JP3463693B2 - 連続帯状物用真空蒸着装置 - Google Patents
連続帯状物用真空蒸着装置Info
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- JP3463693B2 JP3463693B2 JP29061792A JP29061792A JP3463693B2 JP 3463693 B2 JP3463693 B2 JP 3463693B2 JP 29061792 A JP29061792 A JP 29061792A JP 29061792 A JP29061792 A JP 29061792A JP 3463693 B2 JP3463693 B2 JP 3463693B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、連続帯状物用真空蒸着
装置に関するもので、詳しくは、電子銃を利用した連続
式帯状物用真空蒸着装置、その他、連続式イオンプレ−
テイング装置あるいはるつぼを利用する抵抗加熱式およ
び誘導加熱式連続蒸着装置などの真空蒸着装置に関する
ものである。
装置に関するもので、詳しくは、電子銃を利用した連続
式帯状物用真空蒸着装置、その他、連続式イオンプレ−
テイング装置あるいはるつぼを利用する抵抗加熱式およ
び誘導加熱式連続蒸着装置などの真空蒸着装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の技術の１つの例を示した平
面図であり、図３は同じくもう１つの例を示した平面図
である。図２および図３において、１は真空槽、２は該
真空槽１の内部に据え付けられたるつぼ、３は該るつぼ
２に充てんされた蒸発材、４は該るつぼ２の上方で矢印
の方向にＶの速度で連続的に移動する帯状物、５は電子
銃、６は該電子銃５から放射されて蒸発材３を蒸発させ
る電子ビ−ム、７は該るつぼ２の長手方向の中心線であ
る。
面図であり、図３は同じくもう１つの例を示した平面図
である。図２および図３において、１は真空槽、２は該
真空槽１の内部に据え付けられたるつぼ、３は該るつぼ
２に充てんされた蒸発材、４は該るつぼ２の上方で矢印
の方向にＶの速度で連続的に移動する帯状物、５は電子
銃、６は該電子銃５から放射されて蒸発材３を蒸発させ
る電子ビ−ム、７は該るつぼ２の長手方向の中心線であ
る。
【０００３】すなわち、図２に示した従来の技術におい
ては、帯状物４の移動方向に対して平行にるつぼ２を設
置し、電子銃５により、るつぼ２内の蒸発材３を溶解、
蒸発させ、帯状物４の表面に金属膜を形成する。また図
３に示した従来の技術においては、帯状物４の移動方向
に対してるつぼ２の長手方向の中心線７とのなす角が９
０度になるようにるつぼ２を設置し、電子銃５により、
るつぼ２内の蒸発材３を溶解、蒸発させ、帯状物４の表
面に金属膜を形成する。
ては、帯状物４の移動方向に対して平行にるつぼ２を設
置し、電子銃５により、るつぼ２内の蒸発材３を溶解、
蒸発させ、帯状物４の表面に金属膜を形成する。また図
３に示した従来の技術においては、帯状物４の移動方向
に対してるつぼ２の長手方向の中心線７とのなす角が９
０度になるようにるつぼ２を設置し、電子銃５により、
るつぼ２内の蒸発材３を溶解、蒸発させ、帯状物４の表
面に金属膜を形成する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図２に
示した従来の技術においては、図４に示すように、つま
り、図４では、帯状物４が紙面に直角方向に移動する場
合を示しているが、２個のるつぼ２，２内に異種金属、
たとえば、一方のるつぼにアルミニウム（Ａｌ）を充て
んし、他方のるつぼ２にチタン（Ｔｉ）を充てんし、同
時に蒸発させ、帯状物４の表面に合金膜を形成する場
合、アルミニウムだけの層８、アルミニウムとチタンの
合金層９、チタンだけの層１０となって、アルミニウム
とチタンの分布が帯状物４の表面上で均一にならず、合
金膜を全面に形成することは不可能であるという問題点
があった。
示した従来の技術においては、図４に示すように、つま
り、図４では、帯状物４が紙面に直角方向に移動する場
合を示しているが、２個のるつぼ２，２内に異種金属、
たとえば、一方のるつぼにアルミニウム（Ａｌ）を充て
んし、他方のるつぼ２にチタン（Ｔｉ）を充てんし、同
時に蒸発させ、帯状物４の表面に合金膜を形成する場
合、アルミニウムだけの層８、アルミニウムとチタンの
合金層９、チタンだけの層１０となって、アルミニウム
とチタンの分布が帯状物４の表面上で均一にならず、合
金膜を全面に形成することは不可能であるという問題点
があった。
【０００５】また図３に示した従来の技術においては、
図２の場合とは異なり、合金膜を形成することは可能で
あるが、後述する図１と前述した図３とからわかるよう
に、帯状物４がるつぼ２の上面を通過する時間が短くな
る（距離Ｌ1 ＞Ｌ2 ）ため、目標の厚みの膜を形成する
ためには、速い成膜速度で膜を形成しなければならない
ので、膜質（密着性、密度、耐蝕性等）が低下するとい
う問題点があった。
図２の場合とは異なり、合金膜を形成することは可能で
あるが、後述する図１と前述した図３とからわかるよう
に、帯状物４がるつぼ２の上面を通過する時間が短くな
る（距離Ｌ1 ＞Ｌ2 ）ため、目標の厚みの膜を形成する
ためには、速い成膜速度で膜を形成しなければならない
ので、膜質（密着性、密度、耐蝕性等）が低下するとい
う問題点があった。
【０００６】本発明は、上記のような問題点を解決しよ
うとするものである。すなわち、本発明は、帯状物の幅
方向に均一に分布した膜が形成され、かつ、膜質の点で
も、優れた蒸着膜を得ることができる連続帯状物用真空
蒸着装置を提供することを目的とするものである。
うとするものである。すなわち、本発明は、帯状物の幅
方向に均一に分布した膜が形成され、かつ、膜質の点で
も、優れた蒸着膜を得ることができる連続帯状物用真空
蒸着装置を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、真空槽
（１）内に配置されたるつぼ（２）の上方に連続的に移
動するように設置された帯状物（４）と、前記るつぼ
（２）内に充てんされている蒸発材（３）を蒸発させ、
帯状物（４）の表面上に蒸着を行なう電子銃（５）と、
を備え、前記るつぼ（２）の長手方向の中心線（７）
を、前記帯状物（４）の移動方向に対して斜めにするこ
とにより、該るつぼ（２）に充てんされている蒸発材
（３）の長手方向の中心線（７）の帯状物（４）に対応
する長さが該帯状物（４）の幅（Ｗ１）の１．３〜２．
０倍になるように該るつぼ（２）が配置されている、こ
とを特徴とする連続帯状物用真空蒸着装置が提供され
る。また、互いに異なる蒸発材（３）をそれぞれ充てん
している２つ以上のるつぼ（２）が帯状物（４）の移動
方向に接近して設けられている。
（１）内に配置されたるつぼ（２）の上方に連続的に移
動するように設置された帯状物（４）と、前記るつぼ
（２）内に充てんされている蒸発材（３）を蒸発させ、
帯状物（４）の表面上に蒸着を行なう電子銃（５）と、
を備え、前記るつぼ（２）の長手方向の中心線（７）
を、前記帯状物（４）の移動方向に対して斜めにするこ
とにより、該るつぼ（２）に充てんされている蒸発材
（３）の長手方向の中心線（７）の帯状物（４）に対応
する長さが該帯状物（４）の幅（Ｗ１）の１．３〜２．
０倍になるように該るつぼ（２）が配置されている、こ
とを特徴とする連続帯状物用真空蒸着装置が提供され
る。また、互いに異なる蒸発材（３）をそれぞれ充てん
している２つ以上のるつぼ（２）が帯状物（４）の移動
方向に接近して設けられている。
【０００８】
【作用】上記本発明の構成では、真空槽（１）内に配置
されたるつぼ（２）の上方に連続的に移動する帯状物
（４）が設置され、電子銃（５）によりるつぼ（２）内
に充てんされている蒸発材（３）を蒸発させて帯状物
（４）表面上に蒸着を行ない、前記るつぼ（２）の長手
方向の中心線（７）が前記帯状物（４）の移動方向に対
して斜めになるように該るつぼ（２）が配置されている
ので、帯状物（４）の移動方向における見かけ上のるつ
ぼ（２）の幅が大きくなり、遅い蒸発速度で目標の厚み
を持つ膜を形成することができる。また、るつぼ（２）
が斜めに配置されているため、該るつぼ（２）からの蒸
発材（３）の利用度、つまり、歩留まりがよくなり、帯
状物（４）の幅方向に対して均一に分布した膜が形成さ
れる。
されたるつぼ（２）の上方に連続的に移動する帯状物
（４）が設置され、電子銃（５）によりるつぼ（２）内
に充てんされている蒸発材（３）を蒸発させて帯状物
（４）表面上に蒸着を行ない、前記るつぼ（２）の長手
方向の中心線（７）が前記帯状物（４）の移動方向に対
して斜めになるように該るつぼ（２）が配置されている
ので、帯状物（４）の移動方向における見かけ上のるつ
ぼ（２）の幅が大きくなり、遅い蒸発速度で目標の厚み
を持つ膜を形成することができる。また、るつぼ（２）
が斜めに配置されているため、該るつぼ（２）からの蒸
発材（３）の利用度、つまり、歩留まりがよくなり、帯
状物（４）の幅方向に対して均一に分布した膜が形成さ
れる。
【０００９】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示した平面図であ
る。図１において、符号１ないし７は、図２および図３
に示したものと同じであるが、図１では、るつぼ２の長
手方向の中心線７が帯状物４の移動方向に対して角度θ
だけ斜めになるように該るつぼ２が配置されている。
る。図１において、符号１ないし７は、図２および図３
に示したものと同じであるが、図１では、るつぼ２の長
手方向の中心線７が帯状物４の移動方向に対して角度θ
だけ斜めになるように該るつぼ２が配置されている。
【００１０】なお図１の実施例では、前記θを約５０度
にしてある。すなわち、図１に示した連続帯状物用真空
蒸着装置においては、真空槽１内の上方に帯状物４が速
度Ｖで連続的に移動しており、その帯状物４の表面に金
属または合金等の膜を形成するようになっている。膜の
形成は、真空槽４に取付けられた電子銃５により、真空
槽１内に据え付けられたるつぼ２内の充てん蒸発材３を
溶解、蒸発させ、移動する帯状物４の表面上に蒸着さ
せ、金属または合金膜等を形成する。
にしてある。すなわち、図１に示した連続帯状物用真空
蒸着装置においては、真空槽１内の上方に帯状物４が速
度Ｖで連続的に移動しており、その帯状物４の表面に金
属または合金等の膜を形成するようになっている。膜の
形成は、真空槽４に取付けられた電子銃５により、真空
槽１内に据え付けられたるつぼ２内の充てん蒸発材３を
溶解、蒸発させ、移動する帯状物４の表面上に蒸着さ
せ、金属または合金膜等を形成する。
【００１１】ただし、合金膜等の多元系膜を形成する場
合は、図１に示すように、２個以上のるつぼ２内に異種
蒸発材をそれぞれ単独に充てんし、それらを同時に蒸発
させ、帯状物４の表面上で多元系膜を形成させる。
合は、図１に示すように、２個以上のるつぼ２内に異種
蒸発材をそれぞれ単独に充てんし、それらを同時に蒸発
させ、帯状物４の表面上で多元系膜を形成させる。
【００１２】図１に示すように、るつぼ２を斜めに設置
することにより、見かけ上の帯状物４の幅がＷ1 （実際
の帯状物４の幅）からＷ2 に長くなる。図１では、前記
Ｗ2がＷ1 の約１．３倍になる。一般に、図５に示すよ
うに、帯状物４の幅が狭い場合と、図６に示すように、
帯状物４の幅が広い場合とでは、るつぼ２から蒸発する
蒸発全量Ｑと無効蒸発量ｑ（帯状物４上への成膜に使わ
れなかった蒸発物の量）の割合いの関係は、たとえば、
図５の場合の前記ＱをＱ1 、ｑをｑ1 とし、図６の場合
の前記ＱをＱ2 、ｑをｑ2 とすると、（ｑ1 ／Ｑ1 ）＞
＞（ｑ2 ／Ｑ2 ）となり、帯状物幅の広いほう（長いほ
う）が、無効蒸発量の割合いが小さくなる。
することにより、見かけ上の帯状物４の幅がＷ1 （実際
の帯状物４の幅）からＷ2 に長くなる。図１では、前記
Ｗ2がＷ1 の約１．３倍になる。一般に、図５に示すよ
うに、帯状物４の幅が狭い場合と、図６に示すように、
帯状物４の幅が広い場合とでは、るつぼ２から蒸発する
蒸発全量Ｑと無効蒸発量ｑ（帯状物４上への成膜に使わ
れなかった蒸発物の量）の割合いの関係は、たとえば、
図５の場合の前記ＱをＱ1 、ｑをｑ1 とし、図６の場合
の前記ＱをＱ2 、ｑをｑ2 とすると、（ｑ1 ／Ｑ1 ）＞
＞（ｑ2 ／Ｑ2 ）となり、帯状物幅の広いほう（長いほ
う）が、無効蒸発量の割合いが小さくなる。
【００１３】したがって、本発明の一実施例を示した図
１のものは、従来の技術の例を示した図３のものに比べ
ると、るつぼ２からの蒸発物を有効に利用できる。ちな
みに、一般的にいわれる蒸発材の利用度は、帯状物幅が
約２０００ｍｍの場合で８０％、これに対し、帯状物の
幅が約１０００ｍｍの場合は６０〜７０％、該幅が３０
０ｍｍの場合は３０〜４０％である。
１のものは、従来の技術の例を示した図３のものに比べ
ると、るつぼ２からの蒸発物を有効に利用できる。ちな
みに、一般的にいわれる蒸発材の利用度は、帯状物幅が
約２０００ｍｍの場合で８０％、これに対し、帯状物の
幅が約１０００ｍｍの場合は６０〜７０％、該幅が３０
０ｍｍの場合は３０〜４０％である。
【００１４】いま、図３に示した従来の技術を簡単な図
にして図７に示し、図１に示した本発明の一実施例の技
術を簡単な図にして図８に示し、この両者の場合に具体
的な数値をあげて比較してみる。図７では、るつぼ２が
帯状物４の移動方向に対して直角であるため、るつぼ２
の長さが１００ｃｍ、幅が１０ｃｍとする。これに対し
て図８では、るつぼ２が帯状物４の移動方向に対して斜
めになっているので、るつぼ２の幅は同じ１０ｃｍであ
るが、見かけ上の幅、つまり、帯状物４の移動方向の幅
は１５ｃｍ、そして、長さは１５０ｃｍを必要とする。
また図示していない電子銃の出力を、ともに、１００Ｋ
Ｗとする。
にして図７に示し、図１に示した本発明の一実施例の技
術を簡単な図にして図８に示し、この両者の場合に具体
的な数値をあげて比較してみる。図７では、るつぼ２が
帯状物４の移動方向に対して直角であるため、るつぼ２
の長さが１００ｃｍ、幅が１０ｃｍとする。これに対し
て図８では、るつぼ２が帯状物４の移動方向に対して斜
めになっているので、るつぼ２の幅は同じ１０ｃｍであ
るが、見かけ上の幅、つまり、帯状物４の移動方向の幅
は１５ｃｍ、そして、長さは１５０ｃｍを必要とする。
また図示していない電子銃の出力を、ともに、１００Ｋ
Ｗとする。
【００１５】したがって、図７では、蒸発面積が１００
０ｃｍ2 、蒸発面単位当りの電子銃出力は１／１０ＫＷ
／ｃｍ2 となり、図８では、蒸発面積が１５００ｃｍ2
、蒸発面単位当りの電子銃出力は１／１５ＫＷ／ｃｍ2
となる。ここで、図７の場合の、単位時間・単位面積
当りの蒸発量をＱ1 ｇ／ｃｍ2 ・ｓとし、図８の場合の
それをＱ2 ｇ／ｃｍ2 ・ｓとすると、電子銃出力密度と
蒸発量は、ほぼ比例するため、Ｑ2 はＱ1 ／１．５とな
る。
０ｃｍ2 、蒸発面単位当りの電子銃出力は１／１０ＫＷ
／ｃｍ2 となり、図８では、蒸発面積が１５００ｃｍ2
、蒸発面単位当りの電子銃出力は１／１５ＫＷ／ｃｍ2
となる。ここで、図７の場合の、単位時間・単位面積
当りの蒸発量をＱ1 ｇ／ｃｍ2 ・ｓとし、図８の場合の
それをＱ2 ｇ／ｃｍ2 ・ｓとすると、電子銃出力密度と
蒸発量は、ほぼ比例するため、Ｑ2 はＱ1 ／１．５とな
る。
【００１６】このように、従来の技術を示した図７の場
合と、本発明の一実施例の技術を示した図８の場合とを
比較してみると、両者とも、同じ電子銃出力１００ＫＷ
を投入した場合、それぞれのケ−スの単位時間・単位面
積当りの蒸発量は、図７の場合をＱ1 ｇ／ｃｍ2 ・ｓと
すると、図８の場合は、蒸発面積が図７の場合に比べ、
１．５倍になることにより、蒸発面単位当りの電子銃出
力が図７の場合に比べ、１／１．５倍になるため、電子
銃出力密度と蒸発量は、ほぼ比例することにより図８の
場合の単位時間・単位面積当りの蒸発量Ｑ2 はＱ1 ／
１．５になる。
合と、本発明の一実施例の技術を示した図８の場合とを
比較してみると、両者とも、同じ電子銃出力１００ＫＷ
を投入した場合、それぞれのケ−スの単位時間・単位面
積当りの蒸発量は、図７の場合をＱ1 ｇ／ｃｍ2 ・ｓと
すると、図８の場合は、蒸発面積が図７の場合に比べ、
１．５倍になることにより、蒸発面単位当りの電子銃出
力が図７の場合に比べ、１／１．５倍になるため、電子
銃出力密度と蒸発量は、ほぼ比例することにより図８の
場合の単位時間・単位面積当りの蒸発量Ｑ2 はＱ1 ／
１．５になる。
【００１７】すなわち、図８の場合では、図７の場合に
比べ、１／１．５倍の蒸発速度で、帯状物に成膜される
ことになり、密着性、密度、耐蝕性等に優れた良質な膜
の形成が可能（一般的に、ゆっくり形成する程、良質な
膜ができることが知られている。）である。また１／
１．５倍の蒸発速度ではあるが、帯状物４の移動方向に
対してるつぼ２の幅が見かけ上、１．５倍になってい
る。すなわち、成膜時間が１．５倍になるため、最終的
には図７の場合も、図８の場合も、同じ膜厚になる。
比べ、１／１．５倍の蒸発速度で、帯状物に成膜される
ことになり、密着性、密度、耐蝕性等に優れた良質な膜
の形成が可能（一般的に、ゆっくり形成する程、良質な
膜ができることが知られている。）である。また１／
１．５倍の蒸発速度ではあるが、帯状物４の移動方向に
対してるつぼ２の幅が見かけ上、１．５倍になってい
る。すなわち、成膜時間が１．５倍になるため、最終的
には図７の場合も、図８の場合も、同じ膜厚になる。
【００１８】したがって、本発明によれば、従来の技術
に比べ、同じ速度で移動する帯状物４の表面上に、同膜
厚で、しかも、良質な膜の形成が可能になった。
に比べ、同じ速度で移動する帯状物４の表面上に、同膜
厚で、しかも、良質な膜の形成が可能になった。
【００１９】前記図７および図８では、それぞれ、るつ
ぼ１個の場合について説明したが、るつぼが２個以上で
多元系の膜を形成する場合も、全く同じ結果が得られ
る。また図１では、るつぼ２の数を２個にしてあるが、
るつぼの数は、これに限るものではなく、１個以上であ
れば応用可能である。そして、３個以上のるつぼを使用
すれば、２元系の膜に限らず、多元系の膜の形成も可能
である。
ぼ１個の場合について説明したが、るつぼが２個以上で
多元系の膜を形成する場合も、全く同じ結果が得られ
る。また図１では、るつぼ２の数を２個にしてあるが、
るつぼの数は、これに限るものではなく、１個以上であ
れば応用可能である。そして、３個以上のるつぼを使用
すれば、２元系の膜に限らず、多元系の膜の形成も可能
である。
【００２０】さらに、図１では、電子銃５を利用した連
続式真空蒸着装置について説明したが、たとえば、連続
式イオンプレ−テイング装置、抵抗加熱式および誘導加
熱式連続真空蒸着装置等の、るつぼを使用するあらゆる
連続式蒸着装置について適用可能である。
続式真空蒸着装置について説明したが、たとえば、連続
式イオンプレ−テイング装置、抵抗加熱式および誘導加
熱式連続真空蒸着装置等の、るつぼを使用するあらゆる
連続式蒸着装置について適用可能である。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
真空槽内に配置されたるつぼの上方に連続的に移動する
帯状物が設置され、加熱手段によりるつぼ内に充てんさ
れている蒸発材を蒸発させて帯状物表面上に蒸着を行な
う真空蒸着装置において、前記るつぼの長手方向の中心
線が前記帯状物の移動方向に対して斜めになるように該
るつぼが配置されているので、従来の技術に比べ、見か
け上の帯状物幅が長くなり、蒸発材の利用度、つまり、
歩留まりがよくなり、また蒸発面積が大きくなるため、
従来の技術に比べ、単位時間・単位面積当りの蒸発量が
少なくなり、遅い蒸発速度で帯状物に成膜されることか
らして、良質な膜が形成される。しかも、るつぼ幅が長
くなっているため、成膜時間が長くなり、膜厚も充分な
膜が得られる。また２個以上のるつぼを使用した場合に
は、帯状物幅方向に均一な合金膜等の多元系膜の形成が
可能となる。
真空槽内に配置されたるつぼの上方に連続的に移動する
帯状物が設置され、加熱手段によりるつぼ内に充てんさ
れている蒸発材を蒸発させて帯状物表面上に蒸着を行な
う真空蒸着装置において、前記るつぼの長手方向の中心
線が前記帯状物の移動方向に対して斜めになるように該
るつぼが配置されているので、従来の技術に比べ、見か
け上の帯状物幅が長くなり、蒸発材の利用度、つまり、
歩留まりがよくなり、また蒸発面積が大きくなるため、
従来の技術に比べ、単位時間・単位面積当りの蒸発量が
少なくなり、遅い蒸発速度で帯状物に成膜されることか
らして、良質な膜が形成される。しかも、るつぼ幅が長
くなっているため、成膜時間が長くなり、膜厚も充分な
膜が得られる。また２個以上のるつぼを使用した場合に
は、帯状物幅方向に均一な合金膜等の多元系膜の形成が
可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示した平面図である。
【図２】従来の技術の１つの例を示した平面図である。
【図３】従来の技術のもう１つの例を示した平面図であ
る。
る。
【図４】図３の装置の作用を説明するための立面断面図
である。
である。
【図５】帯状物幅が短い場合の蒸発全量と無効蒸発量の
割合いを説明するための立面断面図である。
割合いを説明するための立面断面図である。
【図６】帯状物幅が長い場合の同様な説明をするための
立面断面図である。
立面断面図である。
【図７】図３の装置の単位時間・単位面積当りの蒸発量
を説明するための平面図である。
を説明するための平面図である。
【図８】図１の装置の同様な説明をするための平面図で
ある。
ある。
【符号の説明】
１ 真空槽
２ るつぼ
３ 蒸発材
４ 帯状物
５ 電子銃
６ 電子ビ−ム
７ るつぼの長手方向の中心線
フロントページの続き
(56)参考文献 特開 昭64−68467（ＪＰ，Ａ)
特開 平３−13563（ＪＰ，Ａ)
特開 平２−225660（ＪＰ，Ａ)
特開 平４−289170（ＪＰ，Ａ)
実開 昭61−76516（ＪＰ，Ｕ)
特公 昭56−43312（ＪＰ，Ｂ１)
特公 平２−7396（ＪＰ，Ｂ２)
特公 昭45−7844（ＪＰ，Ｂ１)
(58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名)
C23C 14/56
Claims (2)
- 【請求項１】 真空槽（１）内に配置されたるつぼ
（２）の上方に連続的に移動するように設置された帯状
物（４）と、前記 るつぼ（２）内に充てんされている蒸発材（３）を
蒸発させ、帯状物（４）の表面上に蒸着を行なう電子銃
（５）と、を備え、 前記るつぼ（２）の長手方向の中心線（７）を、前記帯
状物（４）の移動方向に対して斜めにすることにより、
該るつぼ（２）に充てんされている蒸発材（３）の長手
方向の中心線（７）の帯状物（４）に対応する長さが該
帯状物（４）の幅（Ｗ１）の１．３〜２．０倍になるよ
うに該るつぼ（２）が配置されている、ことを特徴とす
る連続帯状物用真空蒸着装置。 - 【請求項２】 互いに異なる蒸発材（３）をそれぞれ充
てんしている２つ以上のるつぼ（２）が帯状物（４）の
移動方向に接近して設けられている、ことを特徴とする
請求項１に記載の連続帯状物用真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29061792A JP3463693B2 (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 連続帯状物用真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29061792A JP3463693B2 (ja) | 1992-10-29 | 1992-10-29 | 連続帯状物用真空蒸着装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06136537A JPH06136537A (ja) | 1994-05-17 |
| JP3463693B2 true JP3463693B2 (ja) | 2003-11-05 |
Family
ID=17758314
Family Applications (1)
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