UA126838C2 - Установка для вакуумного осадження і спосіб нанесення покриття на підкладку - Google Patents
Установка для вакуумного осадження і спосіб нанесення покриття на підкладку Download PDFInfo
- Publication number
- UA126838C2 UA126838C2 UAA202100119A UAA202100119A UA126838C2 UA 126838 C2 UA126838 C2 UA 126838C2 UA A202100119 A UAA202100119 A UA A202100119A UA A202100119 A UAA202100119 A UA A202100119A UA 126838 C2 UA126838 C2 UA 126838C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- substrate
- ejector
- metal
- angle
- slot
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 48
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 48
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 11
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 claims description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 5
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims description 2
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 abstract description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- KEUKAQNPUBYCIC-UHFFFAOYSA-N ethaneperoxoic acid;hydrogen peroxide Chemical compound OO.CC(=O)OO KEUKAQNPUBYCIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001540 jet deposition Methods 0.000 description 1
- 244000145841 kine Species 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940028444 muse Drugs 0.000 description 1
- GMVPRGQOIOIIMI-DWKJAMRDSA-N prostaglandin E1 Chemical compound CCCCC[C@H](O)\C=C\[C@H]1[C@H](O)CC(=O)[C@@H]1CCCCCCC(O)=O GMVPRGQOIOIIMI-DWKJAMRDSA-N 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/228—Gas flow assisted PVD deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
Abstract
Винахід стосується способу безперервного нанесення на рухому підкладку покриттів, сформованих щонайменше з одного металу, всередині установки для вакуумного осадження, яка містить вакуумну камеру, причому підкладку покривають щонайменше одним металом, і стосується також вакуумної установки для виконання способу безперервного нанесення покриття на рухому підкладку.
Description
Винахід стосується способу безперервного нанесення на підкладку покриттів, сформованих з металу або металічних сплавів. Цей винахід також відноситься до установки для вакуумного осадження, використовуваної в цьому способі.
Відомі різні способи нанесення металічних покриттів, в кінцевому підсумку складаються зі сплавів, на підкладку, таку як-от сталева смуга. Серед них можна згадати нанесення покриття гарячим зануренням, електроосадження, а також різні процеси вакуумного осадження, такі як-от вакуумне напилення і магнетронного розпилення.
З документа МО 97/47782 відомий спосіб безперервного нанесення покриття на сталеву підкладку, в якому струмінь металічної пари, який рухається зі швидкістю понад 500 м/с, входить в контакт з підкладкою. Цей спосіб осадження називають струменевим осадженням з парової фази.
У документі ЕР 2048261 розкритий парогенератор для нанесення покриття на металічну підкладку, який містить вакуумну камеру у вигляді корпусу, оснащеного блоком, що забезпечує стан розрідження по відношенню до зовнішнього середовища, і блоком, що дозволяє вводити і виводити підкладку. Корпус містить головку для осадження з парової фази і ежектор для створення струменя пари металу зі швидкістю звуку в напрямку поверхні підкладки і перпендикулярно їй. Ежектор з'єднаний з тиглем подавальною трубкою. Тигель, який містить суміш металів в рідкій формі, розташований зовні вакуумної камери, і в нього шляхом закачування або барометричної дії подають розплав, одержаний з плавильної печі, яка знаходиться при атмосферному тиску. Встановлений пристрій для регулювання потоку, тиску іМабо швидкості пари металу в ежекторі. Блок регулювання містить пропорційний клапан з дросельною заслінкою і/або пристрій для скидання тиску, розташований в трубі. Ежектор містить подовжню щілину в якості акустичної манжети для виходу пари, яка проходить по всій ширині підкладки, і спечене фільтрувальне середовище або корпус зниження тиску для стандартизації і коригування швидкості пари, що виходить з ежектора.
У документі ЕР 2048261 генератор, переважно, містить засіб для регулювання довжини поздовжньої щілини ежектора залежно від ширини підкладки. Зокрема, розкрита проста система для регулювання щілини парового струменя по ширині смуги шляхом обертання ежектора навколо своєї осі. Таким чином, краї парового струменя і краї підкладки знаходяться в
Зо однакових площинах, тобто відстані між краями парового струменя і краями підкладки рівні
О мм.
Проте, якщо необхідно осаджувати пари металу лише з однієї сторони смуги, було помічено, що ця пара також має тенденцію осідати і, отже, забруднювати протилежну сторону смуги, викликаючи значне зменшення виходу осадження і зовнішнього вигляду протилежного боку смуги.
Отже, мета цього винаходу полягає в тому, щоб запропонувати спосіб нанесення покриттів на рухому підкладку, в якому, якщо пару металу необхідно осаджувати лише на одній стороні смуги, то накопичення металу на протилежній оголеній стороні смуги істотно нижче.
Це досягається за рахунок запропонованого способу нанесення покриттів на рухому підкладку за п. 1 формули винаходу. Спосіб також може містити будь-яку характеристику пп. 2- 10 формули винаходу.
Винахід також стосується підкладки з покриттям за пп. 11-13.
Винахід також відноситься до вакуумної установки за пп. 14-15 формули винаходу.
Щоб проілюструвати винахід, будуть описані різні варіанти здійснення і випробування необмежувальних прикладів, зокрема, з посиланням на наступні креслення:
На Фіг. 1 показаний вид зверху підкладки, покритої щонайменше одним ежектором пари всередині установки для вакуумного осадження відповідно цьому винаходу.
На Фіг. 2 показаний вид зверху підкладки, покритої щонайменше одним ежектором пари всередині установки для вакуумного осадження відповідно до існуючого рівня техніки.
На Фіг. З показаний вид збоку підкладки, покритої щонайменше одним металом всередині установки для вакуумного осадження відповідного цьому винаходу.
На Фіг. 4 показаний приклад парового ежектора, який викидає металічну пару, відповідно цьому винаходу.
Інші характеристики і переваги винаходу стануть очевидними з подальшого докладного опису винаходу.
Винахід відноситься до способу безперервного нанесення на рухому підкладку покриттів, сформованих щонайменше з одного металу, всередині установки для вакуумного осадження, при цьому спосіб включає наступне:
Етап, на якому металічну пару викидають через щонайменше один ежектор пари на одну бо сторону рухомої підкладки 51, і на зазначеній стороні формують шар щонайменше з одного металу шляхом конденсації викинутої пари, при цьому щонайменше один ежектор пари розташований під кутом «є між ежектором пари і віссю А, перпендикулярної напрямку руху підкладки, причому вісь знаходиться в площині підкладки, а кут « задовольняє наступному рівнянню: (01-02) --Ї евіпо;-- Ме сова; - Му5 де а за абсолютною величиною більше 0", 01 їі 02 - це відстань між ежектором і кожним краєм підкладки вздовж осі А, Мує - ширина підкладки, О1 і 02 мають значення більше 0 мм і зазначений ежектор пари має подовжену форму і містить проріз і визначається довжиною І е прорізу і шириною УМе прорізу.
Не бажаючи обмежуватися будь-якою теорією, можна вважати, що з допомогою способу відповідно цьому винаходу можна уникнути забруднення парою металу протилежного боку металічної підкладки 52. Дійсно, автори виявили, що ежектор пари слід розташовувати під певним кутом а, щоб пара металу викидалася майже без втрат. Якщо « задовольняє рівнянню, то вихід пари металу, осадженого на одній стороні рухомої підкладки, значно збільшується, оскільки траєкторію пари металу контролюють. Отже, накопичення пари металу на протилежному боці підкладки істотно нижче.
Як показано на Фіг. 1, установка 1 відповідна до винаходу, по-перше, містить вакуумну камеру 2 і засіб для переміщення підкладки через камеру. Ця вакуумна камера 2 являє собою герметично закривану коробку, в якій переважно підтримують тиск від 102 до 103 бар. Вона має вхідний фіксатор і вихідний фіксатор (вони не показані), між якими підкладка 5, така як-от, наприклад, сталева смуга, може проходити по заданому шляху Р в напрямку руху.
Щонайменше, один ежектор З пари викидає металічну пару зі швидкістю звуку на одну сторону рухомої підкладки 51. Щонайменше, один ежектор пари розташований під кутом « між ежектором пари і віссю А, перпендикулярної напрямку руху підкладки, причому вісь знаходиться у площині підкладки, а кут « задовольняє наступному рівнянню: (01-02) --Ї евіпо;-- Ме сова; - Му5
Ежектор може мати різні форми, наприклад прямокутну або трапецієподібну. Можуть бути різні значення відстаней 01 і 02, як показано на Фіг. 1. Переважно, 01 і Щ02 є найменша відстань між краями ежектора і краями підкладки вздовж осі А.
Відповідно до винаходу, значення О1 і 02 більше 0 мм, тобто краї ежектора не виходять за краї підкладки. Не бажаючи обмежуватися будь-якою теорією, вважають, що якщо 01 і 02 рівні або менше 0 мм, то існує ризик того, що траєкторія металічної викидуваної пари, принаймні, одним паровим ежектором, яка не буде керованою, що призведе до істотного забруднення протилежного боку підкладки 52. Якщо 01 і 02 менше нуля, це означає, що краї ежектора пари виходять за краї підкладки, як показано на Фіг. 2.
Переважно, 01 і 02 незалежно один від одного складають більше 1 мм, переважно від 5 до 100 мм і більш переважно від 30 до 70 мм.
У переважному варіанті здійснення О1 дорівнює 02.
Переважно, довжина Ге прорізу ежектора становить від 5 до 50 мм.
Переважно ширина підкладки МУє становить максимум 2200 мм. Переважно УуУ5 становить мінімум 200 мм. Наприклад, Муз становить від 1000 до 1500 мм.
Переважно Уме становить максимум 2400 мм. Переважно Уме становить мінімум 400 мм.
У переважному варіанті здійснення МУх менше або дорівнює Уме.
Переважно абсолютне значення кута а більше 0", більш переважно від 5 до 80", переважно від 20 до 60" в абсолютному вираженні і, наприклад, від 35 до 557" в абсолютному вираженні.
Вакуумна камера може містити два або кілька ежекторів пари, розташованих з одного боку рухомої підкладки 51.
Як показано на Фіг. 3, підкладку 5 можна змусити переміщатися за допомоги будь-якого відповідного засобу в залежності від природи і форми зазначеної підкладки. Зокрема, можна використовувати обертальний опорний ролик 4, на який може спиратися сталева смуга.
Як показано на Фіг. 4, щонайменше ежектор З пари відповідно цьому винаходу викидає струмінь 5 металічної пари на рухому підкладку (не показана). Щонайменше ежектор пари має подовжену форму і містить проріз і визначається довжиною Ге прорізу і шириною Уме прорізу.
Зокрема, за допомоги способу відповідного цьому винаходу можна одержати металічну підкладку, покриту щонайменше одним металом з одного боку підкладки 51, при цьому на іншій стороні 52 підкладки максимальне накопичення зазначеного металу становить 2,0 мкм на краях.
Переважно максимальне накопичення становить 1 мкм, і переважно, щоб метал не накопичувався на протилежному боці підкладки.
В цьому винаході щонайменше один метал переважно вибирають з наступних: цинк, хром, нікель, титан, марганець, магній, кремній, алюміній або їх суміші. Переважним металом є цинк, як варіант, з магнієм.
Переважно металічна підкладка являє собою сталеву підкладку. Дійсно, не бажаючи бути пов'язаними будь-якою теорією, вважають, що рівномірність додатково покращується при використанні сталевої основи.
Товщина покриття переважно становить від 0,1 до 20 мкм. З одного боку, при значенні нижче 0,1 мкм існує ризик того, що захист підкладки від корозії буде недостатнім. З іншого боку, немає необхідності перевищувати 20 мкм, щоб одержати рівень корозійної стійкості, який потрібний, зокрема, в автомобільній або будівельній галузях. Зазвичай товщина може бути обмежена 10 мкм для автомобільних застосувань.
Нарешті, винахід відноситься до установки для вакуумного осадження для способу відповідному цьому винаходу для безперервного нанесення на рухому підкладку покриттів, сформованих щонайменше з одного металу, причому установка містить вакуумну камеру, через яку підкладка може проходити по заданому шляху, причому вакуумна камера додатково містить: щонайменше, один ежектор пари, розташований під кутом а між ежектором пари і віссю А, перпендикулярної напрямку руху підкладки, причому вісь знаходиться в площині підкладки, а кут а задовольняє наступному рівнянню: (102) кі езіпо Ме созо - МБ де а за абсолютною величиною більше 0", 01 і 02 - це найменша відстань між ежектором і кожним краєм підкладки вздовж осі (А), МуУб - ширина підкладки, О1 і 02 мають значення більше 0 мм і зазначений щонайменше один ежектор пари має подовжену форму і містить проріз, так що ежектор пари визначається довжиною Ге прорізу і шириною УМе прорізу.
У переважному варіанті здійснення щонайменше один пристрій для нанесення покриттів паровим струменем встановлений з можливістю обертання навколо подавальної труби, пов'язаної з джерелом пари, так що кут а« можна регулювати.
Приклади
Зо На установці для вакуумного осадження були проведені випробування для оцінки ефективності способу, який містить один пристрій для нанесення покриттів паровим струменем, який викидає пару цинку.
Пару цинку осаджували на одній стороні сталевої підкладки 51, яка має ширину УуУз 1200 мм, у вакуумній камері, яка містить щонайменше один ежектор, який має І е-24 мм, Ууе-1750 мм. Для випробувань 01 і 02 були ідентичними і були зафіксовані в діапазоні від -10 мм до 20 мм. -10 мм означає, що краї ежектора пари виходять на 10 мм за краї підкладки. Кут а розраховували для кожного випробування з допомогою рівняння відповідно цьому винаходу.
Тиск вакууму становив 107 мбар. Накопичення металу на протилежному боці сталевої підкладки 52 вимірювали за допомоги рентгенівської флуоресцентної спектрометрії. Результати представлені в наступній таблиці:
Таблиця синетнни Те ок юну КИНЕ Ме
Випробування й на протилежному боці сталевої (мм) О мм |(градуси) рівнянню : підкладки 52 (мкм) 2117170 1 ні | 466 | так | -:(ББЙДЙфДЩДГ((48 Щ 772. 0 1 ні | 475 | так, | :::Й 24 х: відповідні цьому винаходу
Накопичення металу на протилежному боці сталевої підкладки 52 була високим для випробувань 1 і 2. Навпаки, як показано для випробувань З і 4, якщо О1 і 02 більше 0 мм, і якщо а задовольняє рівнянню відповідно цьому винаходу, то накопичення металу істотно зменшується.
Claims (15)
1. Спосіб безперервного нанесення на рухому підкладку (5) покриттів, сформованих щонайменше з одного металу, всередині установки (1) для вакуумного осадження, яка містить вакуумну камеру (2), при цьому спосіб включає наступне: етап, на якому в зазначеній вакуумній камері металічну пару викидають через щонайменше один ежектор (3) пари на одну сторону рухомої підкладки (51), і на зазначеній стороні формують шар щонайменше з одного металу шляхом конденсації викинутої пари, при цьому щонайменше один ежектор пари розташований під кутом « між ежектором пари і віссю (А), перпендикулярною напрямку руху підкладки, причому вісь знаходиться у площині підкладки, а кут а« задовольняє наступне рівняння: (01-02)ч41 езіпа-Ууесоза-Мув, де а за абсолютним значенням більше 0", 01 ї 02 - це найменші відстані між ежектором і кожним краєм підкладки вздовж осі (А), МУ5 - ширина підкладки, О1 і 02 мають значення більше 0 мм, тобто краї ежектора не виходять за краї підкладки, зазначений ежектор пари має подовжену форму і містить проріз, і визначається довжиною Ге прорізу і шириною Ме прорізу.
2. Спосіб за п. 1, в якому 01 і 02 незалежні одна від одної і мають значення більше 1 мм.
3. Спосіб за п. 1 або 2, в якому ширина Му5 підкладки становить максимум 2200 мм.
4. Спосіб за будь-яким з пп. 1-3, в якому Му становить мінімум 200 мм.
5. Спосіб за п. 4, в якому кут а має значення від 5" до 80" за абсолютним значенням.
6. Спосіб за п. 5, в якому кут а має значення від 20" до 60" за абсолютним значенням.
7. Спосіб за п. 6, в якому кут а має значення від 35" до 55" за абсолютним значенням.
8. Спосіб за будь-яким з пп. 1-7, в якому довжина Ге прорізу ежектора становить від 5 до 50 мм.
9. Спосіб за будь-яким з пп. 1-8, в якому поперечний переріз ежектора має прямокутну форму або трапецієподібну форму.
10. Спосіб за будь-яким з пп. 1-9, в якому О1 дорівнює 02.
11. Металічна підкладка, одержана способом за будь-яким з пп. 1-10, покрита щонайменше одним металом з одного боку підкладки (51), при цьому на іншій стороні (52) підкладки Зо максимальне накопичення зазначеного металу становить 2,0 мкм на краях.
12. Металічна підкладка за п. 11, в якій метал вибраний з наступних: цинк, хром, нікель, титан, марганець, магній, кремній, алюміній або їх суміш.
13. Металічна підкладка за п. 11 або 12, в якій металічна підкладка являє собою сталеву підкладку.
14. Установка для вакуумного осадження за допомогою способу за будь-яким з пп. 1-10 для безперервного нанесення на рухому підкладку (5) покриттів, сформованих щонайменше з одного металу, причому установка (1) містить вакуумну камеру (2), через яку підкладка може проходити по заданому шляху, причому вакуумна камера додатково містить: щонайменше один ежектор (3) пари, розташований під кутом « між ежектором пари і віссю (А), перпендикулярною напрямку руху підкладки, причому вісь знаходиться у площині підкладки, а кут а« задовольняє наступне рівняння: (01-02)ч41 езіпа-Ууесоза-Мув, де а за абсолютним значенням більше 0", 01 ї 02 - це найменші відстані між ежектором і кожним краєм підкладки вздовж осі (А), МУ5 - ширина підкладки, О1 і 02 мають значення більше 0 мм, тобто краї ежектора не виходять за краї підкладки, і щонайменше один ежектор пари має подовжену форму і містить проріз, так що ежектор пари визначається довжиною І е прорізу і шириною Уме прорізу.
15. Установка за п. 14, в якій щонайменше один пристрій для нанесення покриття паровим струменем встановлений з можливістю обертання навколо подавальної труби, зв'язаної з джерелом пари, так що кут « можна регулювати.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/IB2018/054297 WO2019239184A1 (en) | 2018-06-13 | 2018-06-13 | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| PCT/IB2019/053337 WO2019239227A1 (en) | 2018-06-13 | 2019-04-23 | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA126838C2 true UA126838C2 (uk) | 2023-02-08 |
Family
ID=62904529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAA202100119A UA126838C2 (uk) | 2018-06-13 | 2019-04-23 | Установка для вакуумного осадження і спосіб нанесення покриття на підкладку |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20210254205A1 (uk) |
| EP (1) | EP3807437A1 (uk) |
| JP (1) | JP7301889B2 (uk) |
| KR (2) | KR20230093348A (uk) |
| CN (1) | CN112272713B (uk) |
| BR (1) | BR112020025130A2 (uk) |
| CA (1) | CA3103206C (uk) |
| MA (1) | MA52864A (uk) |
| MX (1) | MX2020013581A (uk) |
| RU (1) | RU2755324C1 (uk) |
| UA (1) | UA126838C2 (uk) |
| WO (2) | WO2019239184A1 (uk) |
| ZA (1) | ZA202007614B (uk) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019239185A1 (en) | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Arcelormittal | Vacuum deposition facility and method for coating a substrate |
| DE102021117574A1 (de) * | 2021-07-07 | 2023-01-12 | Thyssenkrupp Steel Europe Ag | Beschichtungsanlage zur Beschichtung eines flächigen Gegenstands sowie ein Verfahren zum Beschichten eines flächigen Gegenstands |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6326351A (ja) * | 1986-07-18 | 1988-02-03 | Kawasaki Steel Corp | 真空蒸着用の蒸発源装置 |
| JP3463693B2 (ja) * | 1992-10-29 | 2003-11-05 | 石川島播磨重工業株式会社 | 連続帯状物用真空蒸着装置 |
| BE1010351A6 (fr) | 1996-06-13 | 1998-06-02 | Centre Rech Metallurgique | Procede et dispositif pour revetir en continu un substrat en mouvement au moyen d'une vapeur metallique. |
| US6202591B1 (en) * | 1998-11-12 | 2001-03-20 | Flex Products, Inc. | Linear aperture deposition apparatus and coating process |
| EP1174526A1 (en) * | 2000-07-17 | 2002-01-23 | Nederlandse Organisatie voor Toegepast Natuurwetenschappelijk Onderzoek TNO | Continuous vapour deposition |
| JP4346336B2 (ja) * | 2003-04-02 | 2009-10-21 | 三洋電機株式会社 | 有機ｅｌ表示装置の製造方法 |
| JP2007262540A (ja) * | 2006-03-29 | 2007-10-11 | Jfe Steel Kk | 化学蒸着処理の原料ガス供給用ノズルと被膜形成方法および方向性電磁鋼板 |
| US20080245300A1 (en) * | 2006-12-04 | 2008-10-09 | Leybold Optics Gmbh | Apparatus and method for continuously coating strip substrates |
| EP1972699A1 (fr) * | 2007-03-20 | 2008-09-24 | ArcelorMittal France | Procede de revetement d'un substrat et installation de depot sous vide d'alliage metallique |
| EP2048261A1 (fr) * | 2007-10-12 | 2009-04-15 | ArcelorMittal France | Générateur de vapeur industriel pour le dépôt d'un revêtement d'alliage sur une bande métallique |
| EP2199425A1 (fr) * | 2008-12-18 | 2010-06-23 | ArcelorMittal France | Générateur de vapeur industriel pour le dépôt d'un revêtement d'alliage sur une bande métallique (II) |
| DE102010040044B4 (de) * | 2010-08-31 | 2014-03-06 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Beschichtungsanlage und Verfahren für eine physikalische Gasphasenabscheidung |
| JP2014132102A (ja) * | 2013-01-04 | 2014-07-17 | Panasonic Corp | 蒸着装置 |
| DE102013206598B4 (de) * | 2013-04-12 | 2019-06-27 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Vakuumbeschichtungsanlage |
-
2018
- 2018-06-13 WO PCT/IB2018/054297 patent/WO2019239184A1/en active Application Filing
-
2019
- 2019-04-23 KR KR1020237019604A patent/KR20230093348A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-04-23 CA CA3103206A patent/CA3103206C/en active Active
- 2019-04-23 KR KR1020207035764A patent/KR20210009350A/ko not_active IP Right Cessation
- 2019-04-23 UA UAA202100119A patent/UA126838C2/uk unknown
- 2019-04-23 US US16/973,097 patent/US20210254205A1/en active Pending
- 2019-04-23 EP EP19726751.1A patent/EP3807437A1/en active Pending
- 2019-04-23 MA MA052864A patent/MA52864A/fr unknown
- 2019-04-23 CN CN201980038862.4A patent/CN112272713B/zh active Active
- 2019-04-23 JP JP2020569144A patent/JP7301889B2/ja active Active
- 2019-04-23 BR BR112020025130-5A patent/BR112020025130A2/pt unknown
- 2019-04-23 WO PCT/IB2019/053337 patent/WO2019239227A1/en unknown
- 2019-04-23 RU RU2021100187A patent/RU2755324C1/ru active
- 2019-04-23 MX MX2020013581A patent/MX2020013581A/es unknown
-
2020
- 2020-12-07 ZA ZA2020/07614A patent/ZA202007614B/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| RU2755324C1 (ru) | 2021-09-15 |
| KR20210009350A (ko) | 2021-01-26 |
| WO2019239184A1 (en) | 2019-12-19 |
| CN112272713B (zh) | 2023-09-19 |
| KR20230093348A (ko) | 2023-06-27 |
| JP2021526590A (ja) | 2021-10-07 |
| JP7301889B2 (ja) | 2023-07-03 |
| CN112272713A (zh) | 2021-01-26 |
| MX2020013581A (es) | 2021-02-26 |
| CA3103206C (en) | 2022-10-25 |
| EP3807437A1 (en) | 2021-04-21 |
| US20210254205A1 (en) | 2021-08-19 |
| MA52864A (fr) | 2021-04-21 |
| ZA202007614B (en) | 2021-08-25 |
| WO2019239227A1 (en) | 2019-12-19 |
| BR112020025130A2 (pt) | 2021-03-23 |
| CA3103206A1 (en) | 2019-12-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SE529060C2 (sv) | Anordning samt förfarande för tjockleksstyrning | |
| UA126838C2 (uk) | Установка для вакуумного осадження і спосіб нанесення покриття на підкладку | |
| EP3337913B1 (en) | Method and apparatus for the cleaning and coating of metal strip | |
| SE0600631L (sv) | Apparat och metod för eggbeläggning i kontinuerlig deponeringslinje | |
| JP7165755B2 (ja) | 基板コーティング用真空蒸着設備及び方法 | |
| RU2755323C1 (ru) | Установка для вакуумного осаждения покрытий и способ нанесения покрытий на подложку | |
| US20160244870A1 (en) | Method for controlling a gas supply and controller | |
| NL8201093A (nl) | Inrichting voor het aanbrengen van dunne lagen. | |
| KR102486851B1 (ko) | 진공 디포지션 설비 및 기재를 코팅하는 방법 | |
| JPH09143692A (ja) | 高蒸気圧金属の気相メッキ装置及び方法 | |
| KR20200136309A (ko) | 성막 장치용 부품, 및 성막 장치용 부품을 갖춘 성막 장치 | |
| JPH09195022A (ja) | 溶融金属めっきの付着量制御方法 |