVICE}
본 발명은, 스틸 밴드(鋼帶)에 대한 스플래시(splash) 부착을 억제하는 가스 와이핑 장치에 관한 것이다.
종래부터, 용융 금속에 침지된 스틸 밴드에 가스를 불어 넣어 스틸 밴드에 부착된 도금 두께를 제어하는 가스 와이핑 장치에 있어서는, 스틸 밴드의 표면 껍질의 거칠어짐 방지를 목적으로 하여, 시일 박스를 설치한 것이 알려져 있다.
이 종류의 가스 와이핑 장치는, 스틸 밴드 및 가스를 분사하는 가스 와이핑 노즐을 시일 박스에 의해 포위함과 함께, 시일 박스 내의 산소 농도를 규정치 내(예를 들면 1% 이내)로 제어함으로써, 스틸 밴드의 표면 껍질의 거칠어짐을 방지할 수 있다. 그런데, 시일 박스를 설치한 가스 와이핑 장치에 있어서는, 시일 박스를 설치하지 않은 것과 비교하면, 스틸 밴드로의 스플래시의 부착이 현저한 것이 되어, 그 결과, 스플래시 반점 모양의 개수가 증가되어 버린다는 문제가 있었다.
그래서, 예를 들면 특허문헌 1에 개시되어 있는 가스 와이핑 장치에서는, 밴드 형상체(스틸 밴드) 및 가스 와이핑 노즐을 포위하고, 당해 밴드 형상체의 출구부를 구비한 위요(圍繞)체, 당해 위요체 내에 있어서, 상기 가스 와이핑 노즐의 적어도 하나의 하단면에 접하여 배치되며, 상기 밴드 형상체가 주행하는 개구부를 남겨, 당해 위요체를 상기 가스 와이핑 노즐이 배치된 상부 공간과 하부 공간으로 분리, 구분하는, 당해 밴드 형상체를 사이에 두고 대향 배치된 한 쌍의 배플(baffle)판, 및 상기 위요체의 하부 공간에 연통하고, 흡인, 배기 수단에 접속한 와이핑 가스 배출구를 구비함으로써, 스틸 밴드에 대한 스플래시 부착의 억제를 도모하고 있다.
일본 공개특허 소62-193671호 공보
그런데, Al 및 Mg이 Zn 중에 적당량 함유된 도금욕(浴)을 이용한 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판은, 다른 Zn계 도금 강판과 비교하여 내식성이 뛰어나므로, 최근에 건재, 토목건축, 주택, 전기기기 등의 산업분야에 있어서의 적용 사례가 늘고 있다.
이와 같은 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판의 공업적인 제조에 있어서는, 얻어지는 용융 도금 강판이 뛰어난 내식성을 가지는 것은 물론, 내식성 및 표면 외관이 양호한 밴드 완성품을, 높은 생산성 하에서 제조할 수 있는 것이 요구된다.
Zn-Al-Mg의 삼원(三元) 평형상태도 상에서는, Al이 약 4중량% 부근, Mg가 약 3중량% 근방에 있어서, 융점이 가장 낮아지는 삼원 공정점(共晶点)(융점＝343℃)이 나타난다. 그러나, 이 삼원 공정점 근방의 욕 조성을 채용한 경우에, 도금층의 조직 중에 Zn11Mg2계의 상(相)(Al/Zn/Zn11Mg2의 삼원 공정의 소지(素地) 자체, 당해 소지 중에 〔Al 초정(初晶)〕이 혼재하여 이루어지는 Zn11Mg2계의 상, 또는/및 당해 소지 중에 〔Al 초정〕과 〔Zn 단상(單相)〕이 혼재하여 이루어지는 Zn11Mg2계의 상)이 국부적으로 정출(晶出)되는 현상이 일어난다. 이 국부적으로 정출된 Zn11Mg2계의 상은, Zn2Mg계의 상보다 변색되기 쉬우며, 방치해 두면, 이 부분이 매우 눈에 띄는 색조가 되어, 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판의 표면 외관을 현저히 나쁘게 한다. 또, 이 Zn11Mg2계의 상이 국부적으로 정출된 경우에, 이 정출 부분이 우선적으로 부식되는 현상도 일어난다. 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판은 그 외의 Zn계 도금 강판과 비교하여, 광택감이 있는 미려한 표면 외관을 갖고 있기 때문에, 미세한 반점 모양이더라도 눈에 띄어 버려 제품 가치를 현저하게 저하시켜 버린다.
용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판에 있어서의 Zn11Mg2계의 상의 국부적인 정출은, 도금욕의 욕 온도 및 도금 후의 냉각 속도를 적정 범위로 제어함으로써 방지할 수 있다(예를 들면 일본 공개특허 평10-226865호). 그러나, 본 발명자들은 이러한 조건을 적정 범위로 제어하고 있는 경우이더라도, 시일 박스 내에서 가스 와이핑에 의해 발생한 스플래시가, 도금 금속이 미응고 상태인 가스 와이핑 후의 스틸 밴드에 부착됨으로써, Zn11Mg2계의 상이 정출되어 반점 모양이 발생하는 것, 및 도금 금속이 미응고 상태인 가스 와이핑 전의 스틸 밴드에 스플래시가 부착된 경우에는, 재용융하기 때문에 반점 모양이 발생하지 않는다는 것을 알 수 있었다.
가스 와이핑 후의 스틸 밴드에 대한 스플래시의 부착을 억제하려면, 가스 와이핑 노즐의 노즐면(서로 대향하여 배치되는 가스 와이핑 노즐의 선단부(先端部)끼리를 연결하는 면)보다 상방의 스틸 밴드의 통로를 향하여 스플래시가 돌아서 들어가는 것을 억제하는 것이 필요하다. 노즐면보다 상방의 스틸 밴드의 통로를 향하여 스플래시가 돌아 들어가는 것을 억제하려면, 바람직하게는 시일 박스 내에 있어서, 대향하여 배치된 가스 와이핑 노즐 사이를 제외한 모든 부위를 시일하는 것이다.
그러나, 이 종류의 가스 와이핑 장치에서는, 도금 두께를 제어하는 제어 방법 중 하나로서, 서로 대향하여 배치되는 가스 와이핑 노즐의 노즐 간 거리를 변경하는 방법이 채용되므로, 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 양단부(兩端部)에 있어서는, 노즐면보다 상방의 스틸 밴드의 통로를 향한 스플래시의 돌아들어감을 방지하는 것은 극도로 곤란하다. 상기 특허 문헌1의 가스 와이핑 장치에 있어서도, 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 양단부로부터 노즐면의 상방을 향하여 스플래시가 돌아서 들어오므로, 이 돌아들어감에 의한 밴드 형상체(스틸 밴드)에 대한 스플래시 부착을 억제할 수 없는 것이 실정이다.
그래서, 본 발명의 목적은, 스틸 밴드 및 가스 와이핑 노즐을 포위하는 상자 형상체를 구비한 가스 와이핑 장치에 있어서, 가스 와이핑 후의 스틸 밴드에 대한 스플래시 부착을 억제하는 것이 가능한 가스 와이핑 장치를 제공하는 것이다.
(1)본 발명의 가스 와이핑 장치는, 용융 금속 도금욕으로부터 끌어 올려지는 스틸 밴드의 표면에 부착된 과잉 용융 금속을 제거하기 위해 상기 스틸 밴드를 사이에 두고 대향 배치되어 있는 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐과, 상기 스틸 밴드의 폭 방향을 따라 설치되며, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐에 접속되어 있는 제 1 관 형상 부재와, 상기 스틸 밴드의 폭 방향을 따라 설치되며, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐에 접속되어 있는 제 2 관 형상 부재와, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐, 상기 제 1 관 형상 부재 및 상기 제 2 관 형상 부재를 포위하는 상자 형상체와, 상기 제 1 관 형상 부재의 외벽에 일단(一端)이 고정되고, 타단(他端)이 상기 상자 형상체의 내벽에 고정되어 있는 제 1 칸막이 부재와, 상기 제 2 관 형상 부재의 외벽에 일단이 고정되고, 타단이 상기 상자 형상체의 내벽에 고정되어 있는 제 2 칸막이 부재를 구비하는 가스 와이핑 장치로서, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 일단부로부터 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 1 연장 설치 부재와, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 타단부로부터 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 2 연장 설치 부재와, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 일단부로부터 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 3 연장 설치 부재와, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 타단부로부터 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 4 연장 설치 부재를 더 구비하고, 적어도 상기 제 1 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 3 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 상기 제 2 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 4 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있는 것이다.
상기 (1)의 구성의 가스 와이핑 장치에 의하면, 제 1 칸막이 부재에 의해 제 1 관 형상 부재의 외벽과 상자 형상체의 내벽과 사이가 시일됨과 함께, 제 2 칸막이 부재에 의해 제 2 관 형상 부재의 외벽과 상자 형상체의 내벽과의 사이가 시일된다. 즉, 제 1 가스 와이핑 노즐의 선단부와 제 2 가스 와이핑 노즐의 선단부를 연결하는 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향하여, 제 1 관 형상 부재와 상자 형상체의 내벽과의 사이 또는 제 2 관 형상 부재와 상자 형상체의 내벽과의 사이로부터의 스플래시의 돌아들어감을 방지할 수 있다. 또, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향 양단부에 있어서의 제 1 가스 와이핑 노즐과 제 2 가스 와이핑 노즐의 사이로부터도, 상기의 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향한 스플래시의 돌아들어감을 방지할 수 있다. 즉, 노즐면보다 하방에 있어서 발생한 스플래시가, 서로 대향하여 배치되는 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐의 노즐 폭을 제외한 영역으로부터, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 따라서, 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐을 포위하는 상자 형상체를 설치한 경우이더라도, 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐에 의해 과잉된 용융 금속을 제거한 후의 스틸 밴드 표면에 스플래시가 부착되는 것을 보다 억제할 수 있다.
(2)상기 구성의 가스 와이핑 장치에 있어서, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐 및 상기 제 2 가스 와이핑 노즐은, 서로의 거리가 소정의 범위 내에서 변경 가능하게 되도록, 이들 중 적어도 어느 일방이 타방에 대하여 평행 이동 가능하며, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐과 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 사이가 상기 소정의 범위 내에 있어서의 최대 거리에 있을 때이더라도, 적어도 상기 제 1 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 3 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 상기 제 2 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 4 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있는 것이 바람직하다.
상기 (2)의 구성의 가스 와이핑 장치에 의하면, 제 1 가스 와이핑 노즐과 제 2 가스 와이핑 노즐의 사이가 최대 거리에 있을 때이더라도, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향 양단부에 있어서, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 특히, 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐 중 적어도 어느 일방이 타방에 대하여 평행 이동할 수 있는 중이더라도, 제 1 연장 설치 부재와 제 3 연장 설치 부재가 항상 간섭하지 않고 또한 제 2 연장 설치 부재와 제 4 연장 설치 부재가 항상 간섭하지 않기 때문에, 제 1 가스 와이핑 노즐 또는/및 제 2 가스 와이핑 노즐의 평행 이동이 저해되는 일도 없다. 이것에 의해, 제 1 가스 와이핑 노즐과 제 2 가스 와이핑 노즐의 노즐 간 거리에 관계없이, 항상, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 방지하는 것이 가능해진다.
용융 금속에 침지된 스틸 밴드에 가스를 불어 넣어 스틸 밴드에 부착된 도금 두께를 제어하는 가스 와이핑 장치로서 본 발명의 장치를 이용함으로써, 가스 와이핑 노즐의 출구 측으로의 스플래시의 돌아들어감을 막고, 가스 와이핑 후의 스틸 밴드에 대한 스플래시 부착을 억제할 수 있기 때문에, 스플래시 부착에 따른 표면 외관의 결함을 대폭 저감할 수 있다. 특히, 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판의 경우, 도금 금속이 미응고 상태인 가스 와이핑 후의 스틸 밴드에 스플래시가 부착됨으로써 Zn11Mg2계의 상이 정출되어 반점 모양이 발생한다는 문제가 있으나, 본 발명의 가스 와이핑 장치에 의해, 반점 모양의 발생이나 내식성의 저하를 확실히 억제할 수 있게 된다. 또, 용융 Zn-Al-Mg계 도금 강판에 있어서의 반점 모양의 발생은 도금 금속이 미응고 상태인 가스 와이핑 전의 스틸 밴드에 있어서는, 스플래시가 부착되더라도 재용융하여 반점 모양이 발생하지 않기 때문에, 선행기술 문헌(일본 공개특허 소62-193671호) 등과 같이, 가스 와이핑 노즐의 하방인 하부 공간에 스플래시 함유 가스의 흡인, 배기 수단이나, 유도하기 위한 안내판을 설치할 필요가 없다. 따라서, 본 발명의 가스 와이핑 장치는 간단한 구조로 할 수 있으며, 시일 가스 사용량이 증대하는 일도 없다.
도 1은, 본 발명의 실시형태와 관련된 가스 와이핑 장치의 개략 구성도이다.
도 2는, (a)가 도 1에 나타낸 가스 와이핑 장치에 있어서의 상자 형상체의 사시도, (b)가 (a)에 나타낸 상자 형상체의 내부 구조를 설명하기 위한 사시도이다.
도 3은, 도 1에 나타낸 가스 와이핑 장치에 있어서의 상자 형상체의 확대도이다.
이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시형태와 관련된 가스 와이핑 장치에 대하여 설명한다.
도 1에 나타낸 바와 같이, 본 실시형태와 관련된 가스 와이핑 장치(100)는, 용융 금속(11)이 저류되어 있는 도금 욕조(10)의 상부에 배치되어 있고, 도금 욕조(10) 상부에 재치(載置)된 상자 형상체(20)를 구비하고 있는 것이다.
도금 욕조(10)의 내부에는, 스틸 밴드(30)를 도금 욕조(10)의 상부로 배송 또는 지지하기 위한 메인 롤러(12) 및 서브 롤러(13a, 13b)와, 스틸 밴드(30)를 외부(예를 들면 노(爐))로부터 도금 욕조(10) 안으로 송입(送入)하기 위한 송입구(14)가 설치되어 있다.
도 2(a)에 나타낸 바와 같이, 상자 형상체(20)는, 대략 통 형상의 본체(21)와, 본체(21)의 폭 방향의 양단부를 폐색하도록 설치된 폐색부(22, 23)와, 용융 금속이 표면에 도금된 스틸 밴드(30)를 상자 형상체(20) 내부로부터 외부로 송출하기 위한 송출구(24)를 가진다. 상자 형상체(20)에는, 시일 커튼(31)이 설치되어 있다. 이 시일 커튼(31)은 도금 스틸 밴드 제조시에는 닫아서 기밀성을 확보하고, 시일 박스 내의 드로스(dross)를 배출할 때에 개구하는 것이다.
또, 도 1 및 도 2(b)에 나타낸 바와 같이, 가스 와이핑 장치(100)는, 상자 형상체(20)의 내부에, 스틸 밴드(30)의 폭 방향을 따라 설치된 관 형상 부재(25a, 25b)와, 관 형상 부재(25a, 25b)의 각각에 스틸 밴드(30)를 사이에 두도록 대향하여 설치된 가스 와이핑 노즐(제 1 가스 와이핑 노즐(26a), 제 2 가스 와이핑 노즐(26b))과, 관 형상 부재(25a, 25b)의 각각의 외벽에 일단이 고정되며, 타단이 상자 형상체(20)의 내벽에 고정되어 있는 주름상자 형상 커튼(27a, 27b)과, 가스 와이핑 노즐(26a)의 양단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26b) 방향을 향하여 연장 설치된 연장 설치 부재(제 1 연장 설치 부재(28a), 제 2 연장 설치 부재(28b))와, 가스 와이핑 노즐(26b)의 양단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26a) 방향을 향하여 연장 설치된 연장 설치 부재(제 3 연장 설치 부재(29a), 제 4 연장 설치 부재(29b))를 구비한다.
관 형상 부재(25a, 25b)는, 관 형상 부재(25a, 25b) 각각의 외부로부터 내부에 가스를 보내기 위한 가스관(도시 생략)에 접속되어 있다. 또한, 가스관이 도 3 지면의 상하 좌우 방향으로 이동할 수 있도록, 폐색부(22,23)는 주름상자 구조로 되어 있다.
가스 와이핑 노즐(26a)은, 관 형상 부재(25a)의 내부와 연통하고 있고, 외부로부터 상기 가스관(도시 생략)을 통하여 관 형상 부재(25a) 내부에 보내져 온 가스가, 가스 와이핑 노즐(26a)의 선단으로부터 스틸 밴드(30)의 표면을 향하여 분출하도록 구성되어 있다. 마찬가지로, 관 형상 부재(25b)와 가스 와이핑 노즐(26b)은 연통하고 있고, 외부로부터 상기 가스관(도시 생략)을 통하여 관 형상 부재(25b) 내부에 보내져 온 가스가, 가스 와이핑 노즐(26b)의 선단으로부터 스틸 밴드(30)의 표면을 향하여 분출하도록 구성되어 있다.
또한, 도 3의 관 형상 부재(25a) 부근에 나타낸 바와 같이, 관 형상 부재(25a)는 도 3 지면의 상하 좌우 방향으로 이동하는 것이 가능하게 구성되어 있고, 예를 들면, 가스 와이핑 노즐(26a)을 가스 와이핑 노즐(26b)에 대하여 거의 평행하게 이동하는 것이 가능한 구성으로 되어 있다. 그리고, 스틸 밴드(30)에 부착된 용융 금속에 의한 도금 두께를 제어하는 방법 중 하나로서, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 간격이 조정된다. 또, 도시하고 있지 않으나, 관 형상 부재(25b)에 있어서도, 관 형상 부재(25a)와 마찬가지로, 도 3 지면의 상하 좌우 방향으로 이동하는 것이 가능한 구성으로 되어 있다. 그리고, 가스 와이핑 노즐(26a) 및 가스 와이핑 노즐(26b)의 양쪽 또는 한쪽을, 도 3 지면의 좌우 방향으로 이동시킴으로써, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이의 거리를 소정의 범위 내에서 변경시킬 수 있게 되어 있다.
칸막이 부재인 주름상자 형상 커튼(27a, 27b)은, 신축이 자유로운 내열성 재료로 이루어지는 것이며, 금속성의 부재여도 되고, 부직포와 같은 것이어도 된다. 이 주름상자 형상 커튼(27a, 27b)에 의해, 관 형상 부재(25a)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25a) 측의 내벽)과의 사이, 및 관 형상 부재(25b)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25b) 측의 내벽)과의 사이가 시일된다. 칸막이 부재로서는, 주름상자 형상 커튼 이외에, 예를 들면, 관 형상 부재(25)의 외벽에 고정된 칸막이 판과, 상자 형상체(20)의 내벽에 고정된 칸막이 판이 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있어도 된다.
연장 설치 부재(28a, 28b, 29a, 29b)는 내열성의 판 형상 부재이며, 도 1∼도 3에 나타낸 바와 같이, 일단부는 관 형상 부재에 접속 고정되어 있다.
가스 와이핑 노즐(26a)의 폭 방향에 있어서의 일단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26b) 방향을 향하여 연장 설치된 제 1 연장 설치 부재(28a)는, 가스 와이핑 노즐(26b)의 폭 방향에 있어서의 일단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26a) 방향을 향하여 연장 설치된 제 3 연장 설치 부재(29a)와, 상하 방향으로 서로 어긋나 대향하고 있다. 또, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이의 거리는, 상술한 바와 같이 가변하나, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이가 최대 거리에 있을 때이더라도, 제 1 연장 설치 부재(28a)의 선단부와 제 3 연장 설치 부재(29a)의 선단부가 서로 겹쳐지도록 설치되어 있다. 이것에 의해, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이의 거리가 좁아진 경우이더라도 이들이 서로 간섭하지 않아, 항상, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향의 일단측에서는, 제 1 연장 설치 부재(28a) 및 제 3 연장 설치 부재(29a)에 있어서 시일하는 것이 가능해진다.
마찬가지로, 가스 와이핑 노즐(26a)의 폭 방향에 있어서의 타단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26b) 방향을 향하여 연장 설치된 제 2 연장 설치 부재(28b)는, 가스 와이핑 노즐(26b)의 폭 방향에 있어서의 타단에 있어서 가스 와이핑 노즐(26a) 방향을 향하여 연장 설치된 제 4 연장 설치 부재(29b)와, 상하 방향으로 서로 어긋나 대향하고 있다. 상술한 바와 같이, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이의 거리는 가변하나, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이가 최대 거리에 있을 때이더라도, 제 2 연장 설치 부재(28b)의 선단부와 제 4 연장 설치 부재(29b)의 선단부가 서로 겹쳐지도록 설치되어 있다. 이것에 의해, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이의 거리가 좁아진 경우이더라도 이들이 서로 간섭하지 않아, 항상, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향의 타단측에서는, 제 2 연장 설치 부재(28b) 및 제 4 연장 설치 부재(29b)에 있어서 시일하는 것이 가능해진다.
또한, 연장 설치 부재(28, 29)의 상하 방향의 설치 위치에 대해서는, 가스 와이핑 노즐(26a)의 노즐 입구의 중심에 대하여 ±50mm의 범위 내에 설치하는 것이 바람직하다. 상한 위치를 노즐 입구 +50mm로 하는 것은, +50mm를 넘으면 가스 와이핑에 의해 발생한 스플래시가 와이핑 후의 스틸 밴드 표면에 부착되는 것을 방지하기가 곤란해지기 때문이며, 하한 위치를 노즐 입구 -50mm로 하는 것은, -50mm를 밑돌면 스플래시가 와이핑 후의 스틸 밴드 표면에 부착되는 것을 방지하기가 곤란해짐과 함께, 스틸 밴드 에지로부터 비산하는 스플래시가 연장 설치 부재(28, 29)에 부착되어 성장하기 때문에, 강판에 접촉하거나, 연장 설치 부재끼리 간섭하여 동작 불량이 생길 우려가 있기 때문이다. 또, 연장 설치 부재(28)와 연장 설치 부재(29)의 상하 방향의 극간은 가능한 한 좁게 하는 것이 바람직하다. 또한, 제 1 연장 설치 부재(28a) 또는/및 제 2 연장 설치 부재(28b)의 가스 와이핑 노즐(26b) 측의 선단부, 및 제 3 연장 설치 부재(29a) 또는/및 제 4 연장 설치 부재(29b)의 가스 와이핑(26a) 측의 선단부는, 도 3의 지면 좌우 방향으로 경사를 가지는 테이퍼 형상으로 형성되어 있어도 된다.
다음으로, 가스 와이핑 장치(100)의 동작에 대하여 설명한다. 먼저, 도 1에 나타낸 바와 같이, 스틸 밴드(30)가 외부로부터 도금 욕조(10) 내로 송입구(14)를 통하여 송입되며, 도금 욕조(10) 내의 용융 금속(11)의 액체 중에 침지된다. 다음으로, 스틸 밴드(30)는, 메인 롤러(12) 및 서브 롤러(13a, 13b)을 통하여 상자 형상체(20)의 내부로 배송된다. 상자 형상체(20)의 내부로 배송되어 온 스틸 밴드(30)는, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이를 통과하여, 송출구(24)(도 2(a) 참조)로부터 상자 형상체(20) 외부로 송출된다. 그리고, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이를 통과할 때에, 관 형상 부재(25a, 25b)를 통하여 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)로부터 분출되는 가스에 의해, 스틸 밴드(30) 표면에 부착된 과잉분의 용융 금속(11)이 제거되며, 용융 금속(11)의 도금층의 두께가 소정 두께가 되도록 조정된다. 이 때, 도 3에 나타낸 바와 같이, 상자 형상체(20) 내부(보다 상세하게는 노즐면보다 하방)에 있어서 스플래시(40)가 비산된다. 그래서, 노즐면보다 상방의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 스플래시가 돌아서 들어가는 것을 억제할 필요가 있다.
그런데, 상술한 바와 같이, 가스 와이핑 노즐(26a) 및 가스 와이핑 노즐(26b)은 모두 도 3의 지면 상하 좌우로 이동하기 때문에, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향 양단부에 있어서는, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이를 시일하는 것은 곤란하다. 이 점에서 본 실시형태에 있어서는, 상술한 바와 같이, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 일단측에서는 제 1 연장 설치 부재(28a) 및 제 3 연장 설치 부재(29a)에 의해 시일되며, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 타단측에서는 제 2 연장 설치 부재(28b) 및 제 4 연장 설치 부재(29b)에 의해 시일되므로, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 양단부로부터 상자 형상체(20) 내부의 상부 공간(50)을 향한 스플래시(40)의 비산, 나아가서는 돌아들어감을 억제하는 것이 가능해진다.
특히, 본 실시형태와 관련되는 가스 와이핑 장치(100)에서는, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이가 어느 쪽의 거리이더라도(최대 거리이거나 최소 거리이더라도), 제 1 연장 설치 부재(28a)와 제 3 연장 설치 부재(29a)가 서로 겹쳐지는 동시에, 제 2 연장 설치 부재(28b)와 제 4 연장 설치 부재(29b)가 서로 겹쳐지므로 이들이 서로 간섭하지 않고, 나아가서는, 가스 와이핑 노즐(26a) 또는/및 가스 와이핑 노즐(26b)의 평행 이동이 저해되는 일도 없다. 즉, 가스 와이핑 노즐(26a, 26b)의 폭 방향 양단부는, 이들의 노즐 간 거리에 관계없이 항상 시일되어, 노즐면보다 하방에 있어서 발생한 스플래시가 노즐면보다 상방의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 억제할 수 있다.
또, 관 형상 부재(25a)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25a) 측의 내벽)의 사이, 및 관 형상 부재(25b)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25b) 측의 내벽)의 사이는 모두, 주름상자 형상 커튼(27a, 27b)에 의해, 상자 형상체(20) 내부의 상부 공간(50)에 스플래시(40)가 비산되는 것이 억제된다. 이것에 의해, 노즐면보다 하방에 있어서 발생한 스플래시가 노즐면보다 상방의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 억제할 수 있다. 또한, 이 주름상자 형상 커튼(27a, 27b)은, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 스플래시가 돌아서 들어가는 것을 방지하는 관점에서, 상자 형상체(20)의 폭 방향(스틸 밴드(30)의 폭 방향과 동일함)의 전역에 걸쳐 설치되어 있는 것이 바람직하다.
또한, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이는, 가스(예를 들면 질소 가스)가 분출되고 있으므로, 노즐면보다 하방에 있어서 발생한 스플래시가 노즐면보다 상방의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 억제할 수 있다.
<실시예>
용융 Zn―6질량% Al-2.9질량% Mg계 도금 강판을, 도 2(b)에 나타낸 가스 와이핑 장치를 이용하여 제조하였다. 또, 비교예로서, 도 2(b)로부터 연장 설치 부재(28, 29)를 제외한 가스 와이핑 장치를 이용하여 용융 Zn―6질량% Al-2.9질량% Mg계 도금 강판을 제조하였다. 이들 각각의 조건으로 제조한 도금 강판에 대하여, Zn11Mg2계의 상이 정출된 반점 모양의 단위 면적당 발생 개수의 비율을 표 1에 나타낸다. 또한, 발생 개수의 비율은, 비교예를 1로 하고 있다. 이 결과, 본 발명의 가스 와이핑 장치를 이용함으로써 스플래시에 의한 반점 모양의 발생을 대폭 저감할 수 있다는 것을 알 수 있다.
Figure 112013045186945-pct00001
이상으로 설명한 바와 같이, 본 실시형태의 가스 와이핑 장치(100)에 의하면, 커튼에 의해 관 형상 부재(25a)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25a) 측의 내벽)의 사이, 및 관 형상 부재(25b)와 상자 형상체(20)의 내벽(관 형상 부재(25b) 측의 내벽)의 사이가 시일되므로, 이들 사이로부터, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 스플래시의 돌아들어감을 방지할 수 있다. 또, 폭 방향 양단부에 있어서의 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 사이로부터도, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드(30)의 통로를 향한 스플래시의 돌아들어감을 방지할 수 있다. 이것에 의해, 노즐면보다 하방에 있어서 발생한 스플래시가, 서로 대향하여 배치된 가스 와이핑 노즐(26a) 및 가스 와이핑 노즐(26b)의 노즐 폭을 제외한 영역으로부터, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드(30)의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 따라서, 가스 와이핑 노즐(26a) 및 가스 와이핑 노즐(26b)을 포위하는 상자 형상체(20)를 설치한 경우이더라도, 가스 와이핑 노즐(26a) 및 가스 와이핑 노즐(26b)에 의해 과잉된 용융 금속을 제거한 후의 스틸 밴드(30)의 표면에, 스플래시가 부착되는 것을 보다 억제할 수 있어, 스플래시 반점 모양의 개수의 증가를 억제할 수 있다.
게다가, 가스 와이핑 노즐(26a)과 가스 와이핑 노즐(26b)의 노즐 간 거리가 어느 한쪽이었다고 하더라도, 노즐면보다 상방에 있어서의 스틸 밴드의 통로를 향하여 돌아서 들어가는 것을 방지하는 것이 가능해진다. 특히, 가스 와이핑 노즐(26a) 및/또는 가스 와이핑 노즐(26b)의 평행 이동이 저해되는 일도 없다.
<변형예>
또한, 본 발명은 상기 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지에 의거하여 다양한 변형이 가능하며, 이들을 본 발명의 범위로부터 배제하는 것은 아니다. 예를 들면, 상기 실시형태에 있어서, 연장 설치 부재(28a, 28b, 29a, 29b)의 각각은 판 형상 부재로 이루어지는 것이나, 당해 판 형상 부재로 이루어지는 것에 한정되지 않으며, 막대기 형상 부재 또는 통 형상 부재 등이어도 되고, 적어도 제 1 연장 설치 부재의 선단부와 제 3 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 제 2 연장 설치 부재의 선단부와 제 4 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되며, 스플래시 부착을 억제할 수 있는 것이라면, 어떤 형상의 부재로 이루어지는 것이어도 된다.
또, 상기 실시형태에 있어서는, 연장 설치 부재(28a, 28b, 29a, 29b)의 각각은, 관 형상 부재 및 가스 와이핑 노즐에 고정된 것이었으나, 그 대신에 분리가 자유로운 구성으로 하여, 정기적으로 교환을 할 수 있게 해 두어도 된다. 이것에 의해, 메인터넌스하기 쉬운 가스 와이핑 장치로 할 수 있다.
또, 상기 실시형태에 있어서는, 연장 설치 부재(28a)의 선단부 부근과 연장 설치 부재(29a)의 선단부 부근이, 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 연장 설치 부재(28b)의 선단부 부근과 연장 설치 부재(29b)의 선단부 부근이, 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있는 모습이 나타나 있다. 그러나, 적어도 연장 설치 부재(28a)의 선단부와 연장 설치 부재(29a)의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 연장 설치 부재(28b)의 선단부와 연장 설치 부재(29b)의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있으면 되고, 도 1∼도 3에 도시한 위치 관계에 한정되는 것은 아니다. 다만, 연장 설치 부재(28a)의 선단부 부근과 연장 설치 부재(29a)의 선단부 부근이, 장치 상하 방향으로 충분히 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 연장 설치 부재(28b)의 선단부 부근과 연장 설치 부재(29b)의 선단부 부근이, 장치 상하 방향으로 충분히 겹쳐지도록 배치되어 있는 경우 쪽이, 스틸 밴드(30)에 대한 스플래시 부착을 보다 억제할 수 있다는 것은 말할 필요도 없다. 또한, 가스 와이핑 노즐의 손질시의 양호한 작업성의 확보, 또는/및 열 변형에 따른 접촉 등의 트러블 발생의 회피라는 것을 실현하기 위해, 연장 설치 부재(28a)와 연장 설치 부재(29a)의 사이 혹은 연장 설치 부재(28b)와 연장 설치 부재(29b)의 사이에 간격을 마련하는 것이 필요한 경우에는, 이들 연장 설치 부재(28a, 29a, 28b, 29b)의 선단에 내열성이 뛰어난 시일재를 설치하는 것이 효과적이다.
10: 도금 욕조 11: 용융 금속
12: 메인 롤러 13a, 13b: 서브 롤러
14: 송입구 20: 상자 형상체
21: 본체 22, 23: 폐색부
24: 송출구 25a, 25b: 관 형상 부재
26a, 26b: 가스 와이핑 노즐 27a, 27b: 주름상자 형상 커튼
28a, 28b, 29a, 29b: 연장 설치 부재 30: 스틸 밴드
31: 시일 커튼 40: 스플래시
50: 상부 공간 100: 가스 와이핑 장치

Claims (2)

  1. 용융 금속 도금욕으로부터 끌어 올려지는 스틸 밴드의 표면에 부착된 과잉 용융 금속을 제거하기 위해 상기 스틸 밴드를 사이에 두고 대향 배치되어 있는 제 1 가스 와이핑 노즐 및 제 2 가스 와이핑 노즐과,
    상기 스틸 밴드의 폭 방향을 따라 설치되며, 상기 제 1 가스 와이핑 노즐에 접속되어 있는 제 1 관 형상 부재와,
    상기 스틸 밴드의 폭 방향을 따라 설치되며, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐에 접속되어 있는 제 2 관 형상 부재와,
    상기 제 1 가스 와이핑 노즐, 상기 제 2 가스 와이핑 노즐, 상기 제 1 관 형상 부재 및 상기 제 2 관 형상 부재를 포위하는 상자 형상체와,
    상기 제 1 관 형상 부재의 외벽에 일단이 고정되며, 타단이 상기 상자 형상체의 내벽에 고정되어 있는 제 1 칸막이 부재와,
    상기 제 2 관 형상 부재의 외벽에 일단이 고정되며, 타단이 상기 상자 형상체의 내벽에 고정되어 있는 제 2 칸막이 부재를 구비하는 가스 와이핑 장치로서,
    상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 일단부로부터 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 1 연장 설치 부재와,
    상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 타단부로부터 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 2 연장 설치 부재와,
    상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 일단부로부터 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 3 연장 설치 부재와,
    상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 폭 방향 타단부로부터 상기 제 1 가스 와이핑 노즐의 방향을 향하여 연장 설치되어 있는 제 4 연장 설치 부재를 더 구비하고,
    적어도 상기 제 1 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 3 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 상기 제 2 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 4 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 제 1 가스 와이핑 노즐 및 상기 제 2 가스 와이핑 노즐은, 서로의 거리가 미리 정해진 범위 내에서 변경 가능하게 되도록, 이들 중 적어도 어느 일방이 타방에 대하여 평행 이동 가능하며,
    상기 제 1 가스 와이핑 노즐과 상기 제 2 가스 와이핑 노즐의 사이가 상기 미리 정해진 범위 내에 있어서의 최대 거리에 있을 때이더라도, 적어도 상기 제 1 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 3 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있음과 함께, 적어도 상기 제 2 연장 설치 부재의 선단부와 상기 제 4 연장 설치 부재의 선단부가 장치 상하 방향으로 겹쳐지도록 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 가스 와이핑 장치.
KR1020137013106A 2010-10-26 2011-10-18 가스 와이핑 장치 KR101367291B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-239831 2010-10-26
JP2010239831 2010-10-26
JPJP-P-2011-226292 2011-10-14
JP2011226292A JP5221732B2 (ja) 2010-10-26 2011-10-14 ガスワイピング装置
PCT/JP2011/073882 WO2012056934A1 (ja) 2010-10-26 2011-10-18 ガスワイピング装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20130069863A KR20130069863A (ko) 2013-06-26
KR101367291B1 true KR101367291B1 (ko) 2014-02-27

Family

ID=45993648

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020137013106A KR101367291B1 (ko) 2010-10-26 2011-10-18 가스 와이핑 장치

Country Status (13)

Country Link
US (1) US9021982B2 (ko)
EP (1) EP2634283B1 (ko)
JP (1) JP5221732B2 (ko)
KR (1) KR101367291B1 (ko)
CN (1) CN103180479B (ko)
AU (1) AU2011321686B2 (ko)
BR (1) BR112013010095B1 (ko)
ES (1) ES2659824T3 (ko)
MX (1) MX2013004713A (ko)
MY (1) MY167050A (ko)
PL (1) PL2634283T3 (ko)
TW (1) TWI500812B (ko)
WO (1) WO2012056934A1 (ko)

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9863029B2 (en) * 2012-08-01 2018-01-09 Dongkuk Steel Mill Co., Ltd. Apparatus for forming nitrogen cloud to produce hot dip coated steel sheet
WO2014199194A1 (en) * 2013-06-10 2014-12-18 Arcelormittal Investigacion Y Desarrollo, S.L. Installation for hot dip coating a metal strip comprising an adjustable confinement box
RU2647967C2 (ru) * 2013-12-20 2018-03-21 Арселормиттал СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЛИСТА С ZnAlMg ПОКРЫТИЕМ С ОПТИМИЗИРОВАННЫМ ОТЖАТИЕМ И СООТВЕТСТВУЮЩИЙ ЛИСТ
US9816168B2 (en) 2013-12-20 2017-11-14 Arcelormittal Method for producing a sheet having a ZnAlMg coating with optimized wiping
NO2786187T3 (ko) * 2014-11-21 2018-07-28
DE102015216721B3 (de) * 2015-09-01 2016-11-24 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Vorrichtung zum Behandeln eines Metallbandes
DE102016222230A1 (de) 2016-08-26 2018-03-01 Sms Group Gmbh Verfahren und Beschichtungseinrichtung zum Beschichten eines Metallbandes
JP6396971B2 (ja) * 2016-12-06 2018-09-26 日新製鋼株式会社 溶融めっき設備
CN106622854A (zh) * 2016-12-23 2017-05-10 鞍山发蓝股份公司 采用浸漆方式生产包装用涂漆带钢的刮漆装置
DE102017109559B3 (de) 2017-05-04 2018-07-26 Fontaine Engineering Und Maschinen Gmbh Vorrichtung zum Behandeln eines Metallbandes
US11384419B2 (en) * 2019-08-30 2022-07-12 Micromaierials Llc Apparatus and methods for depositing molten metal onto a foil substrate
JP7398285B2 (ja) 2020-01-24 2023-12-14 日鉄鋼板株式会社 シールボックスを用いためっき金属板製造方法
US11642690B1 (en) * 2021-11-05 2023-05-09 GM Global Technology Operations LLC Systems and methods for paint application during paint submersion

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62205260A (ja) * 1986-03-04 1987-09-09 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続溶融金属メツキ方法
JPH05106005A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Kawasaki Steel Corp 溶融めつき方法および溶融めつき装置
JP2005060807A (ja) 2003-08-20 2005-03-10 Jfe Steel Kk 連続溶融めっきのワイピング装置
JP2005281799A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Nippon Steel Corp 渦流式センサの補正方法、溶融メッキの目付け量制御装置及び制御方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3670695A (en) * 1971-02-23 1972-06-20 United States Steel Corp Apparatus for controlling weight and distribution of a coating
JPS56166366A (en) * 1980-05-28 1981-12-21 Nippon Steel Corp Uniform zero spangle apparatus for hot dipping
US4321884A (en) * 1981-01-22 1982-03-30 National Steel Corporation Coating thickness control nozzle
JPS62193671A (ja) 1986-02-19 1987-08-25 Sumitomo Metal Ind Ltd 帯状体への塗布液のワイピング装置
AU621142B2 (en) * 1988-08-24 1992-03-05 Australian Wire Industries Pty Ltd Jet wiping nozzle
AU616989B2 (en) * 1988-08-24 1991-11-14 Australian Wire Industries Pty Ltd Stabilization of jet wiped wire
US5221345A (en) * 1990-10-12 1993-06-22 National Galvanizing Inc. Method and apparatus for coating a strip
JP3179401B2 (ja) 1996-12-13 2001-06-25 日新製鋼株式会社 耐食性および表面外観の良好な溶融Ｚｎ−Ａｌ−Ｍｇめっき鋼板およびその製造法
JPH11217662A (ja) * 1998-01-30 1999-08-10 Kawasaki Steel Corp ガスワイピング装置
JP3788122B2 (ja) * 1999-08-06 2006-06-21 Ｊｆｅスチール株式会社 ガスワイピング装置
JP4451194B2 (ja) * 2004-04-13 2010-04-14 三菱日立製鉄機械株式会社 液体ワイピング装置
SE529060C2 (sv) * 2005-06-30 2007-04-24 Abb Ab Anordning samt förfarande för tjockleksstyrning
CN2844136Y (zh) * 2005-07-29 2006-12-06 宝山钢铁股份有限公司 涂镀用双喷嘴气刀装置
KR100843923B1 (ko) * 2006-12-08 2008-07-03 주식회사 포스코 다단 노즐형 가스 와이핑 장치
JP5602371B2 (ja) * 2009-03-06 2014-10-08 三菱日立製鉄機械株式会社 ガスワイピング装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62205260A (ja) * 1986-03-04 1987-09-09 Sumitomo Metal Ind Ltd 連続溶融金属メツキ方法
JPH05106005A (ja) * 1991-10-11 1993-04-27 Kawasaki Steel Corp 溶融めつき方法および溶融めつき装置
JP2005060807A (ja) 2003-08-20 2005-03-10 Jfe Steel Kk 連続溶融めっきのワイピング装置
JP2005281799A (ja) 2004-03-30 2005-10-13 Nippon Steel Corp 渦流式センサの補正方法、溶融メッキの目付け量制御装置及び制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP2634283A1 (en) 2013-09-04
EP2634283A4 (en) 2016-04-27
AU2011321686B2 (en) 2015-02-19
WO2012056934A1 (ja) 2012-05-03
CN103180479B (zh) 2014-07-16
KR20130069863A (ko) 2013-06-26
JP5221732B2 (ja) 2013-06-26
AU2011321686A1 (en) 2013-05-02
CN103180479A (zh) 2013-06-26
MX2013004713A (es) 2013-08-29
BR112013010095B1 (pt) 2020-03-10
PL2634283T3 (pl) 2018-05-30
TWI500812B (zh) 2015-09-21
US20130232811A1 (en) 2013-09-12
JP2012107321A (ja) 2012-06-07
US9021982B2 (en) 2015-05-05
TW201221692A (en) 2012-06-01
ES2659824T3 (es) 2018-03-19
BR112013010095A2 (pt) 2016-08-02
MY167050A (en) 2018-08-02
EP2634283B1 (en) 2017-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101367291B1 (ko) 가스 와이핑 장치
KR101367290B1 (ko) 가스 와이핑 장치
JP4823634B2 (ja) 金属ストリップの連続浸漬コーティングと高温プロセスの方法および装置
KR101516509B1 (ko) 연속 용융 도금 설비에 있어서의 스나우트 내 금속 흄 제거 방법 및 장치
TWI717807B (zh) 熔融金屬鍍覆鋼帶的製造方法及連續熔融金屬鍍覆設備
JP2007107035A (ja) 溶融亜鉛メッキ鋼板の製造方法
JP4677846B2 (ja) 溶融金属めっき鋼帯の製造方法
JPH07157853A (ja) 溶融金属めっきのスナウト内亜鉛ヒューム除去方法及び装置
JPH07157854A (ja) 溶融金属めっきのスナウト内清浄化方法及び装置
JP5803754B2 (ja) 溶融金属めっき鋼帯の製造方法
JPWO2020039869A1 (ja) 溶融金属めっき鋼帯の製造方法及び連続溶融金属めっき設備
JP7147793B2 (ja) 連続溶融金属めっき鋼帯の製造装置及び製造方法
JPH09316620A (ja) 溶融亜鉛めっき鋼帯の製造装置
JPH07113154A (ja) 溶融金属めっき方法及び装置
JP7161292B2 (ja) 連続溶融金属めっき装置及び連続溶融金属めっき方法
JP2003231958A (ja) 溶融金属めっき鋼板の製造装置
JP2002327256A (ja) 連続溶融金属めっき方法および装置
JPH07180014A (ja) 溶融金属めっきのスナウト内浴面からのＺｎ蒸発抑制方法
JP2007197781A (ja) 溶融金属めっき鋼帯の製造方法
JPH08246120A (ja) 連続溶融亜鉛めっきラインのターンダウンロール室
JPH0651262U (ja) 連続溶融メッキ装置
JPH03232954A (ja) 溶融金属めっき鋼帯の製造方法
JPH0651263U (ja) 連続溶融メッキ装置
JP2007204783A (ja) 溶融めっき金属帯の製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170210

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180209

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190212

Year of fee payment: 6