JP6396971B2 - 溶融めっき設備 - Google Patents

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本発明は、溶融金属槽から引き上げられた金属帯の周囲をシールボックスで囲む溶融めっき設備に関する。
例えば下記の特許文献1等に示されているように、Mg含有のめっき層を有するめっき金属帯を製造する場合、金属帯に付着する溶融金属が凝固する前に酸化すると、めっき金属帯の外観異常が発生することが知られている。このため、溶融金属槽から引き上げられた金属帯の周囲をシールボックスで囲むとともに、シールボックス内に不活性ガスを供給することで、シールボックス内の酸素濃度を低く抑えることが行われている。
特許第4988045号公報
シールボックス内の酸素濃度を低く抑えるため、シールボックスはできるだけ気密にすることが必要とされる。しかしながら、シールボックスには金属帯を通すための上部開口が必要であり、この上部開口から外気が進入する虞がある。上部開口をできるだけ狭くするために、金属帯の幅に応じて人手により上部開口に板材を被せるということも考えられるが、金属帯の幅が頻繁に変わる場合等に適切に上部開口の開口幅を調整することが難しい。
本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、金属帯が通されるシールボックスの上部開口の開口幅をより適切に調整でき、シールボックス内の酸素濃度をより確実に低く抑えることができる溶融めっき設備を提供することである。
本発明に係る溶融めっき設備は、Mg含有の溶融金属が貯められた溶融金属槽から引き上げられた金属帯の周囲を囲むように配置されるとともに、金属帯が通される上部開口が設けられたシールボックスと、溶融金属槽の上方において金属帯の幅方向に互いに離間して金属帯の幅方向両側に配置され、金属帯の幅方向に変位可能にそれぞれ設けられた第1及び第2可動体とを備え、第1及び第2可動体は、溶融金属槽の上方に配置され、金属帯のエッジを検出するためのエッジセンサと、エッジセンサの出力に基づき制御される駆動部と、開口幅調整プレートとをそれぞれ有し、駆動部の駆動力によりエッジの位置に追従するように第1及び第2可動体それぞれ変位されることで、エッジの位置に応じて上部開口の開口幅が開口幅調整プレートによって調整されるように構成されている。
本発明の溶融めっき設備によれば、駆動部の駆動力によりエッジの位置に追従するように開口幅調整プレートが変位されることで、エッジの位置に応じて上部開口の開口幅が開口幅調整プレートによって調整されるように構成されているので、金属帯が通されるシールボックスの上部開口の開口幅をより適切に調整でき、シールボックス内の酸素濃度をより確実に低く抑えることができる。
本発明の実施の形態1による溶融めっき設備を示す説明図である。 図1のシールボックスを示す平面図である。 図1のワイピングガスノズルの内部の構成を示す説明図である。
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照して説明する。
実施の形態1.
図1は本発明の実施の形態1による溶融めっき設備を示す説明図であり、図2は図1のシールボックス1を示す平面図であり、図3は図1のワイピングガスノズル2の内部の構成を示す説明図である。図1に示すように、溶融めっき設備には、シールボックス1、ワイピングガスノズル2、ガイドロッド3並びに第1及び第2可動体4A,4Bが設けられている。
シールボックス1は、Mg含有の溶融金属が貯められた溶融金属槽(図示せず)から引き上げられた金属帯5の周囲を囲むように配置された箱体である。金属帯5の表面に付着した溶融金属が凝固する前に酸化した場合、めっき金属帯の外観異常が起きることが知られている。シールボックス1には、シールボックス1内の酸素濃度を低くするために不活性ガスが供給されている。不活性ガスは、後述のワイピングガスノズル2を通してシールボックス1に供給されてもよいし、シールボックス1に接続された流路を通してシールボックス1に直接的に供給されてもよい。図示はしないが、シールボックス1の下部は溶融金属槽の溶融金属に浸漬されており、シールボックス1の下部からの外気の進入が防止されている。
シールボックス1には上部開口1aが設けられており、この上部開口1aを通して金属帯5がシールボックス1の上方へと引き上げられる。上部開口1aからシールボックス1内に外気が進入するとシールボックス1内の酸素濃度が上昇してしまうため、シールボックス1内への不活性ガスの供給によりシールボックス1内の圧力は大気圧よりも高く維持されることが好ましい。
ワイピングガスノズル2は、シールボックス1内で溶融金属槽の上方に配置されている。図2に表れているように、ワイピングガスノズル2は、金属帯5を間に挟むように互いに対向して配置されており、金属帯5の表裏両側から金属帯5の表面に不活性ガスを吹き付ける。金属帯5の表面に不活性ガスが吹き付けられることで、金属帯5の表面における溶融金属の付着量が調整される。
ガイドロッド3は、金属帯5の幅方向5aに延在された長手状の部材である。第1及び第2可動体4A,4Bは、金属帯5の幅方向両側に互いに離間して配置されており、ガイドロッド3に案内されて金属帯5の幅方向5aに変位可能にそれぞれ設けられている。第1可動体4Aは全体として一体に変位される。同様に、第2可動体4Bは全体として一体に変位される。
第1及び第2可動体4A,4Bには、エッジセンサ40、駆動部41、開口幅調整プレート42、補助ノズル43、バッフルプレート44及び内部幅調整部材45がそれぞれ設けられている。
エッジセンサ40は、溶融金属槽の上方に配置されており、溶融金属槽から引き上げられた金属帯5のエッジ5b(金属帯5の幅方向の端部)を検出するためのセンサである。エッジセンサ40としては、例えば金属帯5が間に位置するように互いに対向して配置された発光部及び受光部を有する光学式センサ等を用いることができる。
駆動部41は、例えばシリンダーやスライドベース等により構成されるものである。この駆動部41はガイドロッド3に係合されており、駆動部41の駆動力によって第1及び第2可動体4A,4Bがガイドロッド3に沿って変位される。駆動部41の動作は、エッジセンサ40の出力に基づき制御される。具体的には、駆動部41は、エッジセンサ40が金属帯5のエッジ5bを検出し続けるように金属帯5の幅方向に第1及び第2可動体4A,4Bを変位させる。すなわち、駆動部41は、金属帯5のエッジ5bの位置に第1及び第2可動体4A,4Bを追従させる。
開口幅調整プレート42は、上部開口1aの近傍に位置するように各可動体4A,4Bの上部に設けられた板体である。上部開口1aの近傍とは、開口幅調整プレート42の少なくとも一部が上部開口1aに重ねられているときに、その重ねられた位置において上部開口1aを通過するガス流の速度を、開口幅調整プレート42が上部開口1aに重ねられていない位置におけるガス流の速度よりも小さくできる位置を意味する。
すなわち、本実施の形態の溶融メッキ設備では、駆動部41の駆動力によりエッジ5bの位置に追従するように開口幅調整プレート42(第1及び第2可動体4A,4B)が変位されることで、エッジ5bの位置に応じて上部開口1aの開口幅が開口幅調整プレート42によって調整されるように構成されている。これにより、金属帯5が通されるシールボックス1の上部開口1aの開口幅をより適切に調整でき、シールボックス1内の酸素濃度をより確実に低く抑えることができる。従って、めっき金属帯の外観異常の発生をより確実に抑えることができる。また、シールボックス1への不活性ガスの供給量を抑えることができ、めっき金属帯の製造コストを低減できる。
図2に表れているように、金属帯5の板厚方向5cに関する開口幅調整プレート42の幅は、その板厚方向5cに関する上部開口1aの幅よりも広くされている。金属帯5の幅方向5aに関する開口幅調整プレート42の幅は、溶融めっき設備に用いられる金属帯5の幅に応じて決定できる。具体的には、各可動体4A,4Bが最も外側に位置された際に、最も幅が広い金属帯5のエッジ5bに開口幅調整プレート42の内端が接触しない幅であって、最も幅が狭い金属帯5のエッジ5bの近傍まで開口幅調整プレート42の内端を近づけた際に開口幅調整プレート42の外端が金属帯5の幅方向に関して上部開口1aの外縁よりも外側に位置する幅とすることができる。
補助ノズル43は、シールボックス1内のワイピングガスノズル2の上部に配置されている。また、図2に表れているように、各可動体4A,4Bの補助ノズル43は、金属帯5が間に位置するように互いに対向して配置されている。金属帯5が間に位置するようにワイピングガスノズル2が互いに対向して配置されているため、ワイピングガスノズル2から吹き出される不活性ガス(ワイピングガス)は金属帯5の幅方向外側において互いに衝突する。このため、金属帯5のエッジ部分ではワイピングガスによる溶融金属の絞り性が悪くなり、エッジ部分のめっき付着量が増加することがある。補助ノズル43から金属帯5のエッジ部分に不活性ガスがさらに吹き付けられることで、エッジ部分のめっき付着量の増加が抑えられる。なお、補助ノズル43は、ワイピングガスノズル2の下部に配置されていてもよく、ワイピングガスノズル2の上部及び下部の両方に配置されていてもよい。
バッフルプレート44は、ワイピングガスノズル2間に挿入される板体である。バッフルプレート44がワイピングガスノズル2間に挿入されることで、金属帯5の幅方向外側におけるワイピングガスの流れが整えられる。
内部幅調整部材45は、ワイピングガスノズル2の内部に設けられた板体であり、図3に示すようにワイピングガスノズル2の吹出口2aの幅を調整するものである。なお、図3において上方に向けて延びる複数の矢印はワイピングガスを表している。
本実施の形態の開口幅調整プレート42は、駆動部41の駆動力により、補助ノズル43、バッフルプレート44及び内部幅調整部材45と一体に変位される。換言すると、補助ノズル43、バッフルプレート44及び内部幅調整部材45の変位機構が開口幅調整プレート42の変位機構を兼ねている。このように構成することで、シールボックス1内の限られたスペースで本実施の形態のような開口幅調整プレート42をより確実に実装できる。
このような溶融めっき設備では、駆動部41の駆動力によりエッジ5bの位置に追従するように開口幅調整プレート42が変位されることで、エッジ5bの位置に応じて上部開口1aの開口幅が開口幅調整プレート42によって調整されるように構成されているので、金属帯5が通されるシールボックス1の上部開口1aの開口幅をより適切に調整でき、シールボックス1内の酸素濃度をより確実に低く抑えることができる。従って、めっき金属帯の外観異常の発生をより確実に抑えることができる。また、シールボックス1への不活性ガスの供給量を抑えることができ、めっき金属帯の製造コストを低減できる。
また、開口幅調整プレート42が補助ノズル43、バッフルプレート44及び内部幅調整部材45と一体に変位されるので、シールボックス1内の限られたスペースで開口幅調整プレート42をより確実に実装できる。
なお、実施の形態では、開口幅調整プレート42が補助ノズル43、バッフルプレート44及び内部幅調整部材45のすべてと一体に変位されるように説明したが、開口幅調整プレートは、単独で変位されてもよいし、補助ノズル、バッフルプレート及び内部幅調整部材のいずれか1つ又は2つと一体に変位されてもよい。また、補助ノズル、バッフルプレート及び内部幅調整部材の少なくとも1つが溶融めっき設備から省略されていてもよい。
1 シールボックス
1a 上部開口
2 ワイピングガスノズル
2a 吹出口
5 金属帯
40 エッジセンサ
41 駆動部
42 開口幅調整プレート
43 補助ノズル
44 バッフルプレート
45 内部幅調整部材

Claims (5)

  1. Mg含有の溶融金属が貯められた溶融金属槽から引き上げられた金属帯の周囲を囲むように配置されるとともに、前記金属帯が通される上部開口が設けられたシールボックスと、
    前記溶融金属槽の上方において前記金属帯の幅方向に互いに離間して前記金属帯の幅方向両側に配置され、前記金属帯の幅方向に変位可能にそれぞれ設けられた第1及び第2可動体と
    を備え、
    前記第1及び第2可動体は、
    前記溶融金属槽の上方に配置され、前記金属帯のエッジを検出するためのエッジセンサと、
    前記エッジセンサの出力に基づき制御される駆動部と、
    口幅調整プレートと
    それぞれ有し
    前記駆動部の駆動力により前記エッジの位置に追従するように前記第1及び第2可動体それぞれ変位されることで、前記エッジの位置に応じて前記上部開口の開口幅が前記開口幅調整プレートによって調整されるように構成されている
    溶融めっき設備。
  2. 前記第1及び第2可動体のそれぞれで、前記開口幅調整プレートが前記エッジセンサと一体に変位され、
    前記第1及び第2可動体の前記エッジセンサと前記開口幅調整プレートとは、前記シールボックス内に配置されている
    請求項1に記載の溶融めっき設備。
  3. 前記第1及び第2可動体は、
    前記シールボックス内のワイピングガスノズルの上部及び下部の少なくとも一方において前記金属帯の幅方向両側に配置された補助ノズル
    をさらに有し、
    前記第1及び第2可動体のそれぞれで、前記開口幅調整プレートが前記補助ノズルと一体に変位される
    請求項1又は請求項2に記載の溶融めっき設備。
  4. 前記第1及び第2可動体は、
    前記金属帯の幅方向両側に配置されるとともに、前記シールボックス内のワイピングガスノズルの間に位置されたバッフルプレート
    をさらに有し
    前記第1及び第2可動体のそれぞれで、前記開口幅調整プレートが前記バッフルプレートと一体に変位される
    請求項1から請求項3までのいずれか一項に記載の溶融めっき設備。
  5. 前記第1及び第2可動体は、
    前記シールボックス内のワイピングガスノズルの内部において前記ワイピングガスノズルの吹出口の幅を調整する内部幅調整部材
    をさらに有し
    前記第1及び第2可動体のそれぞれで、前記開口幅調整プレートが前記内部幅調整部材と一体に変位される
    請求項1から請求項までのいずれか一項に記載の溶融めっき設備。
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