SE529060C2 - Anordning samt förfarande för tjockleksstyrning - Google Patents

Description

20* 25 30 35 'šíïi9 ÜäšÛ 2 genom stabiliserande och korrigerande i rullar. Bandet utträder från badet och transporteras genom en avstrykaranordning, så- som en anordning av det inledningsvis definierade slaget. Därvid används det vandrande magnetfältet för att styra beläggningens tjocklek och stryka av överflödig zink från metallbandet. Överflö- dig zink går tillbaka till badet och kan på så sätt: återanvändas.

Bandet transporteras sedan utan stöd tills beläggningen har kylts ned och stelnat. Det belagda bandet leds eller riktas därefter via en övre rulle till ett arrangemang för skärning av bandet till sepa- rata bandelement eller för att linda bandet på en rulle. Vanligen rör sig bandet i en vertikal riktning från den nedsänkta rullen ge- nom de korrigerande och stabiliserande rullarna och avstrykar- anordningen till den övre rullen.

När stälband galvaniseras eftersträvas en jämn och tunn belägg- ningstjocklek. Ett vanligt sätt att kontrollera tjockleken på be- läggningen efter överflödig smält metall har strukits av bandet, och beläggningen stelnat, är att mäta beläggningens massa efter det att bandet t ex har passerat den övre rullen. Denna avläsning utnyttjas för att styra avstrykaranordningen och därmed reglera beläggningens tjocklek.

Storleken på den avstrykande kraft som kan appliceras på ele- mentet via nämnda anordnings avstrykarorgan är avgörande för hur tunn beläggning som kan uppnås vid en givein hastighet hos elementet längs transportbanan. Detta innebär att vid önskemål om mycket tunna beläggningar, såsom i storleksordningen av 10 pm, då måste elementet köras med en lägre hastighet än vad som vore önskvärt för en effektiv bandproduktion. Nämnda elektromagnetiska avstrykarorgans maximala avstrykningskraft begränsas nämligen genom att det uppstår rnättning i den järnkärna som detta avstrykarorgan uppvisar, vilket begränsar magnetflödet och därmed kraften. Vidare alstrar det vandrande magnetfältet en tvärgående elektrisk ström i den flytande metallbeläggningen på elementet, och denna vänder i närheten av elementets sidokanter, så att avstrykningskraften där blir lägre och därmed beläggningen tjockare vid kanterna. 10 15 20 25 30 35 m ra at: Således uppvisar en anordning av det inledningsvis definierade slaget vissa begränsningar vad gäller uppnàende av en tunn metallbeläggning med likformig tjocklek över elementets hela bredd under hög produktionseffektivitet.

Här kan även nämnas att en annan typ av anordning med samma syfte är känd, nämligen en sådan som istället för att applicera ett vandrande magnetfält på elementet applicerar en strâle av gas med en träffyta väsentligen enligt en linje på tvären över elementet för avstrykning av överflödig smält metall fràn elementet. En nackdel med denna typ av anordning är att den möjliga hastigheten hos gasstrålen är begränsad av ljudhastigheten, så att elementet oftast måste köras långsamt för att få ned tjockleken på beläggningen av metall till den önskade.

En annan nackdel vid användande av en sådan s k gaskniv för avstrykning av överflödig smält metall från elementet ligger i att denna typ av avstrykning oftast resulterar i en tjockare beläggning i elementets mittsektlon och en tunnare beläggning vid elementets sidokanter p g a turbulenser som uppstår i gasstrålen. Appliceras dessutom en nämnd gasstråle med ett för högt tryck, då uppkommer droppar i beläggningen, s k "splashing”, vilket försämrar kvaliteten hos beläggningen.

SAMMANFATTNING AV UPPFINNINGEN Syftet med föreliggande uppfinning är att tillhandahålla en an- ordning samt ett förfarande av inledningsvis definierat slag, vilka åtminstone delvis undanröjer ovannämnda nackdelar. hos tidigare kända sådana anordningar och förfaranden.

Detta syfte uppnås enligt uppfinningen vad gäller anordningen genom att förse en anordning av inledningsvis definierat slag i förbindelse med respektive elektromagnetiska avstrykarorgan med ett andra avstrykarorgan utformat att på elementet applicera en stråle av gas med en träffyta väsentligen enligt en linje på tvären över elementet med avseende på transportbanans riktning 10 15 20k 25 30 35 Gtšü för assisterande av det elektromagnetiska avstrykarorganet i avstrykningen av överflödig smält metall från elementet.

Ett nämnt elektromagnetiskt avstrykarorgan och ett avstrykaror- gan baserat på en gasstråle arbetar fullständigt: oberoende av varandra, så att om så önskas kan maximal möjlig kraft appli- ceras via det elektromagnetiska avstrykarorganet och samtidigt den maximala möjliga kraften appliceras via det andra avstrykar- organets gasstråle. Därigenom kan ungefärligen den dubbla av- strykarkraften uppnås hos en sådan anordning i förhållande till en anordning som endast uppvisar antingen elektromagnetiska avstrykarorgan eller avstrykarorgan baserade på en gasstråle.

Detta innebär att det blir möjligt att för en given önskad tjocklek hos metallbeläggningen öka hastigheten med vilken elementet transporteras längs nämnda transportbana och därmed produk-. tionshastigheten hos den produkt, såsom band eller dylikt, som produceras utifrån elementet.

Genom att kombinera dessa båda avstrykningsmetoder uppnås även andra fördelar. En sådan härrör från faktumet att gasstrålen inverkar kylande på metallbeläggningen, medan det vandrande magnetfältet inverkar värmande, så att dessa bå-da inverkningar till viss del neutraliserar varandra, så att avstrykarorganets in- verkan pà beläggningens kylningshastighet minskas, vilket re- sulterar i en bättre kvalitet hos beläggningen. Vidare tenderar nämnda andra avstrykarorgan att via gasstrålen .applicera högre avstrykningskrafter nära elementets sidokanter, medan det elek- tromagnetiska avstrykarorganet där applicerar lägre avstryk- ningskrafter än i elementets mittparti, så att dessa effekter till- sammans resulterar i en jämn tjocklek hos beläggningen i ele- mentets tvärled. Vidare undertrycker det vandrande magnetfältet ovannämnda s k ”splashing” p g a gasstrålen, då magnetfältet ^ verkar lugnande på sådana rörelseri smältmetallbeläggningen.

Enligt en utföringsform av uppfinningen är respektive elektro- magnetiska avstrykarorgan och det därmed samverkande andra avstrykarorganet anordnade att applicera avstrykningskraften på 10 15 20 25 30 35 C "1 FI) xo CD (Data CÖ nämnda element inom väsentligen samma region av elementet.

Härigenom kan det dras maximal nytta av ovannälmnda kombina- tionsfördelar med att använda dessa båda typer av avstrykaror- gan. Därmed är det fördelaktigt om nämnda andra avstrykarorgan är anordnat att applicera nämnda gasstråle på elementet pà ett ställe utmed nämnda transportbana beläget i väsentligen samma position som det därmed samverkande elektromagnetiska avstry- karorganets applicerande av avstrykningskrafter eller i transport- banans riktning väsentligen omedelbart nedströms därom. Är det möjligt att applicera de båda avstrykarorganens avstryknings- krafter så att de i princip är maximala i samma punkter, då' blir i de flesta användningsfall även ovannämnda fördelar med att kombinera dem maximala.

Därvid har det visat sig vara fördelaktigt att nämnda andra av- strykarorgan är anordnat att applicera nämnda gasstråle på ele- . mentet på ett ställe som utmed nämnda transportbana är beläget på ett avstånd mindre än 10 cm, företrädesvis mindre än 5 cm, från positionen i vilken avstrykningskraften härrörande från nämnda samverkande elektromagnetiska avstrykarorgan är maximal. Speciellt fördelaktigt är det, såsom nämnts, om nämnda andra avstrykarorgan är anordnat att applicera nämnda gasstràle på elementet på ett ställe utmed nämnda transportbana beläget i väsentligen samma position som det därmed samverkande elek- ~ tromagnetiska avstrykarorganet är anordnat att applicera maxi- mala avstrykningskrafter.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen är det andra av- strykarorganet utformat att applicera en stråle av luft på ele- mentet, vilket innebär ett kostnadseffektivt realiserande av nämnda gassträle.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen är respektive andra avstrykarorgan utformat att applicera en stråle av kvävgas på elementet, vilket är fördelaktigt om en oxidering av materialet i den pàförda metallbeläggningen måste undvikas i högsta möjliga grad. 10 15 20 25 30 35 Enligt en annan utföringsform av uppfinningen innefattar vartdera elektromagnetiska avstrykarorgan en avstrykarpol bildad av en magnetkärna. Därvid kan enligt en annan utföringsform av upp- finningen det andra avstrykarorganet innefatta ett gasmunstycke anordnat i nämnda magnetkärna, vilket gör det möjligt att uppnå ett applicerande av avstrykningskrafter härrörancle från gasstrå- len och det vandrande magnetfältet på väsentligen samma ställe på elementet.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen är nämnda 'mag- netkärna utformad att med partier därav bilda nämnda mun- stycke, och enligt en ännu ytterligare utföringsform av uppfin- ningen uppvisar nämnda magnetkärna ett inre hålrum, i vilket en separat del som bildar nämnda munstycke är mottagen. Vilken av dessa båda utföríngsformer som är att föredraga kan vara bero- ende av den avsedda användningen för anordningen enligt upp- finningen.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen innefattar anord- ningen åtminstone ett par elektromagnetiska stabiliseringsorgan, innefattande ett stabiliseringsorgan på var sida om transportba- nan för elementet för att stabilisera elementets position med av- seende på den förutbestämda transportbanan, och stabilise- ringsorganet innefattar en stabiliseringspol. När elementet är ett nämnt metallband kommer nämligen p g a dettae geometri, den längd bandet måste löpa utan stöd, dess hastighet och påverkan från avstrykarorganen metallbandet att röra sig elíler vibrera i en riktning som är väsentligen vinkelrät mot dess transportriktning.

Nämnda vibrationer hos bandet kan långtgående reduceras ge- nom nämnda elektromagnetiska stabiliseringsorgan, så att en» förbättrad kvalitet pà det belagda bandet kan uppnås.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen är respektive elektromagnetiska avstrykarorgan och stabiliseringsorganet på samma sida om nämnda transportbana anordnade så att avstry- karpolen och stabiliseringspolen sammanfaller. Detta medför att 10 15 20 25 30 35 den stabiliserande magnetkraften från stabiliseringsorganet verkar i samma område som den störande kraften från det elek- tromagnetiska avstrykarorganet. Genom att den stabiliserande kraften. verkar i samma område som störningen på bandet från avstrykarorganet, uppstår minskad böjning och vibrationer av elementet. En annan fördel med detta relativa anordnande av stabiliseringsorganet och det elektromagnetiska avstrykarorganet är att anordningen blir kompakt. Därvid har avstrykarorganet och stabiliseringsorganet med fördel en gemensam magnetkärna.

Uppfinningen avser även ett förfarande för styrning av tjockleken hos en metalls beläggning pà ett làngsträckt mellalliskt element, varvid beläggningen appliceras genom kontinuerlig transport av elementet genom ett bad av smält metall, varvid förfarandet in- nefattar: - transport av elementet i en transportriktning längs en förutbe- stämd bana, och - - avstrykning av överflödig smält metall från det långsträckta metalliska elementet genom att pà elementet med den ännu icke stelnade metalliska beläggningen applicera ettvandrande magnetfält samt en stràle av gas med en träffyta väsentligen enligt en linje pà tvären över elementet med avseende pà transportbanans riktning pà elementet med den ännu icke stelnade metalliska beläggningen.

Fördelarna med och de fördelaktiga särdragen hos ett sådant förfarande framgår av ovannämnda beskrivning av anordningen enligt uppfinningen.

Enligt en utföringsform av uppfinningen innefattar förfarandet uppmätning av beläggningens tjocklek efter avstrykning av över- flödig smält metall, varvid en skillnad mellan den uppmätta tjockleken och ett börvärde på tjockleken styr a) strömmen som går till faslindningar som genererar det vandrande magnetfältet och/eller b) trycket hos nämnda på elementet alpplicerade gas- stråle. Härigenom kan det tillförlitligt tillses att den önskade tjockleken hos beläggningen uppnås. 10 15 20 25 30 35 (_.

FJ '<3 C) QX CD Enligt en annan utföringsform av uppfinningen anpassas ström- men som går till fas|indningar som genererar det vandrande magnetfältet och applicerandet av nämnda gasstråle till varandra så att den av dessa båda bildade sammanlagda avstryknings- kraften applicerad på elementet blir väsentligen lika stor över elementets bredd, d v s utmed elementet i tvärriktningen relativt riktningen av nämnda transportbana. Härigenom tillses att den senare stelnade beläggningens tjocklek blir väsentligen den- samma vid elementets ändpartier som vid dess mittparti.

Enligt en annan utföringsform av uppfinningen förvärms gasstrå- len för avlägsnande av fukt därifrån innan den appliceras som en stråle på nämnda element, vilket leder till att gasstràlen inte kommer att kyla lika mycket och att ingen fukt appliceras på den smälta metallen, och dessa båda särdrag kan efterfrågas i vissa typer av applikationer.

Ytterligare fördelar med samt fördelaktiga särdrag hos uppfin- ningen framgår av den efterföljande beskrivningen samt övriga osjälvständiga patentkrav.

KORT BESKRIVNING AV RlTNlNGEN Här nedan beskrivs såsom exempel anförda föredragna utfö- ringsformer av uppfinningen under hänvisning lill bifogade rit- ning, på vilken: Fig 1 är en mycket förenklad tvärsnittsvy genom en utförings- form av en anordning för att styra tjockleken hos en metallisk beläggning på ett metallband, sedd från sidan, Fig 2 är en mycket förenklad detaljvy av den region av ett med smältmetall belagt metallband i vilken avstrykarkrafter appliceras på beläggningen, 10 15 20» 25 30 35 529 050 9 Fig 3 är en vy framifrån av en del av en anordning enligt uppfinningen inkluderande elektromagnetiska avstrykar- organ och avstrykarorgan med gasstråle, Fig 4 är en förenklad tvärsnittsvy utmed linjen IB-B i Fig 3, och Fig 5 är en Fig 4 motsvarande vy av en anordning enligt en andra utföringsform av uppfinningen.

DETALJERAD BESKRIVNING AV UTFÖRINGSFORMER AV UPPFlNNlNGEN I Fig 1 visas mycket schematiskt en anordning enligt en utfö- ringsform av uppfinningen för styrning av tjockleken hos en me- tallisk beläggning pà ett làngsträckt metalliskt element 1 i form av ett band. Bandet 1 beläggs med ett skikt av smält metall ge- nom kontinuerlig transport av bandet genom ett smältmetallbad 2.~Bandet transporteras från badet i en transportlriktning 3 längs en förutbestämd transportbana x. Den förutbestämda transport- banan x sträcker sig huvudsakligen mellan en i badet 2 nedsänkt rulle 4 och en övre rulle 5, vilken är anordnad efter en avstrykar- och stabiliseringsenhet 6, vilken är anordnad att stryka av över- flödig smält metall från bandet 1 samt stabilisera bandet. Denna enhet uppvisar två likadana hälfter a, b, anordnade på ömse si- dor om transportbanan x för att påverka bandet från motsatta håll. Anordn.ingen innefattar på vardera sida om transportbanan x ett elektromagnetiskt avstrykarorgan bildat av en första faslind- ning 7a, 7b för en första fas och en andra faslindning 8a, 8b för en andra fas, varvid faslindningarna är anordnade kring en mag- netkärna 9a, 9b, vilken innefattar en avstrykarpol 10a, 10b riktad mot transportbanan x och därmed mot ett längs denna löpande band 1. Det så bildade elektromagnetiska avstrykarorganet fun- gerar enligt följande. Faslindningarna 7a, 7b, 8a, 8b matas med AC-ström (ej visat) och genererar ett växlande magnetfält, även kallat vandrande magnetfält, på bandet 1. Nämnda magnetfält inducerar ej visade strömvägar i beläggningen och en kraft som verkar på beläggningen i riktningen motsatt transportriktningen 10 15 20 25 30 35 060 10 av bandet. På så sätt stryks överflödigt beläggniingsmaterial av i en i bandet längsgående riktning.

Det hänvisas nu även tili Fig 3 och 4. Anordningen innefattar vi- dare på vardera sida om transportbanan ett andra avstrykarorgan 11 utformat att på bandet 1 applicera en stråle av gas med en träffyta enligt en linje på tvären över bandet med avseende pà transportbanans riktning för assisterande av det elektromagne- tiska avstrykarorganet i avstrykningen av överflödig smält metall fràn bandet. Hur detta andra avstrykarorgan kan vara utformat framgår av Fig 3 och 4. Anordningen innefattar en inrättning 33 anordnad att mata gas, såsom exempelvis luft eller kvävgas, med högt tryck in i en inuti magnetkärnan 9 bildad gaskammare 12.

Gaskammaren 12 är anordnad att sträcka sig i transportbanans tvärled över hela bandets bredd och öppnar utåit via ett smalt, mot transportbanan, d v s bandet, riktat gasmunstycke 13 för bil- dande av nämnda gasstrålemed en linje-artad träffyta på bandet. l utföringsformen visad i Fig 4 är gasmunstycket 13 bildat av en del 14 av själva magnetkärnan. Genom denna anordning av den s k gaskniven inuti det elektromagnetiska avstrykarorganets magnetkärna kommer avstrykarkrafterna härrörande från gas- strålen och det elektromagnetiska avstrykarorganet att väsentli- gen sammanfalla. l Fig 2 illustreras schematiskt hur beläggningen 15 genom de båda avstrykarorganens inverkan minskar i tjocklek, varvid tjockleken t ex kan vara 100 um i del 16 uppstriäms om avstry- karorganens angreppspunkt på beläggningen för efter denna i delen 17 ha minskats till kanhända 10 pm. Därvid är krafterna härrörande från det elektromagnetiska avstrykarorganet antydda genom pilarna 18, medan gasstrålens påverkan är antydd genom pilen 19. Vid en given hastighet hos bandet utmed transportba- nan, vilken företrädesvis är i storleksordningen av 200 me- ter/minut, är den uppnàbara tjockleken hos beläggningen efter passerandet av avstrykarorganens angreppspunkt ungefärligen F'”, varvid F är avstrykningskraften. Eftersom avstryknings- kraften i det närmaste kan fördubblas genom kombinerande av 10 15 20 25 30 35 529 0650 11 de båda typerna av avstrykarorgan kan en tjockleksminskning i storleksordningen av 30% uppnås vid oförändrad rörelsehastighet hos bandet, d v s för en given tjocklek kan bandet, köras betydligt snabbare. Dessutom uppnås en rad ytterligare ovan beskrivna kombinationsfördelar genom att samtidigt använda dessa båda typer av avstrykarorgan.

Anordningen innefattar vidare på vardera sida om transportbanan x ett elektromagnetiskt stabiliseringsorgan 20a, 20b, i form av en stabiliseringslindning lindad kring samma magnetkärna 10a, 10b som faslindningarna, så att en gemensam avstrykar- och stabili- seringspol 10a, 10b uppnås.

Respektive stabiliseringslindning 20a, 20b matas med en DC- ström så att en stabiliserande kraft verkar vinkelrätt mot bandet 1. Genom att stabiliseringspoien 10a, 10b är anordnad att sam- manfalla med avstrykarpolen kan den stabiliserande kraften ver- ka på bandet i samma område som en störning från avstrykar- polen uppstår. Givetvis kan störningar eller vibrationer uppstå även på andra sätt än från avstrykarorganet, t ex på grund av den fria längden på bandet 1, d v s den längd som bandet 1 löper utan stöd. Även dessa störningar eller vibrationer kan stabilise- ras med stabiliseringsorganet. Avstrykar- och stabiliseringspoien 10a, 10b är anordnad på ett bestämt avstånd från den förutbe- stämda transportbanan x. Avståndet varierar givetvis med den aktuella tjockleken på bandet 1 och tjockleken på beläggningen.

Hela enheten för avstrykning och stabilisering är anordnad inuti ett gemensamt s k avstrykarhus 23 (se Flg 3 och 4). Genom att på detta sätt bygga in de båda typerna av avstrykarorgan i samma mekaniska enhet verkar dessa tillsammans, så att all ut- rustning för positionering vinkelrätt mot transportbanan x, inställ- ning av vinkeln mellan gasstràle och transportbanan o s v an- vänds gemensamt. Därigenom undviks kostsamt dubbelanord- nande av sådan utrustning. 10 15 20' 25 30 35 060 12 I Fig 1 visas att på var sida om bandet 1 är anordnat en sensor 24a, 24b för avkänning av bandets 1 position i förhållande till dess förutbestämda transportbana x. Sensorn 24a, 24b är anord- nad i nära anslutning till avstrykar- och stabiliseringsenheten 6.

Sensorn är inrättad att detektera värdet av en parameter som beror på bandets position med avseende på den förutbestämda transportbanan x, varvid stabiliseringsorganet är utformat att ap- plicera en kraft på bandet 1 som svarar mot det cletekterade vär- det.

Anordningen uppvisar vidare en inrättning 25a, 25b, för att mäta upp tjockleken på skiktet efter detta stelnat. Denna kontrollinrätt- ning 25a, 25b är anordnad att sända signaler motsvarande tjockleken på skiktet till en styrenhet 26 anordnad att i beroende av det uppmätta resultatet styra strömmatningen till faslindning- arna 7a, 7b och 8a, 8b använda för avstrykninglen samt gastill- förselinrättningen 33 för att ställa in den sammanlagda avstryk- ningskraften så att önskad tjocklek hos beläggningen uppnås. l Fig 5 illustreras en anordning enligt en andra utföringsform av uppfinningen, vilken skiljer sig från den visad i Ffig 4 genom att inte delar hos magnetkärnan 9a, 9b används för att bilda gas- munstycket, utan detta är bildat genom en separat del 27 motta- gen i ett hålrum 28 i magnetkärnan. Gasen tillförs här via ett làngsträckt rör 29 med öppningar jämnt fördelade i dess mantel för att rikta en gasstråle ut genom munstycket 13. Det framgår av Fig 3 hur gasen, såsom luften, kan matas in i gaskammaren 12 respektive röret 29 genom gasanslutningsorgan 130 vid ändarna av avstrykarhuset 23. Hela huset 23 är där även lagrat vid 31 för att kunna svängas kring axeln 32, för att på så vis förändra rikt- ningen enligt vilken avstrykarkrafterna kommer :att angripa be- läggningen på ett element som passerar det elektromagnetiska avstrykarorganet och gasstràleavstrykarorganet.

Uppfinningen är givetvis inte på något sätt begränsad till de ovan beskrivna utföringsformerna därav, utan en mängdi möjligheter till modifikationer av dessa torde vara uppenbara för en fackman på 10 15 20 13 område, utan att denne för den skull avviker frän uppfinningens grundtanke sådan denna definieras i bifogade patentkrav.

Exempelvis är det inte absolut nödvändigt att ancirdningen uppvi- sar stabiliseringsorgan, även om detta i de flesta fall torde vara fördelaktigt. Vidare skulle anordningen kunna uppvisa flerän ett elektromagnetiskt avstrykarorgan per sida om det làngsträckta metalliska elementet, och detsamma gäller för nämnda andra av- strykarorgan. b Det vore även möjligt att på respektive sida av transportbanan belägna elektromagnetiska avstrykarorgan och/eller andra gas- stråleavstrykarorgan är uppdelade på flera delar anordnade i olika positioner i breddled av ett band eller dylikt som avses pas- sera dessa, varvid de olika delarna eventuellt kan vara individu- ellt styrbara för att förändra avstrykningskraften l någon begrän- sad del av bandet med avseende på dess tvärled, såsom i ett kantparti eller i ett mittparti av bandet.

Claims (1)

1. 0 15 20 gzs 30 35 14 Patentkrav Anordning för styrning av tjockleken hos en metallisk belägg- ning på ett lángsträckt metalliskt element (1) bildad genom kontinuerlig transport av elementet genom ett bad (2) av smält metall, varvid elementet är avsett :att transporteras från badet i en transportriktning längs en förutbestämd transportbana (x), varvid anordningen innefattar åtminstone ett par elektromagnetiska avstrykarorgan (7a, .7b, 8a, 8b) utformade att anordnas utmed nämnda transportbana på var sida om ett längs denna transporterat element 'för avstryk- ning av överflödig smält metall från elementet genom aPDli- cering av ettf-vandrande magnetfält på den smälta metallen på elementet, varvid anordningen dessutom innefattar i för- bindelse med respektive elektromagnetiska avstrykarorgan ett andra avstrykarorgan (11) utformat att på elementet ap- plicera en stràle av gas med en träffyta väsentligen enligt en - linje på tvären över elementet med avseende på transport- banans riktning för assisterande av det elektromagnetiska avstrykarorganet i avstrykningen av överflödig smält metall fràn elementet, samt varvid respektive elektromagnetiska avstrykarorgan (7a, 7b, 8a, 8b) och det därmed samver- kande andra avstrykarorganet (11) är anordnade att appli- cera avstrykningskrafter pà nämnda elementinom väsentli- gen samma region av-elementet, kännetec-:knad därav, att nämnda andra avstrykarorgan (11) är anordnat att applicera nämnda gasstråle på elementet på ett ställe utmed nämnda transportbana (x) beläget i väsentligen samma position som det därmed samverkande elektromagnetiska avstrykarorga- net (7a, 7b, 8a, 8b) är anordnat att applicera maximala av- strykningskrafter. “ Anordning enligt krav 1, kännetecknad därav, att respektive andra avstrykarorgan (11) är utformat att applicera en stràle av luft på elementet. 10 15 20 (25 30 35 15 Anordning enligt krav 1, kännetecknad därav, att respektive andra avstrykarorgan (11) är utformat att applicera en stråle av kvävgas pà elementet. - Anordning enligt något av föregående krav, kännetecknad därav, att vartdera elektromagnetiska avstrykarorgan (7a, 7b, 8a, 8b) innefattar en avstrykarpol (10a, 10b) bildad av en magnetkärna (9). Anordning enligt krav 4, kännetecknad därav, att respektive andra avstrykarorgan '(11) innefattar ett gasmunstycke (1-3) anordnat i nämnda magnetkärna (9). Anordning enligt krav 5, kännetecknad därav, att nämnda magnetkärna (9) är utformad att med partier (14) därav bilda nämnda munstycke (13). Anordning enligt krav 5, kännetecknad därav, att nämnda magnetkärna (9) uppvisar ett inre hàirum (213), i vilket en se- _ parat del (27) som bildar nämnda munstycke (30) är motta- gen. Anordning enligt nàgot av föregående krav, kännetecknad därav, att den innefattar åtminstone ett par elektromagne- tiska stabiliseringsorgan (20a, 20b), innefattande ett stabili- seringsorgan på var sida om transportbanan (x) för elemen- tet för att stabilisera elementets position med avseende på den förutbestämda transportbanan, och att stabiliseringsor- ganet innefattar en stabiliseringspol (10a, 10b). ' Anordning enligt krav 8, kännetecknad därav, att respektive elektromagnetiska avstrykarorgan (7a, 7b, 8a, 8b) och stabi- liseringsorganet (20a, 20b) på samma sida om nämnda transportbana är anordnade så att avstrykarpolen (10a, 10b) och stabiliseringspolen (10a, 10b) sammanfaller. 10 15 20 +25 30 35 10. 11. 12. 13. 1,4. 529 0601 16 Anordning enligt krav 9, kännetecknad. därav, att det elektromagnetiska avstrykarorganet (7a, 7b, 8a, 8b) och sta- biliseringsorganet (20a, 20b) har en gemensam magnet- kärna (9). “ Förfarande för styrning av tjockleken hos en metalls belägg- ning på ett làngsträckt metalliskt element, varvid belägg- ningen appliceras genom kontinuerlig transport av elementet (1) genom ett bad (2) av smält metall, varvid förfarandet in- nefattar: - transport av elementet i en transportriktnin-g- längs en förutbestämd transportbana (x), och - avstrykning av överflödig smält metall från det långsträckta metalliska elementet genom att på elementet med den ännu icke stelnade metalliska beläggningen applicera ett vandrande magnetfält samt en stråle av gas med en träff- yta väsentligen enligt en linje på tvären över elementet med avseende på transportbanans riktning på elementet med den ännu icke stelnade metalliska beläggningen, var- vid nämnda gasstràle appliceras på elementet på ett ställe utmed nämnda transportbana beläget i väsentligen samma position som det vandrande magnetfältet är anordnat att applicera maximala avstrykningskrafter pà elementet. Förfarande enligt krav 11, varvid det långsträckta metalliska elementet är ett metalliskt band. Förfarande enligt krav 11 eller 12, vilket innetattar: - uppmätning av beläggningens tjocklek efter avstrykning av överflödig smält metall, varvid en skillnad mellan' den uppmätta tjockleken och ett börvärde på tjockleken styr a) strömmen somgär till faslindningar som genererar det vandrande magnetfältet och/eller b) trycket hos nämnda på elementet applicerade gasstràle. Förfarande enligt något av kraven 11-13, varvid strömmen som går till faslindningar (7a, 7b, 8a,-8b) som genererar det 10 15 20 _25 30 35 15. _16. 17. 17 vandrande magnetfältet och applicerandet av nämnda gas- stråle anpassas till varandra så att den av dessa båda bil- dade sammanlagda avstrykningskraften applicerad på ele- mentet blir väsentligen lika stor över elementets bredd, d v s utmed elementet i tvärriktningen relativt riktningen av nämnda transportbana. Förfarande enligt något av kraven 11-14, varvid nämnda gasstråle är en luftstråle. Förfarande enligt något av kraven 11-14, varvid nämnda gasstråle år ein stråle av kvävgas. Förfarande enligt något av kraven 11-16, varvid gasen för gasstrålen förvärms för avlägsnande av fukt därifrån innan den appliceras som en stråle på nämnda elernent.